487600 五、發明說明(1 ) 發明說明: [技術之領域] 本發明與一種粒子狀材料處理 體材料之粉碎、㈣體㈣與液之與粉采 等於滎狀物質等均勻分散等所用裝置=、或顏料、塗+ [發明之背景] 1 ° 一般此種粒子狀材料處理裝 ^ W ^ ? ^ ^ , A L,例如粉碎裝置或混合· 刀政裝置寺’知裝在旋轉體,落 <夕數加壓體配設於筒狀外秦 内,將孩加壓體以其離心力壓 v i万;外敢内壁面,夾進進入办 壓體與外殼内壁面間之被虛评你 t 、 後處理物,以執行粉碎等處理。^1 時需使被處理物不滯留於外磅由 外π又内—邯分,而使其均勻移重 於外殼内壁面全部。 本申請人爲了使被處理物均勻移動於外殼内壁面全面 提出以密狀連續配設多數環構件構成柱狀者(日本特開今 6-79192號公報、對應美國專利5 3 7 3 9 9 6號),在短時間孩 粉碎固體物質等,使其能在短時間内有效實施粒子狀材申 之各種處理。 然而例如以乾式粉砰處理被處理物時,該被處理物在夕j 殼内之動態極爲不佳,而有易滯留於外殼内一部分之书 ,丨t :故以鬲速旋轉加壓體攪拌粉粒體賦予離心力加壓使g 向外周方向移動,以控制被處理物之動態。但隨著前述办 ^體之回红开〉成之圓筒狀區,延設以兩端支撑該加壓體斥 轉軸’旋轉速度過快時隨著離心力之增大外殼内被處g 物足回旋〉瓦成大亂Ί。故尤其比重小之粉體或處理量j -4- iS $七0國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ;•裝·- . 经濟S智慧料產局員工消f合作社印製 五 發明說明(2 時,粒子狀材料將滯留上方 ^ , a & | 万而有不勿均勻賦予加壓體厭 ‘力·男斷中之粉碎能量之鬥 π 、,旧二 杈备 •^粒子狀材料時亦相同。 里里少 故僅依靠加壓體之轉動處理粒子狀材料者,即 與财述回旋流之關係等,將各種粒子狀材料之動態控慮 最適狀恐(均勻分散),實施粉碎等各種處理。 ' 本發明係-掃上述課題而創作,使外殼内動態控制 之粒子狀材料不致滯留於外殼内之一部分,而使其移動於 外殼内壁全面,可均勻供給因離心力之加壓體 , 斷力寺能量’而能實施良好狀態之處理。而提供能控:“: 子狀材料I動怨,均勻分散粒子狀材料並將加壓體壓縮 戒剪斷力等能量均句供给該粒子狀材料,有效實施粉碎 多種處理能適正化之外殼内環境。 丨發明之概述] 爲解決上述課題本發明採用之技術方法,係將被連動 技於旋轉軸之旋轉體裝於形成於粒子狀材料處理室之外 内,將保持一定間隔相對分離之多數加壓體支撑於該旋 雒端緣側,由前述旋轉體之轉動帶動旋轉前述加壓體加 计汶内惻面以處理粒子狀材料之構造,其特徵爲於前述 $體回旋附帶形成之圓筒狀區,形成未延設前述旋轉軸 :>一空間區,使其能在該圓筒狀區内生成前述粒子狀材料 四旋流動中心。 本發明採用之其他技術方法,係將形成於粒子狀材料處 £:之外殼與被設於該外殼内之旋轉體,分別連動連接 力 等 連 壓 加 等 於 ("先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •5· '网0家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 487600 A7 :.^:^¾IrM)財產局8工消費合作社印製 五、發明說明(3 ) 旋轉軸使其能轉動構成,並將保持一定間隔相對分離之多 數加壓體支撑於該旋轉體端緣側,由前述旋轉體之轉動^ 動旋轉前述加壓體加壓外殼内側面以處理粒子狀材料+構 造,其特徵爲以不同旋轉速度向同方向旋轉控制前述外殼 之轉動與旋轉體之轉動以構成。 < 本發明採用之其他技術方法,係將形成於粒子狀材料處 理1:(外殼與被設於該外殼内之旋轉體,分別連動連接於 旋轉軸使其能轉動構成,並將保持一定間隔相對分離之多 數加壓體支撑於該旋轉體端緣側,由前述旋轉體之轉動帶 動旋轉前述加壓體加壓外殼内側面以處理粒子狀材料之構 造’其特徵爲使該裝置之旋轉轴心橫向以單挑狀將前述加 昼體支撑於可述旋轉體,隨前述加壓體之回旋形成橫 筒狀區以構成。 Μ iA發明之最佳形熊: 以下依較佳實施形態例示之粒子狀材料處理裝置,詳細 説明本發明之實施形態。 第丨圖〜第3圖中,被裝在架台1〇1上之粒子狀材料處理裝 直丨,包括:殼體2,被裝在架台1〇1 :及外殼3,形成粒 卞狀忖料處理室。將主旋轉軸2〇1與内裝該主旋轉軸Μ〗之 $態嵌插之副旋轉軸202成爲—體嵌裝於殼體2,構成所謂 々層《旋轉轴機構。將供給軸封氣體G (連續處理時兼載氣) 辽供氣管205與連續供給被處理物時之供料管2〇6,分別以 嗲層管構造狀態配管於前述主旋轉軸2〇1内部。 刀 各旋轉軸201與202—端側,裝設被連動連接於未圖示驅 , * 裝--------訂·--------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -6- Λ7 --——---___〆 五、發明說明(4 ) 動機構之皮帶盤203與2〇4,構成可分別獨立旋轉之構造。 皮帶盤203與204之旋轉控制,係由未圖示之控制裝置實旅 冋一方向或反方向個別控制及/或同步於任何一方之旋轉 速度之旋轉控制。此同步旋轉控制之旋轉軸2〇1與2〇2之旋 轉比率係將預先按被處理物種類、處理目的設定之旋轉比 率記憶於一定記憶機構,使其能任意選擇。反方向之旋轉 比率係延遲主旋轉軸20 1 (後述之旋轉體4 )之旋轉,加速副 旋轉軸202(後述之外殼3)之旋轉之約1:5爲大致標準値, 又同一方向之旋轉比率係加速主旋轉軸2〇1之旋轉,延遲 副旋轉軸202之旋轉之各約4:1〜18:1爲大致標準値,按每 被處理物對應處理時間之變異,將經常之旋轉速度增減變 化以一方塊(1次分處理)設定。 一方面、籍鑲套2 1 1以螺栓2 1 2將構成前述外殼3之圓筒 狀容器裝於副旋轉軸202之另一端側。又以螺帽2〇9將被裝 於前述容器3 0 1内之旋轉體4中心部可嵌裝於前述主旋轉轴 2() 1之另一端側。該旋轉體4形成從其中心部延伸與加墨體 5 t數同數量之臂部形狀。而前述容器301與前述旋轉體4 ♦別連動於旋轉軸202與201之轉動可旋轉構成。2〇7係細 农蓋,2 1 0係將被供給供料管206之被處理物供給外殼3内 4之供給口 :又由供氣管2 0 5供給之轴封氣體G,藉主旋錄 軸20 1及貫穿設於被嵌合於主旋轉軸20 1之鑲套? 1 3之多數 洪給路,從軸封部208排出外部。又驅動源馬達雖亦可個 別裝於各旋轉軸20 1、202,惟當亦可用1個馬達實施前述 步旋轉控制。 又笈义…七0同家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先聞讀背面之江意事頊再填寫本頁) 「裝· 訂: 48/ϋυυ Λ7
I I 訂 I Φ 請 閱 讀 背 © 之 注 意 事 填 · ί裳
頁I Λ7 B7 五、 發明說明(6 上。 又各加壓體5包括:去a 1 t 轉軸心平行且等 鉍王旋轉軸2〇1之旋 寺距離垃置;4個粉碎環5〇1, 以等間隔配設之環體:及^ η 社々, 及…衣503 ’比粉碎環5(η小徑爲保 持。粉砰環501之間隔籍裝;^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 述粉碎環n..,受離、、力传Γ太Γ „ ,, , s. 义離〜力使其本身旋轉碰接前述 H 環5()1可轉動構成’惟並不 :卜而以不轉動之構造或半圓形等任意形狀亦可, 要加壓體5本身對旋轉體4旋轉自如或搖動自如被支撑,㈣碰_述圓筒狀内壁3〇2,將被處理物 /、:. 土”〇2〈間,而能將因加壓體之壓縮力或剪斷 粉^能量賦予該被處理物即可。又裝配之加壓體; 粉碎環5 0 1之數量等,介丁 n/v , m 必然增減即可 ’不限於如圖示者,當依裝置大 第3圖係前述粉碎環5〇1之配置構造。如前述在鄰設粉碎 =()1 01間,藉裝前述滑環503使其恰好成爲分開粉 度2倍之間隔,並在一加昼體5之鄭接粉碎環训 •M) 1間對應之位置,分別配置其他2個加壓體5、5之粉 W)1、刈丨,加以設定:即若以靠第3圖⑷所示加壓 义支撑板40,(圖中左端)配置之粉碎環5(h爲基準,則在 賴,粉碎環5〇1厚度分位置配置第3圖(b)所示加她 足粉峥% 3〇 1,同樣在僅錯開2個粉碎環5〇 1厚度分位置 ^圈(C)所示加壓體5之粉碎環501,以其回旋時對^ d問狀内璧302面之各加壓體5之粉碎環5〇1之回旋執道 圓隨夾 力或 小 碎 碎 配 述 成 ----·------^--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) #· •9- 4 &召同家標準(CNS)A4規格(210 X 297 公釐)
五、發明說明( 相垃狀態,成爲分散加壓之構造。 入此日^粉碎環501分散加壓之構造,係使不被第3圖⑷所示 粕碎% 50 1之回旋加壓之前述圓筒狀内壁3〇2面域爲,以第 3圖(b)與(c)所示粉碎環5〇1加壓之配置關係、即對前述圓 筒狀内壁302面之各加壓體5之各粉碎環5〇丨依序加壓複合 又加壓關係,形成連續之加壓面域,以消除粉碎環5〇丨未 加壓又面域,任何面域均以旋轉體4旋轉丨轉間至少丨個粉 碎環501加壓之配置關係構成。故粉碎環5〇ι之厚度及鄰接 粉碎環50 1間之間隔並不限於上述圖示者。又粉碎環5〇 1之 形狀除本圖示者外,可採用前述特開平6-79 192號公報(美 國專利第5373996號)所揭示之各種形狀。 又本貫施例之粒子狀材料處理裝置1,係舉橫置式者, 惟以g三者亦可,此時將前述皮帶盤2〇3、2〇4惻配置下 方,並將前述外殼3側配置上方。此時被處理物受加壓體5 離心力(作用向上方前述前蓋3〇4側移動後,爲了使其能 順楊向河迷2間區6移動,將前述保持板3〇3與内壁302會 合部(轉角部)加工成彎曲狀等爲宜。 如説明構成之本發明之實施例形態,係將被處理物供給 前述外殼3内’惟本發明之外殼3内設置前述空間區6,被 4汊物供給琢2間區6,無乾式、濕式之區別,又間歇處 理爲當然外亦可提供連續處理之裝置i。 即連續粉碎處理被處理物時,可從運轉中粒子狀材料處 理装直1之前述供料管206,對受前述加壓體5附帶產生之 離心力及加壓體5回旋流影響少之空間區6中心部,連續或 ~ 1 0 - 9 關家標準(CNS)A-l (210 ) -I---.---------裝·-------訂·--------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一洽¥智11._)^產局_工消費合作社印製 叫/600 Λ7
,rT Η 社 五、發明說明(8 ) 間歇供給被處理物,該被處理物得均勻供給外殼3内部, 受加壓體5之離心力作用,瞬間均勻分散至内壁3〇2全面。 又間歇處理時拆卸前述前蓋3〇4,從保持板3〇3開口部將被 處理物投入前述空間區6即可,被處理物極易投入,尤其 私置1爲&置者能均勻投入内壁3〇2,被投入之該被處理物 在裝上前述前蓋3〇4後,由前述粒子狀材料處理裝置丨之運 轉目坪間均勻被分散至前述圓筒狀内壁302全面,並由加壓 體5之回旋(攪拌作用),形成沿圓筒狀内壁3〇2面之回旋 流。 如此供給之被處理物,受加壓體5旋轉之離心力作用, 由被加壓於前述圓筒狀内壁302面之加壓體5之壓縮力·剪 歐力粉砰處理。即加壓體5轉動時粉碎環5〇丨受離心力向外 周方向搖動’將粉碎環5〇1外周面壓在圓筒狀内壁3〇2,雖 微少惟邊滑動邊沿前述内壁3〇2做與主旋轉軸2〇丨之旋轉反 万向足旋轉運動。由此内壁3〇2面與粉碎環5〇丨相擦,夾入 此間 < 被處理物,被處理物受粉碎環5 0 1之壓縮力·剪 ‘·:『力等粉砰能而被粉碎。此時由於加壓體5之回旋形成之 」4欢區’形成如述空間區$ ’故被粉碎變小之微粒子因 ’「用於其之離心力亦變小,致通過鄰接加壓體$之間隙及 件環5 0 1之間隙,移動至受加壓體5回旋影響少之空 κ 6 °故在外殼3内由於外殼3内附帶產生之被處理物回 父上與該被處理物之處理狀況作用於各被處理物(各個粉 #)足離心力差之共同作用,保持中心部生成之被處理物 乂 乂汁循環流動狀態,產生被處理物之均句分散與均勻供 丨.---^---------------訂·--------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
^δ/ουο A? 五、發明說明(9 ) 給粉碎能等平衡良好之最佳循環環境,能對被處理物供給 ^碎% :)01又均勻粉碎能。因此能有效活用前述圓筒狀 區,例如裝置丨爲豎立僅由回旋處理時,被處理物亦受由 加壓體5回旋附帶離心力之作用移動至前述前蓋3〇4側,惟 被處理物並不滯留於外殼3内一部分,順暢移動至前述空 間區6 ’可使其重複均勻分散移動至外殼内壁302面全面, 说重·设將粉碎環50 1之粉碎能均勻供給被處理物,以均勻 为政最佳穩定狀態控制被處理物之動態,可獲得適宜之外 說内環境。 炫是明旋轉體4之轉動加上轉動外殼3運轉粒子狀材料處 理裝置1時之旋轉控制方法。此時被處理物在前述均勻分 政Η均勻供給粉碎能之平衡良好之最佳外殼3内環境下’ 更加受到因前述外殼3轉動之離心力作用之共同作用: 以不同旋轉速度向同一方向旋轉控制旋轉體4之轉動與 ⑴述外d j之轉動時’雖依被處理物之物性、處理目的之 不同’例如將前述外殼3之旋轉速度設定於〇.5 m/sec〜1二 nv s e c範圍内,將前述旋轉體4之旋轉速度設定於 m wc〜2 5 m/Sec範圍内,實施將前述旋轉體4之旋轉速度設 七4比前述外殼3之旋轉速度爲高速之旋轉控制。 因此被處理物與旋轉體4之離心力作用一同受外殼3之離 心力作用。故僅爲了被處理物之動態控制(使動態良好), 择々提鬲旋轉體4之旋轉數至需要以上。更因受同一方向 四把’致被夾進前述内壁3〇2面與粉碎環5〇丨間時,容易防 止玫處理物之錯亂或起浪,或空氣氣泡增多,減少磨潰狀 -12- • I.---Ί I-----jm-裝---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂丨 # '.^^〗智^.^產局_、工消費合作社印製 τ 、f卜口问囚家標準(CI\’S)A-i規格(210 X 297公釐) ^ / yj\j\j ^ / yj\j\j 凌-¾¾、工消&、合作社irj. A7 ---------B7 —______—— 五、發明說明(1〇 ) 〜此均勻壓緊供給壓縮力·剪斷力之粉碎能之環保。而 ^由ί粒子狀材料處理裝置1爲橫向配置,能以更佳之穩 走狀心乙制被處理物之動態,可將更能均勻分散化之粉碎 環501之粉碎能重複供給被處理物,尤其以濕式處理比重 J之粘或處理量少之粒子狀材料時,亦不致於將被處理 物滯留於外殼3内一部分之情形。 、不同旋轉速度向同一方向旋轉控制前述外殼3之轉 1力入旋#寸組4之轉動之方法,運轉粒子狀材料處理裝置i 時’與上述相反、實施將前述外殼3之旋轉速度設定爲比 钉述捉轉4之旋轉速度爲高速之旋轉控制。此時旋轉體4 又旋轉速度爲,比不旋轉前述外殼3者,以低速旋轉控制 ' * 口此了 ’肖除例如將必要以上粉碎能供給被處理物, 或擾亂被處理物之回旋流等,起因I轉速度過大之問題, 而可保持循環流動狀態。 收上述外奴3與旋轉體4同—方向或反方向之旋轉控制, 4以一疋對應比率分別轉動操作前述外殼3與前述旋轉體4 *以是兩者轉動同步之旋轉控制設定,又對應各種被處 4扨爻物性及處理目的,以〜定記憶機構記憶此等旋轉比 卡、例如可連續實施間歇處理時,在投入被處理物之過 ,泛外殼3與旋轉體4上昇至任音旋轉速度(即相對逯度 ()),在處理過程將旋轉體4變化至任意旋轉速度後,使 兩者同步增減旋轉,在排扭過程減速或停止外殼3之旋 轉’與旋轉體4之(低速)旋轉_同,隨需要由高轉子接頭 之吸力排泄之一連串步驟爲1塊記憶。如此不僅含粉粒 ------Ί3- ;”士 ㈣家鮮(cns)m· (2ΗΓΓ^— -y,公釐) I J . --------訂---------' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4^/600
• i局3工消货合作社印製 五、發明說明(11 ) 骨豆材料足粉碎處理,不同2種以上粉粒體材料之混合粉碎 或均勻分散、粉粒體材料與液體之混合分散、或顏料塗料 等於漿狀物質等均勾分散處理、各種粒子狀材料之各種處 理知作,從此等設足選擇任意者即可,可防止操作失誤 等,有效實施穩定之產品調製。 此外構成前述各加壓體5之前述粉碎環5〇丨之配置構造, 因一加壓體5之粉碎環501與其他加壓體5之粉碎環5〇1之回 旋軌迴,分別對前述内壁面3〇2相位狀態分散加壓之構造 表配’故能如前述被處理物(被粉碎成小之微粒子)通過鄰 接加壓體5之間隙及鄰接粉碎環5〇丨之間隙,順利移動至受 加壓體5回旋影響少之空間區6。 而且使各粉碎環5 〇 1之回旋軌道以相位狀態分散加壓之 構造’係以一加壓體5之粉碎環5〇丨加壓之面域與另一加壓 體5足粉碎環50 1加壓之面域之複合加壓關係,形成對前述 内璧面3 02連續之加壓面域。換言之、構成另一加壓體5之 粉砰環’ 0 1必須加壓一加壓體5之粉碎環5 〇丨未加壓之前述 内望面302之構造。故能實施第3圖(a)所示粉碎環501之回 旋執迢與第3圖(b)所示粉碎環5〇1之回旋軌道與第3圖(c)所 士粉坪環5 〇 1之回旋軌道,分別不重疊之有效加壓,如將 此粉碎環5〇 1全部以密接狀配設於一支支軸5〇2,能在圓 向狀内壁3全域由粉碎環5 〇 1進行加壓。又因被處理物能從 前述各粉碎環5〇1、501之間移動於前述空間區6,故豎立 i r6 了使被處理物在容器3内回旋,不必使旋轉體4之 旋轉速度更爲高速將該被處理物移動至上方之必要,能在 __ -14- 木ϋ丨54’卜同同家標準(CNS)A4規格(2】〇 x 297公釐) ϋ· I I H τβ I ϋ ϋ n ϋ I · H ϋ n I ϋ H ϋ 一I n I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ I - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 487600 A7 B7 五、發明說明(12 W逑外级3内對被處理物有效供粉碎能。 •又汉各加壓體5之粉碎環5〇丨數為丨,構成將其等回旋軌 災相位狀怨分散加壓之構造,或使一加壓體5之粉碎環Μ 1 又厚度il酉己置間㉟各不相同等亦可,又加壓體5之配 亦可任意設定。 &如此被處理之粉粒體材料,連續處理時藉前述高轉子接 項306排泄,間歇處理時拆卸前述排泄用栓(排泄口)如7排 ;世〇 乾式連、續粉砰處理時,藉供氣管205從供給口 20丨連績將 我氣供給空間區6,該載氣隨著加壓體5之回旋於前述 U區6内形成回旋流(渦流)向旋轉軸心方向(前蓋3⑽方向 =動’藉高轉子接頭3〇6經連接於此之前述配管排泄 =。前述被粉碎移動至空間區6之微粒子與前述載氣渦 丨过同被排泄系外,以被連接於前述配管之袋瀘器等氣· +離裝置(省略圖示)與載氣分_ •回收。又隨 飞 々機構亦可。 迷接 叫歇處理時以停止外殼3轉動狀態,僅以 1.、 、 , J 一 m / s e c 以 &逑旋轉前述旋轉體4,自動排泄外殼3内被虑” ^ ‘· ·、亦有因處理後被處理物物性而不易排泄之 „ \ h形,此 。時由外邵吸收排泄,或拆卸前蓋304與保持 1宏 -,、…, 、又3〇3,刮 空 系 流 吸 下 此 情 i:——l·------φ Μ--------訂---------Λφ. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 可 出 工消費合作ΰ,」η}· 各發明為使其能在該圓筒狀區内生成前迷粒子" iJ 反中心’將無前述旋轉軸2〇 1延設等空間區6 才枓 ::Γ迷加喽體5之回旋形成之圓筒狀區,並由 圯成於 之 隨 離 〜丐士闷國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 487600 A? -;s;v,^ru.)^4:局P、工消赀合作社印製 五、發明說明(13 心力作用與外殼3内回旋流保持於 、ft 1亍之循環流重妒令 用之協同作用,以控制粒子狀材料 理,連續處理亦以實施。且不僅間歇處 又因構成使前述外殼3亦可轉動,以不同旋轉速度向同 方向旋轉控制外殼3之轉動與旋轉體4之轉動,即能個別調 整加壓體5與外殼3之各離心力作用,且可將外殼3内粒子 狀材料爲同方向良好之循環流動狀態回旋流控制其動態。 …又此種粒子狀材料處理裝置1爲橫向以單挑狀將前述加 2 支撑於A述旋轉體,隨前述加壓體之回旋形成橫向圓 筒狀區’即可對外殼内壁3Q2面均勾分散粒子狀材料供給 加壓體5離心力作用,且可構成能有效利用隨加壓體5之回 k 成之圓闾狀區,而可形成空間區6。 故即使以乾式或濕式處理外殼3内動態控制困難之粒子 欢材料時’亦不致使該粒子狀材料滯留於外殼3内一部 使其移動至外殼3内壁全面,能以依離心力之加壓體5 \ i!纟泪力或男斷力等能均勻供給,可實旅良好狀恐 < 處 让’以控制粒子狀材料之動態,均勻分散粒子狀材料,並 將加璺體5之壓縮力或剪斷力等能均勻供給該粒子狀材料 (得以平衡之最佳穩定狀態控制,而能達成殼體6内環續 :二 4 ΐ 化。 丨凌業上之可利用性] 浓衣發明,不致使該粒子狀材料滯留於外殼内一部分, 芬動至外殼3内壁全面,能以依離心力之加壓縮力或剪_ 々f能均勻供給,有用於以乾式或濕式處理粒子狀材料。 -1 6 - 闷网家i?icXS)A4規格(210 X 297 ^ «) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 487600 Λ7 B7 -rVv Μ -¾ 五、發明說明(14 圖式之簡單説明: 第1圖係粒子狀材料處理裝置之整體斷面圖。 第2圖係拆卸粒子狀材料處理裝置前蓋狀態惻面圖 第3圖係加壓體之粉碎環配設狀態説明圖。 圖號説明· 1 ...粒子狀材料處理裝置 2 …殼體(Housing) 3 ...外殼(Casing) 4 ...旋轉體 5 ...加壓體 6 ... 2間區 101.. .架台 201.. .主旋轉軸 202.. .副旋轉軸 203、204...皮帶盤 2 0 5 ...供氣管 2 06...供料管 2 0 7 ...軸承蓋 2 0 8 ...軸封部 209.. .螺帽 2 1 0...供給口 21 1、213 ...鑲套 2 1 2、3 0 5 ...螺栓 3 () 1 ...容器 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) # Ιΐ 社 17- V:··:,:::、义家標準(CNS)A4 規格(2]〇χ297 公釐) 487600 Λ7 _ 五、發明說明(15 ) 302.·.圓筒狀(外殼)内壁 303.. .保持板 304.. .前蓋 306.. .高轉子接頭 307· ·.排泄用栓(排泄口) 401.. .支撑板 502.. .支軸 501.. .粉碎環 503.. .滑環 I---·---------------訂·-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3.)时產局g'工消費合作社印製 8 卜ϋ i 3 $七闷3家標準(Cns)A4規格(21ϋ X 297公Ϊ )