TW509588B - Method for removing nitrogen oxide from an exhaust gas - Google Patents
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Description
509588 A 7 B7 五、發明説明(1 ) 髒明昔署 發明镅诚 本發明有關去除排氣中的氮氧化物,尤其一氧化二氮 之方法。 關逋持術 有關去除焚化爐,鍋爐等所排放之排氣中的氮氧化物 之方法有選擇性接觸遨原法,吸附法等。 選擇性接觸遷原法係指,於觸媒的存在下添加遷原劑 ,使氮氧化物(NOx)遨原為氮氧(N2)之方法。其還原劑中 ,氨(NH3)最受喜用,藉氨將一氧化氮(H0)或二氧化氮( N〇2)選擇性地遨原為氮氣(N2)及水(H2〇)。其觸媒中,鈀 (Palladium)等的貴金屬觸媒,V2-W〇3-Ti〇2等的釩( Vandiiiffl)系觸媒被採用。 另方面,吸附法係指使用分子篩(molecular sieve) ,活性碳,金屬氧化物等,將NO或H〇2依物理性或化學性 之方式吸附者。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於焚化爐,鍋爐等所排出之排氣中,一氧化氮(N0)及 二氧化氮(N〇2)為氮氧化物的主成分,而一氧化二氮(N2〇) 的含量則較少。例如,焚化爐的燃燒排氣中包含HO為 lOOppin,N〇2為ΙΟρριη,N2〇為lOppm。從而,習用的脫硝方 法僅注重去除一氧化氮及二氮化氮而對去除一氧化二氮則 被忽略。 另外,在製造半導體之過程當中,有一個將晶圓予Μ 化學沉積(Μ下簡稱CVD)之工程。而按化學沉積工程的種 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) j 3 9 7 0 0 509588 A7 B7 五、發明説明(2 ) 類,排放一氧化氮(NO)及二氧化氮(N〇2)之同時,也有可 能排放含有一氧化二氮之氣體。 但是,於選擇性接觸遨原法,若未適當選定條件時* 則在還原一氧化氮(Η 0 )及二氧化氮(N 0 2 )當中,一氧化二 氮(Ν2〇)將Μ副產物生成。而,上述之釩条觸媒雖可Κ遷 原一氧化氮(Ν0)及二氧化氮(Ν〇2),惟不能遷原一氧化二 氮(Ν2〇)〇 另方面*於吸附法雖可Μ吸附一氧化氮(NO)及二氧化 氮(N〇2),惟不能吸附一氧化二氮(H2〇)。而且,於吸附法 ,吸附劑容易消耗,一經消耗即需更換。從而隨著N0或 N〇2的排放量增多,則吸附劑的換新頻率亦增多之故,維 持成本即高漲。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 日本專利特開昭63-7826號公報揭示依鈀觸媒等之去 除一氧化二氮的方法。此法係預先去除一氧化氮及二氧化 氮後,再去除一氧化二氮。從而需要2階段的去除裝置之 故,裝置即大型化而熱效率則低落。因此有需要找出能將 排氣中的一氧化二氮,一氧化氮Μ及二氧化氮按1階段之 方式即可去除之方法。 因而本發明之目的為提供一種處理排氣之方法,其係 不致另新生成一氧化二氮(Ν2〇)為副產物即可處理含有一 氧化二氮(Ν2〇)、一氧化氮(Ν0)Μ及二氧化氮(Ν〇2)之排氣 者0 發明槪要 本發明係提供一種去除排氣中的氮氧化物之方法,其 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 2 39 7 0 0 509588 A7 B7 五、發明説明(3 ) 係包括: 於半導體製造的化學沉積工程中發生,且含有一氧化 二氮(H2〇),一氧化氮(Η0)Κ及二氧化氮N〇2)之排氣中, 添加一氧化氮所對應之化學量數Μ及二氧化氮所對應之化 學量數的合計的0.5至3倍的氨(ΝΗ3)之工程; 將上述混合氣體,於能分解一氧化二氮,一氧化氮 以及二氧化氮之足夠高溫下,與貴金屬觸媒接觸之工程; 之方法。 於本發明,在前述接觸工程之前,較佳再具有將前述 排氣或前述混合氣體加熱為200tM上而於接觸工程之前 述高溫以下的溫度之工程。 又,於前述添加工程,在前述排氣中較佳添加一氧化 氮所對應之化學量數Μ及二氧化氮所對應之化學量數的合 計的0.6至2倍的氨(HHs)。 再者,在前述混合氣體中,對1莫耳部的氧氣(〇2)較 佳含有1奠耳部K上的氨(NHs)。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者,在前述排氣中,較佳含有1重量部的一氧化二 氮(N2〇),0,01至3重量部的一氧化氮(Ν0)Μ及0.01至100 重量部的二氧化氮(Η 0 2 )。 更者,在前述排氣中,較佳含有70重量%从上的氮氣 並較佳含有80重量% Κ上的氮氣。 更者,在前述排氣中,實質上較佳不含有硫氧化物。 又,前述貴金屬觸媒較佳含有鈀或白金。 更者,前述貴金屬觸媒較佳含有粒狀的載體(carrier 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨OX297公釐) 3 397 0 0 509588 A 7 B7 五、發明説明(4 ))*及前述載體所載持之鈀或白金。更者,前述接觸工程較佳係於25010至600 °C所實施者 與□ 出 。 排 施的 實氣 P 排 00述 Λ-Χ 前 為 佳 35較 於 , 佳程 較工 程加 Η 添 觸述 接前 述在 前 , , 者 又更
至 V 較 前 之 程 Η 觸 接 逑 前 〇 而 者, 對後 面之 相程 互工 Μ加 經添 係述 口 前 出在 ttΜ , 的者 氨再 述 前 的 剩 過 除 去 有 〇 具 程再 Η 佳 之較 路 , 行後 蛇之 過程 通工 攪 羯 氣接 合述 混前 述在 前 , 有者 具更 再 佳
面 剖 分 部 的 塔 充 填 之 施 實 之 明 發 本 為 用 使 可 係 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖 圖 成 構 的 置 裝 硝 脫 之 施 實 之 明 發 本 為 用 使 可 係 圖 2 第 圖 3 啻 佳 第較 明 發 圖 大 放 分 部 的 槽 應 反 係 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 下 Μ 實 此 因 不 明 發 本 惟 態 形 施 實 之 明 發 本 形說 施將 發 所 中 程 Η 積一 沉㈦ 學 2 化(Ν 的氮 體 二 導化 半氧 造一 製有 在含 理氣 處排 。係此 定 , 〇 限明者 所發氣 態本排 形 之 施 生 氮 化 氧
Η /fv 氮 化 氧二 及K 與有 , 含 氣 , 排上 之型 生典 工量 積含 沉的 學氮 化 二 的化 體氧 導一 半其 造, ㈣ 較 M3^ VU·1 在比 〇 氮 2)化 氧 氮二 化 氧 1 的 部 量 B 舅 至
量 多重 程較3S 發 所 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 3 97 0 0 509588 A7 B7 五、發明説明(5 ) 部的一氧化氮(Η0)Μ及0.01至100重量部的二氧化氮(N〇2) ,尤其含有1重量部的一氧化二氮(N2O),0.1至1.5重量部 的一氧化氮(Ν0)Μ及0.01至100重量部的二氧化氮(H〇2)。 相對於此*在焚化爐的排氣含有例如1重量部的一氧化二 氮(ΙΟρριη),10重量部的一氧化氮(lOOppm)M及1重量部的 二氧化氮(ΙΟρριπ)。另外,此些排氣的殘餘部可Μ是氮氣 ,氧氣,Μ及不可避兔的不純物。例如*排氣可Μ是含有 1重量部的一氧化二氮(Ν2〇),0.01至3重量部的一氧化氮( Η0),0.01至100重量部的二氧化氮(Ν〇2),0.01至100重量 部的氧氣Μ及殘餘部的氮氣及不可避兔的不純物。例如* 排氣較佳含有70重量%以上的氮氣(Η2),較佳含有80重量 %以上的氮氣,更佳含有90重量%的氮氣。又,排氣可以 含有0.1至10重量%的氧氣,尤將可Κ含有0.5至5重量% 的氧氣。 前述排氣,實質上不含硫氧化物為宜。或者可Κ預先 去除排氣中的硫氧化物後再經脫硝處理。此乃因硫氧化物 可能成為觸媒毒物之故。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本發明,於前述排氣中添加一氧化氮所對應之化學量 數Μ及二氧化氮所對應之化學量數的合計的0 . 5至3倍氨( Ν Η 3 ),較佳為添加此合計的0 . 6至2倍的氨(Ν Η 3 ),更佳為 添加0 . 8至1 . 5倍的氨。此乃因若添加少於此合計的0 . 6倍 的氨時,不能足夠去除一氧化氮及二氧化氮之故。另方面 ,若添加此合計的3倍以上的氨時,則在脫硝裝置的下游 ,欲去除過剩的氨時之負擔將加重。 39 7 0 0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐〉 509588 A7 B7 五、發明説明(6 ) 下列表示貴金屬觸媒的存在下之氮氧化物的分解反應 Ο 2N2〇 2H2 + O2
4NO + 4HH3 + 〇2-> 4N2 + 6H2O 6NO2+8NH3 4 7H2+RH2O 於一氧化二氮的分解,不需要氨或氧。另方面*氨則 作用為遒原劑將一氧化氮及二氧化氮遨原。又*氧氣參與 一氧化氮之分解。此氧氣可預先含於排氣中或視需要添加 〇 1奠耳的一氧化氮與1奠耳的氨起反應。因而,1奠耳 的一氧化氮所對應之化學量數的氨即為1莫耳之意。1莫耳 的二氧化氮與4/3奠耳的氨起反應。因而,1奠耳的二氧化 氮所對應之化學量數的氨即為約1.33莫耳之意。從而依本 發明處理含有1莫耳的一氧化氮K及1莫耳的二氧化氮之排 氣時,必須添加1·4莫耳(0.6X2.33著耳)至7.0草耳(3X 2 · 3 3莫耳)的氨。 再者,前述混合氣體對1莫耳部的氧氣(〇2)較佳含有 經濟部中央標舉局員工消費合作社印裂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1莫耳部Κ上的氨。如上述,此氧氣可預先含有或未含有 〇 於本發明,在前述接觸工程之前*較佳再具有將前述 排氣或前述混合氣體加熱至200t:K上而於接觸工程之前 述高溫Μ下的溫度之工程。依此,可抑制硝酸銨的發生。 在此加熱工程,可Μ將前述排氣Κ及氨導入具有加熱 裝置之混合槽,而在此混合槽內部加熱混合氣體。此時, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X29?公釐) 6 39700 509588 A7 B7 五、發明説明(7 ) 在混合槽的内部,較佳使前逑排氣的排出口與前述氨的排 出口互相面對。依此,氨即揮散而減少爆發的危險性。 或者可Μ在此加熱工程,預先加熱排氣,接著添加未 經加熱或已預先加熱之氨。此時,於前述添加工程之後, 前述接觸工程之前•較佳具有將俞述混合氣體通過蛇行路 之工程。藉蛇行路之經過,可將排氣及氨予Μ均勻混合。 本發明於添加工程之後,將前逑混合氣體,於足夠分 解一氧化二氮,一氧化氮Μ及二氧化氮之高溫,與貴金屬 觸媒接觸。藉此,不僅一氧化二氮,連一氧化氮Μ及二氧 化氮亦起分解。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 能分解一氧化二氮,一氧化氮Μ及二氧化氮之足夠高 溫係依貴金屬觸媒種類而定,操作當事人可適宜選擇。在 鈀觸媒等之時,此高溫較佳為250¾至6001C,更佳為350 1C至40 0 1C。貴^屬觸媒在高溫下將會活性化。載持在氧 化鋁等之貴金屬觸媒的耐熱溫度一般在6001C ,而於600t: Μ下展現其觸媒活性。惟未滿2501C ,則反應速度遲慢而 不宜。溫度管理可依熱電偶等感測器施行之。從一般性加 熱式填充塔裝置的耐熱性或加熱器的電費綜合判斷時,若 超過4 0 0 t:使用則不適宜。 前述貴金屬觸媒較佳為含有鈀或白金而前述貴金屬觸 媒較佳為含有粒狀的載體與載持於前述載體之鈀或白金。 載體而言,氧化鋁,二氧化矽,氧化鈦等陶瓷使用上相當 合適。陶瓷較佳為氧化物陶瓷而若係多孔質則更佳。粒狀 的載體可為具有球,回轉橢圓體*經形成軸方向延伸之孔 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X29?公釐) 7 3 9 70 0 509588 A7 B7 五、發明説明(8 ) 之筒,Μ及軸方向延伸之柱等的形狀者。 本發明之實施時可使用例如下列之填充塔。 第1回,係適合實施本發明之填充塔1的部分剖面圖的 一實施形態。 填充塔包括朝上下兩方向延伸之筒體及設有多數通氣 孔之水平隔間板3。筒體外壁的內部經埋設加熱器2。依隔 間板3將筒體內部予Μ上下隔開。隔間板3所隔開之筒體上 部設置將填充貴金屬觸媒之填充槽4,而筒體下部則設置 氣體混合槽5。於氣體混合槽5内,分開有排氣導入管6及 氨導入管的開口。將排氣導入管6的排出口 6a及氨導入管 7的排出U7a予Μ互相面對。 另外,自從填充塔出口通至填充槽4之未圖示之排氣 管延伸至填充塔1之外並連至水洗账器。 經濟部中央標準局員工消費合作社印裂 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 填充劑4內,填充Pd觸媒作為處理劑。Pd觸媒8較佳為 於MAl2〇3為主成分之氧化鋁等的多孔質體按0.5至l.OwU 的比例載持Pd者。載持Pd之多孔質體的形狀原則上並不成 問題,惟若為球狀則操作上較方便。球體粒徑較佳為3至 若超過6mm則有時難於確保對平均單位體積合適而足 夠的反應接觸面積之故不一定好。若未滿3mm則通氣阻力 增大之故,不一定好。Pd觸媒於2501C至600Ϊ:使用,較佳 為於35010至600t:使用,較佳為於3501C至400¾使用。 本發明之實施時,於填充塔1的氣體混合槽5內自從排 氣導入管6導入含有氮氧化物之排氣,而自從氨導入管7導 入氨,並將兩者混合。混合排氣與ΗΗ3之氣體混合槽5的氣 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21〇Χ;297公釐) 8 39 7 00 509588 A7 B7 五、發明説明(9 ) 相部的溫度較佳為200t:M上。若於未滿20〇υ施行,則氮 氧化物尤其Ν〇2的量多時在Η〇2與ΝΗ3之間易起粉末狀的 ΝΗ4Η03的生成反應之故並不恰當。ΝΗ4Ν03在常溫下為固態 。若於填充塔1內生成粉體而存積時則發生配管的堵塞等 問題,而說不定需要另裝粉體去除裝置。其維護工作亦有 必要。加之,Ν Η 4 Η 0 3係危險物品(消防法第2條 < 第1類> ) 固此為安全,其處理需要謹慎。若將大量ΝΗ4Ν03粉體存積 在填充塔1內時,則意味著有大災害之危險存在。ΝΗ4Ν03 約於2101C分解,產生水與Ν2〇。若保持200t:K上的溫度 ,則可有效抑制HH4N03之生成。從而,排氣與ΝΗ3宜在200 t: Μ上的溫度下混合。 ΝΗ4Ν〇3-^ Ν2Ο + 2Η2Ο 另外,排氣或氨在混合槽5內的導入方向,可依向下 流或向上流之任一。 若使用上述的填充塔1,則排氣與氨在混合槽5互相混 合之下逐漸移動至填充槽4,並與350tl至4001C的Pd觸媒 接觸進行氧化還原反應。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 通過填充槽4之混合氣體,靠由此延伸之未圖示的排 出管達到水洗滌塔,去除過剩的未反應的Ν Η 3氣體。然後 僅有對環境無害的氣體擴散至大氣中。 本發明實施時,也可Κ使用例如第2圖所示脫硝裝置 1 0 〇 於第2圖,脫硝裝置10具有予熱槽12及反應槽20。於 預熱槽12的內部,為提高熱傳導效率,較佳填充陶瓷之粒 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨0X297公釐) 9 3 9 7 0 0 509588 A7 B7__;__ 五、發明説明(10) 狀體14。預熱槽12挾介管線36在當中,連接半導體製造的 化學沉積裝置30。自從化學沉積裝置30所排出之排氣,即 由泵32導入預熱槽12的下部,而此排氣即被加熱至例如 I· 2 00 1C K 上。 預熱槽1 2藉管線1 6連结於反應槽2 0的入口。另方面, 氨管線1 8亦連结於反應槽2 0的入口。如第3圖所示,於反 應槽20的入口 ,較佳為設置能使氣體蛇行之繞流板22。藉 此蛇行路,可將排氣與氨均勻混合。 於反應槽20內經填充貴金屬觸媒24,而此貴金屬觸媒 ,則可使用與第1圖的貴金屬相同者。於反應槽20內經設 置未圖示之加熱裝置,可將貴金屬觸媒加熱至高溫,例如 2 5 0 1C S 6 0 0 10。加熱裝置,則例如與第1圖同樣可Μ設置 在反應槽20的外壁內部。於反應槽20内部,排氣中的氮氧 化物將被分解。 通過反應槽20之氣體,經管線26導入於洗滌塔Μ去除 過剩的未反應的ΝΗ3氣體。 管_例 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之實施例說明如下。惟本發明不因實施例所限 定0 參考例Μ及13、14 設置直徑為25min而外壁設有陶瓷加熱器2之如第1圖所 示之石英製的填充塔1亦即小柱塔,於其下段設置氣體混 合槽5,於其上段設置層高lOOmni的填充槽4。填充槽4内填 充粒徑3至6 in in的粒狀氧化鋁上經按0 . 5 w t %的比例載持P d之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 10 3 970 0 509588 A7 B7 五、發明説明(11 )
Pd觸媒8,另外在混合槽及填充槽各裝附未圖示的熱電偶 溫度感測器。 依陶磁加熱器自從外部加熱内部,將氣體混合槽5內 的氣相部的溫度保持在2 6 5 t!至2 9 0 1C而填充槽4的溫度則 保持在35010至3601C。 於氣體混合槽5内,自從排氣導入管6導入含有Η0, Ν〇2,Ν2〇之中的任一種類的氮氧化物與〇2之氣體,載送氣 體(c a r r i e r )則使用氮氣。亦即,將成為載送氣體之氮氣 內添加氮氧化物氣體及氧氣。表1中所表示之氮氧化物及 氧氣的濃度為,K氮氧化物,氧氣Μ及氮氣之合計為基準 之重量百分比。排氣的總流量設為408SCCm(每分鐘標準之 松分),SV(空間速度)為500hr—。 同樣,自從氨導入管7導入HH4氣。氨氣的載送氣體為 氮氣,而在表1中,氨澹度係K氨氣與氮氣之合計為基準 之重量百分比表示者。氮氧化物的入口氣體濃度約為IX* 而NH3氣體的導入畺設為對自從排氣導入管所導入排氣的 〇2之等值奠耳K上之量。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 於從小柱塔向外延伸之柱塔出口 *施行氮氧化物的氣 體分析。分析方法而言,對NO,N〇2,HH3將用檢測管法( detector tube method),N2〇採用氣相色譜質聯用法( GC-MS, gas chromatography combined with mass spectroraef ry ) » 〇2採用氣相色譜熱導檢測器聯用法(GC -T C 0 , g a s chromatography combined with thermal conductivity detector)。表1表示通氣2小時後的出口氣 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐) 3 9 7 0 0 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 11 509588 A7 B7 _ 五、發明説明(12 ) 體分析結果。由表可知,對HO,H〇2,N2O之任何氣體均能 去除為檢出限界值K下之濃度。於氣體混合槽5内面而氣 相部的溫度能保持2001C从上之處所均未見NH4N03的附著 。堆於氣相部的溫度低至8 0 1C至9 5 t:之處所則經確認有 NH4N03之部分附著。 表1 廳處入□励脑 出□纖蘑麼 mmm (V) NO (%) H〇2 (%) N2〇 (¾) 〇2 (%) ΝΗ3 (¾) NO (ppm) H〇2 (ppm) H2〇 (ppm) 〇2 (ppm) NH3 (ppm) mm Pd/Al2〇3 350 0.95 一 一 3.1 3.8 <1 <1 <1 <0.1 10500 mm Pd/Al2〇3 350 0.95 — — 3·1 4·9 <1 <1 <1 <0.1 21000 mm Pd/Al2〇3 350 一 0.93 — 3·4 3.9 <1 <1 <1 <0.1 3900 mm Pd/Al2〇3 350 一 0.89 一 2.7 4.6 <1 <1 <1 <0.1 3500 mm Pd/Al2(b 350 — — 0.96 2.8 3·2 <1 <1 <1 <0.1 <1 mm Pd/Al2〇3 350 — — 0.96 3.1 4.3 <1 <1 <1 <0.1 10000 mmi3 Pd/Al2〇3 350 0.95 0.93 0·96 3·1 3.8 <1 <1 <1 <0.1 <1 mmu Pd/Al2〇3 350 0.034 0.39 0.11 5.2 5.8 <1 <1 <1 <0.1 <4800 [註]表中符 號[一 ]表示 未 經導 入 此等 添 加氣 體之 ,意(M下 相同)。 經滴部中央標卑局Μ Η消費合作社印裝 參者例7牽1 1 參考例7至11使用與參考例1至6K及13同一實驗裝置 ,同一觸媒。惟N Η 3氣體的導入量則設為對自從排氣導入 管6所導入氣中的〇2之未滿等值莫耳之量。 表2表示通氣2小時後的出口氣體的分析結果。Ν0’ HO2,N2O之任何氣體均檢出高濃度值。此结果乃表示處理 效率顯著降低之意。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 3 97 0 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 12 509588 A7 B7 五、發明説明(I3) 表2 v/ mm 入□麵醜 出口編 msm no n〇2 N20 02 NHa no n〇2 N20 02 nh3 (V) (¾) (%) (¾) (¾) (¾) (ppm) (ppm) (ppm) (ppm) (ppm) mm Pd/Al2〇3 350 0.95 一 一 4.2 1.9 1000 750 7700 2.0 <1 mm Pd/Al2〇3 350 0.95 一 — 2·9 2.4 460 180 8400 <0*1 <1 mm Pd/Al2〇3 350 一 0·93 - 3.1 2·1 200 180 1500 2·9 <1 mmio Pd/Al2〇3 350 — 0.93 一 6.0 2·3 300 200 2600 2·4 <1 mmn Pd/Al2〇3 350 — 一 0,96 3·2 2.3 200 240 14200 0.3 <1 [參考例12] 參考例12使用與參考例1至6M及13相同實驗裝置。惟 脫硝觸媒則使用市售的V2〇5-W〇3-Ti〇2系觸媒。觸媒的形 狀為破碎狀而粒徑為4至7 m m。N Η 3氣體的導入量則設為對 自從排氣導入管6與氮氧化物一起導入之排氣中的〇2之等 值莫耳Κ上之量。 表3表示通氣2小時後的出口氣體的分析結果。於Ν 0, Ν〇2任何一種氣體,均為檢出限界值以下之濃度。惟在出 口氣體中,經確認有Η 2 0的副座。 表3 處酬 mmm 入□氤體通麼 m□氬牆羼麼 控_腺 N〇2 〇2 冊3 H0 N〇2 M2O 〇2 ΗΗ3 (V) ⑻(30 (¾) (ppm) (ppm) (ppm) (ppm) (ppm) 赫例 12 V2O5-WO3-Ti〇2 350 0.92 2.8 4.4 <1 <1 270 <0·1 20600 本發明可將 排氣中 的一氧 化 二氮 (Ν 2 0 ),一氧 化氮 經滴部中央標準局β_χ消費合作社印裝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ),Κ及二氧化氮(Ν〇2)按一個階段的方式處理之,且不致 另新生成Ν2〇。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(2丨0Χ 297公釐) 13 3 9 7 0 0 509588 A7 _B7 五、發明說明《3-1)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 鼸忒符虢鳙盥銳明 1 充 填 塔 2 加 熱 器 3 隔 間 板 4 充 填 塔 5 氣 體 混 合 槽 6 排 氣 導 入 管 6a 排 出 P 7 氨 導 入 管 7a 排 出 P 10 脫 硝 裝 置 12 予 熱 槽 14 粒 狀 體 16 管 線 18 氨 管 線 20 反 應 槽 22 繞 流 板 24 貴 金 屬 觸 媒 2 6 管 線 30 化 學 沈 積 裝置 32 泵 ---------------------訂---------線 p - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇χ 297公髮)m (修正 97〇〇
Claims (1)
- 509588 SF件 之 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 n ___H3_一 θΐ· 第87 105694號專利申請案 申請專利範圍修正本 …,: (91年2月8日) 1. 一種去除排氣中的氮氧化物之方法,其係包括: 於半導體製造的化學沉積工程中發生,且含有1 重量部的一氧化二氮(Ν20)、0.01至3重量部的一氧化 氮(NO)、0.01至100重量部的二氧化氮(Ν02),以及70 重量%以上的氮氣(Ν2),但實質上不含有硫氧化物的排 氣中,添加一氧化氮所對應之化學量數以及二氧化氮 所對應之化學量數的合計的0.6至2倍的氨(lsfH3),添 加時使前述排氣的排氣口與前述氨的排氣口互相面 對,並且形成對1莫耳部的氧氣(02)含有1莫耳部以 上的氨(NH3)之混合氣體之工程; 將前述排氣或前述混合氣體加熱至200°C以上而 能分解一氧化二氮、一氧化氮以及二氧化氮之足夠高 溫以下的溫度之工程;及 將前述混合氣體,於能分解一氧化二氮、一氧化 氮以及二氧化氮之250QC至600°C的溫度下,與含有 粒狀的載體及爲前述載體所載持的鈀或白金之貴金 屬觸媒接觸之工程。 2. 如申請專利範圍第1項之方法,其中前述接觸工程係 於350°C至400°C實施者。 3. 如申請專利範圍第1項之方法,其中在前述添加工程 之後而前述接觸工程之前,再具有前述混合氣體通過 蛇行路之工程。 4. 如申請專利範圍第1項之方法,其中前述接觸工程之 後,再具有去除過剩的氨之工程。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21() X 297公釐) I 39700"
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