JP4989276B2 - 測定システム - Google Patents
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Description
5 被測定体
5a インシュレータ(チャンバ内部品、被測定体)
5b 静電チャック(チャンバ内部品、被測定体)
9 基板処理装置
10 チャンバ
11 上部電極
12 下部電極
13、14 高周波電源
15 ガス供給経路
16 ガス排気経路
20 筐体
23 蓋体
25、80、80a〜80i 電極
30 インピーダンス計測器
33、34 導電線
35、35a〜35i、61、64 給電棒
40 スポーク電極
42 外周電極
45 円柱形状の孔
46 結合用部材
50 スリット
51 給電棒の先細の先端部
55 絶縁体
56 給電棒の端部
57a〜57i、93、94 端子
60、100 第1の電極
70 導体
71 誘電体
75 支持体
90 切替器
92 樹脂製の環状の支持台
96、98 接続先を変更可能な導電線
100A 電極の先端部
103 第2の電極
104 樹脂製の台
A1 絶縁体
A2 壁部
T1、T2 ねじ山
W 基板
Claims (9)
- 被測定体のインピーダンスを測定する測定システムであって、
インピーダンス計測器と、
接地された導体で形成された、被測定体を内部に配置可能な筐体と、
前記インピーダンス計測器に接続された給電棒と、
被測定体に接続可能な電極と、を有し、
前記給電棒は、前記筐体の底面の中央部を貫通し、前記筐体の外部および内部の両方にまたがって配置され、
前記電極は、前記給電棒の端部に、前記筐体の底面と平行に固定され、
前記インピーダンス計測器から前記給電棒を介して前記電極に高周波電力を供給し、測定されたインピーダンスの値から被測定体の誘電正接もしくは抵抗率が測定され、
前記高周波電力の周波数は、前記被測定体が半導体処理装置に用いられる際に印加される周波数と同じ値であることを特徴とする、測定システム。 - 前記被測定体は、半導体処理装置における絶縁体で構成されたチャンバ内部品であることを特徴とする、請求項1に記載の測定システム。
- 前記被測定体は、半導体処理装置における誘電体で覆われた導体であることを特徴とする、請求項1に記載の測定システム。
- 前記電極は、放射形状であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の測定システム。
- 前記筐体の底面に、前記被測定体を支持する環状の導体の支持体を設け、
前記支持体は、前記インピーダンス計測器に接続され、
前記電極は、円板形状であり、かつ、周囲を前記支持体に囲まれていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の測定システム。 - 被測定体のインピーダンスを測定する測定システムであって、
インピーダンス計測器と、
接地された導体で形成された、被測定体を内部に配置可能な筐体と、
前記インピーダンス計測器に接続された複数の給電棒と、
被測定体に接続可能な複数の電極と、
前記複数の電極のうち、選択された電極だけが前記インピーダンス計測器に接続されるように切替可能な切替器と、を有し、
前記複数の給電棒は、前記筐体の底面を貫通し、前記筐体の外部および内部の両方にまたがって配置され、
前記複数の電極は、前記複数の給電棒の端部に、前記筐体の底面と平行に固定され、
前記インピーダンス計測器から前記複数の給電棒を介して、選択された電極に高周波電力を供給し、測定されたインピーダンスの値から被測定体の誘電正接もしくは抵抗率が測定され、
前記高周波電力の周波数は、前記被測定体が半導体処理装置に用いられる際に印加される周波数と同じ値であることを特徴とする、測定システム。 - 前記被測定体は、半導体処理装置における誘電体で覆われた導体であることを特徴とする、請求項6に記載の測定システム。
- 被測定体のインピーダンスを測定する測定システムであって、
インピーダンス計測器と、
前記インピーダンス計測器に接続された、被測定体に接続可能な第1及び第2の電極と、を有し、
前記第2の電極は、前記第1の電極を覆う環状に構成され、
前記インピーダンス計測器から前記第1の電極および前記第2の電極の間に高周波電力を供給し、測定されたインピーダンスの値から被測定体の誘電正接もしくは抵抗率が測定され、
前記高周波電力の周波数は、前記被測定体が半導体処理装置に用いられる際に印加される周波数と同じ値であることを特徴とする、測定システム。 - 前記電極に高周波電力を供給し、反射係数を求めることにより、インピーダンスを測定することを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の測定システム。
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