TW556216B - Semiconductor memory device - Google Patents

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TW556216B
TW556216B TW090121589A TW90121589A TW556216B TW 556216 B TW556216 B TW 556216B TW 090121589 A TW090121589 A TW 090121589A TW 90121589 A TW90121589 A TW 90121589A TW 556216 B TW556216 B TW 556216B
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TW
Taiwan
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transistor
terminal
cell
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TW090121589A
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Inventor
Daisaburo Takashima
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements

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Description

556216 A7 B7 五、發明説明(彳) 發明所屬之技術領域 本發明係關於一種半導體記憶裝置,尤指一種關於非揮 發性之強介電體記憶體。 背景技術 現今,半導體記憶係應用於大型電腦的主記憶至個人電 腦、行動電話等所謂之電器用品。 市面上的半導體記憶體種類有:揮發性DRAM(動態隨機 存取記憶體,Dynamic RAM)、SRAM(靜態隨機存取記憶體 Static RAM )、非揮發性MROM(光罩基底唯讀記憶體, Mask-based ROM)、Flash EEPROM(快閃電子可抹除式唯讀 記憶體)。其中,DRAM雖然是輝發性記憶體,但與SRAM 相比,胞面積僅有1/4之低成本性,且具有與Flash EEPROM相等之高速性優點,因此目前佔據大部分的市場 〇 另一方面,可重寫的非揮發性Flash EEPROM,由於係非 揮發性故可切斷電源,然而因具有下列缺點:重寫次數 (W/E次數)僅為106左右,重寫入時間為微秒左右,此外重 寫時需要輸入高電壓(12V至22V)等,故無法打開市場。 相較於此,使用強介電體電容器(Ferroelectric Capacitor) 之非揮發性記憶體(Ferroelectric Memory),自1980年提案 以來,因具有非揮發性、重寫次數為1〇12、讀取時間與 DRAM相當、3 V至5 V動作等優點,有汰換整個記憶體市場 之可能,各廠商正在開發中。 圖1 8為表示習知強介電體記憶體的1個電晶體+ 1個電容 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(2 ) 器所構成的記憶胞M C與該胞陣列、感應放大器、虛擬胞 (dummy cell)電路。圖19為表示該動作之時序圖。 如圖1 8所明示,習知強介電體記憶體之記憶胞構成係串 聯連接電晶體與電容器之構成。胞陣列係具有:該記憶胞 配設為矩陣狀,具有讀取資料之位元線/BL,BL ;選擇記 憶胞電晶體之字元線WLO、WL 1 ;與驅動強介電體電容器 的一端之板線PLO、PL1之構成。位元線連接有感應放大電 路S A,在與記憶胞相對的位置上配置有虛擬胞電路。 參照圖1 9,說明該強介電體記憶體之動作。 動作時,例如在選擇記憶胞MCI時,與MCI連接之字元線 WLO與板線PLO成為高位準。藉此在預充電至接地電位VSS 之位元線對的一邊可讀取記憶胞資料。此時,在位元線 /BL(/BLSA)讀取出胞資料,且使位元線的電位上昇。當記 憶胞資料為” 1 ”時,強介電體電容器產生極化反轉,位元線 變成高電位。此外,當資料為” 0 "時,雖不會產生極化反轉 ,惟強介電體電容器的常介電體成分與位元線總電容的電 容比分,使位元線之電位上昇。 如此,當資料同時為’’ 1 0 ”時,使位元線電位由Vss上 昇,然而因該電位具有差值,故若可將參照位元線 BL(BLSA)側設定在上述電位的中間電位,藉由感應放大器 放大位元線與參照位元線的差,可判斷胞資料為” 1 ”、或 習知,該參照位元線電位係使用如圖1 8所示之虛擬胞電 路而產生。預備時,將虛擬字元線DWLO、DWL1分別截斷 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 ------B7 _ 五、發明説明( ) 3 與閘極連接之電晶體Qi、Q2 ,藉由導通電晶體卩]將常介 電體電容器C1的一端N1預充電至Q3的源極電位 '即Vss電 位。動作時,將參照位元線側本例中為與B L側連接的虛擬 丰元線的電晶體Q 1設為導通,使N i與B L連接,繼而,使 C 1另一端的虚擬板線DPL電位由Vss上升至VDC電位。藉由 該動作,利用常介電體電容器(:1的耦合,參照BL電位Vref 可由V ss上升至資料” 1,,、·’ 〇 ”的中間電位。 然而,圖1 8所示的虛擬胞電路方式具有如下的問題點。 例如在0·5 μπι規則等級中,位元線電容CB約為1〇〇〇 fF,使 用面積3 μηι2的記憶胞電容器時,位元線振幅的高位準側之 電位若為3V( = Vaa),則資料”1”的位元線之讀取電位在所 有胞的平均約為1.2V,資料”〇”的位元線之讀取電位在所有 胞的平均約為〇.4V,故參照位元線電位須為〇 8 v。若考慮 強介電體電容器之偏差分布等時,包含分布的評價須具有 1.5V左右(=i/2Vaa)的參照電位。 使用如圖1 8所示之習知的虛擬胞電路,而產生1 /2Vaa的 參照位元線電位時,須有非常大的常介電體電容器。其理 由說明如下。 圖20中,將虛擬胞電路的常介電體電容器ci的電容設為 CD、位元線電電容設為CB、虛擬胞用電源電壓設為 VDC((0<VDCSVaa):在此,表示設為最大值Vaa)時之參 照位元線電位Vref的值。參照位元線電位由於將常介電體 電容器CD從Vss上升至VDC之電荷VDC X CD除以全部電容 (CB+CD)之值’而獲得l/2Vaa電位,故須要與位元線電容 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(/ ) CB相同值之大的常介電體電容器電容CD(= 1000 fF),若以 8 nm的MOS電容器構成時,則需要225 μιη2之非常大的虛擬 胞電容器,因此晶片尺寸變的非常大。具體而言,在產生 IV的Vref時,CD=1/2CB須成立,再者,由於CB<CD且因 CD本身變成負載電容,故難以產生l/2Vaa以上的Vref。 對於這樣的問題,習知係利用另外兩個方法加以防範。 第一個方法係不使用介電率小的MOS電容器之常介電體電 容器,而以記憶胞所使用之強介電體電容器本身構成虛擬 電容器之方法。由於該方法之強介電體的介電率極大,故 仔以實現小的虛擬胞電路。 然而該方法係有下列之缺點: 1) 強介電體電容器本身的電容值有很大的偏差分布。 2) 強介電體電容器隨著極化反轉而疲乏,將產生值的改 變。 3 )強介電體的電容值,一但產生極化就會減少。 4)強介電體電容器因產生不粘著性而改變特性。 故,以利用常介電體電容器最為理想。 第二個方法係在讀取時提升板電位而進行記憶胞的極化 反轉並讀取信號,再讀取出下降至Vss後的位元線電位的方 法。 此時,由於板線電位回復至原本的電位,故有看不見記 憶胞電容器的常介電體成分之效果。因此,資料電位π 1 ”、 資料電位"0 ”皆成為低電位,即使是小的常介電體電容器的 虛擬胞,亦可產生充分的參照位元線電位。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210Χ 297公釐) 556216
然而該方法係具有下列缺點: 1) 由於在使板線上升下降之後進入感應放大動作,故隨 機存取時間會變的非常慢。 2) 當資料再寫入時,必須再度進行使板線上升、下降之 動作,結果,必須使板線上升、下降兩次,使循環時間變 得極慢。 此外’發明者係在美國特許登錄公報5,9〇3,492號中,提 案有一種新的強介電體記憶體,其係同時具備下列3項特點: (1) 小尺寸的記憶胞。 (2) 容易製造之平面電晶體。 (3 )具廣泛應用性之隨機存取機能。 圖2 1係上述申請案之強介電體記憶體的構成,圖2 2係該 動作例。在上述申請案中,由於讀取原理與習知的強介電 體兒憶體相同,故與習知一樣產生參照位元線電位之虛擬 胞電路,與圖18同樣使用如圖21所示之電路。 預備時,藉由將虛擬字元線的電晶體q 1、q 2截斷,且導 通電晶體Q3,使常介電體電容器C1的一端N1預充電至q3 的源極電位即V s s電位。 動作時’將參照位元線側本例中為連接於B L側之虚擬字 元線的電晶體Q 1導通,連接B L與N 1,繼而,使C 1另一端 的虛擬板線DPL電位由Vss上升至VDC電位。藉由該動作, 利用常介電體電容器C 1的耦合使參照b L電位:Vref可由 Vss提上至資料·’ 1 ”、·’ 〇 "的中間電位。 據此,在上述申請案中,亦會產生如圖19、圖20所示之 本紙張尺度通用中國國家揉準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 _— _B7 五、發明説明(6" _ 問題。在與習知的強介電體記憶體相比之上述申請案中, 由於每個胞的位元線電容約小1/4左右,每個感應放大器( 位兀線)的胞數為4倍,此時,虛擬胞電路本身的數量為1/4 ,習知強介電體記憶體對於虛擬胞面積的影響並不大,然 而即便如此,由於仍佔了晶片面積數百分比,故希望能縮 小虛擬胞面積。例如:將每條位元線的胞數設為1/2 , CB 將小部分轉為信號增加時,CB在0.5 ^瓜規則等級中約為 500 fF,使用面積3 μηι2的記憶胞電容器時,位元線振幅的 高位準側之電位若為3V卜Vaa),則資料,,丨”的位元線讀取 之電位在所有胞的平均約為h5V ,資料"〇f,的位元線讀取之 電位在所有胞的平均約為〇·5ν,故參照位元線電位須為1从 ,若考慮強介電體電容器的偏差分布時,則需要丨.5V左右 (=1 /2Vaa)之參照電位。使用如圖2丨所示之習知的虛擬胞 电路,在產生1 / 2 Vaa的參照位元線電位時,與習知的強介 電體記憶體相同,必須有如圖2〇所示之非常大的常介電體 電容器。為了得到l/2Vaa電位,必須有與位元線電容cB相 同值之大的常介電體電容器電gCD( = 5〇〇 fF),若以8 nm的 MOS電容器構成時,則需要112 之非常大的虛擬胞電容 器,以致晶片尺寸變的非常大。即使產生,(:]3亦 須= 1/2CB,再者,由於CB<CD , CD本身變成負荷電容, 故產生l/2Vaa以上的vref極為困難。 如上所述,在習知的強介電體記憶體或先前_請案中, 雖產生咼的參照位元線電位,然而在使用常介電體電容器 時,須有大的電容器面積,進而有晶片尺寸變大的問題。 -9- 本紙張尺度適用中國a家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 ___ _B7 _______ 五、發明説明(7 ) 此外,為了避免該問題而使用強介電體電容器’以使參照 位元線電位產生之方法中,會有偏差分布、劣化、減少、 變動的問題,將產生參照位元線電位之變化與信號讀取界 限減少之問題。此外,為避免產生上述之問題,有使板線 上升下降兩次,並降低參照位元線電位之方法,但卻導致 動作遲緩之問題。 發明之概述 因此,本發明之目的在於提供一種即使使用常介電體電 容器’亦不會導致晶片尺寸的增大且動作快速之半導體記 憶體。 根據本發明的一實施例,其係具備有:複數記憶胞區塊 ’係至少複數串聯連接由胞電晶體與在上述胞電晶體的源 極、;及極端子間並聯連接之強介電體電容器所構成;複數 字7L線,係連接於上述胞電晶體;記憶陣列,係由連接於 上述記憶胞區塊之複數位元線對所構成;複數放大電路, 係與上述位元線對連接,並放大上述位元線對的信號差; 以及虛擬胞電路,在上述位元線對中具有產生無法讀取記 憶胞的資料之參照位元線電位,其特徵為上述虛擬胞電路 至少具有一個常介電體電容器;預備時,上述常介電體電 容器的第丨端子預充電至Vss比接地電位高之第1電位,上述 f介電體電容器的第2端子預充電至Vss;動作時,上述第夏 端子與上述參照位元線連接,上述第2端子由接地電位 為比接地電位還高之第2電位。 此外’根據本發明的其他實施例’其係具備:複數記憶 -10- 556216 A7 -----------Β7 五、發明説明(8' ---- 胞’由胞電晶體與強介電體雷交: 士一 丨包把私各洛的串聯連接所構成;複 竽疋、’泉^連接於上述胞電晶體;記憶陣列,係由連接 /上述記憶胞區塊之複數位^線對所構成;複數放大電路 、係連接於上述位疋線對並放大上述位元線對的信號差; 2及虛擬胞電路,在上述位元線對中具有產生無法讀取記 胞的資料之參照位元線電位,其特徵在於,上述虛擬胞 電路至少具有一個常介電體電容器;預備時,上述常介電 體電容器的第1端子預充電至Vss比接地電位高之第i電位, 上述#介電體電容器的第2端子預充電至Vss ;動作時,上 述第1端子與上述參照位元線連接,上述第2端子由接地電 位上升至比接地電位高之第2電位。 圖面之簡要說明 圖1為本發明第丨實施例的強介電體記憶體陣列、感應放 大器、虚擬電路的構成圖。 圖2為圖1的構成之動作時序例之時序圖。 圖3為本發明第1實施例的效果之圖表。 圖4為圖1虛擬胞的控制電路之電路圖。 圖5為DWLO的產生電路例之電路圖。 圖6為DRST信號的驅動電路例之電路圖。 圖7為圖4至圖6所輸出信號的關係時序圖 圖8為本發明第2實施例之強介電體記憶體的陣列、感應 放大器、虛擬胞電路的構成電路圖。 圖9為圖8的電路之動作時序例之時序圖。 圖1 0為本發明第3實施例之強介電體記憶體的陣列、·感應 -11 - 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216
放大器、虛擬胞電路的構成之電路圖。 圖11為圖10的電路之動作時序例的時序圖。 圖1 2為本發明第4實施例之強介電體記憶體的陣列、感應 放大器、虛擬胞電路的構成電路圖。 圖13為圖12的電路之動作時序例的時序圖。 圖1 4為本發明第5實施例之強介電體記憶體的陣列、感應 放大器、虛擬胞電路的構成電路圖。 圖15為圖14的電路之動作時序例的時序圖。 圖16為本發明第6實施例之強介電體記憶體的陣列、感應 放大器、虛擬胞電路的構成電路圖。 圖17為圖16的電路之動作時序例的時序圖。1 圖1 8為有關習知技術之強介電體記憶體的陣列、感應放 大器、虛擬胞電路的構成電路圖β 圖1 9為圖1 8的電路之動作時序例的時序圖。 圖20為習知虛擬電路之參照位元線電位Vref的值之圖表 〇 圖2 1為關於先前申請案之強介電體記憶體的構成電路圖 〇 圖2 2為圖2 1中的動作例之時序圖。 發明之實施型態 以下,參照圖面說明本發明之實施形態。 圖1及圖2為本發明之第丨實施形態,圖丨為本發明的陣列 、感應放大器、虛擬胞(dummy cell)之電路構成,圖2為其 動作的時序圖。此外,圖3為其效果之圖式。 〃 -12- 本紙浪尺度通用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 ____B7 五、發明説明(10 ) 一個記憶胞係以並聯連接胞電晶體與強介電體電容器而 構成’ 一個胞1己憶區塊係串聯連接複數個該並聯連接的記 憶胞,一端係介以區塊選擇電晶體與位元線連接,另一端 與板連接。藉由此構成,使用平面電晶體可實現4F2尺寸的 記憶胞。 如圖1所示’將區塊選擇電晶體及區塊選擇信號BS〇、 BS1設為/ BL與BL用兩種,將區塊選擇電晶體(bs〇,b§i) 其中之一設為咼位準,則2個胞區塊中一方的資料僅被位元 線漬取,可實現以位元線對另一方作為基準信號位元線之 折疊位元線,且可構成以一個胞電晶體與丨個強介電體電容 器來記憶1個位元的資料之1171(:胞。再預備兩種板線,藉 由僅驅動已選擇之位元線側的板線,可阻止電壓施加至基 準信號(reference)側之非選擇的胞。 簡單說明該電路之動作,預備時,將全部(副)字元線 WL 0至WL3設為高位準,預先導通記憶胞電晶體,將區塊 選擇信號BS0、BS1設為低位準,預先截斷區塊選擇電晶體 。精此,強介电體電谷备的兩端不會因導通中之胞電晶體 而產生電性短路之情況,故兩端不會產生電位差,可維持 記憶極化的安定。 動作時’將預充電(以下稱為「Vss」)於接地電位之一對 位元線設為浮動(floating)狀態。接著,僅截斷並聯連接於 欲讀取的強介電體電容器之記憶胞電晶體,且將區塊選擇 電晶體導通。例如:選擇圖1中的強介電體記憶胞電容器 MCI之時,將WL2設為低位準。爾後,藉由將MCI側的板線 -13- 本纸張尺度適用中國國家棵準(CNS) A4規格(210X297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(H ) PLO以及MCI側的區塊選擇信號BSO設為高位準,並截斷 PLO與/BL·間的電位差,僅施加於與記憶胞電晶體並聯連接 之強介電體電容器MC 1的兩端,在Vss呈浮動狀態之位元線 /BL(/BLSA)上,可讀取強介電體的極化資料。據此,即使 串聯連接胞,藉由選擇任意的副字元線,亦可讀取出任意 之強介電體電容器的胞資料,且可實現完全的隨機存取。 當資料為"1 ”時,強介電體電容器極化反轉,且位元線變 成高電位僅此外,當資料為π 0 ”時,雖不會產生極化反轉, 然而位元線上昇強介電體電容器的常介電體成分與位元線 電容的電容比分。 i 如此,在資料同時為” 1 ”、” 0 ”時,雖位元線電位由Vss上 昇,然而由於該電位具有差值,故若可將參照位元線 BL(BLSA)側設定在這些電位的中間電位,則藉由感應放大 器放大位元線與參照位元線之差,可判斷胞資料為” 1 ”、或 ,,0,,〇 產生參照位元線電位之虛擬胞電路係使用如圖1所示之電 路。 預備時,藉由使虛擬字元線的電晶體Q 1、Q 2截斷,且截 斷電晶體Q3,將常介電體電容器C1(電容CD)的一端N1預 充電至Q3的源極電位即VDC(>Vss)電位。先將常介電體電 容器另一端之虛擬板線DPL設為Vss電位。亦即,施加電壓 VDC至常介電體電容器的兩端,以維持CD X VDC的電荷。 動作時,參照位元線側在本例中係使連接於B L側的虛擬 字元線之電晶體Q 1導通,以連接B L與N 1。藉此,將儲存 -14- 本紙張尺度適用肀國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(12 ) 於常介電體電容器Q 1之電荷放出至參照位元線側。繼之, 將C1另一端的虛擬板線DPL電位由Vss提升至VDC,電位。 藉由該動作,利用常介電體電容器C1的搞合產生CD X VDC ,的電荷量,形成以參照位元線與常介電體電容器分配該電 荷之動作。 藉由上述一連_的動作,參照BL電位:Vref,可由Vss提升 至資料”1”、”0”的中間電位。結果,參照位元線電位之總 電荷= (CD X VDC’+ CD X VDC)除以負荷電容(CD+CB)的值 ;當 VDC = VDC,時,如圖 3 所示,Vref,=(2CD X VDC)/(CD+CB)= 2Vref=2X(CDXVDC)/(CD+CB),與習 知的虛擬胞方式之乂^£=(€0父乂0(:)/(€0+06)相比,以相 同常介電體電容器電容,可產生2倍的參照位元線電位。 相反的,雖然可產生l/2Vaa=l/2VDC的參照位元線電位 ,然而在習知的方式中,當CD = CB時,雖必須使 Vref=l/2VDC之值成為大的CD值,然而在本發明第1實施例 中,當CD=1/3CB時,即Vref,=l/2VDC時,僅以習知方式 之1/3面積的虛擬電容器即可完成’可大幅縮小晶片尺寸。 例如,當CB= 5000 fF時,在習知方式中需要500 fF的虛擬 電容器電容,在氧化膜厚8 nm的MOS電容器中,每一虛擬 胞需要112 μιη2的電容器面積,相對於此,本發明第1實施 例中,以500 fF/3 = 167 fF的電容中,可將每一虛擬胞電容 器面積大幅減低至37 μιη2。 此外,在習知的方式中,在產生大於1 /2VDC的電位時, 由於CB<CD,故對於負載電容之CD本身將造成影響,而難 -15- 本紙張尺度適用中國®家樣準(CNS) A4規格(210X297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(13 ) 以產生電位,然而在本發明第1實施例中,當CD = CB時, 可產生Verf’= VDC= Vaa之大的電位。因此,在本實施例中 ,不致因偏差分布、變形等而需使用動作界限減少之強介 電體電容器,可實現強介電記憶體,同時,不需使板再次 上下移動,即可以小的虛擬電容器面積實現強介電體記憶 體,使高速動作成為可能。 在以上本發明之第1實施例中,藉由使用電晶體Q 1、Q 2 ,以位元線對共有化常介電體電容器以降低虛擬胞電容器 面積。該常介電體電容器亦可是MOS電晶體的閘極電容器 ,此時以空乏型電晶體為佳。 ί 又,虛擬字元線DWLO、DWL1係如時序圖中(2)所示,亦 可在感應動作前設為低位準,以解除虛擬胞與參照位元線 的連接,亦可在感應動作之後(1)。然後,將節點重設信號 (node reset)DRST設為高位準,在預充電節點Ν1至VDC之 後,使DPL降為低位準,返回與預備時相同的狀態。期望將 DWL0設為高位準,且將儲存於VDC電壓的電荷釋放至某程 度的參照位元線之後,提升DPL。此外,為使電路簡單化, 期望VDC=VDC,。就其他方法而言,亦可利用固定 VDC = Vaa,且僅變更VDC,的電位,使參照位元線電位產生 之方法,或固定VDC,=Vaa,僅變更VDC電位,使參照位元 線電位產生之方法等。此外,DRST的信號振幅電位,為了 將VDC寫入至N1,期望設為VDC + Vt以上即昇壓電位Vpp 。DWLO、DWL1的電位亦為Vpp,若參照位元線電位 + Vt<Vaa,亦可為Vaa振幅。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(14 ) 圖4至圖7為應用於圖1的電路之各控制信號的驅動電路構 成例之電路圖。 如圖4所示之電路,係用以驅動對節點N1進行預充電之虛 擬胞用電源電壓VDC及虛擬板線DPL的電路,在VDC產生器 1 0與節點N 1之間,穩定電容C3與Vss連接,在節點Nx與 Vss之間串聯連接PMOS電晶體Q11及NMOS電晶體Q12,在 上述閘極的共同連接點上連接有以位元線振幅之高位準側 的電位Vaa所控制之反相器1 1,兩電晶體的連接點係提供驅 動電位至虛擬板線DPL。 該電路在變成上述的VDC=VDC,之電路時,若Vaa^VDC ,則可將Vaa振幅的輸出直接輸入至VDC電源的驅動器。 圖5為產生虛擬字元線DWLO電位的電路構成例之電路圖 〇 該電路為虛擬字元線DWLO的驅動電位的產生電路例,在 位元線振幅的高位準側之電位Vaa與Vss之間串聯連接PMOS 電晶體Q13及NMOS電晶體Q14,在上述閘極的共同連接點 上連接以位元線振幅之高位準側的電位Vaa所控制之反相器 12,兩電晶體之連接點係提供驅動電位至虛擬板線DWLO。 在該電路中,DWLO驅動電位的振幅變成Vaa。 圖6為節點重設信號DRST的驅動電路例之電路圖。 在該電路中,於昇壓電位Vpp與Vss之間串聯連接PMOS電 晶體Q1 5及NMOS電晶體Q16,且在上述閘極的共同連接點 上連接有信號位準變換器之反轉輸出,兩電晶體的連接點 係供給DRST信號。使用信號振幅變換電路係為了放大 -17- 本紙張尺度適用中國國家搮準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(15 ) DRST信號的振幅至Vpp。 圖7為圖4至圖6所輸出的信號關係之時序圖,可知與圖2 所示為完全相同的關係。 圖8為關於本發明第2實施例之強介電體記憶體的陣列、 感應放大器、虛擬胞電路的構成電路圖,圖9為該動作的時 序圖。 圖8所示之電路具有與圖1大致相同的電路構成,然而其 相異之處係,在圖1中,預充電N 1節點至VDC之電晶體Q 3 係以NMOS構成,而圖8中則以PMOS構成,且使用反相信 號/DRST。 ί 如圖9所示,雖該電路與圖1所示之電路大致具有相同的 動作’惟在圖1中,預充電節點Ν1至VDC時,當 VDC+Vt>Vaa,DRST的信號振幅必須上升至Vaa以上亦即 昇壓’藉由PMOS化,若VDC<Vaa,將/DRST設為Vss則可 預充電至VDC ,故可將/DRST的振幅抑制於Vaa,且不需昇 壓電路。 圖10及圖11為本發明第3實施例,圖1〇為電路圖,圖u 為該動作之時序圖。 參照圖1 0,雖具有與圖i大致相同的電路構成,然而相異 (處為·在各個位疋線對的兩條位元線上設置虛擬胞電路 之點。即’當/BL為參照位元線時,使DWL1、DRST1、 DPL1動作’當BL為參照位元線時亦可使dwl〇、謂 、DPL0動作。 圖12及圖13為本發明第4實施例,圖口為關於本發明第4 -18-
556216 五、發明説明(i6 ) A7 B7
實施例之陣列、感應放大器、虚擬胞電路的構成電路圖, 圖1 3為該動作的時序圖β 參照圖1 2 ’該實施例為關於習知型式的強介電體記憶體 之虚擬胞。一個記憶胞係以_聯連接胞電晶體與強介電體 電容器而構成之1T1C型而成。 簡單說明該電路之動作’預備時,將全部的副字元線WLO 至WL 1设為低位準’將板線pL〇、pL丨亦設為低位準,位元 線則預充電至Vss。 動作時,使已預充電至Vss的位元線對浮動。繼而,僅導 通與欲碩取之強介電體容器連接之記憶鸡電晶體。例如·· 選擇圖12中之強介電體記憶胞電容器“以時,將WL〇設為 高位準。然後,藉由將14(:1側的板線PL〇設為高位準,將 PLO與/BL間的電位差施加至強介電體電容sMcl的兩端, 在Vss呈浮動之位元線/BL(/BLSA)上讀取出強介電體電容 器的極化資訊。據此,即使_聯連接胞,藉由選擇任意的( 副)字元線,可讀取任意的強介電體電容器之胞資料,可實 現完全之隨機存取。 當資料為” 1 ”時,強介電體電容器產生極化反轉,位元線 變成高電位。又,當資料為,,〇”時,雖不會產生極化反轉, 然而位元線僅上昇強介電體電容器的常介電體成分與位元 線電容的電容比分,使位元線上昇。如此,當資料同時為 ”1”以及”0”時,位元線電位由Vss上昇,然而因該電位具有 差值,故若可將參照位元線]3]^(]51^八)側設定在上述電位的 中間電位,則藉由感應放大器來放大位元線與參照位元線
装 Ψ -19-
556216 A7 _______B7 五、發明説明(17 ) 的差’可判斷出胞資料為” 1,,、或"〇,,。 產生參照位元線電位之虛擬胞電路具有如圖12所示之電 路構成。 預備時,藉由將虛擬字元線的電晶體Q1、Q2截斷,導通 電晶體Q3 ,將常介電體電容器C1(電容CD)的一端N1預充 電至Q3的源極電位即VDC(> Vss)電位。將常介電體電容器 的另 ^之虛擬板線DPL設為Vss電位。亦即,將電壓vj)C 訑加至#介電體電容器的兩端,以維持CD χ 的電荷。 動作時’使參照位元線側在本例中係與B l側連接的虛擬 竽元線的電晶體Q丨導通,連接B L與Ν丨。藉此,將儲存於 笫介电體電谷器Q 1之電荷放出至參照位元線側。繼而,將 C 1另一端的虛擬板線dpl電位由Vss提升為VDC,電位。藉 由該動作’利用常介電體電容器C i的耦合產生cd X VDC, 的電荷分,形成以參照位元線與常介電體電容器分配該電 荷之動作。藉由上述一連串的動作,可使參照B l電位: Vref’由Vss提升至資料” 1,,、”〇”的中間電位。結果,以參 照位元線電位之總電荷值= (CDXVDC,+CDXVDC)除以負荷 電容(CD+CB)之值,當VDOVDC,時,如圖3所示,成為 Vref,=(2CD X VDC)/(CD+CB) = 2Vref= 2 X (CD X VDC)/(CD + CB),與習知虛擬胞方式的Vref=(CD X VDC)/(CD+CB)相比,以相同的介電體電容器電容可產生2 倍的參照位元線電位。 相反的’雖然產生l/2Vaa=l/2VDC的參照位元線電位,然 而在習知的方式中,當CD = CB時,變成Vref=l/2VDC時須 -20- 本紙張尺度適用中國國家槺準(CNS) A4規格(210X297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(18 ) 有大的CD值,然而在本發明第4實施例中,當CD=1/3CB時 ,即Vref,=l/2VDC時,僅以習知方式之1/3面積的虛擬電容 器即可完成,可大幅縮小晶片尺寸。例如,在CB = 1000 fF 中,於習知方式中,需要1000 fF的虛擬電容器電容,在氧 化膜厚8 nm的MOS電容器中,每一虛擬胞需要225 μιη2的電 容器面積,然而在本發明,在1000 fF/3 =333 fF的電容中 ,每一虛擬胞電容器面積可大幅減低至75 μιη2。 此外,在習知的方式中,在產生比1 / 2 VDC電位還大的電 位時,當CB< CD時,將對於負荷電容之CD本身造成影響 ,故難以產生電位,然而本發明第4實施例中,當CD = CB 時,可產生Verf’= VDC = Vaa之大的電位。藉由該方式,不 致因偏差分布、變形等而需使用動作界限減少之強介電體 電容器,可實現強介電記憶體,亦不需使板再次上下移動 ,可以小的虛擬電容器面積實現強介電體記憶體,故可進 行高速動作。 又,在本發明的第4實施例中,藉由使用電晶體Q 1、Q 2 ,以位於線對共有化常介電體電容器,以減低虛擬胞電容 器面積。該常介電體電容器亦可為MOS電晶體的閘極電容 器,以空乏型電晶體最為理想。虛擬字元線DWL0、DWL1 如圖1 3的時序圖中(2 )所示,亦可在感應動作前設位低位準 ,以解除虛擬胞與參照位元線的連接,亦可在感應動作之 後(1)。然後,將DRST設為高位準,預充電節點N1至VDC ,使DPL降為低位準,返回與預備時相同的狀態。將D WL0 設為高位準,使儲存於VDC電壓的電荷釋放出某程度的參 -21 - 本紙張尺度適用中典國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 556216 A7 B7 五、發明説明(19 ) 照位元線後,提升DPL。此外,為了使電路簡單化,以設為 VDC = VDC,為佳。就其他方法而言,亦可利用固定 VDC = Vaa且僅變更VDC,的電位使參照位元線電位產生的方 式或固定VDC’=Vaa且僅變更VDC電位,使參照位元電位產 生之方法等。DRST的信號振幅電位係為將VDC寫入至N1而 設為VDC+Vt以上即設為昇壓電位Vpp為佳。DWLO,DWL1 的電位亦可為Vpp,若參照位元線電位+Vt<Vaa,則以Vaa 振幅為佳。 當然,圖4、5、6所示之驅動電路亦可應用於圖12的方
I 圖1 4為本發明第5實施例的電路圖,圖1 5為該動作的時 序圖。該電路與圖12大致具有相同的電路構成,而相異之 處在於:在圖12的電路中,將N1節點預充電至VDC之電晶 體Q3係以NMOS構成,而圖14的電路係以PMOS構成,係 使用反相信號/DRST。 在圖1 2的電路中,預充電N 1節點至VDC時,當 VDC + Vt>Vaa時,必須使DRST的信號上升即昇壓至Vaa以 上,然而藉由PMOS化,若VDC<Vaa或將/DRST設為Vss, 則可預充電至VDC,故可將/DRST的振幅抑制於Vaa,具有 不需昇壓電路之優點。 圖16為本發明第6實施例之電路圖,圖17為該動作之時 序圖。 圖16所示之電路與圖12大致具有相同之電路構成,然而 相異之處在於:在各個位元線對的兩條位元線上設置虛擬 22- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 556216 A7
胞屯路。即/BL4參照位元線時,使DWL1、DRST1、DPL1 動作,BL為參照位元線時,亦可使dwlq、d⑴ 動作。 如上所述’根據本發明,在預備時或動作時,由於適當 地控制提供給虛擬胞的常介電體電容器的端子之電位,不 致因偏差分布、變形等而需使用動作界限減少之強介電體 電容器,以實現強介電體,料,板電位不需複雜的上下 移動’可以小的虛擬電容器面積實現強介電體記憶體,故 可進行高速動作。 符號說明 MCI 記憶胞 /BL,BBL 位元線 PLO, PL1 板電極 m3 字元線、副字元線 BSO,BS3 塊選擇線 DPL,DPL0,1 虛擬板線 DRST0,1 虛擬胞重設 DWLO,DWL1 虛擬字元線 SA 感應放大電路 PHT 0 t控制(S A與陣列之連接信號) -23· $^尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. 556216 A8 B8 C8 _ D8 六、申請專利範圍 ^ ^ " 1 · 一種半導體記憶裝置,其係具備: 複數記憶胞區塊,係至少由複數個記憶胞串聯連接而 成,該^憶胞之構造包含··胞電晶體;及強介電體電容 器,其係並聯連接在上述胞電晶體的源極、汲極端子間 者; 複數子元線’係連接於上述胞電晶體; 複數位元線對,係與上述記憶胞區塊連接; 複數放大電路,係與上述位元線對連接並放大上述位 元線對的信號差;以及 虛擬胞電路,其係在上述位元線對中產生無法讀取記 憶胞的資料之參照位元線電位者; 其特徵在於: 上述虛擬胞電路至少具有1個常介電體電容器; 預備時上述常介電體電容器的第丨端子預充電至比接 地電位鬲.的第1電位,上述常介電體電容器的第2端子預 充电至接地電位; 動作時,上述第1端子與上述參照位元線連接,上述 第2端子由接地電位提升為比接地電位還高之第2電位。 2 .如申請專利範圍第1項之半導體記憶裝置,其中上述第i 崎子係經由第1電晶體連接於位元線對的丨條位元線,經 由第2電晶體連接於上述位元線對的另丨條位元線,且經 由第3電晶體連接於第1電位。 3·如申請專利範圍第2項之半導體記憶裝置,其中上述第3 電晶體係進行與上述第丨及第2電晶體之動作相反。 -24- 556216 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 4 ·如申請專利範圍第1項之半導體記憶裝置,其中上述第i 端子經由第1電晶體連接於位元線對的1條位元線,經由 第3電晶體連接於第1電位。 5 ·如申請專利範圍第4項之半導體記憶裝置,其中上述第3 電晶體與上述第1電晶體之動作相反。 6 ·如申請專利範圍第1項之半導體記憶裝置,其中第1電位 與第2電位相等。 7 ·如申請專利範圍第1項之半導體記憶裝置,其中上述第!
    裝 端子在連接於上述參照位元線之後,上述第2端子由接 地電位提升至比接地電位高之第2電位。 8· 一種半導體記憶裝置,其特徵在於具備有: 訂 複數兄憶胞區塊,係至少由複數個記憶胞串聯連接而 成;該記憶胞之構造包含··胞電晶體;及強介電體電容 器’其係並聯連接在上述胞電晶體的源極、汲極端子間 者,複數字元線,係連接於上述胞電晶體; 複數位元線對,係與上述記憶胞區塊連接; 線
    複數放大電路,係與上述位元線對連接並放大上述位 元線對的信號差;以及 虛擬胞電路,係包含:第1虛擬胞部分,具有產生上 述位元線對中的第丨位元線之第1電位之第1常介電體電 容器,第2虛擬胞部分,具有產生上述位元線對中的第2 位元線之第2電位之第2常介電體電容器; 上述常介電體電容器的第1端子係經由上述第丨電晶體 連接於上述第1位元線,經由第2電晶體連接於第丨虛擬 -25-
    556216 A8 B8 C8 _____ D8 六、申請專利範圍 胞的電源電位,上述第2常介電體電容器的第丨端子係經 由第3電晶體連接於第2位元線,上述第2常介電體電容 器的第2端子係連接於第2虛擬板線。 9·如申請專利範圍第8項之半導體記憶裝置,其中上述第i 位元線為參照位元線時,可控制上述第丨及第2電晶體, 上述第2位元線為參照位元線時,可控制上述第3及第4 電晶體。 10·如申請專利範圍第9項之半導體記憶裝置,其中在預備 時,第1及第2常介電體電容器中任一方之第丨端子預充 電至比接地電位高的第1電位,所選擇的上述常介電體 電容器的第2端子預充電至接地電位; 動作時,所選擇的上述常介電體電容器的第丨端子與 上述參照位元線連接,且上述第2端子由接地電位上升 至高於接地電位之第2電位。 1 1 · 一種半導體記憶裝置,係具備有: 複數記憶胞’係由胞電晶體及強介電體電容器的_聯 連接所構成; 複數字元線,係與上述胞電晶體連接; 複數位元線對’係與上述記憶胞區塊連接的; 複數放大電路,係與上述位元線對連接並放大上述位 元線對的信號差;以及 虛擬胞電路,係在上述位元線對中具有產生無法讀取 記憶胞的資料之參照位元線電位者; 其特徵在於, -26- 本紙張尺度通用中a國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐〉 556216
    上述虛擬胞電路至少具有丨個常介電體電容器; 預備時,上述常介電體電容器的第W子預充電至比 接地電位高的第丨電位,上述常介電體電容 私 預充電至接第電位; ,作時’上述約端子與上述參照位元線連接,上述 第2端子由接地電位上升至比接地電位高之第$電位。 12·如申請專利範圍第η項之半等體記憶裝置,其电中上述第 1端子係經由第1電晶體連接於與位元線對的丨條位^線 ,經由第3電晶體連接於第3電晶體與第丨電位。 1 3 ·如申請專利範圍第丨2項之半導體記憶裝置,其中上述第 3電晶體係進行與上述第丨電晶體反相之動作者。i 1 4 ·如申請專利範圍第1 1項之半導體記憶裝置,其中上述第 1端子係經由第1電晶體連接於位元線對的丨條位元線, 經由第2電晶體連接於上述位元線對的另丨條位元線,經 由第3電晶體連接於第1電位。 1 5 ·如申請專利範圍第1 1項之半導體記憶裝置,其中上述第 3電晶體係進行與上述第丨及第2電晶體反相之動作者。 1 6 ·如申請專利範圍第丨丨項之半導體記憶裝置,其中第^電 位與第2電位相等。 1 7 ,如申請專利範圍第8項之半導體記憶裝置,其中上述第工 端子與上述參照位元線連接,上述第2端子由接地電位 上升至比接地電位高之第2電位。 1 8 · —種半導體記憶裝置,係具備有·· 複數記憶胞,其係分別包括胞電晶體及強介電體電容 •27· ΐ紙張尺度通财s s雜準(CNS)鐵格(21Qx挪公董) 556216 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 器之並聯連接; 複數字元線,係連接於上述胞電晶體; 冗憶胞陣列’係由連接於上述胞電晶體的複數位元線 對所構成; 複數放大電路,係與上述位元線對連接,並放大上述 位元線對的信號差;以及 虚擬胞電路,在上述位元線對中具有產生無法讀取記 憶胞的資料之參照位元線電位者; 其特徵在於, 上述虛擬胞電路至少具有一個常介電體電容器; 預備時’上述常介電體電容器的第1端子預充電至比 接地電位南的第1電位,上述常介電體電容器的第2端子 預充電至接地電位; 動作時,上述第1端子與上述參照位元線連接,上述 第2端子由接地電位上升至比接地電位高之第2電位。 19·如申請專利範圍第18項之半導體記憶裝置,其中上述第 1 “子係經由第1電晶體連接於位元線對的1條位元線, 經由第2電晶體連接於上述位元線對的另1條位元線,經 由第3電晶體連接於第1電位。 20·如申請專利範圍第19項之半導體記憶裝置,其中上述第 3電晶體係進行與上述第1及第2電晶體反相之動作者。 2 1 .如申請專利範圍第1 8項之半導體記憶裝置,其中上述第 1端子’藉由弟1電晶體與位元線對的1條位元線連接, 藉由第3電晶體與第1電位連接。 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
    裝 訂
    556216 A8 B8 C8 _____D8 六、申請專利範圍 2 2 ·如申請專利範圍第2 1項之半導體記憶裝置,其中上述第 3電晶體係進行與上述第1電晶體之反相動作者。 23·如申請專利範圍第18項之半導體記憶裝置,其中第夏電 位與第2電位相等。 24·如申請專利範圍第18項之半導體記憶裝置,其中上述第 1端子與上述參照位元線連接,上述第2端子由接地電位 上升至比接地電位高之第2電位。 25· —種半導體記憶裝置,其特徵在於具備有: 複數記憶胞,分別包括胞電晶體與強介電體電容器之 串聯連接; [ 複數字元線,係與上述胞電晶體連接; 1己憶胞陣列,係由連接於上述胞電晶體的複數位元線 對所構成; π 複數放大電路,係與上述位元線對連接並放大上述位 元線對的信號差;以及 虛擬胞電路,係包含:第1虛擬胞部分,具有產生上 述位7C線對中的第丨位元線之第丨電位之第丨常介電體電 容器;第2虛擬胞部分,具有產生上述位元線對中的第2 位元線之第2電位之第2常介電體電容器; 上述常介電體電容器的第!端子係經由上述第i電晶體 連接於上述第1位元線,經由第2電晶體連接於約虛擬 胞的電源電位,上述第2常介電體電容器的第!端子係經 由第^電晶體連接於第2位元線,上述第2常介電禮電容 器的第2端子係連接於第2虛擬板線。 •29·
    556216 A8
    2 6 .如申請專利範圍第2 6項之半導體記憶裝置,其中上述第 1位元線為參照位元線時,可控制上述第i及第2電晶體 上述第2位元線為參照位元線時,可控制上述第3及第 4電晶體。 2 7 ·如申請專利範圍第2 6項之半導體記憶裝置,其中預備時 ,第1及第2常介電體電容器中任一個之一邊的第1端子 預充電至比接地電位高的第1電位,所選擇的上述常介 电體電谷器的第2端子預充電至接地電位; k 動作時,所選擇的上述常介電體電容器的第丨端子與上 述參照位元線連接’上述第2端子由接地電位上升至比 接地電位高之第2電位。 1 訂 線
    -30-本紙張尺度適用中國8家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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