TW527449B - Saucer for escaped melt in apparatus for pulling up single crystal - Google Patents
Saucer for escaped melt in apparatus for pulling up single crystal Download PDFInfo
- Publication number
- TW527449B TW527449B TW090104853A TW90104853A TW527449B TW 527449 B TW527449 B TW 527449B TW 090104853 A TW090104853 A TW 090104853A TW 90104853 A TW90104853 A TW 90104853A TW 527449 B TW527449 B TW 527449B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- single crystal
- tray
- pulling
- leakage tray
- crucible
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B15/00—Drawing glass upwardly from the melt
- C03B15/02—Drawing glass sheets
- C03B15/10—Drawing glass sheets multi-layer glass sheets or glass sheets coated with coloured layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B35/00—Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
- Y10T117/1052—Seed pulling including a sectioned crucible [e.g., double crucible, baffle]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527449 A7 ------ —_B7_____ 五、發明說明(1 ) 【技術領域】 本發明係有關以邱克拉爾斯基法(C Z法)來成長單晶棒 的c Z法拉單晶裝置的構造。 【技術背景】 兹舉採用於製造半導体矽單晶的先行cz法拉單晶裝置 爲例’以第3圖加以說明。如第3圖所示,此CZ法拉單晶 裝置30係由拉晶室(chamber)31 、及設於拉晶室31中的增 堝32、及配置於坩堝32周圍的加熱器(Heater)34、及使坩 禍32迴轉的坩堝支撐軸33與其迴轉機構(未圖示)、及掐持 石夕晶種5的晶種掐具(S e e d C h u c k) 6、及將晶種掐具6上拉的 鋼絲(Wire)7 、及將鋼絲7迴轉和捲起的捲取機構(未圖示) 所構成。坩堝3 2在其內側設有容納原料矽融液2的石英坩 堝、在其外側設有石墨坩堝。又,加熱器34的外側周圍配 置加熱器隔熱材料。 其次說明上述CZ法拉單晶裝置30的單晶培育方法。 首先在坩堝32內將高純度多晶原料加熱到融點(約i 420°C) 以上使其融解。然後,將鋼絲7捲出使晶種5的前端接觸或 浸漬於融液2表面3的約中心部。之後,將坩渦支撐軸3 3 向適當方向迴轉,同時將鋼絲7向與坩堝3 2相反的方向迴 轉,並一面捲起拉上晶種5 ,以開始單晶培育。其後,適 當調節鋼絲7的上拉速度和融液溫度即可獲得略圓柱狀的 單晶棒1。 上述拉單晶裝置的石英坦堝及石墨i甘堝皆具有高耐熱 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------裝---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂--------- 527449 A7 B7 五、發明說明(2 ) 性,但較脆弱,缺乏耐衝擊性爲其缺點。因此拉單晶之際 ,將多晶原料裝塡於坩堝中加熱熔融時,熔融中的多晶塊 在坩渦內崩裂,其衝擊有時會使坩堝破損或龜裂,從該處 可能漏出融液。又,爲提升單晶培育的效率,於拉晶後不 讓殘留融液固化就再裝塡多晶原料,從一個石英坩堝獲得 複數單晶棒的多重拉法(Multiple CZ Method)也廣泛被應用 i ,惟此時的多晶原料再裝塡,有可能招致坩堝破損或融液 飛濺等,於作業中砂融液流失到坩堝外的情形◦又,雖爲 罕事,如因地震等使上拉裝置有大的搖震時,上拉機受到 左右大振擺,也有可能使坩堝內的融液流出坩堝外。再者 ,坩堝因使用而逐漸劣化,或上拉中單晶掉落時,坩堝會 被破壞,容納於坩渦內的融液也有可能幾乎全部流出。 像這樣,高溫的融液流出、飛.濺到坩渦外時,從坩堝 周圍到拉晶室的底部會被侵蝕,包括拉晶室底部和加熱器 用端子部以及坩堝支撐軸等的金屬部分及坩堝驅動裝置, 以及爲冷卻拉晶室所配設的下部冷卻水配管等。尤其加熱 到高溫的矽融液對金屬的侵蝕作用強,故冷卻水配管有可 能被侵蝕。又,溢出拉晶室外時對作業人員和機器也會有 不良影響。 爲此,例如特開平9-22 1 3 85號公報所揭露的拉單晶裝 置,係在坩堝下部配設具有能容納全部熔融原料的內容積 的無接縫一体成形的漏液托盤,以期迴避這樣的問題。 然而,這樣的漏液托盤,因托盤底部與側部爲完全一 体成形,隨著培育單晶的大型化及拉單晶裝置的大型化, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· I I . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -5^ 527449 Α7 Β7 五、發明說明(3 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 材料上變爲非常高價的東西。又,托盤底部與側部以壓入( 接合面漸細(Taper)嵌入)方式嵌合的一体成形時,如果壓入 不夠緊,因矽的比重(融液)爲2.5 4,而石墨的比重爲1.9左 右,所以當托盤內積留矽融液後,側部從嵌合處浮起以致 融液流出的可能性很高。 【發明的揭露】 因此,本發明鑒於此等先行的問題點而硏發,主要目 的在於提供當CZ法拉單晶裝置受某種原因以致融液流出坩 渦外時,可防止該漏液到達金屬零件和配管所構成的下部 機構’並可防範對作業人員和周邊機器造成不良影響的拉 單晶裝置的漏液托盤。 爲解決上述課題,有關本發明的拉單晶裝置的漏液托 盤’係配設於邱克拉爾斯基法的拉單晶裝置的拉晶室底部 的坩堝下部的漏液托盤,該漏液托盤至少由底部與筒部所 構成’底部與筒部係以螺合或用直栓螺絲予以接合爲其龙 徵。 . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如此構成的漏液托盤,即使爲大型的托盤也至少由底 部與筒部的兩零件以螺合或用直栓螺絲予以組合而成,故 與一体成形比較,可用小型的原材料製作零件,顯著提升 石墨材料的用料產率,降低製造成本。又,即使坩堝發生 漏液積留在托盤,也不致有筒部浮起等托盤分解成零件之 事’能夠確實迴避融液漏出托盤外的事件。 此情形下,漏液托盤可以由石墨材料製托盤本体及敷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) Γ^Γ 527449
貼於本体內面的耐熱材料所構成。 如此作法,能以石墨材料製托盤本体來確保托盤強度 及形狀精度,並以敷貼於本体內面的耐熱材料來抑制漏出 而積留的高溫融液的熱能移動,俾減低拉晶室的熱負荷, 以迴避拉晶室的破損。 而且此情形下,可以採用等方性石墨爲石墨材料,以 碳纖維成形材料爲耐熱材料。 如此使用等方性石墨爲石墨材料時,強度及耐熱性優 良,而且形狀尺寸精度高,形狀安定性優異,因此能夠作 成螺絲螺進的漏液托盤。又,使用碳纖維成形材料爲耐熱 材料時,耐熱材料能夠作成符合石墨材料製托盤本体形狀 的一体成形體,也容易作成零件後予以接合。 再者此情形下,漏液托盤以具有至少能容納全部熔融 原料的內容積爲宜。 如此作法,萬一堪渦破損或單晶掉下,以致融液幾乎 全部流入托盤,也不會流失到托盤外,能夠保護拉晶室內 的下部機構和拉晶室外的作業人員與機器類。此情形下, 從矽的融液比重較固体比重重可知,不得不充分考慮固化 時的体積膨脹。 又,具備上述漏液托盤的拉單晶裝置,即使融液流出 坩堝外,也能防止其到達金屬零件和配管所構成的下部機 構,而且使用具備漏液托盤的拉單晶裝置的拉單晶方法, 能於進行拉單晶時不讓作業人員和周邊機器受到不良影響 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 χ 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------^--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527449 A7 -----~—— R7____ 五、發明說明(5 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如以上所詳述,本發明的CZ法拉單晶裝置,在其敷貼 有耐J材料的等方性石墨製漏液托盤,即使因某種原因以 4 _液k出坦堝外時,也能夠以漏液托盤將之完全接住, 可以防止其流出外面。因此防範融液到達冷卻水配管等的 金屬部’獲得能夠迴避拉晶室的破損於未然的效果。 又’此漏液托盤係至少由底部和筒部接合組裝而成, I因此原材料容易能以廉價供應,也可充分順應拉單晶裝置 的大型化’構造簡單製作也容易,因此能夠降低成本。再 者’因內面敷貼耐熱材料’即使發生漏液,從托盤流出的 熱量少’可減低對拉晶室的熱負荷·,以迴避拉晶室的破損 等。 【圖面的簡單說明】 【第1圖】有關本發明實施形態的拉單晶裝置的說明 圖。 (a)斷面槪要圖、(b)部分平面圖 【第2圖】本發明實施形態的漏液托盤之例的說明圖 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (a)漏液托盤斷面槪要圖、(b)底部與筒部接合方式之部 分斷面圖、(b’)別種底部與筒部接合方式之部分斷面圖、(c) 車由袖管例之部分斷面圖。 【第3圖】先行的CZ法所使用拉單晶裝置說明圖。 【第4圖】試驗實施例1和比較例的漏液托盤之筒部與 底部接合方式有效性的實驗方法說明圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -8^ 527449 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(6 ) 【圖號說明】 1 單晶棒 2 融液 3 表面 5 晶種 6 晶種掐具(SeedChuck) 7 鋼絲 10 本發明的CZ法拉單晶裝置 13 雰圍氣体排出管 · 14 電極 15 漏液托盤 15a 底部 15b 筒部 15c 軸袖管 16 耐熱材料 17 直栓螺絲接合部 18 螺合接合部 30 先行的CZ法拉單晶裝置 31 拉晶室(Chamber) 31a 底部 3 lb 內壁面 32 坩堝 32a 石英坩堝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂-------- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 527449
五、發明說明(7 ) 32b 石墨坩堝 33 坩堝支撐軸 34 加熱器 35 加熱器隔熱材料 【發明的最佳實施形態】 以下將本發明的實施形態根據圖面予以說明’惟本發 明並不限定於此等實施形態。 第1圖(a)爲有關本發明的備有漏液托盤的拉單晶裝置 的主要部分縱斷面圖,(b)爲底部的部分平面圖。又’第2 圖(a)爲有關本發明的漏液托盤之一例的主要部分縱剖面圖 ,第2圖(b)、(b’)及(c)爲表示漏液托盤的底部與筒部接合方 式的主要部分詳細圖◦又,具有與先行例同一機能的構成 零件賦予同一符號。 如第1圖(a)所示,CZ法拉單晶裝置10的拉晶室31爲 密閉槽型,由冷卻水配管或外殼(未圖示)放流冷卻水到周壁 。拉晶室31內設有坩堝32,並備有在坩堝32周圍配置的 加熱器34,以及使坩渦32迴轉的坩渦支撐軸33及其迴轉 機構(未圖示)所構成。又,拉晶室3 1的下部設有雰圍氣体 排出管1 3。此排出管雖設於拉晶室側面,也有設於底部的 情形。 . 坩渦3 2在其內側,亦即容納原料矽融液2的一側,設 有石英坩堝3 2 a ,其外側設有保護該石英坩堝的石墨坦堝 32b ° 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -1〇 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527449 A7 B7 五、發明說明(8 ) 又,坩堝32外周配置加熱器34,加熱器34外周配置 加熱器隔熱材料3 5。在加熱器3 4的下部安裝金屬製的加熱 器通電用電極1 4連通到裝置之外部電源。此電極14,其上 部有的採用碳製,使金屬部分不露出於高溫的爐內。 然後,緊接於拉晶室3 1的底部3 1 a的內壁面3 1 b ,配 設有本發明的漏液托盤1 5。 此漏液托盤1 5如第2圖(a)所示,係由底部1 5a與筒部 15b構成,其接合係以直栓螺絲接合部17(參考第2圖(b))或 螺合接合部18(參考第2圖(b’))予以‘接合。將此漏液托盤15 嵌入拉晶室底部3 1 a,托盤底部1 5 a會密接於大約拉晶室底 部內壁面3 1 b的全面。 在漏液托盤1 5,讓貫通拉晶室底部3 1 a及托盤底部1 5a 的坦渦支撐軸3 3和加熱器通電用電極1 4等構件通過的軸袖 管15c能螺進組裝於底部15a(參考第2圖(c)),強度和氣密 性也能十分確保。又’其高度在各位置與托盤筒部1 5 b同 一水平爲宜,組合底部1 5 a與筒部1 5 b可得的漏液托盤1 5 的內容積係設定爲全部原料融液2的容積以上。 將軸袖管1 5 c作成低於筒部1 5 b時,漏液托盤的內容積 係從底部到軸袖管上端位置的容積爲全部原料融液的容積 以上爲宜。 設定內容積時’宜考慮矽融液的比重較凝固的固体重 。亦即,矽融液的比重約爲2.54,固体爲2.33。所以漏液 的一部分固化時体積會膨脹。據此,設定漏液托盤丨5的內 容積爲全部原料融液的容積以上爲宜。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -Ί Ί - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I ϋ n n ϋ met i 訂---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527449 五、發明說明(9 漏液托盤1 5的材質從耐熱性、耐蝕性、加工性的觀點 ’以石墨材料合適,就中尤以等方性石墨爲佳。因此使用 胃方性石墨爲石墨材料時,能夠作出強度及耐熱性特別優 $ ’ Μ漏液等的熱衝擊能夠防止破裂發生,並且形狀尺寸 半胄度優良’形狀安定,加工性優異,也可作出以螺進方式 而不會漏液的托盤。 本發明的漏液托盤15係如上所述,由底部15a與筒部 1 5b構成’以螺合或用直栓螺絲予以接合,故有不同於無接 縫的一体成形品的優異性。 首先’構件至少可分爲底部、筒部及軸袖管3類,因 此構件原料的石墨材料不必使用大於需要的大形材料,又 各個零件的製造也容易,所以能夠降低成本。再者,如果 將底部和筒部分割成複數的構件,以直栓螺絲組裝,則有 更爲降低成本的效果。例如第1圖(b),係將筒部分割爲4 塊,以直栓螺絲接合部1 7組裝而成。 又’因係使用分割構件,故部分受到損傷時,就有只 要更換該部分即可的優點。 再者本發明的漏液托盤1 5的特徵在於漏液托盤內面敷 貼有耐熱材料1 6 ’而此耐熱材料選定爲碳纖維成形材料。 使用碳纖維成形材料爲耐熱材料時,能夠容易作成符 合石墨材料製托盤本体形狀以及軸袖管的成形体。又碳纖 維製的成形体可以作成一体物件也可以零件別作成後予以 接合。由於敷貼有耐熱材料,從坩堝漏出而積留的高溫融 液的熱損失減少,能夠減低拉晶室的熱負荷,防範拉晶室 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
表紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -12- A7
527449 五、發明說明(1〇 ) 的損傷。 _ 例如在如此構成的法拉單晶裝置1〇,投入坩堝32內的 矽多晶原料,被加熱器34熔融形成原料融液2。從上方以 鋼絲吊下裝在晶種掐具裡的晶種浸漬在此原料融液2中, 一面迴轉鋼絲及坩堝32 ,一面以設定的速度上拉,就可以 成長出所定的單晶棒1。 在上述拉單晶裝置1〇,譬如將多晶原料投入坩堝32之 際,因投入原料的衝擊以致坩堝32發生龜裂時,融液2從 該龜裂處流出坩堝32外部,流出的融液2沿著坩堝的外周 壁向下流,掉落到拉晶室3 1的底部3 1 a。 此時’如使用備有本發明的漏液托盤1 5的拉單晶裝置 1 0,因緊接拉晶室底部內壁面3 1 b配設著漏液托盤15,故 可由漏液托盤1 5收容流出的融液2。而且漏液托盤1 5底部 1 5a與筒部1 5b係以螺合或直栓螺絲無間隙地組裝而成,因 此收容的融液2不會流出到他處。又,漏液托盤丨5具有收 容全量原料融液2的內容積,所以收容的融液2不會溢出漏 液托盤1 5。是故,能夠確實防止融液2到達坩堝3 2的下部 機構’防範流出的融液溢出拉晶室對作業人員造成不良影 響。 以下,舉本發明的實施例將本.發明予以具体說明,惟 本發明不限於此等實施例。 (實施例1、比較例) 試驗漏液托盤底部與筒部接合方法的實效性。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -V0 - 527449 A7
五、發明說明(彳1 ) 如第4圖所不,用等方性石墨材料按漏液托盤的底部 與筒部的接合方法別製作3種縮小型(Miniature),將之水平 設置在拉單晶裝置實機的24吋石英坩堝內,各漏液托盤內 裝入粒狀多晶原料後,用加熱器加熱熔融,在145〇。^保持 1小時,以調查有無融液漏出。 漏液托盤的底邰與筒邰的接合方法爲,實施例1 _( 1 )底 | A I進筒邰的螺合方式,實施例1-(2)底部對筒部以直栓螺 絲的接合方法,比較例(3)底部嵌入筒部的嵌合方式。 試驗結果,比較例(3)的嵌合方式在嵌合部有微小的縫 隙而發生漏液,(1)及(2)則完全不見外滲的情形。 (貫施例2) 本實施例則製作如第1圖所示的敷貼耐熱材料丨6的漏 液托盤1 5,安裝在拉單晶裝置以求漏液托盤的有效性。 漏液托盤的材質:等方性石墨材料,托盤的內容積(含 耐熱材料容積24,700 cm3) : 1 28,000 cm3,矽融液的容積: 59,000 cm3(矽150 kg),漏液托盤的.底部與筒部的接合方式 :底部螺進筒部的螺合方式。 將1 50 kg的多晶矽投入24吋石英坩堝內開始加熱熔融 ,約熔解80%後石英坩堝出現龜裂而發生漏液。此時,冷 卻拉晶室底部內壁面31b的冷卻水溫度上升了 1.2°C(冷卻水 配管未圖示),但無特別異常,耐熱材料1 6的耐熱效果十分 有效。 停止操作將爐內冷卻後,拆解爐子調查的結果,大約 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 527449 A7 ______B7 五、發明說明(12 ) 有8 0 k g的砍凝固在漏液托盤1 5內,在螺合接合部1 § (參考 第2圖(c))可見矽的滲透到內側的螺絲一紋的程度,在漏液 托盤1 5的外部則不見任何漏液的痕跡,而確認了漏液托盤 的有效性。 又,本發明不限於上述實施形態。上述實施形態僅爲 例示,具有記載於本發明申請專利範圍的技術構想及實質 上同一結構,能達到同樣效果者,皆包含於本發明的技術 範圍。 例如,本發明雖舉矽單晶的培育爲例來說明,但本發 明不限於僅製造矽單晶,只要是單晶培育裝置,不論任何 形態皆適用本發明,採用LEC法的化合物半導体等的單晶 培育裝置也可利用乃毋庸贅言。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -1b -
Claims (1)
- 5親祕53號靜伸請案 一修正本民國90年ό月修正 Α8 Β8 C8 D8 产年t月:補充1 1 員 明 示 本 案 修 正 後 是 否 變 原 實 質 1¾ 容 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 -法拉單晶裝置的拉晶室底 爲:該漏液托盤至少由底 以螺合或用直栓螺絲予以 拉單晶裝置的漏液托盤’ 的托盤本体及敷貼於本体 拉單晶裝置的漏液托盤, ’耐熱材料爲碳纖維製成 拉單晶裝置的漏液托盤, 納全部原料融液的內容積 六、鼻利範圍 1. 一種配設於邱克拉爾 部坩堝下部的漏液托盤,其特徵 部與筒部所構成,底部與筒部係 接合。 2·如申請專利範圍第1項的 其中前述漏液托盤爲石墨材料製 內面的耐熱材料所構成。 3 .如申請專利範圍第2項的 其中前述石墨材料爲等方性石墨 形材料。 , 4·如申請專利範圍第1項的 其中前述漏液托盤至少具有能容 5·如申請專利範圍第2項的拉單晶裝置的漏液托盤, 其中前述漏液托盤至少具有能容納全部原料融液的內容積 〇 6. 如申請專利範圍第3項的拉單晶裝置的漏液托盤, 其中則述漏液托盤至少具有能容納全部原料融液的內容積 〇 7. —種拉單晶裝置,其特徵爲:具備有如申請專利範 圍第1項至第6項的任何一項的漏液托盤。 8. —種拉單晶方法,係屬邱克拉爾去的拉單晶方 法,其特徵係使用如申請專利範圍第7項所記載的拉單晶 裝置來進行拉單晶。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I 裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000059400 | 2000-03-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW527449B true TW527449B (en) | 2003-04-11 |
Family
ID=18579855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW090104853A TW527449B (en) | 2000-03-03 | 2001-03-02 | Saucer for escaped melt in apparatus for pulling up single crystal |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6605152B2 (zh) |
EP (1) | EP1191130B1 (zh) |
JP (1) | JP3741043B2 (zh) |
KR (1) | KR100725672B1 (zh) |
DE (1) | DE60140507D1 (zh) |
TW (1) | TW527449B (zh) |
WO (1) | WO2001064976A1 (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7955433B2 (en) * | 2007-07-26 | 2011-06-07 | Calisolar, Inc. | Method and system for forming a silicon ingot using a low-grade silicon feedstock |
TW200930851A (en) * | 2008-01-03 | 2009-07-16 | Green Energy Technology Inc | Crystal growth furnace having guiding structure for overflow slurry |
ES2592814T3 (es) * | 2011-08-26 | 2016-12-01 | Consarc Corporation | Purificación de un metaloide mediante proceso de refundición por arco en vacío de electrodo consumible |
KR101327991B1 (ko) * | 2011-08-31 | 2013-11-13 | 한국화학연구원 | 실리콘 누출방지 시스템을 갖춘 실리콘 잉곳 제조 장치 |
CN102400231A (zh) * | 2011-11-15 | 2012-04-04 | 宁夏日晶新能源装备股份有限公司 | 单晶炉热场中轴挡料罩结构 |
JP5891959B2 (ja) | 2012-06-04 | 2016-03-23 | 信越半導体株式会社 | 単結晶製造装置 |
JP2014091656A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶製造装置の湯漏れ検出器 |
JP6610226B2 (ja) * | 2015-12-08 | 2019-11-27 | 信越半導体株式会社 | 半導体単結晶棒の製造装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0312299U (zh) * | 1989-06-21 | 1991-02-07 | ||
JP2551383Y2 (ja) | 1990-09-18 | 1997-10-22 | 日本カーボン株式会社 | メルトレシーブ容器 |
US5382419A (en) * | 1992-09-28 | 1995-01-17 | Advanced Silicon Materials, Inc. | Production of high-purity polycrystalline silicon rod for semiconductor applications |
JP3012299U (ja) | 1994-12-09 | 1995-06-13 | 東洋炭素株式会社 | シリコン単結晶引上げ用黒鉛ルツボ |
JP3618395B2 (ja) | 1995-03-27 | 2005-02-09 | イビデン株式会社 | 単結晶引上装置用ヒーター |
JP2937104B2 (ja) | 1996-02-13 | 1999-08-23 | 住友金属工業株式会社 | 単結晶引き上げ装置 |
TW531573B (en) * | 1996-06-27 | 2003-05-11 | Toyo Tanso Co | Single crystal pulling crucible and production method thereof |
JP3189037B2 (ja) | 1996-12-26 | 2001-07-16 | イビデン株式会社 | シリコン単結晶引き上げ装置用の炭素製受皿 |
US6308767B1 (en) * | 1999-12-21 | 2001-10-30 | General Electric Company | Liquid metal bath furnace and casting method |
-
2001
- 2001-02-23 US US09/959,593 patent/US6605152B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 DE DE60140507T patent/DE60140507D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 WO PCT/JP2001/001371 patent/WO2001064976A1/ja active Application Filing
- 2001-02-23 KR KR1020017013980A patent/KR100725672B1/ko active IP Right Grant
- 2001-02-23 EP EP01906268A patent/EP1191130B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 JP JP2001563658A patent/JP3741043B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-02 TW TW090104853A patent/TW527449B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020157602A1 (en) | 2002-10-31 |
EP1191130B1 (en) | 2009-11-18 |
KR20020008171A (ko) | 2002-01-29 |
US6605152B2 (en) | 2003-08-12 |
EP1191130A4 (en) | 2008-02-27 |
KR100725672B1 (ko) | 2007-06-08 |
EP1191130A1 (en) | 2002-03-27 |
JP3741043B2 (ja) | 2006-02-01 |
WO2001064976A1 (fr) | 2001-09-07 |
DE60140507D1 (de) | 2009-12-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW527449B (en) | Saucer for escaped melt in apparatus for pulling up single crystal | |
DK158629B (da) | Apparat til stoerkning af metal til et produkt med kontrolleret krystallografisk orientering | |
JP2012036056A (ja) | シリコンの電磁鋳造装置 | |
JP2008297154A (ja) | シリコン単結晶引上用石英ガラスルツボおよびその製造方法 | |
TW520409B (en) | Single crystal material supplying apparatus and single crystal material supplying method | |
JP5272247B2 (ja) | Cz法における多結晶シリコン原料の溶解方法 | |
CN107115906B (zh) | 一种高温共晶点预共晶灌注坩埚 | |
JP2004083322A (ja) | Cz原料供給方法及び供給治具 | |
JP4256576B2 (ja) | 半導体単結晶製造装置 | |
JPH0557235B2 (zh) | ||
JP2723249B2 (ja) | 結晶育成方法および結晶育成用るつぼ | |
CN217785810U (zh) | 一种分体式坩埚 | |
JPH09221385A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JP2003055090A (ja) | シリコン単結晶の製造装置 | |
JP2019167282A (ja) | 結晶育成装置 | |
JP2004149342A (ja) | シリコンの鋳造方法 | |
KR101908366B1 (ko) | 단결정 제조장치 | |
JP2009119498A (ja) | 鋳造材料の溶解供給装置および鋳造材料の溶解供給方法 | |
TWI818661B (zh) | 單晶爐 | |
JP4660689B2 (ja) | ガリウムの取出し方法,保管,運搬方法及び収納容器 | |
KR102301821B1 (ko) | 단결정 용액성장 장치 및 단결정 용액성장 방법 | |
TWM249209U (en) | Shockproof structure of erect-type oven tube | |
JP2006247698A (ja) | 鋳造装置及びこれを用いたシリコン鋳造方法 | |
JPH0124559Y2 (zh) | ||
JP6457549B2 (ja) | 材料結晶化のためのハイブリッドるつぼ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |