TW522485B - Apparatus for plasma processing - Google Patents

Description

522485 A7 __ B7 五、發明説明（彳） 【發明領域】 本發明係關於電漿處理裝置，特別是關於具備複數個 處理反應室的電漿處理裝置。 【發明背景】 【習知技藝之說明】 本申請人在日本特開平9-306694號公報中提出藉由配設 複數台在電漿環境下，對半導體晶圓或液晶用的玻璃基板 進行灰化（Ashing)或蝕刻（Etching)處理的處理反應室 (Chamber)，使其可在短時間處理多數個基板之電漿處理裝 置。 對於日本特開平9-306694號公報所揭示的電漿處理裝置 ，使用單一的高頻電源，由此高頻電源利用功率分割手段 對各處理反應室分配功率。 此處’兩個處理反應室其阻抗（Impedance)必定有差。 而且，當使用單一的高頻電源在兩個處理反應室同時使其 放電時，電流流到阻抗低的，蝕刻率（Etching rate)等產生偏 倚。因此，對於上述日本特開平9-306694號公報，以在任意 位置電性連接電源側銅板與電極側銅板與這些銅板的銅條 (Bar)構成功率分割手段，使包含功率分割手段的兩個處理 反應室的阻抗相等。 【發明槪要】 使用上述功率分割手段之程度的均勻處理爲可能。但 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ 一 -4 - 丨 11 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522485 A7 _______B7 五、發明説明（2 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 是’由於氣體流量或壓力等的電漿產生條件，有以上述功 率为割手P又無法修正的情形。例如對氣體流量多壓力高的 情形’若阻抗多少不同的話，放電偏向一方的反應室，其 結果處理速度的差變大。 應解決上述課題的本發明係一種電獎處理裝置，具備 使電漿產生的複數個處理反應室，其中在各處理反應室的 外周，連接於高頻電源的第一帶狀電極與接地或連接於比 該高頻電源還低頻的電源的第二帶狀電極係上下分離交互 地配置複數個’再者配置於各處理反應室外周的第一帶狀 電極彼此係電性連接。 第一帶狀電極彼此的電性連接可以與第一帶狀電極同 程度的寬度的帶狀導電體或電阻以及阻抗低的電纜來進行 〇 藉由以上述的構成，電性上可將配置於每一複數個反 應室的複數個第一電極視爲一個電極，可抑制每一各處理 反應室的阻抗的差。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 【圖式之簡單說明】 圖1係與本發明有關的電漿處理裝置的全體側面圖。 圖2係同電漿處理裝置的斜視圖。 圖3(a)以及（b)係固定帶狀電極的絕緣體的斜視圖。 【符號說明】 1:電漿處理裝置 本紙悵尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -5- 522485 A7 B7 五、發明説明（3 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2:處理反應室 2a:反應室上部 2b:反應室下部 3、4:柱狀絕緣體 3a、3b、3c、3d、4a、4b、4c、4d:固定部 _5、8:肋 β、9:安裝孔 7 ' 10:導體 .11、12、·. 1 3、14、1 5 :帶狀電極 17:高頻電源 18:電纜. 19:帶狀電極 20:載置台 W:半導體晶圓 【較佳實施例之詳細說明】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以下根據添附圖示說明本發明的實施形態。圖1係與本 發明有關的電漿處理裝置的全體側面圖，圖2係同電漿處理 裝置的斜視圖，圖3(a)以及（b)係固定帶狀電極的絕緣體的 斜視圖。 電漿處理裝置1係由處理反應室2、2所構成。處理反應 室2係由合成石英等所構成，其形狀係呈封閉上端的略筒狀 ((鐘罩）Belljar型），令小徑的反應室上部2a的內部爲電漿產 生空間，令大徑的反應室下部2b的內部爲處理空間。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -6 - 522485 A7 B7 五、發明説明（4 ) 在小徑的反應室上部2a的外側的對向位置，將由氧化 鋁樹脂等所構成的一對柱狀絕緣體3、4配置於上下方向。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 柱狀絕緣體3係藉由肋5區劃爲固定部3a、3b、3c、3d， 在各固定部形成有安裝孔6,在第一段固定部3a與第三段固 定部3c嵌附由鋁板或銅板等所構成的導體7。此導體7的中 間的小幅部7a係透過第二段固定部3b的側面側，由側面電 性絕緣。 而且，柱狀絕緣體4係藉由肋8區劃爲固定部4a、4b、4c 、4d，在各固定部形成有安裝孔9，在第二段固定部4b與第 四段固定部4d嵌附由鋁板或銅板等所構成的導體10。此導 體10的中間的小幅部10a係透過第三段固定部4c的側面側， 由側面電性絕緣。再者，在導體1 0的下端部配設有延長部 10b 〇 而且，在前述柱狀絕緣體3以及柱狀絕緣體4的第一段 固定部3a、4a的側面，捲繞反應室的外周大槪半周以固定 兩條帶狀電極11、11。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且，同樣地在第二段固定部3b、4b的側面固定兩條 帶狀電極12、12，第三段固定部3c、4c的側面固定兩條帶 狀電極13、13，第四段固定部3d、4d的側面固定兩條帶狀 電極14、14，更於第四段固定部3d、4d的側面固定第三帶 狀電極15、15。 此處，帶狀電極11的一端係中介導體7以黏膠（Vis)固著 於固定部3a，帶狀電極12的一端係中介導體10以黏膠固著於 固定部4b，帶狀電極13的一端係中介導體7以黏膠固著於固 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 522485 A7 B7 五、發明説明（5 ) 定部3c ’帶狀電極14的一端係中介導體10以黏膠固著於固定 部4d。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且’因固定部3a的導體7與固定部3c的導體7中介小 幅部7a連接’故帶狀電極u與帶狀電極13變成等電位。即 以帶狀電極11與帶狀電極13構成第一電極。 而且，各帶狀電極11、11被由單一的高頻電源17中介 電纜18施加高頻，各帶狀電極13、13間係由與帶狀電極13略 同寬的帶狀導電體19連接（短路）。 .此外’取代帶狀導電體1 9以電阻以及阻抗低的電纜連 接也可以。 另一方面，因固定部4b的導體10與固定部4d的導體10 中介小幅部10a連接，故帶狀電極12與帶狀電極14變成等電 位，而且，帶狀電極12與帶狀電極14被接地。即以帶狀電 極12與帶狀電極14構成第二電極。而且，帶狀電極15也中 介導體10的延長部10b而接地。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如前述帶狀電極11與帶狀電極1 3連接於高頻電源構成 第一電極，帶狀電極12與帶狀電極14接地，在與前述第一 電極之間構成使電漿產生的第二電極。此外，對於帶狀電 極12與帶狀電極14也能不接地，連接於比高頻電源17還低 頻的電源。 在以上中，在降下載置台20的狀態下將半導體晶圓W 載置於台20上，接著使載置台20上升，塞住反應室2、2的 下部開□，並且降低反應室2內的壓力到預定壓爲止，將反 應氣體供給到各反應室2、2內，然後，藉由對第一電極施 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8- 522485 A7 __B7 五、發明説明（6 ) 加高頻，在第一與第二電極間產生電漿，在反應室下部2b 的處理空間中進行蝕刻或灰化等的預定處理。 【發明的功效】 如以上說明如果依照本發明，在以複數個處理反應室 與單一的高頻電源構成的電漿處理裝置中，因使連接於前 述高頻電源的第一帶狀電極彼此電性連接（短路），故電性上 可將配置於每一複數個反應室的複數個第一電極視爲一個 電極，可抑制每一各處理反應室的阻抗的差，使蝕刻率等 的處理速率（Rate)均勻。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -9 -

Claims (1)

1. 522485 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍1 1 . 一種電漿處理裝置，具備使電漿產生的複數個處理 反應室，其特徵爲：* . 在各處理反應室的外周，第一帶狀電極與第二帶狀電 極係上下分離交互地配置複數個，第一電極係連接於高頻 電源，第二電極係接地或連接於比該高頻電源還低頻的電 源，再者配置於各處理反應室外周的第一帶狀電極彼此係 電性連接。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之電漿處理裝置，其中 該第一帶狀電極彼此的電性連接係以與第一帶狀電極'同程 度的寬度的帶狀導電體或電阻以及阻抗低的電纜來進行° (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） -10-