TW490541B - Gas storage and dispensing system comprising regulator interiorly disposed in fluid containment vessel and adjustable in situ therein - Google Patents

Gas storage and dispensing system comprising regulator interiorly disposed in fluid containment vessel and adjustable in situ therein Download PDF

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TW490541B
TW490541B TW090109377A TW90109377A TW490541B TW 490541 B TW490541 B TW 490541B TW 090109377 A TW090109377 A TW 090109377A TW 90109377 A TW90109377 A TW 90109377A TW 490541 B TW490541 B TW 490541B
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pressure regulator
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distribution system
container
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Luping Wang
Glenn M Tom
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Advanced Tech Materials
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Description

五、發明說明（1) '&quot;—----- MJLtJ青案之春照 ψΪΪ.^^^19&quot;，4,28^1ιιρίη§ Wang^Glenn M. Tom^ 亦/ \之美國專利申請案第0 9/ 30 0, 994號，，氣體儲存與分 -己糸統之部份延續案，而其又為1 9 98· 4· 28由Luping ang與Glenn Μ· T〇m提出申請之美國專利申請案第 0 9/ 0 67, 39 3说π氣體儲存與分配系統，，之部份延續案。 發明之背景 發明之頜盛 本發明係關於壓縮氣體之儲存與氣體分配系統，可應用 於諸如半導體材料及装置之製造。 相___關技術之指ί被 在極廣泛的工業製程及應用領域中，均有對可靠的製程 .氣體源之需求。 此類工業製程及應用領域包括半導體製造、離子植入、 平板顯示器的製造、醫學插管與治療、水處理、緊急呼吸 器、焊接操作、液體及氣體在空間中之分送等。 本發明所具備的此類可靠氣體源，尤其適用在半導體製 造廠中提供所需求之氣體供應，諸如函素浪合物氣體（如 三氟化硼、氟氣等）、氫化物氣體（如砷化三氫、磷化氫 等），以及氣態有機金屬源試劑。 下列美國專利案中描述了氣體儲存與分配系統之裝置與 方法。 〃 1 988.5.1 7 頒給 Karl 0· Knollmueller 的美國專利第 4，7 4 4，2 2 1號（砷化三氫之儲存與分配，係吸收儲存於孔
90109377.ptd 第5頁 490541 五、發明說明（2) 徑5 -1 5 A之沸石，其分配則由加熱沸石升溫釋出砷化三氳 )； 1996· 5· 21 頒給Glenn M· Tom 與James V. McManus 的美 國專利第5，5 1 8，5 2 8號（用於氣體吸收維持於一實體吸收 物媒介之儲存與分配系統，並由氣體壓力差別調節去吸 附，自吸收媒介分配氣體）； 1999. 8· 17 頒給David A· LeFebre 與Thomas Β· Martin，Jr·的美國專利第5, 937, 895號，以及 1999.12· 28 頒給R〇y V· Semerdjian 、David A· LeFebre 與 Thomas Β· Martin， Jr·的美國專利第 6, 0 07, 6 0 9 號（壓▲ 縮谷裔具用於氣體分配之調節器，其中調節器具分配檢查 閥及細管氣流限制裝置）； 先前相關之 1 998.4.28 由 Luping Wang 與 Glenn M· Tom 提 出申請之美國專利申請案第0 9/0 67,393號，以及先前相關 之1 9 9 9· 4· 28 由 Luping Wang 與Glenn M· Tom 提出申請之美 國專利申請案第〇 9 / 3 0 0，9 9 4號（氣體儲存與氣體分配系 統’包括具氣壓調節器之儲存及分配容器，其配置使得氣 體自容器分配流經調節器至下游流量控制裝置）；
Stenr^er之美國專利第3,59〇,86〇號（用於液態丙烷筒之 人工可凋i之5周節态閥，其包含調節器橫膈膜及活性激 ^ 組）； 又 C〇ffre等之美國專利第4, 836, 24 2號（用來供應電子分 體之減壓器、’包含一蜂鳴器與進入閥，以及配置於蜂 “、、态與低壓出口間的固體微粒過濾器）；
490541 五、發明說明（3) 一 ,01 livier之美國專利第5, 23〇, 359號（用於高壓氣體鋼 航之橫隔膜為基的壓力調節器，其中在調節器内有一閥 門’做為壓縮液體流動之可調整節流閥）；
Baranowski， jr·之美國專利第3, 699, 998號（一種具可 測定口徑之壓力調節器，其中利用彈簧片固定件來固定 節器部件）； 之美國專利第3，7 9 1，4 1 2號（使用於高壓氣體容器 之減C閥匕§ 對閥門構件，用來分配低壓節流液體）； W〇rmSer之美國專利第3, 9 72, 346號（具特製U型環密封 提升閥組件之壓力調節器）； 、EjdSm〇re之美國專利第4, 793, 37 9號（用於重要關機及 流置控制壓縮氣體鋼筒之按鍵式閥門，利用磁促動閥門部 件）； σ
SeneSky之美國專利第2, 6 1 5, 287號（具橫隔膜及橫隔膜 夾箝組合構件之氣壓調節器）； 也、^膜 in之美國專利第4, 1 73, 986號（具壓力調節器及反 應提升闊結構之壓縮氣體流動控制閥）； 及反 之等斤之美國專利第3,388,9 62號（包含燒結金屬粒 Μ通構件之壓縮氣態燃料計量裝置）； 包^^片之之美國專利第^^㈣^利用横賜膜構件及^
St心 片之乳體過濾裝置的高壓容器液壓調節器）； 祕之美國專利第2, 354, 283號（用於液化石％今 槽之液壓調節哭 —a 々油瑕^ 即為’包含具流量限制結構之壓力促動楛臨 膜，可降低震動）； 义勒杈隔
90109377.ptd 第7頁 490541 五、發明說明（4)
Lhomer等之美國專利第5, 5 66, 7 1 3號（具活塞型壓力調 節器及凍結調降器/調節器裝置之氣流控制分配總成）；
Am idzich之美國專利第5, 645, 1 9 2號（容器内用來釋放 過度氣壓之閥門總成，包含密封環/彈簧總成）；
Cannet等之美國專利第5, 678, 602號（用於氣體壓縮槽 之流體控制及分配總成，包含具指示流量表閥門之調降器 及調節器裝置）；
Webster之美國專利第2, 793, 5 04號（用於壓縮液體容器 之閥門，包含壓力調降器及調節器與彈簧座封裝置）；
Harris之美國專利第1，659, 2 63號（用於壓縮氣體鋼瓶 之調節器，包含橫隔膜以及橫隔膜與調節器環座間的抗摩 擦墊圈）；
Thomas之美國專利第2, 047, 33 9號（具流量控制單元與 防漏閥門之液態石油氣儲存裝置）；
Baumann等之美國專利第3, 994, 6 74號（具調節器閥門總 成之壓縮氣態可燃氣體容器的可分離燃燒器總成）。 發明之概述 本發明係關於一儲存與分配壓縮氣體的系統，適用於諸 如半導體產品製造之應用。 在一態樣中，本發明係關於一流體儲存與分配系統，包 括： 一氣體儲存及分配容器，其密封體内具壓縮氣體，其中 該容器更包含一容器埠； 一固接於該容器埠的閥門頭；
90109377.ptd 第8頁 490541 五、發明說明（5) 一氣體分配 一氣壓調節 該閥門頭相連通； 容器内位於閥門頭之下方，其配 置係為 選擇 氣壓調 出。 在此 器，且 的第二 在此 排氣端 口端與 在另 彼此同 氣壓調 其它 的專利 本發明 維持氣 啟動氣 節器、 系統之 此系統 氣壓調 總成，係與 器，設置於 體自容器以一預定壓力排出； 體分配總成 閥門頭及氣 ，俾利氣體自容器内流出，經過 體分配總成，將氣體自容器内排 一態樣中， 另具一位於 節器。 雙調節器陣列之特 與第一微粒過濾器 第二微粒過濾器相 一此雙調節器陣列 軸對準之第一微粒 節器與 本發明 申請範 之言羊細 第二微粒過 之態樣、特 圍，當可更 敘述及其較 茲將下列美國專利申請 1999·4.28 由Luping Wang 專利申請案第0 9/ 30 0, 9 94 1998.4. 28 由Luping Wang 專利中請案第0 9/ 0 6 7, 3 93 本發明係關於用來保存 上述氣壓調節器為第一氣壓調節 容器内，與第一氣壓調節器串接 殊具體例中，第一氣壓調 相接，且第二氣壓調節器 接。 之特殊具體例中包含在容 過濾器、第一氣壓調節器 濾、器。 徵及具體例由後續的揭示及隨附 加明白。 佳具體例 節器於 在其入 器内部 、第二 案之揭示併列於此做為參考： 與Glenn M. Tom提出申請之美國 號π氣體儲存與分配系統π，及 與Glenn M. Tom提出申請之美國 號”氣體儲存與分配系統π。 壓縮氣體的容器内，具一或多個
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氣壓調節器之儲存與分配系統 或多重調節器總成）係配置於 總成間。氣體分配總成的裝配 制構件，諸如氣流關閉閥、巨 與分配容器中，使得調節器受 環境暴露及傷害。此外，調節 制構件，其中將調節器設定在 自容器分配之氣體壓力正好低 在此類配置中，調節器（ 受限之壓縮氣體與氣體分配 多樣化，例如：可具氣流控 流控制器，或類似構件。
將調節器置放於氣體儲存 到谷為的保護，免於撞擊、 器可做為高壓氣體的安全控 一重要的低壓設定點，使得 於容器内壓縮氣體體積。 本發明中之氣壓調節器裝置應用範圍廣泛，可為任— 合的型悲。較佳的調節器包括Swagelok (註冊商桿） 氟酸系列設定壓力調節器（Swagelok公司有售， 風 www,,sagelok^com )，其壓力設定點自真空級至255〇 ps 級。利用高精確度調節器以自内具調節器之容器内，可土 的在所欲之壓力設定點分配氣體。 Λ
氣f調節器一般較優者為提升閥型，其包含可偏調座結 構之提升閥構件，俾防止壓力超過設定點。此類調節器利 用可调節出口壓力之氣體·激發壓力感測總成，藉由壓力感 測總成之相應膨服/收縮，以及提升閥的轉換，俾維持在 設定壓力點。 如此即將氣壓調節器設定於適當的等級，如7〇〇 TQ:rr， 俾在打開分配總成的流量控制閥或以其它適當方式開啟與 乳體谷裔結合之分配總成時，所提供之自氣體儲存及分酉己
90109377.ptd 第10頁 五、發明說明（7) 容器内流出的氣體壓力在 與容器結合之分配總成；2;:近。 所含與氣體容器偶合之延 *、，例如在分配運作中， 徑亦可包含適當的儀錶及控制^轉&quot;）導管或歧管。流 作，以影響多重氣體容器對泣^ ，俾監測氣體分配運 容器歧管配置中），並/ ^之偶合關閉（例如：在多 使下游氣體消耗設施得以自容4 β性或間斷的操作，俾 本發明之氣體儲存與分配得氣體供應。 氣體，實施例如在半導體製造；使可為任何適合的 氫化物氣體實施例包括砷化三 * 〇虱化物氣體。此類 烷、氯矽甲烷與二硼氫化物：：它m、氫化銻、矽甲 氣體亦可’包括酸性氣體如氫氟酸、=製造：使用的 齒化石夕甲⑮（如四氣化石夕）與=匕：：虱氯酸、 等；在半導體製造中具其功效者，如二砂） anrvm W /、 在金屬有機化學蒸鍍法 (MOCVD )中先期使用之有機金屬試劑。 現參閱圖式，圖1為依本發明闡釋之具體例的氣體儲 及分配系統100概略橫剖面圖。系統1〇〇包含一般為圓桎型 的氣體儲存及分配容器1〇2，其圓柱壁1〇4之下端為底板構 件106所封閉。在容器上端的頸1〇8所含之圓柱環11〇'係 用以界定並環繞容器頂端開口 （埠）。容器壁、底板構件 及頸從而將内體1 2 8封閉如圖示。 在容器頸部，閥門頭總成11 4之螺紋栓11 2與環11 〇之内 螺紋孔螺旋嚙和。閥門頭總成丨丨4包含中央氣流通道丨2 〇，
五、發明說明（8) 與閥門頭總成中的中央工作體孔 孔穴依次與出口 124接合’ 外立虱流相通。中央工作體 於該處固接一連結器及相關管路/導螺:或其它建構’俾 在此具體例中所示配置於中央二 122係與手輪126接合，但亦可虚體孔八的閥門構件 控制器或促動裝置接合。〃自動閥門促動器或其它 二門亦在、門塞中置-與填糾^ :再VS ^ 租，再來將填充埠封閉加蓋如所示。 閥門頭總成1 1 4中的中本_、、n^ Λ ^ , , η . ° f央軋*通道120下端舆連結器流通 吕1 3 0接5 ’並依序盘調筋哭1 q 9 4立人 》 ”门即抑132接合。此調節器之設置係 二、准持氣體以所選擇之壓力自容器排出。 在凋節态下编與管狀配件1 3 6相接，並依序以如椿焊接 亡下端具擴散器末梢蓋131之過濾單元134相接。該過濾單 兀可由不鏽鋼構成，並具由如316L型不鏽鋼之燒結不鏽鋼 ，成的擴散器壁。該過濾單元之多孔壁可將所有較預定直 搜大的粒子濾除，例如自系統中以每分鐘30標準升速度流 動氣體中，大於〇 · 〇 〇 3微米的粒子。該型過濾單元可自
Mott 公司（Tarmington，CT )購得。 在實用上，壓縮氣體體係收納於容器1 〇 2的内體丨2 8中。 氣壓調節器1 3 2之設置係為在閥門頭總成11 4之閥門打開 時’使得分配氣體以所選擇之設定點流動，而氣體流經過 據單元134、配件136、調節器132、連結器流通管130、閥 門頭總成11 4之中央氣流通道1 2 0、中央工作體孔穴及出口
490541 五、發明說明（9) T路本導發二:門广總成可視最後應用之需要，與其它 吕路、、V官、流動控制器、監控裝置等相接。 圖2為圖1氣體儲存及分配系統的閥門頭總成工η 圖。在圖2中相對應之構件均與圖丨之編號對 具螺紋113 ’可旋於和。内表面， = 栓塞可與容器彼此以防漏狀態喃合。,間門頭總成之 圖3為一圖1氣體儲存及分配系統1〇〇的過濾單元η ^盘過濾單元134具f狀配件部份螺刻有螺紋137， T 〃、圖1所不之调節器1 32罩互補嚙合。 圖4為圖1氣體儲存及分配系統丨〇 圖。所閣釋之調節議具一下端氣體入口V;;32:;;：刀開 濾皁元134之管狀配件與其螺旋嚙合。 =過 -氣體出口 U5，其與連結器流通管13。接公端具 圖5為圖1氣體儲存及分配系 琴1 0 ?夕卜Α丨工a υ W礼篮储存及分配容 圓柱辟1(U 剖面前視圖。所闡釋之容器102部份包括 :閥Γ8及環110。該環的内表面螺刻心 容哭可由^不鐘細1總成114之栓塞112上的螺紋113互補。兮 非鐵金屬合金，或其它金屬或: 螺紋。 構而成，並具a&gt;1视T頸開口及適當的Ngt 概Γ橫為之另—具體例的氣體儲存及分I系統200 儲存及分二。該 容器内體218封妒起文'、二二f :壁214及底216 ’共同將 才扁起來。側壁及底可由任何適當的材料建
五、發明說明（10) 構而成，例如金屬、氣體不穿透塑 二等’俾因應容器内納存氣體ιί最=用=合 在儲存及分配使用中，容器内維持之壓力衣兄 在容器上端220的頸221係用以界定一 22 ° 束縛之埠開孔222。該内壁223可螺、1的内 頭225喃合，包含鳴可螺刻互補; 戶斤^此狀ί下、，閥門頭225與容器212以無漏狀態哺名 :之儲存狀況下’維持該處氣體於内體2 。 頭體226係由該處之中央垂直通道2 :酉己自容器212内液體衍生而得之氣體。如所示巧 垂直通道228與排氣璋229之排氣通道23〇互通。μ 閥門頭體包含與手輪238偶合之閥構件22 )工開關該閥門。在此式樣的分配操作中，可：匕 二：^中央垂直通道228流至排氣埠22 9，或者可用人 閉^輪’終止氣體自中央垂直通道228流至排氣璋⑽ 因，將該閥構件227配置於調節器下游，使得自容姜 ^ ^氧體在流經流量控制閥所含閥構件227前，先流| 二閥制動構件處’可具一自動閥促動器，諸如 二μ胃益、電動力閥促動器，或其它適合的裝置，俾 開關閥門頭之閥門。 山忒閥門頭體226亦包含一填充通道232，該處構成與 令而之填充埠234的通聯。圖6所示之填充埠234係為填〕 成材 以及 壁223 [該處 :類嚙 ‘，在 用來 _央 擇以 輪使 工關 ;分 艮調 氣體 自動 其上 匕埠 490541 1_丨 五、發明說明（11) 蓋236所罩’俾於將用來儲存盥 置入容器時保護填充埠免於污^^配。之氣體自液體填充或 如所示，該填充通道下端存=古、損害。 填充埠234與要納入容器有閥門頭體226底表。在 經填充通道，進入容器D212的乃偶合時，該氣體可流 與閥門頭體226下端相接的。 延伸管240。第一調節器242列 3第一从粒過遽器239之 一調節器242係以任何適合之接於延伸管240末梢。第 如由延伸管下端具内螺紋σ部份/緊接。於延伸管下端，例 或者第一調節器與延伸管=”即态242螺旋嚙合。 鋅合金焊接、接焊、金屬打 ^，合，可由如焊接、銅 與/或方法等來結合。 、 或由適當的力學接合裝置 第一調節器242配置盥第—％ μ 為達成此目的，第一及第弟二-二郎器26〇之串接，如所示。 方延伸部份相配之螺紋以螺旋接之合螺紋與第二調節器260上 或者第一及第二調節器口 ，合或配件裝置，以黏：打線、二:當方式接合，例如以 焊等方式’或可將第一及第：时毛二：合金焊接、接 器總成部件。 5周即益整合建構成一雙調節 第二調節器260在其下端與高 高效率微粒過遽器246係用ίΐ t 46接合。 =門構件227之污染，IMS:自構件及上 第15頁 90l09377.ptd 調節器以具 為如圖6具體J 2 2 9之氣體流： 調節器下游的 如此'來， 成，其中一埠 一種型式的 月南膜構件。該 控制出口氣壓 加，都會導致 增加，都會導 提升閥構件， 具设定點，係 設定。 如所釋之排 偶合。在氣體 種方式配置之 器2 1 2流至相| 它使用設施） 以此種方式 決定。 圖6具體例t 擇或預設為任 例如，第二 至少一與其串接之微粒過濾器較佳 」所示，該系統在自容器内體21 8至乂 工上’包含調節器上游的微粒過遽器，孔 碱粒過濾器。 久 ^具體例中的閥門頭奶即具雙埠閥門頭總 二氣體填充埠234，另一埠為排氣埠229。 ，力調節器包含與提升閥保持薄片偶合之橫 薄片依序與提升閥構件之連結，做為可精確 的部份壓力感測總成。一 丁點的出口壓力增 壓力感測總成收縮，並且一丁點的出口壓力 致壓力感測總成膨脹。該收縮與膨脹係充作 可提供精確的壓力控制。該壓力感測總成所 先行建立或針對氣體儲存及分配系統之應用 氣線2 66内含流量控制閥268，與排氣埠22 9 儲存及分配系統2 1 〇的分配模式下，將以此 排氣線中的流量控制閥打開，使得氣體自容 ’製程設施270 (例如：半導體製造設施或其 分配之氣體壓力，將由調節器242的設定點 '调節器2 6 0及調節器2 4 2的設定點可個別選 意與特別需求之末段應用相符的適當值。 或’’上游π調節器2 6 0可具設定點範圍自約2 〇
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五、發明說明（13) 調節器242之設定點 ，如範圍自約1 torr psig至約2 50 0 psig。第一或，，下游，， 玎高於上游調節器2 60之壓力設定點 至2500 psig 。 在一闡釋性具體例中，上游調節器2 6 〇之壓力設定點範 圍自約100 psig至約25〇〇 psig，而下游調節器之壓力 設定點，圍自約100 torr至約50 psig，其中受上游壓力 設定點南於下游調節器之壓力設定點。 、雖然在=串接調節器總成中的調節器設定點間的關係可 ^任^適备的比例建立，在如圖6所示之雙調節器總成的 ^佳二用中，優點為上游調節器之壓力設定點為下游調節 裔之壓力设定點的兩倍以上（以相同測量壓力單位測量 在圖6具體例中，第一及第二調節器彼此係以同軸對準 構成调節态總成’並在任一端具微粒過濾器。歸功於此類 配置’自容器2 1 2分配之氣體具極高純度。 片做為另一增進方式，該微粒過濾器可以披覆或滲入對雜 質有選擇性的化學吸附於欲分配氣體中（如自容器内氣體 反應或衰變之分解產物）。以此種方式，在分配時，沿流 徑行經微粒過濾器之氣體在該處經純化。 在一如圖6所示類型之氣體儲存及分配系統的闡釋性具 體例中，容器21 2為一3ΑΑ 2015 DOT 2· 2公升圓柱體。該 尚效率微粒過渡器246為GasShield (商標）PENTA (商標 )利用點氣體過濾器，可自Mott公司（Farmington，CT) 購得’其在316L VAR/電拋光不鏽鋼或鎳罩中，具燒結金
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五、發明說明（14) 屬過濾媒介，可移除高於99· 9 9 9 99 9 9 %小至Ο · Ο 03微米直 €的微粒。該高效率微粒過濾器23 9為Mott標準66 10-1/4 内線過濾器，可自Mott公司（Farmington，CT)購得。該 w周靖器為氫氟酸系列Swage 1 ok (註冊商標）壓力調節器， 其第一調節器242之設定點壓力自1 〇〇 Torr至5〇 psig，而 第，調節器260之設定點壓力自1〇〇 psig至15〇〇 psig ;第 ，即器2 6 0之設定點壓力至少為第一調節器2 4 2之設定點 竣力的兩倍。 5隹然本發明已與此參考特殊構 ^的插述，應知本發明並不因此 意’本發明可廣泛建構而與此揭 新與具體例，對熟悉此技術者將 1號說明 1 00 系統 102 容器 1〇4 圓柱壁 1 06 底板構件 1〇8 頸 1〇9 螺紋 110 圓柱環 112 螺紋拾 113 螺紋 114 閥門頭總成 116 填充通道 件、特徵及具體例做闈釋 有限制其結構或操作之 示相容，並包含變化、創 可清楚地得到啟發。
490541 £、發明說明 (15) 120 填充埠 118 通道 122 閥門構件 124 出口 126 手輪 128 内體 130 連結器流通管 131 擴散末梢蓋 132 調節器 133 入口 134 過滤單元 135 出π 136 管狀配件 137 螺紋 200 糸統 212 容器 214 圓柱壁 216 底 218 内體 220 容器上端 221 頸 222 開孔 223 内壁 225 閥門頭 Ο ❶
90109377.ptd 第19頁 490541 五、發明說明（16) 226 閥 體 227 閥 構 件 228 中 央 垂 直 通 道 229 排 氣 琿 230 排 氣 通 道 232 填 充 通 道 234 填 充 埠 236 填 充 埠 蓋 238 手 輪 239 第 — 微 粒 過 渡器 240 延 伸 管 242 第 一 調 節 器 246 微 粒 過 濾 器 260 第 二 調 Λ/Γ 即 器 266 排 氣 線 268 流 量 控 制 閥 270 相 關 製 程 設 施
90109377.ptd 第20頁 490541 圖式簡單說明 圖1為依本發明之一具體例的氣體儲存及分配系統概略 橫别面圖。 圖2為圖1所示之氣體儲存及分配系統的閥門頭總成透視 圖。 圖3為圖1所示之氣體儲存及分配系統的過濾單元立面 圖。 &gt; 圖4為為圖1所示之氣體儲存及分配系統的調節器部份切 開圖。 圖5為為圖1所示之氣體儲存及分配系統的氣體儲存及分 配容器之上剖面的剖面前視圖。 圖6為依本發明之另一具體例的氣體儲存及分配系統概 略橫剖面前視圖。
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Claims (1)

  1. 490541 六、申請專利範圍 1. 一種氣體儲存與分配系統，包括： 氣體儲存及分配容器，其密封體内具壓縮氣體，其中容 器包含一琿； 固接於容器埠的閥門頭； 與閥門接頭氣體流通耦合之氣體分配總成； 位於容器内之氣壓調節器，其位於閥門頭之下，其配置 係為維持氣體自容器以一預定壓力排出； 選擇促動氣體分配總成，俾利氣體自容器内流出，經過 氣壓調節器、閥門頭及氣體分配總成，將氣體自容器内排 出。 2. 如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，更包 含閥門頭與氣壓調節器間的微粒過濾器。 3. 如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，其中 該分配總成包括操作與閥門促動器偶合之流量控制閥，以 及用來促動閥門促動器之自動控制器，俾開始調整容器中 用來控制自液態衍生為排放氣體之流量閥門。 4. 如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，更包 含納存於容器内之氣體，係選自由氫化物氣體、鹵化物氣 體及氣態有機金屬化物組成之群組中。 5. 如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，更包 含納存於容器内之氣體，係選自由砷化三氫、磷化氫、氫 化銻、矽甲烷、二硼氫化物、氳氟酸、三氯化硼、三氟化 硼、氫氣酸、ii化矽曱烷與二矽曱烷組成之群組中。 6. 如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，更包
    90109377.ptd 第22頁 490541 六、申請專利範圍 含納存於容器内之氣體，係選自由砷化三氫、三氣化硼及 三氟化硼組成之群組中。 7. 如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，其中 該氣壓調節器係第一氣壓調節器，且更包含與第一氣壓調 節器以串接方式接合之第二氣壓調節器。 8. 如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 第一氣壓調節器的設定點電壓範圍自約1 Torr至約25 5 0 psig 〇 9. 如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 第二氣壓調節器的設定點電壓範圍自約2 0 ps i g至約2 5 5 0 φ psig 〇 1 0 .如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 第二氣壓調節器的設定點電壓高於第一氣壓調節器的設定 點電壓。 11.如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 第二氣壓調節器的設定點電壓至少為第一氣壓調節器的設 定點電壓的兩倍。 1 2.如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 第二氣壓調節器與第一氣壓調節器垂直同軸對準。 1 3.如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 〇 第二氣壓調節器與其微粒過濾器入口端相接。 1 4.如申請專利範圍第7項之氣體儲存與分配系統，其中 第一氣壓調節器之排氣端與第一微粒過濾器相接；而第二 氣壓調節器之入口端與第二微粒過濾器相接。
    90109377.ptd 第23頁 490541 六、申請專利範圍 1 5.如申請專利範圍第1 4項之氣體儲存與分配系統，其 中第一微粒過濾器、第一氣壓調節器、第二氣壓調節器及 第二微粒過濾器彼此同軸對準。 1 6.如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，其中 閥門頭包含一雙步閥體。 1 7.如申請專利範圍第1 6項之氣體儲存與分配系統，其 中閥體下方位於容器内部份與一延伸管相接，自閥體向下 延伸至容器内體，且其下端與氣壓調節器相接。 1 8.如申請專利範圍第1 7項之氣體儲存與分配系統，其 中延伸管與閥體内的排氣通道同軸對準，且該排氣通道與$ 氣體分配總成氣流導通偶合。 1 9.如申請專利範圍第1 8項之氣體儲存與分配系統，其 中氣體分配總成包含一在其上之流量控制閥。 2 0.如申請專利範圍第1項之氣體儲存與分配系統，其中 氣體分配總成與半導體製造設施氣流導通相接。
    90109377.ptd 第24頁
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