KR20010052547A - 특히 박막 사이 등의 미소한, 구획구조물과 그 제조방법 - Google Patents

특히 박막 사이 등의 미소한, 구획구조물과 그 제조방법 Download PDF

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KR20010052547A
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카와구리마리코
야마나카야스히코
카라사와타케시
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모리시타 요이찌
마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤
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Abstract

특히 다층구조의 셀의 배열이 정확한 컬러액정표시장치, 그 밖의 구획구조물을 효율 좋게 제조한다.
또한, 다층구조의 액정표시장치의 층간 필름의 파손에 의한 불량을 개선하고, 층간 필름에서의 전압손실을 낮추고, 반사율 등을 향상시킨다.
이상의 해결을 위해 각 층의 각 화소의 액정셀 등에는 전에도 발색소를 배치하고, 그 후 액정을 주입한다.
각 층의 액정은 공통의 구멍으로 주입하고, 각 층의 봉지에는 액정의 열수축에 의한 봉지용 수지의 흡인을 이용한다.
다층으로 겹쳐진 구획구조 등의 형성에 자외선의 조사로 승화하고, 비조사부는 열로 경화하는 재료로 상기 기화한 분자를 투과시키는 재료막을 이용한다.

Description

특히 박막 사이 등의 미소한, 구획구조물과 그 제조방법{VERY SMALL CELL STRUCTURE ESPECIALLY BETWEEN THIN FILMS AND ITS MANUFACTURING METHOD}
각종의 액정표시장치(플라즈마어드레스 액정표시장치(PALC) 등을 포함한다)에 있어서는, 수㎛각이나 한변의 변이 수㎛인 삼각 또는 복수의 띠모양으로 폭이 이것 또는 수㎛와 같은 미소한 구획이 다수 그것도 종횡으로 320×240, 1024×768, 1280×1024등 기행, 기열로도 늘어선, 또한 다단으로도 이루어진 구조물이 사용된다. 구체적으로는 액정표시장치에 있어서 각 화소나 그 액정층 또는 컬러필터, PALC에 있어서 액정층, 또는 게스트호스트셀을 사용한 컬러액정표시장치의 화소부 등이다.
그런데, 이들 다수의 미소한 구획에 관해서는 종래부터 여러가지의 내용, 방식의 물질이 있고, 그 용도에 따라서 다양한 문제가 있으며, 그것을 위한 해결책으로서 여러가지의 기술이 개발되어 있다. 이하, 차례로 그 내용에 관해서 설명한다.
우선, 첫번째로 액정패널에 있어서 기판간격이 있다.
통상, 액정패널은 기판간격을 일정하게 유지하기 위해서 화소부에는 볼모양의 스페이서(spacer)를 산포하고, 주변부에는 실(seal)수지중에 볼모양 또는 섬유(fiber)상의 스페이서를 혼련하여, 접착하고 있다. 그런데, 액정표시장치의 경우, 기판의 간극(=거의 액정층의 두께)은 고도의 정밀성이 요구된다. 즉, 예컨대 STN액정에서는 0.05미크론의 두께 불균일이 표시얼룩으로 되고 만다. 그 대책으로서, 특허공보 제 2504111호는 도 1에 나타난 바와 같이, 한쪽의 기판(20)상에 포토레지스트로 작성한 선상의 스페이서(40)상에 대향기판(30)을 누른 상태에서 가열하는 것에 의해, 포토레지스트의 스페이서를 용융시켜 기판을 접착하면서 아울러 셀벽(기판간극)을 완성하는 방법을 개시하고 있다. 그러나 이 방법에서는 레지스트층이 스페이서를 겸하게 되고, 열압착에 의해 용융시켜 접착할 때에 레지스트층이 눌려 찌부러져 두께가 변화하여, 기판과 부재의 간극을 균일하고 정확하게 제어하는 것이 곤란하다.
다음으로는, 액정패널 등에서 사용되는 컬러필터인데, 이것에는 여러가지의 제조방법이 있다.
현재, 가장 일반적으로 사용되고 있는 방법은 착색안료를 분산시킨 레지스트를 적, 녹, 청, 경우에 따라서는 특히 흑(블랙매트릭스)의 순서로 순차, 도포, 노광, 현상, 그리고 제거하는 포토리소그라피를 3, 4회 반복하는 방법이다. 그러나, 이 방법은 필요한 공정이 많다.
보다 간단한 방법으로서 예컨대 잉크젯법에 의해, 기판상 블랙매트릭스로 둘러싸인 부분에 착색수지액을 사출식의 인쇄 등으로 도포하고 나서 정반에서 프레스하여 레벨링한 후 경화시키는 잉크젯방식이 있다. 그러나, 이 잉크젯방식은 공정은 간단하지만, 착색한 수지가 섞이지 않기 위해서는 사출하는 수지액의 양을 매우 정확하게 제어할 필요가 있고, 또한 잉크젯의 노즐이 막히기가 쉽다.
또한, 오프세트 등의 인쇄기술에 의해 기판상에 착색잉크를 칠하여 경화시키는 방법도 있다. 그러나, 인쇄법은 표면의 요철이 생기기 쉽고, 평탄성에 문제가 있다.
그외 다른 특개소 제 62-3224호에서는 스트라이프상의 스페이서로 구분된 액정셀에 다른 색의 색소를 포함한 액정을 주입하므로써 컬러필터가 아닌 액정패널을 개시하고 있다. 그러나, 이 방법에서는 색소로서 게스트호스트액정을 들고 있지만, 게스트호스트액정은 2색성 색소를 사용하고, 전압을 인가하면 색의 채도가 변화하고 만다. 또한, 구분되어 이루어진 스페이서와 대향기판과의 접착방법은 기술되어 있지 않다.
다음으로는, 반사형 컬러액정표시장치인데, 이것은 반사판에 의해 외부광을 반사하여 컬러표시를 행한다. 이 때문에 백라이트용의 전력소비가 없고, 더 나아가서는 노트형 퍼스널 컴퓨터, PDA 등의 휴대형 기기의 표시장치로서 사용되고 있다. 그런데, 이런 타입의 것의 휘도 등의 표시성능을 높히기 위해서는 종래와 같이 편광판이나 컬러필터를 사용하면 광이 감쇠하므로 곤란하다.
즉, 편광판을 사용하면 최대한 1/2밖에 광이 투과하지 않고, 컬러필터를 사용하면 원칙적으로 1/3의 광밖에 이용되지 않고, 결국 양쪽을 아울러 전체로 1/6밖에 광을 이용하지 못한다.
따라서, 이 해결책으로서 반사판상에 시안, 진홍색, 노란색으로 이루어진 3층의 게스트호스트액정을 적층하고, 감법혼색(減法混色)에 의해 표시하는 방식이 고려된다. 그러나, 간단하게 액정패널을 3매 겹친 경우에는, 화소가 가늘게 되면 유리의 두께가 상대적으로 크게 되므로 시차(視差)가 생기고, 이 때문에 표시면을 기울인 방향으로부터 볼 때에 색어긋남을 발생시킨다.
이 대책으로서, 1매의 기판상에 3층의 액정층을 겹친 구조의 액정표시장치가 특개평 제 8-328031호에 개시되어 있다. 이것은 100∼300㎛ 정도의 층간막을 통하여 액정층을 형성하고, 층간막의 상하에 전극을 형성한 것이다. 그리고, 각 층간막은 스페이서에 의해 지지되고, 액정층은 비즈 스페이서에 의헤 소정의 간극을 유지하고 있다. 또한 각 간극에 시안, 진홍색, 노란색의 게스트호스트액정이 분리되어 주입되어 있다.
또, 이 공보에는 각 액정층으로의 액정의 구체적인 주입의 방법은 개시되어 있지 않지만, 통상의 액정패널과 동일하고, 진공실내에서 패널의 단부에 설치된 각 층마다의 주입구에 각각의 색의 게스트호스트액정을 접촉시켜, 액정면을 상압으로 되돌려서 대응하는 게스트호스트액정을 주입하는 것으로 여겨진다. 따라서, 액정의 주입은 각 색마다 합계 3회 행해지는 것으로 된다.
그러나, 이와 같은 종래의 반사형 그리고 적층형의 액정표시장치에서는 각 액정층의 상하의 경계에서, 필름의 상하에 투명전극을 형성하기 위해서, 각 층마다 2매씩 풀컬러표시로 되면 합계 6매의 투명전극이 필요하게 된다.
이 때문에, 반사형 액정표시장치에서는 1매의 투명전극에 대해 광이 입사시와 반사시의 2회 통과하기 때문에, 어느 경우에나 전극에서의 광의 감쇠가 크게 되어 표시가 어두워진다.
따라서, 각 층간막의 전극을 1매씩으로 하고, 상하의 액정층에 전압을 인가하기 위한 전극을 겸하므로써 투명전극의 매수를 감소시키고, 반사율을 높히는 것이 고려된다. 그런데 이 경우, 각 액정층에는 층간막을 통하여 전압이 인가되는 것으로 되므로, 층간막에서의 전압손실이 문제로 된다. 그리고 액정층의 두께 또는 갭은 3∼5㎛정도이므로, 층간막에서의 전압손실을 낮게 억제하기 위해서는 층간막의 두께는 갭에 비하여 상대적으로 작은 두께(수㎛정도 이하)로 할 필요가 있다.
그러나, 층간막으로서 1㎛정도의 두께의 필름을 사용한 경우에는, 필름이 손상하기 쉽게 된다. 예컨대 5인치 정도의 큰 패널의 경우에는 꼭 수개 정도의 매우 미세한 구멍, 깨짐이 생긴다. 그리고 3층의 액정층에는 각각 다른 색의 게스트호스트액정을 분리하여 주입할 필요가 있지만, 구멍이나 깨짐이 있으면 이것으로부터 본래의 층의 액정 이외의 액정이, 즉 다른 색의 액정이 넓어져서, 주입불량 그리고 표시불량이 생긴다. 더 나아가서는 패널의 수율을 상당히 악화시킨다.
또한, 예컨대 층간막의 두께를 1㎛ 정도로 한 경우에서도 층간막에 있어서 전압손실은 피해지지 않는다. 액정은 배향방향에 따라 유전율이 다르고, 일반적인 유전이방성이 양인 액정에서는 전극 사이에 전압을 인가하면 분자가 수직으로 배향하고, 비유전율이 높게 된다. 특히 동작전압이 작은 액정에서는 비유전율이 ε┴ = 4정도에 대해서, ε // = 11정도로 되고, 이 차가 크게 되는 경향이 있다. 일반적으로는 수지필름의 비유전율은 3정도이므로, 전압인가시 층간막에 비하여 액정의 비유전율이 높게 되고, 층간막에서의 전압손실이 상당히 크게 된다.
다음으로, 이들 구획을 구분하거나 상하의 경계를 형성하는 막이 있는데, 도전, 절연, 광투과, 광차단, 편광, 반사 등 다종다양의 기능을 갖는 물질이 있다. 또한 막으로서의 역할도 외계와의 직접 접촉의 차단, 어느 특정의 물질분자만의 투과, 또는 전자장치의 적층구성요소 등 매우 여러 갈래에 걸쳐서 사용되고 있다. 그리고, 전자장치의 구성요소로서 사용되는 막은 단순하고 평탄한 것을 적층하는 경우는 적고, 계단, 홀, 트렌치 등 다양한 형상을 하고 있다. 예컨대, 박막트랜지스터 등과 같이, 매립층을 갖는 막을 형성하기에는 제막, 포토리소그라피, 에칭의 프로세스가 반복되고, 경우에 따라서는 어느 깊이 영역에만 특정의 물성을 갖도록 하기 위해, 이온주입이나 확산 등의 수법이 병용된다.
여기에서, 포토리소그라피 프로세스에 의해 제조되는 적층구조막을 도 2 및 도 3을 참조하면서 설명한다. 도 2는 1층의 구조의 막의 개념을 나타내는 일부 파단사시도이고, 도 3은 3층의 적층구조의 막의 개념을 나타내는 일부 파단사시도이다.
도 2에 나타나는 1층의 구조막은 대향하여 배치된 기판(20)과 천개부(天蓋部)(30)가 시송(市松)모양의 스페이서(40)를 끼우고, 이들에 의해 둘러싸인 영역에 공극(4))을 형성한 것이다. 한편, 도 3에 나타난 3층의 적층구조막은 대향하여 배치된 기판(20)과 천개부(30)와의 사이에 간격을 내어서 제 1, 제 2의 중간 구분층(50) (60)이 개재하고, 기판부(1)와 제 1의 중간구분층(50)과의 사이, 양 중간구분층(50), (60)의 사이, 그리고 제 2의 중간구분층(60)과 천개부(30)와의 사이에 격자상의 스페이서(40)가 끼워지고, 이것에 의해 둘러싸인 영역에 공극을 형성한 것이다.
이 1층의 구조막이 액정표시소자의 표시부용 화소부일 때에는 기판(20)의 위 표면과 천개부(30)(대향기판)의 하면 등에, 그리고 3층의 적층구조막의 경우에는 중간구분층(50), (60)의 상면 등에 각각 투명도전성 박막(도시하지 않음) 등이 형성되고, 공극내에는 액정이 충전된다. 그리고, 예컨대 스페이서(40)의 상면에는 액정을 공극내에 주입하기 위한 주입구멍(49)이 형성된다. 또한, 3층의 적층된 구조막이 액정표시소자의 표시화소부일 때에는 각 층마다 시안, 진홍색 및 노란색의 색소의 액정이 공극내에 충전되고, 감법혼색에 의해 컬러표시된다.
그리고, 이와 같은 공극을 갖는 적층구조막은 미리 어느 재료와 방법에 의해 제조된 스페이서(40)의 상하 양면에 기판(20)이나 천개부(30) 등을 붙이는 것에 의해 제조된다. 이 방법에 의하면, 예컨대 포토리소그라피의 기술을 응용하는 것에 의해, 공극은 상당한 정도, 형상을 자유로이 설계하고, 또한 형성할 수 있다. 다만, 이 공극을 갖고 있는 적층구조막을 포토리소그라피 프로세스에 의해 제조하는 것은 스핀코팅, 베이킹, UV노광, 약액에 의한 현상, 린스, 건조, 접착층 형성 등 수많은 공정이 필요하다.
더구나 각 공정이 복잡하고, 웨트 프로세스(wet process)가 때마다 겹쳐져 반복되므로 각종의 불량이 발생하기 쉽다. 예컨대, 후공정에 있어서 접합을 수반하면, 경질(硬質)재료의 경우에는 밀착성에 어려움이 생기고, 연질재료의 경우에는 평탄성에 어려움이 생긴다. 또한, 복수층에 공극을 형성하는 것은 일괄하여 형성하는 것은 곤란하므로, 각 층마다 동일한 공정을 반복하지 않으면 안되고, 작업성이 열화하고, 그 위에 적층한 각 층의 공극의 에지가 어긋나는 경우도 있다. 그리고 이것은 컬러의 액정표시소자의 화질의 저하에 관계된다.
다음에, 특개평 제 11-30781호에서는 기판과 봉지막에 끼워진 고형막의 소정부를 기화시키고, 기판, 봉지막 그리고 고형막으로 둘러싸인 영역에 공극을 형성하는 액정표시소자의 제조방법이 개시되어 있다. 이 고형막의 재료는 에너지선 등이 조사되는 것에 의해 액상으로 되고, 또한 가열 및 감압에 의해 기화하는 것이다. 다만, 기화하는 경우 분자는 봉지막을 투과하지 않고, 별도 형성된 배출구로부터 배출된다. 이 때문에 배출구의 형성 등이 필요할 뿐만 아니라 주위를 감압하지 않으면 안되므로, 작업이 대변면도이다. 또한, 적층된 각 다층의 에지의 어긋남은 이 제조방법에 있어서도 생긴다.
(배경기술의 과제)
이 때문에, 박막 사이 등의 다수의 미소한 그리고 적층되는 것이 많은 구획구조에 있어서, 이하의 과제의 요망이 있었다.
액정표시장치 등의 패널로서, 상하(표리) 2매, 또는 다층구조의 경우에는 몇매의 기판간극을 정확하게 유지하는 것이 가능하고, 더구나 공정 등도 간단한 기술의 개발.
액정표시장치용의 두께가 균일하고 평탄한 컬러필터를 간단한 공정으로 형성하는 기술의 개발.
컬러필터에 한정되지 않고, 미세한 구획구조물에서 각 구간내에 성질이 다른 물질이 채워져 있는 물질을 간단한 공정으로 형성하는 기술의 개발.
또, 관련된 물질로서는 체온에 따라 소정의 영역이 발색하거나, 변색하거나 하는 타입의 체온계, 산소, 탄산가스 등 특정의 가스의 농도에 따라서 소정의 영역이 발색하거나, 변색하거나 하는 타입의 가스검지기 등이 있다. 또, 이들에 있어서는 온도 등에 따라서 발색하고 더구나 발색온도가 다른 작은 액정의 셀이나, 가스농도 등에 따라서 발색하고 더욱이 발색농도가 다른 작은 액정의 셀을 판 등에 일정한 규칙으로 배치하고, 필요에 따라서 표면에는 가스투과성 수지를 사용하고 있다.
다층구조의 액정표시장치에 있어서, 각 층의 어긋남 등이 발생하기 어렵고, 휘도가 양호하고 더구나 액정의 주입공정도 적고, 또한 소비전력이 우수하게 되는 기술의 개발.
동일하게, 다층구조의 액정표시장치에 있어서, 단순하고 또한 간단한 공정 또한 기판 등의 밀착성이나 평탄성에 문제가 생기기 어렵고, 컬러표시특성 등이 우수한 것으로 되는 기술의 개발.
광의 조사 등에 의해 유동체화하는, 특히 기화하는, 바람직하게는 직접 기화(본래의 의미에서의 승화)하는 성질을 갖고, 또한 그 후의 가열로 경화하는 수지를 사용한다. 그리고 작업분위기를 감압 등을 하지 않고 다층의 복잡한 형상의 공극을 형성할 수 있는 기술의 개발.
층간절연막이 얇더라도, 액정의 주입불량이 발생하지 않는 적층구조의 액정표시장치의 개발.
층간막에서의 전압강하가 적고, 반사율이나 콘트라스트비 등이 우수한 액정표시장치의 개발.
본 발명은 박막 사이의 다수의 미소한 구획구조에 관한 것으로서, 특히 액정을 사용한 표시장치나 그 부품으로서의 패널이나 컬러필터 등에 관한 것이다.
도 1은 종래의 액정소자의 단면도이다.
도 2는 종래의 액정표시장치 등에 있어서 1층의 구획구조의 막의 일부파단 사시도이다.
도 3은 종래의 액정표시장치 등에 있어서 3층의 적층 구획구조의 막의 일부 파단사시도이다.
도 4는 본 발명의 제 1의 실시의 형태로서의 컬러표시용 액정표시장치의 제조순서를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제 2의 실시의 형태로서의 컬러필터의 제조순서를 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제 3의 실시의 형태로서의 컬러필터의 제조순서를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제 4의 실시의 형태로서의 컬러표시용 액정표시장치의 화소부의 평면도이다.
도 8은 상기 화소부의 단면도이다.
도 9는 상기 화소부의 C-C단면의 형성순서를 나타내는 도면이다.
도 10은 상기 화소부의 A-A단면의 형성순서를 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명의 제 5의 실시의 형태로서의 컬러표시용 액정표시장치의 제조순서를 나타내는 도면이다.
도 12는 본 발명의 제 6의 실시의 형태로서의 컬러표시용 액정디스플레이의 사용상태를 나타내는 도면이다.
도 13은 본 발명의 제 8의 실시의 형태로서의 간극을 나타내는 도면이다.
도 14는 상기 실시의 형태의 간극의 형성순서를 나타내는 도면이다.
도 15는 본 발명의 제 9의 실시의 형태로서의 3층의 간극을 나타내는 도면이다.
도 16은 상기 실시의 형태의 간극의 형성순서를 나타내는 도면이다.
본 발명은 이상의 과제를 해결하는 것을 목적으로 하여 이루어진 것이고, 이하의 점에 착안한 것이다.
제 1로, 일정한 물리적, 화학적 조건에서 발색작용을 하는 소정의 발색소, 발색작용물질(색소, 염료, 카이랄제, 안료, 침입한 소정의 물질과의 반응으로 발색하는 물질 등)을 각 미소한 구획구조의 소정의 위치에 배치하여 두고, 그 후(통상은) 무색의 수지 등을 충전하고, 더욱이 일정한 조건을 가하여 상기 수지를 발색시키고 아울러 필요에 따라 경화 등을 시킨다.
제 2로, 포토리소그라피용의 노광제로 사용되는 근자외선 등의 전자파의 조사나 또한 이것에 더하여 80℃ 이상의 온도에서 승화하거나(고체로부터 액체를 통하여 기화하는 경우를 포함한다), 역으로 승화하지 않거나 하는 물질에 포토(차광용)마스크를 걸친 자외선노광, 또는 그 후의 가열 등으로 노광부나 피노광부의 물질을 승화시키는 것에 의해 셀을 형성한다.
이것에 의해, 표시장치 등은 그 규칙이나 규격에 따라 한변이 수십∼수백㎛, 물론 크게 되면 수mm정도의 정방형의 화소 등의 미소한 구획이 종횡 기열(幾列)로, 또한 케이스에 의해 기단(幾段)으로도 배열되어 있지만, 그 구획, 구체적으로는 액정셀이나 컬러필터의 셀의 제조를 가능하게 하고 있다. 물론, 폭 수십∼수백㎛, 작으면 2∼3㎛의 띠가 기열로도 늘어선 스트라이프구조나 델타로도 대응가능하게 되어 있다.
또한, 관련된 재료를 상하(기판에 직교한다) 방향으로 몇매나 겹쳐진 상태에서, 기판상방으로부터 마스크를 통하여 한번에 각 층의 재료를 노광하는 것에 의해, 상하 각층의 셀을 어긋나지 않고 형성하는 것이 가능하게 된다. 이 때, 상하 각 셀 사이의 색채 등의 다른 액정분자의 상호 혼합을 방지하거나, 천개를 형성하거나 하기 위해서, 천개부나 구분층을 설치하지만, 이 구분층 등을 형성하는 물질은 단순하게 상술한 자외선을 투과할 뿐만 아니라, 상술한 승화한 물질의 분자(일단 액화후의 기화를 포함한다)를 또한 투과시키는 성질을 갖고 있는 재료로 형성한다. 더욱이 이 경우, 도전성을 또한 갖는 물질로서 액정장치의 전극을 겸하도록 하고 있다.
제 3으로, 간극내에 충전된 물질이 액정층이나 컬러필터로서의 역할을 담당하므로, 색소, 카이랄제 등을 각 셀(액정 등이 채워진 간극내)에 배치하는 수단으로서, 특히 소위 모자이크나 델타의 배열의 경우에는 상술한 승화성 물질중에 색소 등을 봉입한 마이크로캅셀을 미리 혼입하여 두고, 후에 셀내로 주입하는 무색의 액정에 마이크로캅셀을 파괴하는 물질을 넣고 있다.
제 4로, 이들과 아울러 각 셀내로의 액정의 주입은 각 화소마다 각 층에 공통의 주입구멍을 설치하고, 액정주입후 봉구용 수지로 공통의 주입구멍을 봉지하는 경우, 기판과 액정과의 열팽창율의 차이에 주목하여, 이 때문에 고온시에 액정을 주입후, 봉구용 수지를 도포하고, 실온으로 내리는 것으로 이루어져 있다.
구체적으로는, 각 발명은 이하와 같이 하고 있다.
1의 발명은 액정표시장치의 컬러필터에 사용하기 위해서, 각 화소 등의 구분을 이루는 구분벽의 위(반기판측)에, 상부에 돌출한 상부 구분벽을 더 형성한다. 이를 위해 컬러필터 상면에 감광성 레지스트를 도포하고, 유리측으로부터 유리에 흡수되기 어려운 파장이 긴 자외선을 구분벽을 마스크로 하여 조사하고, 이 감광성 레지스트를 노광시키거나 한다. 이와 같이 하여 형성된 상부 구분벽으로 구분된 구획내에 액정 등이 충전된다.
또한 다른 발명은 기판상에 포토리소그라피나 인쇄로 컬러필터 등의 배열, 치수 등의 규격에 따라 통상은 등고의 지지벽이 형성되고, 그 상부에 수지필름층이 형성되고, 또한 상하의 기판과 수지필름층, 측부의 지지벽으로 구분된 구획내로 진공주입 등으로 발색작용을 이루게 되는 수지가 충전되고, 경화된다. 이 때, 기판이 휘거나 하지 않도록, 수지가 부착하기 어려운 처리를 한 유리판 등으로 기판을 토대에 눌러 붙이고, 아울러 유리판상 등으로부터 자외선을 조사하거나 가열하거나 하여, 수지를 경화시키거나 한다.
또한 다른 발명에 있어서는, 기판측으로부터의 구분벽을 마스크로 하여 근자외선(유리에 흡수되기 어려움) 등을 조사하는 포토리소그라피에 의해 각 구획의 구분벽의 상부에만 열가소성 수지층을 형성하고, 이 열가소성 수지층을 접착제로서 각 구획의 구분벽의 상부에 수지필름막 등을 접착한다. 이 때, 수지필름막이 휘지 않도록 하기 위해서는 금속로울러 등을 사용한다.
또한 다른 발명에 있어서는, 액정표시장치에 사용하기 위해서 컬러필터의 각부재질이나 상태를 고려하여 이루어져 있다.
또한 다른 발명에 있어서는, 인쇄 등에 의해 스트라이프 등의 지지벽이 형성되고, 지지벽으로 구분된 구획내에 일정한 조건으로 소정의 발색작용을 이루는 발색소가 인쇄 등으로 배치된다. 이 때, 각 구획은 표시면의 화소나 컬러필터의 규격에 대응하고 있다.
또한 다른 발명은 전극을 갖는 기판상에 각 화소에 대응하여 전극을 부착하거나, 그 자신이 전극을 겸한 투명한 수지필름이 기판 및 수지필름 상호에 대해서 소정의 간극을 두어(단, 등간격으로 한정되지는 않는다) 소정수 적층되고, 또한 기판과 수지필름 및 수지필름 상호의 간극에 색소나 카이랄제 등의 소정의 발색소를 포함하는 액정이 충전되어 이루어진 화소가 형성된 컬러표시용의 액정표시장치에 있어서, 상하(기판에 직교한다) 방향으로부터 보아 수지필름 및 중간의 구분층으로서의 수지필름의 수만큼 겹쳐서, 기판과 수지필름 및 수지필름 상호의 간극에 그들의 거리를 일정하게 유지함과 동시에 개개의 화소의 주위를 둘러싸도록 지지부재가 설치되고, 이것에 의해 각 화소마다 구분되어 있다. 또한, 각 화소의 상하의 액정층은 수지필름에 의해 구분되어 있다.
이것에 의해, 만일 수지필름에 구멍이나 깨짐이 있는 경우에서도, 그 화소만 불량하게 될 뿐이고, 표시부 전체에 액정의 주입불량이 발생하는 것을 방지하여, 제품의 내구성 등 수율을 향상시키고 있다. 또한, 액정표시장치에 있어서는 지지부재가 블랙매트릭스를 겸하는 것도 가능하게 된다.
또한 다른 발명에 있어서는 수지필름이 투명한 도전성 수지로 이루어진다. 이 때문에, 수지필름이 화소전극을 겸할 수 있고, 절연체의 수지필름상에 전극을 형성한 경우에 비하여 수지필름에서의 전압강하를 억제하고, 높은 표시성능을 얻을 수 있다. 또, 현시점의 도전성 수지는 얇게 하면 투명성이 열화하기 때문에 그 두께는 수㎛ 정도 이하로 하는 것이 바람직하지만, 이 경우에서도 각 화소의 액정은 기계적, 물리적으로 독립하고(왕래가 없다) 있으므로 제조에서의 수율 저하, 내구성의 열화를 억제할 수 있다.
또한 다른 발명은 수지필름이 각 화소마다 전기적으로 분할되어 있으므로, 각 화소마다의 구동이 가능하게 되고, 매트릭스표시가 가능하게 된다. 또, 이 경우에는 필요에 따른 콘택트홀이 지지부재내에 설치되거나 하는 것은 물론이다.
또한 다른 발명은 각 화소내의 액정은 다른 화소의 액정과 독립하고 있지만, 제조시에 한해서는 동일 화소내의 상하에 적층한 각 발색용의 다른 액정층과는 공통의 액정주입구멍을 갖고 있다.
또한 다른 발명은 각 화소의 각 발색용의 액정층은 공통의 액정주입구멍을 갖고, 또한 각 층마다 그 입구부에 상부(주입측)의 수지필름보다도 하부로 투입된 방사선이나 자외선 경화형, 2액혼합경화형, 다소의 가열로 경화하는 형 등의 봉지용 수지를 갖고 있다. 이것에 의해, 각 층마다 소정의 색의 게스트호스트액정으로 이루어진 무색의 액정 등을 공통의 구멍으로부터 충전함과 동시에, 주입후 발색성이 다른 것으로 된 각 액정이 그 공통의 주입구멍을 통하여 왕래하는 것을 경화한 봉지용 수지가 방지한다. 즉, 이 경우, 봉지용 수지는 최상(천개)부의 수지필름에 도포되고, 경화하므로써 주입구멍을 봉지할 뿐만 아니라, 상기 수지필름의 기계적 보호, 내부로의 수분의 침입의 방지 등의 작용을 발휘한다.
또한 다른 발명은 전극을 갖는 기판상에 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸한 투명한 수지필름이 기판 및 수지필름 상호에 대해서 필요한 액정층 두께 등으로부터 정해지는 소정의 간극을 설치하여 표시하는 색채나 그 원색으로부터 정해진 소정수로 적층되고, 또한 기판과 수지필름 및 수지필름 상호의 간극에 소정의 발색소를 포함하는 액정이 충전되어 이루어진 화소가 형성된 컬러표시용의 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 기판과 수지필름 및 수지필름 상호를 일정 간극으로 유지함과 동시에, 각 화소의 수평구분벽으로 되는 다른 화소로부터 구분되는 지지부재를 기판상 수지필름이 겹쳐져 형성된 수만큼 반복하고, 노광 등을 이용하여 상하(기판에 직교하는) 방향으로부터 본 경우 겹쳐져 형성된다.
또한, 이를 위해 각 층의 지지부재가 형성될때마다 그 상부에 각 액정층의 상하방향의 경계벽으로 이루어진 수지필름을 형성한다. 또한 기판과 수지필름 또는 수지필름 상호의 간극에 액정을 주입하는 것에 앞서서 미리 그 간극내에 소정의 색소 등을 배치시키고 있다. 또한, 동일 화소내의 상하의 각 층에 각 발색용의 액정층이 충전되도록, 각 화소마다 공통의 액정주입구멍을 개설시킨다. 그리고, 그 주입구멍으로 원칙적으로 무색의 액정이 주입된다. 또한 간극내에 주입된 액정에 색소 등을 용해시킨다.
이것에 의해 각 발색용의 각 층에 각 층마다 소정의 색의 게스트호스트액정으로 이루어진 액정을 개별로 충전하게(단, 충전시에 발색성을 갖는 것으로 한정되지 않는다) 되고, 수지필름의 깨짐에 의해 각 화소, 각 층의 액정의 혼합, 그리고 제품의 수율저하 등을 억제하는 것이 가능하게 된다.
또한 다른 발명은, 발색소는 마이크로캅셀내에 넣어 배치한다. 또한 이 마이크로캅셀은 액정내에 혼입된 화학물질에 의해 액정주입 후 또는 그 후의 가열이나 승온시에 파괴되어, 발색소는 액정내에 확산한다. 또 이 때, 가열, 진동 등의 처리도 된다.
또한 다른 발명은 전극을 갖는 기판상에 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸한 투명한 수지필름이 기판 및 수지필름 상호에 대해서 소정의 간극을 두고 소정수 적층되고, 또한 기판과 수지필름 및 수지필름 상호의 간극에 소정의 2색성 색소나 카이랄제 등의 발색소를 포함하는 액정이 충전되어 이루어진 화소가 형성된 컬러표시용의 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 노광후의 가열에 의해 승화성으로 되거나(현 시점에서는 이것이 보통) 승화성을 잃게 되는 감광성 재료층과 수지필름을 교대로 소정수 적층한 후, 포토리소그라피와 화소부분의 감광성 재료의 승화에 의해 화소용의 각 발색용의 액정층으로 되는 상하에 복수 적층한 간극과 그 주변의 지지부재를 기판상에 형성한다.
이것에 의해 특별히 지지부재를 형성하는 단계가 없게 되고, 제조공정이 간략화된다. 또한 상하의 각 간극에는 액정주입에 앞서서 발색소가 배치되어 있으므로, 이 발색소는 주입된 액정에 용해되어, 발색작용을 한다. 또한, 상하의 간극에 공통의 주입구멍으로, 특별한 용도 등을 제외하고는, 원칙적으로 무색의 액정을 충전하는 것에 의해 용이하게 발색용의 액정층을 형성하는 것이 가능하게 된다.
또한 다른 발명에 있어서는, 감광성 재료는 노광후의 가열로 승화성을 갖고 있는 것이고, 이 때문에 포토리소그라피의 경우, 화소부가 노광되게 된다.
또한 다른 발명에 있어서는, 각 층용의 감광성 재료중에 미리 소정의 비승화성, 물론 비증발성의 2색성 색소 등을 혼입하여 두고, 화소부의 액정충전부를 승화시켜 간극을 형성함과 아울러, 이 각 간극내에 발색소를 남겨둔다.
또한 다른 발명에 있어서는, 각 층 공통의 각 화소마다의 액정주입구멍은 액정이 충전되는 공극을 형성하기 위해 감광성 재료가 승화하는 경우의 분자의 통과구멍을 겸하고 있다.
또한 다른 발명에 있어서는, 각 화소마다의 각 액정층에 공통한 주입구멍을 각 층마다 수지로 봉지함에 있어 액정과 기판 등과의 열팽창율의 차이를 이용한다. 즉, 기판상 화소부의 각 간극내로의 액정의 주입은 일정하게 가열된 온도하에서 행해지고, 그 후 적어도 주입구멍부에 봉지용 수지가 도포되고, 이 후 기판온도가 실온으로 떨어진다. 그리고, 액정의 상대적인 수축과 봉지용 수지는 주입구멍 내 각 층의 입구부까지 흡인된다. 이 상태에서 봉지용 수지의 고화가 이루어진다. 이 때문에, 각 화소내에서 상호 작용이 다른 발색소를 포함하는 각 층의 액정은 상호 혼합되지 않는다.
대향하여 배치된 기판부와 천개부와의 사이의 전면이나 주변부를 제거한 전면 등에 스페이서를 끼우고, 그 후 화소형성부 등의 소정영역의 스페이서 재료만이 제거되므로써, 기판부, 천개부 및 제거되지 않은 스페이서에 의해 둘러싸인 공극을 갖는 것으로 된 적층구조체에 있어서, 스페이서는 자외선 등 특정의 에너지가 부여되므로써 분해하여 승화되는(주의를 위해 기재하지만, 액화 후의 증발을 포함한다) 재료 등이고, 천개부는 이 승화한 기체분자를 투과시키는 재료이다.
이 때문에, 공극은 마스크를 통한 자외선 조사 등으로 특정의 에너지를 부여하는 것에 의해, 미세한 치수로도 정밀도 좋게 또한 용이하게 형성된다.
또한, 여기에 「특정의 에너지」는 어느 파장 이하의 자외선이나 100℃ 등 어느 온도 이상의 열 또는 그들 양쪽 등이고, 제품이 통상 사용되는 경우의 주변환경으로부터 햇볕에 쬐거나 사용시에 햇볕에 쬐지 않는 것이 바람직하다. 따라서, 제품의 사용 후의 이 에너지의 부여로, 제조시에 승화하지 않고 남아있는 스페이서재료가 승화하지 않는 것은 물론이다. 또한 이 재료는 일단 가열경화 등 하면, 그 후는 승화하지 않게 되는 성질을 갖고 있는 것이 특히 바람직하다.
또한 다른 발명에서는, 대향하여 배치된 기판부와 천개부와의 사이에 적어도 1, 원칙적으로 2 또는 5(3원색층이 2단)의 중간구분층을 개재시키고, 기판부, 중간구분층, 천개부의 각 사이에 자외선의 조사 등 특정의 에너지에 의해 승화하는 물질로 이루어진 스페이서가 끼워지고, 또한 이 스페이서는 자외선에 의한 조사 등으로 특정 영역만 승화하여 제거되어 있다. 이 때문에, 상하방향은 기판부, 천개부 또는 중간구분층, 측부는 승화하지 않은 부분의 스페이서에 의해 둘러싸인 공극이 적층되고 겹쳐져 형성된 적층구조체이다. 또, 천개부 및 중간구분층은 상기 특정의 에너지를 통과시킴과 동시에, 승화한 스페이서 재료의 분자를 투과시키는 재료로 이루어진다.
또, 기판부는 얇은 판 유리가 기재인 것이 보통이지만, 제품의 용도에 따라서는 천개부나 중간구분층과 동일 재료이어도 바람직한 것은 물론이다. 이 경우에는 승화촉진겸 공극내로의 액정충전용 미세구멍을 갖지 않더라도, 최하부(기판측)의 승화한 기체분자의 외부로의 탈출이 빠르게 된다.
또한, 다른 발명에 의하면, 특정의 에너지의 부여는 마스크를 통한 자외선 등의 조사로 이루어지므로, 다층의 스페이서 재료가 동일 형상으로 겹쳐진 태양에서 노광하게 된다. 적층방향으로 연속하는 형상, 특히 에지의 잘려진 다수의 공극이 한번에 형성된다.
또한 다른 발명에 의하면, 적층구조체는 스페이서 구성재료가 노광 등으로 승화하여 형성된 공극내에 색소를 포함한 투명수지액정 등 스페이서의 재료와 다른 재료가 충전되어 있다.
또한 다른 발명에 있어서는, 기판부상에 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 재료나 이것을 주재료로 하는 재료로 이루어진 스페이서층을 형성하는 스페이서층 형성단계와, 스페이서층 위에 상기 특정의 에너지를 통과시키고, 또한 승화한 분자를 투과시키는 재료의 천개부를 적층하는 천개부 형성단계와, 화소나 컬러필터 형성부 등의 스페이서 재료의 소정 영역에 특정의 에너지를 부여하는 것에 의해 당해 부의 스페이서 재료를 승화시키고, 더욱이 그 승화한 기체분자가 천개부를 투과하여 외부로 배출되므로써 상하의 기판부와 천개부 및 측부의 승화하지 않고 남아 있는 스페이서 재료에 의해 둘러싸인 공극을 형성하는 공극형성 단계를 포함한다. 또, 이상의 다른 필요에 따라서 승화한 기체의 방산촉진겸 형성된 공극내로의 액정 등의 주입용의 미세구멍을 갖추는 단계를 포함하거나, 천개부로서 도전성 수지와 강도가 비교적 높은 수지를 겹친 막을 선정하는 단계를 포함하거나, 승화하지 않은 스페이서층의 재료를 경화시키는 단계를 포함하기도 한다.
또한 다른 발명은 기판부 상면에 특정의 에너지 부여에 의해 승화하는 재료의 스페이서와, 상기 특정의 에너지를 통과시키고 승화한 분자를 투과시키는 재료의 중간구분층으로 이루어진 층을 복수회 형성하는 단계와, 형성된 최상층의 스페이서의 상면에 상기 특정의 에너지를 투과시키고, 승화한 기체분자를 투과시키는 재료로 천개부를 형성하는 천개부 형성단계와, 스페이서의 소정영역에 상기 특정의 에너지를 부여하여 당해부의 스페이서 재료를 승화시키고, 더욱이 그 승화한 기체분자가 중간구분층 및 천개부로부터 투과하여 외부로 배출되는 것에 의해, 상하의 기판부, 천개부, 중간구분층과 측부의 승화하지 않은 스페이서 재료로 둘러싸인 공극을 적층하여 형성하는 공극형성 단계를 갖고 있다. 이상의 것 외에, 필요에 따라서 스페이서 재료중에 미리 색소나 카이랄제 등을 매우 소량 혼입하는 혼입단계나 형성된 공극내에 액정을 진공주입방식으로 주입하는 주입단계 등을 갖고 있다.
또한 다른 발명에 의하면, 천개부의 상방 또는 접하는 상부에 기판상의 컬러필터나 화소의 형상, 치수, 배치 등에 대응한 노치를 갖는 마스크가 설치되고, 또한 그 상방으로 자외선 등이 조사되고, 이것에 의해 스페이서 재료의 소정부가 노광되고, 분해하여 승화하거나, 조사후의 가열로 승화하거나 한다. 이 때, 승화한 스페이서 재료의 분자는 중간구분층 및 천개부를 투과하는 등 하여 배출되고, 다층의 공극이 정확하게 겹쳐진, 그리고 특히 에지가 잘려진 공극이 형성된다.
또한 다른 발명에 의하면, 적층된 구획구조물의 미소한 공극내에 스페이서의 재료와는 다른 재료가 충전되어 있다. 구체적으로는, 예컨대 액정을 충전하는 것에 의해 액정표시소자의 구성요소로서의 적층구획구조물을 용이하게 제조할 수 있다.
또한 다른 발명에 의하면, 컬러필터나 액정표시장치(의 패널)만이 아니라. 여러가지의 미세한 다수의 구획으로 이루어지고, 또는 그들을 갖는 구조물(을 포함하는 막 등)로 되어 있다.
이하, 본 발명을 그 바람직한 실시의 형태에 따라서 설명한다.
(제 1의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 단층형의 컬러액정표시장치에 관한 것으로서, 포토리소그라피에 의해 스트라이프형의 화소의 구획을 형성하고, 화소내에 염료를 인쇄도포한 후 액정을 주입하는 것이다.
본 실시의 형태를 도면을 참조하면서 설명한다.
도 4는 본 실시의 형태의 액정표시소자의 제조방법의 개략을 나타내는 도면이다. 이하, 본 도면을 따라 그 순서를 설명한다.
(a) 기판(20)상에 스트라이프상으로 패터닝한 투명전극(21)을 형성하고, 또한 배향막(이하, 도시하지 않음)(22)을 도포하여 러빙한다.
(b) 동경응화공업(주)의 흑색안료 분산레지스트(41)를 두께 5미크론으로 도포하고 마스크(23)로 근자외선(UVA)에 의해 노광을 하였다.
(c) 현상하여 전극(21)의 극간에 폭 15미크론, 높이 5미크론의 스트라이프상의 지지기둥(42)을 전극의 폭과 동일하게 0.33mm피치로 작성하고, 200℃의 오븐에서 1시간 경화시켰다.
(d) JSR(주)의 아크릴계 포지티브형 레지스트 PC(403)로 이루어진 레지스트막(43)을 전면에 도포하고, 기판(20)의 하면측으로부터 유리에 흡수되기 어려운 장파장의 자외선으로 노광한다.
(e) 지지기둥(42)이 차광마스크로서 기능하고, 현상에 의해 지지기둥(42)의 두정부(頭頂部)에만 레지스트로 이루어진 접착층(44)이 남는다. 이 PC(403)는 본래는 마이크로렌즈 작성용의 열용융형 레지스트이지만, 가열을 지속하면 경화하여, 미세가공이 가능한 접착재로서 유효하다는 것을 본 발명자들은 발견한 것이다. 이것에 한정되지 않지만, 포지티브형 레지스트는 열가소성을 가지므로 접착층으로 된다. 이 경우, 아크릴계나 스티렌계의 열용융형 레지스트가 접착층으로서는 바람직하다.
그리고, 화학섬유의 염색에 사용되는 메틴염료, 벤조키논 염료 등 중에서 분자구조가 봉상이 아닌 것을 선택하고, 블렌드하여 2색성이 아닌 적, 녹, 청의 3종의 색소를 얻었다. 이들의 색소를 디에틸렌글리콜디메틸에테르에 10중량% 용해한 후, 스크린인쇄로 지지기둥의 사이에 도포하고나서 건조시켜, 적(R)색소(71), 녹(G)색소(72), 청(B)색소(73)를 스트라이프상(도면의 안쪽방향으로 연신되어 있다)에 부착시켰다.
(f) 내(하)면측의 ITO의 열(列)전극(31) 및 러빙한 배향막(32)을 형성한 대향기판(30)을 지지기둥의 위에 올려놓은 상태에서 진공팩 주머니에 넣어서 균일하게 가압하고, 150℃의 핫플레이트상에서 가열하면, 몇분만에 접착층(44)은 용융하여 찌그러지고, 2시간 가열하면 접착층(44)은 경화하였다. 이 때문에, 상하의 기판(20)∼(30)은 손으로는 벗기기 어려울 정도로 강고하게 접착하였다. 또한, 셀두께는 6±0.05미크론으로 매우 정확하게 제조할 수 있었다.
(g) 패널단을 절단한 주입구로부터 통상의 진공주입에 의해 각 미세 셀공간에 동일하게 카이랄네마틱 액정을 주입하였다. 그 후, 패널을 100℃로 가열하여 각 색소를 액정에 용해시켰다. 이것에 의해, RGB에 착색한 액정층(81), (82), (83)으로 각 셀공간은 채워지고, 액정은 러빙에 의해 비틀린 네마틱으로 배향하였다. 더욱이 장시간 경과하여도, 각 색의 액정이 혼합되지 않았다.
종래와 같이 게스트호스트액정을 나누어 넣은 경우에는 전압을 인가하게 되면, 밝아질 뿐만 아니라 채도가 작게 되어, 표시할 수 있는 색에 한정이 있었다. 그러나, 이 패널의 상하에 편광판을 첨부한 결과, 전압에 의해 각 셀의 계조(階調)를 변화시켜도, 색채도에는 변화가 없고, 풀컬러표시가 가능하였다.
또한, 풀컬러표시에서는 RGB 3색이므로, 종래예에서는 각 액정을 나누어 넣기 위해서 패널절단을 복수회 행하지 않으면 안되고, 절단부를 크게 하지 않으면 안되었다. 본 실시예와 같이, 기판을 접합시키기 전에, 색소를 미리 기판상에 도포하여 두면, 색소의 양은 셀공간에 비하여 수%로 소량이므로, 간단한 인쇄법으로 도포가 가능하고, 또한 주입시에 동일하고 투명한 액정을 1회 주입하면, 다른 색으로 되는 액정을 각 셀에 용이하게 채울 수 있으며, 컬러필터를 작성하는 경우보다도 공정이 간단하고, 더구나 필터상의 요철의 문제 등도 없다.
잉크젯과 같은 방법으로 착색액정을 직접 나누어 넣게 되면, 매우 정확하게 사출량을 제어하지 못하면 액정이 섞이거나, 모자라서 기포가 생기거나 한다. 본 실시의 형태에서는 미세 셀공간이 가로로 늘어선 패널이었지만, 시안, 진홍색, 노란색의 액정층을 적층하여, 감법혼색에 의해 표시를 행하는 액정패널이어도, 미리 색소를 부착시키므로써 동일한 액정을 도입하는 본 발명의 제조방법은 동일한 효과를 갖는다. 또한, 액정패널 이외에서도 미세 셀공간에 다른 색의 용액을 넣는 구조물에 있어서 유효하다.
또한, 본 실시의 형태에서는 지지기둥을 경화시키고 나서 포토레지스트를 접착층으로서 이면노광에 의해 지지기둥의 위에만 남아 있게 하므로, 셀두께를 정확하게 제어할 수 있고, 또한 배향막이 노출하여 균일한 배향을 얻을 수 있었다. 또한, 미세한 지지기둥의 위에 정확하게 접착층을 형성할 수 있으므로, 접착이 확실하게 되고, 각 셀공간끼리에서의 누출을 없게 하였다.
또, 액정의 착색제로서 색소 이외에도 카이랄제를 사용하여 원편광 2색성에 의한 발색을 생기게 하여도 바람직하다. 이 경우, RGB의 각 셀로 도포하는 카이랄제는 동일한 종류이더라도 바람직하고, 그 양을 변화시키므로써 카이랄제가 네마틱액정에 용해하여 비틀린 피치의 모양이 다르거나 색을 다르게 하는 것도 가능하다.
상기 (b)와 (d)의 단계에서 각 감광재료의 노광의 파장의존성을 고려하는 것도 바람직한 것은 물론이다.
더욱이, 블랙매트릭스로서 작용하는 것과 같이, 가시광에서는 흑이지만 자외선은 투과하도록 하여도 바람직하다.
(제 2의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 컬러필터의 제조에 관한 것이다.
도 5에, 본 발명의 컬러필터의 제조방법의 순서를 나타낸다. 이하, 본 도면을 따라서 그 내용을 설명한다.
(a) 유리기판(20) 위에, 흑색안료 레지스트로 높이 1.5미크론으로 화소를 둘러싼 블랙매트릭스로 지지기둥(42)을 형성한다.
(b) R, G, B의 색소(71), (72), (73)을 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 증점제로서 소량의 아크릴올리고머에 용해하고, 스크린인쇄로 기판(20) 위에 도포하고, 건조하여 부착시켰다.
(c) 기판(20)을 진공챔버에 넣어, 자외선 경화형의 아크릴수지용액(38)을 적하하고나서, 연마한 두께 5밀리의 유리의 정반(定盤)(23)의 표면에, 분자가 극성을 갖지 않으므로 다른 물질이 부착하기 어려운 불소계 단분자막(39)을 도포하는 이형처리를 실시한 정반으로 프레스하여, 지지부재와 정반의 간극이 없게 될 때까지 가압하여, 아크릴 수지용액의 두께를 일정하게 하였다. 또, 이 아크릴수지용액은 상온에서는 색소의 용해속도가 상당히 작게 되도록 분자량을 크게 하고, 또한 색소와의 상용성을 갖지 않도록 몇몇의 모노머와 올리고머를 조합하여 제조하였다. 그 결과, 이 단계에서는 색소는 아크릴수지용액에 거의 확산하지 않는다.
(e) 프레스한 상태에서 패널을 90도로 가온하여, 색소를 아크릴수지의 용액에 잘 용해시키고 나서 자외선을 조사하여 RGB 각 색의 색소에 의해 착색된 아크릴수지를 경화시켰다.
(f) 정반을 벗겨서 RGB의 컬러필터(91), (92), (93)을 제조하였다. 또, 컬러필터는 연마유리로 프레스한 결과, 매우 평탄성이 우수한 표면으로 완성되었다.
또, 지지기둥을 스트라이프상으로 한 경우는 미리 실시의 형태와 동일하게 정반으로 가압하고 나서, 아크릴수지용액을 주입하여도 좋다.
또한, 지지벽도 인쇄로 형성하여도 좋다. 이 경우에는 의료(衣料)에 응용되어 있지만, 열팽창제를 내포한 마이크로캅셀의 이용 등이 없더라도 좋다.
본 실시의 형태에서는 그 실시의 형태와 동일하게 미세셀을 형성 후, 색소를 미리 부착시키므로써, 미세셀 내에 수지를 채우고, 더욱이 이 채운 수지에 색소를 용해시키므로, 종래의 수지를 직접 사출하는 잉크젯법에 비교하여 공정이 용이하고, 또한 인쇄법에 비교하여 평탄성이 우수하다.
또, 본 실시의 형태에서는 아크릴수지용액으로의 색소의 용해를 가온에 의해 촉진하였지만, 이것은 광, 초음파 등의 다른 수단이어도 좋다.
또한, 아크릴수지와의 조합이 아니고, 색소는 마이크로캅셀에 가두어 두고, 소정의 시간, 단계에서 캅셀벽이 녹아서 깨져서 내부의 색소가 용해하도록 하여도 좋다.
그리고 이것은 상술한 실시의 형태에서도 동일하다.
(제 3의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 컬러표시용의 액정패널의 제조에 관한 것이다.
도 6은 본 실시의 형태의 컬러필터의 제조순서를 나타내는 도면이다. 이하, 본 도면을 참조하면서 그 내용을 설명한다.
(a) 블랙매트릭스의 지지기둥(42) 사이에 R, B, G의 색소(71), (72), (73)을 도포하였다.
(b) 자외선 경화형 아크릴수지용액(38)을 적하하고 나서, 그 표면에 점착성이 있는 두께 6미크론의 포지티브형 필름레지스트(43)를 금속로울러(301)에 의해 지지부재상에 라미네이트하여 접착시켰다. 여기에 라미네이트를 금속과 같은 단단한 로울러로 행하는 것은 고무로울러로는 필름레지스트가 지지기둥의 사이에서 휘어져 두께 불균일이 심하게 되기 때문이다.
(c) 90℃로 가온하여 색소를 아크릴수지용액에 용해시키고 나서, 이면측으로부터의 자외선에 의해 노광하여, 착색한 아크릴수지용액을 경화시키고, 또한 필름레지스트를 노광시켰다.
(d) 현상하면 블랙매트릭스상의 레지스트만이 높이 약 6미크론으로 남고, 각 색용의 컬러필터(91), (92), (93)과 동시에 스페이서(40)가 형성되었다.
(e) 이 기판상에 전극(36), 배향막(22)을 형성하고, 진공중에서 액정을 적하하고 나서, 대향기판(30)을 접합시켰다.
이상의 설명에서 명백한 바와 같이, 본 실시의 형태에서는 상당히 간이한 공정으로 균일성이 높은 컬러표시용의 액정패널을 제조할 수 있었다.
(제 4의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 각 색소가 교대로 독립한, 그리고 3층의 액정층으로 이루어진 반사형의 액정표시장치에 관한 것이다.
도 7은 본 실시의 형태의 반사형 액정표시장치의 중앙부의 화소의 평면도이다. 본 도면으로 명확한 바와 같이, 각 화소는 거의 정방형이고, 그것의 한변은 약 300㎛이다. 또한 도 8의 (a), (b), (c)는 각각 도 7의 A-A, B-B, C-C의 단면도이다.
그런데, 이 도 7에 나타난 화소(1)는 도 8을 보면 알 수 있는 바와 같이, 3개의 액정층(85), (86), (87)이 겹쳐져 이루어진다. 그리고, 이들 3개의 액정층은 서로 수지필름(51), (61)로 구분되고, 또한 기판(20)상의 (도면상) 최상부의 액정층(87)상에는 이 상계면을 형성하는 수지필름(33)이 설치되어 있다. 또, 이 수지필름(33)은 그 하층의 수지필름(51), (61)과 동일한 재료이다.
또한, 각 화소의 사이에는 그 각 액정층의 주위를 둘러싸서 그 내부의 액정이 다른 화소내의 액정과 상호 왕래하지 않도록 구분하고, 아울러 수지필름(51), (61), (33)을 기판(20)상에 지지하는 지지부재(401), (402), (403)가 설치되어 있다.
또한, 각 화소내에는 직경 수㎛의 도트상의 지지부재(411), (412), (413)가 설치되고, 화소주변의 지지부재(401), (402), (403)와 함께, 얇은 수지필름(51), (61), (33)을 일정간격으로 유지하고 있다.
각 수지필름(51), (61), (33)은 도전성을 갖는 투명한 수지로 이루어지고, 이 자체가 화소전극을 겸하고 있다. 또한, 수지필름(51), (61), (33)은 지지부재(401), (402), (403) 위에서 각 화소마다 분할되어 있다. 또, 도 1에서는 수지필름(8)만을 파선으로 나타내고 있다.
또한, 각 화소를 구분하는 지지부재(401), (402), (403)에는 각 화소마다 콘택트홀(421), (422), (423)이 설치되어 있고, 전극을 겸한 수지필름(51), (61), (33)은 각각 콘택트홀(421), (422), (423) 내에 충전된 도전성 수지(동일하게 (421), (422), (423)으로 나타난다)에 의해 기판(20) 위의 구동소자의 단자(25), (26), (27)에 전기적으로 접속되어 있다.
도 8의 (c)에 나타난 바와 같이, 수지필름(51)은 대응하는 콘택트홀(421)에서 단자(25)만에 접속하고, 동일하게 수지필름(61), (33)은 각각 콘택트홀(422), (423)에서 단자(26), (27)만에 접속하고 있다.
이와 같이 한 결과, 1매의 기판(20) 위에 형성된 구동소자(도시하지 않음)에서, 각 화소의 각 색용의 전극을 겸하는 각 수지필름(51), (61), (33)에 인가하는 전압을 제어하고, 각 색용의 액정층(85), (86), (87) 각각의 표시동작을 제어할 수 있다.
또한, 각 화소는 도 8에 나타난 바와 같이 3개의 액정층(85), (86), (87)에 공통의 주입구멍(48)을 갖고 있다. 그리고 이 주입구멍(48)은 각 화소의 각 액정층용 간극에 진공하에서 액정을 주입한 후, 봉입용 수지(45)에 의해 봉지된다. 그리고 이 봉지용 수지(45)는 주입구멍(48)내 각 액정층(85), (86), (87)의 입구에까지 충전되어 있고, 이것에 의해 각 층마다 색이 다른 게스트호스트액정이 상호 혼합되지 않도록 하고 있다.
또한, 주입구(48)의 가로에는 도 7에 나타난 바와 같이, 지지부재(414)가 설치되어 있고, 봉지용 수지(45)로 주입구(48)를 봉지하는 경우에, 화소(1)의 중앙에 봉지용 수지가 퍼지지 않도록 하고 있다.
또한, 도 8에 나타난 바와 같이, 봉지용 수지(45)상에는 증착에 의해 알루미늄제의 반사막(34)이 설치되어 있다.
그런데, 각 액정층(85), (86), (87)은 게스트호스트액정이지만, 이것은 각 액정층을 형성하게 되는 수지필름 상호간의 간극의 내에 미리 소정의 2색성 색소를 비치하여 두고, 2색성 색소를 포함하지 않는 무색의 액정을 각 화소의 각 층 공통의 주입구멍(48)으로 주입하고, 봉지용 수지를 사용하여 각 층의 주입구멍을 봉지한 후, 이 2색성 색소를 주입한 액정에 용해시켜 형성하는 것이다.
그리고, 이것에 의해 액정주입시에 색이 다른 게스트호스트액정이 혼합하는 것을 방지할 뿐만 아니라, 용이하게 3층의 액정층의 각 색의 게스트호스트액정을 넣어 나누는 것을 가능하게 하고 있는 것이다.
이와 같이 각 화소마다 액정층을 구분하고, 또한 각 층에 액정을 채운 후 색소를 용해시키는 것에 의해, 수지필름의 구멍이나 깨짐에 의해 게스트호스트액정이 다른 화소의 색채의 층에까지 퍼지거나 수율을 낮추는 것이 방지될 수 있다.
다음에, 이 액정표시장치의 표시에 관해서 설명한다.
3층의 액정층(85), (86), (87)에는 각각 시안, 진홍색, 노란색의 2색성 색소를 포함하는 게스트호스트액정이 충전되어 있는 것으로 된다.
외부광은 기판(20)측으로부터 입사하고, 액정층(85), (86), (87)의 순서로 투과한 후, 반사막(34)에서 반사하고, 이번에는 역으로 액정층(87), (86), (85)의 순서로 통과하여 액정표시장치의 관찰자의 눈에 들어간다. 이 경우, 각 액정층내의 2색성 색소는 액정분자와 함께 배향하고, 이 때문에 액정분자의 배향방향에 의해 광의 흡수, 투과의 정도를 변화시킬 수 있다. 따라서, 구동소자에 의해 액정을 동작시키면, 이것에 맞추어 광의 착색, 투과가 제어되고, 감법혼색에 의해 풀컬러표시를 행하는 것이 가능하게 된다.
또한, 수지필름을 도전성 수지로 하므로써, 종래에 비교하여 수지필름에서의 전압강하를 저감하고, 저전압에서 고반사율, 높은 콘트라스트비를 얻는 것이 가능하게 된다.
다음에, 본 실시의 형태의 액정표시장치의 제조방법에 관해서, 도 9와 도 10을 사용하여 설명한다.
도 9는 도 7의 C-C단면에 있어서 제조의 진전에 따라 구조의 변화를 나타내는 것이다. 도 10은 동일하게 도 7의 A-A단면에 있어서 제조의 진전에 따라 구조의 변화를 나타내는 것이다.
이하, 우선 도 9를 따라 C-C단면의 제조에 따른 변화를 설명한다.
(a) 기판(20)상에는 미리 1화소당 3개의 구동소자 및 그들의 단자(25), (26), (27) 및 전극(31)을 형성한다. 다음에, 각 화소를 구획하는 지지부재 및 각 화소내의 도트상의 지지부재를 형성하는 개소에, 그들의 마스크패턴에 상당하는 이면노광마스크(23)를 형성한다. 이 이면노광마스크는 카본(흑색)을 함유하는 레지스트재료 또는 크롬 등의 금속막이다. 그리고, 기판상에 지지부재로 이루어진 포지티브형 레지스트를 도포하고, 이 이면노광마스크를 포토마스크로서 노광하여, 이 마스크와 동일한 위치에 지지부재 및 도트상의 지지부재를 형성한다.
또, 이 경우 도 8의 (b)에 (401), (402), (403), (411), (412), (413)으로 표시되는 바와 같이, 적층하여 형성한 경우에 하나씩 각 층에서 동일한 위치에 지지부재가 되도록 형성되는 것은 물론이다.
(b) 최하층의 액정층을 형성하게 되는 간극을 제조하고, 아울러 그 상부에 전극을 구비하는 수지필름을 형성하고, 이것을 각 화소마다 분할하므로써 기판(20)면의 평탄화를 행한다. 즉, 우선 기판(20)상에 가열로 승화하는 물질(24)을 용제에 용해하여 스크린 인쇄에 의해 도포하고, 여분의 부분은 취하여 제거하여, 기판(20) 상면에 평탄한 막을 형성한다. 또한 이 경우, 이 승화성 물질(24)중에는 시안의 2색성 색소를 혼입하여 둔다.
(c) 평탄한 기판(20) 상면에 투명한 도전성 수지를 스핀코트에 의해 도포하여, 수지필름(510)을 형성한다. 이 경우, 콘택트홀(421), (422), (423) 내에도 이 도전성 수지가 충전되고, 기판(20)상의 단자(25), (26), (27)와 수지필름(510)이 도통하는 것으로 된다.
(d) 수지필름(510)을 포토리소그라피 및 에칭에 의해 지지부재(401)상에서 각 화소마다 분할함과 동시에, 1층째의 수지필름과는 전기적으로 접속하지 않는 콘택트홀(422), (423) 주변의 수지필름을 취하여 제거한다. 이것에 의해 각 화소마다 하부의 액정층의 전극을 겸하는 수지필름(51)을 형성할 수 있다.
다음에, 기판(20) 전체에 자외선을 조사하여 노광 후, 전체를 승화성 물질(24)이 승화하는 온도로 가열하여, 이 물질(24)을 승화시킨다. 이 경우, 수지필름(51)은 승화성 물질을 투과하는 재료를 사용하므로써 승화한 물질은 수지필름(51)을 투과하여 외부로 배출되고, 아울러 수지필름(51)과 기판(20)과의 사이에 액정을 충전하기 위한 간극(85)을 형성한다. 이때, 승화성 물질에 혼입한 2색성 색소(도시하지 않음)는 승화하지 않으므로, 간극의 내벽에 부착한 그대로 된다.
(e) 이상의 공정을 3회 반복하여, 기판면에 직교하는 방향으로 겹쳐진 3개의 지지부재(401), (402), (403)을 형성하고, 각 지지부재상에 동일하게 수지필름(51), (61), (33)을 적층하고, 이들의 사이에 액정층을 형성하기 위한 간극(85), (86), (87)을 동일하게 형성한다. 여기에서, 상, 중 2개의 수지필름(61), (33)은 각각 콘택트홀(422), (423)을 사용하여 기판상의 구동소자의 단자(26), (27)에 각각 접속된다. 또한, 간극(86), (87)의 내부에는 상술과 동일한 방법으로 각각 진홍색, 노란색의 2색성 색소가 부착하여 있다.
이상과 같이 기판상 각 화소상당부에 겹쳐져 형성된 각 수지필름(51), (51), (33)에 액정을 주입하기 위한 공통의 주입구멍(본 도면에서는 도시하지 않음)을 형성하고, 승화성 물질이 없어져서 형성된 간극내에 액정을 주입하고, 또한 각 액정층을 독립화하여 봉지하게 된다.
이하, 이것에 관해서 도 10을 참조하면서 설명한다. 본 도면의 (a)는 도 9의 (e)와 동일한 단계에서의 A-A단면을 나타내는 것이다.
(b) 이 상태에서 표시면에 직교하는 방향으로부터, 각 화소마다 각 층 공통의 주입구멍을 설치하는 위치의 수지 필름에 스포트상의 레이저광을 조사하고, 3개의 수지필름층을 관통하는 작은 지름의 주입구멍(48)을 개설한다. 또, 이 주입구멍의 개설은 포토리소그라피와 드라이에칭(예컨대, 산소플라스마의 리액티브이온에칭)을 조합시키는 등 다른 방법에 의해도 좋은 것은 물론이다.
다음에, 진공하에서 색소를 전혀 포함하지 않는 액정을 기판상에 적하하여, 3층의 갭(85), (86), (87) 내에 액정을 충전한다. 이 경우 기판은 섭씨 60도로 가열해 둔다.
그런데, 수지필름(51), (61), (33)은 통기성을 갖고 있으므로, 간극내의 공기는 수지필름을 투과하여 배출되고, 간극내에 공기를 남기지 않고 완전하게 액정을 채울 수 있다. 여기에서, 2색성 색소는 간극에 충전된 액정과 접하여 그 내부로 조금 용해하지만, 기판온도가 섭씨 60도로 낮기 때문에 액정을 충전하는 데에 필요한 비교적 짧은 시간에서는 그 대부분은 용해하지 않는다. 또한, 액정은 주입구멍으로부터 각 화소의 각 층의 간극에서 그 내부로 향하여 흐르므로 이 2색성 색소가 조금 용해된 액정이 주입구멍의 방향으로부터 외부로 유출하는 것도 아니다. 따라서, 공통의 주입구멍을 통하여 다른 색의 게스트호스트액정이 혼합되는 것은 아니다.
이상의 설명에서 명백한 바와 같이, 공통의 주입구멍을 설치하므로써 혼색 등이 생기지 않는 액정을 전체의 층에 동시에 주입하는 것이 가능해진다.
액정이 각 간극내에 완전하게 충전된 결과, 최상층의 필름(33)상에 남은 여분의 액정을 기름먹인 걸레에 의해 흡수시켜 제거한 후, 기판 전체에 투명한 봉지용 수지(45)를 스핀코트에 의해 도포한다.
(c) 이 상태에서, 기판온도를 섭씨 60도로부터 상온으로 낮추면, 간극내에 충전한 액정이 기판보다도 다소 더 한층 수축하므로, 봉지용 수지가 액정용의 공통의 주입구멍(48)으로부터 간극내 입구부에 겨우 침입한 상태로 된다. 이 시점에서 봉지용 수지를 경화시킨다. 이것에 의해, 본 (c)에 나타난 바와 같이 각 액정층의 각각의 주입구에 봉지용 수지가 들어가고, 각 층간의 액정이 혼합하지 않도록 확실하게 봉지하는 것이 가능하게 된다.
다음에, 이 봉지용 수지를 경화시키는데, 2액 혼합경화형의 혼합수지를 실온에서 반일∼1일 정도 방치하여 두어도 좋고, 방사선이나 자외선의 조사에 의해 단시간에서 경화하는 수지를 사용하여 공급구멍 내에서 자외선 등의 조사에 의해 고정시켜도 좋다.
또, 여기에서 봉지용 수지를 주입구만이 아니고 기판 전체에 도포하는 것은 액정층을 보호하는 보호막겸 수지필름을 투과하여 공기중의 산소나 수분이 액정중에 들어가는 것을 방지하는 통기차폐막으로 작용하도록 하기 위해서이다.
다음에, 액정이 등방상으로 되는 온도(섭씨 100도 정도)로 기판을 가열한다. 이것에 의해, 각 간극내벽에 미리 잔류시켜져 있는 2색성 색소가 그 간극내의 액정에 완전하게 용해하게 된다. 또, 이 2색성 색소는 액정에 용해시킨 상태에서 3층 적층시의 색이 적절하게 되도록 승화성 물질에 혼입하는 경우에 그 양을 미리 조정하여 두는 것은 물론이다.
마지막으로, 기판의 반대측에 존재하는 고화한 봉지용 수지(22)상에 알루미늄을 증착시켜 반사막(본 도면에서는 도시하지 않음)을 형성하여, 반사형 액정표시장치를 완성시킨다.
또, 본 실시의 형태에서는 1, 2, 3층째의 액정층의 게스트호스트액정을 각각 시안, 진홍색, 노란색으로 하였지만, 이 색의 순서는 다르게 되어도 좋은 것은 물론이다.
또한, 각 층의 수지필름을 화소마다 분할하는 것은 승화의 후에 하여도 좋은 것은 물론이다.
또한, PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 등의 필름을 지지부재상에 접합시킨 후, 필름상에 전극을 형성하는 방법으로 전극을 구비하는 수지필름을 형성하여도 좋은 것도 물론이다.
또한, 2색성 색소의 각 화소마다 각 간극으로의 부착은 다음과 같이 하여도 좋다.
수지필름을 적층후 액정주입 전의 상태에서 각 층마다 소정의 2색성 색소를 봉입한 마이크로캅셀을 각 화소마다의 각 간극에 배치하여 두도록 한다. 이 경우, 액정에는 마이크로캅셀의 격벽을 분해하는 재료를 소량 첨가하여 둔다. 이 상태에서, 상술한 실시의 형태와 동일한 방법으로 액정을 충전하면, 마이크로캅셀은 액정에 접촉되어 파열하고, 그 속의 2색성 색소가 마이크로캅셀 밖으로 나간다. 액정봉입구를 봉지 후, 기판을 가열하여 2색성 색소를 액정에 용해시킨다.
또, 이 마이크로캅셀이나 그것을 분해하는 재료 등에 관해서는, 통상적인 감압복사지(압력으로 분해한다), 의약품(위산 등으로 분해한다) 등에도 넓게 채용되어 있는 주지 기술이므로, 그 설명은 생략한다.
(제 5의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 상술한 제 4의 실시의 형태의 공정을 간략화한 것이다.
본 실시의 형태에서는 공정의 간략화 때문에 액정을 충전하는 간극을 형성하는 승화성 물질로서, 노광 및 그 후의 가열에 의해 승화하는 재료물질(이하, 승화성 포토레지스트)을 사용하고, 또한 승화되지 않은 승화성 포토레지스트를 지지부재 및 도트상의 지지부재로서 사용한다. 그 결과, 지지부재 등의 형성과, 액정을 주입하기 위한 간극의 형성을 1회에 행하게 되어, 제조공정의 간략화가 도모된다.
이하, 본 실시의 형태의 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 상술한 실시의 형태와 다른 부분에 관해서 도 11을 사용하여 설명한다.
(a) 1화소마다 3개의 구동소자 및 그 단자 (25), (26), 27) 및 전극(31)을 형성한 기판(20)상에 노광 그리고 그 후의 가열에 의해 승화하는 포토레지스트(240)를 용제에 용해하고, 스핀코트법을 사용하여 도포한다.
본 실시의 형태에서는 이 승화성 포토레지스트는 예컨대 특원평 9-127057호에 개시되어 있고, 폴리부티르알데히드에 오늄염인 트리페닐설포늄 헥사플루오로안티몬을 1중량% 가하여 시클로헥사논에 용해시킨 것을 사용하였다. 이 물질은 노광(254nm, 5mJ/㎠) 후 100℃로 가열하면, 노광한 개소만이 승화한다. 따라서, 도포후 콘택트홀을 형성하는 개소만 마스크하지 않고 노광하고, 그 후 가열하여 본 도면의 (a)에 나타낸 바와 같은, 콘택트홀(421), (422), (423)을 형성한다.
(b) 이 상태의 기판상에 투명한 도전성 수지를 스핀코트에 의해 도포하고, 수지필름을 형성한다. 이 경우, 콘택트홀(421), (422), (423)내에도 도전성 수지가 충전되는 것으로 된다. 그리고, 상술한 제 1의 실시의 형태와 동일하게, 이 수지필름은 각 화소마다 분할하고, 아울러 1층째의 수지필름과 접속하지 않은 콘택트홀(422), (423) 주변부의 수지필름을 제거한다. 이것에 의해, 제 1층째의 액정층의 화소전극을 겸한 수지필름(51)을 형성한다.
(c) 이상의 공정을 3회 반복하여, 본 도면의 (c)에 나타난 바와 같은, 승화성 포토레지스트와 수지필름이 기판상에 교대로 적층된 구조를 형성한다. 여기에 각 수지필름은 콘택트홀(422), (423) 내에서 각각 단자(26), (27)에 접속되어 있다. 또한, 각 층의 승화성 포토레지스트에는 상술한 실시의 형태와 동일하게 미리 소정의 2색성 색소를 혼입하고 있다.
(d) 화소를 형성하는 부분의 승화성 포토레지스트에 자외선을 조사하고, 그 후 가열하여 화소부분의 승화성 포토레지스트만을 승화시키고, 화소를 둘러싼 부분, 즉 지지부재를 형성하는 부분과 화소내의 도트상의 지지부재를 형성하는 부분의 승화성 포토레지스트를 잔존시킨다.
이상과 같이 하여, 일부의 승화성 레지스트를 남겨 수지필름을 지지하는 지지부재(401), (402), (403)로서 사용하고, 아울러 액정층을 형성하기 위한 간극(85), (86), (87)을 동시에 형성한다. 이를 위해 상술한 실시의 형태의 지지부재의 형성공정이 불필요하게 되고, 제조공정이 간소화된다.
이상에 의해, 상술한 실시의 형태와 동일하게, 필름에 국소적인 구멍이나 깨짐이 발생하기 어렵고, 또한 예컨대 깨짐 등이 생긴 경우에서도, 구멍 등이 생긴 화소가 불량하게 될 뿐이고, 다른 화소는 관계가 없다. 이 때문에 제조에 있어서 수율저하를 방지하는 것이 가능하게 된다.
또한, 상술한 실시의 형태에 비교하여 제조공정을 간략화하는 것이 가능하다.
(제 6의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 반사형이 아니고, 액정표시장치를, 말하자면 영화의 필름과 같이, 즉 투사형 디스플레이에 사용하는 것이다.
도 12에, 본 실시의 형태로서의 액정표시장치의 구성을 나타낸다. 본 도면에 있어서, (150)은 액정형 표시장치 본체이고, (151)은 액정부이고, (152)는 강력한 광원이고, (153)은 필름이다.
그리고, 광원으로부터의 강력한 광은 액정부(151)를 통과하여 필름에 영상을 표시한다. 또한 이 때문에, 액정형 영상표시장치는 굳이 도시하지는 않지만, 제어부 등을 갖고 있고, 상술한 2개의 실시의 형태와는 달리 액정부의 반사판은 갖고 있지 않다.
(제 7의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 액정으로서 고분자분산형의 것을 사용하는 것이다.
여기에 본 실시 형태의 고분자분산형의 액정으로는, 고체의 수지매트릭스중에 거의 구상의 액정분자방울이 존재하고, 이 방울내의 액정분자가 전압의 유무에 의해 기판의 방향, 기판에 직교하는 방향으로 회전하고, 이것에 의해 광을 투과하거나, 반사 또는 나누거나 하는 것이다.
즉, 각 액정분자가 기판에 평행 또는 직교하는 어떤 경우에는 액정분자와 수지매트릭스와의 굴절율이 동일한 광이 통과하고, 다른 쪽의 경우에는 다르므로 광이 산란하고, 투과하지 않는 것이다.
이하, 이와 같은 수단에 관해서 설명한다.
각 화소의 각 간극층에는 미리 소정의 색소를 내포한 미소캅셀이 배치되어 있다. 이 간극내에는 고분자분산형 액정과 수지매트릭스 전구체의 혼합물이 진공하에서 주입되어 있지만, 이 경우의 주입물질 내에는 이 미소캅셀을 파괴하는 물질이 혼입되어 있으므로, 미소캅셀이 파괴되어, 주입물질 내에 색소가 퍼지게 된다.
각 화소의 각 층에 고분자분산형 액정과 수지매트릭스 전구체의 혼합물을 채운 후, 수은램프로 자외선을 60초 조사하고, 수지매트릭스 전구체를 고화하여 수지매트릭스로 하고, 아울러 그 내부에 구상의 고분자분산 액정방울을 형성한다.
이 후, 표시장치 전체를 100℃로 가열하여, 액정방울로 완전하게 색소를 분산시킨다.
그런데, 본 실시의 형태의 경우, 각 액정층은 기본적으로는 고체이므로, 사용자의 난폭한 취급때문에 전극을 겸한 수지필름이 조금 깨지거나, 미세구멍이 생기거나 하여도 내부의 액정이 혼합되는 것은 결코 아니다.
이 때문에, 제조 등에 다소 시간은 걸리지만 내충격성이나 내구성이 매우 우수한 액정표시장치로 된다.
(제 8의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 승화성 물질을 이용하여 액정 등이 들어 있는 간극을 형성하는 것이다.
본 실시의 형태에 있어서 구조막 및 그 제조방법을 도 13 및 도 14를 참조하면서 설명한다. 도 13은 이 구조막(물건)의 개념을 나타내는 단면도이고, 도 14는 이 구조막을 제조하는 공정을 나타내는 단면도이다.
이 1층의 구조막은 도 13에 나타낸 바와 같이 대향하여 배치된 기판부(20)와 천개부(30)와의 사이에, 예컨대 시공막 같은 스페이서(40)가 끼워지고, 이들에 의해서 둘러싸인 영역에 공극(80)을 형성한 것이다. 이 기판부(20), 천개부(30) 및 스페이서(40)는 통상 사용되고 있는 포토리소그라피 프로세스를 사용하여, 불량발생의 위험성도 적은 재료로 구성된다. 따라서, 기판부(20) 및 천개부(30)의 재료의 종류 및 두께는 사용목적에 따라서 동일한 경우 또는 다른 경우가 있다.
단, 스페이서(40)는 포토레지스트에 유사한 점성액체가 응고한 것이고, 그 재료에는 특정한 파장의 전자파가 부여되는 것에 의해 용질을 기체로 기화시키기 위한 물질이 첨가되어 있다, 또, 이 용매로서는 유기용제를 주성분으로 하는 액체가 채용된다. 용질은 용매와 반응되지 않고 용해하고, 산에 의한 분해가 가능한 폴리머가 채용된다.
그리고, 특정의 파장으로서는 예컨대 화학적 작용이 큰 자외선과 같은 단파장의 전자파를 사용하고, 전자파를 흡수하는 물질로서는 감광성 광산발생제를 채용한다. 이와 같은 스페이서 재료는 특정의 파장의 전자파에 조사되면 산이 발생하고, 그 산에 의해 폴리머가 분해하여 모노머로 되고, 분자가 작은 기체로 기화한다. 여기에서의 승화로는 액체가 기체로 되는 기화를 포함한 의미로 된다.
한편, 스페이서(40)상에 적층되는 천개부(30)는 스페이서의 재료에 부여되는 전자파를 통과하고, 또한 상기 기화한 분자를 투과시킴과 동시에, 기화하지 않은 부분의 스페이서(40)를 유지하는 그런 재료로 구성되어 있다. 예컨대 매우 얇은 수지필름이다.
다음에, 이 구조의 막의 제조방법에 관해서 도 14를 참조하면서 설명한다.
(a) 이 구조막을 제조하는 것은 스페이서(40)의 재료에는 광산발생제가 포함되어 있으므로, 예컨대 소위 옐로우룸이나 암실 등 필요한 대책을 갖춘 부실에서 작업한다. 또한, 기판부(20)의 표면은 먼지 등이 없고, 또한 부착성에 영향을 미치는 것과 같은 오염이 없도록 충분한 세정과 건조를 행해 둔다.
그리고, 기판부(20)상의 전면에 스페이서의 재료층(240)을 적층한다. 이 재료층은 점성액체이고, 이것을 기판부(20)상에 적하하고, 스핀코팅에 의해 기판상의 전면에 적층하였다. 또, 기판단부의 벽은, 번잡성을 피하기 위하여 또한 자명하므로, 도시하지 않는다. 스핀코팅은 구체적으로는 스페이서의 재료층(240)을 적층한 기판부(20)를 저속으로 예컨대 5초간 회전시킨 후, 고속으로 예컨대 20초간 회전시키므로써 균일하게 적층할 수 있었다. 그리고, 스페이서의 재료층을 적층한 기판부는 핫플레이트(도시하지 않음) 상에 놓여지고, 스페이서의 재료층을 베이킹(전단)하였다.
그 후, 스페이서의 재료층(240)상에 천개부(30)를 라미네이트수법 등에 의해 접합시킨다. 또, 적층구조막의 사용목적이나 바람직한 특성 등에 따라서 스페이서의 재료층(240) 표면을 처리하고, 약액을 도포하거나 또는 접착제층을 설치하여도 좋다. 본 (a)는 이 상태이다.
(b) 천개부(30)의 상면에 마스크(23)를 간극을 연 상태 또는 접합한 상태로 중합시킨다. 마스크(23)에는 공극(4)을 형성하는 소정영역에 대응하여 창혈부(窓穴部)(230)가 형성되어 있다. 그리고, 그 위쪽으로부터 특정의 자외선을 조사한다. 특정의 광은 마스크(23)의 창혈부(230)로부터 노출되어 있는 부분의 스페이서의 재료층만을 조사한다. 특정의 광이 조사된 스페이서의 재료층은 에너지가 부여되고, 폴리머가 분해되어 모노머(241)로 되고, 분자량도 작게 된다.
(c) 마스크를 제거한 후, 이 모노머(241)는 히터, 핫플레이트, 열선조사 또는 오븐 등에 의해 베이킹(후단)하므로써, 또는 자외선, 마이크로파 또는 방사선 등의 전자파를 조사하므로써 얇은 수지필름제의 천개부(30)를 통과하여 외부로 배출된다.
(d) 이 소정영역의 스페이서의 재료층이 제거되고, 기판부(20), 천개부(30) 및 스페이서(40)에 의해 둘러싸인 공극(80)이 형성되고, 적층구조막이 완성된다.
또, 스페이서(40)는 특정의 파장의 전자파가 부여되지 않으므로, 모노머로 되지 않고, 기화하지 않는 것이지만, 가열 등으로 경화한다. 이 때문에 이 적층구조막은 통상, 변형되는 일이 없다.
기화한 기체를 천개부(30)로부터 통과시키기 위해서는 직접, 간접의 가열 이외에 예컨대 진동, 가압 또는 감압 등의 물리적 또는 기계적 작용을 이용하여도 바람직하다. 또한, 조건에 따라서는 자외선을 스페이서 너머로 폴리머에 조사하여 기화시키는 동시에 그 기화한 기체를 천개부로부터 투과시켜 외부로 배출하고, 공극을 형성하는 것도 가능하다.
또, 이와 같은 구조막을 액정표시소자의 구성요소로서 사용할 때에는 기판부의 표면과 천개부의 상면에 도전성박막(도시하지 않음)이 형성되고, 주입구멍으로부터 스페이서내의 공극으로 액정이 충전된다. 또한 이 주입구멍은 공극내의 기체를 빼내는 기능을 겸하여 설치되어 있어도 바람직하다. 또는 그것이 보통이다.
(제 9의 실시의 형태)
본 실시의 형태는 다층의 적층구조막에 관한 것이다.
그것의 일예로서 3층의 적층구조막 및 그 제조방법을 도 15 및 도 16을 참조하면서 설명한다. 도 15는 이 3층의 구조막의 단면을 개념적으로 나타낸 도면이다. 도 16은 이 3층의 구조막을 제조하는 공정을 나타내는 도면이다.
이 3층의 적층구조막은 대향하여 배치된 기판부(20)와 천개부(30)와의 사이에 간격을 두어 제 1, 제 2의 중간구분층(50), (60)이 개재하고, 기판부(20)와 제 1의 중간구분층(50)과의 사이, 양 중간구분층(50), (60)의 사이, 그리고 제 2의 중간구분층(60)과 천개부(30)와의 사이에 격자상의 스페이서(40)가 끼워지고, 이들에 의해 둘러싸인 영역에 3층의 공극(80)을 형성한 것이다.
그런데, 이 제 1, 제 2의 중간구분층(50), (60)은 스페이서(40)의 재료를 승화시키기 위해 부여되는 특정의 파장의 전자파를 통과시키고, 또한 스페이서(40)를 구성하는 재료가 승화한 분자를 투과시킴과 동시에, 기화하지 않은 부분의 스페이서(40)를 안정하게 유지하는 재료로 구성되고, 예컨대 매우 얇은 수지필름을 사용하는 것이 바람직하다.
따라서, 제 1, 제 2의 중간구분층(50), (60)은 천개부(30)와 전체가 동일한 물질로 동일한 두께인 경우와, 재료 및 두께가 서로 다른 경우가 있을 수 있다. 그 외에, 기판부(20), 스페이서(40) 및 천개부(30)의 재료의 종류 및 두께에 관해서는 상술한 제 8의 실시의 형태와 동일하므로, 그 설명은 생략한다.
다음에, 이 적층구조의 제조방법에 관해서 도 16을 참조하면서 설명한다.
상술한 제 8의 실시의 형태에서 설명한 바와 같이, 스페이서(40)의 재료에는 광산발생제가 포함되어 있으므로, 이 3층의 적층구조막은 소위 옐로우룸이나 암실 등 필요한 대책을 갖춘 부실에서 제조한다. 또한, 기판부의 표면은 먼지 등이 없고, 또한 부착성에 영향을 미치는 오염이 없도록 충분한 세정과 건조를 행하여 둔다.
그리고, 기판부(20)상의 전면에 하측의 스페이서의 재료층(241)을 적층한다. 그를 위해, 점성액체의 스페이서의 재료를 기판부(20)상에 적하하고, 상술한 실시의 형태와 동일하게 스핀코팅한다. 하측의 스페이서의 재료층을 적층한 기판부는 핫플레이트(도시하지 않음)상에 놓여지고, 하측의 스페이서의 재료층을 베이킹(전단)한다.
그 후, 하측의 스페이서의 재료층(241)상에 제 1의 중간구분층(50)을 라미네이트수법 등에 의해 접합시킨다. 적층구조막의 사용목적이나 바람직한 특성 등에 따라서 하측의 스페이서의 재료층의 표면을 처리하고, 약액을 도포하거나 또는 접착제층을 설치한다. 이와 같은 방법을 3회 반복하는 것에 의해 본 (a)에 나타난 바와 같이, 제 1의 중간구분층(50)상에 중간의 스페이서의 재료층(242), 제 2의 중간구분층(60) 상측의 스페이서의 재료층(243)을 적층한다. 그리고, 상측의 스페이서의 재료층(243)상에 천개부(33)를 라미네이트수법 등에 의해 부착시킨다.
(b) 공극을 형성하는 부위에 대응하여 창혈부(231)를 형성한 노광용의 마스크(23)를 천개부(33)에 간극을 연 상태 또는 접합한 상태에서 중합시킨다. 그리고, 그 상방으로부터 자외선과 같은 특정의 파장의 전자파를 조사한다.
자외광은 마스크의 창혈부(231)로부터 천개부(33)와 제 2, 제 1의 중간구분층(50), (60)은 투과하여, 창혈부(231) 바로 아래 부분의 스페이서의 재료층(241), (242), (243)을 노광한다. 그리고, 그 부분의 스페이서의 재료층의 폴리머는 분해되어 모노머로 되어, 분자량이 작게 된다.
(c) 이 부부의 모노머는 마스크(23)를 제거한 후, 베이킹(후단) 전자파의 조사, 물리적 또는 기계적 작용에 의해 제 1, 제 2의 중간구분층(50), (60) 및 천개부(33)를 통과하여 외부로 배출된다. 이를 위한 부분은 적층방향으로 연속한 3층의 공극(81), (82), (83)의 에지를 잘라서 한번에 형성된다. 또, 이 3층의 적층구조의 스페이서(40)는 변형되지 않는다.
그리고, 이 3층의 구조막을 액정표시소자로서 사용할 때에는, 기판부(20)의 표면, 천개부(33)의 상면, 그리고 제 1과 제 2의 중간구분층(50), (60)의 상면에 도전성 박막(도시하지 않음)이 형성되어 있고, 주입구멍(도 6 참조)으로부터 3층의 각 공극(81), (82), (83) 내에 시안, 진홍색 및 노란색 색소의 액정이 충전된다.
또한 이 때문에, 별도 도전막의 형성 등도 필요하고, 또한 이 도전막은 자외선을 투과시키는 것이다. 또한 액정주입용의 구멍도 별도로 형성된 것으로 된다. 이 때문에 도전막은 반드시 승화하는 분자를 투과하는 성질을 가질 필요는 없다.
(실시예)
상술한 제 8 및 제 9의 실시의 형태의 어느 경우이더라도, 스페이서의 재료나 천개부의 재료 등을 이하의 실시예 1로부터 실시예 13에 나타낸 바와 같이, 다수 조합시켜 선정할 수 있다. 단, 어느 실시예에 있어서도 천개부는 재질이 PET이고, 그 막두께는 0.9㎛이고, 또한 노광은 고압수은램프의 자외선이고, 그 에너지밀도는 약 13mw이다. 이 때문에, 이들에 관한 각 실시예마다의 기재는 생략한다. 또, 광의 조사시간은 당연히 1층의 경우와 3층의 적층구조의 경우에서는 다르므로, 그것에 관해서는 구별하여 기재한다.
(실시예 1)
스페이서의 재료는 폴리머로서 폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 5wt(중량)%), 용매로서 시클로헥산(cyclohexanone)이고, 광산발생제로서 트리아릴설포늄 헥사플루오로안티몬(triarylsulfonium hexafluoroantimonate)(폴리머에 대해서 약 10중량%)를 채용한다.
스핀코팅의 조건은 전반을 300rpm, 5초(sec), 후반을 600rpm, 20초이다. 스페이서의 재료의 도포층 두께는 약 2000Å이다. 베이킹(전단)은 온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5분이다.
자외선의 조사시간은 1층의 경우는 10∼20초이고, 3층의 적층구조의 경우는 20∼30초이다. 또, 에너지밀도는 어느 경우에나 15mW/㎠이다.
베이킹(후단)은 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 30초이다. 이 내용을 하기와 같이 정리한다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 5중량%)/용매…시클로헥산(cyclohexanone)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로안티몬(triarylsulfonium hexafluoroantimonate)(폴리머에 대해서 약 10중량%)
[스핀코팅의 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 2000Å
[베이킹(전단)] 온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…10∼20sec/3층…20∼30sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 30sec
(실시예 2)
본 실시예 2의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거하는 것과 같이 하는 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 4중량%)/용매…프로필렌 카보네이트(propylene carbonate)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로안티몬(triarylsulfonium hexafluoroantimonate)(폴리머에 대해서 약 8중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 300Å
[베이킹(전단)〕온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…10∼20sec/3층…20∼30sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 30sec
이상의 제조조건에 의해 상기 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 3)
본 실시예 3의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거하는 것과 같이 하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 4중량%)/용매…프로필렌 카보네이트(propylene carbonate)/광산발생제…디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트(diphenyliodonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 8중량%)
[스핀코팅의 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 200sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 2000Å
[베이킹(전단)] 온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…약 100sec/3층…약 150sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 4)
본 실시예 4의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 이하의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 4중량%)/용매…프로필렌 카보네이트(propylene carbonate)/광산발생제…8-아닐리노-1-나프탈렌설폰산 마그네슘(8-anilino-1-naphthalenesulfonic acid magnesium)(폴리머에 대해서 약 8중량%)
[스핀코팅 조건] 전반 … 300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
〔스페이서의 재료의 도포층 막〕약 500Å
[베이킹(전단)] 온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…100∼150sec/3층…130∼160sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 150℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 5)
본 실시예 5의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재질] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 6중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로안티몬(triarylsulfonium hexafluoroantimonate)(폴리머에 대해서 약 15중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 3000Å
[베이킹(전단)] 온도 90℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…5∼10sec/3층…10∼15sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 110℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 6)
본 실시예 6의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 15중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로안티몬(triarylsulfonium hexafluoroantimonate)(폴리머에 대해서 약 5중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…400rpm, 5sec/후반…750rpm, 30sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 1.1㎛
[베이킹(전단)] 온도 120℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…약 60sec/3층…약 70sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 80℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 7)
본 실시예 7의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 5중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트(diphenyliodonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 10중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 2000Å
[베이킹(전단)] 온도 90℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…120∼180sec/3층…150∼200sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 110℃의 핫플레이트상에서 약 30sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 8)
본 실시예 8의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 17중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트(diphenyliodonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 9중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…400rpm, 5sec/후반…1000rpm, 25sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 6000Å
[베이킹(전단)] 온도 90℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…200∼250sec/3층…220∼260sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 110℃의 핫플레이트상에서 약 15∼20sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 9)
본 실시예 9의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 17중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트(diphenyliodonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 9중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 1.5㎛
[베이킹(전단)] 온도 90℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…200∼250sec/3층…220∼250sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 110℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 10)
본 실시예 10의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 5중량%)/용매…시클로헥산(cyclohexanone)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로포스페이트(triarylsulfonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 9중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 2000Å
[베이킹(전단)] 온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…15∼30sec/3층…20∼30sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 30sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 11)
본 실시예 11의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 4중량%)/용매…프로필렌 카보네이트(propylene carbonate)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로포스페이트(triarylsulfonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 7중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 400Å
[베이킹(전단)] 온도 100℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…20∼30sec/3층…30∼40sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 30sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 12)
본 실시예 12의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 6중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로포스페이트(triarylsulfonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 13중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…300rpm, 5sec/후반…600rpm, 20sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 3500Å
[베이킹(전단)] 온도 90℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…10∼20sec/3층…15∼25sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 130℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
(실시예 13)
본 실시예 13의 적층막 구조는 스페이서 재료로서 하기의 것을 사용하고, 스핀코팅 조건, 베이킹(전단) 온도, 광조사의 조사시간 및 조사강도, 베이킹(후단) 온도 등의 제조조건을 이하에 열거한 바와 같이 한 것 이외에는 상술한 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
[스페이서의 재료] 폴리머…폴리프탈알데히드(Polyphthalaldehyde)(용매에 대해서 약 15중량%)/용매…디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(diethylene glycol dimethyl ether)/광산발생제…트리아릴설포늄 헥사플루오로포스페이트(triarylsulfonium hexafluorophosphate)(폴리머에 대해서 약 5중량%)
[스핀코팅 조건] 전반…400rpm, 5sec/후반…750rpm, 30sec
[스페이서의 재료의 도포층 두께] 약 1.2㎛
[베이킹(전단)] 온도 120℃의 핫플레이트상에서 3∼5min
[광조사의 조사시간] 1층…60∼70sec/3층…60∼80sec
[광조사의 조사강도] 15mW/㎠
[베이킹(후단)] 온도 80℃의 핫플레이트상에서 약 60sec
이상의 제조조건에 의해 상술한 실시예 1과 동일한 구조를 갖는 적층구조막을 제조할 수 있었다.
이상, 본 발명을 몇개의 실시의 형태에 따라서 설명하였지만, 본 발명은 어느 것도 이들에 한정되는 것이 아님은 물론이다. 즉, 예컨대 이하와 같이 하여도 좋다.
1) 액정표시장치는 광반사형이 아닌 표시측 배면에 백라이트를 갖는 형이고, 실내에서의 워드프로세서나 퍼스널 컴퓨터의 표시에 사용되고 있다.
2) 각 화소마다 각 층 공통의 주입구멍이 아니고, 각 층마다 각 화소 공통의 주입구멍으로 하고, 내부로 고분자 분산형 액정을 충전할 때마다 매트릭스를 고체화하도록 하고 있다.
3) 반사판은 고가이지만 알루미늄보다도 반사특성이 우수한 은으로 하고 있다.
4) 화소의 지지격벽, 기둥결정 봉지용 수지부가 블랙매트릭스를 겸한다. 이 때문에 봉지용 수지에는 미리 도전성이 생기지 않을 정도로 탄소분말을 혼입하고 있다. 이 경우, 봉지용 수지는 화소부에는 형성되지 않고, 콘택트홀 및 지지격벽의 위에만 형성된다.
5) 소요공정은 증가하지만, 콘택트홀 내에는 도전성이 양호한 금속미립자를 충전하도록 하고 있다.
6) 각 화소의 액정층은 3색의 풀컬러표시가 아니고, 안내나 선전광고 등에 사용하기 위한 2색 표시로 하고 있다.
7) 스페이서 재료로서는 자외선이 닿지 않는 부분을 고온으로 태우므로써 경화하고, 경화 후는 자외선이 있더라도 분해하지 않는 재료를 사용하였지만, 다른 원리의 물질을 사용하고 있다. 예컨대 현시점에서는 가격 등에 문제가 있을지도 모르지만, 장래의 기술의 발달과 함께, 적외선에서 가열되고, 가열된 부분은 미리 함유되어 있는 화학물질의 작용으로 가교되고, 경화한다. 소정의 에너지로서 광이나 근자외선이 아니고, UVC나 X선으로 가교하거나, 분해하거나, 첨가제가 활성화하여 승화(액화후의 기화를 포함한다)하거나, 하지 않거나 하는 물질을 사용한다.
이상의 설명으로 명확한 바와 같이, 본 발명에 의하면 지지기둥으로 구분된 복수의 스트라이프상 등의 셀공간에 다른 색의 액정을 넣어 컬러화한 액정패널에 있어서, 액정에 2색성이 생기지 않는 색소를 용해시킨 결과 채도의 변화를 억제하여 풀컬러화를 가능하게 한다.
이때, 지지기둥의 위에만 포토레지스트로 이루어진 접착층을 이면노광에 의해 형성하여, 미세셀의 셀두께를 정확하게 제어하고, 또한 접착을 확실하게 하여 셀 사이에서의 액정의 누락을 방지한다.
또한, 구분으로 구별된 복수의 미세한 셀공간에 다른 색의 용액을 충전할 때에, 셀을 형성하기 전에 다른 색의 색소 등을 부재 표면에 부착시키고, 각 색소의 공통용매를 셀공간에 넣은 후, 색소를 공통용매에 용해시키므로써, 공정이 용이하게 된다. 특히, 컬러필터에서 이 방법을 사용하면 표면의 평활성이 우수하고, 공정이 간이하게 된다. 또, 컬러필터가 아니더라도 미세한 구획구조물이라면, 그리고 특히 각 구획내에 다른 성질을 갖는 물질을 채운 구조물이라면, 그 종류에 상관 없이 공정이 간단하게 된다. 또, 관련된 물질로서는 상술한 체온계 등외에 다른 회절광학소자도 고려된다.
또한, 수지필름에 미소한 구멍이나 깨짐이 있는 경우에도 깨짐이 있는 화소 이외에서는 게스트호스트액정이 소정의 층 이외의 층에 주입되는 것을 방지하여, 액정층이 적층된 구조의 액정표시장치에 있어서 제조의 수율을 향상시킬 수 있었다.
또한, 수지필름에서의 전압강하를 억제하여 반사율이나 콘트라스트비 등 표시성능을 향상시킬 수 있었다.
또한, 제조도 용이하게 된다.
또한, 채용하는 액정의 타입에 따라서는 제품의 내충격성, 내구성도 향상한다.
또한, 비즈스페이서 등이 불필요하게 되므로 그 산포의 공정도 불필요하게 되고, 더욱이 그 존재에 의한 표시의 불량, 화소내에서의 이동 등에 의한 다른 부분으로의 손상도 없게 된다.
또한, 기판부와 천개부와의 사이에 끼워진 스페이서 재료가 자외광과 같은 특정의 에너지를 부여하는 것에 의해 기체로 기화하는 물질이고, 천개부가 그 기체를 투과하는 재료이므로 자외광의 조사만으로 공극을 매우 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 다층의 공극은 에지를 잘라서 일괄하여 형성되므로, 생산성이 향상할 뿐만 아니라 품질도 향상한다. 따라서, 본 적층구조막이 공극내에 액정 등을 충전하는 액정표시소자의 구성요소로 되는 경우는 컬러표시의 화질 등을 향상시킨다.

Claims (151)

  1. 기판상에 인쇄 등으로 격자상이나 띠모양 등의 소정의 배열의 지지벽을 형성하는 지지벽 형성단계와,
    하부는 상기 기판으로, 측부는 상기 지지벽으로 구분된 복수의 각 공극마다 일정한 조건을 부여하므로써 소정의 법칙에 의해 소정의 색채를 갖거나 또는 갖는 것으로 되는 수지액을 충전하는 충전단계와,
    상기 충전한 수지액에 발색작용을 일으키는 발색단계와,
    상기 발색한 수지액을 경화시키는 경화단계를 갖는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 발색단계는
    이미 부착되어 있는 발색소를 수지액에 용해시키는 것으로 이루어지는 용해단계인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 경화단계는
    상기 기판이 휘거나 하지 않게 유리정반 등으로 수평한 대에 누르는 등 하면서 상기 충전한 수지액을 상기 유리정반 너머로 전자파를 조사하거나, 가열하거나 하여 경화시키고, 아울러 상기 일정한 조건을 부여하여 미리 부착시키고 있는 발색소를 수지액에 용해시키고 발색시키는 발색경화단계인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 지지벽 형성단계에 앞서,
    상기 지지벽 형성재료가 근자외선 등의 소정의 전자파를 흡수하는 레지스트이고,
    상기 발색경화단계 종료후 상기 지지벽이 형성된 기판상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성 후, 기판측에서 상기 근자외선 등의 소정의 전자파를 조사하고, 노광한 부분의 포토레지스트를 제거하므로써 상기 지지벽 위에 다시 지지벽을 형성하는 상부 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 지지벽 형성단계에 앞서,
    상기 지지벽 형성재료가 근자외선 등의 소정의 전자파를 흡수하는 레지스트이고, 상기 발색경화단계종료후 상기 지지벽이 형성된 기판상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성 후, 기판측에서 상기 근자외선 등의 소정의 전자파를 조사하고, 노광한 부분의 포토레지스트를 제거하는 것에 의해 상기 지지벽상에 다시 지지벽을 형성하는 상부 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  6. 기판상에 격자상이나 띠모양 등의 소정의 배열의 지지벽을 형성하는 지지벽 형성단계와,
    상기 형성된 지지벽상에 수지필름을 접착하는 수지필름 접착단계와,
    상하부는 상기 수지필름과 기판으로, 측부는 상기 지지벽으로 구분된 복수의 각 공극마다 일정한 조건을 부여하므로써 소정의 법칙에 따라 소정의 색채를 갖게 되는 수지액을 충전하는 충전단계와,
    상기 충전한 수지액에 발색작용을 일으키는 발색단계와,
    상기 발색한 수지액을 경화시키는 경화단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 수지필름 접착단계는
    금속로울러로 수지필름을 태우지 않도록 연신하면서 접착하는 금속로울러사용 수지필름 접착단계인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  8. 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 발색단계는
    미리 부착되어 있는 발색소를 수지액에 용해시키므로써 이루어지는 용해단계인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  9. 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 경화단계는 상기 기판이 휘지 않도록 유리정반 등으로 수평한 대에 누르는 등 하면서 상기 충전한 수지액을 상기 유리정반 너머로 전자파를 조사하거나, 가열하거나 하여 경화시키고, 아울러 상기 일정한 조건을 부여하여 미리 부착시키고 있는 발색소를 수지액에 용해시켜 발색시키는 발색경화단계인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  10. 제 6항 또는 제 8항에 있어서, 상기 경화단계는
    상기 기판이 휘거나 하지 않도록 유리정반 등으로 수평한 대에 누르는 등 하면서 상기 충전한 수지액을 상기 유리정반 너머로 전자파를 조사하거나, 가열하거나 하여 경화시키고, 아울러 상기 일정한 조건을 부여하여 미리 부착시키고 있는 발색소를 수지액에 용해시켜 발색시키는 발색경화단계인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  11. 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 지지벽 형성재료가 근자외선 등의 소정의 전자파를 흡수하는 레지스트이고,
    상기 지지벽이 형성된 기판상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성 후, 기판측에서 상기 근자외선 등의 소정의 전자파를 조사하고, 노광한 부분의 포토레지스트를 제거하므로써 상기 지지벽상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성하는 접착용 포토레지스트층 형성단계와,
    상기 지지벽상의 포토레지스트층을 접착제로 하여 상기 지지벽과 상기 수지필름을 접착하는 접착단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  12. 제 8항에 있어서, 상기 지지벽 형성재료가 근자외선 등의 소정의 전자파를 흡수하는 레지스트이고,
    상기 지지벽이 형성된 기판상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성 후, 기판측에서 상기 근자외선 등의 소정의 전자파를 조사하고, 노광한 부분의 포토레지스트를 제거하므로써 상기 지지벽상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성하는 접착용 포토레지스트층 형성단계와,
    상기 지지벽상의 포토레지스트층을 접착제로 하여 상기 지지벽과 상기 수지필름을 접착하는 접착단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  13. 제 9항에 있어서, 상기 지지벽 형성재료가 근자외선 등의 소정의 전자파를 흡수하는 레지스트이고,
    상기 지지벽이 형성된 기판상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성 후, 기판측에서 상기 근자외선 등의 소정의 전자파를 조사하고, 노광한 부분의 포토레지스트를 제거하므로써, 상기 지지벽상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성하는 접착용 포토레지스트층 형성단계와,
    상기 지지벽상의 포토레지스트층을 접착제로 하여 상기 지지벽과 상기 수지필름을 접착하는 접착단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  14. 제 10항에 있어서, 상기 지지벽 형성재료가 근자외선 등의 소정의 전자파를 흡수하는 레지스트이고,
    상기 지지벽이 형성된 기판상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성 후, 기판측에서 상기 근자외선 등의 소정의 전자파를 조사하고, 노광한 부분의 포토레지스트를 제거하므로써 상기 지지벽상에 열가소성을 갖는 포토레지스트층을 형성하는 접착용 포토레지스트층 형성단계와,
    상기 지지벽상의 포토레지스트층을 접착제로 하여, 상기 지지벽과 상기 수지필름을 접착하는 접착단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  15. 제 1항, 제 2항, 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  16. 제 3항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  17. 제 4항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  18. 제 5항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  19. 제 8항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  20. 제 9항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  21. 제 10항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  22. 제 11항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  23. 제 12항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  24. 제 13항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  25. 제 14항에 있어서, 상기 컬러필터가 컬러표시 액정표시장치의 컬러필터에 사용된 경우에, 기판이 액정표시장치의 기판, 대향기판 또는 반사판의 어느 것이고,
    수지필름이 배향막 또는 전극으로 되는 도전성 수지인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  26. 제 1항, 제 2항, 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  27. 제 3항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  28. 제 4항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  29. 제 5항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  30. 제 8항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  31. 제 9항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  32. 제 10항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  33. 제 11항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  34. 제 12항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  35. 제 13항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  36. 제 14항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  37. 제 15항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  38. 제 16항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  39. 제 17항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  40. 제 18항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  41. 제 19항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  42. 제 20항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  43. 제 21항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  44. 제 22항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  45. 제 23항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  46. 제 24항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  47. 제 25항에 있어서, 상기 컬러필터의 지지벽의 재료가 감광을 포함하는 소정의 에너지를 부여하는 것에 의해 승화성을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
  48. 복수의 평면부재를 소정의 배열의 격자상, 띠모양 등의 구분재를 기재하여 접합시키고, 또한 상하의 부재 및 측부의 구분재로 구별된 다수의 셀내에 각 셀마다 일정한 조건으로 발색작용을 하는 것으로 이루어지는 소정의 색에 대응한 발색소를 포함하는 용액 또는 용액의 경화물을 갖는 구획구조물의 제조방법에 있어서,
    상기 셀공간의 형성 전에 상기 소정의 발색소를 각 발색소마다 대응하는 셀내에 부착시켜 두는 발색소 부착단계와,
    상기 각 셀공간으로 각 발색소를 용해시키는 공통용매를 복수의 셀에 주입하는 주입단계와,
    상기 주입단계의 후, 상기 복수의 셀공간이 구별되고 나서 상기 발색소에 상기 일정한 조건을 가하여 셀공간 내에서 상기 투명성 수지에 용해시켜 발색작용을 일으키는 용해단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  49. 제 48항에 있어서, 상기 발색소 부착단계는
    발색소나 카이랄제를 마이크로캅셀에 가둔 상태에서 상기 평면부재의 상기 공통용매에 면하는 표면에 부착시켜 두는 부착단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  50. 제 48항 또는 제 49항에 있어서, 상기 용해단계는
    상기 공통용매에 소정의 온도조건 등으로 상기 마이크로캅셀벽을 파괴하는 물질을 미리 함유시켜 두고, 상기 소정의 온도조건 등으로 승온하는 것에 의해 상기 마이크로캅셀의 벽이 파괴되고, 내부의 발색소가 공통용매에 용해되는 화학열이용 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  51. 제 48항 또는 제 49항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서, 상기 기판상에 띠모양의 지지벽을 형성하는 띠모양 구분재 형성단계를 갖고,
    상기 발색소 부착단계는
    상기 띠모양의 구분재 형성후, 형성된 띠모양의 소정의 셀내에 소정의 발색소를 인쇄로 부착시키는 인쇄부착단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  52. 제 50항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서, 상기 기판상에 띠모양의 지지벽을 형성하는 띠모양 구분재 형성단계를 갖고,
    상기 발색소 부착단계는
    상기 띠모양의 구분재 형성 후, 형성된 띠모양의 소정의 셀내에 소정의 발색소를 인쇄로 부착시키는 인쇄부착단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  53. 제 48항 또는 제 49항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    상기 구획구조물이 액정표시장치의 컬러필터나 액정층의 셀로서 사용되는 경우, 상기 지지벽이 블랙매트릭스 또는 포토리소그라피로 액정실 측벽부를 형성하는 경우의 차광마스크로서 작용하도록 지지벽 재료를 선정하고, 또한 구분벽의 배열, 치수 등을 그와 같이 형성하는 블랙매트릭스 겸용 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  54. 제 50항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    상기 구획구조물이 액정표시장치의 컬러필터나 액정층의 셀로서 사용되는 경우, 상기 지지벽이 블랙매트릭스 또는 포토리소그라피로 액정실 측벽부를 형성하는 경우의 차광마스크로서 작용하도록 지지벽 재료를 선정하고, 또한 구분벽의 배열, 치수 등을 그와 같이 형성하는 블랙매트릭스 겸용 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  55. 제 51항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    상기 구획구조물이 액정표시장치의 컬러필터나 액정층의 셀로서 사용되는 경우, 상기 지지벽이 블랙매트릭스 또는 포토리소그라피로 액정실 측벽부를 형성하는 경우의 차광마스크로서 작용하도록 지지벽 재료를 선정하고, 또한 구분벽의 배열, 치수 등을 그와 같이 형성하는 블랙매트릭스 겸용 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  56. 제 52항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    상기 구획구조물이 액정표시장치의 컬러필터나 액정층의 셀로서 사용되는 경우, 상기 지지벽이 블랙매트릭스 또는 포토리소그라피로 액정실 측벽부를 형성하는 경우의 차광마스크로서 작용하도록 지지벽 재료를 선정하고, 또한 구분벽의 배열, 치수 등을 그와 같이 형성하는 블랙매트릭스 겸용 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  57. 제 51항에 있어서, 상기 띠모양 구분재 형성단계는,
    상기 구획구조물이 액정표시장치의 컬러필터로서 사용되는 경우, 상기 지지벽이 블랙매트릭스 또는 포토리소그라피로 액정실 측벽부를 형성하는 경우의 차광마스크로서 작용하도록 지지벽 재료를 선정하고, 또한 구분벽의 배열, 치수 등을 그와 같이 형성하는 블랙매트릭스 겸용 지지벽 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  58. 제 48항 또는 제 49항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  59. 제 50항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  60. 제 51항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  61. 제 52항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  62. 제 53항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  63. 제 54항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  64. 제 55항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  65. 제 56항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  66. 제 57항에 있어서, 상기 발색소 부착단계에 앞서,
    발색소로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 물질을 선정하는 발색소 선정단계를 갖고,
    상기 수지로서 액정이나 이것을 포함하는 수지를 선정하는 수지선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  67. 상기 발색소 배치단계는
    색소, 카이랄제 등의 발색소를 마이크로캅셀내에 가둔 상태로 배치하는 마이크로캅셀 이용배치 단계이고,
    상기 색소용융단계는
    상기 액정내에 혼입된 화학물질이나 소정의 온도 등에 의해 상기 마이크로캅셀을 물리적이나 화학적으로 파괴하는 것을 이용한 물리화학작용 이용 발색소 용융단계인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  68. 전극을 갖는 기판상에, 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸한 투명한 수지필름이 기판 및 수지필름 상호에 대해서 소정의 간극을 설치하여 소정수 적층되고, 또한 기판과 수지필름 및 수지필름 상호의 간극에 소정의 발색소를 포함하는 액정이 충전되어 이루어진 화소가 형성된 컬러표시용의 액정표시장치의 제조방법에 있어서,
    전극을 갖는 기판 또는 이미 형성된 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸한 수지필름상에 노광후의 가열에 의해 승화성으로 되거나 승화성을 잃게 되는 감광성 재료를 도포하는 것과, 이미 도포된 당해 감광성 재료의 박막상에 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸하고 일정한 기체의 투과성을 갖는 수지필름을 형성하는 것을 교대로 반복하는 것에 의해, 상기 감광성 재료와 상기 수지필름이 교대로 기판상에 소정수씩 적층된 구조를 형성하는 교대 적층형성 단계와,
    상기 교대 적층 형성단계와 아울러 또는 조정을 하여, 상기 적층된 구조내에 소정의 발색소를 배치하는 발색소 배치단계와,
    상기 감광성 재료의 박막과 수지필름이 교대로 적층된 기판 상면에 액정을 충전하는 간극을 형성하기 위해 기판상의 화소부가 비화소부에 대응한 위치에 차광용 마스크를 배치하고, 상기 차광용 마스크가 배치된 측, 그리고 기판면에 직교하는 방향으로부터 노광용의 전자파를 조사하고, 그런 후 차광용 마스크를 제거하는 전자파 조사단계와,
    상기 전자파 조사단계에서 노광한 또는 노광하지 않은 상기 각 층의 화소부의 감광성 재료를 가열하여 승화시키고, 화소부분에 액정을 충전하기 위해 적층된 간극을 형성하고, 비화소부분은 각 수지필름을 지지하고, 아울러 각 화소용의 각 발색용의 액정층마다 이것을 다른 화소용의 액정층으로부터 구분시키는 지지부재를 형성하는 승화화소부 형성단계와,
    상기 승화화소부 형성단계에서 형성된 각 화소마다에 상하로 적층된 각 발색용의 각 액정층에 공통의 액정주입구멍을 설치하는 주입구멍 개설단계와,
    상기 개설된 주입구멍으로, 기판과 수지필름 또는 수지필름 상호의 화소마다 구분되고 각 발색용으로 적층된 각 간극에 액정을 주입하는 액정주입단계와,
    상기 간극내에 미리 배치하고 있는 소정의 발색소를 상기 액정층용 간극이 독립화된 후 상기 주입된 액정내에 용융시키는 발색소 용융단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  69. 전극을 갖는 기판상에, 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸한 투명한 수지필름이 기판 및 수지필름 상호에 대해서 소정의 간극을 설치하여 소정수 적층되고, 또한 기판과 수지필름 및 수지필름 상호의 간극에 소정의 발색소를 포함하는 액정이 충전되어 이루어지는 화소가 형성된 컬러표시용의 액정표시장치의 제조방법에 있어서,
    전극을 갖는 기판 또는 이미 형성된 전극을 부착하거나 자신이 전극을 겸한 수지필름상에, 노광후의 가열에 의해 승화성으로 되는 감광성 재료를 도포하는 것과, 이미 도포된 당해 감광성 재료의 박막상에 전극을 구비하고 일정한 기체투과성을 갖는 수지필름을 형성하는 것을 교대로 반복하는 것에 의해, 상기 감광성 재료와 상기 수지필름이 교대로 기판상에 소정수만큼 적층된 구조를 형성하는 교대 적층형성 단계와,
    상기 교대 적층형성 단계와 아울러 또는 조정을 가하여, 상기 적층된 구조내에 소정의 발색소를 배치하는 발색소 배치단계와,
    상기 감광성 재료의 박막과 수지필름이 교대로 적층된 기판 상면에 기판상의 화소부에 대응한 위치에 차광용 마스크를 배치하고, 상기 차광용 마스크의 배치된 측, 그리고 기판에 직교하는 방향으로부터 노광용의 전자파를 조사하고, 그런 후 차광용 마스크를 제거하는 전자파 조사단계와,
    상기 전자파 조사단계에서 노광한 상기 각 층의 화소부의 감광성 재료를 가열하여 승화시키고, 화소부분에 액정을 충전하기 위해 적층시킨 간극을 형성하고, 비화소부분은 각 수지필름을 지지하고, 아울러 각 화소용의 각 발색용의 액정층마다 이것을 다른 화소용의 액정층으로부터 구분시키는 지지부재를 형성하는 승화화소부 형성단계와,
    상기 승화화소부 형성단계에서 형성된 각 화소마다에 상하로 적층된 각 발색용의 각 액정층에 공통의 액정주입구멍을 설치하는 주입구멍 개설단계와,
    상기 개설된 주입구멍으로, 기판과 수지필름 또는 수지필름 상호의 각 화소마다 구분되고 각 발색용으로 적층된 간극에 무색의 액정을 주입하는 액정주입단계와,
    상기 간극내에 미리 배치하고 있는 소정의 발색소를 상기 액정층용 간극이 독립화된 후 상기 주입된 액정내에 용융시키는 발색소 용융단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  70. 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 발색소 배치단계는 상기 감광성 재료의 박막을 기판상에 도포하는 것에 앞서, 상기 감광성 재료내에 비승화, 증발성, 그리고 당해 박막이 가장 하층으로 되는 것에 대응한 소정의 발색소를 혼입하여 두는 발색소 혼입단계이고,
    상기 발색소 용융단계는 상기 승화화소부 형성단계에서 화소부의 상기 감광성 재료가 승화한 후 잔류하고 있는 당해 감광성 재료에 미리 혼입되어 있는 소정의 발색소를 상기 액정주입단계에서 주입된 액정내에 용융시키는 잔류 발색소 용융단계인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  71. 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 주입구멍 개설단계에 대신하여,
    상기 전자파 조사단계 후, 승화화소부 형성단계에 앞서 승화하는 분자를 외부로 배출하고, 아울러 액정이 주입되는 구멍을 각 화소마다 각 층 공통으로 설치한 겸용구멍 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  72. 제 70항에 있어서, 상기 주입구멍 개설단계에 대신하여,
    상기 전자파 조사단계 후, 승화화소부 형성단계에 앞서 승화하는 분자를 외부로 배출하고, 아울러 액정이 주입되는 구멍을 각 화소마다 각 층 공통으로 설치하는 겸용구멍 형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  73. 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 액정주입단계는
    기판을 어느 소정치로 가열유지한 상태에서 행하는 가열유지하의 액정주입 단계이고,
    상기 가열유지하의 액정주입단계 종료후, 상기 액정주입 구멍부에 봉지용 수지를 도포하고, 그 후 기판온도를 낮추고, 기판과 비교하여 열팽창율이 큰 액정을 상대적으로 크게 수축시키는 것에 의해, 상기 봉지용 수지를 각 화소의 각 색용 액정층의 입구부까지 흡인시키는 봉지용 수지 흡인단계와,
    상기 흡인된 봉지용 수지를 그 상태에서 고화시키는 봉지용 수지고화단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  74. 제 70항에 있어서, 상기 액정주입단계는 기판을 어느 소정치로 가열유지한 상태에서 행하는 가열유지하의 액정주입단계이고,
    상기 가열유지하의 액정주입단계 종료후, 상기 액정주입 구멍부에 봉지용 수지를 도포하고, 그 후 기판온도를 낮추고, 기판과 비교하여 열팽창율이 큰 액정을 상대적으로 크게 수축시키는 것에 의해, 상기 봉지용 수지를 각 화소의 각 색용 액정층의 입구부까지 흡입하는 수지용 수지흡입단계와,
    상기 흡인된 봉지용 수지를 그 상태에서 고화시키는 수지용 수지고화단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  75. 제 71항에 있어서, 상기 액정주입단계는 기판을 어느 소정치로 가열유지한 상태에서 행하는 가열유지하의 액정주입단계이고,
    상기 가열유지하의 액정주입단계 종료후, 상기 액정주입 구멍부에 봉지용 수지를 도포하고, 그 후 기판온도를 낮추고, 기판과 비교하여 열팽창율이 큰 액정을 상대적으로 크게 수축시키는 것에 의해, 상기 봉지용 수지를 각 화소의 각 색용 액정층의 입구부까지 흡인하는 봉지용 수지흡인 단계와,
    상기 흡인된 봉지용 수지를 그 상태에서 고화시키는 봉지용 수지고화단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  76. 제 72항에 있어서, 상기 액정주입단계는 기판을 어느 소정치로 가열유지한 상태에서 행하는 가열유지하의 액정주입단계이고,
    상기 가열유지하의 액정주입단계 종료후, 상기 액정주입 구멍부에 봉지용 수지를 도포하고, 그 후 기판온도를 낮추고, 기판과 비교하여 열팽창율이 큰 액정을 상대적으로 크게 수축시키는 것에 의해, 상기 봉지용 수지를 각 화소의 각 색용 액정층의 입구부까지 흡인시키는 봉지용 수지흡인단계와,
    상기 흡인된 봉지용 수지를 그 상태에서 고화시키는 봉지용 수지고화단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  77. 대향하여 배치된 기판부와 천개부와의 사이에 스페이서가 끼워지고, 그 후 화소의 배열 등에 대응하여 소정 영역의 스페이서의 재료만이 제거되는 것에 의해, 상하의 기판부와 천개부 및 측면의 제거되지 않은 스페이서 재료에 의해 둘러싸인 다수의 공극을 갖는 것으로 되는 구획구조물에 있어서,
    상기 스페이서는
    자외선의 조사후의 가열 등 특정의 에너지가 부여되는 것에 의해 기화하는 재료로 이루어지는 승화성 재료제 스페이서이고,
    상기 천개부는
    상기 특정의 에너지를 통과시킴과 동시에, 상기 기화한 스페이서 재료의 분자를 투과시키는 투과성 재료제 천개부인 것을 특징으로 하는 구획구조물.
  78. 대향하여 배치된 기판부와 천개부와의 사이에 적어도 하나의 중간구분층을 개재시키고, 기판부, 중간구분층, 천개부의 각 사이에 스페이서가 끼워지고, 그 후 화소의 배열 등에 대응하여 소정 영역의 스페이서의 재료만이 제거되는 것에 의해, 상하의 기판부나 천개부 또는 중간구분층 또는 상하의 중간구분층과 측부의 제거되지 않은 스페이서 재료에 의해 둘러싸인 복수층 또는 다수의 공극을 갖는 것으로 된 적층구조물에 있어서,
    상기 스페이서는 자외선의 조사후의 가열 등 특정의 에너지가 부여되는 것에 의해 승화하는 재료로 이루어지는 승화성 재료제 스페이서이고,
    상기 천개부 및 중간구분층은 각각
    상기 특정의 에너지를 통과시킴과 동시에, 상기 승화한 스페이서 재료의 분자를 투과시키는 투과성 재료제 천개부 및 투과성 재료제 중간구분층인 것을 특징으로 하는 적층구획구조물.
  79. 제 77항 또는 제 78항에 있어서, 상기 스페이서의 재료는 특정의 에너지로서 특정 파장의 전자파가 필요한 감광성 재료인 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물.
  80. 제 77항 또는 제 78항에 있어서, 상기 공극내에 액정, 색소를 포함한 수지 등, 상기 스페이서의 재료와 다른 물질을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물.
  81. 제 79항에 있어서, 상기 공극내에 액정, 색소를 포함한 수지 등, 상기 스페이서의 재료와 다른 물질을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물.
  82. 기판부 위에 자외선의 조사 후의 가열 등 특정의 에너지가 부여되는 것에 의해 승화하는, 또는 승화하지 않고 이루어지는 재료의 스페이서층을 형성하는 스페이서층 형성단계와,
    상기 스페이서층의 상면에 상기 특정의 에너지를 통과시킴과 동시에 상기 승화한 스페이서 재료의 분자를 투과시키는 재료로 천개부를 적층하는 천개부 형성단계와,
    스페이서 재료층의 컬러필터나 화소나 블랙매트릭스 등에 대응한 소정 영역에 상기 특정의 에너지를 부여하는, 또는 부여하지 않는 것에 의해, 당해부의 스페이서재료를 승화시키고, 또한 그 승화한 분자가 천개부를 투과하여 또는 이것에 가하기 앞서 천개부에 설치된 미세구멍을 통과하여 외부로 배출되는 것에 의해 상하의 기판부와 천개부 및 측부의 승화하지 않고 남은 스페이서 재료에 의해 둘러싸인, 그리고 상기 컬러필터 등에 대응하여 다수의 공극을 형성하는 공극형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  83. 기판부상에 자외선의 조사후의 가열 등 특성의 에너지가 부여되는 것에 의해 승화하거나 또는 승화하지 않게 되는 재료의 스페이서층을 형성하는 하부스페이서층 형성단계와,
    상기 스페이서층의 상면에 상기 특정의 에너지를 통과시킴과 동시에, 상기 승화한 스페이서 재료의 분자를 투과시키는 재료로 중간구분층을 형성하고, 또한 상기 형성된 중간구분층의 상면에 상기 자외선의 조사후의 가열 등 특정의 에너지가 부여되는 것에 의해 승화하거나 또는 승화하지 않고 이루어지는 스페이서층을 형성하는 것을 적어도 1회 행하는 적층단계와,
    상기 형성된 각 스페이서층상중 최상면에 상기 특정의 에너지를 통과시킴과 동시에, 상기 승화한 스페이서 재료의 분자를 투과시키는 재료로서 천개부를 적층하는 천개부 형성단계와,
    상기 스페이서 재료층의 컬러필터나 화소나 블랙매트릭스 등에 대응한 소정 영역에 상기 특정의 에너지를 부여하거나 또는 부여하지 않는 것에 의해 당해부의 스페이서 재료를 승화시키고, 또한 그 승화한 분자가 중간구분층 및 천개부로부터 투과하거나 또는 이것에 가하기 앞서 천개부나 중간구분층에 설치된 미세구멍을 통과하여 외부로 배출시키는 것에 의해 상하는 기판부, 천개부 또는 중간구분층과, 측부는 승화하지 않고 남은 스페이서 재료에 의해 둘러싸여진, 그리고 상기 컬러필터 등에 대응하여 다수의 공극을 상하방향으로 적층하여 형성되는 공극형성단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 적층구획구조물의 제조방법.
  84. 제 82항 또는 제 83항에 있어서, 상기 스페이서의 재료로서, 상기 특정의 에너지는 부여하는 것에 의해 승화하는 것으로 이루어지는 물질을 선정하는 감광승화성 스페이서재 선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  85. 제 82항 또는 제 83항에 있어서, 상기 공극형성단계에 있어서 특정의 에너지를 부여하는 처리로서,
    상기 천개부상에 설치된 차광용 마스크의 상부에서, 특정파장과 에너지밀도의 전자파를 조사하는 조사 소단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  86. 제 83항에 있어서, 상기 공극형성단계에 있어서 특정의 에너지를 부여하는 처리로서,
    상기 천개부상에 설치된 차광용 마스크의 상부에서 특정 파장과 에너지 밀도의 전자파를 조사하는 조사 소단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  87. 제 82항 또는 제 83항에 있어서, 상기 형성된 공극내에 액정, 열경화성 수지 등 스페이서와 다른 재료의 물질을 충전하는 충전단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  88. 제 84항에 있어서, 상기 형성된 공극내에 액정, 열경화성 수지 등 스페이서와 다른 재료의 물질을 충전하는 충전단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  89. 제 85항에 있어서, 상기 형성된 공극내에 액정, 열경화성 수지 등 스페이서와 다른 재료의 물질을 충전하는 충전단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  90. 제 86항에 있어서, 상기 형성된 공극내에 액정, 열경화성 수지 등 스페이서와 다른 재료의 물질을 충전하는 충전단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물 또는 적층구획구조물의 제조방법.
  91. 적어도 기판층과 중앙층을 갖고, 중앙층은 구분벽에서 구별된 미소한 셀공간에 다른 종류 또는 양의 용질을 공통용매로 용해하여 형성되는 것에 의해 다른 종류 또는 농도로 이루어진 용액 또는 용액의 경화물을 채워 어느 미소한 구획구조물의 제조방법에 있어서,
    상기 다른 종류 또는 양의 용질을 상기 셀공간을 형성하는 부재표면의 대응하는 위치에 부착시키는 부착단계와,
    부착단계후 상기 셀공간을 형성하는 셀공간 형성단계와,
    부착단계 후에서 셀공간 형성단계의 전 또는 후에 상기 셀공간내로 상기 공통용매를 도입하는 공통용매 도입단계와,
    상기 구별된 셀공간내에서 용질을 상기 용매로 용해하는 용해단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  92. 제 91항에 있어서, 상기 용해단계는 용질을 열, 광, 진동, 화학반응 등 일정한 자극에 의해 공통용매에 용해시키는 자극기인 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  93. 제 91항 또는 제 92항에 있어서, 상기 부착단계는 상기 용질을 마이크로캅셀에 닫아 넣은 상태에서 부착시키는 마이크로캅셀이용 부착단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  94. 제 92항에 있어서, 상기 자극기인 용해단계는 상기 마이크로캅셀의 벽이 상기 용매내에서 파괴되어 내부의 용질이 용매내로 용출하는 마이크로캅셀 파괴이용 자극기인 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  95. 제 93항에 있어서, 상기 자극기인 용해단계는 상기 마이크로캅셀의 벽이 상기 용매내에서 파괴되어 내부의 용질이 용매내로 용출하는 마이크로캅셀 파괴이용 자극기인 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  96. 제 91항 또는 제 92항에 있어서, 상기 용질로서는 다른 색으로 이루어진 발색소를 선정하는 용질색소 선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  97. 제 93항에 있어서, 상기 용질로서는 다른 색으로 이루어진 발색소를 선정하는 용질색소 선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  98. 제 94항에 있어서, 상기 용질로서는 다른 색으로 이루어진 발색소를 선정하는 용질색소 선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  99. 제 95항에 있어서, 상기 용질로서는 다른 색으로 이루어진 발색소를 선정하는 용질색소 선정단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  100. 제 91항 또는 제 92항에 있어서, 상기 용질로서 카이랄제를 선정하고, 상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  101. 제 93항에 있어서, 상기 용질로서 카이랄제를 선정하고, 상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  102. 제 94항에 있어서, 상기 용질로서 카이랄제를 선정하고, 상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  103. 제 95항에 있어서, 상기 용질로서 카이랄제를 선정하고, 상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  104. 제 91항 또는 제 92항에 있어서, 상기 용질로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 착색제를 선정하고,
    상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  105. 상기 용질로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 착색제를 선정하고,
    상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  106. 제 94항에 있어서, 상기 용질로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 착색제를 선정하고,
    상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  107. 제 95항에 있어서, 상기 용질로서 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 착색제를 선정하고,
    상기 용매로서 소정의 액정을 선정하는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  108. 제 91항 또는 제 92항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  109. 제 93항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  110. 제 94항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  111. 제 95항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  112. 제 96항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  113. 제 97항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  114. 제 98항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  115. 제 99항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  116. 제 100항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  117. 제 101항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  118. 제 102항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  119. 제 103항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  120. 제 104항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  121. 제 105항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  122. 제 106항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  123. 제 107항에 있어서, 상기 구분벽은 적어도 근자외선을 흡수하는 물질로 이루어지고,
    상기 구분벽을 차광마스크로서 포토리소그라피에 의해 구분벽 상부 또는 그 바로 아래의 기판부에 소정의 수지층을 형성하는 구분벽이용수지층 형성단계를 또한 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  124. 적어도 기판층과 복수의 중간층과 각 중간층을 구분하는 구분층을 갖고, 각 중간층마다 다른 종류 또는 양의 용질을 공통용매로 용해하여 형성된 것에 의해 다른 종류 또는 농도로 되는 용액 또는 용액의 경화물을 채워서 어느 미소한 구획구조물의 제조방법에 있어서,
    상기 다른 종류 또는 양의 용질을 상기 각 중간층을 형성하는 부재 표면에 부착시키는 부착단계와,
    부착단계 후, 상기 각 중간층을 형성하는 중간층 형성단계와,
    상기 부착단계 후, 중간층 형성 전 또는 후에 상기 구획된 셀내로 상기 공통용매를 도입하는 공통용매 도입단계와,
    상기 완전하게 구별된 중간층내에서 용질을 상기 용매로 용해하는 용해단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  125. 제 124항에 있어서, 상기 중간층은 상기 구분벽으로 구분되어 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  126. 제 124항 또는 제 125항에 있어서, 상기 용해단계는 용질을 열, 광, 진동, 화학반응 등 일정한 자극에 의해 공통용매로 용해시키는 자격기인 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  127. 제 124항 또는 제 125항에 있어서, 상기 부착단계는 상기 용질을 마이크로캅셀에 닫아 넣는 상태로 부착시키는 마이크로캅셀이용 부착단계이고,
    상기 자극기인 용해단계는 상기 마이크로캅셀의 벽이 상기 용매내에서 파괴되어 내부의 용질이 용매내로 용출하는 마이크로캅셀 파괴이용 자극기인 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  128. 제 126항에 있어서, 상기 부착단계는 상기 용질을 마이크로캅셀에 닫아 넣은 상태로 부착시키는 마이크로캅셀이용 부착단계이고,
    상기 자극기인 용해단계는 상기 마이크로캅셀의 벽이 상기 용매내에서 파괴되어 내부의 용질이 용매내로 용출하는 마이크로캅셀 파괴이용 자극기인 용해단계인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  129. 제 124항 또는 제 125항에 있어서, 상기 용질은 다른 색으로 이루어진 발색소인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  130. 제 126항에 있어서, 상기 용질은 다른 색으로 이루어진 발색소인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  131. 제 127항에 있어서, 상기 용질은 다른 색으로 이루어진 발색소인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  132. 제 128항에 있어서, 상기 용질은 다른 색으로 이루어진 발색소인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  133. 제 124항 또는 125항에 있어서, 상기 용질은 카이랄제이고, 상기 용매는 소정의 액정인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  134. 제 126항에 있어서, 상기 용질은 카이랄제이고, 상기 용매는 소정의 액정인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  135. 제 127항에 있어서, 상기 용질은 카이랄제이고, 상기 용매는 소정의 액정인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  136. 제 128항에 있어서, 상기 용질은 카이랄제이고, 상기 용매는 소정의 액정인 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  137. 제 124항 또는 제 125항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  138. 제 126항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  139. 제 127항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  140. 제 128항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  141. 제 129항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  142. 제 130항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  143. 제 131항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광 후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  144. 제 132항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  145. 제 133항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  146. 제 134항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  147. 제 135항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  148. 제 136항에 있어서, 상기 구분벽 재료가 노광후의 가열 등 특정의 에너지의 부여에 의해 승화하는 물질이고,
    기판상에 구분벽 재료층을 형성 후, 차광마스크를 사용하여 노광 등에 의한 구분벽 이외를 승화시키고, 구분벽과 아울러 측부를 상기 구분벽에서 구분된 셀을 형성하는 구분벽 셀형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 구획구조물의 제조방법.
  149. 기판상에 스트라이프상의 차광층을 형성하는 차광층 형성단계와,
    상기 형성된 차광층을 마스크로서, 상기 기판의 하면에서 노광하여 감광성 수지로 이루어진 스트라이프상의 지지기둥과, 상기 지지기둥 상부의 접착용 수지층을 형성하는 포토리소그라피 단계와,
    상기 형성된 접착용 수지층을 접착제로 하고, 상기 형성된 지지기둥을 스페이서로서 대향기판을 접합시키는 액정패널 형성단계와,
    상기 형성된 패널내의 스트라이프상 셀내에 액정에 용해시켜도 2색성을 생기지 않게 하는 착색제를 용해시킨 복수색의 액정을 소정의 배열에 따라 나누어 넣은 복수색 액정층 띠형성 단계를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  150. 기판상에 형성된 지지기둥에 의해 구분된 미세한 셀공간내에 경화한 수지를 갖는 컬러필터에 있어서,
    상기 경화한 수지는 기판상에 지지기둥을 통하여 평면물을 밀착시키는 것에 의해 형성된 미세한 셀내에 갖고, 미리 상기 각 셀은 그 위치로부터 정해진 색의 발색소를 상기 기판에 부착시키고 있고, 이 상태에서 액상으로 상기 셀내에 주입되고, 상기 발색소를 용해시킨 후 경화시킨 것을 특징으로 하는 컬러필터.
  151. 제 149항에 있어서, 상기 지지기둥은 블랙매트릭스인 것을 특징으로 하는 컬러필터.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005010298A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置
CN102262320B (zh) * 2011-08-25 2013-05-01 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 液晶显示装置
TW201320326A (zh) 2011-11-10 2013-05-16 Chimei Innolux Corp 有機電激發光顯示裝置及其製造方法
TWI510841B (zh) * 2013-07-23 2015-12-01 Au Optronics Corp 顯示裝置
CN103744231A (zh) * 2014-01-20 2014-04-23 吴若鹏 调节电子显示器尺寸的方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5688110A (en) * 1979-12-20 1981-07-17 Casio Comput Co Ltd Production of liquid crystal display device
JPS5688109A (en) * 1979-12-20 1981-07-17 Casio Comput Co Ltd Production of liquid crystal display device
JPS62239156A (ja) * 1986-04-11 1987-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd 印画紙用カツタ
JPH07181458A (ja) * 1993-12-24 1995-07-21 Seiko Epson Corp 表示装置の製造方法及び表示装置の駆動方法
JPH09258236A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Toshiba Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JPH10104417A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Canon Inc カラーフィルター、これを用いた液晶素子、及びこれらの製造方法、該製造方法に用いられるインクジェット用インク
JP3274631B2 (ja) * 1997-03-31 2002-04-15 松下電器産業株式会社 液晶表示素子およびその製造方法
JPH10332923A (ja) * 1997-05-30 1998-12-18 Sharp Corp カラーフィルター及び液晶表示装置

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