TW529085B - Method for evaluating performance of plasma treatment apparatus or performance confirming system of plasma treatment system - Google Patents

Method for evaluating performance of plasma treatment apparatus or performance confirming system of plasma treatment system Download PDF

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TW529085B
TW529085B TW090121694A TW90121694A TW529085B TW 529085 B TW529085 B TW 529085B TW 090121694 A TW090121694 A TW 090121694A TW 90121694 A TW90121694 A TW 90121694A TW 529085 B TW529085 B TW 529085B
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Akira Nakano
Tadahiro Ohmi
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Alps Electric Co Ltd
Tadahiro Ohmi
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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    • H01J37/32917Plasma diagnostics
    • H01J37/32935Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge

Description

529085 A7 B7 __ 五、發明説明(1 ) 【發明領域】 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係關於電漿處理裝置以及電漿處理裝置或電槳 處理系統的性能評價方法、維修方法、性能管理系統、性 能確認系統,特別是關於電漿處理裝置使用於繼續擔保持 續維持所希望的性能之較佳的技術。 【發明背景】 【習知技藝之說明】 進行 CVD(化學氣相沉積,Chemical Vapor Deposition) 、濺鍍(Sputtering)、乾式餓刻(Dry etching)、灰化(Ashing) 等的電漿處理之電漿處理裝置的一例,習知以來已知爲如 圖22所示的所謂的兩頻率激發型。 圖22所示的電漿處理裝置在高頻電源1與電漿激發電 極4之間中介匹配電路2A。匹配電路2A係用以獲得這些 高頻電源1與電漿激發電極4之間的阻抗的匹配的電路而 配設。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 來自高頻電源1的高頻功率通過匹配電路2A,藉由供 電板3供給激發電極4。此匹配電路2A被收納於由導電體 所構成的框(Housing)所形成的匹配箱(Matching box)2內, 電漿激發電極4以及供電板3被由導體所構成的框架2 1覆 蓋。 電漿激發電極(陰極電極)4的下側配設凸部4a,並且在 此電漿激發電極(陰極電極)4的下面,形成多數孔7的噴、淋 板5與凸部4a接觸而配設。這些電漿激發電極4與噴淋板 I紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' 529085 A7 B7 五、發明説明(2 ) 5之間形成空間6。此空間6連接氣體導入管1 7,在由導體 所構成的氣體導入管17的途中插入絕緣體17a,使電漿激 發電極4側與氣體供給源側絕緣。 由氣體導入管17導入的氣體經由噴淋板5的孔7供給 由反應室壁10所形成的反應室60內。此外,符號9係絕 緣反應室壁10與電漿激發電極(陰極電極)4的絕緣體。而 且,排氣系的圖示省略。 另一方面,在反應室60內配設載置基板16也成爲電 漿激發電極的晶圓晶座(晶座電極)8,其周圍配設晶座遮蔽 12 ° 晶座遮蔽1 2由接受晶座電極8的遮蔽支持板1 2 A與垂 下形成於此遮蔽支持板12A的中央部之筒型支持筒12B所 構成,支持筒12B係貫通反應室底部10A而配設,並且, 此支持筒1 2B的下端部與反應室底部1 0A係藉由風箱11密 閉連接。這些晶圓晶座8以及晶座遮蔽12其間隙係藉由軸 1 3的周圍所配設的電絕緣物所構成的絕緣手段1 2C真空絕 緣,並且被電絕緣。而且,晶圓晶座8以及晶座遮蔽1 2藉 由風箱1 1可上下動作,可調整電漿激發電極4、8間的距 離。 晶圓晶座8中介收納於軸1 3以及匹配箱1 4內的匹配 電路連接第二高頻電源1 5。此外,反應室壁1 0與晶座遮蔽 1 2直流地變成等電位。 圖23係顯示習知的電漿處理裝置的其他例子。與圖22 所示的電漿處理裝置不同,圖23所示的電漿處理裝置爲一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -5 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(3 ) 頻率激發型的電槳處理裝置。即僅供給陰極電極4高頻功 率,晶座電極8接地。無圖22所示的高頻電源1 5與匹配 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 箱1 4。而且,晶座電極8與反應室壁1 〇直流地變成等電位 〇 在上述電漿處理裝置中,一般係投入13·56ΜΗζ左右的 頻率的功率,在兩電極4、8間生成電漿,利用此電漿進行 CVD(Chemical Vapor Daposition)、濺鍍、乾式蝕刻、灰化等 的電漿處理。 然後,這種電漿處理裝置的動作確認以及動作的評價 方法,例如如以下實際地進行成膜等的處理,以如評價此 被成膜特性的方法來進行。 (1 )、沉積速度與膜面內均勻性 在基板上利用電漿CVD形成所希望的膜。 進行光阻的圖案形成(Patterning)。 對膜進行乾式蝕刻。 利用灰化剝離光阻。 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 利用觸針式層差計計測膜的膜厚層差。 由成膜時間與膜厚算出沉積速度。 膜面內均勻性在6英吋基板面內中以1 6點測定。 (2)、BHF蝕刻速率 與上述(1)的<1>〜<2>—樣,形成光阻罩幕(Resist mask) 的圖案。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -6 529085 A7 B7_____ 五、發明説明(4 ) < 3 >浸漬基板於B H F液一^分鐘。 <4>在純水洗淨後乾燥,以H2S〇4 + H2〇2剝離光阻。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) <5>與上述(1)的<5>—樣,計測層差。 <6>由浸漬時間與層差算出鈾刻速度。 (3)、絕緣耐壓 < 1 >在玻璃基板上利用濺鍍形成導電性膜,形成圖案當 作下部電極。 <2>利用電漿CVD形成絕緣膜。 < 3 >利用與< 1 >同樣的方法形成上部電極。 <4〉在下部電極形成接觸孔。 <5>在上下電極探測,測定I-V(電流電壓特性)。此時 最大電壓施加到200V左右。 <6>令電極面積爲l〇〇//m四角形,因穿過1〇〇ρΑ處相 當於1 // A/cm2,故此時的V當作絕緣耐壓而定義。 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 再者’對如上述的電漿處理裝置,習知在使用於半導 體以及液晶製造的情形中,電漿處理速度(成膜時的沉積速 度或加工速度)彳央生產性高,而且,被處理基板面內方向中 的電漿處理的均勻性(膜厚的膜面內方向分布、加工處理偏 差的膜面內方向分布)爲優良在近年來伴隨著被處理基板的 大型化更強。 而且,伴隨著被處理基板的大型化,投入功率量也增 大到被投入kW等級,功率消耗量有增加的傾向。因此,伴 隨著電源的高容量化,電源的開發成本增大,並且裝置運 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ΓΤΊ------ 529085 A7 B7 五、發明説明(5 ) 轉時因功率使用增加,故削減運轉成本(Running cost)被期 待。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且,功率消耗量增大會增大造成環境負荷的二氧化 碳的排出量。此乃伴隨著被處理基板的大型化更增大放出 量,並且因更降低功率消耗效率,增大功率消耗量,故對 此二氧化碳的放出量削減的要求也提高。 另一方面,相對於電獎激發頻率習知一般爲13.56MHz ,使用超過此數値30MHz以上的VHF帶的頻率等,藉由謀 求高頻化可謀求在電漿空間消耗的有效功率的增加。其結 果在電漿CVD等的沉積裝置中,顯示可提高成膜時的沉積 速度之可能性。 再者,對具有複數個如上述的電漿反應室的電漿處理 裝置,對各個電漿反應室去除電漿處理的機差,在不同的 電漿反應室中即使於進行處理的被處理基板中,電漿處理 速度(成膜時的沉積速度或加工速度)或生產性,然後有想提 高被處理基板面內方向中的電漿處理的均勻性(去除膜厚的 膜面內方向分布等的處理偏差)之要求。 經濟部智慧財產^7員工消費合作社印製 同時,期待對具有複數個電漿反應室的電漿處理裝置 ,對各個電漿反應室適用供給的氣體流量或壓力、供給功 率,處理時間等的外部參數等相等的同一製程處理程式 (P r 〇 c e s s r e c i p e),可得到大致相同的電槳處理結果。 然後,在電漿處理裝置的新穎設置時或調整、維護檢 修時,去除每一複數個電漿反應室的機差消除處理的偏差 ,爲了藉由同一製程處理程式得到大致相同的處理結果, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -8 - 529085 A7 B7 五、發明説明(6 ) 要求必要的調整時間的縮短,並且這種調整所需要的成本 的削減也被要求。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者,對具有複數個如上述的電漿處理裝置的電漿處 理系統也同樣地,對各電漿處理裝置中的各個電漿反應室 去除電漿處理的機差之要求也存在。 而且,在上述電漿處理裝置中功率效耗效率(對由高頻 電源1投入到電漿激發電極4的功率,在電漿中所消耗的 功率的比例)未必良好。特別是由高頻電源供給的頻率越高 電漿處理裝置中的功率效耗效率的降低越顯著。同時而且 ,基板尺寸越大其降低越顯著。 其結果,有因藉由功率效耗效率降低在電漿空間消耗 的有效功率不會提高,故成膜速度變慢,而且例如關於絕 緣膜的成膜的情形,更高絕緣耐壓的絕緣膜的形成很困難 之問題點。 【發明槪要】 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 如上述在電漿處理裝置中,關於具備所希望的水準的 性能,並且具備複數個電漿反應室(電漿處理室)的電漿處理 裝置或電漿處理系統,被要求如去除電漿處理的性能機差 的考慮。但是’即使如這種考慮充分的電漿處理裝置,在 重複電漿處理內,仍有無法維持所希望的性能水準或者產 生複數個電漿處理室間的機差之可能性。而且,對於進行 分解掃除、零件交換、組裝調整等的調整作業,也有因調 整的不完備等無法維持調整作業前的性能之可能性。再者 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(210X297公釐) -9 - 529085 A7 B7 五、發明説明(7 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ’當傳送電漿處理裝置時,一般一旦分解之後才傳送,可 在傳送源進行再組裝。即使是這種情形也有因傳送中的振 動或再組裝作業的不完備等而無法維持傳送前的性能之危 險性。 而用以確認是否維持這種電漿處理裝置的性能於所希 望的性能水平或所希望的機差內的評價方法,對於採用如 上述的(1)〜(3)的動作評價方法的情形,需要使電漿處理裝 置動作,而且,在與電漿處理裝置的設置場所爲不同的檢 查場所等中,需要藉由複數個步驟處理測定被處理基板。 因此,到評價結果出來爲止,花費數天或數週間停止 該期間製造線的情形,進行電漿處理的被處理基板的特性 爲未知,當若電漿處理裝置的狀態不佳時,以該電漿處理 裝置處理的製品因有達不到作爲製品的基準之虞,故有以 更簡便的方法維持電漿處理裝置的動作於適當的狀態之要 求。 而且,在上述電漿處理裝置中係以投入13.56MHz左右的頻 率的功率而設計,不對應投入此數値以上的頻率的功率。 經濟部智慧財產苟員工消費合作杜印製 更具體爲投入高頻功率的部分即進行電漿處理的反應室全 體未考慮阻抗、共振頻率特性等的電的高頻特性,發生以 下的情況不佳。 <1>投入13.5 6MHz左右以上的頻率的功率時不提高功 率消耗效率,有不僅無法於成膜時提高沉積速度,況且有 沉積速度變慢的情形。 <2>若更使投入的功率高頻化的話,伴隨著頻率的上 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公釐) 529085 A7 B7 ___ 五、發明説明(8 ) 升被電漿空間消耗的有效功率上升,迎接尖峰(Peak)然後轉 爲減少,終於無法發光放電(G1 〇 w d i s c h a r g e),使筒頻化的 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 意思喪失。 而且,發生如以下的情況不佳。 對具有複數個電漿反應室的電漿處理裝置或電漿處理 系統,對複數個電漿反應室,由於未進行去除阻抗、共振 頻率特性等的電的高頻特性的機差之設計,故在各個電漿 反應室中,有被電漿空間消耗的有效功率等分別不均勻的 可能性。 因此,儘管對複數個電漿反應室適用同一製程處理程 式,仍有無法獲得同一電漿處理結果的可能性。 因此,爲了獲得相同的電漿處理結果,每一個電漿反 應室分別比較供給的氣體流量或壓力、供給功率、處理時 間等的外部參數與利用如上述的(1)〜(3)的評價方法所得到 的處理結果,需要把握這些結果的相關關係,惟其資料量 變成龐大很難進行全部。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,這種電漿處理裝置的動作確認以及動作的評價 方法採用如上述的(1)〜(3)的方法時,爲了確認是否進行適 當的動作,需要使電漿處理裝置動作,而且,在與電漿處 理裝置的設置場所不同的檢查場所等中,需藉由複數個步 驟來處理測定被處理基板。 因此,到評價結果出來需要數天或數週間,在裝置開 發階段中因電漿處理室的性能確認太花時間,故有縮短此 時間的要求。 ^張尺度適用中國國家標準(匸奶)八4規格(210乂297公釐) ^ 1 - 529085 A7 B7 i、發明説明(9 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者,對具有複數個電漿反應室的電漿處理裝置或電 發處理系統採用如上述的(1)〜(3)的檢查方法時,去除每一 個複數個電漿反應室的機差、去除處理的偏差,爲了藉由 同一製程處理程式獲得同一處理結果,必要的調整時間需 要以月單位。因此,調整期間的縮短被要求,並且有這種 調整所需的檢查用基板等的費用、此檢查用基板的處理費 用以及從事調整作業的作業員的人事費等成本龐大的問題 〇 如此,在電漿處理裝置中,關於具備所希望的水準的 性能,並且具備複數個電漿反應室(電漿處理室)的電漿處理 裝置或電漿處理系統,被要求如去除電漿處理的性能機差 的考慮。 但是,即使如這種考慮充分的電漿處理裝置,當傳送 電發處理裝置時,一般一旦分解之後才傳送,可在傳送源 進行再組裝。對於這種情形,也有因傳送中的振動或再組 裝作業的不完備等而無法維持傳送前的性能之危險性。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 而用以確認是否維持這種電漿處理裝置的性能於所希 望的性能水平或所希望的機差內的評價方法,對於採用如 上述的(1)〜(3)的動作評價方法的情形,需要使電漿處理裝 置動作,而且,在與電漿處理裝置的設置場所爲不同的檢 查場所等中,需要藉由複數個步驟處理測定被處理基板。 然後當裝置性能無法滿足規格時調整裝置,實施電漿 處理,需要重複評價被處理基板的一連的長周期,而且有 所納入的裝置的啓動期間長期化的問題。製造線的啓動期 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12 - 529085 A7 B7 五、發明説明(1〇 ) 間長短對年度的營業額產生很大的影響。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此,有以更簡便的方法把握電漿處理裝置的性能, 提則由問題發現到改善爲止的周期^縮短裝置的啓動期間 之要求。 本發明乃鑒於上述事情所進行的創作,希望達成以下 的目的。 < 1 >、提供用以確認是否適當地維持電漿處理裝置的性 能的迅速且簡便的評價方法。 <2〉、提供在未適當地維持電漿處理裝置的性能時,可 迅速地訂正的維修方法。 <3>、提供在納入端中爲了適當地維持電漿處理裝置的 性能而管理的性能管理系統。 <4>、提供可簡便地維持於適當的動作狀態之電漿處理 裝置。 < 5 >、提供用以確認電漿處理裝置或電漿處理系統在納 入端中是否被適當地發揮之迅速且簡便的評價方法。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 <6>、提供在納入端中爲了適當地發揮電漿處理裝置或 電漿處理系統的性能而管理的,或者未被適當地發揮性能 時,用以可立即進行維修作業而管理的性能管理系統。 <7>、提供可簡便地維持適當的動作狀態的電漿處理裝 置。 爲了解決上述課題,與本發明有關的電漿處理裝置的 性能評價方法,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) · 13 - 529085 A7 B7_ 五、發明説明(11 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極’·以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,求出在被設於連接於匹配電路 的輸出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該 電發處理室的高頻特性A的時刻t。與之後的時刻11中的値 A〇、Ai的差△ A的絕對値,當該値爲比預定値還小的値時 ,判斷爲維持預定的性能,當該値爲預定値以上的値時, 判斷爲不維持預定的性能。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法 ’係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,求出在被設於連接於該高頻電 源的該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測 定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻t。與之後的時刻U 中的値A。、A!的差△ A的絕對値,當該値爲比預定値還小 的値時,判斷爲維持預定的性能,當該値爲預定値以上的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) · 14 - 529085 A7 _____B7_ 五、發明説明(12 ) 値時’判斷爲不維持預定的性能。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法 ’係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,求出在被設於連接於該高頻功 率供電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的 高頻特性A的時刻t。與之後的時刻U中的値A。、Α!的差 △ A的絕對値,當該値爲比預定値還小的値時,判斷爲維 持預定的性能,當該値爲預定値以上的値時,判斷爲不維 持預定的性能。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的維修方法其特 徵爲:當與前述發明有關的評價方法的結果△ A的絕對値 爲預定値以上時,進行高頻特性A的訂正作業。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) =15- 一 529085 A7 __B7_ 五、發明説明(13 ) 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵包含: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶連接於匹配電路 的輸出端子的該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該 電漿處理室的高頻特性A的時刻t。中的値A d以及 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接, 其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性A ^的之 後的時刻U中的値A ^,演算該A。與此A !的差之△ A的 絕對値,當該値爲比預定値還小的値時、爲預定値以上的 値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預定性 能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵包含: 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶連接於該高頻電 源的該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測 定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻U中的値A。;以及 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接’ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 16 529085 A7 B7 五、發明説明(14 ) 其中 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性A。的之 後的時刻t ^中的値A !,演算該A ^與此A !的差之△ A的 絕對値,當該値爲比預定値還小的値時、爲預定値以上的 値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預定性 能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵包含: 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶連接於該高頻功 率供電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的 高頻特性A的時刻t。中的値A ◦;以及 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接, 其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性A。的之 後的時刻U中的値A !,演算該A ^與此A i的差之△ A的 絕對値,當該値爲比預定値還小的値時、爲預定値以上的 値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預定性 能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -17 - 529085 A7 ____B7_ 五、發明説明(15 ) 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ’係具備: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵包含: 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶對應由在被設於 連接於匹配電路的輸出端子的該高頻功率配電體端部的測 定位置測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻to中的値 A。、與各個預定値的範圍所決定的故障位準而登錄的服務 工程師資訊; 此伺服器的傳送源中的輸出裝置;以及 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接, 其中 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性A。的之 後的時刻h中的値A :,演算該A ^與此A :的差之△ A的 絕對値,當該値爲任何故障位準的預定値範圍時,由該輸 出裝置輸出該故障位準、對應該故障位準而登錄的服務工 程師資訊以及維修作業命令。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -18 - 529085 A7 B7 五、發明説明(16 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵包含: 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶對應由在被設於 連接於該高頻電源的該高頻功率供電體的該高頻電源側端 部的測定位置測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻t〇 中的値A ^、與各個預定値的範圍所決定的故障位準而登錄 的服務工程師資訊; 此伺服器的傳送源中的輸出裝置;以及 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性A ^的之 後的時刻η中的値A i,演算該A ^與此A i的差之△ A的 絕對値,當該値爲任何故障位準的預定値範圍時,由該輸 出裝置輸出該故障位準、對應該故障位準而登錄的服務工 程師資訊以及維修作業命令。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的筒頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -19 - ~ 529085 A7 B7 五、發明説明(17 ) 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵包含: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶對應由在被設於 連接於該高頻功率供電體的該輸入端子的測定位置測定的 該電獎處理室的高頻特性A的時刻t。中的値A。、與各個預 定値的範圍所決定的故障位準而登錄的服務工程師資訊, 此伺服器的傳送源中的輸出裝置;以及 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接’其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性A。的之 後的時刻η中的値A i,演算該A。與此A ^的差之△ A的 絕對値,當該値爲任何故障位準的預定値範圍時,由該輸 出裝置輸出該故障位準、對應該故障位準而登錄的服務工 程師資訊以及維修作業命令。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,維持在被設於連接於匹配電路 的輸出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該 電漿處理室的高頻特性A的時刻U與之後的時刻h中的値 A。、A!的差△ A的絕對値於比預定値還小的値。 而且’與本發明有關的電漿處理裝置,係具備: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -20 - — 529085 A7 B7 五、發明説明(18 ) 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 槳處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 在供給該高瀕功率時,維持在被設於連接於該高頻電 源的該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置, 測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻t。與之後的時刻 U中的値A〇、A:的差△ A的絕對値於比預定値還小的値。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 在供給該高頻功率時,維持在被設於連接於該高頻功 率供電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的 高頻特性A的時刻t。與之後的時刻U中的値A。、Α!的差 A A的絕對値於比預定値還小的値。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能確認系統 ,其特徵包含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 21 529085 A7 B7 五、發明説明(19 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂購者自販賣維修者訂購的與本發明有關的電漿處理裝置 的時刻t。與之後的時刻h中可計測的動作性能狀況之性能 狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端’販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段’響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 在上述各發明中,該高頻特性A可採用共振頻率f、該 高頻功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R 或該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。而且,該高頻 特性A最好採用第一串聯共振頻率f〇。 而且,在上述各發明中,該預定値較佳値爲A。的10% 、更佳値爲A〇的3%。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,在上述各發明中,在時刻與之後的時刻^之 間進行,有帶給該高頻特性A影響的可能性之現象,例如 可舉出被處理物被導入電漿處理室內,該被處理物被進行 電漿處理。而且,其他現象可舉出對電漿處理裝置實施分 解掃除、零件交換、組裝調整等的調整作業。再者,其他 現象可舉出實施分解、傳送以及再組裝。 在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統中, 該伺服器係每一個電漿處理室的固有號碼記憶A ^ ’由納入 端輸入輸出裝置接收所納入的電漿處理室的固有號碼’使 用對應該固有號碼的A。進行演算。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) · 22 - 529085 A7 B7 五、發明説明(20 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且’在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管 理系統中,也能將該納入端輸入輸出裝置連接連接於電漿 處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器直接 發送A i。 而且’在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管 理系統中,該伺服器在該傳送元中具備輸出裝置,當△ A 的絕對値超過預定値時,由該輸出裝置輸出維修作業命令 也可以。 而且’在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管 理系統中,該伺服器由該傳送元中的輸出裝置輸出維修作 業命令,並且對該納入端輸入輸出裝置發送該故障位準也 可以。 而且’在與上述本發明有關的電漿處理裝置中,當 的絕對値爲預定値以上的値時,藉由進行高頻特性Α的訂 正作業,可較佳地採用用以維持△ A的絕對値於比預定値 還小的値的樣態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能確 認系統中,該性能狀況資訊可當作包含該高頻特性A的者 。而且’該性能狀況資訊可以目錄或規格書而輸出。 而且,與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法 ,係在傳送源將具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -23 - 529085 A7 B7 五、發明説明(μ ) 子連接該局頻電源’並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後’其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該電漿 處理室的第一串聯共振頻率f。的納入後的値f(H的3倍,當 爲比該高頻功率的功率頻率f6還大的値時,判斷爲維持預 定的性能,當爲該功率頻率L以下的値時,判斷爲不維持 預定的性能。 而且,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置, 與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法係在傳送源 將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入 端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該複數 個電漿處理室的高頻特性A的納入後的値Ai的偏差Au係 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'〆297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(22 ) 由 其最大値Amax與最小値Amin定義成 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Au 二(A 1 m a X - Almin)/(Almax + Almin) 當Au値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的性 能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置 ,與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳 送源將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端’在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時’在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該複數個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値Ai的偏差Ah係由 其最大値Amu與最小値Amin定義成
Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐)_ 25 - 529085 A7 B7 五、發明説明(23 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 當Aw値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的性 能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置 ,與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳 送源將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電槳處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該複數個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値Ai的偏差係由 其最大値與最小値Amin定義成 A.lr — (Almax-Almin) / (Almax~l· Almin) 當Aw値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的性 能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 而且,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置’與本 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -26 - 529085 A7 _ B7 五、發明説明(24 ) 發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源將 具備: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 複數個電獎處理室’具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的局頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入 端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該複數 個電漿處理室的第一串聯共振頻率f。的納入後的値^的偏 差f。1 r係由 其最大値f〇lm 〃與最小値foimin定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lmin)/( f〇lmax+ f〇lmin) 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 當f。^値爲比預定値還小的値,且納入後的値的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率fe還大的値時,判斷爲維 持預定的性能,當foh値爲預定値以上的値,或納入後的値 f(H的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率h以下的値 時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置 ,與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -27- 529085 A7 B7 五、發明説明(25 ) 送源將具備: 電漿處理室’具有用以激發電獎的電極; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給局頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸Λ端子與輸出端子’藉ή ?妾方令 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子’獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端’在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時’在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測定的 該複數個電漿處理室的第一串聯共振頻率f()的納入後的値 f。1的偏差f。1 r係由 其最大値f〇lm“與最小値faim-定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lmin)/( f〇lmax+ foimin) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當foh値爲比預定値還小的値’且納A後的値fai的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率匕還大的値時’判斷爲維 持預定的性能,當f。〃値爲預定値以上的値’或納入後的値 f〇i的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率h以下的値 時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置 ,與本發明有關的電漿處理裝置的性能評價方法’係在傳 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 529085 A7 B7 五、發明説明(26 ) 送源將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該複數個電漿處理室 的第一串聯共振頻率fo的納入後的値h的偏差f(m係由 其最大値foimu與最小値定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lmin)/( f〇lmax+ foimin) 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 當fou値爲比預定値還小的値,且納入後的値f(H的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率f6還大的値時,判斷爲維 持預定的性能,當fou値爲預定値以上的値,或納入後的値 f(H的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率以下的値 時,判斷爲不維持預定的性能。 而且,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系統 ,與本發明有關的電漿處理系統的性能評價方法,係在傳 送源將配設複數個具備: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -29 - 529085 A7 B7_ 五、發明説明(27 ) 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該電漿 處理室的高頻特性A的納入後的値Ai的偏差Au係由 其最大値Amu與最小値Amin定義成
Au 二(A 1 m a X - A. 1 m i η ) / ( A 1 m a x + Almin) 當値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的性 能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能評價方法,係在 傳送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介高 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -30 - 529085 A7 B7_ 五、發明説明) 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測定的 該電漿處理室的高頻特性A的納入後的値Ai的偏差Au係 由其最大値Amu與最小値Amin定義成
Air — (Almax-Almin) / (Almax + Almin) 當A〃値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的性 能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能評價方法,係在 傳送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -31 - 529085 A7 B7 五、發明説明(29 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的高頻 特性A的納入後的値A1的偏差A11·係由 其最大値A…與最小値Amin定義成
Alr~(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 當Au値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的性 能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 而且,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系統 ,與本發明有關的電槳處理系統的性能評價方法,係在傳 送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該電漿 處理室的第一串聯共振頻率f。的納入後的値的偏差f〇lr 係由 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -32 - 529085 A7 B7 五、發明説明(30 ) 其最大値f〇lmaX與最小値定義成 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) f〇lr — ( f〇lmax- f〇lmin)/( foimax-f foimin) 當fou値爲比預定値還小的値,且納入後的値f(n的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率L還大的値時,判斷爲維 持預定的性能,當f。〃値爲預定値以上的値,或納入後的値 f ◦ i的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率L以下的値 時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能評價方法,係在 傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該筒頻電源連接於該輸入端子》獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測定的 該電漿處理室的第一串聯共振頻率f。的納入後的値f(H的偏 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -33 - 529085 A7 ___ _B7_ 五、發明説明(3彳) 差係由 其最大値與最小値定義成 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) f〇lr — ( foimax- f〇lmin )/( f。1 m a x ~h foimin) 當fon値爲比預定値還小的値’且納入後的値&的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率f。還大的値時,判斷爲維 持預定的性能,當fou値爲比預定値以上的値,或納入後的 値f(H的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率h以下的 値時,判斷爲不維持預定的性能。 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能評價方法,係在 傳送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的第一 串聯共振頻率f◦的納入後的値foi的偏差fou係由 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -34- 529085 A7 B7 五、發明説明(32 ) 其最大値foimu與最小値定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lmin)/( f 〇 1 m a x + foimin) 當fon.値爲比預定値還小的値’且納入後的値fai的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率fe還大的値時,判斷爲維 持預定的性能,當fm値爲預定値以上的値,或納入後的値 fen的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率h以下的値 時,判斷爲不維持預定的性能。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 ,係在傳送源將具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 具備記憶由該高頻電源供給電漿處理室的功率頻率L 的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出 裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時’在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -35 - 衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(33 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的第一 串聯共振頻率f。的納入後的値f。1,當納入後的値f()1的3倍 爲比該功率頻率還大的値時、當納入後的値h的3倍爲 該功率頻率fe以下時,分別將維持預定性能的意旨之訊號 、不維持預定性能的意旨之訊號發送到納入端輸λ輸出裝 置。 而且,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置’ 與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統,係在傳送 源將具備: 複數個電漿處理室’具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 具備記憶由該高頻電源供給電漿處理室的功率頻率L 的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出 裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的第一 串聯共振頻率f。的納入後的値f(H,當納入後的値f(M的3倍 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -36 - 529085 A7 B7 五、發明説明(34 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 都爲比該高頻功率的功率頻率L還大的値時、當納入後的 値f〇 i的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻率h以下的値 時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預定性能 的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 而且,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置, 與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統’係在傳送 源將具備: 複數個電漿處理室’具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻 特性A的納入後的値Ai以及各個電漿處理室的固有號碼, 此値A1的偏差A u係由 其最大値Amax與最小値Amin定義成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -37 - 529085 A7 B7 五、發明説明(35 )
Alr=(A 1 m a X - A 1 m i n)/(A 1 m a x + A 1 m i n ) 當Au値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作業 命令以及給予該最大値Amu或最小値Amin的電漿處理室的 固有號碼。 同樣地,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置 ,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統,係在傳 送源將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後,其特徵爲: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻電源的該高頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該各個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値A i以及各個電漿處理室的固有 號碼,此値A!的偏差Au係由 其最大値Am〃與最小値Amin定義成 ---------衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -38 - 529085 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(36 )
Air— (Almax - A lmin) / (Almax + Almin) 當A i!値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作業 命令以及給予該最大値A…或最小値A m i n的電紫處理室的 固有號碼。 同樣地,對應具有複數個電漿處理室的電漿處理裝置 ,與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統,係在傳 送源將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝 後的電槳處理裝置的性能評價方法,其特徵爲: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻功率供電體的該輸入端子 的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻特性A的納人 後的値A!以及各個電漿處理室的固有號碼,此値A!的偏差 A 1 r係由 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -39 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
529085 A7 B7 五、發明説明(37 ) 其最大値A…與最小値Amin定義成 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Alr~(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 當A u値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作業 命令以及給予該最大値A m 〃或最小値A m i n的電漿處理室的 固有號碼。 而且,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系統 ,與本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,係在傳 送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 具備記憶由該高頻電源供給電漿處理室的功率頻率L 的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出 裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的第一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -40 - 529085 A7 B7 五、發明説明(38 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 串聯共振頻率f。的納入後的値,當納入後的値foi的3倍 都爲比該高頻功率的功率頻率h還大的値時、當納入後的 値f。:的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻率h以下的値 時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預定性能 的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,係在 傳送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 槳處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端’在 該納入端再組裝後,其特徵爲: 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 具備記憶由該高頻電源供給電漿處理室的功率頻率h 的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出 裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該尚頻電源的該局頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該各個電漿處理室 的第一串聯共振頻率f。的納入後的値f(H,當納入後的値 的3倍都爲比該高頻功率的功率頻率還大的値時、當納 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -41 - 529085 A7 B7 五、發明説明細) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 入後的値fen的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻率f6以 下的値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預 定性能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統’與本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,係在 傳送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後的電漿系統的性能評價方法,其特徵爲: 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻功率供電體的該輸入端子 的測定位置測定的該各個電漿處理室的第一串聯共振頻率 f◦的納入後的値f(H,當納入後的値f(H的3倍都爲比該高頻 功率的功率頻率f6還大的値時、當納入後的値fai的任一個 的3倍爲該高頻功率的功率頻率L以下的値時,分別將維 持預定性能的意旨之訊號、不維持預定性能的意旨之訊號 發送到納入端輸入輸出裝置。 而且,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系統 ,與本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,係在傳 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4規格(210X297公釐) -42 529085 A7 ___ B7_ 五、發明説明(4〇 ) 送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端’在 該納入端再組裝後,其特徵爲具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻電源的該高頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該各個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値A!以及各個電漿處理室的固有 號碼,此値At的偏差Au係由 其最大値Amax與最小値Amin定義成 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製
Air— (Almax-Almin) / (Almax + Almin) 當値爲預定値以上時’由該輸出裝置輸出維修作業 命令以及給予該最大値Amax或最小値Amin的電漿處理室的 固有號碼。 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公羡1 43 529085 A7 B7 五、發明説明) 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,係在 傳送源將配設複數個具備: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入_輸入輸出裝置’其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻電源的該高頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該各個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値Ai以及各個電漿處理室的固有 號碼,此値Ai的偏差Au係由 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 其最大値Amn與最小値AmU定義成
Air - ( A. 1 m a X - A Imin) / (A.lmax'f'Almin) 當Au値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作業 命令以及給予該最大値Amax或最小値Amin的電漿處理室的 固有號碼。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -44- 529085 A7 __ B7 五、發明説明(42 ) 一請先聞讀背面之注意事項存填寫本頁) 同樣地,對應具有複數個電漿處理裝置的電漿處理系 統,與本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,係在 傳送源將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端,在 該納入端再組裝後,其特徵爲具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻功率供電體的該輸入端子 的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻特性A的納入 後的値A!以及各個電漿處理室的固有號碼,此値A!的偏差 Au係由 其最大値A m a X與最小値A m i η疋義成
Alr=(Almax - Almin)/(Almax + Almin) 當Ah値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作業 命令以及給予該最大値Amax或最小値Amin的電漿處理室的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -45 - 529085 A7 B7 五、發明説明(43 ) 固有號碼。 而且,與本發明有關的電漿處理裝置的性能確認系統 ,其特徵包含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的與本發明有關的在性能管理系 統管理的電漿處理裝置或電槳處理系統的在傳送源分解後 傳送到納入端,在該納入端再組裝後的動作性能狀況之性 能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 在上述各發明中,高頻特性A可採用共振頻率f、該高 頻功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R 或該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。而且,高頻特 性A最好採用第一串聯共振頻率f〇。 而且在上述各發明中,與高頻特性A (或第一串聯共振 頻率f〇)的納入後的値Ai (或f(H)的偏差Aw (或f〇w)對比的預 定値其較佳値爲0.1,更佳値爲0.0 3。 而且,在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管 理系統或電漿處理系統的性能管理系統中,對於比較納入 後的値fen的3倍與前述高頻功率的功率頻率f6,判斷性能 的情形,前述伺服器在傳送源中具備輸出裝置,納入後的 --------衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -46 - 529085 A7 ____ B7 五、發明説明h ) 値fw的3倍爲前述高頻功率的功率頻率L以下的値時,由 前述輸出裝置輸出維修作業命令較佳。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且,在與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能確 認系統中,可將上述性能狀況資訊當作包含前述高頻特性 A。而且,上述性能狀況資訊可當作目錄或規格書而輸出。 以下,更詳細地說明上述各發明。 上述各發明係以供給高頻功率到電漿處理室的電極時 所測定的高頻特性A爲評價指標。此乃高頻特性A對於與 在被電漿空間消耗的有效功率等的電漿處理裝置的性能有 密切關聯性,並且發生組裝精度產生失常等帶給性能壞影 響的現象的情形,著眼於容易變動的値。 而且,高頻特性A對於與因傳送中的振動或納入後的 再組裝的不完備,而發生精度產生失常等帶給性能壞影響 的現象的情形,著眼於容易變動的値。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 然後,發現當作此指標的高頻特性A在時刻t〇與之後 的時刻h中的値A ^、A i的差△ A的絕對値具有與電漿處 理裝置的性能變動寬度密切的關係、以及此値若比預定値 還小的話,性能變動寬度也視爲預定的範圍內,藉由比較 此△ A的絕對値與預定的値使電漿處理裝置的性能評價爲 可能。 即利用分解傳送後的新穎設置時或之後的使用的電漿 處理的重複或調整、維護檢修等時,電漿處理室的性能維 持預定的性能水平,或當電漿處理室具有複數個時’使可 充分抑制性能的機差等的評價爲可能。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) · 47 - 529085 A7 B7 五、發明説明(45 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由於此高頻特性A的測定可瞬間進行,故與採用利用 對基板的實際成膜等的習知檢查方法的情形比較,可大幅 地縮短評價時間。而且,可削減性能評價所需的檢查用基 板等的費用、此檢查用基板的檢查處理費用以及從事評價 作業的作業員的人事費等的成本。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此,如果依照與本發明有關的電漿處理裝置的評價 方法,可瞬間地且不花成本地進行電漿處理裝置的性能評 價。而且,如果依照與本發明有關的維修方法,因可瞬間 地且不花成本地進行電漿處理裝置的性能評價結果,故可 以所希望的頻率進行性能評價,可立即反映其結果進行訂 正作業。而且,如果依照與本發明有關的電漿處理裝置的 性能管理系統,藉由利用製造者所管理的伺服器,納入端 的使用者等可簡便地知道性能評價結果。而且,如果依照 與本發明有關的電漿處理裝置,所謂高頻特性A因可藉由 可常時確認的指標來維持性能,故可進行良好的電漿處理 。再者,如果依照與本發明有關的電漿處理裝置的性能確 認系統,藉由利用販賣維修者所管理的伺服器,購入訂購 者可簡便地知道電漿處理裝置的動作性能狀況。 而且,對於電漿處理裝置具有複數個電漿處理室的情 形,藉由以每一各電漿處理室所求得的高頻特性A爲指標 ,對各電漿處理室經常適用同一製程處理程式,可得到大 致同一的電漿處理結果,即在電漿處理室中例如進行成膜 時,膜厚、絕緣耐壓、蝕刻率等,可持續獲得大致均勻的 膜特性的膜。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -48 - 529085 A7 B7 夂、發明説明(46 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且,如果依照與本發明有關的電漿處理系統的評價 方法,可瞬間地且不花成本地進行電漿處理裝置的性能評 價。而且,電漿處理系統因由複數個電漿處理裝置所構成 ’故具有複數個電漿處理室。藉由以這些每一各電漿處理 裝室所求得的高頻特性A爲指標,對各電漿處理室經常適 用同一製程處理程式,可得到大致同一的電漿處理結果, 即在電漿處理室中例如進行成膜時,膜厚、絕緣耐壓、蝕 刻率等,可持續獲得大致均勻的膜特性的膜。 而且,如果依照與本發明有關的電漿處理裝置的性能 管理系統,藉由利用製造者等所管理的伺服器,納入端的 使用者等可簡便地知道性能評價結果。而且,如果依照與 本發明有關的電漿處理系統的性能管理系統,藉由利用製 造者等所管理的伺服器,納入端的使用者等可簡便地知道 性能評價結果或關於機差的資訊。 因此,任一個發明都對事前避免進行有問題的電漿處 理作業,保持電獎處理裝置於良好狀態有貢獻。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,對電漿處理室經常適用同一製程處理程式,可 得到大致同一的電漿處理結果,即在電漿反應室中例如進 行成膜時,膜厚、絕緣耐壓、蝕刻率等,可持續獲得大致 均勻的膜特性的膜。 而且,電漿處理裝置具有複數個電漿反應室,對於結 合複數個電漿處理裝置構成電漿處理系統的情形,每一各 電漿反應室求出此高頻特性A可當作指標。 在上述各發明中,前述高頻特性A的測定位置可當作 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -49 - 529085 Α7 Β7 五、發明説明(47 ) 在供給該高頻功率時’被設於連接於匹配電路的輸出端子 的前述高頻功率配電體端部的測定位置。 據此,藉由評價高頻特性的變動,可評價被電漿空間 消耗的有效功率的變動。然後,適用同一製程處理程式, 可得到大致同一的電漿處理結果。 而且,在本發明中改變上述測定位置,可將在供給該 高頻功率時,被設於連接於前述高頻功率供電體(供電線)的 前述輸入端子的測定位置當作前述高頻特性A的測定位置 〇 據此,不僅電漿處理室也包含匹配電路可評價電的高 頻特性。因此,與在上述測定位置評價比較’可更正確地 進行被電漿空間消耗的有效功率的評價’進而對電漿處理 結果的評價。 而且,改變上述測定位置,可將在供給該局頻功率時 ,被設於連接於前述高頻電源的前述高頻功率供電體(供電 線)的前述高頻電源側端部的測定位置當作前述高頻特性a 的測定位置。 據此,不僅電漿處理室也包含高頻功率供電體可評價 電的高頻特性。因此,與在上述兩個測定位置評價比較’ 可更正確地進行被電漿空間消耗的有效功率的評價’進而 對電漿處理結果的評價。 在上述各發明中,前述高頻特性A可當作共振頻率f、 前述高頻功率的頻率中的阻ί几2、前述局頻功率的頻率中的 電阻R或前述高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。據此 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -50 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Τ 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(48 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ,可以電的高頻特性評價電漿處理裝置。此外,其中共振 頻率f如後述可採用在供給高頻功率時,藉由在連接於匹 配電路的輸出端的高頻功率配電體端部所測定的電漿處理 室的第一串聯共振頻率f。,或與前述電極協和動作產生電 漿的對向電極的電容所規定的串聯共振頻率f〇。 高頻特性A可適宜地採用這些以外以數1所示的電壓 電流的振幅比或數2所示的電壓電流的相位差等。 [數1] VF+z7 [數2] t -χ(Χλ tan ——
UJ 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 此處,對於前述高頻特性A採用阻抗Z的情形,此阻 抗Z由於是電漿激發頻率中的値,故測定Z與0的頻率依 存性,對首先可把握的參數之共振頻率f,無須看電漿反應 室的高頻特性的頻率依存性,與共振頻率f比較容易把握 。而且,爲可更直接地捕捉電漿反應室的電漿激發頻率中 的電的高頻特性的參數。 而且,對於採用電阻R以及電抗X的情形,與看這些 電阻R與電抗X的向量比較,可更直接地捕捉電漿反應室 的電漿激發頻率中的電的高頻特性的參數。 而且,前述高頻特性A可採用第一串聯共振頻率f〇。 此第一串聯共振頻率f〇可考慮爲將機械的構造當作其 許多要因而決定的電的高頻特性,各電漿處理室(電漿反應 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 51 - 529085 A7 ___B7 五、發明説明(49 ) 室)不同。而且’此第一串聯共振頻率h可考慮爲與電漿產 生的穩定性或均勻的動作有密切關係的評價指標。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 據此,高頻特性A當選擇第一串聯共振頻率f{)時,更 正確的性能評價爲可能。 此外,前述高頻特性A當採用共振頻率f時,由於也 著眼於第一串聯共振頻率f。以外的串並聯共振頻率,故看 到在反應室內被分歧的所有電流路徑的特性。因此,與採 用第一串聯共振頻率f。的情形比較,具有可更詳細地確認 機差的優點係具備解析需要時間與勞力之缺點。 此處’說明關於弟一^串聯共振頻率f。的定義。 首先,計測電漿反應室的阻抗的頻率依存性。此時如 後述,規定電漿反應室的阻抗測定範圍,對此阻抗測定範 圍在包含供給的功率頻率L的範圍令測定頻率變化,藉由 測定阻抗的向量(Z、0 )來計測電漿反應室的阻抗的頻率依 存性。此處,例如對應設定爲13.56MHz、27.12MHz、 40.6 8MHz等値的功率頻率h,設定測定頻率爲例如 1MHz〜100MHz左右的範圍。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 圖6係顯示用以說明第一串聯共振頻率f。的阻抗Z與 相位0的頻率依存特性圖。 接著如圖6所示,對測定頻率描繪阻抗Z與相位0, 描繪阻抗特性曲線以及相位曲線,由阻抗的極小値之中頻 率的最小者,即由測定頻率f的低側數,當最開始相位Θ 由負變化到正時,定義相位0爲零的頻率爲第一串聯共振 頻率f〇。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -52 - 529085 A7 B7 五、發明説明(5〇 ) 其次,說明關於前述電槳反應室的阻抗測定範圍(高頻 特性測定範圍)。 電漿反應室中介匹配電路連接高頻電源,惟相較於此 匹配電路的輸出端,將輸出側當作阻抗測定範圍。 此處,匹配電路爲了對應電漿反應室內的電漿狀態等 的變化而調整阻抗,其多數被製作成具備複數個被動元件 的構成。 圖2係顯禾匹配電路2A的模式圖。 例如匹配電路2 A如圖2所示,在高頻電源1與電漿放 電用電極4之間,串聯配設線圏23與調諧電容器24,再者 ,可舉出在高頻電源1並聯連接其他的負載電容器22,〜 端被接地的構成之匹配電路2A。在這種匹配電路的被動元 件之中,在輸出最終段的被動元件的輸出端位置切離,即 直接連接於電極4側的元件,上述例子的情形在調諧電容 器24的輸出端位置PR切離匹配電路2A的狀態下,將比此 還前面的電漿反應室部分定義爲前述測定範圍。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 -----^----衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 而且,改變上述測定位置如圖2所示,由高頻電源1 側端部切離連接高頻電源1與匹配電路2A的供電線(高頻 功率供電體),在被設於此高頻電源1側端部的測定位置 PR2切離高頻電源丨a的狀態下,可將比此還前面的電漿反 應室部分定義爲前述測定範圍。 再者,改變上述測定位置如圖2所示,由匹配電路2八 側端部切離連接高頻電源1與匹配電路2A的供電線(高_ 功率供電體),在被設於連接於此匹配電路2 A的供電線1 a 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -53 - " 、 529085 A7 B7 五、發明説明(51 ) 的輸入端子的測定位置PR3切離高頻電源1 A以及供電線 1A的狀態下,可將比此還前面的電漿反應室部分定義爲前 述測定範圍。 在上述各發明中,對比較前述高頻特性A的時刻t。與 之後的時刻U中的値A。、A !的差△ A的絕對値得預定値 特別無限制,惟例如可設定爲A ^的10%。這種情形例如在 電漿CVD中可抑制沉積速度的變動於5%以內。 而且,最好可設定爲A ^的3 %。這種情形例如在電漿 CVD中可抑制沉積速度的變動於2%以內。 與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統係 例如在由電漿處理裝置的製造者、流通業者、維修業者等 對使用者等納入電漿處理裝置時,在傳送源分解後在經過 於納入端進行傳送、於納入端進行再組裝的一連處理工程 後,或者如之後的使用期間中,由時刻t。經過某時間後的 時刻U中,評價電漿處理裝置的性能是否被維持,管理其 性能的系統。 本管理系統中的伺服器係電漿處理裝置的製造者、流 通業者、維修業者等的傳送源所管理的,惟其設置場所並 未特別限定於傳送源。此伺服器係記憶高頻特性A的分解 前的値A。。然後,使用此記憶的A。,評價在傳入源的電 漿處理裝置的性能。 此A。値當作製造者等所管理的標準的高頻特性A的 値也可以,惟藉由記憶每一電漿處理室的固有號碼記憶A 〇 値,對應納入端的個別電漿處理裝置可更正確地評價。因 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -54 - -----:------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(52 ) 此,可作爲精度更高的管理系統。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外,所謂電漿處理室的固有號碼若爲可個別地特定 電漿處理室的號碼的話,並未特別限定,其形式不僅數字 包含文字等也可以。例如,具備一個電漿處理室的電漿處 理裝置的情形,也能將該電漿處理裝置的製造號碼當作該 電漿處理裝置的固有號碼來處理。 在伺服器以通訊線路連接被設置於納入端的輸入輸出 裝置。未特別限定於此通訊線路的媒體或形式,若爲在放 置於分離的地點的伺服器與輸入輸出裝置之間可進行訊號 的授受者也可以。即可適宜地使用電纜線路、光纖線路、 衛星線路等的種種有線或無線的通訊媒體,並且,可活用 電話線路網、網路網等種種的通訊形式。而且,納入端的 輸入輸出裝置也未特別限定,在可適應於利用個人電腦、 專用終端機、電話機等的通訊線路的種類等的範圍,可適 宜地選擇。 經濟部智慧財產灼員工消費合作杜印製 伺服器接收由相關的納入端輸入輸出裝置再組裝後的 値A :。而且,依照需要接收電漿處理裝置的固有號碼。此 處,所謂再組裝後不僅是緊接著再組裝,也包含之後的使 用期間中。即伺服器可適宜持續接收反映納入端的電漿處 理裝置的性能的値A i。 由納入端輸入輸出裝置對伺服器爲了發送A !値或電槳 處理裝置的固有號碼,在納入端輸入輸出裝置,納入端的 使用者或訪問納入端的服務者等可以手輸入這些値,惟此 輸入作業可適宜自動化或省力化。例如在納入端輸入輸出 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) -55 - 529085 A7 B7 五、發明説明(53 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝置連接連接於電漿處理裝置的阻抗測定器,由阻抗測定 器可對前述伺服器直接發送A !。而且,在可單獨使用具備 單獨的電漿處理室的電漿處理裝置之納入端中,將電漿處 理裝置的固有號碼登錄於納入端輸入輸出裝置一次,然後 ,可省略輸入作業。 伺服器由上述高頻特性A。、A i的値使用內部演算處 理裝置,演算A ^與此A !的差之△ A的絕對値。然後,當 該値爲比預定値還小的値時、爲預定値以上的値時,分別 將維持預定性能要旨的訊號、不維持預定性能要旨的訊號 當作各個評價資訊發送到納入端輸入輸出裝置。即納入端 輸入輸出裝置可接收評價資訊,據此,在納入端可把握電 漿處理裝置的性能評價結果。此外,納入端輸入輸出裝置 將評價資訊顯示於顯示器或印出,或發出警報訊號等,可 以適宜的方法傳達評價資訊給使用者等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 伺服器或在傳送源具備輸出裝置,當△ A的絕對値超 過預定値時,由該輸出裝置可輸出當作評價資訊的維修作 業命令。這種情形,合倂對應的電漿處理室的固有號碼而 輸出較佳。據此,可在傳送源中最早把握納入端的電漿處 理裝置的情況不佳,立即提供維修服務。 此外,當伺服器不被放置在傳送源時,在伺服器與輸 出裝置之間可使用任意的通訊線路。 當伺服器對納入端輸入輸出裝置與傳送源的輸出裝置 的雙方提供評價資訊時,成爲兩評價資訊的基礎的預定値 未必爲同一値也可以。例如,關於發送給納入端輸入輸出 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -56 - 529085 A7 B7 五、發明説明(54 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝置的評價資訊,令預定値爲A。的1 0%,超過此値時發送 維持預定的性能要旨的訊號,另一方面,在傳送源的輸出 裝置令預定値爲A ^的3 %,超過此値時輸出維修作業命令 也可以。如此,對傳送源的輸出裝置,當根據對納入端輸 入輸出裝置更嚴格的評價基準而輸出維修作業命令時,可 在納入端的電漿處理裝置的性能大變動以前,進行藉由傳 送源的維修服務。即可更確立打前鋒的維修體制。 與上述本發明有關的其他電漿處理裝置的性能管理系 統也例如在由電漿處理裝置的製造者、流通業者、維修業 者等對使用者等納入電漿處理裝置時,在傳送源分解後在 經過於納入端進行傳送、於納入端進行再組裝的一連處理 工程後,或者如之後的使用期間中,由時刻U經過某時間 後的時刻U中,評價電漿處理裝置的性能是否被維持,管 理其性能的系統。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統的特徵 與前面的電漿處理裝置的性能管理系統的特徵之不同點爲 ,伺服器記憶對應由各個預定値的範圍所決定的故障位準 而登錄的服務工程師資訊,並且,具備傳送源中的輸出裝 置的點。然後,伺服器在演算△ A的絕對値後,當該値爲 任一個故障位準的預定値範圍時,進行由該輸出裝置輸出 故障位準與對應該故障位準而登錄的服務工程師資訊以及 作業維修命令之處理的點。 此性能管理系統的情形,在傳送源也輸出維修作業命 令,並且也輸出何種程度的故障位準或依照該故障位準而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -57 - 529085 A7 B7 五、發明説明細) 等級區分的服務工程師資訊。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此,如果依照與本發明有關的電漿處理裝置的性能 管理系統’即使爲遠端地納入的電獎處理裝置,在傳送源 仍可把握其故障位準。然後,依照該故障位準可派遣教育 訓練程度不同的服務工程師。因此,可合理化人才活用, 並且使迅速且正確的支援爲可能。即裝置納入後的現場支 援(F i e 1 d s u ρ ρ 〇 r t)體制的合理化爲可能。 而且,在本發明的電漿處理裝置的性能確認系統中, 藉由對顯示販賣維修者所向上載入的各電漿處理室單元的 動作性能狀況的性能狀況資訊,購入訂購者經由公用線路 可由資訊終端閱覽,對購入訂購者可容易提供在購入後的 使用時的電槳處理裝置的動作性能、維修資訊。而且,前 述性能狀況資訊如上述藉由包含當作對電漿處理裝置的性 能參數的前述第一串聯共振頻率f〇等的高頻特性A,可提 供購入訂購者的對電漿處理裝置的性能判斷材料。再者, 前述性能狀況資訊可當作目錄或規格書輸出。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在本發明中一個評價基準(以下稱爲[評價基準1]),前 述電漿處理室的第一串聯共振頻率f。的3倍係使用是否比 前述功率頻率fe還大的値的範圍。此乃基於以下的理由。 即若前述電漿處理室的第一串聯共振頻率f。的3倍爲 比功率頻率f6還大的値的範圍,則即使投入習知一般所使 用的13·56ΜΗζ左右以上的高頻率功率,也能有效地將功率 導入電漿產生空間,當供給同一頻率時,可增大在電漿空 間消耗的有效功率。其結果在進行膜的疊層時,可將謀求 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -58 - 529085 A7 ____B7_ 五、發明説明(56 ) 沉積速度的提高當作可能。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此第一串聯共振頻率f〇可考慮爲將機械的構造當作其 許多要因而決定的電的高頻特性,各電漿處理室不同。然 後,可判斷藉由以此第一串聯共振頻率fQ爲基礎評價性能 ,即使對各電漿處理室也能評價習知未被考慮的其全般的 電的高頻特性,可期待電漿產生的穩定性。其結果在維持 動作穩定性高的電漿處理裝置後,可提供適切的性能評價 方法與性能管理系統。 在本發明中其他的評價基準(以下稱爲[評價基準2]), 納入後的値A !的偏差A u係使用是否比預定的値還小的値 的範圍。此乃基於以下的理由。 即在對電漿處理室的電極供給高頻功率時,關於複數 個電漿處理室的各個測定連接於匹配電路的輸出端子的高 頻功率配電體的端部所測定的電漿處理室的高頻特性A, 求出其最大値A…與最小値Amin。然後使用這些最大値Amax 與最小値Amin,偏差Au如以下的式(1A)定義。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin) ( 1 A ) 若Au値爲比預定値還小的値,則對複數個電漿處理室 可去除阻抗、共振頻率特性等的電的高頻特性的機差,據 此,因在以阻抗特性等爲指標的一定管理寬度內可設定複 數個電漿處理室,故在各個電漿反應室中可分別使被電漿 空間消耗的有效功率等大致均勻。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -59 - 529085 A7 B7 五、發明説明(57 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其結果對複數個電漿處理室適用同一個製程處理程式 ,獲得大致同一的電漿處理結果,即在複數個電漿處理室 中例如進行成膜時,可得到膜厚、絕緣耐壓、蝕刻速率等 大致均勻的膜特性的膜。 而且,在本發明中也能組合上述評價基準1與評價基 準2而使用。這種情形在維持動作穩定性高的電漿處理裝 置後,可提供適切的性能評價方法,並且,對複數個電漿 處理室在共振頻率特性等的電的高頻特性的機差維持小的 狀況後,可提供適切的性能評價方法。 在上述評價基準2中,前述高頻特性A可當作共振頻 率f、前述高頻功率的頻率中的阻抗Z、前述高頻功率的頻 率中的電阻R或前述高頻功率的頻率中的電抗X的任一個 。而且,在評價基準2中前述高頻特性A可採用上述第一 串聯共振頻率f〇。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 這種情形未特別限定與高頻特性A(或第一串聯共振頻 率f。)的納入後的値A i (或“)的偏差A u (或f〇〃)對比的預 定値,惟例如可當作0.1。這種情形再以大致同一條件進行 疊層的電漿反應室中,可收斂膜厚度的偏差値於±5%的範 圍等,可維持電漿處理的均勻性。 再者,藉由設定上述預定値於比0.03還小的範圍,對 複數個電漿反應室可去除阻抗、共振頻率特性等的電的高 頻特性的機差,據此,因可在以阻抗特性爲指標的一定管 理寬度內設定複數個電漿反應室,故在各個電漿反應室中 可分別使被電漿空間消耗的有效功率大致均勻。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -60 - 529085 A7 B7 五、發明説明(58 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其結果對複數個電漿反應室適用同一個製程處理程式 ,可得到大致同一的電漿處理結果,即在複數個電漿反應 室中例如進行成膜時,可得到膜厚、絕緣耐壓、蝕刻速率 等大致均勻的膜特性的膜。具體上藉由設定上述偏差値於 比0.03還小的範圍,在大致相同的條件下進行疊層的電槳 反應室中,可抑制膜厚的偏差値於±2%的範圍。 與上述本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統或 電漿處理系統的性能管理系統係在由電漿處理裝置或電漿 處理系統的製造者、流通業者、維修業者等對使用者等納 入電漿處理裝置時,在傳送源分解後在經過於納入端進行 傳送、於納入端進行再組裝的一連處理工程後,或者在之 後的使用期間中,以上述評價基準評價電漿處理裝置的性 能是否被維持,管理其性能的系統。 本管理系統中的伺服器係電漿處理裝置的製造者、流 通業者、維修業者等的傳送源所管理的,惟其設置場所並 未特別限定於傳送源。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在伺服器以通訊線路連接被設置於納入端的輸入輸出 裝置。未特別限定於此通訊線路的媒體或形式,若爲在放 置於分離的地點的伺服器與輸入輸出裝置之間可進行訊號 的授受者也可以。即可適宜地使用電纜線路、光纖線路、 衛星線路等的種種有線或無線的通訊媒體,並且,可活用 電話線路網、網路網等種種的通訊形式。而且,納入端的 輸入輸出裝置也未特別限定,在可適應於利用個人電腦、 專用終端機、電話機等的通訊線路的種類等的範圍,可適 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -61 - 529085 A7 B7 五、發明説明(59 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 宜地選擇。此外,使用評價基準2的性能管理系統中的納 入端輸入輸出裝置、輸入裝置至少需要輸入功能,輸出功 能非必須,惟當然具備輸出功能也無妨。 使用評價基準1的性能管理系統的情形,此伺服器記 憶由高頻電源供給電漿處理室的功率頻率h。然後,使用 其記憶的,評價傳入源的電漿處理裝置的性能。 此外,此fe的値以製造者等所管理的標準功率頻率 也可以,惟藉由每一電漿處理室的固有號碼記憶fe的値, 對應納入端的個別的電漿處理裝置,可更正確的評價。因 此,可當作精度更高的管理系統。 此處,所謂電漿處理室的固有號碼若爲可個別地特定 電槳處理室的號碼的話,並未特別限定,其形式不僅數字 包含文字等也可以。例如,具備一個電漿處理室的電漿處 理裝置的情形,也能將該電漿處理裝置的製造號碼當作該 電漿處理裝置的固有號碼來處理。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 這種情形伺服器由納入端輸入輸出裝置接收第一串聯 共振頻率h的納入後的値fH。此處,所謂納入後不僅是緊 接著再組裝,也包含之後的使用期間中。即伺服器可適宜 持續接收反映納入端的電漿處理裝置或電漿處理系統的性 能的値f(H。 而且,上述伺服器由納入端輸入輸出裝置,依照需要 用以接收第一串聯共振頻率f。的納入後的値以及給予該 値的電漿處理室的固有號碼也可以。 由納入端輸入輸出裝置對伺服器,爲了依照需要發送 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -62 - 529085 A7 B7 五、發明説明(60 ) 電漿處理室的固有號碼,在納入端輸入輸出裝置,納入端 的使用者或訪問納入端的服務者等可以手輸入這些値,惟 此輸入作業可適宜自動化或省力化。例如在納入端輸入輸 出裝置連接連接於電槳處理裝置或電漿處理系統的阻抗測 定器,由阻抗測定器可對前述伺服器直接發送f(H。而且, 在可單獨使用具備單獨的電漿處理室的電漿處理裝置之納 入端中,關於電漿處理室的固有號碼,登錄於納入端輸入 輸出裝置一次,然後,可省略輸入作業。 伺服器由上述納入後的値f。1、功率頻率L的値使用內 部演算處理裝置比較的3倍與功率頻率的値。然後, 比較的結果當納入後的値f。^的3倍爲比前述功率頻率f6還 大的値時、當納入後的値f(H的3倍爲前述功率頻率L以下 時,分別將維持預定性能要旨的訊號、不維持預定性能要 旨的訊號發送到納入端輸入輸出裝置。即納入端輸入輸出 裝置可接收評價資訊,據此,在納入端可把握電漿處理裝 置的性能評價結果。此外,納入端輸入輸出裝置將評價資 訊顯示於顯示器或印出,或發出警報訊號等,可以適宜的 方法傳達評價資訊給使用者等。 這種情形的伺服器或在傳送源中具備輸出裝置,當納 入後的値f(H的任一個的3倍爲前述高頻功率的功率頻率fe 以下的値時,由該輸出裝置輸出維修作業命令較佳。 這種情形,合倂對應的電漿處理室的固有號碼而輸出 較佳。據此,可在傳送源中最早把握納入端的電漿處理裝 置或電漿處理系統的情況不佳,立即提供維修服務。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -63 - ---:---1------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A7 _ _ B7 五、發明説明(61 ) 此外,當伺服器不被放置在傳送源時,在伺服器與輸 出裝置之間可使用任意的通訊線路。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 使用評價基準2的性能管理系統的情形,伺服器具備 輸出裝置。此輸出裝置的設置場所並未特別限定,惟放置 在傳送源、製造者、服務中心等提供對納入端的維修服務 的場所較佳。當伺服器與輸出裝置被放置於遠端地時,兩 者之間係使用任意的通訊線路。 然後,此伺服器使用評價基準2評價傳入源的電漿處 理裝置的性能,並且當獲得不佳的評價結果時,由輸出裝 置輸出維修作業命令以及給予其評價結果所使用的最大値 A lmax或最小値A lmin的電漿處理室的固有號碼。 這種情形伺服器爲了進行使用評價基準2的評價,由 納入端輸入輸出裝置接收高頻特性A的納入後的値A 1。此 處,所謂納入後不僅是緊接著再組裝,也包含之後的使用 期間中。即伺服器可適宜持續接收反映納入端的電漿處理 裝置或電漿處理系統的性能的値A ^。 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 而且,上述伺服器也由納入端輸入裝置接收高頻特性 A的納入後的値A i,並且給予該値的電漿處理室的固有號 碼。 由納入端輸入輸出裝置對伺服器爲了發送A 1値或電紫 處理室的固有號碼,在納入端輸入輸出裝置,納入端的使 用者或訪問納入端的服務者等可以手輸入這些値,惟此輸 入作業可適宜自動化或省力化。例如在納入端輸入輸出裝 置連接連接於電漿處理裝置或電漿處理系統的阻抗測定器 1紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -64 - 529〇85 A7 B7 五、發明説明(62 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,由阻抗測定器可對前述伺服器直接發送A 1。而且,在可 單獨使用具備單獨的電漿處理室的電槳處理裝置之納入端 中,關於電漿處理室的固有號碼’登錄於納入端輸入輸出 裝置一次,然後,可省略輸入作業。 伺服器若接收電漿處理裝置全體或電漿處理系統全體 中的電漿處理室的A!,則由這些値中特定最大値A…與最 小値Amin,與對應這些値的固有號碼。然後,依照
Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 的定義求出偏差,當該値爲所定的値以上時,由該輸出 裝置輸出維修作業命令以及給予該最大値Amax或最小値 Amin的電漿處理室的固有號碼。 據此,可在傳送源等的服務提供者側最早把握納入端 的電漿處理裝置或電漿處理系統的情況不佳,立即提供維 修服務。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 【圖式之簡單說明】 圖1係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的第一實施 形態的槪略構成圖。 圖2係顯示圖1中的電漿處理裝置的匹配電路的模式 圖。 圖3係用以說明與本發明有關的電漿處理裝置的第-實施形態中的電漿處理裝置的阻抗特性的模式圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -65 - ~~ 529085 A7 B7 五、發明説明(63 ) 圖4係顯示圖3中的電漿處理裝置的等價電路的電路 圖。 圖5係顯示用以說明第一串聯共振頻率^的阻抗z與 相位Θ的頻率依存特性圖。 圖6係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的第一實施 形態中的第一串聯共振頻率fQ以及阻抗Z與相位Θ的頻率 依存特性圖。 圖7係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的第二實施 形態的槪略構成圖。 圖8係用以說明與本發明有關的電漿處理裝置的第二 實施形態中的電漿處理裝置的阻抗特性的模式圖。 圖9係顯示圖8中的電漿處理裝置的等價電路的電路 圖。 圖1 0係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的第二實施 形態中的第一串聯共振頻率f。以及阻抗z與相位0的頻率 依存特性圖。 圖1 1係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的第三實施 形態的槪略構成圖。 圖1 2係顯示圖1 1中的電漿處理裝置的等價電路的電 路圖。 圖1 3係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的第三實施 形態中的第一串聯共振頻率f()以及阻抗z與相位0的頻率 依存特性圖。 圖1 4係顯示電漿發光狀態中的電極間的狀態之模式圖 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -66 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 丁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A7
五、發明説明(64 ) 圖1 5係顯示阻抗測定器的探針之斜視圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖1 6係顯示圖1 5的阻抗測定器的探針之連接狀態的 模式圖。 圖1 7係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理 系統的第四實施形態中的系統構成圖。 圖1 8係顯示以同性能管理系統實現的評價資訊提供方 法圖。 圖1 9係顯示與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理 系統的第五實施形態中的系統構成圖。 圖20係顯示以同性能管理系統實現的評價資訊提供方 法的流程圖。 圖2 1係顯示以與本發明有關的電漿處理裝置的性能管 理系統的第五實施形態實現的評價資訊提供方法的流程圖 〇 圖22係顯示習知的電漿處理裝置的一例之模式圖。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 圖23係顯示習知的電漿處理裝置的其他例之模式圖。 圖24係顯示本發明的電槳處理裝置的性能確認系統的 系統構成圖。 圖25係顯示與本發明的電漿處理裝置的性能確認系統 有關的伺服器S的建築狀況資訊的提供處理之流程圖。 圖26係顯示與本發明的電漿處理裝置的性能確認系統 有關的主頁CP的構成之俯視圖。 圖27係顯示與本發明的電漿處理裝置的性能確認系統 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -67 _ 529085 A7 B7 五、發明説明(65 ) 有關的次頁C P 1的構成之俯視圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖28係顯示與本發明的電漿處理裝置的性能確認系統 有關的主頁CP2的構成之俯視圖。 圖29係顯示與本發明的電漿處理裝置的性能確認系統 有關的次頁CP3的構成之俯視圖。 圖3 0係顯示與本發明的電漿處理裝置的性能確認系統 有關的次頁CP4的構成之俯視圖。 圖3 1係說明與本發明有關的電漿處理裝置的實施例中 的等價電路的電路圖。 圖3 2係顯示成爲與本發明有關的電漿處理裝置的性能 評價方法的第四實施形態的對象之電漿處理裝置的槪略構 成圖。 圖3 3係顯不圖1 8中的雷射回火室的縱剖面圖。 圖34係顯示圖1 8中的熱處理室的縱剖面圖。 圖3 5係顯示成爲與本發明有關的電獎處理裝置的性能 評價方法的第五實施形態的對象之電漿處理裝置的槪略構 成圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖3 6係顯示成爲與本發明有關的電漿處理裝置的性能 評價方法的第六實施形態的對象之電發處理裝置的槪略構 成圖。 圖37係顯示成爲與本發明有關的電漿處理裝置的性能 評價方法的對象之其他電漿處理裝置的槪略構成圖。 圖3 8係顯示成爲與本發明有關的電漿處理裝置的性能 評價方法的對象之其他電漿處理裝置的槪略構成圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -68 - 529085 A7 _B7 五、發明説明(66 ) 圖3 9係顯示成爲與本發明有關的電漿處理裝置的性會g 評價方法的對象之其他電漿處理裝置的槪略構成圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖40係顯示以與第七實施形態有關的性能管理系統實 現的評價資訊提供方法的流程圖。 圖4 1係與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 的第八實施形態實現中的系統構成圖。 圖42係顯示以同性能管理系統實現的評價資訊提供方 法的流程圖。 圖43係將本發明的阻抗測定位置當作PR2的情形的圖 〇 圖44係將本發明的阻抗測定位置當作PR3的情形的圖 〇 【符號說明】 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 1:高頻電源 1 A:供電線 2:匹配箱 2A:匹配電路 3:供電板 4:電漿激發電極(陰極電極) 5:噴淋板 6:空間 7:孔 8 :晶圓晶座(晶座電極) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) :69- 529085 A7 B7 五、發明説明(67 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 9:絕緣體 10:反應室壁 10A:反應室底部 11:風箱 1 2:晶座遮蔽 12A:遮蔽支持板 12B:支持筒 13:軸 1 6 :基板 17:氣體導入管 1 7 a、1 7 b :絕緣體 21:框架 22:負載電容器 2 3 :線圈 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 24:調諧電容器 2 5 :匹配電路 26:匹配箱 27:第二高頻電源 2 7 A :供電線 28:供電板(高頻功率配電體) 29:框架 3 0 :線圈 31:調諧電容器 3 2 :負載電容器 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -70 - 529085 A7 B7 五、發明説明(68 ) 60:反應室 6 1:阻抗測定用端子(共振頻率測定用端子) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 7 1、9 1:電槳處理裝置 72、92:傳送室 73:裝載機室 74:卸載機室 75、76、77、95、96、97:電漿反應室(電漿處理室單 元) 78:雷射回火室 79、 89、99:熱處理室 80、 84:反應室 8 1:雷射光源 81a:射出部 8 2 :台面 8 3 :雷射光 8 5 :加熱器 8 6 :閘閥 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 87:基板傳送機械手臂(傳送手段) 88:臂 93:真空隔絕室 105:探針 210:伺服器 213:發送接收手段 220:納入端的輸入輸出裝置 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -71 - 529085 Α7 --- Β7 五、發明説明(69 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 230:通訊線路 240:傳送源的輸出裝置 250:電漿處理裝置 260:阻抗測定器 AN:阻抗測定器(共振頻率測定器) B:分歧點 C N:電槳反應室(電漿處理室) P:電漿發光區域 PR、PR’:輸出端子位置 SW1、SW2:開關 g0、gl、g2、g3、g4:闊 【較佳實施例之詳細說明】 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的第 一實施形態。 [第一實施形態] 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 圖1係顯示本實施形態的電漿處理裝置的槪略構成的 剖面圖。圖2係顯示圖1中的電漿處理裝置的匹配電路的 模式圖。 本實施形態的電漿處理裝置係被製作成進行CVD(化學 氣相沉積,C h e m i c a 1 V a ρ 〇 r D e ρ 〇 s i t i ο η)、濺鍍、乾式蝕刻、 灰化等的電漿處理的一頻率激發型的電漿處理裝置。如圖1 所示,被製作成具備:具有用以激發電漿的平行平板型電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -72 - 529085 A7 B7 五、發明説明㈧) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 極4、8的電漿反應室(電漿處理室)C N、與此電極4連接的 高頻電源1、用以獲得前述電漿反應室CN與前述高頻電源 1的阻抗匹配的匹配電路2A之構成。 同時本實施形態的電漿處理裝置如後述,爲了使由前 述匹配電路2A的輸出端位置PR測定的前述電漿反應室CN 的第一串聯共振頻率f。的3倍比由前述高頻電源1供給電 漿反應室CN的功率頻率L還大的値的範圍,而設定、設計 、製造f〇。(高頻特性A。)。然後,在分解傳送後於納入端再 組裝後中,更於之後的使用期間中,當時的第一串聯共振 頻率f(n (高頻特性係以f(H與f〇〇的差△ f〇 (△ A)的絕對値 比f。。的1 0 %還小的値而被維持。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 更詳細地說明的話本實施形態的電漿處理裝置如圖1、 圖2所示,在電漿反應室CN的上部配設連接於高頻電源1 的電漿激發電極(電極)4以及噴淋板5,在電漿反應室CN 的下部配設面對噴淋板5,載置被處理基板1 6的晶座電極( 電極)8。電漿激發電極(電極)4係中介供電板(高頻功率配電 體)3以及匹配電路2A與第一高頻電源1連接。這些電漿激 發電極4以及供電板3被框架21覆蓋,並且匹配電路2 A 被收納於由導體所構成的匹配箱2的內部。 供電板3係使用對具有寬度50〜100mm、厚度0.5mm、 長度100〜300mm形狀的銅表面實施銀電鍍的材料,此供電 板3分別被後述的匹配電路2A的調諧電容器24的輸出端 子以及電漿激發電極4螺絲固定。 而且,在電漿激發電極(陰極電極)4的下側配設凸部4a 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -73 - 529085 A7 B7 __ 五、發明説明幻) ,並且在此電漿激發電極(陰極電極)4之下,形成多數孔7 的噴淋板5係連接配設於凸部4a。在這些電漿激發電極4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 與噴淋板5之間形成空間6。此空間6連接氣體導入管1 7 〇 此氣體導入管17係由導體所構成,並且在氣體導入管 1 7的途中絕緣體1 7a係被中介插入框架2 1的內側位置,使 電漿激發電極4側與氣體供給源側絕緣。同時,在氣體導 入管1 7用以包圍貫通框架2 1的側壁部分的外周而配設絕 緣體1 7b,氣體導入管1 7與框架2 1係被絕緣。 由氣體導入管1 7導入的氣體經由噴淋板5的多數孔7 供給由反應室壁1 0所形成的反應室60內。反應室壁1 0與 電漿激發電極(陰極電極)4係藉由絕緣體9互相絕緣。而且 ,排氣系的圖示省略。 另一方面,在反應室60內配設載置基板16也成爲電 漿激發電極的晶圓晶座(晶座電極)8。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 晶座電極8被軸1 3支持,軸1 3的下端部與反應室底 部1 0 A中心邰係藉由風箱1 1密閉連接。這些晶圓晶座8以 及軸1 3藉由風箱1 1可上下動作,可調整電漿激發電極4、 8間的距離。 因這些晶座電極8與軸1 3連接,軸1 3與風箱1 1與反 應室壁10連接,故晶座電極8、軸13、風箱1 1、反應室底 部1 0 A、反應室壁1 〇直流地變成等電位。再者因反應室壁 1 0與框架2 1連接,故反應室壁丨〇、框架2丨、匹配箱2都 直流地變成等電位。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)「74: 529085 A7 B7 _ 五、發明説明) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處,匹配電路2A爲了對應電漿反應室CN內的電獎 狀態等的變化而調整阻抗,被製作成具備其多數爲具備複 數個被動元件之構成。 匹配電路2 A如圖1、圖2所示’複數個被動兀件在尚 頻電源1與供電板3之間,串聯配設線圈2 3與調諧電容器 24,在這些線圈23與調諧電容器24並聯連接負載電容器 22,此負載電容器22的一端連接於匹配箱2 1 ° 匹配箱2係連接於被製作成同軸電纜的供電線1 A的遮 蔽線,此遮蔽線係被接地。據此,晶座電極8、軸13、風 箱1 1、反應室底部1 〇 A、反應室壁1 〇、框架21、匹配箱2 被設定爲接地電位,同時負載電容器2 2的一端也變成接地 的狀態。 在本實施形態的電發處理裝置中係投入1 3 ·5 6 M H z左右 以上的頻率的功率,具體上投入13·56ΜΗζ、27.12ΜΗζ、 40.68 MHz等的頻率的功率,在兩電極4、8間生成電漿, 利用此電漿對載置於晶座電極8的基板1 6進行 CVD(Chemical Vapor Daposition)、乾式餓刻、灰化等的電漿 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 處理。 此時高頻功率由高頻電源1供給供電線1 A的同軸電纜 、匹配電路2A、供電板3、電漿激發電極(陰極電極)4。另 一方面,考慮高頻電流的路徑的情形,電流中介這些元件 經由電漿空間(反應室60)後,更通過另一方的電極(晶座電 極)8、軸13、風箱11、反應室底部10A、反應室壁10。然 後通過框架21、匹配箱2、供電線1A的遮蔽線’返回高頻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐) -75 - 529085 A7 B7 五、發明説明) 電源1的接地。 (请先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處說明關於實施形態的電漿處理裝置中的第一串聯 共振頻率f。。 第一串聯共振頻率5係計測電漿反應室CN的阻抗的頻 率依存性,阻抗Z的極小値之中最小的頻率的値,此値被 設定成比該功率頻率h還大的値的範圍。 此第一串聯共振頻率f〇爲將機械的構造當作其許多要 因而決定的電的高頻特性,具體上如圖3、圖4所示而測定 〇 圖3係用以說明電漿處理裝置的阻抗特性的模式圖。 圖4係顯示圖3的等價電路的電路圖。 電漿反應室CN的測定範圍係以匹配電路2A的被動元 件之中在輸出最終段的被動元件的輸出端位置切離的狀態 爲其對象。即如圖3所示以在連接於供電板3的調諧電容 器24的輸出端位置PR,鬆脫供電板3與匹配電路2A的端 子的螺絲固定,切離匹配電路2A的狀態的電漿反應室CN 爲測定範圍。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 然後,如圖3的虛線所示,連接於被設於切離阻抗測 定器AN的探針105的輸出端位置PR以及電漿反應室CN 的例如框架2 1的接地位置。在此狀態下令阻抗測定器AN 的振盪的測定頻率變化於例如1MHz〜100MHz範圍,測定對 電漿反應室CN的上述測定範圍的阻抗之向量(Z、0 )。 此探針1 05如圖3所示係在導線11 0上配設絕緣被覆 11 2,在此絕緣被覆1 1 2上被覆外周導體11 1。此探針1 05 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -76 - 529085 A7 B7 五、發明説明) 透過同軸電纜連接於阻抗測定器(共振頻率測定器)AN。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 接著,如圖5所示以測定頻率f(MHz)爲,縱軸將阻抗 Ζ(Ω )與相位0 (deg)畫在同一圖上。此處,在圖中左側的縱 軸爲阻抗Ζ( Ω ),右側的縱軸對應相位0 (deg)。在所描繪的 阻抗特性曲線(實線)以及相位曲線(虛線)之中,由阻抗的最 小値Z—的頻率即測定頻率f的低側數,當最開始相位0由 負變化到正時,定義相位β爲零的頻率爲第一串聯共振頻 率fo。 此時,對所測定的第一串聯共振頻率f。考慮的電的高 頻要因如圖3所示,在上述測定範圍之中可考慮以下: 供電板(饋電線(F e e d e r)) 3的電感L f以及電阻R f 電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿電極電容C。 軸13的電感Lc:以及電阻Rc 風箱1 1的電感Lb以及電阻Rb 反應室壁10的電感La以及電阻Ra 夾著絕緣體17a的氣體導入管17與電漿激發電極4之 間的電容Ca 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 電漿激發電極4與框架21之間的電容Cb 電漿激發電極4與反應室壁1 0之間的電容Cc 這些電的高頻要因與流過在電漿發光時所供給的高_ 電流的電路一樣,如圖4所示供電板(饋電線)3的電感Lf以 及電阻Rf、電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿電極 電容Ce、軸13的電感L。以及電阻R。、風箱11的電感Lb 以及電阻Rb、反應室壁10的電感La以及電阻Ra依次串聯 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -77 - 529085 A7 B7 五、發明説明0^5 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 連接,其終端的電阻R A被接地,並且在電阻R f與電極電容 C。之間,在電容Ca、電容CB、電容Cc的一端接地的狀態 下形成分別並聯連接的等價電路,藉由計測此等價電路的 阻抗特性可定義本實施形態的第一串聯共振頻率f〇。 如此被定義的第一串聯共振頻率f〇的3倍,係使其比 由高頻電源1供給的功率頻率L還大的値的範圍而設定、 設計、製造f〇〇 (高頻特性A。)。然後,本電漿處理裝置於分 解傳送後在納入端再組裝後中,然後即使更被使用被進行 被處理物等的調整作業,更被實施分解掃除、零件交換、 組裝調整等的調整作業,當時的第一串聯共振頻率f(H (高 頻特性A!)被維持於f(H與f〇。的差△ f〇(Z\ A)的絕對値比f〇。的 10%還小的値。因此,若△ f〇的絕對値爲f〇。的10%以上的情 形進行訂正作業。 此處,訂正第一串聯共振頻率fo的方法例如可適用: < 1〉、調整供電板3的形狀、長度。 <2〉、調整電漿激發電極4與反應室壁10的重疊面積 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 <3〉、調整電漿激發電極4與反應室壁10之間的絕緣 材料的材質或其厚度。 <4〉、以導體連接晶座電極8與反應室壁10等。 等的手法。、 例如在本實施形態的電漿處理裝置中,設定功率頻率 f6爲40.68MHz,對0〜100MHz範圍的測定頻率f(MHz)測定 阻抗Ζ(Ω )與相位Θ (deg),如圖6所示描繪阻抗特性曲線以 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -78 - 529085 A7 B7 五、發明説明(76 ) 及相位特性曲線。而且滿足 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 3f〇>fe (1) 以設定第一串聯共振頻率f。。爲16.5MHz。 在本實施形態的電漿處理裝置中,於實施分解、傳送 、再組裝,然後的使用(電漿處理)或調整作業後中,第一串 聯共振頻率f(H被維持於f(H與f〇〇的差△ ί〇(Δ A)的絕對値比 f◦。的10%還小的値。因此,在某時間經過之間,即使有帶 給如上述電的高頻特性影響的可能性的現象的情形,在該 時間的前後仍可消除電的高頻特性的差,據此,因可在以 阻抗特性爲指標的一定管理寬度內維持本裝置的電漿反應 室CN的狀態,故可分別大致均勻地維持被電漿空間消耗的 有效功率等。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 其結果即使有帶給如上述的電的高頻特性影響的可能 性的現象的情形,在該時間的前後仍可適用同一製程處理 程式,獲得大致相同的電漿處理結果,即在電漿反應室CN 中,例如隔著某段時間進行成膜時,在經過的時間前後, 可得到膜厚、絕緣耐壓、蝕刻率等、大致同等的膜特性的 膜。具體上藉由維持於上述△ f〇(A A)的絕對値比f。。的10% 還小的値,雖然時間經過,即儘管分解、傳送、再組裝或 使用次數、調整作業等的存在,在以大致相同的條件進行 疊層的電漿反應室CN中,膜厚的偏差値可被收斂於土 5 %的 範圍。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -79 - 529085 A7 B7 五、發明説明(77 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此,可設定習知未被考慮的電漿處理裝置的全般的 電的高頻特性,可期待電槳產生的穩定性。其結果可提供 動作穩定性高、在電漿反應室C N可期待均勻的動作的電漿 處理裝置。 再者,對於以具備複數個電漿反應室CN的電漿處理裝 置或具備複數個電漿處理裝置的電漿處理系統而構成的情 形,在複數個電漿反應室間中,也能適用同一製程處理程 式,可維持可獲得大致相同的電漿處理結果的狀態。 據此,可使利用與如由龐大的資料處理外部參數與實 際的基板的評價方法所產生的處理結果的相關關係所造成 的製程條件的把握最少限。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此,爲了去除處理的偏差藉由同一製程處理程式以 獲得大致相同的處理結果,比較必要的調整時間與採用對 被處理基板16的實際成膜等所進行的檢查方法的情形,藉 由測定第一串聯共振頻率,可大幅地縮短。而且,藉由 進行處理的基板的評價,非進行電漿處理裝置的動作確認 以及動作的評價之兩階段方法,可直接地在設置電漿處理 裝置的電漿反應室CN的位置以短時間進行電漿處理裝置的 評價。然後,採用對被處理基板1 6的實際成膜等所進行的 檢查方法的情形,即使是只能分別地進行的具有複數個電 漿反應室CN的電漿處理裝置的情形,也能大致同時獲得結 果。 因此’無須停止製造線數天或數週間,進行電漿處理 裝置的性能確認以及性能的評價,可提高作爲製造線的生 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)-80 - 529085 A7 B7____ 五、發明説明(78 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 產性。而且,可削減這種調整所需的檢查用基板等的費用 、此檢查用基板的處理費用以及從事調整作業的作業員的 人事費等成本。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,在本實施形態的各電漿反應室CN中,藉由電漿 反應室C N的第一'串聯共振頻率f。的3倍’設疋爲比則述功 率頻率fe還大的値的範圍,可將習知所未考慮的電漿反應 室CN的全體的電的高頻特性收斂於適當的範圍。據此,提 高動作穩定性,即使投入習知一般所使用的13.56MHz左右 以上的高頻率的功率,也能有效地將來自高頻電源1的功 率導入電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿產生空間 。同時當供給同一頻率時與習知的電漿處理裝置比較,可 增大被電漿空間消耗的有效功率,可謀求生成的電漿密度 的上升。其結果可謀求電漿激發頻率的高頻化所造成的處 理速度的提高,即藉由電漿C V D等進行膜的疊層時,可謀 求沉積速度的提高。同時,可期待電漿產生的穩定性。其 結果可提供動作穩定性高的電漿處理裝置。而且,也能當 作具備複數個電漿反應室CN的電漿處理裝置或電漿處理系 統而構成 再者,藉由有效地供給功率到電漿空間也能抑制電漿 的不要的擴展,可謀求被處理基板1 6中的膜面內方向中的 電漿處理的均勻性的提高,在成膜處理中可謀求膜厚的膜 面內方向分布的均勻性提高。 同時藉由被電漿空間消耗的有效功率的增加,可在電 漿CVD、濺鍍等的成膜處理中,謀求成膜狀態的提高即沉 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -81 - 529085 A7 B7 五、發明説明(79 ) 積的膜中的絕緣耐壓或對飩刻液的耐蝕刻性’而且所謂的 膜的[硬度]即膜的緻密度等的膜特性的提高。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處,膜的緻密度可由例如對BHF液所產生的鈾刻之 侵蝕難度、耐蝕刻性表現。 而且,如果依照本實施形態當供給同一頻率時’與習 知的電漿處理裝置比較,因可謀求被電漿空間消耗的有效 功率的增加,故爲了提高功率的消耗效率,獲得同等的處 理速度或膜特性,可用比習知還少的投入功率而完成。而 且,這些功效在具備複數個電漿反應室CN的電漿處理裝置 或電漿處理系統中也能實現。因此,藉由本實施形態可謀 求功率損失的降低、可謀求運轉成本的削減、可更謀求生 產性的提高。同時因可更縮短處理時間,可削減相當量的 伴隨電漿處理時的功率消耗的二氧化碳的總量。 此時如圖1 5所示,也能使用將各個阻抗一致的複數條 導線101a〜101h的一端連接於探針安裝具104而成的固定器 (Fixure),測定電漿反應室CN的阻抗特性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 探針安裝具104係成形成例如50mmxl0mmx0.5mm的銅 板俾形成緊固部1 06與環部。環部被製作成可嵌入探針1 〇5 的外側的直徑。此探針安裝具1 04利用焊錫等電性連接導 線101 a〜10 lh的一端。 導線10 la〜101h的他端安裝與測定對象(電漿反應室CN) 的安裝拆卸用的端子(壓接端子)l〇2a〜102h。 在使用此固定器時將探針安裝具104的環狀部104嵌 入探針105,以緊固部1〇6進行緊固。另一方面爲了使導線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -82 - 529085 A7 B7 五、發明説明) l〇la〜l〇ih大致成點對稱,在壓接端子102a〜1〇2h中如圖ι6 所不利用螺絲1 1 4安裝拆卸自如地螺絲固定於測定對象。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 導線1 0 1 a〜1 0 1 h例如可由銅、銀、金構成,或者鍍銀、 金50//m以上而構成也可以。 使用圖1 5以及圖1 6說明使用這種固定器測定阻抗的 方法。 首先由電漿處理裝置拆下電漿處理裝置的高頻電源1 與匹配箱2。將阻抗測定具的探針1〇5的導線丨1()連接於匹 配箱2與供電板3。其次,利用螺絲114螺絲固定連接於阻 抗測定具的固定器的導線101a〜l〇lh的壓接端子l〇2a〜102h ,俾對電漿處理裝置的框架2 1成以供電板3爲中心的大致 點對稱。在如此配置阻抗測定具後,供給測定訊號給阻抗 測定具的導線1 1 0,測定自該電漿處理裝置的供電板3經由 電漿空間60到達框架2 1的路徑的阻抗。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 據此,不給予測定對象的大小或測定的兩點間的距離 限制,且可使電流均勻地流過測定對象,藉由設定不影響 測定測定對象的阻抗的殘留阻抗値,可正確地進行阻抗測 定。 此外,在本實施形態中如圖1所示,雖然在晶座電極 側8載置基板1 6,設定對電漿激發電極4的功率頻率fs與 第一串聯共振頻率f〇,惟也能用以在陰極電極4側安裝基 板1 6來對應。 而且,改變上述測定位置如圖2所示,由高頻電源1 側端部切離連接高頻電源1與匹配電路2A的供電線(高頻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -83 - 529085 A7 _______B7 五、發明説明fei ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 功率供電體)1 A,在被設於此高頻電源1側端部的測定位置 PR2切離高頻電源1 A的狀態下,可將比此還前面的電漿反 應室部分定義爲前述測定範圍。 再者,改變上述測定位置如圖2所示,由匹配電路2A 側端部切離連接高頻電源1與匹配電路2A的供電線(高頻 功率供電體)1 A,在被設於連接於此匹配電路2 A的供電線 1 A的輸入端子的測定位置PR3切離高頻電源1 A的狀態下 ’可將比此還前面的電漿反應室部分定義爲前述測定範圍 〇 此外,關於高頻特性的測定位置,在以後的各實施例 中,即使在上述PR、PR2、PR3的任一測定位置測定也可以 。但是,不判定f。的偏差,對於判定對fs的f。的絕對値的 情形,測定點僅爲PR。以PR2爲測定位置的情形顯示於圖 43,以PR3爲測定位置的情形顯示於圖44。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的第 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [第二實施形態] 圖7係顯示本實施形態的電漿處理裝置的槪略構成的 剖面圖。 本實施形態的電漿處理裝置係被製作成兩頻率激發型 的電漿處理裝置。與圖1〜圖4所示的第一實施形態不同的 點是在晶座電極8側供給功率、關於測定用端子6 1與關於 第一串聯共振頻率f〇的設定。對於對應這些點以外的構成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -84 - 529085 A7 B7 五、發明説明妇) 要素,附加同一符號省略其說明。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本實施形態的電漿處理裝置電漿反應室,高頻特性A 爲了使由前述匹配電路2A的輸出端子位置PR所測定的前 述電槳反應室C N的一串聯共振頻率f。的1 · 3倍比由前述高 頻電源1供給電漿反應室CN的功率頻率f£還大的値的範圍 ,而設定、設計、製造f〇〇(高頻特性A〇)。然後分解傳送後 於納入端中再組裝後,更於之後的使用期間中,當時的第 一串聯共振頻率f(n (高頻特性Ai)被維持於^與f〇〇的差 △ ^(△△)的絕對値比“的10%還小的値。 本實施形態的電漿處理裝置如圖7所示,在晶座電極8 的周圍配設晶座遮蔽1 2,晶圓晶座8以及晶座遮蔽1 2係藉 由風箱1 1而構成可上下動作。藉由此構成,可調整電漿激 發電極4與晶座電極8之間的距離。而且,晶座電極8中 介收納於連接於軸1 3下端的供電板28以及由導電體所構 成的晶座電極側匹配箱26內部的匹配電路25連接第二高 頻電源27。 經濟部智慧財產局資工消費合作社印製 這些供電板28係被連接於晶座遮蔽12的支持筒12B 下端的框架29覆蓋,並且藉由框架29被製作成同軸電纜 的供電線27A的遮蔽線連接,與匹配箱26 —起被接地。據 此,晶座遮蔽1 2、框架2 9、匹配箱2 6直流地變成等電位 〇 此處,匹配電路25被製作成謀求第二高頻電源27與 晶座電極8之間的阻抗匹配,此匹配電路2 5如圖7所示’ 複數個被動元件在第二高頻電源27與供電板28之間’串 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) _ 85 - 529085 A7 B7_ 五、發明説明鉍) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 聯配設調諧線圈30與調諧電容器3 1,與這些調諧線圈30 與調諧電容器3 1並聯連接負載電容器32,此負載電容器 32的一端連接於匹配箱26,被製作成與匹配電路2A大致 一樣的構成。匹配箱26中介供電線27A的遮蔽線被設定爲 接地電位,同時負載電容器32的一端接地。此外,也能與 調諧線圈30串聯地連接調諧線圈,或與負載電容器32並 聯地配設負載電容器。 供電板28可適用與供電板3 —樣的材質,此供電板28 分別被螺絲固定於來自匹配電路25的端子以及軸1 3。 本實施形態的電漿反應室CN的測定範圍的匹配電路 2A的被動元件之中,在輸出最終段的被動元件的調諧電容 器24的輸出端位置PR配設前述電漿反應室CN的阻抗測定 用端子(共振頻率測定用端子)6 1。此阻抗測定用端子6 1自 第一實施形態所規定的測定範圍的輸出端位置PR,藉由導 體延伸到框架2 1的外部。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 在本實施形態的電漿處理裝置中,在晶座電極8上載 置被處理基板1 6,自第一、第二高頻電源1、2 7分別施加 高頻功率到電漿激發電極4與晶座電極8的雙方,並且自 氣體導入管1 7中介噴淋板5供給反應氣體到反應室60內 使電漿產生,對被處理基板1 6進行成膜等的電漿處理。此 時,由第一高頻電源1投入13.56MHz左右以上的頻率的功 率,具體上投入例如13.56 MHz、27.12 MHz、40.68 MHz等 的頻率的功率。而且,也能由第二高頻電源27供給與第一 高頻電源1同等的功率或不同的頻率的功率例如1.6MHz左 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 86 - 529085 A7 B7 五、發明説明fe4 ) 右的功率。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處,本實施形態的電漿處理裝置中的第一串聯共振 頻率5與第一實施形態一樣測定、定義。本實施形態的第 一串聯共振頻率f。具體上如圖8、圖9所示被測定、定義。 圖8係用以說明本實施形態的電漿處理裝置的阻抗特 性的模式圖。圖9係顯示圖8的等價電路的電路圖。 本實施形態的電漿反應室CN的測定範圍係以由阻抗測 定用端子6 1看的電漿反應室CN的狀態爲其對象。即如圖 9所示對第一實施形態中的測定範圍,包含與調諧電容器 24的輸出端位置PR串聯連接的阻抗測定用端子6 1以及由 輸出端位置PR供電板3等當作測定範圍。 此處,圖雖然記載高頻電源1、27,惟這些符號並非顯 示功率供給狀態,而是著眼於顯示匹配電路2A 、25的設 置狀態。此點在功率供給狀態中無法計測阻抗特性。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 而且如圖8的虛線所示,將阻抗測定器AN的探針1 05 連接於被製作成阻抗測定用端子6 1以及電漿反應室CN的 例如框架2 1的接地位置。在此狀態下令阻抗測定器AN的 振盪測定頻率在例如1MHz〜100MHz範圍變化,測定對電漿 反應室CN的上述測定範圍的阻抗向量(Z、0 )。 接著,如圖10所示以測定頻率f(MHz)爲橫軸,縱軸將 阻抗Ζ(Ω )與相位0 (deg)畫在同一圖上。此處,在圖中左側 的縱軸爲阻抗Ζ( Ω ),右側的縱軸對應相位0 (deg)。在所描 繪的阻抗特性曲線以及相位曲線之中,由阻抗的最小値Zmh 的頻率即測定頻率f的低側數,當最開始相位0由負變化 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -87 - 529085 A7 B7 五、發明説明(85 ) 到正時,定義相位Θ爲零的頻率爲第一串聯共振頻率f。。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此時,對所測定的第一串聯共振頻率fQ考慮的電的局 頻要因如圖8所示,在上述測定範圍之中可考慮以下: 來自匹配電路2A的貢獻 供電板(饋電線)3的電感Lf以及電阻Rf 電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿電極電容匕 來自匹配電路25的貢獻 晶座電極8與晶座遮蔽1 2之間的電容Cs 軸13的電感Lc以及電阻Rc 風箱11的電感Lb以及電阻Rb 反應室壁10的電感La以及電阻Ra 夾著絕緣體1 7a的氣體導入管1 7與電漿激發電極4之
間的電容C A 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 電漿激發電極4與框架21之間的電容Cb 電漿激發電極4與反應室壁1 0之間的電容Cc 可視這些電的高頻要因與流過在電漿發光時所供給的 高頻電流的電路一樣的狀態,如圖9所示供電板(饋電線)3 的電感Lf以及電阻Rf、電漿激發電極4與晶座電極8之間 的電漿電極電容C%、晶座電極8與晶座遮蔽1 2之間的電容 Cs、晶座遮蔽12的支持筒12B的電感Lc:以及電阻Re、風 箱1 1的電感Lb以及電阻Rb、反應室壁1〇的電感La以及電 阻RA依次串聯連接,其終端的電阻Ra被接地,並且在電阻 Rf與電極電容匕之間,一端接地的狀態下分別並聯連接的 電容Ca、電容Cb、電容Ce形成等價電路,藉由計測此等價 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) · 88 - 529085 A7 B7 五、發明説明(86 ) 電路的阻抗特性可定義本實施形態的第一串聯共振頻率f。 〇 ----:---1------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如此被定義的第一串聯共振頻率fo的1 .3倍,係使其 比由高頻電源1供給的功率頻率還大的値的範圍而設定 、設計、製造f。。(高頻特性A。)。然後,本電漿處理裝置於 分解傳送後在納入端再組裝後中,然後即使更被使用被進 行被處理物的電漿處理,更被實施分解掃除、零件交換、 組裝調整等的調整作業,當時的第一串聯共振頻率f()1 (高 頻特性Ai)被維持於f(M與foo的差△ A)的絕對値比foo的 10%還小的値。因此,若△ f。的絕對値爲f㈣的10%以上的情 形進行訂正作業。 此處,訂正第一串聯共振頻率f。的方法例如可適用: < 1 >、令供電板3的形狀變化。 <2>、控制電漿激發電極4與反應室壁1 〇的重疊面積 〇 <3>、增加電漿激發電極4與反應室壁10之間的絕緣 厚度。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 <4>、使晶座遮蔽12與反應室壁1〇短路。 等的手法。 例如在本實施形態的電漿處理裝置中,設定功率頻率 fe爲40·6 8ΜΗζ,對0〜100MHz範圍的測定頻率f(MHz)測定 阻抗Ζ(Ω )與相位0 (deg),如圖1〇所示描繪阻抗特性曲線 以及相位特性曲線。而且滿足 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公羡) _ 89 - 529085 A7 B7 五、發明説明(87 ) 1.3f〇>fe (2) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以設定第一串聯共振頻率f〇。爲42.5MHz。 在本實施形態的電漿處理裝置中,發揮與第一實施形 態同等的功效,並且藉由在前述電漿反應室CN的前述匹配 電路2A的輸出端位置PR配設前述電漿反應室CN的阻抗 測定用端子6 1,在電漿反應室CN的阻抗特性測定時,如 第一實施形態爲了切離電漿反應室CN與匹配電路2A,無 須安裝拆卸功率供給線與匹配電路2A。因此,可容易進行 測定前述電漿反應室CN的阻抗特性時的探測,可提高第一 串聯共振頻率f。測定時的作業效率。 以上的測定方法雖然切離匹配電路2A、25來測定,惟 當預先知道匹配電路2A、25不影響電漿反應室CN的f◦時 ,也能在連接匹配電路2A、25下測定,可比切離的情形還 容易進行測定。是否影響f。,係在連接匹配電路2A、25的 狀態,同樣地由阻抗曲線求出f。,以該値是否與切離的情 形不同來判定。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 此外,在本實施形態中阻抗測定用端子6 1未貫通匹配 箱2,當測定阻抗時也能用以自電漿處理裝置拆下電漿處理 裝置的高頻電源1與匹配箱2而構成。這種情形也如第一 實施形態爲了切離電漿反應室CN與匹配電路2A,無須安 裝拆卸功率供給線與匹配電路2A,可提高第一串聯共振頻 率f。測定時的作業效率。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -90 - 529085 A7 B7 五、發明説明(88 ) 三實施形態。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) [第三實施形態] 圖11係顯示本實施形態的電漿處理裝置的槪略構成的 剖面圖。 本實施形態的電漿處理裝置係被製作成兩頻率激發型 的電漿處理裝置。與圖7〜圖9所示的第二實施形態不同的 點是關於測定用端子61附近的構成、關於第一串聯共振頻 率f。以及串聯共振頻率f。’的設定。對於對應這些點以外的 構成要素,附加同一符號省略其說明。 本實施形態的電漿處理裝置,高頻特性A由前述匹配 電路2A的輸出端子位置PR測定的前述電漿反應室CN的 第一串聯共振頻率f。,係使其比由前述高頻電源1供給電 漿反應室CN的功率頻率L的3倍還大的値的範圍而設定、 設計、製造f。。(高頻特性A〇。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 而且如後述其他的高頻特性A’被電極間4、8的電容C6 規定的串聯共振頻率f。’,係比功率頻率L的(電極間的距離 d/電漿非發光部的距離δ )的平方根倍還大而設定、設計、 製造f。。(局頻特性A。’)。 然後,在分解傳送後在納入端再組裝後中,再者於之 後的使用期間中,當時的第一串聯共振頻率(高頻特性 Ai)被維持於fQ1與f〇。的差△ &(△ A)的絕對値比f。。的10%還 小的値。而且,當時的第一串聯共振頻率f(H’(高頻特性A!’) 被維持於f(M’與f。。’的差△ f〇’(A A’)的絕對値比f二的10%還 -91 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 529085 A7 _ B7 五、發明説明(89 ) 小的値。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本實施形態的電漿處理裝置如圖1 1所示,在匹配電路 2A的輸出端位置PR附近,配設設置於匹配電路2A與供電 板3之間的開關SW 1、設置於阻抗測定用端子6 1與供電板 3之間的開關SW2,作爲切換前述匹配電路2A與前述阻抗 測定用端子(共振頻率測定用端子)6 1的開關。 這些開關SW1、SW2被製作成在該高頻功率配電體3 端部與該共振頻率測定用端子6 1之間,當激發電漿時,切 斷該配電體3端部與該測定用端子61的電連接(SW2),並 且確保該配電體3端部與該匹配電路2A的輸出端PR的電 連接(S W 1),且當測定該電漿處理室C N的共振頻率時,確 保該配電體3端部與該測定用端子6 1的電連接,並且切斷 該配電體3與該匹配電路2A的輸出端PR的電連接。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 此處,自將開關SW 1連接於匹配電路2A側的情形中 的匹配電路2A的輸出端位置PR側的阻抗特性(共振頻率特 性),與自將開關SW2連接於前述阻抗測定用端子6 1側的 情形中的阻抗測定用端子6 1側的阻抗特性(共振頻率特性) 係被設定成相等,即如後述的圖1 1所示,開關SW 1附近的 阻抗Ζ!與開關SW2附近的阻抗Z2係被設定成相等。 即藉由該開關SW1、SW2切斷該高頻配電體3端部與 該共振頻率測定用端子6丨的電連接,並且在確保該配電體 3端部與該匹配電路2A的輸出端子PR的電連接的情形中 的該匹配電路2A的輸出端子PR位置所測定的共振頻率特 性,與藉由該開關SW 1、SW2確保該配電體3端部與該測 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 92 - 529085 A7 B7 五、發明説明(90 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 定用端子61的電連接,並且在切斷該配電體3與該匹配電 路2 A的輸出端子P R的電連接的情形中的該共振頻率測定 用端子6 1所測定的共振頻率特性,係被設定成相等。 此乃意味著將開關SW 1連接於匹配電路2 a側,打開 開關SW2的情形中的匹配電路2A的輸出端子位置Pr側, 即自輸出端子位置PR到開關SW2的分歧點B的阻抗ζ:, 與將開關SW2連接於該阻抗測定用端子6 1側,打開開關 SW 1的情形中的阻抗測定用端子6 1側,即自阻抗測定用端 子61到開關SW 1的分歧點B的阻抗Z2,係被設定成相等 〇 阻抗測定用端子6 1與圖8所示的第二實施形態一樣, 安裝拆卸自如地連接阻抗測定器AN的探針。此探針同時安 裝拆卸自如地連接於被製作成電漿反應室CN的例如框架 2 1的接地位置。 此處,本實施形態的電漿處理裝置中的第一串聯共振 頻率f〇與第二實施形態一樣測定、定義。本實施形態的第 一串聯共振頻率f。具體上如圖11、圖1 2所示被測定、定義 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 〇 圖1 2係顯示圖11的本實施形態的電漿處理裝置的阻 抗特性測定用的等價電路的電路圖。 本實施形態的電漿處理裝置中,在關閉開關SW 1並且 打開開關SW2的狀態中,與圖7〜圖9所示的第二實施形態 一樣,在晶座電極8上載置被處理基板1 6,自第一、第二 高頻電源1、27分別施加高頻功率到電漿激發電極4與晶 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -93 - 529085 A7 _ B7_ 五、發明説明(91 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 座電極8的雙方,並且自氣體導入管17中介噴淋板6供給 反應氣體到反應室60內使電漿產生,對被處理基板16進 行成膜等的電漿處理。此時,由第一高頻電源1投入 13.56MHz左右以上的頻率的功率,具體上投入例如 13.5 6MHz、2 7.12 MHz、40.68 MHz等的頻率的功率。而且 ,也能由第二高頻電源27供給與第一高頻電源1同等的功 率或不同的頻率的功率例如1.6MHz左右的功率。 本實施形態的電漿反應室CN的測定範圍係以由阻抗測 定用端子6 1看的電漿反應室CN的狀態爲其對象。此點如 圖1 1所示藉由開關S W 1附近的阻抗Z1與開關S W 2附近的 阻抗Z2被設定成相等,使在由輸出端子位置PR看的狀態 的電漿反應室CN的測定範圍變成相等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此乃如圖11所示,對第二實施形態中的測定範圍,因 藉由開關SW 1將匹配電路2 A從測定範圍切離,可當作測 定範圍外,故可測定電漿反應室CN單獨的更正確的阻抗特 性。此處,與第二實施形態中的測定範圍比較的話,加入 開關SW2,惟此點在電漿發光時開關SW 1變成關閉狀態。 即對應於存在開關SW 1對阻抗特性的貢獻。即藉由包含具 有與此開關SW1附近的阻抗Zi相等的阻抗Z2之開關SW2 附近當作上述測定範圍,由阻抗測定用端子6 1看的電漿反 應室CN的測定範圍實際接近電漿發光時流過高頻電流的電 路狀態,可更提高阻抗測定的正確性。
然後,設定成關閉開關SW2並且打開開關SW 1的狀態 ,與圖7〜圖9所示的第二實施形態一樣,令阻抗測定器AN 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -94 - 529085 A7 B7 五、發明説明自2 ) 的振盪測定頻率在例如1MHz〜150MHz的範圍變化,測定對 電漿反應室CN的上述測定範圍的阻抗向量(Z、0 )。此處 阻抗測定器AN藉由安裝拆卸自如地連接於阻抗測定用端子 61而成,不安裝拆卸電漿反應室CN與匹配電路2A,且不 安裝拆卸第二實施形態中的圖8所示的阻抗測定探針1 05, 僅藉由切換開關SW 1、SW2可容易進行阻抗特性的測定以 及第一串聯共振頻率f。的測定。 接著,如圖13所示以測定頻率f(MHz)爲橫軸,縱軸將 阻抗Ζ(Ω )與相位0 (deg)畫在同一圖上。此處,在圖中左側 的縱軸爲阻抗Ζ( Ω ),右側的縱軸對應相位0 (deg)。在所描 繪的阻抗特性曲線以及相位曲線之中,由阻抗的最小値zmin 的頻率即測定頻率f的低側數,當最開始相位0由負變化 到正時,定義相位Θ爲零的頻率爲第一串聯共振頻率f。° 此時,對所測定的第一串聯共振頻率f。考慮的電的高 頻要因如圖1 2所示,在上述測定範圍之中可考慮以下: 開關SW2的電感Lsw以及電阻Rsw 供電板(饋電線)3的電感Lf以及電阻Rf 電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿電極電容 來自匹配電路25的貢獻 晶座電極8與晶座遮蔽1 2之間的電容Cs 軸13的電感Lc以及電阻Rc 風箱1 1的電感Lb以及電阻Rb 反應室壁10的電感La以及電阻Ra 夾著絕緣體17a的氣體導入管1 7與電漿激發電極4之 — i — II ,#! (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -95 - 529085 A7 _ B7____ 五、發明説明) 間的電容Ca (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 電漿激發電極4與框架21之間的電容CB 電漿激發電極4與反應室壁1 〇之間的電容Cc 可視這些電的高頻要因與流過在電槳發光時所供給的 高頻電流的電路一樣的狀態,如圖12所示開關SW2的電感 Lsw以及電阻Rsw、供電板(饋電線)3的電感Lf以及電阻Rf 、電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿電極電容、 晶座電極8與晶座遮蔽1 2之間的電容Cs、晶座遮蔽1 2的 支持筒12B的電感Le以及電阻Rc、風箱11的電感Lb以及 電阻RB、反應室壁10的電感La以及電阻Ra依次串聯連接 ,其終端的電阻Ra被接地,並且在電阻Rf與電漿電極電容 匕之間,一端接地的狀態下分別並聯連接的電容Ca、電容 Cb、電容Cc,以及來自連接於電漿電極電容匕與電容Cs之 間的匹配電路25的貢獻,形成等價電路,藉由計測此等價 電路的阻抗特性可定義本實施形態的第一串聯共振頻率f〇 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如此被定義的第一串聯共振頻率f。,係使其比由高頻 電源1供給的功率頻率h的3倍還大的値的範圍而設定、 設計、製造f。。(高頻特性A。)。然後,本電漿處理裝置於分 解傳送後在納入端再組裝後中,然後即使更被使用被進行 被處理物的電漿處理,更被實施分解掃除、零件交換、組 裝調整等的調整作業,當時的第一串聯共振頻率f(H (高頻 特性Ai)被維持於f(H與f。。的差△ f〇( △ A)的絕對値比foo的 10%還小的値。因此,若△ f。的絕對値爲的10%以上的情 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!0'〆297公釐) 7〇〇Ζ 529085 A7 _ B7 五、發明説明(94 ) 形進行訂正作業。 此處,訂正第一串聯共振頻率fo的方法例如可適用: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) < 1 >、增大供電板3的形狀、縮短其長度。 <2>、減少電漿激發電極4與反應室壁10的重疊面積 〇 <3>、增加電漿激發電極4與反應室壁1 0之間的絕緣 厚度。 <4>、以導體使晶座遮蔽12與反應室壁10短路。 等的手法。 例如在本實施形態的電漿處理裝置中,設定功率頻率 f。爲40.6 8MHz,對0〜15 0MHz範圍的測定頻率f(MHz)測定 阻抗Ζ(Ω )與相位0 (deg),如圖13所示描繪阻抗特性曲線 以及相位特性曲線。而且滿足 f〇>3fe (3) 以設定第一串聯共振頻率f〇爲1 23.78MHz。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,在本實施形態中被電漿激發電極(電極)4與晶座 電極(對向電極)8之間的電漿電極電容規定的串聯共振頻 率f。’,係被設定於比前述功率頻率h的3倍還大的値的範 圍。 f〇,>3fe (4) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -97 - 529085 A7 B7 五、發明説明) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處,串聯共振頻率f。’與上述第一串聯共振頻率f。,中 的阻抗特性的測定一樣,係當作電漿激發電極4與晶座電 極8間的阻抗特性而定義。 即晶座電極8的一端接地’由電漿激發電極4的一端 測定阻抗特性,由測定頻率f的低側數,當最開始相位0 由負變化到正時,定義相位Θ爲零的頻率爲串聯共振頻率 fo,。 串聯共振頻率h ’係被電獎激發電極4與晶座電極8的 機械形狀規定的電的高頻特性,取與電漿激發電極4與晶 座電極8之間的電漿電極電容匕的平方根的倒數成比例的 値。 據此,因可直接規定使電漿發光的前述電極4、8的頻 率特性,故對電漿發光空間可更有效地投入功率,可謀求 功率消耗效率的更提高或處理效率的提高。 再者,在本實施形態中令被電漿激發電極4與晶座電 極8之間的電漿電極電容匕規定的串聯共振頻率f。’對前述 功率頻率h滿足下述(5)式的關係而設定。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 f〇5>(d/ (5 )1/2 (5) 圖14係顯示電漿發光狀態中的電極間的狀態之模式圖 〇 如圖1 4所示令被製作成此對向的平行平板型的電漿激 發電極4,晶座電極8間的距離爲d,令在此電極4、8間 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -98 - 529085 A7 B7 五、發明説明) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 的距離方向中各個電極4、8與發光時的電漿的距離和爲5 。即當令電漿發光時可目視的電槳發光區域p與電漿激發 電極4之間的未電漿發光部分的距離爲6 a ’電漿發光區域 P與晶座電極8之間的未電漿發光部分的距離爲6 b時’如 式(6)所式,令這些距離和爲δ δ a+ (5 b= δ (6) 此處,由電極4、8間的距離d與在電極4、8中未電 漿發光部分的距離和爲6,可求出實際電漿發光狀態中的 電極4、8間的模型電容C。’’。 電槳發光時的平行平板型電漿4、8,其間的電漿發光 區域P可視爲導體,而電極4、8間的距離可視爲(5。其結 果電漿發光時的平行平板型電漿4、8間的電容C。"因與電 槳4、8間的距離成反比,在非電漿發光時爲電容C。而在電 漿發光時外觀上變成d/ δ倍。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 C〇°° 1/d C〇"⑺ 1/ (5 (8) .·· C〇〜d/ δ · C〇 而且,前述串聯共振頻率f〇’因與電容C。的平方根的倒 數成比例,故電漿發光時的電漿4、8間的串聯共振頻率 f〇’’與電容C。’’的平方根的倒數成比例,即與d/5的平方根 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) · 99 - 529085 A7 ____ B7 五、發明説明自7 ) 的倒數成比例。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) f〇’ 〇〇 1 //~ C〇 f〇,5〇〇 1/Λ Co55 (7) ··· f/,〇〇 (d/ 5 )'1/2. f〇, 此電漿發光時的電漿4、8間的串聯共振頻率f。’’與前 述功率頻率L的關係,如第一串聯共振頻率f〇與功率頻率 的關係而設定。 f〇,,>fe (9) 以式(8)重寫此式(9)變成上述式(5)。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 藉由前述串聯共振頻率f。’與前述功率頻率f6滿足上述 式(5)的關係,可設定被前述電漿發光時的模型電容C。"規 定的串聯共振頻率f。’’的値與被非電漿發光時的電漿4、8 間的電容規定的串聯共振頻率f〇’的値的關係。因此,藉由 設定串聯共振頻率f。’的d/ (5的平方根的倒數倍的値比功率 頻率f6還大,對功率頻率設定電漿發光時的電漿4、8的 串聯共振頻率f。’,可謀求電漿發光時的功率消耗效率的提 高。 在本實施形態的電漿處理裝置中,發揮與第一實施形 態同等的功效,並且在阻抗測定用端子6 1安裝拆卸自如地 連接阻抗測定器,並且配設開關SW1、SW2,藉由設定這些 ^紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(BOX 297公釐) -100 - 529085 A7 B7 五、發明説明(98 ) 阻抗Zi與阻抗Z2相等,不安裝拆卸電漿反應室CN與匹配 電路2A,且不安裝拆卸阻抗測定探針105僅藉由開關SW1 、SW2切換,可容易進行阻抗特性的測定以及第一串聯共 振頻率f〇的測定,同時因可視來自連接於阻抗測定用端子 6 1的阻抗測定器AN的阻抗測定値與來自匹配電路2A輸出 側最終段的輸出位置PR所測定的値同等,故無須第一串聯 共振頻率f。的算出的修正,無須實測値的換算,可更正確 地進行提高作業效率、第一串聯共振頻率的測定。 再者藉由設定前述串聯共振頻率f。’與功率頻率h的値 ,因可直接規定使電漿發光的前述電極4、8的頻率特性, 故對電漿發光空間可更有效地投入功率,可謀求功率消耗 效率的更提高或處理效率的提高。 此外,在本實施形態中雖然以配設兩個開關SW 1以及 SW2的構成,惟從分歧點到輸出端位置PR與由分歧點到探 針的阻抗若被設定爲相等的話,仍可藉由例如一個開關切 換這些點的連接。 再者,在本發明中的上述各實施形態中,雖然設定對 電漿激發電極4的功率頻率與第一串聯共振頻率f。,惟 也能用以設定對晶座電極側8的頻率來對應。這種情形如 圖7、圖1 1以PR’所示可設定規定阻抗測定範圍的匹配電 路25的輸出端位置。 再者,取代具有平行平板型的電極4、8的型式,也能 適用於ICP(電感耦式電漿,Inductive Coupled Plasma)型即 感應結合電漿激發型、RLSA(徑向縫隙天線,Radial Line ί_ili#! (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -101 _ 529085 A7 B7 五、發明説明备9 )
Slot Antenna)型等的電漿處理裝置或RIE(反應性離子蝕刻, Reactive Ion Etching)即反應性濺鍍蝕刻用的處理裝置。 以下根據圖示說明以與本發明有關的電漿處理裝置的 性能管理系統當作第四實施形態。 [第四實施形態] 圖1 7係顯示與本實施形態有關的電漿處理裝置的性能 管理系統的系統構成圖。圖1 8係顯示以同性能管理系統實 現的評價資訊提供方法圖。 圖1 7所示的性能管理系統係由伺服器2 1 0、納入端的 輸入輸出裝置220、連接這些伺服器210與輸入輸出裝置 220的通訊線路230以及連接於伺服器的傳送源的輸出裝置 240所構成。 伺服器2 1 0其電漿處理裝置的製造者、流通業者、維 修業者等的傳送源係管理的,故其設置場所也作爲傳送源 較佳。而且,此伺服器2 1 0具備同時對複數個納入端的輸 入輸出裝置220用以提供服務的高速處理能力的計算機, 與用以收藏關於多樣的服務與納入端的電漿處理裝置的資 訊之大容量記憶裝置較佳。具體上爲大型計算機、高性能 工作站等也可以。 伺服器2 1 0係由計算機2 1 1以及連接於此計算機2丨丨的 記憶裝置2 1 2,與用以與通訊線路230連接的發送接收手段 2 1 3所構成。而且,此伺服器連接設置於傳送源的輸出裝置 240 ° ---1__1----9II (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -102 - 529085 A7 B7 五、發明説明(100 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且’納入端的輸入輸出裝置220係納入端的顧客或 訪問納入端的服務人員等所利用者,被設置於納入端或被 納入端攜帶而利用。若此輸入輸出裝置利用通訊線路2 3 0 進行與伺服器210的訊號授受的話,特別無限定,具體上 可利用個人電腦、專用終端機、電話機等。 納入端輸入輸出裝置220係由本體22 1以及用以連接 通訊線路2 3 0的發送接收手段2 2 3所構成。 通訊線路230未特別限定於其媒體或形式,若爲在放 置於分離的地點的伺服器2 1 0與輸入輸出裝置220之間可 進行訊號的授受者也可以。即可適宜地使用電纜線路、光 纖線路、衛星線路等的種種有線或無線的通訊媒體,並且 ,可活用電話線路網、網路網等種種的通訊形式。 以下參照圖1 7同時依照圖1 8的流程圖說明本實施形 態中的處理動作。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 納入端的顧客或拜訪納入端的服務人員等、本性能管 理系統的利用者以同系統開始性能評價,首先關於被納入 納入端的或使用中的電漿處理裝置,測定電漿處理室的高 頻特性Α!,由輸入輸出裝置220輸入此値(步驟301)。 此被輸入的心値係經由通訊線路230被發送到伺服器 210 ° 相對於此,伺服器2 1 0呼叫成爲被收藏於記憶裝置2 1 2 的基準的高頻特性A。的資訊500,根據此値計算A〇與Ai的 差的絕對値丨△ AI(步驟302)。 此外,成爲基準的高頻特性A。係在將電漿處理裝置傳 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) Π〇ΤΖ ' 529085 A7 B7 五、發明説明(101 ) 送到納入端前進行分解前,在傳送源設定的高頻特性値, 例如滿足上述(1 )式的第一串聯共振頻率f。。。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次’伺服器210比較丨△ A丨與A。,評價該電漿處理裝 置的性能。具體上當| △ AI爲比A〇的1 0%還小的値時,判斷 該電漿處理裝置維持預定的性能。而且,當!△ ^爲A◦的 1 〇%以上的値時,判斷該電漿處理裝置不維持預定的性能( 步驟3 0 3)。 其次’伺服器2 10提供上述性能評價的結果給納入端 的輸入輸出裝置220以及傳送源的輸出裝置240的雙方(步 驟 304)。 其中對輸入輸出裝置220發送印出或畫面顯示的指令 訊號’或者發送聲音訊號。具體上當判斷爲維持預定的性 能時’例如[所照會的裝置的性能,因被適當地維持,故請 照樣使用。]的訊息,當判斷爲不維持預定的性能時,例如[ 所照會的裝置的性能,因有不被適當地維持之虞,故請依 照使用說明書來進行調整。]的訊息,以印出、畫面顯示、 聲音等傳達給顧客或服務人員等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且,對輸出裝置240當判斷爲不維持預定的性能時 ,發送印出或畫面顯示、訊號輸出等的指令訊號,或者發 送警報音產生訊號。然後,由輸出裝置240輸出印出、畫 面顯示、訊號輸出或警報音等的維修作業命令。此外,在 傳送源中爲了判斷任何納入端的哪一個裝置需要維修,由 輸入輸出裝置220接收電漿處理室的固有號碼,由輸出裝 置240輸出此固有號碼較佳,惟輸入輸出裝置220的固有 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -104 - 529085 A7 B7_ 五、發明説明(102 ) 號碼例如由位址號碼或電話號碼等判斷,由輸出裝置2 4 0 輸出其判斷結果也可以。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其結果納入端的顧客或拜訪納入端的服務人員等不進 行實際使電漿處理裝置動作而檢查成膜的基板之作業,可 立即評價該電漿裝置的性能。 而且,不是藉由進行處理的基板的評價來進行電漿處 理裝置的動作確認以及動作的評價的兩階段方法,可直接 地在電漿處理裝置的電漿反應室CN的設置場所,以短時間 進行電漿處理裝置的評價。而且,當採用利用對被處理基 板的實際成膜等的檢查方法時,關於具有只能在個別進行 的複數個電漿反應室的電漿處理裝置的情形,可大致同時 得到結果。 因此,無須停止製造線數天或數週間,進行電漿處理 裝置的性能確認以及性能的評價,可提高作爲製造線的生 產性。而且,可削減這種調整所需的檢查用基板等的費用 、此檢查用基板的處理費用以及從事調整作業的作業員的 人事費等成本。 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 而且,在傳送源的製造者等中,當納入端的電漿處理 裝置產生問題時,因接受維修作業命令可立即告知此問題 ,故可使對顧客的售後服務體制充實。 此外’如本實施形態當伺服器提供評價資訊給納入端 的輸入輸出裝置220以及傳送源的輸出裝置240的雙方時 ,成爲兩評價資訊的基礎的預定値未必爲同一値也可以。 例如,關於發送給納入端輸入輸出裝置的評價資訊令預定 氏張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇'χ297公羡):1〇5.- 529085 A7 B7 五、發明説明(103 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 値爲A〇的1 0%,超過此値時發送不維持預定性能要旨的訊 號,另一方面在傳送源的輸出裝置令預定値爲A〇的3 %,超 過此値時用以輸出維修作業命令也可以。如此,對傳送源 的輸出裝置,當根據對納入端輸入輸出裝置更嚴格的評價 基準而輸出維修作業命令時,可在納入端的電漿處理裝置 的性能大變動以前,進行藉由傳送源的維修服務。即可更 確立打前鋒的維修體制。 以下根據圖面說明以與本發明有關的電漿處理裝置的 性能管理系統的其他實施形態作爲第五實施形態。 [第五實施形態] 圖1 9係顯示與本實施形態有關的電漿處理裝置的性能 管理系統的系統構成圖◦圖20係顯示以同性能管理系統實 現的評價資訊提供方法的流程圖。此外,在兩圖中圖1 7以 及圖1 8與同一構成要素附加相同符號省略其說明。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 顯示於圖1 9的性能管理系統除了由伺服器2 1 0、納入 端的輸入輸出裝置220、連接這些伺服器210與輸入輸出裝 置220的通訊線路230、連接於伺服器的傳送源的輸出裝置 240外,也由連接於電漿處理裝置250的阻抗測定器260所 構成。 本實施形態阻抗測定器260的輸出端子係連接於輸入 輸出裝置220,被阻抗測定器260測定的電漿測定裝置250 的高頻特性係中介輸入輸出裝置220以及通訊線路230,不 經由人手所進行的輸入作業,直接被發送到伺服器2 1 0。而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1〇6 - 529085 A7 _____B7_ 五、發明説明(104 ) 且,輸入輸出裝置2 2 0若接收電漿處理室的固有號碼s的 輸入,則用以讀取阻抗測定器260的測定結果而被程式化 〇 以下參照圖1 9同時依照圖20的流程圖說明本實施形 態中的處理動作。 納入端的顧客或拜訪納入端的服務人員等、本性能管 理系統的利用者以同系統開始性能評價,首先在預先將阻 抗測定器260連接於輸入輸出裝置220後,關於被納入納 入端的或使用中的電漿處理裝置,由輸入輸出裝置220輸 入電漿處理室的固有號碼S。此時,電漿處理室的高頻特性 A!的測定値,依照輸入輸出裝置220的程式,自動地由阻 抗測定器260輸入到輸入輸出裝置220 (步驟401)。 此被輸入的固有號碼S以及Α!値係經由通訊線路230 被發送到伺服器2 1 0。 相對於此,伺服器2 1 0由被收藏於記憶裝置2 1 2的高 頻特性A〇的資訊中呼叫對應固有號碼S的固有A。的資訊 600,根據此値計算人。與A!的差的絕對値ΙΔ AI(步驟402)。 此處,固有A〇係以和固有號碼S —對一的關係被收藏 於記憶裝置2 1 2,即爲各個電漿處理室設定的或製造時等實 際測定的個別的高頻特性A〇。 其次,伺服器210比較ΙΔ AI與A〇,評價該電漿處理裝 置的性能。具體上當I △ AI爲比A。的10%還小的値時,判斷 該電漿處理裝置維持預定的性能。而且,當I △ AI爲A〇的 10%以上的値時,判斷該電漿處理裝置不維持預定的性能( -----,------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) _ 107 - 529085 A7 B7 五、發明説明(105 ) 步驟4 0 3)。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次,伺服器2 1 0提供上述性能評價的結果給納入端 的輸入輸出裝置220以及傳送源的輸出裝置240的雙方(步 驟 404) 〇 其中對輸入輸出裝置220發送印出或畫面顯示的指令 訊號,或者發送聲音訊號。具體上當判斷爲維持預定的性 能時,例如[所照會的裝置的性能,因被適當地維持,故請 照樣使用。]的訊息,當判斷爲不維持預定的性能時,例如[ 所照會的裝置的性能,因有不被適當地維持之虞,故請依 照使用說明書來進行調整。]的訊息,以印出、畫面顯示、 聲音等傳達給顧客或服務人員等。 而且,伺服器210也對輸出裝置240發送印出或畫面 顯示的指令訊號,或者發送警報音產生訊號。具體上當判 斷爲不維持預定的訊號時,發送維修作業命令。此外,在 傳送源中爲了判斷任一納入端的哪一個裝置需要維修,由 伺服器210對輸出裝置240也同時提供電漿處理室的固有 號碼。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 在本實施形態的電漿處理裝置的管理系統中,完成與 第四實施形態同等的功效,並且藉由每一個固有號碼S記 憶實際的値,使更精密的管理爲可能。而且,因被輸出裝 置240提供維修作業命令以及固有號碼240的資訊,故在 傳送源中可立即把握任一個電漿處理裝置產生問題或任一 個電漿處理裝置的任一個電漿處理室產生問題等。 此外,在具備複數個電漿處理室的電槳處理裝置或具 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 108 - 529085 A7 B7 五、發明説明(1〇6 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 備複數個電漿處理裝置的電漿處理系統中,備齊各個電漿 處理室的動作條件,爲了以同一製程處理程式獲得同等的 成膜特性,設定同等的高頻特性較佳。因此,固有A。在電 漿處理室間無偏差而設定較佳,惟因納入端的事情等的種 種要因而設定與其他製程處理裝置大不相同的A。也無妨。 以下以與本發明有關的電漿處理裝置的性能管理系統 的其他實施形態當作第六實施形態來說明。 [第六實施形態] 與本實施形態有關的電漿處理裝置的性能管理系統的 系統構成也還顯示於第五實施形態的圖1 9。 本實施形態與第五實施形態的構成上的不同爲伺服器 2 1 0係記憶包含由各個預定値的範圍所決定的故障位準的狀 態位準,與對應故障位準而登錄的服務工程師資訊,當作 工程師資訊60 1。表1係顯示工程師資訊60 1的一例。 [表1] 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 工程師資訊(601) I Δ AI 狀態位準 服務工程師 100%以上 故障位準1 〇〇〇,XXX 100%未滿〜50%以上 故障位準2 5 0 %未滿〜1 〇 %以上 故障位準3 1 0 %未滿〜3 %以上 佳 ··· 3 %未滿 最佳 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -109 - 529085 A7 B7 五、發明説明(107 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以下參照圖1 9同時依照圖2 1的流程圖說明本實施形 態中的處理動作。圖2 1的流程圖中的步驟50 1以及步驟 5 02因與各個圖20的步驟401、402相同,故省略其說明。 在步驟502求出I △ AI後,伺服器210對照I △ AI與工程 師資訊60 1,評價處於哪一個狀態位準。然後,當評價 ΙΔ AI的位準爲任一個故障位準時,對應該故障位準呼叫被 登錄於工程師資訊601的服務工程師資訊(步驟503)。 其次,伺服器210其上述性能評價結果係提供狀態位 準給納入端的輸入輸出裝置220以及傳送源的輸出裝置 240的雙方(步驟504)。 其中對輸入輸出裝置220藉由發送印出或畫面顯示的 指令訊號,或者發送聲音訊號來發送狀態位準(故障位準)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 具體上當判斷狀態位準爲[最佳]時,例如[所照會的裝 置的性能,因被適當地維持,故請照樣使用。]的訊息,當 判斷狀態位準爲[佳]時,例如[所照會的裝置的性能,被適 當地維持,惟需要檢查了。]的訊息,當判斷狀態位準爲任 一個故障位準時,例如[所照會的裝置相當於故障位準2。 因性能有不被適當地維持之虞,故請依賴服務工程師進行 調整。]以印出、畫面顯示、聲音等傳達給顧客或服務人員 等。 而且,伺服器2 1 0對輸出裝置240當狀態位準爲相當 於任一個故障位準時,不僅狀態位準,也發送對應該故障 位準的服務工程師資訊以及維修作業命令。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -110 - 529085 A7 B7 五、發明説明(108 ) 如果依照本實施形態的電漿處理裝置的管理系統’在 傳送源中輸出維修作業命令,並且也輸出哪一個程度的故 障位準或依照其故障位準而區分等級的服務工程師資訊° 因此,如果依照此系統即使爲遠端地納入的電漿處理 裝置,在傳送源中也能把握其故障位準。然後,可依照其 故障位準派遣教育訓練程度不同的服務工程師。因此,可 合理化人才活用,並且使迅速、且正確的支援爲可能。即 裝置納入後的現場支援體制的合理化爲可能。 以下根據圖示說明以與本發明有關的電漿處理裝置的 性能確認系統的實施形態當作第七實施形態。此外,以下 的說明僅稱購入訂購者爲訂購者,而且僅稱販賣維修者爲 維修者。 [第七實施形態] 圖24爲本實施形態的電漿處理裝置的性能確認系統的 系統構成圖。 在此圖中參照符號G、C2爲客戶(CHent)電腦(以下僅稱 爲客戶)、S爲伺服器(Server)電腦(性能狀況提供手段,以 下僅稱爲伺服器)、D爲資料庫(Data base)電腦(基準資訊記 憶手段,以下僅稱爲資料庫)、而且N爲公用線路。客戶G 、C2...與伺服器S與資料庫D如此圖所示係中介公用線路N 互相連接。 客戶C!、C2..•—般使用廣泛普及的網路通訊控制規程 (Prot〇col)(TCP/IP等),具備與伺服器S通訊的功能(通訊功 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2!0Χ 297公釐) -111 - - - I -----1------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(109 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 能)◦其中客戶Cl (訂購者側資訊終端)係中介公用線路N用 以確認訂購者向維修者訂購的電漿處理裝置或電漿處理系 統的電漿反應室的性能狀況的電腦,伺服器S係具備將所 保持的[電漿反應室CN的性能資訊提供頁]當作資訊提供頁 (Web頁)來閱覽的功能(電漿反應室的性能狀況資訊閱覽功 能)。而且,客戶C2(維修者側資訊終端)係維修者用以向上 載入上述[性能狀況資訊]的一部分之[第一串聯共振頻率f〇 資訊]到伺服器S,並且經由客戶Ci接收由訂購者所發出的 電子信(Mail)。 此處,電漿處理裝置或電漿處理系統係被製作成依照 上述第一〜第三實施形態的構成,並且反應室數等的構成條 件當作可任意地設定。 上述伺服器S的通訊功能係公用線路N爲類比線路時 利用數據機(Modem)而實現,公用線路N爲ISDN(整合服務 數位網路,Integrated Services Digital Network)等的數位線 路時利用專用終端機擴充卡(Termina 1 adapter)等而實現。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 伺服器S爲性能狀況資訊提供用的電腦,依照接收自 上述客戶C!的閱覽要求,使用網路的通訊控制規程發送性 能狀況資訊給客戶Ci。此處,在上述訂購者由維修者納入 電漿處理裝置的時點,用以閱覽性能狀況資訊的個gij [閱覽 專用密碼]由維修者提供給各個訂購者。此伺服器S係僅提 供正規的閱覽專用密碼時,在性能狀況資訊之中發送動作 維修狀況資訊給客戶C!而構成。 此處’具體的詳細如後述,惟上述[性能狀況資訊]係由 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -112 - 529085 A7 B7 五、發明説明(11〇 ) ^ ί I —-----1----衣— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 與維修者所販賣的電漿處理裝置或電漿處理系統中的電漿 反應室的機種有關的資訊、作爲各機種中的規格書的品質 性能資訊、顯示所納入的各實機中的品質性能的參數資訊 以及此參數、維修(Maintenance)的履歷資訊等所構成。 其中,關於各實機中的品質性能、參數、維修的履歷 資訊係僅被提供[閱覽專用密碼]的訂購者才能閱覽。 而且,這些[性能狀況資訊]係由維修者或訂購者提供給 伺服器S,並且由顯示實際的動作/維修狀況的[動作維修狀 況資訊]、儲存於資料庫D並且當作目錄之未購入的客戶可 閱覽的[性能基準資訊]所構成。[性能基準資訊]係維修者對 藉由電漿反應室CN而進行的電漿處理,用以客觀地記述性 能的資訊,在電漿CVD、濺鍍等的成膜處理中將成膜狀態 當作可預測者。 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 本實施形態這些[性能基準資訊]係被儲存於資料庫D。 伺服器S係對接收自客戶C!的[性能狀況資訊]的閱覽 要求,藉由檢索資料庫D取得必要的[性能基準資訊],用 以當作[性能狀況資訊提供頁]發送到訂購者的客戶C!而構 成。而且,伺服器S對接收來自被提供[閱覽專用密碼]的訂 購者的[性能狀況資訊]的閱覽要求,同樣地藉由檢索資料庫 D取得必要的[性能基準資訊],並且組合經由客戶C2由維 修者所提供的[動作維修狀況資訊]於該[性能基準資訊]構成[ 性能狀況資訊],作爲[性能狀況資訊提供頁]發送給訂購者 的客戶(:!而構成。 資料庫D係每一電漿處理裝置或電漿處理系統的電漿 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 113 - 529085 A7 B7 五、發明説明(111 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 反應室機種記憶儲存構成這種[性能狀況資訊]的[性能基準 資訊],依照接收自伺服器S的檢索要求讀出這些[性能基準 貧W ]轉送到伺服器S。圖2 0僅顯75 —個伺服器S,惟本實 施形態係儲存[性能基準資訊]於與這些伺服器個別的資料庫 D ’俾在維修者自複數個位置管理的複數個伺服器s間可共 通利用具汎用性的[性能基準資訊]。 其次,沿著圖25所示的流程圖詳細說明關於如此構成 的電漿處理裝置或電漿處理系統的性能確認系統的動作。 此外,此流程圖係顯示上述伺服器S中的[性能狀況資訊]的 提供處理。 通常維修者對不特定的訂購者販賣的電漿處理裝置或 電漿處理系統中的各電漿反應室的[性能狀況資訊],特別是 當作購入[性能基準資訊]時的指標而提示。另一方面,訂購 者根據此[性能基準資訊]對電漿反應室CN可把握怎樣的性 能即怎樣的電漿處理爲可能呢。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 而且’維修者對特定的訂購者納入的電漿處理裝置或 電漿處理系統中的電漿反應室的[性能狀況資訊]之中,當作 使用[性能基準資訊]時的指標而提示,並且以[動作維修狀 況資訊]作爲動作狀態的參數而提示。另一方面,當作使用 者的訂購者藉由比較[性能基準資訊]與[動作維修狀況資訊] 進行電漿處理裝置或電漿處理系統中的電漿反應室的動作 確認’並且認識維修的必要性,且可把握電漿處理狀態的 狀態。 例如想自維修者購入電漿處理裝置或電漿處理系統的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)-114 - 529085 Α7 Β7 五、發明説明(M2 ) 訂購者,藉由存取(Access)伺服器S,如以下所示可容易確 認親自想購入的電漿反應室CN的[性能狀況資訊]的實質。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 首先,訂購者想存取時,根據預先設定的伺服器S的 IP位址自客戶G發送顯示要求給伺服器S。 另一方面,伺服器S接收上述顯示要求的話(步驟S1) ,將目錄頁CP發送給客戶.Ci(步驟S2)。 圖26係如此自伺服器S發送給客戶Ci的主頁(Main page)CP的一例。此目錄頁CP係由在維修者所販賣的各多 數機種,其[性能狀況資訊]之中用以顯示[性能基準資訊]的 機種選擇按鈕ΚΙ、K2、K3、K4...,與如後述用以進行自維 修者納入電漿處理裝置或電漿處理系統的訂購者所使用的 用戶使用者(Customer user)畫面的顯不要求的用戶使用者按 鈕K4所構成。 例如訂購者藉由使用客戶Cl·所具備的指標裝置 (Pointing device)(例如滑鼠)等,選擇指定上述電漿處理裝置 或電漿處理系統的機種後,若選擇指定機種選擇按鈕 _ 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 K 1〜K4的任一個,則此指示在[性能狀況資訊]之中,作爲[ 性能基準資訊]的顯示要求發送給伺服器S。 若接收此顯示要求(步驟S 3 ),則伺服器S在被選擇的 機種之中,將相當於被顯示要求的資訊之次頁發送給客戶 匕。即伺服器S在被要求[性能基準資訊]的顯示時(A),藉 由指定如圖23所示的被選擇的機種,自資料庫D取得[真 空性能]、[給排氣性能]、[溫度性能]、[電漿處理室電性會δ ] 等的資料以及這些資料中的每一電漿處理裝置或電漿處理 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -115 - 529085 A7 B7 五、發明説明(113 ) 系統的各參數的偏差値資料’將這些揭載的規格書頁CP1 發送給客戶Ci(步驟S4)。 規格書頁CP 1如圖27所示由顯示被選擇的機種的機種 種別K6、真空性能顯示欄K7、給排氣性能顯示欄K8、溫 度性能顯示欄K9、電漿處理室電性能顯示欄K10所構成’ 這些欄係對應被選擇的機種之[性能基準資訊]。分別於 真空性能顯示欄K7記載: 到達真空度 1x10 jpa以下 操作壓力 30〜300Pa 給排氣性能顯示欄K8記載:
最大氣體流量 100SCCM
NHs 500SCCM N2 2000SCCM 排氣特性 流過500SCCM 20Pa以下 溫度性能顯示欄K9記載:
加熱器設定溫度 200〜350 ± 10°C 反應室設定溫度 60〜80 ±2.0°C 的項目。 此處,SCCM(每分鐘標準立方公分,Standard Cubic Centimeters per Minute)係表示換算成標準狀態(0°C、 1013hPa)時的氣體流量,表示與Cm3/min相等的單位。 然後對這些參數P,各個電漿處理裝置或電漿處理系統 中的各電漿反應室的偏差、各個參數P之中其最大値Pma, 與的最小値Pmin偏差以下的式(10B) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -116 - *----衣— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(114 ) (Pmax-Pmin)/(Pmax + Pmin) (1〇Β) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 定義,對各個參數項目顯示這些偏差値的各電漿處理裝置 或電漿處理系統中的設定範圍。 而且,電獎處理室電性能顯示欄κ 10記載在前述第一〜 第四實施形態所說明的第一串聯共振頻率f()的値’以及此 設定範圍與功率頻率fe的關係。而且此外也記載功率頻率 fs中的電漿反應室CN的電阻R以及電抗X,並且電漿激發 電極4與晶座電極8間的電漿電容C。、電漿激發電極4與 被製作成電漿反應室的接地電位的各部之間的損耗(Loss)電 容Cx等的値。而且,在規格書頁CP1記載[在電漿處理裝置 或電漿處理系統的納入時,各參數値保證記載於此頁的設 定範圍內]的性能保證詞句。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 據此,可將習知未考慮的電漿處理裝置或電漿處理系 統的全體的電的高頻特性以及電漿反應室的電的特性的偏 差作爲購入時的新指標來提示。而且,在客戶G或C2中藉 由將這些性能狀況資訊輸出到印表機等製作硬拷貝(Hard copy),可當作上述性能狀況資訊內容所記載的目錄或規格 書而輸出。再者,藉由提示第一串聯共振頻率f。、電阻R、 電抗X、電容C。、C x等的値以及上述性能保證詞句於客戶 Ch··的終端、目錄或規格書等,訂購者判斷電漿反應室cn 的性能’自維修者購入可仔細硏究電機零件。 此外,伺服器S在對這種次頁的客戶c i的發送完了後 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公楚)T ^ 1 7 -~"" " 529085 A7 B7 五、發明説明(115 ) 、----βι衣— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,未自客戶Ci接收連接解除要求時(步驟S5)等待下一個次 頁的顯T要求而待機(步驟s 3),另~方面,自客戶c 1接收 連接解除要求時(步驟S 5 ),完成與該客戶c i的通訊聯絡。 而且,自維修者納入電漿處理裝置或電漿處理系統的 訂購者’藉由存取伺服器S ’如以下所示可容易確認親自購 入的電漿處理裝置或電漿處理系統中的電漿反應室的[性能 狀況資訊]的實質。 在此訂購者與維修者締結買賣契約的時點對應訂購者 個別’並且也對應所購入的電漿處理裝置或電漿處理系統 的機種型號,以及各個電漿反應室的機種型號的用戶使用 者ID ’與用以閱覽電漿處理裝置或電漿處理系統以及其各 電漿反應室的[動作維修狀況資訊]的個別的[使用者專用密 碼(閱覽專用密碼)],由維修者提供給各個訂購者。此伺服 器S僅提供正規的閱覽專用密碼的情形,用以將[動作維修 狀況資訊]發送給客戶C ^而構成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 首先’訂購者想存取時在前述的目錄頁CP中,藉由指 疋ί栄作用戶使用者按紐K5 ’ g了購者將用戶使用者畫面的顯 示要求發送給伺服器S。 另一方面,伺服器S若接收上述顯示要求的接收(步驟 S3-B)的話’對該訂購者發送作爲催促[閱覽專用密碼]輸入 的輸入要求的次頁給客戶(步驟S6)。圖28係顯示用戶 使用者頁CP2,此用戶使用者頁CP2係由用戶使用者ID輸 入欄K11以及密碼輸入欄K12所構成。 當作此輸入要求的用戶使用者頁CP2因顯示於客戶Ci 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -118 - 529085 A7 B7 五、發明説明(116 ) " (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} ’訂購者響應該輸入要求可識別電漿處理裝置或電漿處理 系統及其各電漿反應室,故由維修者提供的[閱覽專用密碼] 輸入到[用戶使用者ID]以及客戶Ci。 此處’ gT購者分別對圖2 8所示的用戶使用者I d輸入 欄K 1 1以及密碼輸入欄κ 1 2輸入用戶使用者ID與密碼。伺 服播S僅在由客戶Ci接收正規的[用戶使用者id]以及[閱覽 專用密碼]的情形(步驟S7),才發送與該[閱覽專用密碼]預 先有關連的[動作維修狀況資訊]的次頁到客戶(步驟S9) 〇 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 即[動作維修狀況資訊]的閱覽僅締結上述電漿處理裝置 或電漿處理系統的購入契約的特定訂購者,即僅可獲知正 規的[閱覽專用密碼]者才被允許,該訂購者以外的第三者即 使存取伺服器S也無法閱覽[動作維修狀況資訊]。通常維修 者同時在多數訂購者之間締結納入契約,並且有同時並行 進行對各個訂購者的複數個電漿處理裝置或電漿處理系統 的納入之情形,惟上述[閱覽專用密碼]因提供各訂購者以及 各電漿處理裝置或電漿處理系統以及其各電漿反應室不同 的密碼,故各訂購者對各電漿處理裝置或電漿處理系統以 及其各電漿反應室可個別閱覽與分別提供給自身的[閱覽專 用密碼]有關連的[動作維修狀況資訊]。 因此,可確實地防止與納入有關的秘密資訊在訂購者 相互間洩漏,並且即使納入複數個電漿處理裝置或電漿處 理系統的情形也能個別地識別各個電漿處理裝置或電漿處 理系統以及其各電漿反應室。此外,伺服器S對於未接收 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -119 - 529085 A7 B7 五、發明説明(117 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 正規的[閱覽專用密碼]的情形(步驟S7),發送連接不允許訊 息給客戶C!(步驟S 8),催促再度輸入[閱覽專用密碼]給訂 購者。當訂購者輸入錯誤的[閱覽專用密碼]時,於此機會藉 由進行正規的輸入可閱覽[動作維修狀況資訊]。 若此ID、密碼被確認的話(步驟S7),伺服器S自資料 庫D讀出相當於被顯示要求的資訊之次頁發送給客戶Cl。 即伺服器S對藉由使用者ID而識別的個別的電漿處理裝置 或電漿處理系統及其各電漿反應室的[性能基準資訊]、[動 作維修狀況資訊]的顯示被要求時,藉由指定機種自資料庫 D取得[真空性能]、[給排氣性能]、[溫度性能]、[電漿處理 室電性能]等的資料,將這些揭載的規格書頁CP3發送給客 戶Ci(步驟S9)。 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 圖29係如此由伺服器S發送給客戶匕的[動作維修狀 況資訊]的次頁CP3。此維修履歷頁CP3如圖29所示由顯示 被納入的電漿處理裝置或電漿處理系統及其各電漿反應室 的機械型號的批號碼顯示K13、真空性能顯示欄K7、給排 氣性能顯示欄K8、溫度性能顯示攔K9、電漿處理室電性能 顯示欄K10,並且真空性能維修攔K14、給排氣性能維修欄 K15、溫度性能維修欄K16、電漿處理室電性能維修欄K17 所構成,這些欄係對應被納入的實機的[性能基準資訊]以及 [動作維修狀況資訊]。分別於 真空性能維修欄K14記載: 到達真空度 1.3xl0_5Pa以下 操作壓力 200Pa 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -120 - 529085 A7 B7 五、發明説明(118 ) ~ 給排氣性能維修欄K 1 5記載: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
氣體流量 SiHU 40SCCM NHs 160SCCM N2 600SCCM 排氣特性 6.8xlO_7Pa. m3/sec 溫度性能維修欄K 1 6記載: 加熱器設定溫度 302.3 ±4.9。(: 反應室設定溫度 80.1 土 2.It 的項目。 然後對這些參數P,各個電漿處理裝置或電漿處理系統 中的各電漿反應室的偏差、各個參數P之中其最大値Pmax 與的最小値P…偏差以下的式(10B) (P max-P min) / (P max + P min) ( 1 0 B ) 定義,對各個參數項目顯示這些偏差値的各電漿處理裝置 或電漿處理系統中的設定範圍。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 再者在此次頁CP3,用以表示各電漿反應室的維修欄的 [詳細]按鈕K18係各維修履歷欄K14、K15、K16、K17設置 ,訂購者可閱覽該資訊。 當訂購者藉由該詳細欄進行表示要求時,維修履歷的 詳細資訊所記載的維修詳細頁CP4由資料庫D發送到客戶
Ci。 圖30爲如此由伺服器S發送到客戶G的[詳細維修資 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -121 : 529085 A7 B7 五、發明説明(119 ) 訊]的次頁CP4。 圖係顯示電性能維修的頁。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此維修履歷頁CP3如圖30所示,顯示被納入的電漿處 理裝置或電槳處理系統及其各電漿反應室的機械型號的批 號碼顯示K1 3、被選擇的各維修欄。此處各維修欄,對應各 電漿反應室的參數P的維修時的値與這些參數P的偏差値 係顯示於電漿處理裝置或電漿處理系統及各電漿反應室的 批號碼。 而且,電漿處理室電性能維修欄K 1 0以及電漿處理室 電性能維修欄K 1 7記載如前述第一〜第四實施形態所說明的 ,第一串聯共振頻率f。的値以及此設定範圍與功率頻率f6 的關係。而且此外也記載功率頻率h中的電漿反應室CN的 電阻R以及電抗X,並且電漿激發電極4與晶座電極8間 的電容C〇、電漿激發電極4與被製作成電漿反應室的接地 電位的各部之間的損耗電容Cx等的値。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 同時由資料庫D取得當作[性能基準資訊]的[真空性能] 、[給排氣性能]、[溫度性能]、[電漿處理室電性能]等的資 料,這些資訊如圖29、30所示,藉由以[動作維修狀況資訊] 與設定(Set)顯示於維修履歷頁CP3,藉由維修詳細頁CP4 參照[性能基準資訊]可閱覽[動作維修狀況資訊],據此,訂 購者所納入的電漿處理裝置或電漿處理系統以及電漿反應 室的[性能狀況資訊]之中,可以[性能基準資訊]作爲使用時 的指標來確認,並且可以[動作維修狀況資訊]爲顯示動作狀 態的參數來檢討。同時,藉由比較[性能基準資訊]與[動作 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -122 - 529085 A7 B7 五、發明説明(12〇 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 維修狀況資訊]進行電漿處理裝置或電漿處理系統以及電漿 反應室的動作確認並且認識維修的必要性,且可把握電獎 處理狀態的狀態。 此外,伺服器S在完成對這種次頁CP3、CP4的客戶Ci 的發送後,由客戶C!未接收連接解除要求的情形(步驟S5) ’係發送連接不允許訊息到客戶C!(步驟s8),對訂購者再 度輸入[閱覽專用密碼]或等待下一個次頁的顯示要求而待機 (步驟S3),另一方面,由客戶〇接收連接解除要求的情形( 步驟S5),完成與該客戶G的通訊聯絡。 在本實施形態的電漿處理裝置或電漿處理系統的性能 確認系統中,可具備: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者向販賣維修者訂購的電漿處理裝置或電漿處理系統 的動作性能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端’販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 性能狀況資訊提供手段’響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端’再者’前述性能狀 況資訊包含前述第一串聯共振頻率f。以及對此參數各個電 漿處理裝置或電漿處理系統中的各電漿反應室的偏差値’ 並且前述性能狀況資訊藉由當作目錄或規格書而輸出’藉 由對販賣維修者所向上載入的電槳處理裝置或電漿處理系 統及其電漿反應室的性能基準資訊以及動作維修狀況資訊 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐) -123 - 529085 A7 B7 五、發明説明(121 ) 所構成的性能狀況資訊’購入訂購者由資訊終端中介公用 線路可閱覽,對訂購者在購入時可傳達成爲判斷基準的資 訊,且可容易提供在使用時的電漿處理裝置或電漿處理系 統及其各電漿反應室的動作性能、維修情報。 而且,前述性能狀況資訊如上述藉由包含當作對電漿 反應室的性能參數的前述第一串聯共振頻率f。以及其偏差 値’可提供對訂購者的電漿處理裝置或電漿處理系統及其 各電漿反應室的性能判斷材料,並且可進行購入時的適切 的判斷。再者,前述性能狀況資訊可當作目錄或規格書而 輸出。 根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的性能評 價方法的第八實施形態。 [第八貫施形態] 因成爲本實施形態的性能評價方法的對象的電漿處理 裝置的槪略構成如圖1、圖2所示,故省略說明。 此電漿處理裝置如後述,被評價是否由前述匹配電路 2A的輸出端子位置PR所測定的前述電漿反應室CN的第一 串聯共振頻率f。的3倍比由前述高頻電源1供給電漿反應 室CN的功率頻率h還大的値。 此處,以本實施形態的評價方法當作指標而使用的電 發處理裝置中的第一串聯共振頻率f◦係如先前所定義的。 判斷是否藉由第一串聯共振頻率f。的3倍是否被設定 使其比由高頻電源1供給的功率頻率h還大的値的範圍, -----:---衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -124 - 529085 A7 B7 五、發明説明(122 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 維持所希望的性能。即當第一串聯共振頻率f〇的3倍爲由 高頻電源1供給的功率頻率f6以下時,判斷爲無法維持所 希望的性能。然後,當判斷爲無法維持所希望的性能時, 爲了使第一串聯共振頻率f。的3倍在比由高頻電源1供給 的功率頻率fs還大的値的範圍,可採取訂正第一串聯共振 頻率f。的措施。 此處,訂正第一串聯共振頻率f〇的方法例如可適用: <1>、調整供電板3的形狀(長度)。 <2>、調整電漿激發電極4與反應室壁10的重疊面積 〇 <3>、調整電漿激發電極4與反應室壁10之間的絕緣 材料的厚度。 <4>、以導體連接晶座電極8與反應室壁10。 等的手法。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 例如在此電漿處理裝置中,設定功率頻率f。爲 40.68MHz,對0〜100MHz範圍的測定頻率f(MHz)測定阻抗( Ω )與相位Θ (deg),如圖6所示描繪阻抗特性曲線以及相位 曲線。然後,用以滿足 3 f〇> fe (1) 例如可採取如第一串聯共振頻率f。爲16.5MHz的訂正 措施。
在本實施形態的性能評價方法中,藉由電漿反應室C N 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -125 - 529085 A7 B7 五、發明説明(123 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 的第一串聯共振頻率f。的3倍比前述功率頻率fs還大的値 的範圍的訂正作業爲可能,可使習知所未考慮的電漿反應 室C N的全體的電的高頻特性收斂於適當的範圍。 據此,提高動作穩定性,即使投入習知一般所使用的 13.5 6MHz左右以上的高頻功率,也能將來自高頻電源i的 功率有效地導入電漿激發電極4與晶座電極8之間的電漿 產生空間。同時當供給同一頻率時,與習知的電漿處理裝 置比較,增大被電漿空間消耗的有效功率,可謀求生成的 電漿密度的上升。其結果可謀求電漿激發頻率的高頻化所 造成的處理速度的提高,即當利用電漿CVD等進行膜的疊 層時,可謀求沉積速度的提高。 再者,本實施形態的性能評價結果若施予適當的訂正 作業的話,藉由有效地供給功率給電漿空間,也能抑制電 漿的不要的擴張,可謀求被處理基板1 6中的膜面內方向中 的電漿處理的均勻性提高,在成膜處理中可謀求膜厚的膜 面內方向分布的均勻性提高。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 同時藉由投入高功率可降低電槳電位(Plasma potential) ,可抑制因離子所造成的損傷(Damage),故在電漿CVD、 濺鍍等的成膜處理中可謀求成膜狀態的提高,即沉積的膜 中的絕緣耐壓或對蝕刻液的耐蝕刻性,然後,可謀求所謂 的膜的[硬度]即膜的緻密度等的膜特性的提高。 此處,膜的緻密度可由例如對BHF液所產生的蝕刻之 侵蝕難度、耐蝕刻性表現。 再者,如果實施上述訂正作業,當供給同一頻率時, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -126 - 529085 A7 B7 五、發明説明(124 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 與習知的電紫處理裝置比較,因可有效地供給功率到電獎 空間,故爲了提高功率的消耗效率,獲得同等的處理速度 或膜特性,可用比習知還少的投入功率而完成。因此,可 謀求功率消耗的降低、可謀求運轉成本的削減。同時對於 使用與習知相同的投入時間,可更縮短處理時間、可謀求 生產性的提高。任何情形能省力化,可削減伴隨功率消耗 的二氧化碳的排出總量。 而且,如果依照本實施形態的性能評價方法,在電漿 處理裝置的實機的設置場所,僅藉由阻抗測定器AN測定第 一串聯共振頻率f。,在短時間可使電漿處理裝置的性能確 認系統以及性能的評價爲可能。因此,爲了檢查被成膜的 基板,無須停止製造線數天或數週間以進行電漿處理裝置 的性能確認以及性能的評價,可提高作爲製造線的生產性 〇 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 此第一串聯共振頻率f。可考慮爲將機械的構造當作其 許多要因而決定的電的高頻特性,各電漿處理室不同。上 述範圍藉由以此第一串聯共振頻率f〇爲指標,即使對各電 漿處理室也能設定習知未被考慮的其全般的電的高頻特性 ,可期待電漿產生的穩定性。其結果可提供動作穩定性高 的電漿處理裝置。 而且,爲了在傳送源分解裝置後,於納入端傳送、於 該納入端再組裝後實施這些性能評價,因傳送中的振動或 傳入後的再組裝作業的不完備而產生精度失常等帶給性能 壞影響的現象後,因可簡便地且以短時間確認性目§ ’故可 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 127 - 529085 A7 B7 五、發明説明(125 ) 提前由問題發現到改善爲止的周期,可縮短納入後裝置的 啓動期間。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外,阻抗以圖1 5、圖1 6所示的方法測定也可以。 此外,即使在本實施形態中於晶座電極側8載置基板 1 6,設定對電漿激發電極4的功率頻率L與第一串聯共振 頻率f〇,惟也能用以在陰極電極4側安裝基板1 6來對應。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的性 能評價方法的第九實施形態。 [第九實施形態] 成爲本實施形態的性能評價方法的對象的電漿處理裝 置的槪略構成與如先前所不的圖7 —樣。 此電漿處理裝置被評價是否電漿反應室(電漿處理室 )CN的第一串聯共振頻率f。的3倍比由前述高頻電源1供 給電漿反應室CN的功率頻率h還大的値。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本實施形態中的電漿反應室CN的測定範圍係以由阻抗 測定用端子6 1看的電漿反應室CN的狀態當作其對象。即 如圖8所示,與第八實施形態中的測定範圍一樣,以和調 諧電容器24的輸出端位置PR串聯連接的阻抗測定用端子 6 1當作測定用端子。即當電漿產生時,由輸出端位置PR ’ 與供電板3等並聯連接的匹配電路2A以及連接於晶座電極 8的匹配電路25在阻抗特性(高頻特性)測定時切離。 判斷是否藉由之前所定義的第一串聯共振頻率fQ的3 倍是否爲比由高頻電源1供給的功率頻率L還大的値的範 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -128 - 529085 A7 B7 五、發明説明(126 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圍,維持所希望的性能。即當第一串聯共振頻率f。的3倍 爲由高頻電源1供給的功率頻率fs以下時,判斷爲無法維 持所希望的性能。然後,當判斷爲無法維持所希望的性能 時,爲了使第一串聯共振頻率f。的3倍爲比由高頻電源1 供給的功率頻率h還大的値的範圍,可採取訂正第一串聯 共振頻率h的措施。 此處,訂正第一串聯共振頻率fo的方法例如可適用: < 1 >、使供電板3的形狀、長度變化。 <2>、控制電漿激發電極4與反應室壁10的重疊面積 〇 <3〉、增加電漿激發電極4與反應室壁1 0之間的絕緣 材料的厚度。 <4〉、調整以導體連接晶座電極8與反應室壁1〇等。 等的手法。 例如在此電漿處理裝置中,設定功率頻率h爲 40.68MHz,對1〜100MHz範圍的測定頻率f(MHz)測定阻抗( Ω )與相位0 (deg),如圖10所示描繪阻抗特性曲線以及相 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 位曲線。然後,用以滿足 3 f〇> fe (1) 而採取訂正措施。 此外,第一串聯共振頻率f。滿足 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -129 - 529085 A7 B7 五、發明説明(127 ) 1.3 f〇> fe (2) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 更佳。因此,以是否滿足上式當作評價基準,例如可採取 如第一串聯共振頻率f。爲42.5MHz的訂正措施。 在本實施形態的性能評價方法中,可完成與第八實施 形態同等的功效,藉由在前述電漿反應室CN的前述匹配電 路2A的輸出端子位置PR配設前述電漿反應室CN的阻抗 測定用端子6 1,在電漿反應室CN的阻抗特性測定時,可 容易進行探測,可提高在傳送源分解後,於納入端傳送、 於該納入端再組裝後的第一串聯共振頻率f〇的測定時的作 業效率。 此外,在本實施形態中阻抗測定用端子6 1未貫通匹配 箱2,在測定阻抗時用以由電漿處理裝置取下電漿處理裝置 的高頻電源1與匹配箱2,可進行當作評價指標的第一串聯 共振頻率f〇的測定。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的性 能評價方法的第十實施形態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [第十實施形態] 顯示成爲本實施形態的性能評價方法的對象的電漿處 理裝置的槪略構成的剖面圖與圖11 一樣。 此電漿處理裝置被評價是否電漿反應室(電漿處理室 )CN的第一串聯共振頻率f。的3倍比由前述高頻電源丨供 給電漿反應室CN的功率頻率h還大的値。而且如後述,被 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -130 - 529085 A7 ___B7 五、發明説明(128 ) 評價是否被電極間4、8的電容G規定的串聯共振頻率fQ, 比功率頻率f。的(電極間的距離d/電漿非發光部的距離δ ) 的平方根倍還大。 本貫施形態判斷是否藉由第一串聯共振頻率f〇的3倍 是否爲比由高頻電源1供給的功率頻率fe還大的値的範圍 ,維持所希望的性能。即當第一串聯共振頻率f〇的3倍爲 由高頻電源1供給的功率頻率L以下時,判斷爲無法維持 所希望的性能。然後,當判斷爲無法維持所希望的性能時 ,爲了使第一串聯共振頻率f。的3倍爲比由高頻電源1供 給的功率頻率h還大的値的範圍,可採取訂正第一串聯共 振頻率f。的措施。 此處,訂正第一串聯共振頻率f。的方法例如可適用: < 1〉、改變供電板3的形狀、長度。 <2>、減少電漿激發電極4與反應室壁1 〇的重疊面積 <3>、增加電漿激發電極4與反應室壁i〇之間的絕緣 材料的厚度。 <4>、以導體使晶座遮蔽12與反應室壁1〇短路。 等的手法。 例如在本實施形態的電漿處理裝置的性能評價方法中 ,設定功率頻率L爲40.68MHz,對0〜150MHz範圍的測定 頻率f (Μ Η z)測定阻抗(Ω )與相位0 (d e g),如圖1 3所示描繪 阻抗特性曲線以及相位曲線。然後,用以滿足 ---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 131 - 529085 A7 B7 五、發明説明(129 ) 3 f〇> fe ( 1 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而能採取訂正措施。 此外,第一串聯共振頻率&滿足 f〇> 3fe (3) 更佳。因此,以是否滿足上式當作評價基準,例如可採取 如第一串聯共振頻率f〇爲1 23.78MHz的訂正措施。 而且,在本實施形態中進行電漿激發電極(電極)4與晶 座電極(對向電極)8之間的電漿電極電容匕規定的串聯共振 頻率f。’是否比前述功率頻率fe的3倍還大的値的評價。 f〇,> 3fe (4) 此處,串聯共振頻率f。’係如之前所定義的。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 串聯共振頻率f。’係被電漿激發電極4與晶座電極8的 機械形狀規定的電的高頻特性,爲與電漿激發電極4與晶 座電極8之間的電漿電極電容匕的平方根的導數成比例的 値。 據此,因可評價使電漿直接發光的前述電極4、8的頻 率特性,可對電漿發光空間更有效地投入功率,使如可更 謀求功率消耗效率的提高或處理效率的提高的性能評價爲 可能。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -132 - 529085 Μ Β7 五、發明説明(13〇 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者在本實施形態中,評價被電漿激發電極4與晶座 電極8之間的電漿電極電容匕規定的串聯共振頻率f〇’對前 述功率頻率fe是否滿足以下(5)式的關係。 f〇,>(d/ 5 )1/2 (5) 關於此電漿發光時的電極4、8間的串聯共振頻率f〇" 與前述功率頻率f6的關係,可如第一串聯共振頻率f。與前 述功率頻率L的關係來評價。 f〇,J> fe (9) 若由式(8)重寫此式(9)變成上述式(5)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藉由前述串聯共振頻率f。’與前述功率頻率L滿足上述 式(5)的關係,可評價由上述電漿發光時的模型電容c。,’所 規定的串聯共振頻率f〇’’的値與由非電漿發光時的電極4、8 間的電谷所規定的串聯共振頻率f 〇 ’的値的關係。因此,藉 由評價串聯共振頻率f。’的d/ δ的平方根的導數倍的値是否 比功率頻率h還大,評價電漿發光時的電極4、8的串聯共 振頻率f。’與功率頻率L的關係,關於電漿發光時的功率消 耗效率可判斷。 在本實施形態的電漿處理裝置的性能評價方法中,可 完成與第八實施形態同等的功效,並且,在阻抗測定用端 子6 1安裝拆卸自如地連接阻抗測定器,並且藉由配設開關 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) :133- 一 529085 A7 B7 五、發明説明(131 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) SW1、SW2,設定這些阻抗Zi與阻抗z2相等,不安裝拆卸 電漿反應室CN與匹配電路2A,且不安裝拆卸阻抗測定用 探針105,僅藉由開關SW1、SW2切換可容易進行阻抗特性 的測定以及第一串聯共振頻率f。的測定。同時可視來自連 接於阻抗測定用端子6 1的阻抗測定器AN的阻抗測定値, 與在由匹配電路2A輸出側最終段的輸出位置PR測定的値 同等,故無須第一串聯共振頻率f〇的算出修正,無須實測 値的換算,可提高作業效率、可更正確地進行第一串聯共 振頻率f。的測定。 再者,藉由比較前述串聯共振頻率f。’與前述功率頻率 f。的値,因可評價使電漿直接發光的前述電極4、8的頻率 特性,可對電漿發光空間更有效地投入功率,更使關於功 率消耗效率或處理效率的適當的判斷爲可能。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的性 能評價方法的第十一實施形態。 [第十一實施形態] 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖32係顯示成爲本實施形態的性能評價方法的對象的 電漿處理裝置的槪略構成圖。 此電漿處理裝置17例如被製作成由構成頂閘(Top gate) 型的TFT的半導體主動膜的多晶矽的形成到閘極絕緣膜的 形成之一貫處理爲可能,被製作成具有複數個處理室單元 的裝置。 成爲本形態的對象的電漿處理裝置7 1如圖3 2所示, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -134 - 529085 A7 B7___ 五、發明説明(132 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在近似七角形的傳送室72周圍連設五個處理室與一個裝載 機室73與一個卸載機室74。而且,五個處理室單元的明細 爲由形成非晶矽(Amorphous silicon)膜的第一成膜室、形成 氧化矽膜的第二成膜室以及形成氮化矽膜的第三成膜室所 構成的電漿處理室單元(電漿反應室)75、76、77、進行成膜 後的被處理基板的回火(Anneal)處理的雷射回火室78、進行 成膜後的被處理基板的熱處理的熱處理室79。 上述構成的熱處理室75、76、77因都與第八實施形態 之根據圖1以及圖2所說明的電漿處理裝置同一的構成, 故省略其詳細的說明。 在這些處理室75、76、77的任一個中當進行非晶矽膜 、氧化矽膜、氮化矽膜等的成膜時,在晶座電極8上載置 被處理基板1 6,由高頻電源1對高頻電極4與晶座電極8 的雙方施加高頻功率,並且由氣體導入管17中介噴淋板16 將反應氣體供給反應室60內使電漿產生,在被處理基板1 6 上形成非晶矽膜、氧化矽膜、氮化矽膜等。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 雷射回火室78如圖33所示在反應室80的上部配設雷 射光源81,另一方面,在反應室80內的下部用以載置被處 理基板16的台面(Stage) 81係可水平移動地配設於直交的X 方向、Y方向的兩方向。而且,與自雷射光源81的射出部 81a到點(Spot)狀的雷射光83(以一點鏈線表示)射出同時, 藉由支持被處理基板16的台面82在X方向、Y方向水平 移動,使雷射光83可掃描被處理基板16的全面。雷射光 源81例如可使用利用XeCn、ArF、ArC卜XeF等的鹵素氣 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -135 · 529085 A7 B7 五、發明説明(133 ) 體之氣體雷射。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且,雷射回火室78的構成具備射出雷射光的雷射光 源,自雷射光源射出的點狀雷射光若爲可到處掃描被處理 基板的表面之構成,則可使用各種構成的裝置。這種情形 雷射光源例如可使用利用XeCl、ArF、ArCn、XeF等的鹵素 氣體之氣體雷射。根據膜的種類也能使用YAG雷射等的其 他雷射光源,雷射光的照射形態可使用脈衝雷射回火、連 續振盪雷射回火。而且,熱處理室的構成例如可使用多段 式電爐型的裝置。 熱處理室79如圖34所示爲多段式電爐型,在反應室 84內爲在配設於多段的加熱器85的各個載置被處理基板 1 6的構成。而且,藉由加熱器85的通電使複數片被處理基 板1 6被加熱。此外,在熱處理室79與傳送室72之間配設 闇閥86。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在圖32所示的裝載機室73、卸載機室74係可安裝拆 卸地配設裝載晶圓匣盒(Load cassette)、卸載晶圓匣盒 (Unload cassette)。這兩個晶圓匣盒係可收容複數片的被處 理基板1 6,在裝載晶圓匣盒收容成膜前的被處理基板1 6, 在卸載晶圓匣盒收容成膜後的被處理基板1 6。而且,在位 於這些處理室單元與裝載機室73、卸載機室74的中央的傳 送室72設置基板傳送機械手臂(傳送手段)87。基板傳送機 械手臂87其上部具有具備伸縮自如的連桿(Llnk)機構的臂 8 8,臂8 8可旋轉且可升降,以在臂8 8的前端部支持、傳 送被處理基板1 6。 本紙張尺度適用中國國家標準(cns )八4規格(21〇X297公釐)-136 - 529085 A7 B7 五、發明説明(134 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上述構成的電漿處理裝置7 1例如除了操作者設定的各 處理室單元中的成膜條件、回火條件、熱處理條件等種種 處理條件或處理程序外,各部的動作被控制部控制,爲自 動運轉的構成。因此,當使用此電漿處理裝置7 1時,設定 處理前的被處理基板1 6於裝載晶圓匣盒,若操作者操作啓 動開關的話被處理基板1 6被基板傳送機械手臂87自裝載 晶圓匣盒傳送到各處理室內,在各處理室依次自動地進行 一連的處理後,被基板傳送機械手臂87收容於卸載晶圓匣 盒。 在成爲本實施形態的性能評價方法的對象之電漿處理 裝置71中,在複數個電漿反應室75、76、77的每一個中, 當作高頻特性A的第一串聯共振頻率f〇的納入後的値^的 偏差fou係由其最大値f〇max與最小値f〇min,定義成 f〇lr =(f〇max - f〇min)/(f〇max + f〇min) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的値藉由預定値是否比〇. 1還小的値,判斷是否維持所 希望的性能。即當fow的値爲比〇. 1還小時,判斷維持所希 望的性能,當爲0.1以上時,判斷無法維持所希望的性能。 然後’當判斷爲無法維持所希望的性能時,爲了使fm的値 爲比0· 1還小的値的範圍,可採取訂正第一串聯共振頻率fQ 的措施。 此處’第一串聯共振頻率5以及其訂正方法由於如上 述第八實施形態說明的,故省略其說明。 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐)-137 - 529085 A7 B7 五、發明説明(135 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如此,各個電漿反應室75、76、77的高頻特性在第一 串聯共振頻率f〇之中,其最大値f〇max與最小値fomin的偏差 如上述(ίο)式所示而定義,藉由此値被設定於比〇·ι還小的 範圍的値,可採取如對複數個電漿反應室7 5、7 6、7 7去除 電的高頻特性的機差的訂正措施,據此,因可在以阻抗特 性爲指標的一定管理寬度內設定複數個電漿反應室75、76 、77的狀態,故在各個電漿反應室75、76、77中,可分別 使被電漿空間消耗的有效功率大致均勻。 其結果對複數個電漿反應室75、76、77適用相同的製 程處理程式,得到大致相同的電漿處理結果,即在複數個 電漿反應室75、76、77中例如進行成膜時,可得到膜厚、 絕緣耐壓、蝕刻速率等大致均勻的膜特性的膜。具體上藉 由設定前述的偏差値於比0.1還小的範圍,在大致相同的條 件下進行疊層的電漿反應室75、76、77中,可使膜厚的偏 差値收斂於± 5 %的範圍。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此,可設定習知未考慮的電漿處理裝置7 1全般的電 的高頻特性,可期待電漿產生的穩定性。其結果可提供動 作穩定性高、在各電漿反應室75、76、77可維持管理可期 待均勻動作的電漿處理裝置7 1。 據此,可不需要由對複數個電漿反應室75、76、77的 龐大資料,而把握外部參數與利用如處理實際的基板的評 價方法所產生的處理結果的相關關係所造成的製程條件。 因此,在新設置時或調整、維護檢修時,去除各電漿 反應室75、76、77的機差、消除處理的偏差,爲了藉由同 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -138 - 529085 A7 B7 五、發明説明(136 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一製程處理程式獲得大致相同的處理結果,需要的調整時 間與採用對被處理基板1 6的實際成膜等所採取的檢查方法 的情形比較,藉由測定第一串聯共振頻率f〇可大幅地縮短 。而且,如果依照本實施形態的檢查方法藉由進行處理的 基板的評價,不利用進行電漿處理裝置7 1的動作確認以及 動作的評價之兩階段檢查方法,可直接進行電漿處理裝置 7 1的評價,而且,可在電漿處理裝置7 1的實機設置場所短 時間地進行。並且採用對被處理基板1 6的實際成膜等所採 取的檢查方法的情形,可大致同時實現僅對個別進行的複 數個電漿反應室75、76、77的結果。 因此,無須停止製造線數天或數週間以進行電漿處理 裝置7 1的動作確認以及動作的評價,可提高作爲製造線的 生產性。而且,可削減這種調整所需的檢查用基板等的費 用、此檢查用基板的處理費用以及從事調整作業的作業員 的人事費等成本。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,在此各電漿處理室75、76、77中,在第八實施 形態到第十實施形態中可合倂所採用的評價方法而採用。 即藉由倂用比較各個第一串聯共振頻率f。與功率頻率fs的 評價基準與根據上述偏差fcnr的評價,不僅機差,也能使電 漿處理室75、76、77全體的電的高頻特性分別收斂於適當 的範圍。據此,在各電漿處理室75、76、77中,可得到與 第八實施形態到第十實施形態同樣的功效。而且此功效也 同時在複數個電漿處理室75、76、77中實現。 以下根據圖面說明與本發明有關的性能評價方法的第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -139 - 529085 A7 B7 五、發明説明(137 ) 十二實施形態。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) [第十二實施形態] 圖3 5係顯示成爲本實施形態的性能評價方法的對象之 電漿處理裝置9 1的槪略構成的剖面圖。 此電漿處理裝置9 1被製作成在大致四角形的傳送室92 周圍配設真空隔絕室93與熱處理室99與處理室95、96。 此裝置係以設置基板移載用的傳送機械手臂的傳送室92爲 中央,各室之間被閘gl、g2、g3、g4隔開。傳送室(待機室 )92與加熱室99與其他的處理室單元94、95分別被個別的 高真空泵排氣到高真空度。真空隔絕室93被低真空泵排氣 到低真空度。 在本實施形態的電漿處理裝置9 1中,其構成要素係對 應圖32〜圖34所示的第十一實施形態的電漿處理裝置71, 分別爲傳送室92對應傳送室72、熱處理室99對應熱處理 室79、真空隔絕室93對應裝載機室73以及卸載機室74, 關於大致相同的構成的部分省略說明。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 而且,上述構成的處理室95、96係兩頻率激發型的電 9貴處理裝置,因都以第九實施形態與根據圖7的說明的電 县貴處理裝置同一構成,故省略其詳細的說明。 電漿處理室95、96係對應圖32所示的第十一實施形 態的電漿處理室75、76,也能進行如形成各不相同種類的 的膜的不同處理,而且,藉由同一製程處理程式也能進行 同一處理,被製作成大致相同的構成。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -140 - 529085 A7 B7 五、發明説明(138 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上述構成的電槳處理裝置9 1係打開閘gO將被處理基 板丨6傳入真空隔絕室93,關閉開閘g()藉由低真空泵對真 空隔絕室9 3進行排氣。打開閘g 1、g 2藉由傳送室9 2的傳 送機械手臂的移載臂將被傳入真空隔絕室9 3的基板1 6移 動到熱處理室99。關閉閘gl、g2藉由高真空泵對傳送室92 與熱處理室99進行排氣。接著對基板1 6進行加熱處理, 完了後打開閘g2、g4藉由傳送室92的傳送機械手臂的移 載臂將被進行熱處理的基板1 6移動到電漿反應室9 5。對電 獎反應室95的基板1 6進行反應處理,完了後打開閘g4、 g 3藉由傳送室9 2的傳送機械手臂的移載臂將被處理的基板 1 6移動到電漿反應室96。對電漿反應室96的基板1 6進行 反應處理,完了後打開聞g 3、g 1藉由傳送室9 2的傳送機 械手臂的移載臂將基板1 6移動到真空隔絕室93。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此時,例如除了操作者設定的各處理室中的成膜條件 等的處理條件或處理程序外,各部的動作被控制部控制, 爲自動運轉的構成。因此,當使用此電漿處理裝置9丨時, 設定處理前的被處理基板1 6於真空隔絕室9 3的裝載晶圓 匣盒,若操作者操作啓動開關的話被處理基板1 6被基板傳 送機械手臂自裝載晶圓匣盒傳送到各處理室內,在各處理 室依次自動地進行一連的處理後,被基板傳送機械手臂收 容於卸載晶圓匣盒(裝載晶圓匣盒)。 在上述構成的電漿反應室95、96中,與第九實施形態 一樣在晶座電極8上載置被處理基板1 6,自高頻電源1分 別施加局頻功率到局頻電極4與晶座電極8的雙方,並且 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -141 - 529085 A7 ______B7_ 五、發明説明(139 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 自氣體導入管1 7中介噴淋板6供給反應氣體到反應室60 內使電漿產生,在被處理基板1 6上形成非晶矽膜、氧化矽 膜、氮化矽膜等。 而且,這些複數個電漿處理室95、96如圖35所示, 中介如後述的鬧關SW2等與阻抗測定器(高頻特性測定器 )AN連接。同時在複數個電槳處理室95、96中,第一串聯 共振頻率f〇的納入後的値之中,最大値f()max與最小値 的偏差fou被定義成 f〇lr —(f〇max - f〇min)/(f〇max + f〇min) fair的値藉由是否比0.03還小的範圍的値,判斷是否維持所 希望的性能。即當fou的値爲比0.03還小時,判斷維持所 希望的性能,當爲0.03以上時,判斷爲無法維持所希望的 性能。然後,當判斷爲無法維持所希望的性能時,爲了使 的値爲比0.03還小的値的範圍,可採取訂正第一串聯共 振頻率f。的措施。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 此處,第一串聯共振頻率f。以及其訂正方法由於如上 述第二實施形態說明的,故省略其說明。 在本實施形態中可完成與第十一實施形態同等的功效 ,並且因可評價各電漿處理室95、96中的前述第一串聯共 振頻率f。的納入後的値f。1的偏差是否比0.0 3還小的範圍的 値,故可實施適當的訂正措施,對複數個電漿反應室95、 96可去除阻抗、共振頻率特性等的電的高頻特性的機差, 本紙張尺度適用中國國家標準icNS ) A4規格(210X297公釐^ - 142 - 529085 A7 B7_ 五、發明説明(14〇 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 據此,因可在以阻抗特性爲指標的一定管理寬度內設定複 數個電漿處理室的狀態,故在各個電漿處理室95、96中, 可分別使被電漿空間消耗的有效功率等大致均勻。 其結果對複數個電漿處理室95、96適用相同的製程處 理程式,得到大致相同的電漿處理結果,即在複數個電漿 處理室中例如進行成膜時,可得到膜厚、絕緣耐壓、蝕刻 速率等大致均勻的膜特性的膜。具體上藉由設定前述的偏 差値於比0.03還小的範圍,在大致相同的條件下進行疊層 的電漿處理室中,可使膜厚的偏差値收斂於±2%的範圍。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,在此電漿處理裝置9 1中,在複數個電漿處理室 95、96的前述匹配電路2A的輸出端位置PR,配設阻抗測 定用端子(測定用端子)6 1,此測定用端子6 1安裝拆卸自如 地連接阻抗測定器AN,並且藉由配設開關SW1、SW2,在 複數個電漿反應室95、96的阻抗特性測定時,如第十一實 施形態爲了切離電漿處理室95、96與匹配電路2A,無須安 裝拆卸功率供給線與匹配電路2A。因此,可容易進行測定 前述電漿處理室95、96的阻抗特性時的探測,可提高第一 串聯共振頻率f。測定時的作業效率。 再者,在這些複數個電漿處理室95、96中,藉由阻抗 Zi與阻抗Z2被設定成相等,在各個電漿處理室95、96中不 安裝拆卸電漿處理室95、96與匹配電路2A,且不安裝拆卸 阻抗測定用探針105,僅藉由開關SW1、SW2切換,可容易 進行阻抗特性的測定以及第一串聯共振頻率f。的測定與電 漿處理裝置的動作狀態即電漿產生狀態的切換。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -143- " 一 529085 A7 B7 五、發明説明) 此處,在阻抗特性的測定以及第一串聯共振頻率f◦的 測定時,僅藉由開關SW1、SW2切換,可依次切換複數個 電漿處理室95、96,可提高第一串聯共振頻率f。測定時的 作業效率。 同時,因可視來自連接於各個阻抗測定用端子6 1的阻 抗測定器AN的阻抗測定値,與在複數個電漿處理室95、 96中由匹配電路2A輸出側最終段的輸出位置PR測定的値 同等,故第一串聯共振頻率f〇的算出修正在各個電漿處理 室95、96中不需要,無須實測値的換算,可提高作業效率 、可更正確地進行第一串聯共振頻率f。的測定。 再者,在複數個電漿反應室95、96中與第十實施形態 一樣,藉由比較串聯共振頻率f。’與功率頻率fe的値之評價 方法,實施適當的訂正措施,因可直接在各個電漿處理室 95、96中規定使電漿發光的前述電極4、8的頻率特性,故 對電漿發光空間可更有效地投入功率,在本實施形態的電 漿處理裝置9 1全體,可更謀求功率消耗效率的提高或處理 效率的提高。 此外,在此電漿處理裝置中雖然以配設兩個開關SW 1 以及開關SW2的構成,惟從分歧點B到輸出端位置PR與 從分歧點到探針的阻抗若被設定爲相等的話,仍可藉由例 如一個開關切換這些點的連接。 再者,在此各電漿處理室95、96中,在第八實施形態 到第十實施形態中可合倂所採用的評價方法而採用。即藉 由倂用比較各個第一串聯共振頻率f。與功率頻率fe的的評 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 144 - — —— — —— ——f— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A7 _ B7 五、發明説明(142 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 價基準與根據上述偏差的評價,不僅機差,也能使電漿 處理室95、96全體的電的高頻特性分別收斂於適當的範圍 。據此,在各電獎處理室9 5、9 6中,可得到與第八實施形 態到第十實施形態同樣的功效。而且此功效也同時在複數 個電漿處理室95、96中實現。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理系統的性 能評價方法的第十三實施形態。 [第十三實施形態] 圖3 6係顯示成爲本實施形態的性能評價方法的對象之 電漿處理系統的槪略構成的模式圖。 此電漿處理系統係組合與圖32所示的第十一實施形態 中的電漿處理裝置大致同等的電漿處理裝置7 1、7 1 ’,以及 與圖35所示的第十二實施形態中的電漿處理裝置大致同等 的電漿處理裝置9 1而槪略地構成。對於對應之前所說明的 第十一、第十二實施形態中的電漿處理裝置的構成要素附 加相同的符號,省略其說明。 經濟部智慧財產^員工消費合作社印製 本實施形態的電漿處理系統如圖36所示係被製作成: 具有三個電漿處理室95、96、97的電漿處理裝置71、具有 兩個電發處理室95、96的電獎處理裝置91以及具有三個 電漿處理室95、96、97的電漿處理裝置71’,構成製造線 的一部分。 此電漿處理系統的製造線中的工程,例如如以下所示 。首先,對進行電漿處理前處理的被處理基板1 6在電漿處 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -145 - 529085 A7 B7 五、發明説明(143 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 理裝置7 1的電漿處理室95中進行成膜處理,接著在熱處 理室79中進行加熱處理,然後在雷射回火室78中進行回 火處理。在電漿處理室96、97中,對被處理基板1 6依次 進行第二、第三成膜處理。 其次,對由電漿處理裝置7 1傳出的被處理基板1 6,在 未圖示的其他處理裝置中藉由微影工程進行光阻的形成。 然後,在電漿處理裝置9 1的電漿處理室95中進行電 漿蝕刻,接著在電漿處理室96中,對被處理基板1 6進行 成膜處理。 接著,對由電漿處理裝置9 1傳出的被處理基板1 6,在 未圖示的其他處理裝置中剝離光阻,藉由新的微影工程進 行圖案形成(Patterning)。 最後,在電漿處理裝置7厂的電漿反應室95、96、97 中,對被處理基板1 6依次進行第一、第二、第三成膜處理 ,將被處理基板1 6傳送到電漿處理後處理,完成製造線中 的本實施形態的電漿處理系統中的工程。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此電漿處理系統如圖37所示各電漿處理室95、96、97 的阻抗測定用端子6 1係中介開關SW3與阻抗測定器AN連 接。開關SW3係在各電漿處理室95、96、97的測定時僅連 接測定對象的電漿處理室95、96、97與阻抗測定器AN, 當作切換開關而配設俾切斷這些以外的電漿處理室95、96 、97。而且,測定用同軸電纜的長度被設定成相等,俾由 此測定用端子6 1到開關SW3的阻抗對各電漿處理室95、 96、97相等。阻抗測定用端子6 1與圖7所示的第十二實施 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -146 - 529085 A7 ____ B7 五、發明説明(144 ) 形態一樣’係安裝拆卸自如地連接阻抗測定器AN的探針。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此處’複數個電獎處理裝置的各電漿處理室9 5、9 6、 97中的第一串聯共振頻率f〇藉由切換開關3胃3,可與第十 二實施形態一樣地測定。然後,在其複數個電漿處理室95 、96、97中,第一串聯共振頻率f〇的納入後的値f()i之中, 最大値f〇mu與最小値f()min的偏差被定義成 f〇lr =(f〇max - f 〇 m i η ) / ( f 〇 m a x + fomin) f〇u的値藉由是否比〇·〇3還小的範圍的値,判斷是否維持所 希望的性能。即當f〇U的値爲比〇.〇3還小時,判斷維持所 希望的性能,當爲0.03以上時,判斷爲無法維持所希望的 性能。然後,當判斷爲無法維持所希望的性能時,爲了使 f 〇 1 r的値爲比〇 · 〇 3速小的値的範圍,可採取g了正第一*串聯共 振頻率f〇的措施。 此處,第一串聯共振頻率fQ以及其訂正方法由於如上 述第八以及第九實施形態說明的,故省略其說明。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 在本實施形態中可完成與第十一、第十二實施形態同 等的功效,並且因可評價各電漿處理室95、96、97的第一 串聯共振頻率f〇的納入後的値k的偏差是否比〇.〇3還小的 範圍的値,故可實施適當的訂正措施,在複數個電紫處理 裝置71、91、71’中,可分別去除對各電漿處理室95、96、 97的電的高頻特性的機差,據此,在電漿處理系統全體中 ,因可在以阻抗特性爲指標的一定管理寬度內設定複數個 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -147 - 529085 A7 B7 五、發明説明(145 ) 電漿處理室95、96、97的狀態,故在各個電漿處理室95、 90、97中,可分別使被電漿空間消耗的有效功率大致等均 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 勻。 其結果在電漿處理系統全體中,對複數個電漿處理室 95、96、97適用相同的製程處理程式,得到大致相同的電 漿處理結果,即在複數個電漿處理室95、96、97中例如進 行成膜時,可得到膜厚、絕緣耐壓、鈾刻速率等大致均勻 的膜特性的膜。具體上藉由設定前述的偏差値於比〇.〇3還 小的範圍,在大致相同的條件下進行疊層的電漿處理室中 ,可使膜厚的偏差値收斂於±2%的範圍。 因此,可設定習知未被考慮的電漿處理系統的全般的 電的高頻特性,可期待各電漿反應室95、96、97中的電漿 產生的穩定性。其結果可提供動作穩定性高、在各電漿處 理室95、96、97可提供可期待均勻動作的電漿處理系統。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 據此,相較於單一電漿處理裝置,可不需要由對多數 電漿處理室95、96、97的龐大資料,而把握外部參數與利 用如處理實際的基板的評價方法所產生的處理結果的相關 關係所造成的製程條件。 因此,新設置時或調整、維護檢修時,去除各電漿反 處理室95、96、97的機差、消除處理的偏差,在各電漿處 理室95、96、97中爲了藉由同一製程處理程式獲得大致同 一處理結果’需要的調整時間與採用對被處理基板1 6的實 際成膜等所採取的檢查方法的情形比較,藉由測定第一串 聯共振頻率f。可大幅地縮短。而且,不藉由進行處理的基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -148 - 529085 A7 __B7 五、發明説明(146 ) 板的評價來進行電漿處理系統的動作確認以及動作的評價 之兩階段方法,可直接進行電漿處理系統的評價,而且, 可在電漿處理系統的實機設置場所短時間地進行。並且採 用對被處理基板1 6的實際成膜等所採取的檢查方法的情形 ,可大致同時實現僅對個別進行的複數個電漿反應室95、 96、97的結果。 因此,無須停止製造線數天或數週間以進行電漿處理 系統的動作確認以及動作的評價,可提高作爲製造線的生 產性。而且,可削減這種調整所需的檢查用基板等的費用 、此檢查用基板的處理費用以及從事調整作業的作業員的 人事費等成本。 再者,在此各電槳處理室95、96、97中,在第八實施 形態到第十實施形態中可合倂所採用的評價方法而採用。 即藉由倂用比較各個第一串聯共振頻率f〇與功率頻率f6的 的評價基準與根據上述偏差fou的評價,不僅機差,也能使 電漿處理室95、96、97全體的電的高頻特性分別收斂於適 當的範圍。據此,在各電漿處理室9 5、9 6、9 7中,可得到 與第八實施形態到第十實施形態同樣的功效。而且此功效 也同時在複數個電漿處理室95、96、97中實現。 在本發明中的上述第十一到第十三的各實施形態中, 如圖37所示對應電漿處理室95、96、97,分別配設匹配電 路2A與高頻電源1,在電漿處理室95、96、97中的匹配電 路2A的連接位置中介SW4連接阻抗測定器AN,惟如圖38 所示對各個電漿處理室95、96、97的匹配電路2A、2A、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -149 - ——!_·ΐ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(147 ) ---------衣-- f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 2A係連接於同一高頻電源1的構成,或如圖39所示各個電 漿處理室95、96、97也能適用連接於同一匹配電路2A的 構成。這種情形如圖38所示在電漿處理室95、96、97與匹 配電路2A的連接位置中介SW4連接阻抗測定器AN。 而且,在上述第十一到第十三的各實施形態中,高頻 特性A如上述式(9)進行對第一串聯共振頻率f。的設定,惟 此點以外高頻特性A採用共振頻率f、前述該高頻功率的頻 率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該高頻功 率的頻率中的電抗X的任一個,可如前述式(10B)來設定。 以下根據圖面說明與本發明有關的電漿處理裝置的性 能管理系統的第十四實施形態。 [第十四實施形態] 圖1 7以及圖1 9係與本實施形態有關的電漿處理裝置 的性能管理系統的系統構成圖,圖4 0係顯示以同性能管理 系統實現的評價資訊提供方法的流程圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖1 7所示的性能管理系統係由伺服器2 1 0、納入端的 輸入輸出裝置220、連接這些伺服器210與輸入輸出裝置 220的通訊線路230以及連接於伺服器的傳送源的輸出裝置 240所構成。而且,如圖1 9所示的性能管理系統除了圖丄7 的構成外,也由連接於電槳處理裝置250的阻抗測定器260 所構成。成爲本管理系統的對象之電漿處理裝置未特別限 定,在第八到第十二實施形態中所示的電漿處理裝置或第 十三實施形態中所示的電漿處理系統中的電漿處理裝置等 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 150 · 529085 A7 五、發明説明(148 成爲對象。 系統構成因與前述第四實施形態的情形相同,故省略 其說明。 以下梦照圖1 7以及圖1 9同時依照圖4 0的流程圖說明 本實施形態中的處理動作。 納入端的顧客或拜訪納入端的服務人員等、本性能管 理系統的利用者以同系統開始性能評價,首先關於被納入 納入端的或使用中的電漿處理裝置,測定納入後的電漿處 理室的第一串聯共振頻率5,由輸入輸出裝置22〇輸入此 値。而且,對圖1 9所示的性能管理系統,直接由連接於電 漿處理裝置250的阻抗測定器260輸入測定値。 此被輸入的fen値係經由通訊線路230被發送到伺服器 210(步驟 301)。 相對於此,伺服器210計算{ (步驟302)。 其次,伺服器2 1 0呼叫被供給被收藏於記憶裝置2 1 2 的電漿處理室的電極之高頻電源的功率頻率fe的資訊500, 比較此値與之前所計算的{ f(nx3 },評價該電漿處理裝置的 性能。具體上當{ 爲比該功率頻率h還大的値時,判 斷爲維持預定的性能,當{ f(nx3:l爲該功率頻率L以下時, 判斷爲不維持預定的性能(步驟303) ° 此外,對於由具有第十一實施形態到第十三實施形態 所示的複數個電漿處理室的電漿處理裝置或電漿處理系統 接受複數個的輸入的情形,僅所有的丨f。1x3丨爲比該功率 頻率L還大的値時,判斷爲維持預定的性能’除此以外的 衣-- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公t ) - 151 - 529085 A7 _____ B7 五、發明説明(149 ) 情形,判斷爲不維持預定的性能。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次,伺服器2 1 0提供上述性能評價的結果給納入端 的輸入輸出裝置220以及傳送源的輸出裝置24〇的雙方(步 驟 304)。 其中對輸入輸出裝置220發送印出或畫面顯示的指令 訊號’或者發送聲首訊號。具體上當判斷爲維持預定的性 能時’例如[所照會的裝置的性能,因被適當地維持,故請 照樣使用。]的訊息,當判斷爲不維持預定的性能時,例如[ 所照會的裝置的性能,因有不被適當地維持之虞,故請依 照使用說明書來進行調整。]的訊息,以印出、畫面顯示、 聲音等傳達給顧客或服務人員等。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 而且,對輸出裝置240當判斷爲不維持預定的性能時 ’發送印出或畫面顯示、訊號輸出等的指令訊號,或者發 送警報音產生訊號。然後,由輸出裝置240輸出印出、畫 面顯示、訊號輸出或警報音等的維修作業命令。此外,在 傳送源中爲了判斷任何納入端的哪一個裝置需要維修,由 輸入輸出裝置2 20接收電漿處理室的固有號碼,由輸出裝 置240輸出此固有號碼較佳,惟輸入輸出裝置220的固有 號碼例如當輸入輸出裝置220爲一個電漿處理裝置專用的 情形,由位址號碼或電話號碼等判斷,由輸出裝置240輸 出其判斷結果也可以。 其結果納入端的顧客或拜訪納入端的服務人員等不進 行實際使電漿處理裝置動作而檢查成膜的基板之作業,可 立即根據評價基準1評價該電漿裝置的性能。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1 52 - 529085 A7 B7 五、發明説明(150 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且,不是藉由進行處理的基板的評價來進行電漿處 理裝置的動作確認以及動作的評價的兩階段方法,可直接 地在電漿處理裝置的電漿反應室CN的設置場所,以短時間 進行電漿處理裝置的評價。而且,當採用利用對被處理基 板的實際成膜等的檢查方法時,關於具有只能在個別進行 的複數個電漿反應室的電漿處理裝置的情形,可大致同時 得到結果。 因此,在納入後的裝置性能中,可簡便且以短時間確 認’當有問題時,可提早從問題發現到改善爲止的周期, 故可縮短裝置的啓動期間。而且,可削減這種調整所需的 檢查用基板等的費用、此檢查用基板的處理費用以及從事 調整作業的作業員的人事費等成本。 而且,在傳送源的製造者等中,當納入端的電漿處理 裝置產生問題時,因接受維修作業命令可立即告知此問題 ’故可使對顧客的售後服務體制充實。 以下根據圖面說明以與本發明有關的電漿處理裝置的 性能管理系統的其他實施形態當作第十五實施形態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [第十五實施形態] 圖4 1係與本實施形態有關的電漿處理裝置的性能管理 系統的系統構成圖’圖42係顯示以同性能管理系統實現的 評價資訊提供方法的流程圖。此外,在兩圖中對於與圖i 7 到圖1 9相同的構成要素’附加同一符號省略其說明。 圖41所示的性能管理系統係由伺服器21〇、納入端的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(ΤΙ〇χ297公釐) 529085 A7 B7 五、發明説明(151 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 輸入裝置270、連接這些伺服器210與輸入裝置27〇的通訊 線路230以及連接於伺服器的傳送源的輸出裝置24〇所構 成。成爲本管理系統的對象爲具有複數個電發處理室的電 漿處理裝置或電漿處理系統,在第十一到第十三實施形態 中所示的電漿處理裝置或電漿處理系統等成爲對象。 以下參照圖4 1同時依照圖42的流程圖說明本實施形 態中的處理動作。 納入端的顧客或拜訪納入端的服務人員等、本性能管 理系統的利用者以同系統開始性能評價,首先關於由輸入 裝置270被納入納入端的電漿處理裝置,輸入電漿處理室 的固有號碼S以及各電漿處理室的高頻特性h的測定値。 此被輸入的固有號碼S以及^値係經由通訊線路230 被發送到伺服器210(步驟401)。 此外,將連接於電漿處理裝置的阻抗測定器連接於輸 入裝置270,藉由來自伺服器210的指令’自動地輸入電漿 處理室的固有號碼S以及各電漿處理室的高頻特性Al的測 定値也可以。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 相對於此,伺服器2 1 0由高頻特性的資訊之中檢索 最大値Almax與最小値Almin以及特定對應的固有號碼S(步驟 402)。 其次,依照下式計算偏差Au(步驟40% °
Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 529085 Α7 Β7 五、發明説明(152 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次,伺服器2 1 0比較A u與預定値例如比較0.1,評 價該電漿處理裝置的性能。具體上當爲比預定値還小的 値時’判斷該電漿處理裝置維持預定的性能。而且,當Alr 爲預定値以上的値時,判斷該電漿處理裝置不維持預定的 性能(步驟404)。 其次,伺服器2 1 0當上述性能評價的結果判斷不維持 預定的性能時,對傳送源的輸出裝置24〇提供維修作業命 节以及’fe予該取大値A 1 m a X或最小値A 1 m i η的電黎處理室的固 有號碼當作評價資訊(步驟4 0 5)。 具體上伺服器210對輸出裝置240發送印出或畫面顯 不的指令訊號,或者發送警報音產生訊號。然後,在傳送 源中爲了判斷維修作業命令以及任何納入端的哪一個裝置 需要維修,必要的資訊輸出該電漿處理室的固有號碼。 在本實施形態的電槳處理裝置的管理系統中,可立即 把握於傳送源中任一個電漿處理裝置產生問題,或任一個 電漿處理裝置的任一個電漿處理室產生問題等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 即在製造服務公司等的傳送源中,不進行實際使電漿 處理裝置或電漿處理系統動作而檢查成膜的基板之作業, 可立即根據評價基準2評價該電漿裝置的性能。 而且,不是藉由進行處理的基板的評價來進行電漿處 理裝置等的動作確認以及動作的評價的兩階段方法,可直 接地在電漿處理裝置的電漿反應室CN的設置場所,以短時 間進行電漿處理裝置的評價。而且,當採用利用對被處理 基板的實際成膜等的檢查方法時,關於具有只能在個別進 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21〇><297公釐) -155 - 529085 A7 B7 五、發明説明(153 ) 行的複數個電獎反應室的電漿處理裝置的情形,可大致同 時得到結果。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此,在納入後的裝置性能中,可簡便且以短時間確 認’當有問題時,可提早從問題發現到改善爲止的周期, 故可縮短裝置的啓動期間。而且,可削減這種調整所需的 檢查用基板等的費用、此檢查用基板的處理費用以及從事 調整作業的作業員的人事費等成本。 而且,在傳送源的製造者等中,當納入端的電漿處理 裝置產生問題時,因接受維修作業命令可立即告知此問題 ’故可使對顧客的售後服務體制充實。 [實施例] (比較例A) 經濟部智慧財產¾員工消費合作社印製 關於設定功率頻率h爲40.68MHz、設定第一串聯共振 頻率f。爲11.63MHz的比較例,上述圖15所不的等價電路 的各要素係實測供電板3的電感Lf以及電阻Rf、電漿激發 電極4與晶座電極8之間的電漿電極電容C%、晶座電極8 與晶座遮蔽12(接地)之間的電容Cs、軸13、風箱1 1、反應 室壁1 0的電感Ls以及電阻Rs、電漿激發電極4與接地之 間的電容Cx。 這些値顯示於表2。 (實施例A1) 對比較例A的電漿處理裝置改善供電板3的長度’設 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 156 · 529085 A7 B7 五、發明説明(154 ) 定第一串聯共振頻率f〇爲13·82ΜΗζ,以3f〇> fe當作實施例 A 1 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (實施例A2) 對實施例A 1更改善供電板3,並且改善電漿激發電極 8與反應室壁10的重疊面積,設定第一串聯共振頻率fQ爲 30.01MHz,以3f〇> fe當作實施例A2。 (實施例A3) 對實施例2增加電漿激發電極8與反應室壁1 〇的絕緣 物厚度,設定第一串聯共振頻率爲3 3.57MHz,以1.3f〇> fs當作實施例A3。 (實施例A4) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對實施例A3去除供電板3,將匹配電路2A的調諧電 容器24直結於電漿激發電極8,並且使晶座遮蔽1 2的遮蔽 支持板12A前端側與反應室壁10短路,設定第一串聯共振 頻率f。爲1 23.7 8MHz,以f〇> 3fe當作實施例A4。 此外,任何實施例都設定功率頻率匕爲40.68MHz 這些値顯示於表2。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -157 - 529085 A7 B7 五、發明説明(155 ) 表2 比較例 A 實施例 A1 實施 例A2 實施 例A3 實施 例A4 第一串聯共振頻率f。(MHz) 11.63 13.82 30.01 33.57 123.78 供電板3的電感Lf(nH) 184 130 92 92 2 電阻RKQ) 4 3 3 3 1 電極間的電容G(pF) 37 37 37 37 37 晶座電極8接地間的電容 Cs(pF) 2250 2250 2250 2250 2250 反應室壁等的電感Ls(nH) 268 268 268 268 43 電阻RS(Q) 2 2 2 2 1 電漿激發電極4接地間的電 容 Cs(pF) 980 980 250 180 180 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者,對這些實施例以及比較例的評價在800W、400W 的條件下進行SiNx膜的形成,對此SiNx膜的評價如以下來 進行。 (1)、沉積速度與膜面內均勻性 <1>在玻璃基板上利用電漿CVD形成SiNx膜。 <2>利用微影進行光阻的圖案形成。 <3>使用3?6與〇2對SiNx膜進行乾式蝕刻。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 <4>利用〇2灰化剝離光阻。 <5>利用觸針式層差計計測SiNx膜的膜厚層差。 <6>由成膜時間與膜厚算出沉積速度。 <7>膜面內均勻性在一邊的長度6英吋的玻璃基板面 內中以1 6點測定。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -158 - 529085 A7 B7 五、發明説明(156 ) (2) 、BHF蝕刻速率 與上述(1)的<1>〜<2〉一樣,形成光阻罩幕的圖案。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) <3>浸漬玻璃基板於25°C的BHF液(HF:NH4F=1:10的 混合液)一^分鐘。 <4>在純水洗淨後乾燥,以硫酸化水(h2S〇4 + H2〇2)剝離 光阻。 <5>與上述(1)的<5〉一樣計測層差。 <6>由浸漬時間與層差算出蝕刻速度。 再者,對這些實施例以及比較例的評價在800W、400W 的條件下進行SiNx膜的形成,對此SiNx膜的的評價如以下 來進行。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 529085 A7 B7 五、發明説明(157 ) 表3 比較例 實施例 實施例 實施例 實施 A A1 A2 A3 例A4 電源輸出(W) 800 800 800 800 800 沉積速度(nm/分)下限 30 100 100 100 100 〜上限 100 450 450 550 550 膜面內均勻性(%) >±10 〜± 10 〜± 10 ±5 土5 BHF蝕刻速率(nm/分) >200 〜200 〜200 〜50 〜50 絕緣耐壓(MV/cm) 〜4 〜7 〜7 〜9 〜9 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由這些結果關於第一串聯共振頻率f。的値與沉積速度 、膜面內均勻性、BHF飩刻速率、絕緣耐壓,得知當3f〇> h時沉積速度、絕緣耐壓被改善,當1.3f〇> f6時沉積速度、 絕緣耐壓更被改善,並且膜面內均勻性、BHF飩刻速率也 被改善。再者,得知當f〇>3h時以一半輸出的400W可進行 具有同樣膜特性的成膜。 即藉由設定第一串聯共振頻率f◦的値提高電漿處理裝 置的性能。 因此,得知可將第一串聯共振頻率f。當作性能評價的 指標。 經濟部智慧財產笱員工消費合作社印製 (實施例B1) 在上述電漿處理裝置中,實施例1B係依照式(10)設定 對電漿處理室的第一串聯共振頻率f。的最大値f。…與最小 値f〇min的偏差爲0.09。同時設定這些第一串聯共振頻率f〇 的平均値爲43MHz。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -160 - 529085 A7 B7 五、發明説明(158 ) (實施例B2) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在上述電漿處理裝置中,實施例2係依照式(1〇)設定對 對電漿反應室的第一串聯共振頻率f〇的最大値f〇max與最小 値f。一的偏差爲〇·〇2。同時設定這些第一串聯共振頻率f〇 的平均値爲43MHz。 (比較例B) 在上述電獎處理裝置中,比較例係依照式(1 〇)設定對對 電漿反應室的第一串聯共振頻率f。的最大値f〇max與最小値 的偏差爲0.11。同時設定這些第一串聯共振頻率fQ的 平均値爲43MHz。 在上述實施例B 1、B2以及比較例中,對實施例以及比 較例B的評價適用同一製程處理程式,沉積氮化矽膜,如 以下計測對各電漿處理室的膜厚偏差。 <1>在玻璃基板上利用電漿CVD形成SiNx膜。 <2〉利用微影進行光阻的圖案形成。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 <3>使用3?6與〇2對SiNx膜進行乾式鈾刻。 <4>利用〇2灰化剝離光阻。 <5>利用觸針式層差計計測SiNx膜的膜厚層差。 <6>由成膜時間與膜厚算出沉積速度。 <7>膜面內均勻性在6英吋玻璃基板面內中以1 6點測 疋。 此處,成膜時的條件爲 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 161 - 529085 A7 B7 五、發明説明(159 ) 基板溫度 350°C S1H4 40SCCM NH3 200SCCM N2 600SCCM 沉積速度大約200nm/min左右。 這些結果顯示於表4。 表4 沉積速度 (nm/min) 機差(%) 比較例Β 反應室1 181 8.6 反應室2 215 實施例Β 1 反應室1 195 4.9 反應室2 215 實施例Β 2 反應室1 207 1.9 反應室2 215 ——1 — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 由這些結果當設定第一串聯共振頻率f。的偏差値時, 獲知可改善因各電漿反應室的機差所造成的膜厚的偏差。 即藉由設定第一串聯共振頻率f。的値,提高電漿處理 裝置的動作特性。 因此,得知可將第一串聯共振頻率f。當作性能評價的 指標。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -162 - 529085 A7 B7 五、發明説明(160 ) 【發明的功效】 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如果依照本發明的電槳處理裝置或電槳處理系統的性 能評價方法,分解電漿處理裝置、實施傳送後再組裝,或 之後導入被處理物進行電漿處理,或當被實施分解掃除、 零件交換、組裝調整等的調整作業時,可迅速且簡便地確 認是否適當地維持電漿處理裝置或電漿處理系統的性能。 而且,在被實施分解電漿處理裝置、傳送後再組裝後 ,即在納入後,可迅速且簡便地確認是否適當地維持電漿 處理裝置或電漿處理系統的性能。 而且,如果依照本發明的電漿處理裝置的維修方法, 當電漿處理裝置的性能不被適當地維持時,可迅速地訂正 〇 而且,如杲依照本發明的電漿處理裝置或電漿處理系 統的性能管理系統,爲了在納入端適當地維持電漿處理裝 置的性能,可在製造者等的傳送源支援納入端中的電漿處 理裝置的性能評價,並且可在製造者等的傳送源調整充實 的維修服務體制。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,如果依照本發明的電漿處理裝置可簡便地維持 適當的動作狀態,可繼續進行良好的電漿處理。 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X 297公釐) _ 163 -

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 529p85 ! :ff: r 六、申請專利範圍 第9 0 1 2 1 6 9 4號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國9 1年12月2日修正 1、 一種電漿處理裝置的性能評價方法,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,求出在被設於連接於匹配電路 的輸出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該 電漿處理室的高頻特性A的時刻U與之後的時刻h中的 値A。、A!的差△ A的絕對値,當該値爲比預定値還小的 値時,判斷爲維持預定的性能,當該値爲預定値以上的値 時,判斷爲不維持預定的性能。 2、 一種電漿處理裝置的性能評價方法,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子’獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,求出在被設於連接於該高頻電 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) -----Γ--Γ--•裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 源的該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測 定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻to與之後的時刻 11中的値A 〇 ' A1的差△ A的絕對値’當該値爲比預定値還 小的値時,判斷爲維持預定的性能’當該値爲預定値以上 的値時,判斷爲不維持預定的性能。 3、 一種電漿處理裝置的性能評價方法,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在供給該高頻功率時,求出在被設於連接於該高頻功 率供電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的 高頻特性A的時刻U與之後的時刻h中的値A〇、A!的差 △ A的絕對値,當該値爲比預定値還小的値時,判斷爲維 持預定的性能,當該値爲預定値以上的値時’判斷爲不維 持預定的性能。 4、 如申請專利範圍第1項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻功 率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該 高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 5、 如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f '該高頻功 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -2 - 529085 A8 B8 ^ C8 __ _ D8 六、申請專利範圍 率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該 高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 6、如申請專利範圍第3項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻功 率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該 高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 7 '如申請專利範圍第1項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻t。與之後的時刻η之間,被處 理物被導入該電漿處理室內,對該被處理物進行電漿處理 〇 8、 如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置的性' 能評價方法,其中在時刻U與之後的時刻h之間,被處 理物被導入該電漿處理室內,對該被處理物進行電漿處理 〇 ίφ 9、 如申請專利範圍第3項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻t。與之後的時刻U之間,被處 理物被導入該電漿處理室內,對該被處理物進行電漿處理 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 10、 如申請專利範圍第丨項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻t〇與之後的時刻u之間,對該 電漿處理裝置實施分解掃除、零件交換、組裝調整等的調 整作業。 11 '如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻to與之後的時刻h之間,對該 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -3- 529085 A8 B8 C8 _____D8 六、申請專利範圍 電獎處埋裝置實施分解掃除、零件交換、組裝調整等的調 整作業。 1 2、如申請專利範圍第3項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻u與之後的時刻tl之間,對該 電漿處埋裝置實施分解掃除、零件交換、組裝調整等的調 整作業。 1 3、如申j靑專利範圍第1項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻t。與之後的時刻t!之間,實施 分解、傳送以及再組裝。 14、如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻U與之後的時刻η之間,實施 分解、傳送以及再組裝。 1 5、如申請專利範圍第3項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中在時刻t。與之後的時刻之間,實施 分解、傳送以及再組裝。 1 6、如申請專利範圍第1項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中具備在該電漿處理裝置記憶供給該高頻 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸入端子的該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該電漿處理室的高頻特性 A的時刻to中的値A。之伺服器、以通訊線路與此伺服器 連接的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性 A。的之後的時刻h中的値A !,演算該A ^與此A !的差 之△ A的絕對値,當該値爲比預定値還小的値時、爲預定 本餓旅尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4規格(210X297公嫠) ' : * 4 - ----- - I — f ! (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A8 B8 C8 D8 穴、申請專利乾圍 値以上的値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維 持預定性能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 7、如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中具備在該電漿處理裝置記憶供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻電源的該高頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該電漿處理室的高 頻特性A的時刻to中的値A。之伺服器、以通訊線路與此 伺服器連接的納入端輸入輸出裝置’其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該筒頻特性 A。的之後的時刻h中的値A !,演算該A ^與此A 1的差 之△ A的絕對値,當該値爲比該預定値還小的値時、爲預 定値以上的値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不 維持預定性能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 8、如申請專利範圍第3項所述之電漿處理裝置的性 能評價方法,其中具備在該電漿處理裝置記憶供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻功率供電體的該輸入端子 的測定位置測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻t〇 中的値A 〇之伺服器、以通訊線路與此伺服器連接的納入 端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收肆高頻特性 A。的之後的時刻h中的値A 演算該A ^與此A !的差 之△ A的絕對値,當該値爲比該預定値還小的値時、爲預 定値以上的値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不 維持預定性能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 9、如申請專利範圍第1 6項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器係每一個電漿處理室的固有 號碼記憶A ^,由納入端輸入輸出裝置接收所納入的電漿 處理室的固有號碼,使用對應該固有號碼的A。進行演算 〇 20、如申請專利範圍第1 7項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器係每一個電漿處理室的固有 號碼記憶A。,由納入端輸入輸出裝置接收所納入的電漿 處理室的固有號碼,使用對應該固有號碼的A ^進行演·算 〇 2 1、如申請專利範圍第1 8項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器係每一個電漿處理室的固有 號碼記憶A ^,由納入端輸入輸出裝置接收所納入的電漿 處理室的固有號碼,使用對應該固有號碼的A。進行演算 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 22、 如申請專利範圍第1 6項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該納入端輸入輸出裝置係連接連接於 電漿處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器 直接發送A 1。 23、 如申請專利範圍第1 7項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該納入端輸入輸出裝置係連接連接於 電漿處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器 直接發送A 1。 24、 如申請專利範圍第1 8項所述之電漿處理裝置的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -6- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 性能評價方法,其中該納入端輸入輸出裝置係連接連接於 電漿處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器 直接發送A 1。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 25、 如申請專利範圍第1 6項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器在傳送源中具備輸出裝置, 當△ A的絕對値超過預定値時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令。 26、 如申請專利範圍第1 7項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器在傳送源中具備輸出裝置, 當△ A的絕對値超過預定値時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令。 27、 如申請專利範圍第1 8項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器在傳送源中具備輸出裝置, 當△ A的絕對値超過預定値時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令。 28、 一種電漿處理裝置的性能管理系統,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵包含: 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶對應由在被設於 連接於匹配電路的輸出端子的該高頻功率配電體端部的測 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 529085 A8 B8 C8 _ D8 _ 々、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 定位置測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻to中的 値A 0、與各個預定値的範圍所決定的故障位準而登錄的 服務工程師資訊; 此伺服器的傳送源中的輸出裝置;以及 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接, 其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該局頻特性 A。的之後的時刻11中的値A !,演算該A 〇與此A !的差 之△ A的絕對値,當該値爲任何故障位準的預定値範圍時 ,由該輸出裝置輸出該故障位準、對應該故障位準而登錄 的服務工程師資訊以及維修作業命令。 29、一種電漿處理裝置的性能管理系統,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵包含: 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶對應由在被設於 連接於該高頻電源的該高頻功率供.電體的該高頻電源側端 部的測定位置測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻t〇 中的値A ^、與各個預定値的範圍所決定的故障位準而登 錄的服務工程師貪訊, 此伺服器的傳送源中的輸出裝置;以及 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4規格(21〇 X 297公釐) -8 - 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接, 其中 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性 A。的之後的時刻t!中的値A i,演算該A。與此A :的差 之△ A的絕對値,當該値爲任何故障位準的預定値範圍時 ,由該輸出裝置輸出該故障位準、對應該故障位準而登錄 的服務工程師資訊以及維修作業命令。 30、一種電漿處理裝置的性能管理系統,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵包含: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 伺服器,在供給該高頻功率時,記憶對應由在被設於 連接於該高頻功率供電體的該輸入端子的測定位置測定的 該電漿處理室的高頻特性A的時刻t。中的値A 〇、與各個 預定値的範圍所決定的故障位準而登錄的服務工程師資訊 ? 此伺服器的傳送源中的輸出裝置;以及. 納入端輸入輸出裝置,以通訊線路與此伺服器連接, 其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收該高頻特性 A 〇的之後的時刻h中的値A !,演算該A ^與此A !的差 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) : — -9 - 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之△ A的絕對値,當該値爲任何故障位準的預定値範圍時 ,由該輸出裝置輸出該故障位準、對應該故障位準而登錄 的服務工程師資訊以及維修作業命令。 3 1、如申請專利範圍第28項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 32、 如申請專利範圍第29項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 33、 如申請專利範圍第30項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 34、 如申請專利範圍第28項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該伺服器係每一個電漿處理室的固有 號碼記憶A ^,由納入端輸入輸出裝置接收所納入的電漿 處理室的固有號碼,使用對應該固有號碼的A ^進行演算 〇 35、 如申請專利範圍第29項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該伺服器係每一個電漿處理室的固有 號碼記憶A。,由納入端輸入輸出裝置接收所納入的電漿 處理室的固有號碼,使用對應該固有號碼的A ^進行演算 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) : -10- 529085 A8 B8 C8 __ D8 六、申請專利範圍 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 6、如申請專利範圍第3 0項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該伺服器係每一個電漿處理室的固有 號碼記憶A ^,由納入端輸入輸出裝置接收所納入的電漿 處理室的固有號碼,使用對應該固有號碼的A。進行演算 〇 37、如申請專利範圍第28項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該納入端輸入輸出裝置係連接連接於 電漿處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器 直接發送A i。 3 8、如申請專利範圍第29項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該納入端輸入輸出裝置係連接連接於 電漿處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器 直接發送A :。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 39、 如申請專利範圍第30項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該納入端輸入輸出裝置係連接連接於 電漿處理裝置的的阻抗測定器,由阻抗測定器對該伺服器 直接發送A i。 40、 如申請專利範圍第28項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該伺服器也將該故障位準發送到該納 入端輸入輸出裝置。 4 1、如申請專利範圍第29項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該伺服器也將該故障位準發送到該納 入端輸入輸出裝置。 本^張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " ' 一 -11 - 529085 A8 B8 C8 D8 _ 々、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 42、 如申請專利範圍第30項所述之電漿處理裝置的 性能管理系統,其中該伺服器也將該故障位準發送到該納 入端輸入輸出裝置。 43、 一種電漿處理裝置,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,維持在被設於連接於匹配電路 的輸出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該 電漿處理室的高頻特性A的時刻t〇與之後的時刻η中的 値A。、A1的差△ Α的絕對値於比預定値還小的値。 44、 一種電獎處理裝置,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’其特徵爲: 在供給該高頻功率時,維持在被設於連接於該高頻電 源的該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置’ 測定的該電漿處理室的高頻特性A的時刻to與之後的時 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 刻h中的値A。、Αι的差△ A的絕對値於比預定値還小的 値。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 45、 一種電漿處理裝置的性能評價方法,係具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,維持在被設於連接於該高頻功 率供電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的 高頻特性A的時刻U與之後的時刻h中的値A〇、A!的差 △ A的絕對値於比預定値還小的値。 46、 如申請專利範圍第43項所述之電漿處理裝置, 其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻功率的頻率中的 阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該高頻功率的頻 率中的電抗X的任一個。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 47、 如申請專利範圍第44項所述之電漿處理裝置, 其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻功率的頻率中的 阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該高頻功率的頻 率中的電抗X的任一個。 48、 如申請專利範圍第45項所述之電漿處理裝置, 其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻功率的頻率中的 阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或該高頻功率的頻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -13- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 率中的電抗X的任一個。 49、一種電漿處理裝置的性能確認系統,其特徵包含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第43項所述 之電漿處理裝置的時刻t。與之後的時刻中可計測的動 作性能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 5 0、一種電漿處理裝置的性能確認系統,其特徵包含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第44項所述 之電漿處理裝置的時刻U與之後的時刻^中可計測的動 作性能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載A的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 5 1、一種電漿處理裝置的性能確認系統,其特徵包含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第45項所述 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14- 529085 A8 B8 C8 D8 __ 六、申請專利範圍 之電漿處理裝置的時刻to與之後的時刻b中可計測的動 作性能狀況之性能狀況資訊的閱覽; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 5 2、一種電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源 將具備: _ 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再 組裝後,其特徵爲: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該電漿 處理室的第一串聯共振頻率f。的納入後的値的3倍, 當爲比該高頻功率的功率頻率h還大的値時,判斷爲維 持預定的性能,當爲該功率頻率h以下的値時,判斷爲 不維持預定的性能。 53、一種電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公嫠1 一 ' -- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電發的電極; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端’在該納入端再 組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該複數 個電漿處理室的第一串聯共振頻率h的納入後的値f()1的 3倍,當爲比該高頻功率的功率頻率h還大的値時,判斷 爲維持預定的性能,當爲該高頻功率的功率頻率L以下 的値時,判斷爲不維持預定的性能。 5 4、一種電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源 將具備: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入 端再組裝後,其特徵爲: 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 H !!= - .......... 1— II·-二 I - ---- .....I (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該複數 個電漿處理室的高頻特性A的納入後的値A!的偏差A:r 係由 其最大値Απ^與最小値Απ^η定義成 Air— (Almax - Almin)/(Almax + Almin) 當値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的 性能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 5 5、一種電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源 將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再 組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該複數個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値A1的偏差A w係由 其最大値與最小値Am定義成 Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 當Aw値爲比預定値還小的値時’判斷爲維持預定的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -17- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 性能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 56、 一種電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源 將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, — 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入端再 組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測定的 該複數個電漿處理室的高頻特性A的納入後的値A:的偏 差A! r係由 其最大値Amu與最小値Amin定義成 Alr=(Almax - Almin) / (Alraax + Almin) 當An値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的 性能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 57、 如申請專利範圍第54項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 58、 如申請專利範圍第55項所述之電漿處理裝置的 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' " -18 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、π 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本覓) 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 5 9、如申請專利範圍第5 6項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 60、一種電漿處理裝置的性能評價方法,係在傳送源 將具備: - 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配,的電漿處理裝置分解後傳送到納入端,在該納入 端再組裝後,其特徵爲: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該複數 個電漿處理室的第一串聯共振頻率f()的納入後的値f()1的 偏差f。1 r係由 其最大値f。^〃與最小値f°lmin定義成 f〇lr=( foi.ax- f〇lmin)/( f〇l-x+ foi-n) 當値爲比預定値還小的値,且納入後的値&的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率L還大的値時,判斷爲 本紙張尺度適用中關家標準(CNS ) A4規格(21GX297公釐)-19 - A8 B8 C8 D8 529085 六、申請專利範圍 維持預定的性能,當f。h値爲預定値以上的値’或納入後 的値f。!的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率L以 下的値時,判斷爲不維持預定的性能。 6 1、一種電漿處理裝置的性能評價方法’係在傳送源 將具備: 複數個電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 言亥電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子’獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端’在該納入端再 組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時’在被設於連接於該筒頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該複數個電漿處理室 的第一串聯共振頻率fo的納入後的値hi的偏差fair係由 其最大値與最小値hlmin定義成 f〇lr=( f〇l …-f〇lmin)/( …+ f〇lmin) 當値爲比預定値還小的値’且納入後的値的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率還大的値時,判斷爲 維持預定的性能,當f。^値爲預定値以上的値’或納入後 的値f。!的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率以 下的値時,判斷爲不維持預定的性能。 62、一種電漿處理裝置的性能評價方法’係在傳送源 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇x297公釐) -20- 529085 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 將具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 高頻電源,用以供給高頻功率到各個電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ 的電漿處理裝置分解後傳送到納入端’在該納入端再 組裝後,其特徵爲: ' 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測定的 該複數個電漿處理室的第一串聯共振頻率f()的納入後的 値f。1的偏差f。1 r係由 其最大値(與最小値foimin定義成 f〇lt=( f〇lmax- f〇lmin)/( f〇lmax+ foimin) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當値爲比預定値還小的値,且納入後的値f(M的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率h還大的値時’判斷爲 維持預定的性能,當f ο 1 ^•値爲預定値以上的値’或納入後 的値f。!的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率fe以 下的値時,判斷爲不維持預定的性能。 63、 如申請專利範圍第60項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該預定値爲〇. 1。 64、 如申請專利範圍第6 1項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該預定値爲〇. 1。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -21 - 529085 A8 B8 C8 D8 ^、申請專利範圍 65、 如申請專利範圍第62項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該預定値爲〇. 1。 66、 一種電漿處理系統的性能評價方法,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該電漿 處理室的高頻特性A的納入後的値A!的偏差係由 其最大値〃與最小値Amin定義成 Alr=(Alniax - Almin)/(Almax + Almin) 當A ^値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的 性能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 67、 一種電漿處理系統的性能評價方法,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -22- 529085 A8 B8 C8 __ ___ D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) g亥電極的筒頻功率配電體連接於g亥輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的高頻 特性A的納入後的値A!的偏差Aw係由 其最大値A…與最小値A…定義成 - Alr=(Almax-Almin) / (Almax + Almin) 當Ah値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的 性能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 68、一種電漿處理系統的性能評價方法,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介高 頻功率供電體將該局頻電源連接於3亥輸入贿子’獲得δ亥電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ 的電獎處理裝置之電獎處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後’其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電'源丨則端部的、測定位置、測定的 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 529085 A8 B8 C8 _ _ D8 六、申請專利範圍 該電漿處理室的高頻特性A的納入後的値A!的偏差Alr 係由 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其最大値Am 〃與最小値Amin定義成 Air— (Almax-Almin) / (Almax + Almin) 當Ah値爲比預定値還小的値時,判斷爲維持預定的 性能,爲預定値以上的値時,判斷爲不維持預定的性能。 69、 如申請專利範圍第66項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 70、 如申請專利範圍第67項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該局頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7 1、如申請專利範圍第68項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 72、 如申請專利範圍第66項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該預定値爲0.1。 73、 如申請專利範圍第67項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該預定値爲0· 1。 7 4、如申請專利範圍第6 8項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該預定値爲0.1。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 〇/1 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 7 5、一種電漿處理系統的性能評價方法,係在傳送源 將配設複數個具備: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子’獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於匹配電路的輸 出端子之該高頻功率配電體端部的測定位置測定的該電漿 處理室的第一串聯共振頻率fa的納入後的値foi的偏差 f。1 r係由 其最大値f。1 π a x與最小値f。1 m i n定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lmin)/( f〇lmax~l· foimin) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當値爲比預定値還小的値,且納入後的値f(H的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率還大的値時,判斷爲 維持預定的性能,當f。^値爲預定値以上的値,或納入後 的値f。!的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率以 下的値時,判斷爲不維持預定的性能。 76、一種電漿處理系統的性能評價方法,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) "~' 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ^ 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後’其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻功率供 電體的該輸入端子的測定位置測定的該電漿處理室的第一 串聯共振頻率f〇的納入後的値f(H的偏差f〇h係由 其最大値f 0 1 m a x與最小値f。1 m 1 n定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lmin)/( f〇lmax+ foimin) 當値爲比預定値還小的値,且納入後的値的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率L還大的値時’判斷爲 維持預定的性能,當^値爲預定値以上的値’或納入後 的値f"的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率h以 下的値時,判斷爲不維持預定的性能。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 77、一種電漿處理系統的性能評價方法’係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源’用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子’藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子’並且中介® 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子’獲得該電 -26- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X297公董) 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲: 在供給該高頻功率時,在被設於連接於該高頻電源的 該高頻功率供電體的該高頻電源側端部的測定位置測定的 該電漿處理室的第一串聯共振頻率f。的納入後的値f(M的 偏差f。1 r係由 其最大値foiniax與最小値foimin定義成 f〇lr=( f〇lmax- f〇lrain)/( f〇lraax+ foiniin) 當f。^値爲比預定値還小的値,且納入後的値f。!的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率L還大的値時,判斷爲 維持預定的性能,當h h値爲比預定値以上的値,或納入 後的値的任一個的3倍都爲該高頻功率的功率頻率f6 以下的値時,判斷爲不維持預定的性能。 78、 如申請專利範圍第75項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該預定値爲〇. 1。 79、 如申請專利範圍第76項所述之電漿處理系統的 性能g平價方法,其中該預定値爲〇. 1。 80、 如申請專利範圍第77項所述之電漿處理系統的 性能評價方法,其中該預定値爲〇. 1。 8 1、如申請專利範圍第52項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中具備將由該高頻電源供給電漿處理室 的功率頻率記憶於該電漿處理裝置的伺服器、以通訊 線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出裝置,其中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A*規格(21〇χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -27- 529085 A8 B8 C8 D8 夂、申請專利範圍 ------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時’在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該電漿處理室的第一串聯 共振頻率f〇的納入後的値fw,當納入後的値的3倍爲 比該功率頻率f£還大的値時、當納入後的値f(H的3倍爲 該功率頻率f6以下的値時,分別將維持預定性能的意旨 之訊號、不維持預定性能的意旨之訊號發送到納入端輸入 輸出裝置。 82、 如申請專利範圍第81項所述之電漿處理裝置·的 性能評價方法,其中該伺服器在傳送源中具備輸出裝置, 當納入後的値的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻 率L以下的値時,由該輸出裝置輸出維修作業命令。 83、 如申請專利範圍第53項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中具備將由該高頻電源供給電漿處理室 的功率頻率fe記憶於該電漿處理裝置的伺服器、以通訊 線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出裝置,其中 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的第一 串聯共振頻率f。的納入後的値f。1,當納入後的値f 1的3 倍都爲比該高頻功率的功率頻率還大的値時、當納入 後的値的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻率L以 下的値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預 定性能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐) -28- 529085 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 84、 如申請專利範圍第83項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該伺服器在傳送源中具備輸出裝置, 當納入後的値的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻 率ί%以下的値時,由該輸出裝置輸出維修作業命令。 85、 如申請專利範圍第54項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該電漿處理裝置具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻 特性Α的納入後的値Α!以及各個電漿處理室的固有號碼 ,此値A1的偏差A ^係由 其最大値Aw與最小値Amin定義成 A-lr— (Alrnax ~A.lmin) / (A-lmax^Altnin) 當Ah値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令以及給予該最大値A…或最小値A m i n的電獎處理 室的固有號碼。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 86、 如申請專利範圍第55項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該電漿處理裝置具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置’其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻功率供電體的該輸入端子 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐) 529085 A8 B8 C8 D8 ~、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻特性A的納 入後的値A:以及各個電漿處理室的固有號碼’此値Αι的 偏差A η係由 其最大値A…與最小値Amin定義成 Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 當Ah値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令以及給予該最大値Amax或最小値Amin的電槳處理 室的固有號碼。 87、 如申請專利範圍第56項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該電漿處理裝置具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該局頻 功率時,在被設於連接於該高頻電源的該尚頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該各個電漿處理室 的高頻特性A的納入後的値Αι以及各個電獎處理室的固 有號碼,此値A!的偏差係由 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其最大値Amax與最小値Amin疋義成 Air 二(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 當Ah値爲預定値以上時’由該輸出裝置輸出維修作 業命令以及給予該最大値Am或最小値Amin的電漿處理 室的固有號碼。 88、 如申請專利範圍第85項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~~ " 529085 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 89、如申請專利範圍第86項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 9〇、如申請專利範圍第87項所述之電漿處理裝置的 性能評價方法,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 9 1、一種電漿處理系統的性能管理系統,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 手/t 酉己, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲: 具備記憶由該高頻電源供給電漿處理室的功率頻率 的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接的納入端輸入輸出 裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐) -31 - Α8 Β8 C8 D8 529〇85 六、申請專利範圍 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 # gg電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的第一 串聯共振頻率fo的納入後的値f(H,當納入後的値f(H的3 #都爲比該高頻功率的功率頻率G還大的値時、當納入 #的値f(M的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻率f。以 γ的値時,分別將維持預定性能的意旨之訊號、不維持預 $性能的意旨之訊號發送到納入端輸入輸出裝置。 92、如申請專利範圍第9 1項所述之電漿處理系統的 性能管理系統,其中該伺服器在傳送源中具備輸出裝置, 當納入後的値f。!的任一個的3倍爲該高頻功率的功率頻 率h以下的値時,由該輸出裝置輸出維修作業命令。_ 9 3、一種電漿處理系統的性能管理系統,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由該輸入端 子連接該高頻電源,並且連接於該電極的高頻功率配電體 連接於該輸出端子,獲得該電漿處理室與該高頻電源的阻 抗匹配, 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ’在日亥納入辆再組裝後’其特徵爲具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 δ亥伺服益由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21〇χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -32- ABCD 529085 六、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 功率時,在被設於連接於匹配電路的輸出端子之該高頻功 率配電體端部的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻 特性A的納入後的値A1以及各個電漿處理室的固有號碼 ,此値A!的偏差係由 其最大値Aw與最小値Amin定義成 Alr=(Almax _Almin)/(Almax + Almin) 當A h値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令以及給予該最大値A…或最小値ΑπΗη的電漿處理 室的固有號碼。 — 94、一種電漿處理系統的性能管理系統,係在傳送源 將配設複數個具備: 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子,獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲具備: 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該尚頻 功率時,在被設於連接於該高頻電源的該高頻功率供電體 的該高頻電源側端部的測定位置測定的該各個電漿處理室 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -33 - 529085 A8 B8 C8 D8 七、申請專利範圍 的高頻特性A的納入後的値Al以及各個電漿處理室的固 有號碼,此値Α ϊ的偏差A1 r係由 其最大値Am 〃與最小値A…定義成 Alr=(Almax-Almin)/(Almax + Almin) 當A 〃値爲預定値以上時’由該輸出裝置輸出維修作 業命令以及給予該最大値Amax或最小値Amin的電漿處理 室的固有號碼。 95、一種電漿處理系統的性能管理系統,係在傳送源 將配設複數個具備: - 電漿處理室,具有用以激發電漿的電極; 高頻電源,用以供給高頻功率到該電極;以及 匹配電路,具有輸入端子與輸出端子,藉由將連接於 該電極的高頻功率配電體連接於該輸出端子,並且中介高 頻功率供電體將該高頻電源連接於該輸入端子’獲得該電 漿處理室與該高頻電源的阻抗匹配’ 的電漿處理裝置之電漿處理系統分解後傳送到納入端 ,在該納入端再組裝後,其特徵爲具備: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 具備輸出裝置的伺服器、以通訊線路與此伺服器連接 的納入端輸入輸出裝置,其中 該伺服器由該納入端輸入輸出裝置接收在供給該高頻 功率時,在被設於連接於該高頻功率供電體的該輸入端子 的測定位置測定的該各個電漿處理室的高頻特性A的納 入後的値A!以及各個電漿處理室的固有號碼’此値Al的 偏差A 〃係由 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X:297公釐) -34- 529085 A8 B8 C8 D8 、申請專利乾圍 其最大値Amu與最小値Amin定義成 Alr=(Alniax_Almin)/(Almax + Almin) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 當Ah値爲預定値以上時,由該輸出裝置輸出維修作 業命令以及給予該最大値A…或最小値A…的電漿處理 室的固有號碼。 9 6、如申請專利範圍第9 3項所述之電漿處理系統的 性能管理系統,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該商頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 _ 9 7、如申請專利範圍第9 4項所述之電獎處理系統的 性能管理系統,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的頻率中的電抗X的任一個。 98、 如申請專利範圍第95項所述之電漿處理系統的 性能管理系統,其中該高頻特性A爲共振頻率f、該高頻 功率的頻率中的阻抗Z、該高頻功率的頻率中的電阻R或 該高頻功率的龄率中的電抗X的任一個。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 99、 如申請專利範圍第92項所述之電漿處理系統的 性能管理系統,其中該預定値爲〇. 1。 1 00、如申請專利範圍第94項所述之電漿處理系統的 性能管理系統,其中該預定値爲〇. 1。 1 0 1、如申請專利範圍第9 5項所述之電漿處理系統的 性能管理系統,其中該預定値爲〇」。 102、一種電漿處理裝置,其特徵包含: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -35- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 購入訂購者側資訊終端’經由公用線路 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍 ^ mmm的電漿處理裝置或電 送j原5?解後傳送到納入端,在該納入端再組 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性會g 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 要求顯示購入 第90項所述 漿處理系統傳 裝後的動作性 購者側資訊終 向上載入的性 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 【裝. 103、一種電漿處理裝置,其特徵包含 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、v*t» 態管理 4::知- 者側資 維修者 系統管 送到納 狀況資 者側資 及 資訊提 販賣維 購入訂 104、一種電漿處理裝置: 購入訂購者側資訊終端, 訂購者自販賣維修者訂購的如 訊終端 訂購的如 理的電漿 入端,在 訊的閱覽; 訊終端,販賣維修者向上載入該性會g 供手段, 修者側資 購者側資 購入訂購 f 丁購者自販賣 送後傳 能狀況之性能 販賣維修 狀況資訊;以 性能狀況 端的要求,自 能狀況資訊給 經由公用線路 申請專利範圍 處理裝置或電 該納入端再組 響應該購入訂 訊終端提供被 訊終端。 其特徵包含: 經由公用線路 申請專利範圍 曾求顯杀購入 第93項所述 漿處理系統傳 裝後的動作性 購者側資訊終 向上載入的性 要求顯示購入 第9 4項所述 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(21〇X297公釐) -36- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 /¾¾)¾能管理系統管理的電漿處理裝置或電漿處理系統傳曼.^>、 送傳送到納入端,在該納入端再組裝後的動作性 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端° 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 105、 一種電漿處理裝置,其特徵包含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第 生、、能管理系統管理的電漿處理裝置或電漿 送源傳送到納入端,在該納入端再組裝 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 106、 一種電漿處理系統的性能確認系統, 含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要 訂購者良販賣維修者訂購的如申請專利範圍第 漿處理裝置或電漿
    本紙張尺度適用中屬國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 求顯示購入 95項所述 處理系統傳 後的動作性 載入該性能 者側資訊終 上載入的性 其特徵包 求顯示購入 90項所述 處理系統傳 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 【裝· 、1T -37- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 送源分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝後的動作性 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 1 07、一種電漿處理系統的性能確認系統,其特徵包 含: - 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第93項所述 能管理系統管理的電漿處理裝置或電漿處理系統傳 送麦傳送到納入端,在該納入端再組裝後的動作性 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 1〇8、一種電漿處理系統的性能確認系統,其特徵包 含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第94項所述 管理系統管理的電獎處理裝置或電獎處理系統傳 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) •38- 529085 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 送源分解後傳送到納入端,在該納入端再組裝後的動作性 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 1 09、一種電漿處理系統的性能確認系統,其特徵包 含: 購入訂購者側資訊終端,經由公用線路要求顯示購入 訂購者自販賣維修者訂購的如申請專利範圍第9 5項所述 5之鲜,性與管理系統管理的電漿處理裝置或電漿處理系統傳 送源芬、jf後傳送到納入端,在該納入端再組裝後的動作性 能狀況之性能狀況資訊的閱覽; 販賣維修者側資訊終端,販賣維修者向上載入該性能 狀況資訊;以及 性能狀況資訊提供手段,響應該購入訂購者側資訊終 端的要求,自販賣維修者側資訊終端提供被向上載入的性 能狀況資訊給購入訂購者側資訊終端。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -39-
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