TW496981B - Minutely partitioned inter-film structure and production method therefor - Google Patents

Minutely partitioned inter-film structure and production method therefor Download PDF

Info

Publication number
TW496981B
TW496981B TW089106447A TW89106447A TW496981B TW 496981 B TW496981 B TW 496981B TW 089106447 A TW089106447 A TW 089106447A TW 89106447 A TW89106447 A TW 89106447A TW 496981 B TW496981 B TW 496981B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
manufacturing
layer
aforementioned
Prior art date
Application number
TW089106447A
Other languages
English (en)
Inventor
Naohide Wakita
Mariko Kawaguri
Yasuhiko Yamanaka
Takeshi Karasawa
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Ind Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Ind Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW496981B publication Critical patent/TW496981B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/203Filters having holographic or diffractive elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341Filling or closing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1347Arrangement of liquid crystal layers or cells in which the final condition of one light beam is achieved by the addition of the effects of two or more layers or cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

496981 A7 B7 五、發明説明 [技術領域] 本發明係有關於-種處於薄膜間多數且微小之區晝構 造’特別是有關於面板及濾色片等使用液晶之顯示裝置及 其元件。 [習知背景] 在各種液晶顯示裝置中,包括電漿編址液晶顯示裝置 等使用有構造物’該構造物係有多數且縱橫排列 320x240、H)24x768、128()x购等多少行多少列、進而多 段排列之微小區晝,而該微小區畫係指多數且其角為數微 米及邊為數微米之三角’或其寬為數微米之多數帶狀者。 具體而言’係指液晶顯示裝置中之各像素及其液晶層或者 是:慮色片、PALC中之液晶層’進而使用有主副胞元之彩 色液晶顯示裝置之像素部等。 惟,以上多數且微小之區晝迄今係有各種内容、方式 者,在於應用上也有各種問題存在,因此對此也開發了各 式各樣的技術加以解決之。以下,依序針對該等内容進行 說明。 首先第1點就是液晶面板中之基板間隔。 通常,液晶面板之構成係為了使基板間保持一定間隔 ,乃於像素部分散有球狀隔件,而於周邊部則係黏接混合 有球狀或纖維狀隔件。惟,液晶顯示裝置係對於基板間隙 (幾近液晶層之厚度)有高度精密度之要求。即,諸如STN 液晶,〇·〇5微米之厚度不均即造成顯示斑紋。對該點之對 策係诸如第1圖所示之日本專利公報25〇4111號所揭示之方 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公楚: > V W (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·、τ. -4- 五 、發明説明 2 人〜$之基板20上以光阻作成之線狀隔件40為中 住對向基板3G,並於該狀態下加熱,使光阻所形成 二件溶解,使之可一邊將基板黏著,且一邊形成胞元的 ::(基板間隙:。然而該方法係因光阻層係具有兼作為隔 、A/用’在精熱壓著溶融方式黏著時,使光阻層壓碎, 、了厚度的改變’因此要正確地控制基板及構件之間隙 均勻形成者是非常困難。 製造=:該裝置係針對用於液晶面板等之遽色片有幾種 現在-般最常使用之方法係,將分散有著色顏料之光 :、衣紅、綠、監之順序’有時進一步加上黑(黑色矩陣) ,依序施行塗敷、曝光、顯影之處理,然後行三、四欠用 以除去該光阻之攝影刻印術。惟,該方法之所需程序繁多 更簡易的方法係諸如有喷射方法,即··藉喷射法朝基 反亡被黑色矩陣所隔離之部分,以吐出式之印刷塗佈著色 对月曰液後’再於定盤上冲壓加以壓平後,使之硬化者。缺 :’該喷射法所包含之程序雖然簡單,但是為使已著色之 樹月曰旨不會混雜在…必須非常正確地控制所吐出的樹脂 液置,又,該供喷射用之喷嘴也易受堵塞。 又,還有一用以膠版(offset)等之印刷術,其係於 2別塗上著色墨水後再使之硬化者。但是該印刷线使 其表面容易產生凹凸,有平坦性之問題。 其他諸如日本國特開昭62_3224號中揭示者,立係乃 A7 _ " -— ----_____ 五、發明説明(3 ) ^ 1一· 藉朝以條狀隔件隔離之液晶胞元注入含有不同顏色之色素 之液晶,以形成不具濾色片之液晶面板。然而該方法中i、 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 係揭路了彳作為色素之賓主(州灿㈣)液晶,該賓主液 晶-使用兩色性色素時,此時施加電壓時,顏色之彩度就 會有改變。又,為隔離用之隔件與對向基板之黏著方法也 沒有說明。 -人就反射型衫色液晶顯示裝置而言,這是藉反射 板將外部光反射後再施行彩色顯示者。因此,沒有背光用 之電力消費’且可用以於筆記型個人電腦、pD A等之攜帶 型機器之顯示裝置。但是在為了提昇該等類型裝置之亮度 ,顯示功能時,係使用了習知的偏光板及濾色片,而使= 量衰減,因此有困難。 即,使用偏光板後,使光最大也只有1/2透過,又使 用遽色片時原則上只有1/3的光可利用,合併起來全體係 只可利用1/6的光。 在此針對該點之解決法係採用了於反射板上積層了由 監綠、手紅、黃色形成之三層之賓主液晶,藉減法混色顯 示之方法但疋單純用以將液晶面板重疊3枚時,使像素 變細,而使玻璃之厚度相對地增大,而產生視差,因此斜 向目視顯示面時會造成色差。 在此針對此點之解決方法係諸如日本公開公報特開平 8-32803 1號中所揭示之裝置,其係一用以於丨枚基板上重 疊了 3層液晶層構成之液晶顯示裝置。該裝置係介由ι〇〇 〜3 00μπι左右之層間膜,而形成液晶層,且於該層間膜之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) -6- 五、發明説明(4 ) 上下形成電極者。然後各層間膜係藉隔件支撐,而液晶層 則糟球隔件間隔一定間隙支撐著。進而朝各間隙分別注人 監綠、洋紅、黃色之賓主液晶。 又,然而該公報中並沒有具體揭露液晶注入各液晶層 、可推想出係與通常之液晶面板同樣,即,係使於 真空室内,使設於面板之端部之每一層注入口與每一顏色 之負主液晶相接觸,並使液晶面回復常壓後,再注入相對 應之賓主液晶者。因此,對每一種顏色液晶之注入係總計 二次 〇 惟,在該種習知反射型且為積層型之液晶顯示裝置中 ,因為位於各液晶層上下境界之薄膜上下形成有透明電極 ,所以在每一層須有透明電極2枚,如果是全色顯示者, 原則上是有6枚。 因此在反射型液晶顯示裝置中,當光朝丨枚透明電極 射入及反射時,係合計通過兩次,因此不管如何下功夫都 會使於電極所發生之光的衰減增加,使顯示暗淡。 在此考慮有一對策,其係用以將各層間膜之電極設置 成各一枚,且使上下液晶層兼作為施加電壓用之電極,俾 以減少透明電極之牧數,而提高反射率。然而此時變成, 在各液晶層上之透過層間膜施加電壓者,因此造成電壓在 層間膜上之損失為問題所在。另外,液晶層之厚度或間隙 係3〜5μΓη左右,因此要降低層間膜上所發生之電壓損失時 ,必須將層間膜之厚度形成比間隙之間隔小之厚度。 但是層間膜係使用膜厚1 μηι左右之薄膜時,反而產生 本紙張尺度適用中國國家標準 (CNS) Α4規格 (210X297公釐) 496981 " B7 五、發明説明(5 ) 了薄膜容易損傷之問題。例如大小在5吋左右之面板時, 不管怎樣小^都會產生數個左右極端微細之孔、裂痕。又 因為於3層液晶層上必須分別注入不同顏色之賓主液晶, 在此,若發纟了前述微孔及裂痕日寺,則由該處使原有層中 之液曰曰以外之層内之液晶,即,另一顏色之液晶擴散,衍 生了 /主入不良,進而為顯示不良。導致面板之良率變得極 端不佳。 篇、即使將層間膜之厚度形成1 μηι左右時,層間膜之 電壓知失也無法避免。液晶係根據定向而使介質常數有所 不同,一般而言,介質各向異性為正之液晶係用以於電極 間外加電壓時’可使分子垂直定向,且提昇電容率。特別 是針對驅動電壓小之液晶而言,電容率為ε丄=4左右, 11左右,即,該差有變大之傾向。一般而言,樹 曰薄膜之電谷率大概在3左右,因此在施加電壓時,與層 Η月果相t匕,可使液晶之電容率提冑,並極端肖大層間膜上 之電壓損失。 ' 其-人,藉將該等區晝隔離,形成位於上下境界之膜係 具有導電、絕緣、透光、.截光、偏光、反射等各式各樣之 功能。進而,由膜所提供之作用係多方面各用以於諸如盘 外界直接接觸之遮斷、專供某特定之物質分子之透過、或 者是電子元件之積層構成要素等。然後,作為電子元件之 構成要素使用之膜係單純積層為一平坦物質之態樣是报少 ,通常係形成階層、孔 '溝道等多種複雜之形狀。諸 膜晶體管等’係形成具埋入層之膜時,乃重覆施行製膜: 本紙張尺度適财關家標準_ A4規格⑵qx297公楚) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
五、發明説明(6 攝:刻印術、餘刻之處理,依情況而定,為使某特定深度 之領域上具備特定之物性,也併用有離子注入及擴 方法。 〜 、生在此面參考第2、3圖,一面說明藉攝影刻印術製 仏之積層構造膜。第2圖係顯示具!層構造之膜之部分立體 圖’而々第3圖則顯示具3層積層之構造之部分立體圖。 在第2圖中所示之1層構造臈係,使相對向配置之基板 Mm部㈣持方格(諸如西洋棋盤)模樣之隔件4〇,再 於由以上元件所隔離之領域上形成空隙4者。另外在第3圖 中所不之3層積層構造膜則係,使相對向配置之基板⑼及 頂蓋部30以第b第2中間隔離層50、60為中介間隔一定距 離,而使基板部i及第i中間隔離層5〇間、兩中間隔離心 、60間、第2中^隔離層6〇及頂蓋部3〇間央持有格子狀之 隔件40後,再於由以上元件所隔離之領域上形成空隙。 /该1層構造膜係液晶顯示元件中顯示部用像素部時, 係於基板20之上表面及頂蓋部3〇(對向基板)之下面上,而 3層積層構造膜時則是在中間隔離層5〇、之上面等各形 成透明導電性薄膜(未圖示),並於空隙内充填液晶。然後 諸如於隔件4 0之上面形成用以朝空隙内注入液晶之注入孔 49。又’ 3層積層構造膜為液晶顯示元件之顯示像素部時 ’係使藍綠、洋紅及黃色素之液晶充填於空隙内,藉減法 混色顯示彩色。 / 以上具空隙之積層構造膜係,可於事先藉幾種材料及 方法製作後之隔件40上下兩面貼附基板2()及頂蓋㈣等而 496981 五、發明說明(7) 製造。根據該方法,係用以諸如 / 可將空隙自由設計或形成相當大:、广刻印術之技術, 田小、形狀。惟,在將該且 有該空隙之積層構造膜經攝影刻印術製 要旋: 、烘烤、uv曝光、藉藥液之顯影、、、主… 層形成等多數之程序。 -洗、乾燥,及黏著 並且每一程序都很複雜, 容易造成衍生各種不良。在後=覆進行濕式處理, 在後期程序中施行貼合 々:疋在硬貝材料上進行時’就會在密著性上 而在軟性材料上進行時則在困難 間形成空隙時,則係於前述密著=難。進一步在多層 因此必須針對每-層重覆施行同=坦性上都有困難, ,有睥f # μ 袠私序,而使作業性劣化 5有時喊所積層之各層中空隙之邊緣無法對齊。該點也 與降低衫色的液晶顯示元件之畫質者有關。 智 員 、人在曰本國公開公報特開平U-30781號中揭示了 :種液晶顯示元件之製造之方法,其係用以將由基二 止膜所夹持之固形膜之特定部氣化,在由基板、封止膜以 :固形膜所隔離之領域上形成空隙者。又,該固形膜= =源Γ線等照射,變成液狀物,進而經加熱及減: V 化者。但是在氣化時,分子無法透過封止膜, :库由另外形成之排出口排出。因此不只需要排出口形成之 還須將周圍減屋,因此在作業上非常麻煩。又成; 2母一積層之邊緣不對齊之情況,也會在該製造方法中發 [習知技術之課題] 製 本紙張尺“财 A7 B7 五、發明說明(8 ) 是故’在薄膜間等之多數且微小然後積層之多數區書 :造中有以下之課題需要解決包括有以下技術之開 夕-用於液晶顯示裝置等之面板係於上下(表裏)2枚、或 二’造之態樣中’可使不管多少枚之基板間隔正確地保 、疋,且不會造成程序繁複者; -可以簡單之程序形成厚度均勻且平坦之液晶顯示裝 置用濾色片者; 可以簡單耘序形成以微細區畫構造物於各區間内充 填性質相異之物質者,且不限於濾色片; "中,與该物相關者係諸如有;可因應體溫使相對應 5員域發色或變色之態樣之體溫計,以及可因應氧、碳酸 氣體等特疋氣體之濃度使相對應之領域發色或變色之態樣 之氣體檢測器等。X,在該等裝置上,於板上以一定規則 配置可因應溫度等發色且發色溫度相異之液晶胞元,或可 口應氣體濃度等發色且發色濃度相異之液晶胞元,進而因 …而要,其表面係使用氣體透過性樹脂;又該技術開發係 包括有: 於多層構造之液晶顯示裝置中,可使之難以發生各 層之位移等’且其亮度良好,又注入液晶之程序也少,進 而消費電力也極少者; 一同樣是多層構造之液晶顯示裝置中,用以單純且簡 單之私序且令基板等之密著性及平坦性上難以發生問題, 又彩色顯示特性等優異者; 本紙張尺度適财關緖準(⑽)織格⑽χ297公爱) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-11 - 496981 五、發明説明(9 ) 一可利用樹脂具有藉光之照射使之流動化,尤其是氣 化,更佳者是直接氣化(原意係指昇華)之性質,進而藉隨 後之加熱使之硬化,也不需要用以將作業環境減壓等程^ ’即可形成具有多層且呈複雜形狀之空隙者; 一使之具有層間絕緣膜薄,且不會包含有發生液晶注 入不良之積層構造之液晶顯示裝置者,·及 一使於層間膜上之電壓之降低少且反射率及對比度等 性質優異之液晶顯示裝置者。 [發明之揭示] 本發明之目的係於解決以上各項課題,而著眼於以 各點。 、 第1點係,乃將以一定物理、化學條件起發色作用之 特定發色素、具發色作用之物質(色素、染料、對掌性試 j、顏料、根據與進入之特定物質反應而可發色之物質等) 配置於各微小區畫構造之特定位置上,隨後(通常)再充填 無色樹脂等,進而加上一定條件,使該樹脂發色,同時因 應需要一併使之硬化者。 第2點係,藉於供攝影刻印術用曝光材上所使用之近 务、外線等電磁波之照射,及進而加上以⑼。◦以上之溫度使 之幵華(包括由固體經液體而氣化之狀態),或於反而不需 =華之物f上覆蓋光罩(遮先用)’再藉紫外線曝光後,以
Ik後之力…、使曝光部及被曝光部之物質昇華,而形成胞 元。 藉此頒不叙置等係依其規則或規格,配列成縱橫幾 本紙張尺度適用中國國家標準釐)
.................— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ. -12 - 五 、發明説明(10 2 ’二邊數十〜數百㈣,當然大小達數mm左右之正方形 素等U小區畫’進而也可藉箱體配列成幾段者,而本發 日:係可使該區畫,具體上係液晶胞元及濾色片之胞元之製 為可犯者。§然,也可因應需要形成幅寬數十、數百, 而小的時候可小到2〜3μη1之帶並列成幾列之條狀或三角形 構造。 又,於使前述材料沿上下方向重疊幾枚之狀態下,由 基板上方以光罩為中介使各層之材料-次曝光,而可將上 下各層之胞7L對齊形成者。χ,此時,也可防止使上下各 月^ 7C間之色彩等之相異液晶分子相互混雜者,並可形成頂 蓋者a此雖⑤有頂蓋部及隔離層,仍然可使用以形成該 隔離層等層之物質’係可藉具有不單使前述紫外線透過, 並可使前述昇華後之物質分子(包括一旦液化後之氣化)通 過之性質之材料形成者。又此時,兼具導電性之物質係兼 作為液晶裝置用之電極。 第3點係,使充填於間隙内之物質係兼具液晶層及濾 色片之作用,因此對用以將色素、對掌性試劑等配置於各 胞元(充滿液晶等之間隙内)之裝置,特別是以所謂的嵌鑲 (mosaic)或二角形配列之形態而言,係事先於上述昇華性 物貝中此入封入有色素之微膠囊,進而隨後朝向胞元内注 入之無色液晶内加進用以破壞微膠囊之物質。 第4點係,連同以上各點,液晶朝各胞元内之注入係 用以於每一像素上設有使各層共通之注入孔,進而在注入 液晶後,藉封口用樹脂將共通注入孔封止時,係著眼於基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公楚)
•訂丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -13- 五 、發明説明(11 板與液晶間之埶膨阻φ Λ,, ^ …恥脹率之差,因此構建成於高溫時將液晶 …再塗佈封口用樹脂,隨即降溫到室溫者。 以下是各發明之具體構成。 又月係因使用於液晶顯示裝置之濾、色片,因此於用 :::t像!等區隔之隔離壁上(基板之相反側)進而形成有 朝上方大出之上部隔離壁。因此可於濾色片上面塗佈感 光14光阻’亚以隔離壁為光罩而由玻璃側照射一具難以被 /收之長波長之紫外線,對該感光性光阻曝光。在依 此形成且以上部隔離壁區分之區晝内充填有液晶等。 、又1一發明係,於基板上以攝影刻印術或印刷且根據 .等之配列、尺寸等之規格形成通常為等高之支撐壁 在4上杨成有樹脂薄膜層,進而用以充填朝以上下基 板及樹脂薄膜層、側部支持壁所隔離之區晝内真空注入可 用以產生發色作用之樹脂,並加以硬化。此時為了不使基 板彎曲,而將施行有難以附著樹脂之處理的玻璃板等將基 板按屢在基台上,並朝玻璃板上等照射紫外線以及加熱, 而使樹脂硬化。 在另I明中係以隔離壁為光罩而由基板側照 射近紫外線(難以被玻璃吸收)等,藉該攝影刻印術,可僅 於各區畫之隔離壁上部形成有熱可塑性樹脂層,再將該熱 可塑性樹脂層為黏著劑,使各區晝之隔離壁上部黏著有樹 脂溥膜等。除此之外,也可使用金屬輥等裝置,使樹脂薄 膜不會彎曲。 又,在另一發明中,係使用於液晶顯示裝置,故將之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公
、τ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 納入考慮,而構建據色片之各部分之材質及狀態。 又,、在另—發明中,係藉印刷等形成條狀等形狀之支 標壁,並以該支樓壁隔離 離之區晝内以印刷等配置以特定條 件產生發色作用之特定發g去 一 素。此日寸,各區畫係對應於顯 不面之像素或濾色片之規格。 又另一發明係供彩色顯示用之液晶顯示裝置使用者, 6亥液晶顯不裝置係形成有像素,係於具有電極之基板上, ;層一定層數之:著有對應各像素之電極,或本身兼作為 〃極之透月树月日薄膜,亚使其與基板間及樹脂薄膜相互間 ^一定間隙(但不限於等間隔),進而在於基板與樹脂薄 Μ間及樹脂薄膜相互間之間隙中充填包含有色素及對掌性 試劑等特定發色素之液晶者;該發明係以上下(與基板垂 直之方向)重登之形態積層樹脂薄膜及作為中間隔離層之 樹脂薄膜,並設有支持構件,使基板與樹脂薄膜間及樹脂 ㈣相互間保持-定距離,同時可包圍每一像素之周圍, 每一像素作區隔。又,各像素上下之液晶層係藉 树脂潯膜隔離。 β因此,即使萬-在樹脂薄膜上產生孔或裂痕時,也只 疋該像素形成不良,可防止顯示部全體發生液晶注入之不 良’並提高製品之耐久性等良率。又,在液晶顯示裝置中 ’支持構件也可兼為黑色矩陣。 又’或另一發明中,樹脂薄膜係由透明之導電性樹脂 所:成。因此’樹脂薄膜也可兼為像素電極,與在絕緣體 之树脂薄膜上形成電極之形態相比,可抑制樹脂薄 496981 五、發明説明(13 )壓降低,且可實現高顯示性能。另外,此時之導^ 係較厚形成時’而使透明性劣化,因此希望厚度係形成數 ㈣左右以下’但是在這狀態下,各像素之液晶係機械、 物理獨立存在(在習知技術中是沒有的),因此也可抑制製 造上之良率降低及耐久性之劣化。 又 又’另-發明係使樹脂薄膜可對每一像素電氣割分, 因此可使各像素單獨驅動,可行矩陣顯示者。又,在之時 候當然也可因應需要’將接觸孔設在支持構件内。 又’另-發明係使各像素内之液晶與另一像素之液 分開單獨存在’只有在製造時,可與在同一像素内上下 層之各發色用相異液晶層具有共通液晶注入孔。 又另I明係,各像素之各發色用之液晶層係具力 共通之液晶注入孔’進而在每一層之入口部具有由上部( 注入側)之樹脂薄膜朝下部射入之幅射線及紫外線硬化 、二液混合硬化型、藉若干加熱而可硬化之型態之封止 樹脂。藉此,由共通的孔而朝每一層内充填用以形成特 顏色之賓主液晶之無色液晶等,同時且可藉業經硬化之 止用之樹脂防止該注入後形成發色性相異之液晶可經該 通注入孔來去者。而此時,封止用樹脂係藉塗佈於最 頂蓋)部之樹脂薄膜並加以硬化,不單只 孔封止者,還可發揮保護機械以及防止水份朝專作用。 -又,另-發明係,係用以製造形成有像素以供彩色 不用之液晶顯示裝置者,該液晶顯示裝置係於具有電極 積 有 型用定封共 上 入 入 顯 之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 曰曰
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂| 16· 五、發明説明(14 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 基板上,積層由顯示用之彩色或其原色所決定之一定層數 之附著有電極或本身亦兼作電極之透明樹脂薄膜,並使其 與基板間及樹脂薄膜相互間具有由必要之液晶層厚等條件 所决疋之特定間隙,進而於基板與樹脂薄膜間及樹脂薄膜 相互間之間隙中充填含有特定發色素之液晶以構成像素者 ’又形成支持構件,該支持構件係用以使前述基板與樹脂 薄膜及樹脂薄獏相互間保持一定間隙,同時作為各像素之 水平隔離壁使該像素可與另一像素相隔離者,該支持構件 係依樹脂薄膜重疊形成於基板上之數目反復並重疊形成, 然後利用曝光等沿上下方向重疊形成者。 訂· 又因此’當各層形成有支持構件時,在該上部形成有 作為各液晶層上下方向之境界壁之樹脂薄膜。又,在於基 板與樹脂薄膜及樹脂薄膜相互間之間隙内注入液晶之前, 事先於該間隙内配置特定之色素等。又,於每一像素上開 0又有共通之液晶注入孔,使於同一像素内上下各層内可各 充填供發色用之液晶層。然後,原則上由該注入孔注入液 曰曰係無色液晶。進而朝向間隙内注入液晶中溶解色素。 藉此,可構建成:於供發色用之各層上對每一層各充 真構成特疋顏色之負主液晶之液晶(惟,充填時不限於具 有發色性者),因此可防止由於樹脂薄膜之破損使各像素 及各層液晶的混合,並抑制製品良率之降低。 又,另一發明係,發色素係藉放入於微膠囊内配置者 。進而,藉混入於液晶内之化學物質,而在液晶注入後或 進而隨後之加熱、昇溫時,破壞該微膠囊,可使發色素於 -17- 五、發明説明(15 ) 液晶内擴散。又此時,同時並施有加熱、振動等之處理。 以二月係一種液晶顯示農置之製造方法,其係用 ,:、: 像素以供彩色顯示用之液晶顯示裝置者,該 液晶顯示装置係於且有雷 I、有電極之基板上,積層一定層數之附 *或本身亦兼作電極之透明樹脂薄膜,並使其愈Α 板=及樹脂薄膜相互間具有一定之間隙,進而於基板與樹 脂相間,樹脂薄膜相互間之間隙中充填含㈣定二色性 色素或對旱性試劑等之發色素之液晶以構成像素,而於反 定數之藉曝光後之加熱而具有昇華性(目前而言 Γ::、的)或失去昇華性之感光性材料及樹脂薄膜後, 再由攝影刻印術與像素部分上之感光性材料之昇華,而於 ==成供像素用之各發色用液晶層且上下積層之多數 間隙以及位於周邊之支持構件。 依此構成,可不需特地用以形成支持構件之步驟,可 =造過程簡化。又’在於上下各間隙内施以液晶注入之 發色素’因此該發色素可溶解於注入後之液晶, 2作用。又,由共通注入孔,除了特別用途外,原 二:上下間隙内充填無色液晶,因此可輕易形成發色 用液晶層。 又日’在另—發明中’感光性材料係於曝光後藉加熱而 部=性之材料,此時在施行攝影刻印術時,可使像素 .曰^在另—發明中’係事先於各層用之感光性材料中 此入特定且非昇華性,同時當然是非蒸發性之兩色性色素 五 之 塗 晶 部 蓋 等 、發明説明(16 等,使像素部之液晶充填部之液晶昇華後,而形成間隙, 同時並於各間隙内殘留有發色素。 ^又,在另一發明中,每一像素之各層共通液晶注入孔 係因形成有用以充填液晶之間隙,因此也可兼作—當感光 性材料昇華時之分子通過孔。 、又在另一發明中,係使每一像素之各液晶層共通之 左入孔於各層上以樹脂封止者,因此可利用液晶與基板等 之熱膨脹率之差。即,基板上像素部之液晶朝各間隙内 注入係於加熱到一定溫度下進行,隨後至少在注入孔部 佈封止用樹脂,再使基板溫度降低至室溫。然後,與1 相對之收縮封止用樹脂係被吸引到注入孔内各層之^口部 。處於該狀態下之封止用樹脂係施行固化。因此使於各層 中各像素内含有彼此作用不同之發色素之液晶不會相互混 合者。 一種構造體’係於除了對向配置之基板部及頂蓋部間 之全面及周邊部以外之全面夾持隔件後,再僅將像素形成 部等特定領域上之隔件材料除去,而形成由基板部、頂 部及未除去之隔件所包圍之空隙者,該隔件係藉紫外線与 施與特定能量而可分解昇華(在此係包括液化後之蒸發)之 材料等;而該頂蓋部則係可使該昇華氣體分子透過之材料 因此,該空隙係可以光罩為中介,藉紫外線之照射等 附與特疋此里,即使是微細尺寸,也可高精度且輕易地形 成者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇χ29Μ^)
、?τ— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 19- 五、發明説明(17 ) 又’在此所謂的「特定能 線、溫度_以上等之熱或者是…種^ i者:不因是Γ受於使用時由周邊環境曝曬或;:用時曝 =造::昇:::::::使⑽與,當然不 宜具有下列性質,:料昇華。又該材料係 華者。 旦%以加熱硬化之處理後不會昇 間至:以t另:發明中,係於對向配置之基板部及頂蓋部 二::=::層是2段州晴為 中間#層、頂蓋部之各声 線,照射等附與特定能量而昇華_ 華加以除件係經對由紫外線照射特定領域而使之昇 下為軸、頂==構造體係可積層重疊形成由上 :::::::前述特定“一時可使 十之刀子透過之材料所形成者。 途二基璃為基材者,根據製品用 成。在此時 了員盍邛及中間隔離層為同-材料形 = = = ;=促進…一充 外部逸出者快速進行板側)之昇華氣體分子朝 罩之發明’特定能量之附與係、藉紫外線透過光 射者,因此多層隔件材料係可以同-形態重疊之態 五、發明説明(18 樣下進行曝光。是故,可一, 形狀之多數空隙,特別是邊緣對=者有沿積層方向連續之 又,依另一發明,一種積> 構成隔件之材料昇華而形二藉曝光使用以 明樹脂液晶等且與隔件材料相異之材料填有含有色素之透 二在=:中係包含有下列步驟,即,-隔件層 i成步驟,係於基板上,由藉特定能量 曰 料或以該材料為主材之材料 ::而-華之材 .^ X有’一頂蓋部形成步驟 華〔二隔件層上積層由使前述特定能量通過,進而使昇 =ΓΓ所形成之頂蓋部者;及-空隙形成步驟 ,係於像素及渡色片形成部等上隔件材料之特定領域上, =能量之附與而使該部位之隔件材料昇華,進而使該 …體分子透過頂蓋部而朝外部排出者,形成由上下基 板部及頂盍部以及側部之未昇華即除去之隔件材料所包圍 之空隙者。又,除了以上步驟外,尚可因應需要,進一步 包含有-設置細孔之步驟1 ’該細孔係可供朝形成兼作 用以促進昇華氣體之釋出及散失之空隙注入液晶之用;或 k疋步驟’即,選定4疊有導電性樹脂及強度較高之 樹脂之膜作為頂蓋部者;或,一使未昇華之隔件層之材料 硬化之步驟。 又,另一發明係包含有下列步驟,即:一重疊層形成 乂驟係於基板部上多次形成由隔件及中間隔離層所構成 之層,該隔件係經由特定能源之附與而昇華之材料所形成 而σ亥中間隔離層則係由使昇華分子透過之材料所形成者 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(21〇χ297公楚)
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、tr— 21 - 496981 五、發明說明(19 ;-頂蓋部形成步驟’係於形成後之最上層隔件的上面形 由使前述特定能量通過且使昇華氣體分子透過之材料 开:成之頂蓋部者;及-空隙形成步驟,係於隔件之特定領 t、附與特定能量’而使該部位之隔件材料昇華,進而經該 升爭氣體分子透過中間隔離層及頂蓋部而朝外部排出者, 曰、“/成由上下基板部、頂蓋部、中間隔離層及側部之未 昇華之隔件材料所包圍之空隙。除了以上步驟外’另因應 需要,還可包含有:用以於隔件材料中事先混入極少量之 t素及對掌性試劑等之混人步驟,或用以於業已形成之空 P:'内以真空注入法注入液晶之注入步驟等。 “又依另一發明,可於頂蓋部之上方或者是相鄰接之上 又置光罩’該光罩係具有-對應於基板上之濾色片及像 素之形狀、尺寸、配置等之切角;進而由該光罩上方照射 紫外線等’藉此使隔件材料之特定部分曝光、分解並 y ,或照射後藉加熱使之昇華。此時,昇華後之隔件材 抖之分子係透過中間隔離層及頂蓋部等部分後再排出,因 此可形成正確重疊多層且特別是邊緣對齊之空隙。 ”又,依另一發明,可.於業已積層之區畫構造物之微小 二隙内充填有與隔件材料相異之材料。具體而言,,充填 有諸如液晶者,可輕易製造作為液晶顯示元件之構成要素 之積層區晝構造物。 Μ 又,依另-發明,使構造物,不只遽色 f置(其面板),係可由各種微細且多數區晝所構成,^ 疋具有該等區畫(包括膜等在内)者。 本紙張尺賴鲜_ A4規格⑵GX2_
•訂— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -22- 496981 A7 _____B7_ 五、發明説明(20 ) [本發明之實施形態] 以下,根據最佳實施形態說明本發明。 (第1實施形態) 本實施形態係有關於一單層型之彩色液晶顯示裝置, 其係由攝影印刻術形成條型像素之區晝,進而在像素内印 刷塗佈染料後再注入液晶者。 一邊參考圖示一邊說明本實施形態。 第4圖係顯示本實施形態之液晶顯示元件之製造方法 之概略。以下,依本圖說明製造之順序。 Ο)在基板20上形成條狀圖案之透明電極21,進而重 疊塗佈定向膜(以下未圖示)22。 (b) 塗佈東京應化工業(股)公司之黑色顏料分散光阻 41,厚度5μηι,再以光罩23為中介,施行近紫外線(UVA) 之曝光。 (c) 施以顯影處理後,在電極2 1之空隙上作成與電極 幅寬相同0.33mm之間距形成寬、高度5μιη之條狀支 持柱42,再於200°C之烤箱硬化1小時。 (d) 全面塗佈由jSR(股)公司之丙烯酸系正型光阻 PC403所形成之光阻膜43,再藉具備難以被玻璃吸收之長 波長之紫外線由基板2 0下面側曝光。 (e) 支持柱42係可作為一遮光用光罩,因此施行顯影 處理後’只剩下支持柱42之頭頂部上由光阻所形成之黏著 層44。此外,本發明人發現:上述pC4〇3係本來用以作為 構成微鏡片用之熱熔融型光阻,是一種在持續加熱後即會 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
-23 - 496981
硬化,可有效地施以微細加工 <黏者材者。當然不限於此 ,因為正型光阻係具有埶可鄉w”, π…」塑〖生,所以也可形成黏著層。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此時,以丙稀酸系及菜r、成i 本乙細糸之熱炼融型S阻形成黏著層 為佳。 然後於化學纖維之染色上之曱川型染料、對苯醌染料 等中’係選擇其分子構造不是呈棒狀者後,加以混合,可 仔到非-色ι±之紅、綠、藍之三種色素。再將該等色素溶 解於二乙二醇二甲醚中成1〇重量%後,以篩印刷塗佈於支 持柱42間,隨即使之乾燥,使紅⑻色素、綠⑹色素72、 藍(B)色素73呈條狀附著(朝圖中之深度方向延伸)。 、tr— (f) 將於内(下)面側形成有IT〇列電極31及業經重疊之 定向膜32之對向基板3〇係於載放於支持柱“上之狀態,放 入真空岔封袋後均勻施壓,纟"之烤盤上加熱,數分 鐘後則使黏著層44熔融毀壞,再加熱2小時後使黏著層44 硬化因此可使上下基板20、3 0強固地黏著到無法用手剝 離之程度。又,可非常正確製作胞元其厚度為6±〇〇5_ 〇 (g) 藉由將面板端切斯形成之注入孔施行通常的真空 注入,可朝各微細胞元空間注入相同的對掌性向列(chiral namatic)液晶。隨後將面板加熱至1〇〇。〇,使各色素熔解 於液晶。藉此,使業經RGB著色之液晶層81、82、83充滿 於各胞元工間,進而該液晶係經重疊而扭曲,呈向列定向 。進一步經過長時間,也發現各色之液晶沒有相互混合。 δ者如習知形態,係將賓主液晶分別放入時,施加電壓 本紙張尺度適财關緖準(⑽Α4規格⑽X29%d -24- 496981 A7 _____Β7_ I五、發明説明(22 ) ^ ^^~:- 後’不只是明度’連彩度都會變小,使可顯示之顏色有限 1 ’在該面板之上下方添附一偏光板時,即使藉電壓改 變各胞元之灰階,但在$翁声卜、、§古扑料 1杜巴々度上/又有改變,進行全彩色顯 示。 λ ’以全色顯示時係以RGB3色進行時,在習知例時 m!劃分各液晶者,因此不得不多次進行切斷面板之處 理,且必須將切斷部擴大。但於本實施例中,在將基板相 貼合前,事先將色素塗佈於基板上,因為色素的量係與胞 元内之空間相比為少量,只有數%,所以可以簡單的印刷 法塗佈者,且在注入時可一次注入相同且透明之液晶,因 此可容易地將用以形成不同顏色之液晶填滿各胞元内,其 步驟比起在作成濾色片時還簡單,並且也沒有濾色片上之 凹凸的問題。 以諸如噴射法之方法直接分別地放入著色液晶時,如 果不能非常正確地控制其吐出量,則使液晶混雜在一起, 或不足或產生氣泡。而在本實施形態中,係構建成一使 | 微細胞7L空間橫向排列之面板,即使是積層了藍綠(cyan) 、洋紅(magenta)、黃色之液晶層後依減法混色顯示之液 晶面板’也可藉事先附著色素後再將同一液晶導入之本發 明之製造方法’同樣也可具有相同效果。又,除了液晶面 板以外’對於朝微細胞元空間内注入顏色相異之溶液形成 之構造物也有效。 又’在本實施形態中,係將支持柱42硬化後,使光阻 作為黏著層’藉裏面曝光,只留下支持柱42上方之黏著劑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格⑵Gx297公 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-25- 496981 A7 B7 五、發明說明(23 層因此可正確地控制胞元厚度,且可使定向膜裸露,得 到均勻定向。又,由於可正確地在微細支持柱42上形成黏 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 著層因此可使黏著確實,排除在彼此相鄰胞元空間間之 漏通。 —除此之外,液晶之著色劑係除了色素外,也可使用對 軍1± β式刻,產生圓偏光二色性之發色。此時,用以向rGB 各月l元塗佈之對草性试劑係相同種類也可,也可藉改變 其量,使對掌性試劑熔解於向列液晶時,使扭曲間距之態 樣相異,使顏色相異者。 又,當然也可在前述(b)及(d)步驟中,對各感光材料 之曝光之波長依存性下功夫而構成者。 進而,可構建成黑色矩陣而產生作用之形態,或以可 見光時是呈黑色但紫外線可穿透之形態。 (弟2實施形態) 本實施形態係有關於濾色片之製造。 第5圖係用以顯示本發明之濾色片之製造方法之順序 。以下根據該圖說明其内容。 (a) 在玻璃基板20上.用以黑色顏料光阻且高度15 並可包圍像素之黑色矩陣形成支持柱42。 (b) 將R、G、B色素71、72、73溶解於由二乙二醇二 甲鱗及增黏劑所形成之少量之丙烯基低聚物,以篩印刷塗 佈於基板20上後,再使之乾燥後附著之。 (c) 將基板20放入真空室,滴下紫外線硬化型之丙烯 酸樹脂溶液3 8後,藉於一業經研磨且厚度5mm之表面上施 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -26- 496981 A7 ____B7 五、發明説明(24 ) 有離型處理之玻璃定盤300冲壓,該離型處理係塗附因分 子不具極性而難以附著其他物質之氟素單分子膜39者;並 持續加壓到支持柱42與定盤3〇〇間沒有空隙為止,使丙稀 酸樹脂溶液38之厚度為一定。另外,該丙烯酸樹脂溶液38 係將分子量增加,使色素在常溫時之溶解速度非常小;進 而,針對與色素之相溶性調合幾個單體及低聚物而作成。 由結果可知,在該階段時色素幾乎是不會朝丙烯酸樹脂溶 液擴散。 (e) 在該加壓狀態下將面板加溫到9〇。(:,使色素可溶 解於丙烯酸樹脂溶液中,照射紫外線後,使藉RGB各色色 素而著色之丙烯酸樹脂固化。 (f) 將定盤300剝離後,製作了一具RGB之濾色片9ι 92 9 3。又’濾、色片係因受研磨玻璃冲壓,使可形成一 平坦性極優之表面。 另外,將支持柱42構建成條狀之態樣時,諸如前一實 施形態般,亦可以定盤加壓後再注入丙烯酸樹脂液晶。^ 又支持柱42也可以印刷形成者。此時係應用於衣料 面’也可供内含有熱膨脹劑之微膠囊之用。 在本實施形態中,與前一實施形態同樣,乃在形成微 細胞後,事先附著色素,再朝微細胞元内填滿樹脂,進 而使色素溶解於該充滿液晶之樹脂中,與習知之用以將樹 脂直接吐出之喷射法比較,前述之程序比較容易,又比較 兩者之印刷法時,前述之平坦性較為優異。 又,在本實施形態中,係藉加溫促進色素溶解於丙烯 本紙張尺度適用中準(CNS) A4规格⑵〇χ297公爱) '1 〜 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-27- A7 "~---------_ 五、發明説明(25 ) -- _脂溶液,惟除了這種方式外也可採用其他方式,諸如 光、超音波等。 並不限於用以调合丙烯酸樹脂之方式,也可將色 素封入於微膠囊内,藉一定時間、階段,而使膠囊壁溶解 或損壞,使内部之色素溶解其中者。 该種方式也可用以於前一實施形態。 (第3實施形態) 本實施形態係有關於彩色顯示用之液晶面板之製作。 第6圖係顯示本實施形態之濾色片之製作順序圖。以 下,一面參考該圖一面說明其中内容。 (a) 在黑色矩陣之支持柱42間塗抹尺、〇、B之色素71 、72 、 73 。 (b) 滴下紫外線硬化型丙烯酸樹脂溶液38後,於其表 面上,藉金屬輥301將具黏著性且厚度6μηι之正型薄膜光 阻43積層於支持柱42上並加以黏著。又,在此,該積層方 式係以諸如金屬般的硬材質之滚筒進行者,這是因為橡膠 滾筒會使薄膜光阻於支持柱間彎曲,而造成厚度不均變得 非常嚴重的緣故。 U)又加溫到90 °C,使色素溶解於丙烯酸樹脂溶液3 8 後,再藉由裏面側之紫外線照射後曝光,使業經著色之丙 烯酸樹脂溶液硬化,且對薄膜光阻進行曝光。 (d)施行顯影後,只留下黑色矩矩陣上之光阻約高度 6μηι,且與各色用濾色片91、92、93同時形成隔件4〇。 (0在該基板20上形成電極36、定向膜22,在真空下 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、盯| ·, -28- 五、發明説明(26 ) 滴下液晶後’再貼合對向基板3 〇。 由以上之說明可知,依本實施形態,可以非常簡易之 程序製作高均勻性之彩色顯示用液晶面板。 (第4實施形態) 本貫施形悲係有關於一用以使各像素相互獨立存在且 由3層液晶層所形成之反射型之液晶顯示裝置。 第7圖係本實施形態之反射形液晶顯示裝置之中央部 像素1之平面圖。由該圖可知,各像素丨係略呈正方形,一 邊大約300μπι。又,第8(a)〜(c)圖係各為第7圖中A_A、& B、C-C線處之截面圖。 其次,示於第7圖中之像素丨係由第8圖所示者可知, 三液晶層85、86、87係重疊著。然後該等三液晶層85、% 、87間係以樹脂薄膜51、61隔離,進而在於基板汕上(圖 上)最上面之液晶層87上設有—可形成上界面之樹脂薄膜 33。又,該樹脂薄膜33係用以與位於下層之樹脂薄膜η、 61同一之材料。 又,在各像素間,包圍各液晶層之周目使内部之液晶 與另像素内之液晶不相往來而區隔’並同時設有用以於 基板20上支撐樹脂薄膜51、61、33之支持構件4〇ι、術、 403 ° 又’在各像素内設有直徑數μηΐ2點狀支持構件4n、4i2 、413 ’與像素周邊之支持構件4〇1、4〇2、4〇3同時與樹脂 薄膜51、61、33保持著一定間隔。 各樹脂薄膜5 1、6 1 33係由具有導電性之透明樹脂 之 之 止
、可| (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 496981 五、發明説明(27 >成’亚且兼作為像素電極之用。又,樹脂薄膜5卜6卜 33係於支持構件401、4()2、彻上對每—像素割分者。又 ,第1圖中只有樹脂薄膜8以假想線顯示。 又,在用以區分各像素之支持構件401、402、4〇3上 對每一像素設有接觸孔421、422、423,且兼作為電極用 之樹脂薄膜51、61、33係各自藉充填於接觸孔421、422、 423内之導電性樹脂(同樣以標號421、422、423表示),而 與基板20上之驅動元件之端子25、%、27電氣連接。 如第8⑷圖所示,樹脂薄膜51係藉相對應之接觸孔42ι 而只與端子25相連接’樹脂薄膜61、33也同樣地各藉接觸 孔422、423而專與端子26、27相連接。 依此,藉於1枚基板2〇上所形成之驅動元件(未圖示), 可控制外加在各像素兼作為各色用電極之各樹脂薄膜Μ、 61、33之電壓,且控制供各色用液晶層以、%、87各自之 顯示動作。 又,各像素係,如第8圖所示,具有三液晶層85、% 、87共通之注入孔48。然後該注入孔判係用以朝各像素 各液晶層用之間隙且在真空下注入液晶,隨後藉封止用〜 樹脂45密封。又該封止用樹脂45係被充填迄至注入孔“内 各液晶層85、86、87之入口部,藉此可使每一層不會有顏 色相異之售主液晶相互混合之情況發生。 又,在注入孔48之旁邊係如第7圖所示,設有支持構 件414,在欲以封止用樹脂45封止注入孔48時,可使封 用樹脂45不會擴散到像素1之中央者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 30- 496981 A7 五、發明説明(28 ) 又,如弟8圖所$,在封止用樹脂45上藉蒸鍍而形成 有一鋁製反射膜34。 成 惟,對各液晶層85、86、87之賓主液晶而言,係 於該等用以形成各液晶層之樹脂薄膜間之間隙内放入特— 之二色性色素,並使不含二色性色素之無色液晶自各像^ 之各層共通之注入孔48注入,利用封止用樹脂封止各層之 注入孔後,再使二色性色素溶解於液晶而形成者。 然後藉此,可構建成一不但可使於液晶注入時防止顏 色相異之賓主液晶相混合,還可輕易地對3層的液晶層分 別注入各種顏色之賓主液晶。 如此可對每一像素區隔液晶層,進而朝各層填加液晶 後使色素溶解,可防止因樹脂薄膜之孔洞及破損而使賓主 液晶擴散到另一像素之色彩之層,導致良率降低者。 其次,針對該液晶顯示裝置之顯示方式作說明。 其係構建成於三層液晶層8 5、8 6、8 7内充填有各含有 藍綠、洋紅、黃色之二色性色素之賓主液晶者。 外部光係自基板20側射入,依序穿透液晶層85、86、 87後,在反射膜34反射,·於反射時則相反的依序穿透液晶 層87、86、85,再進入觀察液晶顯示裝置之觀察者之眼睛 。此時,各液晶層内之二色性色素係與液晶分子同時定向 ,因此根據液晶分子之定向方向,可改變光之吸收、穿透 的程度。是故,藉驅動元件使液晶開始動作時,可同時控 制光之著色、穿透,且可經減法混色以施全色顯示。 又,經由樹脂薄膜作為導電性樹脂時,與習知相比, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂| t 31 - A7 B7 五、發明説明(29 可減低樹脂薄膜上之電壓,且可以低電壓實現高反射率、 高對比率者。 接著,利用第9、1 0圖說明本實施形態之液晶顯示裝 置之製造方法。 第9圖係用以顯示第7圖之C-C截面處,其構造隨製作 之進展之變化者。第1〇圖係用以同樣地顯示第7圖之冬A 截面處隨製作之進展其構造之變化者。 、下首先根據第9圖說明C-C截面處製作時之變化。 (a)在基板20上先對每一像素形成3個驅動元件與端子 25 26 27以及電極31。其次,在用以形成可劃分像素之 支持構件及各像素内之點狀支持構件之部位上形成相當於 光罩圖形之裏面曝光光罩23。該裏面曝光光罩以係指含有 碳(黑色)之光阻材丰斗或鉻等之金屬M。再於基板上塗抹用 以形成支持構件之正型光阻後,令該裏面曝光光罩為光軍 後施行曝光,在與該光罩相同位置下形成有支持構件及點 狀支持構件。 此外,如第 8(c)圖中401、4〇2、4〇3、411、4i2、413 所示’係積層形成時’當然是自動在各層使支持構件位於 相同位置而形成者。 (b)製作用以形成最下層之液晶層之間隙,並於上部 形成用以具備電極之樹脂薄膜,再將該膜劃分於每一像素 ,因此可施行基板20面之平坦化。即,首先於基板2〇上:、 將藉加熱而昇華之物f24溶解於溶劑,再藉筛刷塗抹,去 除多餘部分’在基板2〇上面形成平坦之膜。又此時,在該 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、tr— 擎 -32- 496981 A7 B7 五、發明説明(3〇 昇華性物質2 4中混入有藍綠二色性之色素。 (C)藉旋塗於該平坦基板2〇上面塗佈導電性樹脂,而 形成樹脂薄膜5 1 0。此外,在接觸孔42 1、422、423内也充 填有该導電性樹脂,使基板2〇上之端子25、26、27與樹脂 薄膜5 10相導通。 (d) 藉攝影刻印術及蝕刻而於支持構件4〇丨上將樹脂薄 5 1 0割分於每一像素,同時並將不會與第1層之樹脂薄膜 導電之接觸孔422、423周邊之樹脂薄膜除去。藉此,可於 每一像素上形成兼作為下部液晶層之電板之樹脂薄膜5 1。 其次,對基板20全體照射紫外線,於曝光後,再將全 體加熱至可使昇華性物質24昇華之溫度,使該物質24昇華 。此時,樹脂薄膜51係採用可使昇華性物質透過之材料所 形成,因此使昇華物質穿透樹脂薄膜51而朝外部排出,同 時亚形成用以將液晶充填於樹脂薄膜51及基板汕間之間隙 85:此時,因混入昇華性物質中之二色性色素(未圖示)不 會昇華,依然處於附著於間隙之内壁上之狀態。 (e) 前面步驟重覆三次,形成沿與基板面垂直之方向 重豐之三支持構件401、.4〇2、4〇3 ,在各支持構件上同樣 地積層樹脂薄膜51、61、33,並於該等薄膜間同樣地形成 用以形成液晶層之間隙85、86、87。在此,上、中兩樹脂 薄膜61、33係各藉接觸孔422、423,與基板上之驅動元: 之端子26、27相連接。又,在間隙%、以内部以前述同 樣的方法各使洋紅、黃色之二色性色素附著。 根據以上構件,在於基板上各像素相當部形成可朝重 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-33- 五、發明説明(3i ) 疊形成之各樹脂薄膜51、61、33注入液晶之用之共通注入 孔(在本圖未顯示)’藉此於昇華性物質昇華後所形成之間 隙内注入液晶’進而使各液晶層獨立化後加以封止者。 一以下’-面參考第10圖—面說明前述程序。同⑷圖係 顯不與第9(e)圖相同之階段之a-A截面者。 在(b)狀態,係由與顯示面垂直之方向而朝每一像素設 置:共通注入孔上之樹脂薄膜照射點狀雷射光,且開設: 可貫通三樹脂薄膜層且其徑極小之注入孔48。X,該注入 孔48之開設係當然可藉攝影印刻術及乾式蝕刻(諸/氧氣 電漿之活性離子餘刻)之組合等另一方法。 其次’在真空下’使完全不含色素之液晶朝基板上滴 下,使之朝三層間隙85、86、87内充填液晶。又,同時將 基板加熱到攝氏6〇度。 又’因為樹脂薄膜51、61、33係具備通氣性,所以可 將間隙内之空氣透過樹脂薄膜而排出,使間隙内不會殘留 二乳而可完全充滿液晶者。在此,二色性色素係與充填於 間隙之液晶相接觸,朝内部稍微溶解,但因基板溫度係攝 氏6〇度非常的低,而用以充填液晶之所需時間較短,因此 不致於溶解很多。又,液晶係經注入孔而於各像素之各層 間隙朝内部流動,因此也不會使稍微溶解有色素之液晶由 注入孔之方向朝外部流出之情況發生。因此不會發生顏色 相異之賓主液晶介由共通注入孔而相混合之情況。$ ^ 由以上說明可知,係藉設置有共通注入孔,可使像素 不會有液晶混色之情形發生,且可使液晶同時朝全部之層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4规格(21〇χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、可丨 -34- A7 B7 五、發明説明(32 注入者。 在液晶完全充填於各間隙内時,殘留在最上層之薄膜 33上之多餘的液晶係藉破布吸收去除後,藉旋塗對基板全 體上塗佈透明的封止用樹脂4 5。 在(c)之狀態中,將基板溫度從攝氏6〇度降溫至常溫, 使充填於間隙内之液晶係比基板多少過度地收縮,因此使 封止用樹脂處於由液晶用之共通注入孔48稍微侵入間隙内 入口部之狀態。在此刻使封止用樹脂硬化。藉此,如(c) 狀〜、所示係有封止用樹脂進入於各液晶層之各注入口, 可石$實封止而使各層間之液晶不會混合者。 其次,該封止用樹脂之硬化係,可將兩液混合硬化型 之混合樹脂在室溫下放置半天〜丨天左右硬化者,也可使 用藉幅射線及紫外線之照射在短時間内硬化之樹脂,藉紫 外線之照射固定於供給孔内者。 此外,在此不只將封止用樹脂塗佈於注入孔,還塗佈 於基板全面上,係因為可作為一通氣遮蔽膜,其係可防止 空氣中之氧氣或水分穿透兼作為用以保護液晶層之保護膜 之樹脂薄膜後進入液晶中。 其次,將基板加熱至液晶係成各相同向性之溫度。藉 此,使先前殘留在各間隙内壁上之二色性色素可完2溶^ 於該間隙内之液晶。又’該二色性色素係於溶解於液晶之 狀態下,當然也可在混入於昇華性物質時事先調整好:量 ,使三層積層時之顏色適當者。 最後’朝於基板之相反側上所存在之勢 于仕之業經固化之封止 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-35- 496981 五、發明説明(33 ) 用樹脂22上蒸鍍銘,形成有一反射膜(未圖㈤後, 一反射形液晶顯示裝置。 70成了 又,本實施形態係使第i、2、3層 a^ 日日層之賓主液 曰曰各為監綠、洋紅、黃’ t然也可改變該著色之順序。 又,當然將各層之樹脂薄膜係劃分於、 放在昇華後施行亦可。 像素之處理 ★又,當,然也可採用一將PET(聚乙締對笨二西 薄膜貼合於支持構件上後再於薄膜上形成電極之曰,、 形成具備電極之樹脂薄膜。 以 -二二色性色素對每一像素之各間隔之附著係也可施 订下列處理。 在於樹脂薄膜積層後且於注入液晶前之狀態下,先將 封入有特定二色性色素之微膠囊對每_層配置於每 之各間隙内者。此時,朝液晶内稍微添加用以將微膠囊之 隔離壁分解之材料。依此,以與先前實施形態同樣之方法 充填液晶後,使微膠囊與液晶接觸後破裂,盆 彳 X T -色性色 素朝微膠囊外逸出。再將液晶封入口 /± ^ 钌止後,加熱基板, 使二色性色素溶解於液晶中。 又,該微膠囊及用以分解該囊之材料係諸如可利用於 日常生活中所使用之感壓複寫紙(藉壓力分解)、醫藥品( 用胃酸4分解)等也廣泛採用之習知枯 " 明 後術,因此省略該說 (第5實施形態) 本實施形態係乃將前述第4實施形態之程序簡化而所 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公
訂— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 36 - 496981 五、發明説明(34 ) 構建者。 在本實施形態中為了簡化程序,係用以形成可充填、、 晶之間隙之昇華性物質係利用藉曝光及隨後之加埶日夜 之材料物質(以下稱之為昇華性光阻),進而將不昇、華= 華性光阻作為支持構件及點狀支持構件。結果知道,可= —次施行形成用以注入液晶之間隙,可圖謀製造程 = 化。 間 以下’本實施形態之液晶顯示裝置之製造方法中係針 對與前一實施形態相異之部分,利用第丨〗圖說明之。“ (a) 在基板20上,該基板20係於每丨像素形成有3個驅 動元件與其端子25、26、27及電極31者,令光阻24〇藉曝 光及隨後之加熱而昇華,溶解於溶劑後,藉旋塗法塗 0 又本實施形態中,該昇華性光阻係使用諸如於日本公 開公報特願平9-127057號中所揭示者,即,在聚㈣中加 入1重量%之錄、鹽之三苯婆六氟#弟,再溶解於環己剩者。 該物質係於曝光(254nm、5mJ/cm2)後加熱至1〇代,使前 述曝光後之位置上之材料昇華。因此,在塗佈I,留下用 以形成接觸孔之部位不加以覆蓋’而使之曝光後加熱,如 該⑷圖所示,形成接觸孔421、422、423。 (b) 在則述狀態下之基板上藉旋塗法塗抹透明導電性 樹脂,形成了樹脂薄膜。此時,接觸孔421、422、423内 也充填有導電性樹脂。然後,與前述第1實施形態同樣, 該樹脂薄膜劃分於每一像素,同時也將未與第丨層之樹脂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公董〉 (請先閲讀背面之注意事^再填寫本頁} 、一-T— ·- 37- 496981 A7 -—--—- 五、發明説明(35 薄膜連接之接觸孔422、423周邊部之樹脂薄膜去除。藉此 ,即可形成第1層液晶層之兼作為像素電極之樹脂薄膜51 〇 日(C)使以上程序重覆3次,如該(c)圖所示,可構建成 昇華性光阻及樹脂薄膜在基板上交互積層之構造。在此, 各樹脂薄膜係於接觸孔422、423内各與端子26、27相連接 。又,各層之昇華性光財係與前述實施形態同樣預先混 入特定二色性之色素。 (句朝用以形成像素之部位上之昇華性光阻照射紫外 線後,再加熱,可只使像素部分之昇華性光阻昇華,使殘 留用以包圍像素之部分,即用以形成支持構件之部分及用 以形成像素内之點狀支持構件部分之昇華性光阻。 依此構成,藉留下一部分之昇華性光阻,作為用以支 撐樹脂薄膜之支持構件401、402、403,並同時形成用以 形成液晶層之間隙85、86、87。因此,不需要前述實施形 態中之用以形成支持構件之程序,可簡化製造之程序。 根據以上構成,與先前的實施形態相同,於薄膜上難 以產生局部性的孔洞及破損,又即使發生破損時也只是發 生了孔洞等之像素為不良,對其他的像素沒有影響。因此 可防止在製造上良率之降低者。 又,與先前的實施形態比較,可將製造程序簡化。 (第6實施形態) 本貫施形恶係’不疋反射型,而是將液晶顯示農置用 於諸如電影之影片,即投影型顯示器者。 本紙張尺度適用中國國家標準(Ws) A4規格(210χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、可| ·1 38 496981 A7 -—----!L____ 五、發明説明(3ό ) 〜—--- 第12圖係顯示本實施形態之液晶顯示裝置之構成。在 本圖中’標號15〇為液晶型顯示裝置本體,151為液晶部, 1 52則為強力光源,! 53為影片。 然後,由光源射出之強力光係通過液晶部ΐ5ι而可於 影片上顯示影像。此外,在此液晶型影像顯示裝置雖未特 別圖示,其係具有控制部等,又,與前述兩個實施形態不 同的是不具有液晶部之反射板。 (第7實施形態) 本實施形態係使用高分子分散型之液晶者。 在此本實施形態之高分子分散型之液晶係指,在固體 之樹脂矩陣中存在有幾近球狀之液晶分子滴,該滴内之液 晶分子係藉電壓之有無而朝基板之方向以及與基板垂直之 方向旋轉’藉此使光透過、反射或斷絕者。即,各液晶分 子係與基板平行或垂直時,在液晶分子與樹脂矩陣之折射 率相同時,可使光通過,而在其他情況時則使折射率不同 ,使光散射而不能穿透者。 以下,說明形成該態樣之方法。 在各像素之各間隙層,中配置有事先内包有特定色素之 微小微膠囊。該間隙内係於真空下開始注入高分子分散型 液晶及樹脂矩陣前驅體之混合物,此時在該注入物質内混 入有可將該微小微膠囊破壞之物質,隨後微小膠囊遭到破 壞’而使色素擴散於注入後之物質。 在於各像素之各層間填充有高分子分散型液晶及樹脂 矩陣前驅體之混合物後,以水銀燈照射紫外線6〇秒,使樹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂— ·- -39- 496981 A7 B7 五、發明説明(37 脂矩陣前驅體固化後作為樹脂矩陣,同時並传肉 災門邻形成有 球狀高分子分散液晶滴。 隨後將顯示裝置全體加熱至100°C,使多音… (請先閱讀背面之注意事¾再填窝本頁} 從巴京元全地朝 液晶滴分散。 另外,本實施形態係因各液晶層基本上係屬固體,因 使用者之雜亂處理,使兼作為電極之樹脂薄膜稍微=損, 或產生細孔,但即使發生上述情況,内部之液晶也不會有 相混合之情形發生。 因此,在製造上雖然要下點功夫,但仍能構建成—耐 衝擊性及耐久性極端優異之液晶顯示裝置。 (第8實施形態) 、w— 本實施形態係利用昇華性物質形成使液晶等進入之間 隙者。 曰 本實施形態中之構造膜及其製造方法係參考第i3圖及 第14圖說明。第13圖係顯示該構造膜(物、體)之概念截面 圖,第14圖係顯示用以製造該構造膜之程序之截面圖。 該1層構造膜係如第13圖所示,係於對向配置之基板 部20及頂蓋部30間夾持有諸如方格狀隔件4〇,並於以該等 構件所包圍之領域中形成空隙8〇者。該基板部2〇、頂蓋部 30及隔件4G係利料f所用之攝影刻印術處理,且由不良 發生之危險性也少之材料所構成。因此,基板部20及頂蓋 部3 0之材料的種類;5厘# # γ 夂烊度係可因應使用目的,具有同一或 相異之態樣。 准隔件40係/旋固有類似光阻之黏性液體者。該材料
-40- 五、發明説明(38 ) 中係添加有藉具有特定波長之電磁波使溶質氣化成氣體之 物質。又’該溶媒係採用以有機溶劑為主成份之液體。而 /合貝則係才木用不與溶媒反應而可溶解,但藉酸可分解之聚 合物。 …然後,係使用諸如化學作用大之紫外線之短波長為特 疋波長之電磁波,而可吸收電磁波之物質則係採用具感光 性之光酸產生劑。前述隔件材料係被照射具特定波長之電 磁波時可產生酸,藉該酸使聚合物分解而形成單體,再氣 化成小分子之氣體。另外在此所謂之昇華係指包含有使液 體成為氣體之氣化。 另一方面,積層於隔件上之頂蓋部,係由可使附與隔 件材料之電磁波穿透,且同時可使前述氣化分子穿透,並 可保持有尚未氣化部分之隔件40之材料所構成。諸如係一 種極薄之樹脂薄膜。 其次,針對該構造之膜之製造方法,一面參考圖一面 說明之。 (a)為製造該構造膜時,因隔件4〇之材料中含有光酸 產生劑,因此必須在諸如所謂的黃光室或暗室等採取了必 要對策之房間内作業。又’必須施以充分的洗淨及乾燥, 使基板部之表面上不會有塵粒之存在,且沒有對附著性產 生影響之污染。 然後,在基板部20上積層隔件之材料層24〇。該材料 層240係一種黏性液體,將該液體朝基板部2〇上滴下,藉 旋塗在基板之全面上積層。又,基板端部之壁之形成繁複 496981 A7 B7 五、發明説明(39 ,且因自明,故在此未加以圖示。旋塗係具體而言,以低 速旋轉積層有隔件之材料層240之基板部20,在諸如5秒鐘 後,再高速旋轉之諸如20秒鐘’使之可均勻積層。然後, 積層有隔件之材料層240之基板部2〇係載放於烤盤(未圖示) 上’烘烤隔件之材料層(前期處理)。 隨後,在隔件之材料層240上藉積層法貼覆頂蓋部3〇 又,可因應積層構造體之使用目的及所希望之特性,事 先處理隔件之材料層240表面後,再塗附藥液或設置黏著 劑層亦可。本步驟(a)即為該狀態者。 (b)在頂蓋部30上面隔著一空隙重疊光罩23或黏合之 。該光罩23上係形成有一可對應於用以形成空隙斗之特定 領域之窗孔部230。然後’由上方照射特定的紫外線。該 特定光係只照射光罩23之窗孔部23〇裸露之部位之隔件材 料層。被料光所照射之隔件材料層係、附與有能量,而使 聚合物分解成單體241,分子量也變小了。 ⑷去除光罩23後,該單體241係藉加熱器、烤盤、熱 線照射或烤箱燒烤(後期)者’或者是藉紫外線、微波或幅 射線等之電磁波照射,使可通過薄樹脂薄膜製之頂蓋部3〇 而朝外部排出。 (1)除去該特定領域之隔件材料層,形成了由基板部 、頂蓋部30及隔件4〇所包圍形成之空隙8〇後,形成了一 層構造膜之製作。 除此之外,隔件40係因沒有附與特定波長之電磁波, 因此不會變成單體,不但不會氣化,反而因加熱等處理而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNs) A4規格(21〇><297公馨; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、訂— .42- ^6981 、發明説明(40 可硬化。因此該積層構造膜不會變形。 為使氣化氣體由頂蓋部3〇 加熱外,也可刹田4 』且接、間接之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,藉特定Lr 等之物理或者是機械作用。 ^ u牛使糸外線隔著隔件而照射於聚合物上, 之氣化,同時可使令名 ’使 ^ 减化之氣體由頂蓋部穿— 排出者,也可形成空隙。 外# 又錢造膜作為液晶顯示元件之構造 可於基板部之表面盥T1荽加L f使用蚪, 形成導電性薄膜(未圖示) 由注人孔朝隔件之空隙内填充。進而,該注入 孔係設置成兼具使空隙内之氣體逸出之功能亦可。〇 (第9實施形態) 訂丨 本實施形態係有關於多層之積層構造膜。 該例係3層積層構造體及其製造方法’一面參考第15 圖及10圖一面說明之。第15圖係顯示該3層構造膜之截面 概念圖。第16圖係顯示用以製造該3層構造膜之程序圖。 0, 該3層積層構造膜係,於對向配置之基板部“及頂蓋 部30間係相距有一距離而設有第i、第2中間隔離層*的 ,並於基板部20與第”.間隔離層5〇間、兩中間隔離層5〇 、(福、錢第2中間隔離層6〇與頂蓋部3〇間各夾持有格 子狀隔件40 ’而藉以上構件所包圍而成之領域内形成3層 空隙80者。 胃 惟,該第1、第2中間隔離層5〇、6〇係,由可使隔件4〇 之材料昇華,使所附與之特定波長之電磁波通過,且使用 以構成隔件40之材料昇華之分子透過,同時可安定保持未 -43- 496981 A7 B7 五、發明説明(41 氣化部位之隔件40之材料所構成,宜使用諸如極薄之樹脂 薄膜。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此第1、第2中間隔離層5〇、 ⑽係可具有與頂蓋部30 完全相同之物質及厚度以及相显之彡 # μ # 仰,、又形恶。其餘基板部2〇、 隔件40及頂蓋部30之材料之種類盘層 裡頰與厚度係與先前的第8實 施形態相同,故省略其說明。 其次,針對該積層構造之製造方法,—面參考第_ 一面說明之。 (a)諸如前述第8實施形態所說明者,隔件4〇之材料中 係包含有光酸產生劑,使該3層積層構造膜必須在所謂黃 光室或暗室等採用了必要措施之空間内製作。又,必須施 、可丨 以充分的洗淨及乾燥’使基板部之表面上沒有塵粒之存在 且沒有對附著性產生影響之污染。 肇, 然後,在基板部20上之全面上積層下側隔件之材料層 24〗。將黏性液體之隔件之材料朝基板部2〇上滴下,與前 述實施形態同樣地施以旋塗。積層有下側隔件之材料層後 將該基板部20載放於烤盤(未圖示)上,烘烤下側隔件之材 料層(前期處理)。 隨後,在下側隔件之材料層241上藉積層法貼上第1中 間隔離層50。又,可因應積層構造體之使用目的及所希望 之特性,處理下側隔件之材料層的表面後再塗附藥液或設 置黏著劑層也可。將以上方法重覆3次,諸如本圖(a)所示 ,在第1中間隔離層50上積層有中間之隔件材料層242、第 2中間隔離層60、上側隔件材料層243。再藉積層法,於上 -44- 五、發明説明(42 ) 側之隔件材料層243上貼上頂蓋部30。 (b)再藉形成有一空隙或接合之狀態下,於對應於用 以形成空隙之部位上重疊有供曝光用之窗孔部23〗之光罩 23。然後,由上方照射特定波長之電磁波。 该紫外線係由光罩23之窗孔部23 1透過頂蓋部30及第2 、第1中間隔離層60、50,而使位於窗孔部23 1正下方之部 位之隔件材料層243、242、241曝光。然後使該部位之隔 件材料層之聚合物分解成單體,分子量也變小了。 、(C) 4部分之單體係將光罩23去除後,藉烘烤(後期) 電磁波之照射、物理或者是機械作用,即可通過第丨、第2 中間隔離層50、60及頂蓋部3〇而朝外部排出。因此可將邊 緣對齊一次形成朝積層方向連續3層之空隙81、Μ、M。 又’該3層積層構造之隔件4〇係不變形。 又,使用該3層構造膜作為液晶顯示元件時,可於基 板部20之表面、頂蓋部30之上面、第i及第2中間隔離二 、60^上面形成有導電性薄膜(未圖示)’並使藍,綠、洋紅 色及頁色之色素的液晶由注入孔(參考第6圖)填充於 空隙81 、 82 、 83内。. 、曰 因此必須另外需要導電膜之形成等程序 人 導電膜係可使紫外線透過者。進而又,液晶注入用 可另外形成者。又因此’導電膜不需具有使昇華 之性質。 处匕 (實施例) 諸如以下實 不管是前述第8及第9實施形態中之形態 五、發明説明(43 例13所示者,^多數組合選定隔件及頂 PEm 惟’在任—種實施例中,了頁蓋部之材質係 旦— 先為向壓水銀燈之紫外線, δ亥月b置进度約為13mW。 下 在下述母一實施例中省略以 上口己戟。另外,光之照射時間係去 糸田j依1層與3層之形態而 有不同,因此個別記載之。 (實施例1) 隔件之㈣㈣用’聚合物有聚醜峨溶媒約^(重 媒為環己院’光酸發生劑為三芳基婆六氣錄酸 孤(對聚合物約1 〇wt%) 〇 ”旋塗之條件係,前期為贿pm、5秒;後期為600rpm b。隔件材料之塗佈層之厚产 序度約為2000人。烘烤(前 』)係於溫度10(TC之烤盤上烤3〜5分鐘。 紫外線照射之時間係,1層時 曰才疋10〜20秒,而3層積層 之構造時則為20〜30秒。又,合匕旦6 ώ〆 θ t 矽又此里岔度係於兩種形態而言 都疋 1 5 m W / c m2。 /共烤(後期)係於溫度13(^之烤盤上烤3〇秒鐘。將以上 内谷匯集如下。 [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 [旋塗條件] 聚酞醛(對溶媒約5wt(重量)%) 環己烧 ^芳基婆六氟銻酸鹽(對聚合物約10wt% 刖期:300rpm、5秒 後期:600rpm、20秒 496981 A7 ——B7 發明說明(44 ) [IM牛材料之塗佈層之厚度]約2000A [供烤(前㈣於溫度1(H)t之烤盤上3~5分鐘 [光照射之照射時間]1層:10〜20秒 3層· 2 0〜3 0秒 [光照射之照射強度] 15mW/cm2 [供烤(後期)]於溫度13(rc之烤盤上約3〇秒鐘 (實施例2) 一本μ施例2之積層膜構造係由以下條件所製造,即, j材料係抓用後述者,旋塗之條件、供烤(前期)溫度、 、/射之…、射日才間及照射強度、烘烤(後期)溫度等之製造 條件如後述外,其餘係以前述實施例1同樣之方法製造之 [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 聚酞醛(對溶媒約4wt%) [旋塗條件] (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) t 碳酸丙烯酯 三芳基鎏六氟銻酸鹽 (對聚合物約8wt%) 前期:300rpm、5秒 後期:600rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度]約300入 [供烤(前期)] 於溫度100°C之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]1層:10〜20秒 3層:20〜30秒 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNs) A4規格(210X297公釐) 496981
五、發明説明(45 [光照射之昭Λ % 射強度] 15mW/ cm2 [^烤(=期)]於溫度13G°C之烤盤上約30秒鐘 曰乂上衣造條件可製造出具有與前述實施例1同樣構 造之積層構造膜。 (實施例3) 本灵施例3之積層膜構造係由以下條件製造之,即, 隔件:材料係採用後述者,旋塗之條件、烘烤(前期)溫度 、光…、射之照射時間及照射強度、烘烤(後期)溫度等 1件如後述者,其餘者係以與前述實施例1同樣之方^ 製造之。 〜 [隔件材料] 聚酞醛(對溶媒約4wt%) 碳酸丙烯酯 二苯鎭鏺六氟磷酸鹽 (對聚合物約8wt%) 前期:300rpm、5秒 後期:600吓111、2 00秒 件材料之塗佈層之厚度]約2000A [供烤(前期)]於溫度l〇〇°C之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]1層:約100秒 3層:約150秒 [光照射之照射強度] 15mW/ cm2 [丈共烤(後期)]於溫度13(TC之烤盤上約60秒鐘 本紙張尺度U中國國豕標準(⑽)A4規格(21()><297公 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 聚合物 溶媒 光酸發生劑 [旋塗條件] -48- A7 五 、發明說明(46 B7 ::上製造條件可製造出具有與前述 乂之積層構造膜。 』樣構 (貫施例4) 隔件之積層膜構造係由以下條件製造之,即, 、光照射 述者,旋塗之條件、烘烤(前期)溫度 .....之照射時間及照射強度、烘烤(後期)⑺$ 造條件如德诂冰. 巧(便皿度4之製 之。 卜,/、餘係以前述實施例1同樣之方法製造 [隔件材料] +合物 聚酞醛(對溶媒約4wt%) ’奋媒 碳酸丙烯酯 光酸發生劑8-苯胺基_丨_萘磺酸鎂 (對聚合物約8wt%) [疑塗條件]前期:300rpm、5秒 後期:600rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度]約500入 [烘烤(前期)]於溫度1 〇〇 t之烤盤上3〜5分鐘 [光知、射之照射時間]1層:1〇〇〜15〇秒 3層:130〜160秒 [光照射之照射強度] 15mW/ Cm2 [火、烤(後期)]於溫度150°C之烤盤上約60秒鐘 猎以上製造條件可製造出具有與前述實施例1同樣構 C請先閱讀背面之注意事^再填寫本頁) _、=& _ t
-49- ^6981 五、發明説明(47 ) 造之積層構造膜。 (實施例5) 本實施例5之積層膜構造係由以下條件製造之 隔件之材料係採用後述者,旋塗之條件、烘烤(前期)#, 、光照射之照射時間及照射強度、烘烤(後期)溫度等恤1 造條件如後述外,其餘係與前述實施例1同之氣 』保 < 方法製造 之0 [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 聚酿酿(對溶媒約4wt%) 二乙二醇二甲醚 三芳基鎏六氟録酸鹽 (對聚合物約8wt%) 前期:300rpm、5秒 後期:600rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度]約3000入 [烘烤(前期)]於溫度90X:之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]1層:5〜10秒 3層:10〜15秒 [光照射之照射強度] 15mW/cm2 [烘烤(後期)]於溫度110°c之烤盤上約60秒鐘 、错以上製造條件可製造出具有與前述實施例1同樣掮 造之積層構造膜。 (實施例6) 本紙張公楚) [旋塗條件] (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _訂· -50 - 496981 五、發明説明(48 ) 本貝施彳j ό之積層膜構造係由以下條件搫 隔件之材料係採用德诫j y 4 π 。之,即, 用後述者,旋塗之條件、烘、w 、光照射之照射時問芬BS u A十 功)/皿度 卞間及照射強度、烘烤(後期)、、田 造條件如後述外,复㈣P + — 便⑴/皿度專之製 /、餘係與刖述貫施例丨同樣之方法製造 之 [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 聚酜駿(對溶媒約15wt%) 一乙二醇二曱鱗 二芳基鎏六氟銻酸鹽 (對聚合物約5wt%) 則期:400rpm、5秒 後期· 75 0rpm、3 0秒 [隔件材料之塗佈層之厚度]約 [供烤(前期)]於溫度120t之烤盤上3~5分 [光照射之照射時間]1層:約60秒 3層:約70秒 [光照射之照射強度]15mW/ cm2 [烘烤(後期)]於溫度8〇°C之烤盤上約60秒 藉以上製造條件可製造出具有與前述實施 造之積層構造膜。 [旋塗條件] 鐘 (實施例7) 本實施例7之積層膜構造係由以 隔件之材料係淼闺% 4 即’ 後述者,旋塗之條件、烘烤(前期)溫度本紙張尺^ 鐘 例1同樣構
、可| (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ·, -51 - 、光照射之照射 造條件如後述外 之。 [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 時間及照射強度、烘烤(後期)溫度等之製 其餘係與刖述實施例1同樣之方法努迭 聚酞醛(對溶媒約5wt%) 二乙二醇二甲驗 六氟磷酸二苯鎭鏺 (對聚合物約10wt%) [旋塗條件]前期:300rpm、5秒 後期:600rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度]約2000人 [供烤(前期)]於溫度90°C之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間] 1層:120〜180秒 3層:150〜200秒 [光照射之照射強度] 15mW/ cm2 [烘烤(後期)]於溫度ll〇°C之烤盤上約3〇秒鐘 藉以上製造條件可製造出具有與前述實施例丨同樣構 造之積層構造膜。 (實施例8) 本實施例8之積層膜構造係由以下條件製造之,即 隔件之材料係採用後述者,旋塗之條件、烘烤(前期)溫度 、光照射之照射時間及照射強度、烘烤(後期)溫度等之^ 造條件如後述外,其餘與前述實施例1同樣之方法|y、&之 五 聚合物 溶媒 、發明說明(50 [隔件材料] I狄齡(對溶媒約17wt%) _ —乙二醇二甲醚 光酸發生劑 a盡#私 亂磷酸二苯錤鏘 (對聚合物約9 w t %) [旋塗條件1 a J 則期:40〇rpm、5秒 後期:lOOOrpm、25秒
“件材料之塗佈層之厚度]約6000A
[供烤(前期)]⑨溫度90°C之烤盤上3〜5分鐘 •[光照射之照射時間]1層:200〜25。秒 3層:220〜260秒 [光』、射之照射強度] 15mW/ cm2 [/、烤(後期)]於溫度1 l〇t:之烤盤上約60秒鐘 糟以上製造條件可製造出具有與前述實施例1同樣構 造之積層構造膜。 (實施例9) 本實施例9之積層膜構造係由以下條件製造之,自 隔件之材料係採用後述者,旋塗之條件、供烤(前期)= 、光照射之照射時間及照射強度、烘烤(後期)溫度等之二 造條件如後述外,其餘與前述實施例丨 2 ; 。 俅乏方法製造之 [隔件材料] 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂丨 .馨· -53- 五 、發明說明(51 聚合物 & 溶媒 (對溶媒約i7wt%) .^ 〜乙二醇二甲醚 先馱發生劑 ‘ ^ / /、氟磷酸二苯鎖鏘 各— (對聚合物約9wt%) [疑塗條件]前期:咖_、5秒 後期:_rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度] 約 1.5 μ m [烘烤(前期)1 、 Γ μ 於溫度9〇°C之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射主 、、射時間]1層:200〜250秒 3層:220〜250秒 [光照射之照射強度]15mW/cm2 [^、烤(後期)]⑨溫度"〇t:之烤盤上約6〇秒鐘 猎以上製造條件可製造出具有與前述實施⑴同樣肩 k之積層構造膜。 (貫施例1 〇) 本實施例10之積層膜構造係由以下條件製造之,艮 隔件之材料係採用後述者,旋塗之條件、烘烤(前期:戶 、光照射之照射時間及照射強度、供烤(後期)溫度等= 造條件如後述外,其餘與前述實施例丨同樣之方法梦4表 [隔件材料] 聚合物 聚酞醛(對溶媒約5wt%) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) A7
溶媒 光酸發生劑 [旋塗條件] 環已烷 六氟磷三芳鎏 (對聚合物約9wt%) ㈤期· 300rpm、5秒 一 後期:600rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度]約2000A [供烤(前期)]於溫度100〇C之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]1層:15〜30秒 3層:20〜30秒 [光照射之照射強度] 15mW/Cm2 • 共烤(後期)]於溫度130°C之烤盤上約30秒鐘 土错以上製造條件可製造出具有與前述實施例1同樣構 造之積層構造膜。 (實施例11) 本實施例11之積層膜構造係由以下條件製造之,即, 隔件之材料係採用後述者,旋塗之條件、烘烤(前期)溫度 :先照射之照射時間及照射強度、烘烤(後期)溫度等之製 造條件如後述外,其餘與前述實施例1同樣之方法製造之 [隔件材料] 聚合物 聚酞醛(對溶媒約4wt%) 容媒 碳酸丙烯酯 光酸發生劑六氟磷三芳基鎏 本紙張尺度適用中國國家標準() A4规格(21〇X297公釐) 、發明説明(53 (對聚合物約7wt%) U疋塗條件]前期:300rpm、5秒 後期·· 600rpm、20秒 [隔件材料之塗佈層之厚度] 約 400A : [烘烤(前期)]於溫度l〇(TC之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]}層:20〜10秒 3層:30〜40秒 [光照射之照射強度] 15mW/ cm2 [烘烤(後期)]於溫度130°C之烤盤上約30秒鐘 、·错以上製造條件可製造出具有與前述實施例1同樣構 4之積層構造膜。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 訂丨 (實施例12) 本實施例12之積層膜構造係由以下條件製造之,即 隔件之材料係採用後述者,旋塗之條件、供烤, 、:先照射之照射時間及照射強度、烘烤(後期)溫 二 造條件如後述外,其餘與前述實施例1同樣之方法製造: [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 聚酞醛(對溶媒約6wt%) 二乙二醇二曱醚 六氟磷三芳基鎏 (對聚合物約1 3 w t %) 本紙張尺度翻巾咖家鮮(CNS) A4規格(2ΐ()χ297公董) 56 -
4969W 五、發明説明(54 [疋土條件]前期:30〇rpm、5秒 — 後期:600rpm、20秒 [、”之塗佈層之厚度]約3500A [火、烤U期)]於溫度90。(:之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]1層:10〜20秒 3層:15〜25秒 [光…、射之照射強度] 15mW/ cm2 ^共烤(後期)]於溫度13〇χ:之烤盤上約6〇秒鐘 精以上製造條件可製造出具有與前述實施例 造之積層構造膜。 1同樣構 (實施例13) 一本實施例5之積層膜構造係由以下條件製造之,即, P用材料係採用後述者,旋塗之條件、烘烤(前期)、光照射之照射時間及照射強度、供烤(後期)溫度等二 造條件如後述外’其餘與前述實施例i同樣之方法製造^ [隔件材料] 聚合物 溶媒 光酸發生劑 [旋塗條件] 聚酞醛(對溶媒約15wt%) 一乙二醇二甲醚 六氟磷三芳基鎏 (對聚合物約5wt%) 别期:400rpm、5秒 後期:75 0rpm、3 0秒 本紙張尺度適用中國國家標準(⑶3) 規格(210X297公董) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、一-T1 t -57- 五 、發明說明(55 A7 B7 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} [隔件材料之塗佈層之厚度]約hhm [烘烤(前期)]於溫度120°C之烤盤上3〜5分鐘 [光照射之照射時間]1層:60〜70秒 3層:60〜80秒 [光照射之照射強度] 15mW/ cm2 [烘烤(後期)]於溫度8〇°C之烤盤上約6〇秒鐘 I曰以上製造條件可製造出具有與前述實施例1同樣構 造之積層構造膜。 以上,根據前述實施例說明本發明,當然本發明並不 限於前述實施例。即,也可構成諸如後述者。 訂丨 1) 液晶顯示裝置係,不是光反射型,而是一於顯示 側背面設有一背光之型態,可用於室内之文字處理機或個 人電腦之顯示。 2) 不是每一像素之各層之共通注入孔,而是一於每 一層之各像素共通注入孔,構成每一次朝内部填充高分子 分散型液晶後再固化矩陣者。 3) 反射板係使用固.然昂貴卻在反射特性上比鋁還優 異之銀。 4) 像素之支撐隔壁、液晶封止用樹脂部係兼作為黑 色矩陣。因此在封止用樹脂中混入其量到不致產生導電性 程度之碳素粉末。此時,封止用樹脂係不會在像素部形成 ’只形成於接觸孔及支撐隔壁上。 5) 雖增加了所需程序,也可充填有導電性良好之金 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 58- 496981 示,而是2色 交 氣 該 内 化
訂— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) >0! 五、發明説明(56 屬微粒子。 '各像素之液晶層不是3色之全彩色顯 ”,'員不,可用於介紹或宣傳廣告等者。 7)不被紫外線照射的部位藉以高溫锻 硬化後即使照射紫外線也 :者更化且在 也可使用有採用另一原理之物質解=科作:隔件材料’ 上有問題,但考慮將來技:1 U 3則雖然在價格 ., 打的發達,以紅外線加埶,被加 熱之部位係以預先所含有之化 …、被加 而特定能量係不是光或近紫 吏化 外線而疋使用uvc或X線 或分解,且可使添加劑活性化而昇華後之 化)’或不昇華之物質。 [產業上之可利用性] 由以上說明可知,依本發明可構建一種液晶面板, 液晶面板係於一用以支持柱隔離之多數條狀等胞元空間。 注入顏色不同之液晶而可色彩化者,而藉於液晶内溶解有 不產生二色性之色素,可抑制彩度之變化,形成全彩色 此時,藉裏面曝光僅·於支持柱上形成由光阻所構成之 黏著層,因此可正確控制微細胞元之胞元厚度,且使黏著 確實,俾防止液晶在胞元間之漏逸。 又,在於以區隔之多數微細胞元空間内充填顏色不同 之溶液時,乃於胞元之形成前,將顏色相異之色素等附著 在構件表面,使各色素之共通溶媒密閉於胞元空間内後, 再將色素溶解於共通溶媒者,可使程序變得容易。尤其是 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 59 五、發明説明(57 ) ,對濾色片使用該方法 寺’可使其表面之平滑性傷里 ^ 使程序簡易。除此之外 卞⑺性優異,並 ’不只是濾、色片,還有斟外& 構造物而言,也是不八# 逖百對礒細區晝 刀種類即可使程序變得汽 關的還包括有前述體卜^ 〗^早。另外相 &粒,皿计等,還有折射光學元件。 又’即使樹脂薄腺μ π a + 、上有锨小孔或破裂時,也可防止# 主液晶在有破裂之像 、 也J防止負 高製造積声右、、广曰 於特定層以外之層,可提 、玲/之日日層之構造之液晶顯示裝置之良率。 又’可減低電麼在樹脂薄膜之降低,因此可將反射率 及對比等之顯示功能提高。 將反射丰 又’在製造上也容易。
又’根據所採用夕、、右B +Λ /夜日日之種類,也可提高製品之耐衝 擊性、耐久性。 j w 又因不需要球狀隔件箄 什寺因此也不需要用以散佈該構 件之程序,進而也解決 、 、構件之存在所導致之顯示不良 ’或在像素内之移動等所造成之對另一部的損傷。 又’挾持於基板部及頂蓋部間之隔件材料係一可藉附 與諸如紫外線之特定能哥 月匕里之物貝,且頂蓋部係一可使氣體 透過之材料,因此只需發 y 而各外線之照射,即可使空隙極易 形成。 又’多層空隙係可-次形成且使其等之邊緣對齊,因 lb不但可將生產性提高,且也提昇品質。是故,本積層構 k膜係作為用以於空隙内充填液晶等之液晶顯示元件之構 成要素時,可提昇彩色顯示之晝質等。 本紙張尺度適用中標準(CNS) A4規格⑵0><297公^· 60- 部分概略立 之膜的 序圖 A7 B7 五、發明説明(58 [圖示簡單說明] 第1圖係習知液晶元件之截面圖。 第2圖係顯示習知液晶顯示裝置中1層區晝構造之膜的 體圖 第3圖係顯示習知液晶顯示裝置中3層區晝構造 部分概略立體圖。 曰第4圖係顯示本發明之第〗實施形態之彩色顯示用之液 晶顯示裝置之製作順序圖。 第5圖係顯示本發明之第2實施形態之遽色片之製作順 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 序圖 第6圖係顯示本發明之第3實施形態之濾色片之製作 順 苐7圖係本發明之第4實施形態之彩色顯示用液晶顯示 裝置中像素部之平面圖。 第8圖係前述像素部之截面圖。 圖 第9圖係顯示前述像素部之c_c截面處之形成順序圖。 第1 〇圖係顯示前述像素部之A_A截面處之形成順序 第11圖係顯示本發明之第5實施形態之彩色顯示用液 晶顯示裝置之製造順序圖。 第12圖係顯示本發明之第6實施形態之彩色顯 晶顯示裝置之使用狀態圖。 / 第13圖係用以顯示本發明之第8實施形態之間隙者。 圖 .、訂| 第14圖係顯示前述實施形態之間隙之形成順序、 本紙張尺度謝目咖Γ -61 - 496981 A7 ______ B7_ 五、發明説明(59 ) 第1 5圖係用以顯示本發明之第9實施形態之3層間隙者 第1 6圖係顯示前述實施形恶之間隙之形成順序圖。 [圖中元件符號之說明] 1 ···像素(基板部) 42…支持柱 4···空隙 43...光阻 2···基板(上基板)(基板部) 44…黏著層 21 ·..透明電極 4 5…封止用樹月旨 2 2...定向膜 48、49 ···注入孔 23·.·光罩 50 ' 60、51、61〜中間隔 3〇〇·.·定盤(裏面曝光罩) 離層 24···昇華性物質 71…紅(R)色素 25、26、27…端子 7 2…綠(G)色素 30···對向基板(下基板)(頂 73…藍(Β)色素 蓋部) 80…空隙 31 ··.列電極 81、82、83···液晶層 32··.定向膜 85 86、87···間隙(液晶層) 33…樹脂薄膜(頂蓋部) 91、92、93···濾色片 3 4…反射膜 150...液晶型顯示裝置本體 36··.電極 1 5 1…液晶部 3 8···丙烯酸樹脂溶液 152···光源 39…氟素系單分子膜 153···薄膜 40…隔件 230、231.··窗孔部 41···黑色顏料分散光阻 謂…光阻層(隔件之材料層) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公董) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •、^τ— -62- 496981 A7 B7 五、發明説明(6〇 ) 241、242、243…隔件之材 42 1、422、423…接觸孔 料層(單體) 510…樹脂薄膜 3 0 1…金屬輥 401、402、403、41 卜 412 、413、414…支持構件 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂| 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -63 -

Claims (1)

  1. 496981 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 ’该方法並包含有一上部支持壁形成步驟,該上部支 持壁形成步驟係於前述發色步驟及硬化步驟結束後, 在前述形成有支持壁之基板上形成具熱可塑性之光阻 層後,由基板側照射近紫外線等特定電磁波,再將曝 光部位之光阻除去,而在前述支持壁上進一步形成支 持壁者。 5·如申請專利範圍第3項之濾色片之製造方法.,其係於前 述支持壁形成步驟前,事先選定可吸收近紫外線等特 定電磁波之光阻作為前述支持壁之形成材料;又,該 方法並包含有一上部支持壁形成步驟,該上部支持壁 形成步驟係於前述發色硬化步驟結束後,在前述形成 有支持壁之基板上形成具熱可塑性之光阻層後,由基 板側照射近紫外線等特定電磁波,再將曝光部位之光 阻除去,而在前述支持壁上進一步形成支持壁者。 6· -種濾色片之製造方法,該方法係包含有下列步驟, 即: 一支持壁形成步驟,係於基板上形成格子狀或帶狀 且具-定配列之支持壁者;一樹脂薄膜黏著步驟,係 於前述所形成之支持壁上黏著樹脂薄膜者; -充填步驟’係於每—個使上下部以前述樹脂薄膜 及基板而側部以前述支持壁隔離之空隙中充填樹脂液 ,而該樹脂液則係可藉施予一定條件並遵 而具有預定色彩者; 則 -發色步驟,係使前述充填之樹脂液發生發色作用 本紙張尺度適用中國國家標準(_) A4規格(21〇x297公酱)
    訂丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 0: -64- A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 者;及 一硬化步驟,係使前述已發色之樹脂液硬化者。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 7.如申清專利範圍第6項之濾色片之製造方法,其中該樹 脂薄膜黏著步驟係一使用金屬輥以使樹脂薄膜黏著之 步驟’即’使用金屬輥將樹脂薄膜延伸,但不使撓曲 者。 8·如申請專利範圍第6或7項之濾色片之製造方法,其中 该發色步驟係一溶解步驟,該溶解步驟則係藉使事先 附著之發色素溶解於樹脂液中而構成者。 9·如申請專利範圍第6或7項之濾色片之製造方法,其中 该硬化步驟係一發色硬化步驟,而該發色硬化步驟則 .訂丨 ^一邊以玻璃定盤等將基板按壓於水平台上以防基板 彎曲,一邊並透過該玻璃定盤對前述充填之樹脂液照 射電磁波或予以加熱,使之硬化,同時並施與前述一 參 疋條件,使事先附著之發色素溶解於樹脂液中並發色 者。 !〇·如申請專利範圍第8項之濾色片之製造方法,其中該硬 化v驟係發色硬化步驟,而該發色硬化步驟則係— 邊以玻璃定盤等將基板按壓於水平台上以防基板彎曲 ,一邊並透過該玻璃定盤對前述充填之樹脂液照射電 磁波或予以加熱,使之硬化,同時並施與前述一定條 件,使事先附著之發色素溶解於樹脂液中並發色者。” Π·如申請專利範圍第6或7項之濾、色片之製造 发 事先選定可吸收近紫外線等特定電磁波之光阻作為前 ;紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格⑵0X 297公釐) -65 -
    A8B8C8D8 述支持壁之形成材料; 又,該方法並包含有: 一黏著用光阻層形成步 之基板上形成有且埶^ 别述形成有支持^ 射前述近紫外線等特定電磁…曼由基板側用 除去,而在前述支持辟上、… …位之光四 阻層者;及 土 乂形成具熱可塑性之光 一黏著步驟’係以前述支持壁上之光阻層作為 ',而使前述支持壁與前述樹脂薄膜相黏著者/ 12.、二申請專利範圍第8項之濾、色片之製造方法,其係事先 技辟 …卜線專特定電磁波之光阻作為前述支 持壁之形成材料; 又 又,δ亥方法並包含有·· -黏著用光阻層形成步驟,係於前述形成有支持壁 之基板上形成有具熱可塑性之光阻層後,由基板侧昭 射前述近紫外線等特定電磁波,再將曝光部位之光阻 除去’而於前述支持壁上進一步形成具熱可塑性之光 阻層者;及 一黏著步驟,係以前述支持壁上之光阻層作為黏著 劑,使前述支持壁與前述樹脂薄膜相黏著者。 13.如申請專利範圍第9項之濾色片之製造方法,其係事先 k疋可吸收近紫外線等特定電磁波之光阻作為前述支 持壁之形成材料; 又,該方法並包含有下列步驟,即:
    本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) -66- 圍 範 利 請 中 A8B8C8D8 2者用光m層形成步驟’係、於前述形成有支持壁 射ί板上形成有具熱可塑性之光阻層後,由基板側昭 H電磁波,再將曝光部位之光阻 丨示去,而於前述彡梏辟 f土上進一步形成具熱可 阻層者;及 < 九 -黏著二驟,係以前述支持壁上之光阻層作為黏著 w ’而使則述支持壁與前述樹脂薄膜相黏著者。 μ·如申請專利範圍第10項之濾 先選定可吸收近紫外線等特^ 丨,其係事 支持壁之形成材料; 义 又’該方法並包含有下列步驟,即: 之上著开用成光Γ層形成步驟’係於前述形成有支持壁 基板上开/成有具熱可塑性之光阻層後,由基板側昭 射前述近紫外線等特定雷威此$ 板側照 特U磁波,再將曝光部位之光阻 除去,而於前述支持壁上進-步形成具熱可塑性之光 阻層者;及 1 ^ ^ -黏著步驟,係以前述支持壁上之 劑,而使前述支持壁與前述樹脂薄膜_著者。為^ 15·如/請專利範圍第卜2或6項之遽'色片之製造方法,其 中/濾色片作為形色顯π之液晶顯示農置的漁色片使 用時,其基板係指液晶顯示裝置之基板、對: 反射板中之任一種; σ 土板或 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或 樹脂。 〜守电性 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210Χ297公爱) (請先閲讀背面之注意事项再填寫本頁)
    -67 496981 A8 B8 C8 ---—________ D8 六、申請專利範圍 16·如申請專利範圍第3項之濾色片之製造方法,其中該濾 色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時, 其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射板 中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 1 7,如申4專利範圍第4項之濾色片之製造方法.,其中該濾 色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時, 其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射板 中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 1 8·如申請專利範圍第5項之濾色片之製造方法,其中該濾 色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時, 其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射板 中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 19·如申請專利範圍第8項之濾色片之製造方法,其中該濾 色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時, 其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射板 中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    Α8 Β8 C8 ---------Βδ 六、申請專利範園 20.如申睛專利範圍第9項之濾色片之製造方法,其中該濾 色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時, 其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射板 中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 21·如申請專利範圍第10項之濾色片之製造方法,其中該 滤色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時 ’其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射 板中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 22·如申請專利範軋第丨丨項之濾色片之製造方法,其中該 濾、色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時 ’其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射 板中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 23.如申請專利範圍第12項之濾色片之製造方法,其中該 遽色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾色片使用時 其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射 板中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 ——_____ ' ^尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公#) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· -69- A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 24·如申請專利範圍第13項之滤色片之製造方法,其中該 ;慮色片係作為彩色顯示之液晶顯示裝置的濾、色片使用 時,其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反 射板中之任一種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 25·、、如申請專利範圍第14項之遽色片之製造方法,其中該 慮色片作為彩色顯示之液晶顯示裝置的滤色片使用時 ’其基板係指液晶顯示裝置之基板、對向基板或反射 板中之任—種; 而其樹脂薄膜則係用以形成配向膜或電極之導電性 樹脂。 26. 如申請專利範圍第m’或7項之濾色片之製造方 法,其中該渡色片之支持壁所使用之材料係一含有旦 感先性且具藉施以特定能量而昇華之性質之物f。 27. 如申請專利範圍第3項之據色片之製造方法,其中該濟 色片之切壁所使用之材料係一含有具感光性且具藉 她以特疋能量而昇華之性質之物質。 认如申請專利範圍第4項之據色片之製造方法,其中該滤 ^之支持壁所使用之材料係—含有具感光性且具藉 施以特定能量而昇華之性質之物質。 29·如申請專利範圍第5項之遽色片之製造方法,其中該滤 〃、之支持壁所使用之材料係、—含有具感光性且具藉 轭以特定能量而昇華之性質之物質。 本紙張尺度適用中國國家檩準() A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂— -70- 496981 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 30·如申請專利範圍第8項之濾色片之 ^ p . 、k方法,其中該濾 色片之支持壁所使用之材料係一合 施以特定能量而昇華之性質之物質。/、感光性且具藉 31·如申請專利範圍第9項之濾色片之 ^ P . , , , X k方法,其中該濾 色片之支持壁所使用之材料係一 X 、 施以特定能量而昇華之性質之物質。*感光性且具耩 32·如申請專利範圍第1〇項之濾色之 ..^ χ Θ <製造方法,其中該 ^持壁所使用之材料係—含有具感光性且具 精細以特定能量而昇華之性質之物質。 I如申請專利範圍第11項之遽色片之製造方法,其中該 f色片之支持壁所使用之材料係…含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 34.如申請專利範圍第12項之遽色片之製造方法,其中該 慮色片之支持壁所使用之材料係—含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 Μ.如申請專利範圍第13項之渡色片之製造方法,其中該 慮色片之支持壁所使用之材料係—含有具感光性且具 糟施以特定能量而昇華之性質之物質。 36. 如申請專利範圍第14項之濾色片之製造方法,其中該 f色片之支持壁所使用之材料係-含有具感光性且具 猎施以特定能量而昇華之性質之物質。 37. 如申請專利範圍第15項之濾色片:製造方法,其中該 滤色片之支持壁所使用之材料係―含有具感光性且具 精施以特定能量而昇華之性質之物質。 本紙張尺度“巾關緖格(應297公楚 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、tr— ·- -71 - 496981 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 38.如申請專利範圍第16項之濾色片之製造方法,其中該 滤色片之支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉施以特疋能量而昇華之性質之物質。 39·如申請專利範圍第17項之濾色片之製造方法,其中該 遽色片之支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 40.如申請專利範圍第18項之濾色片之製造方法,其中該 濾色片之支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 41·如申請專利範圍第19項之濾色片之製造方法,其中該 、τ. $色片之支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 42·如申請專利範圍第2〇項之遽色片之製造方法,其中該 濾色片之支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 ·- 43.如申請專利範圍第21項之濾、色片之製造方法,其中該 滤色片之支持壁所使用之材料係—含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 从如申請專利範圍第22項之渡色片之製造方法,其中該 遽色片之支持壁所使用材料 拉糸含有具感光性且具 耩施以特疋能量而昇華之性質之物質。 45.如申請專利範圍第23項之遽色片之製造方法,其中該 濾色片之支持壁所使用之材料 拉& U 邗含有具感光性且具 精施以特疋能量而昇華之性質之物質。
    72- A8 B8 C8 D8 、申請專利範園 46.如申請專利範圍第24項之渡色片之製造方法,其中該 J 之支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉她以特定能量而昇華之性質之物質。 47·如申請專利範圍第25項之據色片之製造方法,其中該 J 支持壁所使用之材料係一含有具感光性且具 藉施以特定能量而昇華之性質之物質。 •、種區晝構造物之製造方法,該區晝構造物係使多數 平面構件以一定配列之格子狀或帶狀等隔離材為中介 =相貼口 ,進而在以上下構件及側部之隔離材區隔之 多數胞元内具有包含有可對應於每一個胞元以一定條 件發生發色作用而形成一定顏色之發色素的溶液或溶 夜之更化物者,該製造方法係包含有下列步驟,即: 二孓色素附著步驟,係於前述胞元空間形成前,使 前述特定發色素附著於對應於每一發色素之胞元内者 注入步驟,係將可使各發色素溶解於前述各胞元 之共通溶媒注入於多數胞元者;及 -洛解步驟,係於前述注入步驟後,將前述多數胞 元空間分隔,再對前述發色素施予前述一定條件,使 之在胞元空間内溶解於前述透明性樹脂中,並發生發 色作用者。 ^ 49·如申請專利範圍第48項之區畫構造物之製造方法,其 中該發色素附著步驟係於封入於微膠囊内之狀態下令 發色素或對掌性試劑附著於前述平面構件面向前述2 本紙張尺度翻巾關家標準(⑽)A4規格(2獻297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ· -73- .如申請專利範圍第48或49項之區畫構造物之製造方法 ,其中該溶解步驟係一利用化學熱之溶解步驟,該步 係於前述共通溶媒中事先加入可在特定之溫度條件 =下將前述微㈣壁破壞之物f,再將之昇溫至該 特疋之溫度條件等,而使前述微膠囊之壁破壞 内部之發色素溶解於共通溶媒中者。 之 51. 如申請專利範圍第48或49項之區畫構造物之製造方法 ,其係於前述發色素附著步驟前還包含有一於前述基 板上形成帶狀支持壁之帶狀隔離材形成步驟;" 而前述發色素附著步驟則為-印刷附著步驟,該印 刷附著步驟係於前述帶狀隔離材形成後,於形成帶狀 之特定胞7G内藉印刷而附著特定之發色素者。 52. 如申請專利範圍第5。項之區晝構造物之製造方法,1 係於前述發色素附著步驟„包__ ” 形成帶狀支持壁之帶狀隔離材形成步驟;、’*反上 而前述發色素附著步驟則為—印刷附 刷附著步驟係於前述帶狀隔離材形成後,於形成帶Z 之特定胞70内藉印刷而附著特定之發色素者。 53. 如申請專利範圍第48或49項之區畫構造物之』& ,其係於前述發色素附著步驟前還包人 ^ t方法 色矩陣之支持壁形成步驟’該兼用丄:陣= 壁2步驟則係於前述區晝構造物作為液晶顯示裝置 之濾色片或液晶層之胞元使用時選定 、置 又符壁材料, 六 固範利 專請 申 8 8 8 8 A B c D 使该支持壁作為以里色矩 室側壁部時可作為"“攝影刻印術形成液晶 列與尺寸者。 〃、、先罩之用,並據此形成隔離壁之配 54:::=:.:°Γ8“造㈣造其 陣之支持辟开、 前還包含有-兼用為黑色矩 支持壁形成步驟,該兼用為黑色矩陣之支持㈣ 色片:述區畫構造物作為液晶顯示衰置之濾 支持壁用時選…壁材料,以使該 壁部時可::::::或:::刻印術形成液晶室側 尺寸者。 旱之用並據此形成隔離壁之配列與 55.如中請專利範圍第51項之區畫構造物之· 係於前述發色素附著步驟前還包含有一兼用/ 陣之支持壁形成步驟,該兼用為黑色矩陣之η::矩 成步驟則係於前述區晝構造物 晉壁: 色片或液晶層之胞元使用時選定支二材裝置之,慮 dt 4i ^ ^ 又又得壁材科,以使該 壁…=黑色矩陣或以攝影刻印術形成液晶室側 尺:::作為光罩之用,並據此形成隔離壁之配列與 5了:二=♦圍第52項之區畫構造物之製造方法,其 係於則述發色素附著步驟前還包 陣之支持壁形成步驟’該兼用為黑色矩:為黑色矩 成步驟則係於前述區畫構造物作 切壁形 色#曰a f馮液晶顯示裝置之濾 或/夜曰曰層之胞元使用時選定支持壁材料,以使該 本紙張尺度適财_家鮮_ A4祕(21_7公釐)— I -75-
    、申請專利範 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2持壁作為以黑色矩陣或以攝影刻印術形成液曰室側 尺寸者。…先罩之用,並據此形成隔離壁之配列與 如^凊專利範圍第51項之區畫構造物之製造方法,其 陣之t狀^離材形成步驟係包含有一兼用為黑色矩 、壁形成步驟,該步驟係於前述區畫構造物作 ^晶顯示裝置“色片或液晶層之胞域用時選定 f f材料’以使該支持壁作為以黑色矩陣或以攝影 L p術形成液晶室側壁部時可作為光罩之用,並據此 >成隔離壁之配列與尺寸者。 58·如:請專利範圍第48或49項之區晝構造物之製造方法 Λ方去係於前述發色素附著步驟前還包含有: 八a色素k疋步驟’其係選定即使溶解於液晶中也 不冒產生二色性之物質作為發色素者;及 匕一樹脂選定步驟,其係選定液晶或含有該液晶之樹 脂作為前述樹脂者。 女申明專利範圍第5〇項之區晝構造物之製造方法,該 方法係於前述發色素附著步驟前還包含有: 一發色素選定步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 不會產生二色性之物質作為發色素者;及 樹脂選定步驟,其係選定液晶或含有該液晶之樹 脂作為前述樹脂者。 申明專利範圍第5丨項之區晝構造物之製造方法,該 方法係於前述發色素附著步驟前還包含有: ^氏張尺錢財 規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) - 訂--------- -76-
    申請專利範圍 不会色素選定步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 '生—色性之物質作為發色素者;及 (請先閲讀背面之法意事項#填寫冬貢) 樹脂選定步驟,复俜撰宗、发曰七人 61脂作為前述樹脂者。,係…aB“有該液晶之樹 方法申/專乂利耗圍第52項之區畫構造物之製造方法,該 糸於則述發色切著步驟前還包含有·· 不合 素選定步驟’其係選定即使溶解於液晶中也 曰_產生二色性之物質作為發色素者;及 r作f月曰、疋步驟’其係選定液晶或含有該液晶之樹 月曰作為前述樹脂者。 fr— 62=請專利範圍第53項之區晝構造物之製造方法,該 /係於前述發色素附著步驟前還包含有: 不合t色素選定步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 曰產生二色性之物質作為發色素者;及 f 日匕从Μ月日選定步驟,其係選定液晶或含有言亥液晶之樹 月曰作為前述樹脂者。 月專利範圍第54項之區晝構造物之製造方法,該 方法係於前述發色素附著步驟前還包含有: 么色素選定步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 不會產生二色性之物質作為發色素者;及 t樹知選定步驟,其係選定液晶或含有該液晶之樹 脂作為前述樹脂者。 申明專利範圍第55項之區晝構造物之製造方法,該 方去係於前述發色素附著步驟前還包含有:
    -77-
    、申請專利範圍 —發色素選定步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 不會產生二色性之物質作為發色素者;及 树脂選定步驟 脂作為前述樹脂者 m選定液晶或含有該液晶之樹 方、、^月專^乾圍第56項之區晝構造物之製造方法,該 ’係於前述發色素附著步驟前還包含有: 發色素選疋步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 '產广-色性之物質作為發色素者;及 η脂選定步驟,其係選定液晶或含有該液晶之樹 月曰作為前述樹脂者。 66.如申請專利範圍第57項之區畫構造物之製造方法,該 系於則述發色素附著步驟前還包含有: _ &色素選定步驟,其係選定即使溶解於液晶中也 不會產生二色性之物質作為發色素者:& 料脂選定步驟,其係選定液晶或含有該液晶之樹 月曰作為前述樹脂者。 種液晶顯示元件,係、供彩色顯示用之液晶顯示裝置 用者’該液晶顯示裝置形成有像素,係於具有電極 2基板上,積層一定層數之附著有電極或本身亦兼作 為電極之透明樹脂薄膜,並使其與基板間及樹脂薄膜 相互間具有—定之間隙,進而於基板與樹脂薄膜間及 樹脂薄膜相互間之間隙中充填液晶而構成,且該液晶 Τ可於-定條件下溶解具有發色作用之#色素而發生 發色作用者;該液晶顯示元件之特徵在於:其係以上
    (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂, -78· 496981 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 下重宜之形恶積層形成,使於前述基板與樹脂薄膜間 及樹脂薄膜相互間保持有一定間隙,同時並具有形成 於该專間隙中之用以包圍各發色素溶解後之液晶層俾 區隔各像素之支持構件者。 68.:申請專利範圍第67項之液晶顯示元件,其中該樹脂 K糸由具導電性之材料所形成之導電性樹脂薄膜。 69·如申請專利範圍第68項之液晶顯示元件,《中該導電 性樹脂薄膜係指對每一像素電性獨立之像素對應導電 性樹脂薄膜。 7〇·如申請專利範圍第67、68或69項之液晶顯示元件,其 中用以構成前述各像素之液晶層係於製造時,每一像 素形成有各層共通之液晶注入孔。 71·如中請專利㈣和項之液晶顯_件,丨中該液晶 注入孔朝各層液晶之入口部且靠該層上部之樹脂薄膜 之下方具有封止用樹脂栓。 72·如申請專利範圍第67、68或69項之液晶顯示元件,其 中該支持構件係指至少可吸收近紫外線之著色光阻。、 73.如申請專利範圍第7〇項之液晶顯示元件,其中該支持 構件係指至少可吸收近紫外線之光阻。 、 74·如申請專利範圍第71項之液晶顯示元件,丨中該支持 構件係指至少可吸收近紫外線之光阻。 、 75· —種液晶顯示裝置之製造方法’係、用以製造形成有像 素以供彩色顯示用之液晶顯示裂置者,該液晶顯示襄 置係於具有電極之基板上,積層一定層數之附著有電 本紙張尺度翻巾國國家標準(挪)A视格(2歡撕公爱) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    496981 申請專利範園 極或本身亦兼作電極之透明樹脂薄膜,並使豆盥 間及樹脂薄膜相互間具有-定之間隙,進而於基:盘 樹脂薄膜間及樹脂薄膜相互間之間隙中充填含有特定 發色素之液晶以構成像素;而該方法則包含有—列2 驟,即: V 一支持構件形成步驟’係於前述基板與樹脂薄膜門 或樹脂薄膜相互間保持—定間隙,同時依樹脂薄膜: 疊形成於基板上之數目反復並重疊形成支持構件,而 該支持構件則係可包圍各像素之各發色用液晶層周圍 或至少兩側,以區隔各像素者; 一樹脂薄膜形成步驟,係於每當形成前述支持構 日守’於其上部形成樹脂薄膜者; : 訂 一發色素配置步驟,係於基板上,藉前述支持構 形成步驟及樹脂薄膜形成步驟,對每一像素重聂 各色用之液晶層用間隙時,在液晶注入前,於像 素各色用之液晶層用間隙内預先配置可在—定條 溶融於液晶中之特定發色素者; ”彳下 一注入孔開設步驟,係藉前述基板、重疊一定岸 之樹脂薄膜、重疊一定層數之支持構件而;叠::J 各發色用液晶層之每一像素上’開 晶注入孔者; 曰間共通之液 一液晶注入步驟’係由前述所開設之注入孔朝#、 各像素之各發色用液晶層中的間隙内注入=於 ;及 夜日日者 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) -80- 申請專利範圍 一發色素溶融步驟 液晶層用間隙孤立後' a、疋發色素,於前述 述液晶注人步驟注件’㈣於藉前 诹/主入則述間隙内之液曰曰去。 7 6,如申請專利範圍第 曰 其中該發色素配置步驟^=顯Γ裝置之製造方法, 將色素、對掌性試劑等之囊配置之步驟, 狀態配置者; ^色素Μ封人於微膠囊内之 而前述發色素溶融步 ^ ^ ΐ ^ 驟則係一利用物理化學作用將 發色素溶融之步驟,係 竹 w μ ^ ^ 、用精此入於前述液晶内之化 子“及預疋之溫度條件等,以物理或化學作用破壞 前述微膠囊者。 及化子作用破壞 77. —種液晶顯示裝置之 _ 衣拉方法,係用以製造形成有像 # V顯不用之液晶顯示裝置者,該液晶顯示裝 置係於具有電極之其 、 土板上,積層一定層數之附著有電 極或本身亦兼作電極之透明樹脂薄膜,並使其與基板 間及樹脂薄膜相互間具有一定之間隙,進而於基板與 树月曰薄版間及樹脂薄膜相互間之間隙中充填含有特定 七色素之液曰曰以構成像素;而該方法則包含有下列步 驟,即: -交互積層形成步驟’係、於基板上交互施行感光性 材料之塗佈與樹脂薄膜之形成,而積層形成一定層數 之感光性材料與樹脂薄膜者,該感光性材料之塗佈係 =具有電極之基板上’或者是附著有業已形成之電極 或本身亦兼作為電極之樹脂薄膜上塗佈可藉曝光後之 本紙張尺度適用中國國家標準(_ M規格 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    -81 - 六、申請專利範圍 加熱而具有昇華性或失 外華性之感光性材料;而兮 =薄膜之形成則係於業已塗佈有該感: 膜二:成可附著電極或本身亦兼作為電極且具有特定 乳體透過性之樹脂薄膜者; 、疋 一發色素配置步驟,伤盘 咬一面1效 係,、该父互積層形成步驟同時 次 面调整、一面於前 者· 積d構造内配置特定發色素 一電磁波照射步驟,伤於上π 料管係、於父互積層有前述感光性材 料缚Μ及樹脂薄膜之基板 w y曰 板上面對應於用以形成供充填 液晶之間隙之基板上之像素 兄異 _ ^ ^ 彳冢素邛或非像素部之位置配置 -先罩,並由與基板面垂直之方向朝配置有該光草之 側照射曝光用電磁波’隨後再將該光罩除去者; —昇華像素部形成步驟’係將該電磁波照射步驟中 已曝光或未曝光之前述各層像素部之感光性材料加敎 ’使之昇華,並於像素部分形成用以充填液晶且已積 層之間隙,而於非像素部分則形成用以支持各樹脂薄 ^ ’同時並於每一像素用之各發色用液晶層上將該液 曰曰層與另一像素用液晶層區隔之支持構件; -注入孔開設步驟,係於該昇華像素部形成步驟所 形成之每-像素上’開設上下積層之各發色用之各液 晶層間共通之液晶注入孔者; 一液晶注入步驟,係由前述所開設之注入孔朝業已 積層,且將基板與樹脂薄膜間及樹脂薄膜相互間之每 一像素區隔而供各發色用之間隙内注入液晶者·及 六、申請專利範圍 ^色素/谷融步驟,係使前述預先配置於該間隙内 之特疋發色素’於前述液晶層用間隙孤立I,溶融於 前述被注入之液晶内者。 78. -種液晶顯示裝置之製造方法,係用以製造形成有像 素以供彩色顯示用之液晶 置係於具有電極之基板上 極或本身亦兼作電極之透 間及樹脂薄膜相互間具有 樹脂薄膜間及樹脂薄膜相 發色素之液晶以構成像素 驟,即: 顯示裝置者,該液晶顯示裝 ’積層一定層數之附著有電 明樹脂薄膜,並使其與基板 一定之間隙,進而於基板與 互間之間隙中充填含有特定 :而該方法則包含有下列步 -交互積層形成步驟’係於基板上交互施行感光性 材料之塗佈與樹脂薄膜之形成,而積層形成一定層數 之感光性材料與樹脂薄膜者,該感光性材料之塗 一發色素配置步驟,係與該交互 •面調整、一面於前述積層構造 I::電極之基板上’或者是附著有業已形成之電極 =身亦兼作為電極之樹脂薄膜上塗佈可藉曝光後之 :而具有昇華性之感光性材料;而該樹脂薄膜之形 ^係於業已塗佈有該感光性材料之薄膜上形成 者電極且具㈣定之氣體透祕之樹脂薄膜者; 或 者 積層形成步驟同時 内配置特定發色素 极# 切!百則述感光性 料、4膜及樹脂薄膜之基板上 #應於像素部之位置 六、申請專利範園 置光罩,亚由與基板面垂直之方向朝配置# 之側照射-曝光用之電磁波,隨後再將該光罩除去者 -昇華像素部形成步驟,係將該電磁波照射步驟中 已曝光之前述各層像素部之感光性材料加熱,使 華,並於像素部分形成用以充填液晶且已積層之間隙 而於非像素部分則形成用以支持各樹脂薄膜,同時 2於母-像素用之各發色用液晶層上將該液晶層與另 一像素用液晶層區隔之支持構件; 一注入孔開設步驟’係於該昇華像素部形成步驟所 T成之每-像素上,開設上下積層之各發色用之各液 晶層間共通之液晶注入孔者; 一液晶注入步驟,係由前述所開設之注入孔朝業已 積層’且將基板與樹脂薄膜間及樹脂薄膜相互間之每 -像素區隔而供各發色用之間隙内注入無色液晶者; 及 -一發色素容融步,驟,係i前述預先配置於該間隙内 2特定發色素,於前述液晶層用間隙孤立後,溶融於 刖述被注入之液晶内者。 79.如申請專利範圍第77或78項之液晶顯示裝置之製造方 法’其中該發色素配置步驟係一混入發色素之步驟, 即於將則述具有感光性材料之薄膜塗佈於基板上之 前,在該感光性材料内混入不具昇華與蒸發性並對應 於該薄膜之為第幾層之特定發色素; 496981 τ、申請專利範圍 而前述發色素溶融步驟則 步驟,即,於經前述昇華像+部殘^色素浴融之 之1h 華像素邛形成步驟中使像素部 之别述感先性材料昇華後 人感光性材料中事先混 八之特疋發色素溶融於蕻箭 晶内者。 w於错爾晶注入步驟注入之液 8〇.如申請專利範圍第77或78項之液晶顯示裝置之製造方 =,其係使-兼用孔形成步驟代替前述注人孔開設步 驟,該兼用孔形成步驟係於前述電磁波照射步驟後, 而在昇華像素部形成步驟前’使昇華分子逸出外部, Μ於每-像素設置用以注入液晶之孔,並使各層共 通。 81·如申請專利範圍第79項之液晶顯示裝置之製造方法, 其係使-兼用孔形成步驟代替前述注入孔開設步驟, °玄兼用孔形成步驟係於前述電磁波照射步驟後,而在 昇華像素部形成步驟前,使昇華分子逸出外部,同時 於每一像素設置用以注入液晶之孔,並使各層共通。 82.如申請專利範圍第77或78項之液晶顯示裝置之製造方 法,其中該液晶注入步驟係一種在保持加熱之狀態下 /主入液晶之步驟,即,該步驟係將基板加熱並保持於 特定狀態下而進行者; 又,該方法並包含有: 一封止用樹脂吸入步驟,係俟前述在保持加熱下注 入液晶之步驟結束後,於前述液晶注入孔部塗佈封止 用樹脂,隨後將基板溫度降低,使熱膨脹率比該基板 本紙張尺度適用中國國家標準(⑽)Α4規格(210 X 297公釐) 85 496981 A8 B8 C8 D8 申請專利範園 大之液晶相對大幅收縮,而將該封止用樹脂吸入至各 像素之各色用液晶層之入口部者;及 一封止用樹脂固化步驟’係令前述被吸入之封止用 樹脂在上述狀態下固化者。 83. 如申請專利範圍第79項之液晶顯示裝置之製造方法, 其中該液晶注入步驟係一種在保持加熱之狀態下注入 液晶之步驟,即,該步驟係將基板加熱並保持於特定 狀態下而進行者; 又,該方法並包含有: 一封止用樹脂吸入步驟,係俟前述在保持加熱下注 入液晶之步驟結束後,於前述液晶注人孔部塗佈封止 用樹脂,隨後將基板溫度降低,使熱膨服率比該基板 大之液晶相對大幅收縮,而將該封止用樹脂吸入至各 像素之各色用液晶層之入口部者;及 一封止用樹脂固化步驟,係令前述被吸入之封止用 樹脂在上述狀態下固化者。 84. 如申請專利範圍第80項之液晶顯示裝置之製造方法, 其中泫液晶注入步驟係一種在保持加熱之狀態下注入 液晶之步驟,即,該步驟係將基板加熱並保持於特定 狀態下而進行者; 又,該方法並包含有: 一封止用樹脂吸入步驟,係俟前述在保持加熱下注 入液晶之步驟結束後,於前述液晶注入孔部塗佈封止 用樹脂,隨後將基板溫度降低,使熱膨脹率比該基板 -86- 496981 A8 B8 C8 D8
    六、申請專利範園 大之液晶相對大幅收縮,而將該封止用樹脂吸入 像素之各色用液晶層之入口部者;及 一封止用樹脂固化步驟,係令前述被吸入之 樹脂在上述狀態下固化者。 ’用 85.如申請專利範圍第81項之液晶顯示裝置之製造方法, 其中該液晶注入步驟係一種在保持加熱之狀態下注入 液晶之步驟,即,該步驟係將基板加熱並保; 狀態下而進行者; '特疋 又’該方法並包含有: -封止用樹脂吸入步驟,係俟前述在保持加熱下注 入液晶之步驟結束[於前述液晶注入孔部塗佈封止 用樹脂,隨後將基板溫度降低,使熱膨服率比該 大之液晶相對大幅收縮,而將該封止用樹脂吸入:各 像素之各色用液晶層之入口部者;及 一封止用樹脂固化步驟,係令前述被吸人之封止用 樹脂在上述狀態下固化者。 86’種區晝構造物,係將隔件夾持於對向配置之 及頂蓋部間,隨後對應於像素之配列等而僅將特定領 域内之隔件材料除去,而形成 , 战具有猎上下基板部、頂 蓋' 及側面未除去之隔件材料所包圍之多數空隙者; 前述隔件係由昇華性材料所製者,即一種經紫 照射後藉加熱施加特定能量即可氣化之材料;、、、、 而前述頂蓋部則係由透過性材料製成者:該透過性 材料不但可通過特定能量,且 便則述軋化後之隔件 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    87- 4969^1 六、申請專利範園 材料分子透過。 87.一=積層區畫構造物’係至少於對向配置之基板部及 二邛間介入一中間隔離層,並使隔件夾持於基板部 1間隔離層與頂蓋部相互間,隨後對應於像素之配 !將特定領域内之隔件材料除去,而形成具有 =下基板部及頂蓋部、或者、是中間隔離層或中間 Γ數!及側面上未除去之隔件材料所包圍之多數層及 多數空隙者; 日召:述隔件係由昇華性材料所製者,卜種經紫外線 '、、、後糟加熱施加特定能量即可氣化之材料; :w述頂蓋部則係由透過性材料製成者,該透過性 材;^1旦可通過特定能量’且可使前述氣化後之隔件 材枓分子透過。 -“物’其中該隔件材料係一種須以特定波長之電 磁波作為特定能量之感光性材料。 89.畫如構申利範圍第86項之區畫構造物或87項之積層區 朽m ’、係於則述空隙内具有包含液晶及色素之 树月曰4與前述隔件材料相異之物質。 9。:,申:中專利!1圍第88項之區晝構造物或積層區畫構造 一中e亥空隙内具有包含曰 述隔件材料相異之物f。㈤’、之樹脂等與前 -驟種即區畫構造物之製造方法,該方法係包含有下列步 本紙張尺度適用中國國家標準(^^^謂公釐)
    、一吞. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -88 - 496981 、申請專利範園 -隔件層形成步驟,係於基板部上形成隔件層,而 5玄隔件層則係由經紫外線照射後可藉加熱施予特定能 量而昇華或不昇華之材料所構成者; 頂盍部形成步驟,其係於前述隔件層之上面,以 一種不但可通過前述較能量且可使前述昇華後之隔 件材料分子透過之材料積層頂蓋部者;及 -空隙形成步驟’其係於對應隔件材料層之濾、色片 =與黑色矩陣等之特定領域供予或不供予前述特 疋此篁,使該部之隔件材料昇華,進而並使昇華之分 子穿透頂蓋部’或者是先通過設於頂蓋部之細孔,而 朝外部排出’以形成由上下基板部、頂蓋部及側部之 未幵華隔件材料所包圍且與前述遽色片等相對應 數空隙者。 92. -種積層區畫構造物之製造方法,該方法係包含有下 列步驟,gp : -下部隔離層形成步驟’其係於基板上形成隔件層 ,而該隔件層則係由經紫外線照射後可藉加熱施予特 定能量而昇華或不昇華之材料所構成者; 積層步驟,其係於前述隔件層之上面,以一種不但 可通過前述特定能量且可使前述昇華後之隔件材料分 子透過之材料形成中間隔離層,進而於該形成後之中 間:離:上面’以一種經紫外線照射後可藉加熱施予 特定能量而昇華或不昇華之材料構成之隔件層,至少 施行1次; 本紙張尺度適用中國國家標準(^7A4規格⑵0Χ297公楚y
    •訂丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -89- 上之:H成步驟,其係於前述所形成之各隔件層 量且可 上面,以前述不但可通過前述特定能 丁貝蓋部者=昇華後之隔件材料分子透過之材料積層 及像素與黑::二’其係於對應隔件材料層之濾色片 定能量你15等之特定領域供予或不供予前述相 分:透Γ部之隔件材料昇華,進而並使該昇華: 部或中離層及頂蓋部’或者先通過設於頂蓋 積層形=:::孔,而排出外部,以朝上下方向 之未昇華而頂蓋部或中間隔離層及側部 相對應之多:空:件材料所包圍且與前述遽色“ 93言主如申料利範圍'第91項之區畫構造物之製造方法或申 J去利祀圍第92項之積層區畫構造物之製造方法,咳 昇華:=二=昇華性隔件材選定步驟,該感: 旦 ^件材4 (步驟係選定一可藉供予 里而使之昇華之物質作為前述隔件材料者。' 94.如申請專利範圍第91項之區畫構造物之 方法並包含有一照射小步驟,即, 法,、該 驟中供給特定能量之處理步驟;:::形成步 。先m、射一具特定波長及能量密度之電磁波 95.如申請專利範圍第92項之積層區晝構造物之製 ’該方法並包含有一照射小步驟於前述:隙形 申請專利範圍 成步驟中供給特定能量之處理步驟,由設置於前述頂 蓋部上之光罩上部照射-具特定波長及能量密度之電 磁波。 电 96.如申請專利範圍第91項之區畫構造物之製造 項之積層區畫構造物之製造方法,該方法並包含有— 充填步驟,該充填步驟係於前述業已形成之空隙 填材料與液晶及熱硬化性樹脂等隔件相罝之物質。 ^如申請專利範圍第93項之區畫構造物之製造方法 層區畫構造物之製造方法,該方法並包含有一充填牛 驟,該充填步驟係於前述業已形成之空隙内充填材二 與液晶及熱硬化性樹脂等隔件相異之物質。 98.如申請專利範圍第94項之區晝構造物之製造方法,該 方法並包含有一充填步驟,該充填步驟係於前述業已Λ 形成之空隙内充填材料與液晶及熱硬化性樹脂等隔件 相異之物質。 "·如申請專利範圍第95項之積層區畫構造物之製造方法 4方法並包含有一充填步驟,該充填步驟係於前述 、化成之空隙内充填材料與液晶及熱硬化性樹脂等 隔件相異之物質。 100· 一種區畫構造物之製造方法,該微小區畫構造物係 至乂具有基板層及中央層’該中央層係於以隔離層區 &之微小胞元空間内,使相異種類或量之溶質溶解於 /、通’谷媒’而充填包含有相異種類或濃度之溶液或者 疋谷’夜之硬化物者;而該方法係包含有下列步驟,即 本紙張尺度適财 Μ規格(210X297公釐)
    ..................— (請先閲讀背面之注意事项再填寫本頁J 訂丨 -91 - 496981 A8 B8 C8 ______ D8 六、申請專利範園 一附著步驟,係將該相異種類或量之溶質附著於與 用以形成前述胞元空間之構件表面相對應之位置上; 一胞元空間形成步驟,其係於該附著步驟後,形成 前述胞元空間者; 一共通溶媒導入步驟,其係於前述附著步驟後且於 胞7L空間形成步驟前或之後,將前述共通溶媒導入前 述胞元空間内者;及 一溶解步驟,係於前述業經區隔之胞元空間内,將 溶質溶解於前述溶媒中者。 101. 如申凊專利範圍第1 00項之區晝構造物之製造方法 ’其中該溶解步驟係一藉刺激而溶解之步驟,即,藉 熱、光、振動、化學反應等特定刺激,而可將溶質溶 解於共通溶媒中者。 102. 如申凊專利範圍第1 〇〇或1 0 1項之區晝構造物之製造 方法,其中該附著步驟係一利用微膠囊附著之步驟, 即於封入微膠囊之狀態下將前述溶質附著者。 103·如申請專利範圍第1〇1項之區畫構造物之製造方法 ,其中该藉刺激而溶解之步驟係一利用微膠囊之破壞 之步驟,即,係於前述溶媒内破壞前述微膠囊之壁, 使内部之溶質溶解於溶媒内者。 104·如申請專利範圍第102項之區晝構造物之製造方法 ,其中該藉刺激而溶解之步驟係一利用微膠囊之破壞 之步驟,即,係於前述溶媒内破壞前述微膠囊之壁, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、訂— -92- 496981 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 使内部之溶質溶解於溶媒内者。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 105. 如申請專利範圍第100或101項之區畫構造物之製造 方法,該方法並包含有一溶質色素選定步驟,其係選 定可形不同顏色之發色素為前述溶質。 106. 如申請專利範圍第102項之區畫構造物之製造方法 ,該方法並包含有一溶質色素選定步驟,其係選定可 形成不同顏色之發色素為前述溶質。 107. 如申請專利範圍第103項之區畫構造物之製造方法 ,該方法並包含有一溶質色素選定步驟,其係選定可 形成不同顏色之發色素為前述溶質。 108. 如申請專利範圍第104項之區畫構造物之製造方法 ,該方法並包含有一溶質色素選定步驟,其係選定可 形成不同顏色之發色素為前述溶質。 109. 如申請專利範圍第100或101項之區畫構造物之製造 方法,其係選定對掌性試劑作為該溶質,且選定特定 液晶為前述溶媒。 110. 如申請專利範圍第1 02項之區晝構造物之製造方法 ,其係選定對掌性試劑作為該溶質,且選定特定液晶 為前述溶媒。 111. 如申請專利範圍第103項之區畫構造物之製造方法 ,其係選定對掌性試劑作為該溶質,且選定特定液晶 為前述溶媒。 112· 如申請專利範圍第104項之區畫構造物之製造方法 ,其係選定對掌性試劑作為該溶質,且選定特定液晶 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -93 - 為前述溶媒。 113.如申請專利範圍第100或101項之區畫構造物之製造 f去,其係選定即使溶解於液晶也不會產生二色性之 著色劑作為溶質,並選定特定液晶為溶媒。 14'如申請專利範圍第102項之區晝構造物之製造方法 ,其係選定即使溶解於液晶也不會產生二色性之著色 劑作為溶質’並選定特定液晶為溶媒。 115·如申請專利範圍第103項之區畫構造物之製造方法 ,其係選定即使溶解於液晶也不會產生二色性之著色 劑作為溶質’並選定特定液晶為溶媒。 116'如申請專利範圍第項之區畫構造物之製造方法 ’其係選定即使溶解於液晶也不會產生二色性之著 劑作為溶質,並選定特定液晶為溶媒。 117· '如申請專利範圍第100或101項之區晝構造物之製造 方法,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外 所形成者; k 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層 ’該步驟則係使隔離壁為—光罩,藉攝影印刻術 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者 118.如中請專利範項之區畫構造物之製造方法 ’其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ’該步驟則係使隔離壁為一光罩,藉攝影印刻術於隔 六、申請專利範圍 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 •如申請專利範圍第103項之區畫構造物之製造方法 成=該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 β玄方法並也包含有-利用隔離壁形成樹脂層之步驟 離則係使隔離壁為一光罩’藉攝影印刻術於隔 土口Ρ或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 120.如中請專利範圍第1G4項之區畫構造物之製造方法 成=中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ::::則係使隔離壁為一光罩,藉攝影印刻術於隔 離山或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 121·如中請專利範圍第1G5項之區晝構造物之製造方法 ,、其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者, 該方法並也包含有-利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,该步驟則係使隔離壁為—光罩,藉攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 i22.如中請專利範圍第1()6項之區晝構造物之 ’其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; ^ ^方法並也包含有—利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係使隔離壁為—光罩,藉攝影印刻術於隔 本紙張尺度顧巾酬家標準(CNS) A4規格⑵0Χ297公釐) 496981 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 離壁上部或於正下方之基板部上形成^樹脂層者。 123 :申請專利範圍第1〇7項之區畫構造物之 成=該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 ^方法並也包含有-利用隔離壁形成樹脂層之 ,忒步驟則係使隔離壁為一光罩, , +猎攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 124•如中請專利範圍第⑽項之區晝構造物之製迭方& 成=該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ’該步驟則係使隔離壁為—光罩,藉攝影印刻術於^ 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。’ 125. 如申請專利範圍第1〇9項之區晝構造物之製造方法 ’其中該隔離壁係*至少可吸收近紫外、線之物質所 成者; ' ^ 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係使隔離壁為一光罩,藉攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特㈣脂層者/ 126. 如申請專利範圍第110項之區畫構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係使隔離壁為一光罩,藉攝影印刻術於隔 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) C請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁j
    -96- 496981 、申請專利範圍 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 127.如申請專利範圍第⑴項之區畫構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所带 成者; / 忒方法亚也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係使隔離壁為—光罩,藉攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 128·如中請專利範圍第112項之區晝構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; ^ 该方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係使隔離壁為一光罩,藉攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 129·如申請專利範圍第113項之區晝構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係*至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; ' / 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ’該步驟則係使隔離壁為-光罩,藉攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 130.如申請專利範圍第114項之區畫構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者, 、 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係使隔離壁為一光罩’藉攝影印刻術於隔 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公爱)
    (請先閲讀背面之注意事项再填寫本頁) 訂丨 -97- 496981 A8 B8 C8 ____________ 六、申請專利範圍 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 131·如申請專利範圍第115項之區畫構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; 該方法並也包含有一利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟則係、使隔離壁為—光罩,藉攝影印刻術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特㈣脂層者。 132.如申請專利範圍第116項之區畫構造物之製造方法 ,其中該隔離壁係由至少可吸收近紫外線之物質所形 成者; 該方法並也包含有—利用隔離壁形成樹脂層之步驟 ,該步驟祕使隔離壁為_光罩,藉攝影㈣術於隔 離壁上部或於正下方之基板部上形成特定樹脂層者。 ⑴.一種區畫構造物之製造方法,該微小區晝構造物係 至少具有將基板層及多數中間層與各中間層隔離之隔 〜離層,且於每一中間層使相異種類或量之溶質溶解於 共通溶媒,而形成充填有相異種類或濃度之溶液或該 溶液之硬化物者;而該方法係包含有下列步驟,即: -附著步驟’其係將前述相異或量之溶質附著於用 以形成前述各中間層之構件表面上者; -中間層形成步驟’其係於該附著步驟後,形成前 述各中間層者; -共通溶媒導人步驟’其係於前述附著步驟之後且 於中間層形成步驟之前或之後,使前述共通溶媒導入 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇><297公馨) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    -98- 、申請專利範園 前述隔離形成之胞元内者;及 岭角午步驟,係於前述完全隔離之中 質溶解於前述溶媒中者。 q ,將溶 134·如申請專利範圍第133項之區晝構造物之 其中該中間層係由前述隔離壁區隔 〜方法 13 5 * & * ^ ^ ° •申㈣專利範圍第133或134項之區晝構造物之制 法其中该溶解步驟係一藉刺激而溶解之舟 '、方 藉埶、朵、to去 v驟,即, 将…、九、振動、化學反應等一定之刺數, 可溶解於共通溶媒。 ,而使溶質 136·如申請專利範圍第133或134項之區晝構造物” 方法,其中該附著步驟係一利用微膠囊附著之=1造 即,於封入微膠囊之狀態下令前述溶質附著,驟, 藉刺激而溶解之步驟則為一利用微膠囊 \ ;而該 ^ ^ ^ ^ ,即,係於前述溶媒内破壞該微膠囊之壁, ^驟 溶質溶解於溶媒内者。 吏内。卩之 137. 如申請專利範圍第135項之區畫構造物之製、生 ,其中該附著步驟係一利用微膠囊附著之舟乂方法 驟,p 於封入微膠囊之狀態下令前述溶質附著者· P 激而溶解之步驟則為一利用微膠囊之破 ^错刺 y 衣 < 步驟,β ’係於前述溶媒内破壞該微膠囊之壁, Ρ 乂巧邵之溶皙 溶解於溶媒内。 ^ 138. 如申請專利範圍第133或134項之區畫構造物之製造 方法’其中該溶質係指可形成不同顏色之發色素。 139·如申請專利範圍第135項之區晝構造物之製造方法 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210父297公楚) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}
    -99- 496981 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ,其中該溶質係指可形成不同顏色之發色素。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 140. 如申請專利範圍第136項之區晝構造物之製造方法 ,其中該溶質係指可形成不同顏色之發色素。 141. 如申請專利範圍第137項之區畫構造物之製造方法 ,其中該溶質係指可形成不同顏色之發色素。 142. 如申請專利範圍第133或134項之區晝構造物之製造 方法,其中該溶質係對掌性試劑;而該溶媒則為特定 液晶。 143. 如申請專利範圍第135項之區畫構造物之製造方法 ,其中該溶質係對掌性試劑;而該溶媒則為特定液晶 〇 144· 如申請專利範圍第136項之區畫構造物之製造方法 ,其中該溶質係對掌性試劑;而該溶媒則為特定液晶 〇 145. 如申請專利範圍第137項之區畫構造物之製造方法 ,其中該溶質係對掌性試劑;而該溶媒則為特定液晶 〇 146. 如申請專利範圍第133或134項之區晝構造物之製造 方法,其係事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量 而昇華之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞元形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -100- A8 B8 C8 一 —_ D8 '申請專利範^ ~" ~~ -- ,兑如申叫專利範圍第135項之區晝構造物之製造方法 …'事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量而昇 之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一_壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞元形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 ^軍施行曝光’使隔離壁以外之物f昇華,而形成隔 離壁,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。. 148.兑如巾請專利範圍第136項之區畫構造物之製造方法 係事先選疋經曝光後藉加熱等施與特定能量而昇 華之物質作為前述隔離壁之材料; 忒方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞凡形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 149*如申請專利範圍第i37項之區畫構造物之製造方法 ’其係事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量.而昇 華之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞元形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 150_如申請專利範圍第138項之區畫構造物之製造方法 ’其係事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量而昇 華之物質作為前述隔離壁之材料; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公楚) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂丨 -101 - D8 六、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞疋形成步料於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁’同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 151.如申請專利範圍第139項之區畫構造物之製造方法 ,其係事先選定經曝光後藉加熱f施與特定能量而昇 華之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞元形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 ⑸·如中請專利範圍第⑽項之區畫構造物之製造方法 ,其係事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量而昇 華之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞疋形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光’使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁’同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 153·如申請專利範圍第141項之區畫構造物之製造方法 ,其係事先選定經曝光後藉加熱施與特定能量而昇華 之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 胞70形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光罩施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公复) -102- Α8 Β8 C8 D8
    申清專利範園 離2,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 154,·如中請專利範圍第142項之區畫構造物之製造方法 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1係事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量而昇 華之物質作為前述隔離壁之材料; :亥方法並包含有-隔離壁胞元形成步驟,該隔離壁 I凡形成步驟係於基板上形成隔離壁材料層後,透過 光,施行曝光,使隔離壁以外之物質昇華,而形成隔 離壁,同時並形成由該隔離壁區隔之胞元。 15 5 •如申請專利範圍第143項之區晝構造物之製造方法 ,其係事先選定經曝光後藉加熱施與特定能量而昇華 之物質作為前述隔離壁之材料; 訂— 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,係於基板 ^形成隔離壁材料層後,透過光罩施行曝光,使隔離 =以外之物質昇華’而形成隔離壁,同時並形成由該 隔離壁區隔之胞元。 156·如申請專利範圍第144項之區畫構造物之製造方法 ,其係事先選定經曝光後藉加熱施與特定能量而昇華 之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一隔離壁胞元形成步驟,係於基板 上形成隔離壁材料層後’透過光罩施行曝光,使隔離 壁以外之物質昇華’而形成隔離壁,同時並形成由該 隔離壁區隔之胞元。 15?·如申請專利範圍第145項之區畫構造物之製造方法 ,其係事先選定經曝光後藉加熱等施與特定能量而昇 本紙張尺度適用中國國家檩準(CNS) Α4規格U10 X 297公楚) -103 - 申清專利範圍 華之物質作為前述隔離壁之材料; 該方法並包含有一’ ^ L Jr, ,. 土 I元形成步驟’即,於美 板上形成隔離壁材料芦 、土 pa ^ . 灸,再透過光罩施行曝光,使 . 華,而形成隔離壁,同時並形成 由該隔離壁區隔之胞元。 土 H形成 15 8 · 一種區晝構造物,係包含有: 基板; 隔離壁’係形成於該基板上;及 *中部層’係於以該隔離壁區隔之區晝内,對每一區 :將特定之溶質溶解於各區晝共通之溶媒中後,再將 4等溶媒區隔形成者。 =如中請專利範圍第158項之區畫構造物,其中該隔 一 行沐條件下而幵華之材料性隔離壁,即, 經紫外線照射後藉加熱施與特定能量而昇華,且係由 不行紫外線照射而施以加熱即可硬化之材料所構成者 A 而該中部層則為一可發揮顏色作用之中部層,即, 使特定發色素作為溶質溶解於硬化性樹脂中,或將特 定色素或者是對掌性試劑溶解於特定之液晶中而形、 者。 乂 16°;如宇請專利範圍第158項之區畫構造物,其中該探 離i係一兼作為遮光用之隔離壁,即, 1 硪隔離壁係形 成作為隔離壁使用時,係由至少對近势冰 m 4 *外線有遮光作 用之物質所形成; 本、紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) D8 、申請專利範圍 又,該區晝構造物並包含有: 才月曰層係於4兼作為遮光用之隔離壁之正上方或 基板側正下方施與近紫外線之曝光而形成者;及… 隔離壁’該隔離壁係面向該樹脂層,且於基板上並 列形成者。 161. _ 即: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 下列步驟 種液晶顯示裝置之製造方法,係包含有 .-遮光層形成步驟’係於基板上形成條狀遮光層者 j 一攝影㈣步驟,係使該#已形成之遮光層作為光 罩,由該基板下面曝光,形成由感光性樹脂構成之條 狀支持柱及位於該支持柱上部之黏著用樹脂層; 匕一液晶面板形成步驟,係使該業已形成之黏著用樹 脂層作為黏著劑,並使該業已形成之支持柱作為隔件 ’而將對向基板貼合者;及 一數色液晶層帶形成步驟,係於該業已形成之條狀 月匕元内,依特定配列分別注入溶解有即使溶解於液晶 也不會產生二色性之著色劑之多色液晶者。 162· 一種濾色片,係於由基板上所形成之支持柱所區隔 之微細胞元空間内具有業已硬化之樹脂者; 該前述業已硬化之樹脂,其係存在於微細胞元内, 该微細胞元像介由支持柱於基板上與平面物密接形成 者’並事先於該各胞元内令由其位置決定顏色之發色 素附著於上述基板上,而以液狀注入於該胞元内,且 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) •105- 、申清專利範圍 使前述發色素溶解後,再加以硬化者。 ⑹·如申請專利範圍第⑹項之遽色片,其中該支持柱 係指黑色矩陣。 164· 一種液晶顯示元件,包含有·· 、曰面板於一方基板上形成支持壁,且使至少一 土板上附著有顏色相異之發色素,並將該等基板相 貼合形成者;及 液晶層,係於該液晶面板内注入液晶,隨後使前述 發色素溶解其中,使可發揮彩色顯示功能者。 165· —種液晶顯示元件,包含有: 基板; 壁狀支持柱,位於該基板上; 薄膜層,僅位,於前述支持柱上; 對向基板,位於該薄膜層上; 濾色片本體部,係經由將填充於前述基板及支持柱 上所形成之胞元内之樹脂硬化所構成,且與前述支持 柱等高者;及 ' 胞元内液晶層,其中該胞元係由前述薄犋層、濾色 片本體部及對向基板所形成者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -106
TW089106447A 1999-04-07 2000-04-07 Minutely partitioned inter-film structure and production method therefor TW496981B (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9966999 1999-04-07
JP15187099 1999-05-31
JP27181699 1999-09-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW496981B true TW496981B (en) 2002-08-01

Family

ID=27309011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW089106447A TW496981B (en) 1999-04-07 2000-04-07 Minutely partitioned inter-film structure and production method therefor

Country Status (4)

Country Link
KR (1) KR20010052547A (zh)
CN (1) CN1300373A (zh)
TW (1) TW496981B (zh)
WO (1) WO2000062102A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9103982B2 (en) 2011-11-10 2015-08-11 Innocom Technology (Shenzhen) Co., Ltd. Organic electroluminescent display and method for fabricating the same

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005010298A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置
CN102262320B (zh) * 2011-08-25 2013-05-01 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 液晶显示装置
TWI510841B (zh) * 2013-07-23 2015-12-01 Au Optronics Corp 顯示裝置
CN103744231A (zh) * 2014-01-20 2014-04-23 吴若鹏 调节电子显示器尺寸的方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5688110A (en) * 1979-12-20 1981-07-17 Casio Comput Co Ltd Production of liquid crystal display device
JPS5688109A (en) * 1979-12-20 1981-07-17 Casio Comput Co Ltd Production of liquid crystal display device
JPS62239156A (ja) * 1986-04-11 1987-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd 印画紙用カツタ
JPH07181458A (ja) * 1993-12-24 1995-07-21 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法及び表示装置の駆動方法
JPH09258236A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Toshiba Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JPH10104417A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Canon Inc カラーフィルター、これを用いた液晶素子、及びこれらの製造方法、該製造方法に用いられるインクジェット用インク
JP3274631B2 (ja) * 1997-03-31 2002-04-15 松下電器産業株式会社 液晶表示素子およびその製造方法
JPH10332923A (ja) * 1997-05-30 1998-12-18 Sharp Corp カラーフィルター及び液晶表示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9103982B2 (en) 2011-11-10 2015-08-11 Innocom Technology (Shenzhen) Co., Ltd. Organic electroluminescent display and method for fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2000062102A1 (fr) 2000-10-19
KR20010052547A (ko) 2001-06-25
CN1300373A (zh) 2001-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW505805B (en) Liquid crystal display device and producing method thereof
US20190374759A1 (en) Flexible controlled-release film
TWI312081B (zh)
TW484022B (en) Color filter and the manufacturing method thereof
TWI289215B (en) Liquid crystal display device and production method thereof
US20120176663A1 (en) Electrophoretic display
KR980010576A (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
TWI354845B (en) Liquid crystal display panel having a constant cel
MX2009000594A (es) Estructura de pelicula que contiene liquido.
TW201239498A (en) Electrophoretic display device and method for producing thereof
CN109829452A (zh) 光学指纹传感器模组及其形成方法
TW496981B (en) Minutely partitioned inter-film structure and production method therefor
JP2011150187A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
US20060176258A1 (en) Color cholesteric liquid crystal display device and manufacturing method for the same
JP3982231B2 (ja) カラーフィルタの製造方法とカラーフィルタ及び液晶装置並びに電子機器
JPS61184518A (ja) 液晶表示装置作成方法
US11126026B2 (en) Display panel having black matrix comprising linear polarizer layer and fabricating method thereof
JP4984888B2 (ja) カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ
TWI266083B (en) Color filter partition walls and method for manufacturing the same, color filter and method for making the same
TW200416453A (en) A black matrix and production process of the same, a color filter and a liquid crystal display using the black matrix
JP2001166125A (ja) 特に薄膜間等の微小な、区画構造物とその製造方法
US20060176257A1 (en) Color cholesteric liquid crystal display device and manufacturing method for the same
JP2001100221A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
TWI311206B (en) Fabricating method of color filter
JP4703946B2 (ja) 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees