JP2011150187A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく、且つＯＤＦ法による製造工程において確実にＵＶ硬化性樹脂を硬化させられる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本表示パネルの額縁部の、ＵＶ硬化性樹脂から成るシール材１９０が塗布されている部分と重なる位置にメタル配線１２０が形成されており、狭額縁化を図っている。また、ＣＦ側基板１５０には、光漏れを防ぐためのＢＭ１６０が形成されているが、端部までは形成されていない。従って製造時は、ＣＦ側基板１５０側からＵＶを照射してシール材１９０を硬化することができる。シール材１９０の硬化後に化粧枠２１０が施された例えば強化ガラスなどから成る透明板２００が貼り合わせ、ＢＭ１６０が形成されていない本表示パネルの端部の光漏れを防ぎつつ、本表示パネルの強度を増させる。
【選択図】図２

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法、特にＯｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ（ＯＤＦ）法により製造する液晶表示装置及びその製造方法に関する。

液晶表示装置の製造方法の一つとして、Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ（ＯＤＦ）法と呼ばれる方法が知られている。ＯＤＦ法においてはまず、液晶層を挟持する対向する一対の基板のうち、何れか一方の基板の周縁部に紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂から成るシール材を塗布し、また、液晶層を形成する部分に液晶分子を滴下する。その後、前記一対の基板を真空中で重ね合わせ、次に大気圧に戻してシール材及び液晶分子を押し潰した後にＵＶ照射によって前記シール材を硬化させる。この様なシール材の硬化により、前記一対の基板の接着及び液晶分子の封止を行う。前記の様なＯＤＦ法による液晶表示装置の製造方法が、例えば特許文献１に開示されている。ＯＤＦ法に依れば、液晶層を形成する空間を予め形成し、その空間に液晶分子を注入する従来の製造方法と比較して、製造工程数を減らすことができる。

特開平８−１０６１０１号公報

液晶表示装置について、表示ができない周縁部の領域である額縁部分を狭くしたいという要求がある。このため、各画素に接続している配線の取り回し配線を額縁部分に高密度に配することが望まれる。また、額縁部分からの光漏れを防ぐため、額縁部分には遮光部を設けることが要求されている。通常、画素部分では開口を有するブラックマトリクスを、この額縁部分では全面形成することで遮光部としている。これらのため、前記ＯＤＦ法による液晶表示装置の製造において、額縁部分にＵＶ硬化性樹脂から成るシール材を塗布すると、前記配線及び遮光部の存在のため、シール材に十分にＵＶを照射することができず、前記一対の基板の接着及び液晶分子の封止が満足に行えないという課題がある。

そこで本発明は、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置であり、ＯＤＦ法を用いた製造においてＵＶ硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止ができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。

前記目的を果たすため、本発明の液晶表示装置の一態様は、観察側基板と、前記観察側基板と対向する裏面側基板と、前記観察側基板と前記裏面側基板の周縁部で該観察側基板と該裏面側基板を一定の間隙を有して貼り合せるシール材と、前記観察側基板と前記裏面側基板との間隙の前記シール材に囲まれた空間に封止された液晶分子により構成される液晶層と、前記裏面側基板の前記液晶層側の面の当該液晶表示装置の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された導電線と、を具備する液晶表示装置において、前記額縁部に、前記シール材と前記導電線とが当該液晶表示装置の観察側から見て重なり合う位置に配置されており、前記観察側基板から前記シール材までの間に遮光物がなく前記観察側基板の側から照射した光が前記シール材に到達し、前記シール材は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする。

また、前記目的を果たすため、本発明の液晶表示装置の製造方法の一態様は、前記裏面側基板上に、前記導電線を含む該裏面側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素を配した裏面側レイヤを形成し、前記裏面側レイヤ上の前記シール材が配置される位置に該シール材を塗布し、前記裏面側レイヤ上の前記液晶層が配置される位置に前記液晶分子を塗布し、前記観察側基板上に、該観察側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素及び前記液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤを形成し、前記観察側基板の前記観察側レイヤを形成した面と前記裏面側基板の前記液晶分子を塗布した面を真空中で重ね合わせ、大気圧下で前記観察側基板側から紫外線を照射して前記シール材を硬化させることを特徴とする。

また、前記目的を果たすため、本発明の液晶表示装置の別の一態様は、観察側基板と、前記観察側基板と対向する裏面側基板と、前記観察側基板と前記裏面側基板の周縁部で該観察側基板と該裏面側基板を一定の間隙を有して貼り合せるシール材と、前記観察側基板と前記裏面側基板との間隙の前記シール材に囲まれた空間に封止された液晶分子により構成される液晶層と、前記裏面側基板の前記液晶層側の面の当該液晶表示装置の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された導電線と、前記観察側基板の前記液晶層側の面の当該液晶表示装置の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された遮光部と、を具備する液晶表示装置において、前記額縁部に、前記シール材と前記導電線と前記遮光部とが当該液晶表示装置の観察側から見て重なり合う位置に配置されており、前記導電線は、透明導電体によって形成されており、前記導電線は、前記裏面側基板上に多層に配線されており、前記裏面側基板側から前記シール材までの間に遮光物がなく前記裏面側基板の側から照射した光が前記シール材に到達し、前記シール材は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする。

また、前記目的を果たすため、本発明の液晶表示装置の製造方法の別の一態様は、前記裏面側基板上に、前記導電線を含む該裏面側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素を配した裏面側レイヤを形成し、前記裏面側レイヤ上の前記シール材が配置される位置に該シール材を塗布し、前記裏面側レイヤ上の前記液晶層が配置される位置に前記液晶分子を塗布し、前記観察側基板上に、前記遮光部を含む該観察側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素及び前記液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤを形成し、前記観察側基板の前記観察側レイヤを形成した面と前記裏面側基板の前記液晶分子を塗布した面を真空中で重ね合わせ、大気圧下で前記裏面側基板側から紫外線を照射して前記シール材を硬化させることを特徴とする。

本発明に依れば、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置であり、ＯＤＦ法を用いた製造においてＵＶ硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止ができる液晶表示装置及びその製造方法を提供できる。

本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの概略を説明する為の平面図。 本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の一例を示す断面図。 本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の別の一例を示す断面図。 本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの製造工程の一例を説明する為の図。 本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの図３Ａの後の製造工程の一例を説明する為の図。 本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの製造工程の別の一例を説明する為の図。 本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の一例を示す断面図。 本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの製造工程の一例を説明する為の図。

［第１の実施形態］
以下、本発明の第１の実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の、画像表示を行うために画素毎に光透過を変化させる表示パネルは主に、その上に薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；ＴＦＴ）を形成する、例えばガラス等から成るＴＦＴ側基板と、その上にカラーフィルター（ＣＦ）を形成する、例えばガラス等から成るＣＦ側基板と、ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板の間に狭持された液晶層等により構成されている。前記ＴＦＴ側基板とＣＦ側基板とは、その周縁部をシール材によって接着され、またこのシール材によってＴＦＴ側基板とＣＦ側基板との間から液晶層を構成する液晶分子が漏れ出さないように封止されている。更に前記ＣＦ側基板側には表示パネル全体の強度を増す為に、例えば強化ガラス等から成る透明板が貼り合わされている。

この様な本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの概略の平面図を図１に示す。前記ＴＦＴ側基板上には、画素電極１１１、画素電極１１１のスイッチング素子として働くＴＦＴ１１２、ＴＦＴ１１２に接続されておりそれぞれ交差する様に配線されている走査線１１３及び信号線１１４等が形成されている。また、走査線１１３及び信号線１１４等の配線は、本表示パネルの周縁部においてメタル配線によって取り回されている。また、前記ＣＦ側基板上には、図示しない共通電極、カラーフィルター、ブラックマトリクス（ＢＭ）などが形成されている。そして前記透明板には、表示パネルの周縁部における不要な光漏れを防ぐため、化粧枠２１０が設けられている。

本表示パネルの周縁部である図１におけるＡ−Ａ部分の断面を図２に示す。ＴＦＴ側基板１１０上には、前記走査線１１３及び信号線１１４等に接続し、それらを取り回すためのメタル配線１２０が絶縁膜１３０と共に形成されている。更にその上には、ラビング処理が施された配向膜１４０が形成されている。尚、当該表示パネルは高精細パネルであるため配線数が多く、且つ狭額縁化を図るため、メタル配線１２０は、図２に示す通り２層に配線されているものとする。尚、２層に限らず、狭額縁化を図るためには３層以上の多層配線としても良い。

一方、ＣＦ側基板１５０には、本表示パネルの周縁部まで、光漏れを防ぐためのブラックマトリクス（ＢＭ）１６０がパターン形成されている。ただし、このＢＭ１６０は、図２に示す通り、本表示パネルの周縁部の端部、つまりメタル配線１２０が配線されている部分までは形成されていない。ＢＭ１６０上には、ラビング処理が施された配向膜１８０が形成されている。

ＴＦＴ側基板１１０とＣＦ側基板１５０の間の周縁部の端部を含む部分における、ＴＦＴ側基板１１０のメタル配線１２０が形成されている部分と、ＣＦ側基板１５０のＢＭ１６０が形成されていない部分とが重なり合う位置には、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂から成るシール材１９０が塗布されている。そして、ＵＶ照射によるシール材１９０の硬化によりＴＦＴ側基板１１０とＣＦ側基板１５０とは、一定の間隙を有して接着されている。ここで、配向膜１４０と配向膜１８０の間隔は、例えば球形の散布スペーサ２３０の直径により規定されている。尚、散布スペーサ２３０は、球形に限らず例えば円柱形状等でも良い。配向膜１４０と配向膜１８０の間に形成された間隙には液晶分子が封入され液晶層２２０が形成されている。この液晶層２２０を形成する液晶分子は、シール材１９０によって前記間隙に封止されている。

ＴＦＴ側基板及びＣＦ側基板１５０の液晶層２２０側の面と反対側には、図示しない偏光板その他光学フィルムが貼り合わされている。また、ＣＦ側基板１５０の液晶層２２０側の面と反対側には、化粧枠２１０が施された例えば強化ガラス等から成る透明板２００が貼り合わされている。この化粧枠２１０は、本表示パネルの周縁部の端部から、ＢＭ１６０と重なる位置まで形成されており、光を透過しない。

以上の様な構成を有する本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルでは、メタル配線１２０を介して、各走査線１１３及び信号線１１４に適宜電圧を印加することで、各画素電極１１１に電圧を印加することができる。この各画素電極１１１に印加する電圧によって、各画素の液晶層２２０に電場を形成する。この電場によって、画素毎の液晶層２２０を、光学的スイッチとして働かせ、表示パネル全体として画像を表示する。

ここで、シール材１９０は、ＴＦＴ側基板１１０とＣＦ側基板１５０を貼り合せる役割を担う。更に、シール材１９０は、ＴＦＴ側基板１１０とＣＦ側基板１５０と共に液晶層２２０の液晶を封止する役割も担う。また、ＢＭ１６０及び化粧枠２１０は、光漏れによる不要な光を、ＣＦ側基板１５０側から観察する使用者に観察させない為の遮光部の役割を担う。また、透明板２００は、本表示パネル全体の強度を増す働きを有する。

尚、化粧枠２１０が設けられなくても、メタル配線１２０が２層に配線されているため、ＴＦＴ側基板１１０側に配置された図示しないバックライトの光は、メタル配線１２０により一部が遮られる。しかし乍、不要な光の遮光を確実に行うため、本表示パネルは化粧枠２１０を備えていることが必要である。

この様に、例えばＣＦ側基板１５０は、観察側基板として機能し、例えばＴＦＴ側基板１１０は、裏面側基板として機能し、例えばシール材１９０は、観察側基板と裏面側基板の周縁部を該観察側基板と該裏面側基板を一定の間隙を有して貼り合せるシール材として機能し、例えば液晶層２２０は、観察側基板と裏面側基板との間隙のシール材に囲まれた空間に封止された液晶層として機能し、例えばメタル配線１２０は、額縁部に形成された導電線として機能し、例えば化粧枠２１０は、観察側基板からシール材までの間の遮光物がない部分と重なり合う位置の、観察側基板の更に観察側に配置される遮光部材として機能する。

尚、図２を参照して説明した表示パネルの液晶層の厚さを規定するスペーサは、例えば球形の散布スペーサ２３０とした。しかし乍これに限らず、液晶層の厚さを規定するスペーサは、例えば図３に示す様に柱スペーサ２４０でも良い。この柱スペーサ２４０は、例えばカラーフィルター（ＣＦ）上の共通電極と配向膜１８０の間で、観察側から見てＢＭ１６０が形成されている位置と重なる位置等に形成されている。この柱スペーサ２４０が形成されている場合、柱スペーサ２４０が配設されている部分では、配向膜１４０及び配向膜１８０が接しており、液晶層２２０の厚さはこの柱スペーサ２４０の高さによって規定されている。

次に、図２を参照して説明した構成を有する表示パネルの製造方法を図４Ａ及び図４Ｂを参照して説明する。当該製造方法は、Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ（ＯＤＦ）法と呼ばれる製造方法である。

ＴＦＴ側基板１１０上には、図４Ａ中（ａ）に示す工程において、前記画素電極１１１、ＴＦＴ１１２、走査線１１３、信号線１１４、メタル配線１２０、及び絶縁膜１３０等を含むＴＦＴレイヤ１２５を形成する。続いて、図４Ａ中（ｂ）に示す工程において、例えばポリイミドより成る膜を形成し、ラビング処理を施し、配向膜１４０を形成する。

この様に、例えばＴＦＴレイヤ１２５及び配向膜１４０は、裏面側基板と液晶層に挟まれる構成要素である裏面側レイヤとして機能する。

次に、図４Ａ中（ｃ）に示す工程において、配向膜１４０上の本表示パネルの周縁部の前記接着及び封止部分に、前記ＵＶ硬化性樹脂から成るシール材１９０を塗布する。次に、図４Ａ中（ｄ）に示す工程において、配向膜１４０上の液晶層２２０を形成する部分に、液晶分子２２５を滴下する。

一方、ＣＦ側基板１５０上には、図４Ａ中（ｅ）に示す工程において、ＢＭ１６０、ＣＦ、及び共通電極等を含むＣＦレイヤ１６５を形成する。その後続いて、図４Ａ中（ｆ）に示す工程において、例えばポリイミドより成る膜を形成し、ラビング処理を施し、配向膜１８０を形成する。次に、図４Ａ中（ｇ）に示す工程において、まず、配向膜１８０上に散布スペーサ２３０を散布する。ここで、散布スペーサ２３０は、例えば球形をしており、その直径は液晶層２２０の厚さと等しく、液晶層の厚さを規定する機能を有する。続いて、散布スペーサ２３０を散布したＣＦ側基板１５０を加熱して散布スペーサ２３０を固着させる。

この様に、例えばＣＦレイヤ１６５、配向膜１８０、及び散布スペーサ２３０は、観察側基板と液晶層に挟まれる構成要素及び液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤとして機能する。

続いて図４Ｂ中（ｈ）に示す工程において、ＴＦＴ側基板１１０の前記シール材１９０及び液晶分子２２５を塗布した面と、ＣＦ側基板１５０の散布スペーサ２３０を散布した面とを、真空中で重ね合わせる。次に、図４Ｂ中（ｉ）に示す工程において、大気圧に戻して、シール材１９０及び液晶分子２２５を、散布スペーサ２３０の高さに潰す。この様にしてシール材１９０及び液晶層２２０の厚さは散布スペーサ２３０の高さによって規定される。そして大気圧下で、ＣＦ側基板１５０側からＵＶを照射してシール材１９０を硬化させる。更に、焼成してシール材１９０を完全に硬化させ、また同時に液晶の配向処理を行う。

その後、表示パネル毎に切断し、ＴＦＴ側基板１１０及びＣＦ側基板１５０に、図示しない偏光板その他光学フィルムを貼り合わせ、図４Ｂ中（ｊ）に示す工程において、ＣＦ側基板１５０側の最表面に、化粧枠２１０が施された例えば強化ガラス等から成る透明板２００を貼り合わせて、表示パネルを完成させる。

以上の表示パネルの製造方法は、図２に示したスペーサに散布スペーサ２３０を用いた場合であるが、図３を参照して説明したような柱スペーサ２４０を用いる表示パネルの製造方法は、図４Ａ中（ｆ）及び（ｇ）が異なる。即ち、図５に示す通り、（ｆ）に示す工程において、ＣＦレイヤ１６５上に柱スペーサ２４０を形成する。続いて図５中（ｇ）に示す工程において、柱スペーサ２４０を覆う様に、例えばポリイミドより成る膜を形成し、ラビング処理を施し、配向膜１８０を形成する。その後は、図４Ｂを参照して説明したと同様に、（ｈ）に示す工程において、前記シール材１９０及び液晶分子２２５を塗布したＴＦＴ側基板１１０と、柱スペーサ２４０及び配向膜１８０を形成したＣＦ側基板１５０とを、真空中で重ね合わせ、以下同様の工程を実施する。

この様に、例えばＣＦレイヤ１６５、柱スペーサ２４０、及び配向膜１８０は、観察側基板と液晶層に挟まれる構成要素及び液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤとして機能する。

前記の様な構成を有する表示パネルを、前記の様な製造工程で作製することにより以下の効果が得られる。即ち、表示パネルの周縁部のシール材１９０による接着部分と重なる位置にメタル配線１２０を配線することにより、画像を表示しない額縁部分を狭くすることができる。この際、メタル配線１２０を２層に配線する等多層配線とすることで、更なる狭額縁化を図ることができる。

ＯＤＦ法を用いた製造工程において、前記の様にＵＶ硬化性樹脂から成るシール材１９０による接着部分とメタル配線１２０の配線部分とが重なる位置に配置すると、シール材１９０を硬化させるためのＵＶ照射を、ＴＦＴ側基板１１０側から行えない。何故なら、本表示パネルは高精細であるためメタル配線１２０の本数が多く且つそれらは高密度に配線されているため、メタル配線１２０がＴＦＴ側基板１１０側から照射するＵＶを遮断し、ＵＶをシール材１９０に到達させないためである。このことは、メタル配線１２０を多層配線とする場合、更に顕著となる。従って、本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの作製においては、シール材１９０の硬化のためのＵＶ照射を、ＣＦ側基板１５０側から行っている。このため、ＢＭ１６０は、シール材１９０と重なる位置には形成されていない。ＣＦ側基板１５０からシール材１９０までの間には、主に透明部材しかないので、ＣＦ側基板１５０側からシール材１９０に十分にＵＶを照射することができ、確実にシール材１９０を硬化させることができる。従って、確実にＴＦＴ側基板１１０及びＣＦ側基板１５０を接着し、液晶分子２２５を封止することができる。

シール材１９０の硬化のためのＵＶ照射を、ＣＦ側基板１５０側から行う際には、メタル配線１２０からのＵＶ照射反射光も利用することができる。この利用は、メタル配線１２０が多層配線であり、メタル配線領域上にシール領域が含まれる場合により効果的である。この利用により、さらに確実にシール材１９０を硬化させることができる。

前記の理由で、ＢＭ１６０はシール材１９０と重なる位置には形成されていない。このため、ＴＦＴ側基板１１０側に配置されたバックライトからの光は、メタル配線１２０によって一部が遮光されるものの、シール材１９０が位置する当該表示パネルの周縁部で、ＣＦ側基板１５０側から観察する使用者に光漏れによる不要な光を観察させてしまう恐れがある。そこで本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルにおいては、光漏れによる不要な光を使用者に観察させない為、化粧枠２１０を、本表示パネルの端部からＢＭ１６０と重なる位置まで配置している。

以上の様に、本実施形態に依れば、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置を提供することができる。また、当該液晶表示装置のＯＤＦ法を用いた製造において、ＵＶ硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止を実施できる製造方法を提供できる。

［第２の実施形態］
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。ここで第２の実施形態の説明では、第１の実施形態との相違点について説明し、第１の実施形態と同一の部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。

図６に、第１の実施形態に係る図２に相当する、本実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの周縁部の断面図を示す。本実施形態において、第１の実施形態の場合と異なる点は主に２点ある。１点目は、第１の実施形態に係るメタル配線１２０の代わりに、例えば酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明導電体から成る透明配線３２０を用いている点である。この透明配線３２０は、第１の実施形態の場合と同様に、例えば２層等多層に配線することによって、本表示パネルの狭額縁化を図っている。２点目は、第１の実施形態においてはシール材１９０が配置された位置には形成されていなかったＢＭ１６０が、本実施形態においては当該表示パネルの端部まで形成されている点である。尚、液晶層２２０の厚さを規定するスペーサは第１の実施形態のそれと同様に、散布スペーサ２３０を用いても、柱スペーサ２４０を用いても良い。

図４には示していないが、第１の実施形態の場合と同様に、ＣＦ側基板１５０の液晶層２２０側の面と反対側に、当該表示パネル全体の強度を増加させるため、例えば強化ガラスなどから成る透明板２００が貼り合わせても良い。この場合、化粧枠２１０はなくても良い。

本実施形態に係る表示パネルの製造方法も第１の実施形態とほぼ同じであり、異なる点は、図４Ｂ中の（ｉ）を参照して説明した工程である。即ち、本実施形態においては、ＵＶ照射を、図７に示す通り、ＴＦＴ側基板１１０側から行う点が第１の実施形態と異なる。この違いは、本実施形態においては、ＢＭ１６０が本表示パネルの端部まで形成されているため、ＣＦ側基板１５０側からＵＶを照射してもＵＶはＢＭ１６０に遮られ、シール材１９０に到達しない為である。ＣＦ側基板１５０側からＵＶを照射してもＵＶがシール材１９０に到達しない一方、透明配線３２０は透明であるため、ＴＦＴ側基板１１０側からＵＶを照射すればＵＶはシール材１９０に到達する。そのため、図７に示す通り、本実施形態では、ＴＦＴ側基板１１０側からＵＶの照射を行う。

前記の様な構成を有する表示パネルを、前記の様な製造工程で作製することにより、第１の実施形態の場合と同様に、以下の効果が得られる。即ち、表示パネルの周縁部のシール材１９０による接着部分と重なる位置に透明配線３２０を配線することにより、画像を表示しない額縁部分を狭くすることができる。この際、透明配線３２０を多層配線とすることで、更なる狭額縁化を図ることができる。

また、ＯＤＦ法による製造工程において、透明配線３２０に透明な導電体を用いることで、シール材１９０を硬化させるためのＵＶ照射をＴＦＴ側基板１１０側から行っても、ＵＶをシール材１９０に十分に到達させることができる。このため、確実にシール材１９０を硬化させて、ＴＦＴ側基板１１０及びＣＦ側基板１５０を接着し、液晶分子２２５を封止することができる。

前記の通り、シール材１９０を硬化させるためのＵＶ照射を、ＴＦＴ側基板１１０側から行えるので、第１の実施形態の場合と異なり、ＢＭ１６０を本表示パネルの端部まで配置することができる。このため本表示パネルの周縁部において、光漏れによる不要な光を使用者に観察させないための遮光を十分に行うことができる。

以上の様に、本実施形態に依れば、狭額縁化を図りつつ周縁部での光漏れがなく表示品位が良い液晶表示装置を提供することができる。また、当該液晶表示装置のＯＤＦ法を用いた製造において、ＵＶ硬化性樹脂により確実に当該液晶表示装置の周縁部での接着及び液晶分子の封止を実施できる製造方法を提供できる。

尚、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除しても、発明が解決しようとする課題の欄で述べられた課題が解決でき、かつ、発明の効果が得られる場合には、この構成要素が削除された構成も発明として抽出され得る。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

１１０…ＴＦＴ側基板、１１１…画素電極、１１２…ＴＦＴ、１１３…走査線、１１４…信号線、１２０…メタル配線、１２５…ＴＦＴレイヤ、１３０…絶縁膜、１４０…配向膜、１５０…ＣＦ側基板、１６０…ＢＭ、１６５…ＣＦレイヤ、１８０…配向膜、１９０…シール材、２００…透明板、２１０…化粧枠、２２０…液晶層、２２５…液晶分子、２３０…散布スペーサ、２４０…柱スペーサ、３２０…透明配線。

Claims (11)

1. 観察側基板と、
   前記観察側基板と対向する裏面側基板と、
   前記観察側基板と前記裏面側基板の周縁部で該観察側基板と該裏面側基板を一定の間隙を有して貼り合せるシール材と、
   前記観察側基板と前記裏面側基板との間隙の前記シール材に囲まれた空間に封止された液晶分子により構成される液晶層と、
   前記裏面側基板の前記液晶層側の面の当該液晶表示装置の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された導電線と、
   を具備する液晶表示装置において、
   前記額縁部に、前記シール材と前記導電線とが当該液晶表示装置の観察側から見て重なり合う位置に配置されており、
   前記観察側基板から前記シール材までの間に遮光物がなく前記観察側基板の側から照射した光が前記シール材に到達し、
   前記シール材は紫外線硬化性樹脂である、
   ことを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記観察側基板から前記シール材までの間の前記遮光物がない部分と重なり合う位置の、前記観察側基板の更に観察側に、遮光部材が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記導電線は、前記裏面側基板上に多層に配線されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
   前記裏面側基板上に、前記導電線を含む該裏面側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素を配した裏面側レイヤを形成し、
   前記裏面側レイヤ上の前記シール材が配置される位置に該シール材を塗布し、
   前記裏面側レイヤ上の前記液晶層が配置される位置に前記液晶分子を塗布し、
   前記観察側基板上に、該観察側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素及び前記液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤを形成し、
   前記観察側基板の前記観察側レイヤを形成した面と前記裏面側基板の前記液晶分子を塗布した面を真空中で重ね合わせ、
   大気圧下で前記観察側基板側から紫外線を照射して前記シール材を硬化させる、
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
5. 更に、前記観察側基板から前記シール材までの間の前記遮光物がない部分と重なり合う位置の、前記観察側基板の更に観察側に遮光部材を貼り合わせることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する散布スペーサであり、
   前記観察側レイヤの形成は、
   前記観察側基板上に、該観察側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素である基部観察側レイヤを形成し、
   前記基部観察側レイヤ上に前記散布スペーサを塗布して固着させる、
   工程を含む、
   ことを特徴とする請求項４及び請求項５のうち何れか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する柱スペーサであることを特徴とする請求項４及び請求項５のうち何れか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
8. 観察側基板と、
   前記観察側基板と対向する裏面側基板と、
   前記観察側基板と前記裏面側基板の周縁部で該観察側基板と該裏面側基板を一定の間隙を有して貼り合せるシール材と、
   前記観察側基板と前記裏面側基板との間隙の前記シール材に囲まれた空間に封止された液晶分子により構成される液晶層と、
   前記裏面側基板の前記液晶層側の面の当該液晶表示装置の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された導電線と、
   前記観察側基板の前記液晶層側の面の当該液晶表示装置の画像を表示しない周縁部である額縁部に形成された遮光部と、
   を具備する液晶表示装置において、
   前記額縁部に、前記シール材と前記導電線と前記遮光部とが当該液晶表示装置の観察側から見て重なり合う位置に配置されており、
   前記導電線は、透明導電体によって形成されており、
   前記導電線は、前記裏面側基板上に多層に配線されており、
   前記裏面側基板側から前記シール材までの間に遮光物がなく前記裏面側基板の側から照射した光が前記シール材に到達し、
   前記シール材は紫外線硬化性樹脂である、
   ことを特徴とする液晶表示装置。
9. 請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
   前記裏面側基板上に、前記導電線を含む該裏面側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素を配した裏面側レイヤを形成し、
   前記裏面側レイヤ上の前記シール材が配置される位置に該シール材を塗布し、
   前記裏面側レイヤ上の前記液晶層が配置される位置に前記液晶分子を塗布し、
   前記観察側基板上に、前記遮光部を含む該観察側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素及び前記液晶層の厚さを規定するスペーサを配した観察側レイヤを形成し、
   前記観察側基板の前記観察側レイヤを形成した面と前記裏面側基板の前記液晶分子を塗布した面を真空中で重ね合わせ、
   大気圧下で前記裏面側基板側から紫外線を照射して前記シール材を硬化させる、
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
10. 前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する散布スペーサであり、
    前記観察側レイヤの形成は、
    前記観察側基板上に、該観察側基板と前記液晶層に挟まれる構成要素である第１の観察側レイヤを形成し、
    前記第１の観察側レイヤ上に前記散布スペーサを塗布して固着させる、
    工程を含む、
    ことを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 前記スペーサは、前記液晶層の厚さと等しい高さを有する柱スペーサであることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。

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