JPS61180100A - 微量ガス供給装置 - Google Patents
微量ガス供給装置Info
- Publication number
- JPS61180100A JPS61180100A JP1997085A JP1997085A JPS61180100A JP S61180100 A JPS61180100 A JP S61180100A JP 1997085 A JP1997085 A JP 1997085A JP 1997085 A JP1997085 A JP 1997085A JP S61180100 A JPS61180100 A JP S61180100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- valve
- vacuum
- gas supply
- flow rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、微量ガス供給装置に関するものである。
真空装置に微量ガスを導入しその流量をコントロールす
る場合、従来のガス供給方法では、ガスボンベ等ガス供
給源と真空チャンバーとを配管でつなぎ、その途中にニ
ードル式のリークバルブを配置する。このニードルバル
ブの針と“うけ”とのクリアランスをネジ、梃等の機楕
を用いｖＩｌｌ！Ｉ節することによってガス流量を制御
していた。この方式では流量を細かく制御することが困
難であり安定性も悪い、又バルブを開きすぎると真空度
が著しく低下し、異常放電を起こしたり、真空ポンプの
排気能力を低下させてしまう欠点があった。
る場合、従来のガス供給方法では、ガスボンベ等ガス供
給源と真空チャンバーとを配管でつなぎ、その途中にニ
ードル式のリークバルブを配置する。このニードルバル
ブの針と“うけ”とのクリアランスをネジ、梃等の機楕
を用いｖＩｌｌ！Ｉ節することによってガス流量を制御
していた。この方式では流量を細かく制御することが困
難であり安定性も悪い、又バルブを開きすぎると真空度
が著しく低下し、異常放電を起こしたり、真空ポンプの
排気能力を低下させてしまう欠点があった。
本発明の目的は、真空装置にガスを導入する場合、ガス
流量の微調節が容易で間違ってバルブを開きすぎた場合
にも装置の許容圧以上のガスが流れ込まないガス供給装
置を提供することにある。
流量の微調節が容易で間違ってバルブを開きすぎた場合
にも装置の許容圧以上のガスが流れ込まないガス供給装
置を提供することにある。
本発明は、真空装置ガス導入口にガス流量制限部材３．
リークバルブ２、ガス供給源１を順次配置したもので、
部材３はこの装置に許された最大圧のガスしか通さない
固定若しくは可変の微少コンダクタンスを持っており、
装置に許容圧以上のガスが流れ込むことを防ぐようにし
たものである。
リークバルブ２、ガス供給源１を順次配置したもので、
部材３はこの装置に許された最大圧のガスしか通さない
固定若しくは可変の微少コンダクタンスを持っており、
装置に許容圧以上のガスが流れ込むことを防ぐようにし
たものである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
部材３としてリークバルブを直列に並べてもよいが、高
価になるため、必要とするコンダクタンスを有する、キ
ャピラリ又はフィルタ等を介して真空装置に接続する。
価になるため、必要とするコンダクタンスを有する、キ
ャピラリ又はフィルタ等を介して真空装置に接続する。
バルブ２は流量調節用のニードルバルブでバルブのクリ
アランスを変えることでガス流量をコントロールする。
アランスを変えることでガス流量をコントロールする。
ガス供給源１は減圧弁付のガスボンベで、ガス圧は０．
３ｋｇ／ｃｍ” に設定されている。
３ｋｇ／ｃｍ” に設定されている。
ただ一つのニードルバルブでガス流量コントロールをし
ていた従来の方式に比べ、本発明では、部材３とバルブ
２の合成コンダクタンスでガス流量が決まり、部材３の
コンダクタンスをＣｓ ｌバルブ２のコンダクタンスを
Ｃ３とすると合成コンダクタンスＣは、Ｃ２Ｃ５／ Ｃ
ｃｚ＋ｃｓ）となり、Ｃ３は固定されているのでＣ２の
変化に対するＣの変化は少なく、従ってガス流量に対す
る影響も従来の方式に比べ、少なくなる。このためガス
流量の微少なｌｉ１節が可能となり安定性も増す、又聞
違ってバルブ２を全開した場合でも部材３によって流量
は制限され、装置許容圧以上のガスが流れ込み真空度が
著しく低下し異常放電を起こしたり真空ポンプの排気能
力を低下させる危険がない。
ていた従来の方式に比べ、本発明では、部材３とバルブ
２の合成コンダクタンスでガス流量が決まり、部材３の
コンダクタンスをＣｓ ｌバルブ２のコンダクタンスを
Ｃ３とすると合成コンダクタンスＣは、Ｃ２Ｃ５／ Ｃ
ｃｚ＋ｃｓ）となり、Ｃ３は固定されているのでＣ２の
変化に対するＣの変化は少なく、従ってガス流量に対す
る影響も従来の方式に比べ、少なくなる。このためガス
流量の微少なｌｉ１節が可能となり安定性も増す、又聞
違ってバルブ２を全開した場合でも部材３によって流量
は制限され、装置許容圧以上のガスが流れ込み真空度が
著しく低下し異常放電を起こしたり真空ポンプの排気能
力を低下させる危険がない。
本発明によれば前述したようにガス流量微調節が可能と
なり、流量のリミッタとしての効果もある。イオンミリ
ング装置に於いては、イオンガン内部の放電現象の安定
化とイオンビーム強度の微少コントロールが可能となり
、実用上の効果はすこぶる大である。
なり、流量のリミッタとしての効果もある。イオンミリ
ング装置に於いては、イオンガン内部の放電現象の安定
化とイオンビーム強度の微少コントロールが可能となり
、実用上の効果はすこぶる大である。
図は本発明の微量ガス供給装置の実施例の説明図である
。 １・・・ガスボンベ、２・・・流量調節用リークバルブ
、３・・・ガス流量制限用部材、４・・・真空チャンバ
ー、’−＝−／′
。 １・・・ガスボンベ、２・・・流量調節用リークバルブ
、３・・・ガス流量制限用部材、４・・・真空チャンバ
ー、’−＝−／′
Claims (1)
- １、真空装置に微量ガスを導入する場合に、その装置に
許される最大圧のガス流量コンダクタンスをもつガス流
量制限部材と、流量調節用リークバルブと、ガス供給源
とを真空装置ガス導入口から順次に配置したことを特徴
とする微量ガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1997085A JPS61180100A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 微量ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1997085A JPS61180100A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 微量ガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180100A true JPS61180100A (ja) | 1986-08-12 |
Family
ID=12014048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1997085A Pending JPS61180100A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 微量ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180100A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010281459A (ja) * | 2000-04-19 | 2010-12-16 | Advanced Technology Materials Inc | 流体含有容器内に配置され、その場で調節可能なレギュレータを備えるガス貯蔵送出システム |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP1997085A patent/JPS61180100A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010281459A (ja) * | 2000-04-19 | 2010-12-16 | Advanced Technology Materials Inc | 流体含有容器内に配置され、その場で調節可能なレギュレータを備えるガス貯蔵送出システム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69804432D1 (de) | Vorrichtung zur Steuerung eines Durchflusses | |
| JPS61180100A (ja) | 微量ガス供給装置 | |
| JPS6456972A (en) | Displacement control valve | |
| GB907085A (en) | Fluid flow control valves | |
| CN205534441U (zh) | 一种无泄漏燃气减压阀 | |
| JPH0327799B2 (ja) | ||
| FR2338442A1 (fr) | Regulateur de debit | |
| JPS5980777A (ja) | ガス制御装置 | |
| CN109899161A (zh) | 一种液态燃料计量装置 | |
| JPS5670106A (en) | Combination fluid circuit | |
| JPH01174819A (ja) | ガス流量制御弁 | |
| RU2036633C1 (ru) | Барокамера | |
| EP3889410A1 (en) | Regulated flow divider valves | |
| CN110388343A (zh) | 一种大流量单通道双溢流三通压力补偿器 | |
| CN218935366U (zh) | 一种先导式三通流量控制阀 | |
| JPS5592298A (en) | Gas pressure control method of welding gas backing | |
| CN210038551U (zh) | 一种天然气还原氧化铜液流量控制装置 | |
| JPS5722469A (en) | Three-way valve | |
| JPH0823552B2 (ja) | 毛細管カラムの試料導入方法 | |
| JPS58110855A (ja) | エンジンの燃料制御装置 | |
| JPS5925446Y2 (ja) | 溶媒脱気装置 | |
| CN114542549A (zh) | 一种高精度压力调节回路 | |
| SU1280589A1 (ru) | Регул тор давлени газа | |
| JPS5776255A (en) | Exhaust gas recirculating device | |
| JPS61138840A (ja) | ガス機関の空燃比制御装置 |