經-鄯智慧时產局員工消費合作社印製 469508 五、發明說明（]) [發明的背景] 本發明係有關將例如光阻液般之塗佈液塗佈在液晶顯 不裝置（LCD)基板和半導體基板的表面上之塗佈處理裝置 〇 就液晶顯示裝置的製造中，係將光阻液塗佈在玻璃製 的長方形LCD基板以形成光阻膜，再對應電路圊形進行光 阻膜的曝光’並將其進行顯像處理，即藉由所謂的光姓法 技術以形成電路圖形。以往皆係使用其備份為實施諸如此 類一連步驟之多數處理單元的光阻塗佈顯像處理系統。 就此類光阻塗佈顯像處理系統中之塗佈光阻液的步驟 中，為提高光阻的定著性，將長方形的]LCD基板（以下稱 為基板）置於黏著處理單元經疏水化處理（HMDS處理卜再 Μ冷卻單元冷卻後’再搬入光阻塗佈單元。 光阻塗佈處理單元中，基板經保持在旋轉夾盤上的狀 態下一面旋轉，一面由其上方所設置的喷嘴供給基板的表 面光阻液，並經由基板的旋轉所產生的離心力將光阻液擴 散’因此，在基板的表面全體形成光阻膜。 經該光阻液所塗佈處理後的基板，經端面處理單元（ 除緣器）將周緣多餘的光阻液除去後，搬入加熱處理單元 進行預焙處理，經冷卻單元冷卻，再搬送至曝光裴置並於 該處進行既定圖形的曝光處理，之後經顯像處理，實施後 培處理，以形成既定的光阻圖形。 就上述光阻塗佈單元而言，如第7圖中所示，將LCD 基板G載置在旋轉夾盤1〇丨的狀態下，不使該等基板g及 本紙張尺度適用中囷囡家標準（CNS)A4規格 (21〇 297公爱） ~-^"閱讀背面之:-1急事項再填"本頁) ------t 訂------- 線， -I ϋ I · 4 五、發明說明（2 ) 轉夾盤1G1旋轉而由光阻吐出嗔嘴】Q2將光阻液吐出在基板 G的中心。接著’於由下方包圍旋轉炎盤101的㈣罩杯1〇3 上覆蓋有蓋體〗05,同時安裝有外蓋104而將基板G與碇轉 罩杯103封入蓋趙】05内。接著，使基板〇與旋轉失盤⑼ 同時旋轉，使光阻液藉由基板G的旋轉力和離心力而由基 板G的中心、向周緣擴散，以在基板G上形成光阻膜，同時 勻整該光阻膜的膜厚。 因此，可以將基板G周圍的空氣封閉在旋轉罩杯1〇3 和盍體105内，而不致產生帶給基板〇周圍處理惡影響的 氣流，故可以形成均勻的光阻膜之膜厚。同時，可以防止 旋轉的基板G之多餘的光阻液因離心力由旋轉罩杯丨向 外部飛散。又，參照符號丨〇6，係顯示為調堅基板G周邊 的膜厚，而將外氣導入罩杯1 〇3内用以調整基板G外惻氣 流之整流板。 又，最近將如上述之光阻瞑厚得以均勻的處理，同時 由降低製造成本等的觀點而言’希望能減少光阻消費量， 換言之，削減對各基板之光阻液的吐出量。 其中減少光阻消費量的一種方法，曾檢討—面將基板 進仃旋轉一面吐出光阻液，所謂之動態塗佈方式，但由基 板<3,中央正上方所配置之光阻吐出喷嘴1〇2所吐出的光阻 ，夜向罩杯103的外部飛散，而其固化使微粒發生，形成缺 陷的原因。 [發明的概要] 本發明係有鑒於諸如此類事情而完成者，提供一種塗
五、 發明說明（ 經濟部智慧財產局肖工消費合作社印製 佈處理裝置，不但可以將塗佈膜形成均句的膜厚，即使採 用動態㈣方式情形，亦可以確實的防止由塗佈開始時以 至完成時塗佈液的飛散為其目的。 為解決上述課題，根據本發明的第丨覲點，所提供一 種塗佈處理裝置，其特徵在於：具備有：上部具有開;;部 用以收容基板之處理容器：在處理容器内使基板旋轉之基 板旋轉裝置：安裝在處理容器並具有開口之環狀蓋體；通 過環狀蓋想的開口將塗佈液吐出在基板之塗佈液吐出喷嘴 ’閉塞環狀蓋體之開D用的小蓋；搬送小蓋並將小蓋安裝 在環狀蓋體之開Π的小蓋搬送裝置：使小蓋吸著在環狀蓋 體開口之外周部用的吸著裝置。 基於本發明之該構成，由於包含具有開口之環狀蓋體 和將其閉塞用之小蓋，故可以通過環狀蓋體的開口由塗佈 液吐出喷嘴將塗佈液吐出在基板，並在塗佈液吐出完成後 可以將小蓋安裝在環狀蓋體的開口勻整膜厚。因此，即使 塗佈液吐出對基板進行旋轉，採用所謂動態塗佈方式’在 塗佈液吐出時基於環狀的蓋體可以防止塗佈液向外部飛散 ，在塗佈液吐出後，由於環狀的蓋體和小蓋，可以防止塗 佈液向外部的飛散，由塗佈開始時以至完成時塗佈液的飛 散可以確貫的加以防止。 又，根據本發明的第2覲點’係提供一種塗佈處理裝 置，其特徵在於具備有上部具有開口部用以收容基板之處 理谷器，在處理容器内使基板旋轉之基板旋轉裝置；安裝 在處理容器並具有開口之環狀蓋體，通過環狀蓋體的 本纸張尺度適用中s國家標準（CNS)A4規格（2〗〇 X 297公：g ) I . 乂--------訂---------線-J {請先W讀背面之;i意事項再填"本頁) 6 PI 濟 部 智. .¾ 財 產 局 Μ 費. 合 作 社- 印 製 五、發明說明（4 ) 將塗佈液吐出在基板之塗佈液吐出喷嘴。 基於本發明之該構成，由於具備有具有開口之環狀的 蓋體’即使在塗佈液吐出時基板進行旋轉，採用所謂動能 塗佈方式，在塗佈液吐出時由於環狀的蓋體可以防止塗伟 液對外部的飛散。 又’根據本發明的第3觀點，係提供一種塗佈處理方 法’其特徵在於：具備有在上部具有開口部之處理容器内 ’用以水平收容基板的步驟；將具有開口之環狀的蓋體安 裝在處理容器上部的步驟；一面使基板進行旋轉，一面通 過環狀蓋體的開口將塗佈液供給在基板的步驟。 基於本發明之該構成’由於具備有具有開口之環狀的 蓋體’即使在塗佈液吐出時基板進行旋轉，採用所謂動態 塗佈方式，在塗佈液吐出時由於環狀的蓋體亦可以防止落 佈液對外部的飛散。 [發明的實施形態] 茲參照添附圖面，將有關本發明的實施形態詳細的説 明如下。 第1圖係顯示本發明所適用之LCD基板的光阻塗佈. 顯像處理系統平面圖。 該塗佈.顯像處理系統，係具備有：用以載置收容洧 多數基板G之卡匣的卡匣儲留站1 ;具有在基板g實施包含 光阻塗佈及顯像一連處理用之多數處理單元的處理部2及 位在與曝光裝置（圓中未顯示）之間進行基板G之收付用的 界面部3 ’而卡匣儲留站1及界面部3分別經配置在處理部2 裝--- f琦先闇讀背面之:i*事項再填寫本頁) tr· -線 太紙張&度適用中0囷家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 469508 A7 B： 五、發明說明（5 ) 的兩端。 卡匣儲留站1，具備有位在卡匣c和處理部2之間進行 LCD基板G之搬送用的搬送裝置1〇。於是，在卡匣儲留站 1中以進行卡匣c的搬出入a並且’搬送裝置1〇具備沿卡 匣的配列方向所設置之搬送路徨1〇a上可以移動的搬送懸
夤11，經該搬送懸臂11以進行卡匣c和處理部2之間基板G 的搬送45 處理部2係分隔或前段部2a和中段部2b及後段部2c , 並分別在令央具有搬送路徑12、13、u ;位在該等搬送路 從的兩惻配設有各處理單元。又，位在該等之間設置有中 繼部1 5、1 6 » 前段部2a具備有沿搬送路徑丨2移動可能的主搬送裝置 17 :位在搬送路徑1 2的一方側，配置有2組的洗淨單元 (SCR)21 a、21 b ;而位在搬送路徑I 2的另一方側，則配置 有紫外線照射單元（UV)和冷卻單元（COL)呈2段重曼而成 的處理區塊25，加熱處理單元（HP)呈2段重疊而成之處理 區塊26及冷卻單元（COL)呈2段重疊而成之處理區塊27。 又，中段部2b具備有沿搬送路徑13移動可能的主搬送 裝置18 ;位在搬送路徑丨3的一方側，設置有形成一體的光 阻塗佈處理單元（CT)22及用以除去基板G周緣部之光阻液 之周緣光阻除去單元（ER)23 ;而位在搬送路徑13的另一方 惻，則配置有加熱處理單元（HP)呈2段重疊而成之處理區 塊28，加熱處理單元（HP)和冷卻處理單元（COL)呈上下重 疊而成之處理區塊29以及黏著處理單元（AD)和冷卻單元 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公釐> (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印*'1取
Ail — — — — —— 1^ ( — — — — — — — — — — — — — — —fill— — —. 經-部智毬时產局錢工消費’合作社印製. A7 B7 五、發明說明（6 ) (C〇L)呈上下重疊而成之處理區境30。 又’後段部2C具備有沿搬送路徑14移動可能的主搬 送裝置丨9 :位在搬送路徑14的一方側，配置有3組之顯像 處理單元（DEV)24a、24b、24c，而位在搬送路徑14的另 一方側’則配置有加熱處理單元（HP)呈2段重疊而成之處 理區塊3 1以及皆為加熱處理單元（HP)和冷卻處理單元 (COL)呈上下重疊而成之處理區塊33、33。 又，處理部2係隔著搬送路徑形成在一方惻僅配置有 類似洗淨處理單元2 la、光阻處理單元22、顯像處理單元24a 之旋轉系單元’而位在另一方側則僅配置加熱處理單元和 冷卻處理等之熱系處理單元的構造狀態。 又’位在中繼部15、16之旋轉系單元配置側的部份， 配置有藥液供給單元34，更設置有進行主搬送裝置之維修 用的空間35。 主搬送裝置17、18、19係分別具備有水平面内2方向 之X軸驅動裝置、Y軸驅動裝置以及垂直方向之2軸驅動裝 置’更具備有以Z軸為中心旋轉的旋轉驅動裝置，並分別 具有支持基板G之旋轉臂na、i8a、19a。 上述主搬送裝置17具備有位在與搬送裝置1〇懸臂〗〗之 間進行基板G的收付，同時對前段部；^各處理箪元之基板 G的搬入’搬出以及位在與中繼部丨5之間進行基板〇之收 付的機能。又，主搬送裝置丨8具備有位與中繼部丨5之間退 行基板G的收付，同時對中段部2b各處理單元之基板〇的 搬入•搬出以及位與中繼部丨6之間進行基板G之收付的機
A7 469508 B7___ 五、發明說明（7 ) 能。又，主搬送裝置19具備有位與中繼部16之間進行基板 G的收付’同時對後段部2C各處理單元之基板G的搬入· 搬出以及與界面部3之間進行基板G之收付的機能。又， 中繼部亦具有作為冷卻盤的機能。 界面部3具備有與處理部2之間在收付基板時一時保持 基板之伸展台36，更在其兩侧設置配置有缓衝卡匣的2组 緩衝台37及該等與曝光裝置（圖中未顯示）之間進杆基板4 搬出入的搬送裝置38。搬送裝置38具備有沿伸展台36及緩 衝站37的配列方向所設置之搬送路徑38&上移動可能的搬 送懸臂39，經該搬送懸臂39以進行處理部2和曝光裝置之 間基板G的搬送》 因此經由將各處理單元集約並一體化，可以達成省空 間化及處理的效率化。 因而於所構成之光阻塗佈•顯像處理系統中，卡匣C 内之基板G經搬送至處理部2，在處理部2中首先在前段部 2a的處理區塊25之紫外線照射單元（UV)進行表面改質、 洗淨處理，經冷卻處理單元（COL >冷卻處理後，在洗淨單 元（SCR)2丨a、21 b實施洗滌器洗淨，再經處理區塊26中任1 组的加熱處理單元（HP)加熱乾燥處理後，在處理區塊27中 任1組的冷卻單元（COL)進行冷卻處理。 之後，基板G經搬送至中段部2b，為提高光阻的定著 性’置於處理區塊30上段之黏著處理單元（AD)進行疏水 化處理（HMDS處理）.並於下段冷卻處理單元（COL)冷卻 後’於光阻塗佈處理單元（CT)22進行塗佈，再於周緣光阻 本紙張尺度適闬中國國家標準（CNS)A4規格（210 κ 297公:Ϊ ) <請先wff背面之iit事碩再填寫本頁) 乂：--------訂 i 經濟部智慧財產局異工消費合作社印製 •線 ‘ 1--------I--------------- 10 A7 B7 '經濟都^-法財產局ΜX消'f合作收印製 五、發明說明（8 ) 除去單元（ER)23將基板G周緣多餘的光阻液除去。之後， 基板G在中段部2b中之加熱處理單元（HP)中的一組進行預 培處理，再經處理區塊29或30下段的冷卻單元（c〇l):合卻 處理。 之後，基板G由中繼部16置於主搬送裝置19經由界面 部3搬送至曝光裝置並於該處進行既定圖形的藤光處理。 接著，基板G再經由界靣部3搬入，針對需要經後攻部2 c 中的處理區塊31、32、33中任1組的加熱處理單元（Hp)實 施後曝光供悔處理後，再於顯像處理單元（DEV)24a、24b 、24c中之任1組進行顯像處理，以形成既定的電路圖形。 顯像處理後的基板G，置於後段部2c中任1組的加熱處理 單元（HP)經實施後焙處理後，再置於任1組的冷卻單元 (COL)進行冷卻，經主搬送裝置19、】8、17及搬送裝置1〇 而收容於卡匣儲留站1上之既定的卡匣中。 接著，針對有關本發明之一實施形態的光阻塗佈處理 單元（CT)22加以說明。第2及3圖係有關本發明之一實施形 態的光阻塗佈處理單元模式斷面圖：第2圓係顯示安裝小 蓋前的狀態圖；第3圖則係顯示安裝小蓋後的狀態圖。 如第2圖中所示，係於光阻塗佈處理單元22設置有自 由旋轉利用驅動裝置40所旋轉的旋轉失盤4 1，而在該旋轉 夾盤4 1上，形成LCD基板G —面保持其表面水平一面進行 吸著載置的狀態。並且，設置有與該旋轉失盤41 一併旋轉 並由下方包圍旋轉失盤41及基板G之有底圓筒形狀的旋轉 罩杯（處理容器）42。 -------------裝-------1訂------- —線 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公爱） 11 Λ：
469508 經濟部智慧財產局g工消費合作社印5农 五、發明說明（9 ) 位在該旋轉罩杯42的外周側，配置有覆蓋旋轉罩杯42 的外周側和下方側之中空環上的引流杯。該引流杯44在光 阻塗佈時形成可以將所飛散的光阻液導入下方。 位在旋轉罩杯42的上部開口，經圊中未顯示的搬送懸 臂，形成在中央部安裝具有開口 46之環狀的蓋體45。該環 狀的蓋體45，當旋轉罩杯42與基板G—併旋轉時，形成與 旋轉罩杯42同時旋轉的狀態 位在旋轉罩杯42的上方，經圖中未顯示的安裝懸臂， 开> 成安裝有外蓋60的狀態’而位在該外蓋之上立設有支 持柱50及支持柱54。 由支持柱50，先端具有供給基板g光阻液和容劑用之 喷頭49的懸臂48由支持柱50延伸而出狀態^位在該喷頭49 ，設置有由吐出光阻液用之光阻液吐出噴嘴51和吐出豨釋 劑等溶劑用之溶劑吐出喷嘴52所構成的多系統喷嘴單元。 又，懸臂48利用支柱内的裝置（圖中未顯示）構成可以 搖動及升降，當光阻液和溶劑吐出時，光阻液吐出噴嘴5 ^ 和溶劑吐出噴嘴52係在基板G的上方，且在環狀蓋體45之 開口 46的上方位置，而一方面當光阻液等吐出後，如第3 圊中所示，形成移動至退避位置的狀態。 位在4 %狀蓋趙4 5的間口 4 6，小蓋5 3經真空吸著而構 成安裝的狀態。該小蓋53，利用由支持柱54所延伸而出的 搬送懸臂5 5形成搬送的狀態。該搬送懸臂5 5利用支持枉54 内的裝置（圖中未顯示）構成可以昇降的狀態。當小蓋53經 安裝在開口 46狀態時，小蓋53的突出部53a形成嵌入開口 46 本紙張尺度通用中囿國家標準（CNSM4規格（210x297 ϋ > (u.无'"讀背面之^意事項再填寫本頁>
I- It H ϋ n n n )aJ♦ I» t— ϋ Jp I I * n I J n 1 I ^ n t— tt I 12 A7 B7 五、發明說明（m) 經- 濟 部 智· 慧 財 產 局 消 'f. 合 作 印 Μ 的狀態。 位在該搬送懸臂55的先端’設置有按壓用的圓柱體56( 按壓裝置）；而小蓋53經由該圓性體56的伸縮桿56a、後沐 的連接器57及支持轴58，利用按壓用的圓柱體56形成按壓 的狀,¾。 位在該支持轴58的外周，設置有軸承59，而小蓋經支 持軸58構成旋轉自由的支持狀態=於是，當绽轉罩杯4：!與 基板G—併旋轉時，小蓋53經支持軸58支持的狀態下與環 狀蓋體45形成同時旋轉的狀態。 位在小蓋53的下面，設置有按壓環狀蓋體45開口 46之 外周部一對用以密封的密封構件61 a、61 b。而位在該等一 對的構件61 a、61 b之間，形成有環狀的溝62。位在小蓋5 3 内連通該環狀溝62形成有真空抽取用的小蓋流通路63，而 位在支持軸58内則形成有連通該小蓋内流通路63之支持抽 内流通路64。該支持軸内流通路64經由連接器57及管路65 而與真空幫浦66相連接。因而，利用真空幫浦66的驅動， 並經由管路65、連接器57、支持軸内流通路64及小蓋内流 通路63，將環狀溝62抽取真空時，如第3圖中所示、小蓋53 的下面形成呈真空吸著在環狀蓋體45之開口 46的外周部狀 態。又，位在支持軸58的外周圍，對支持軸58則設置有將 小蓋5 3真空密封用之真空密封構件6 7。 位在旋轉罩杯62之底部的外周側部份’圓周上設置有 多數的空氣流出孔68，而位在環狀蓋體45的外周側部份， 則在圓周上設置有多數的空氣流入孔69。由於使旋轉罩杯 ------------ -裝-------訂*-----線 (請先w讀背面之注t事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNSM4規格（2】〇 X 297公发） 13 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^f 46 95 0 8 A7 _ B7 五、發明說明（11 ) 42旋轉’旋轉罩杯42内之空氣離心力的作用，如第2圖及 第3圖中的箭頭所示，而產生由旋轉罩杯42的流出孔68將 空氣流出外部，同時經由蓋體45的流入孔69由外部將空氣 流入的氣流，經由該流出孔68及流入孔69尺寸的變更調整 氣流’而可進行基板G周邊光阻液的乾燥速度的調整以調 整擴散速度之故，不但可以控制基板G周邊光阻膜的暝層 ，同心可以維持膜厚的均勻性。 接著’針對經該所構成的光阻塗佈單元（COT)在基板
G表面形成光阻膜時的動作加以說明 第4圖係顯示lcD 基板的旋轉速度和處理時間及光阻吐出量之間的關係圓形 〇 首先’如第2圖中所示，環狀蓋體45經圖示中未顯示 的搬送懸臂由旋轉罩杯42搬離，同時基板G經圖中未顯示 的搬送懸臂搬送至旋轉夾盤41上真空吸著。 環狀蓋體45經圖中未顯示的搬送懸臂安裝在旋轉罩杯 42的上部開口’光阻液吐出噴嘴5 1及溶劑吐出喷嘴5 2係在 基板G的上方’並在環狀蓋體45開口46的上方位置。 接著使用第4圖針對LCD基板的旋轉速度及光阻液吐 出量的經時變化加以說明。第4圖中之橫軸係表示處理時 間軸，縱軸表示旋轉速度及光阻吐出量，而實線顯示旋轉 速度’點線則表示光阻吐出量。 如第4圊中所示’於基板g的旋轉開始前，由溶劑吐 出嗔’ 52將稀釋劑等的 >容劑通過環狀蓋趙45的開口 46吐出 在基板G。接著，基板G及旋轉罩杯42開始旋轉，同時由 本紙張尺度適用中固國家標準<CNS)A4規格（210 X 297公爱） {請先閱讀背面之:it事項再填寫本頁) ----- I I I 訂---I-----線—f I ---------_---I f I I ^----- I__ 14 經濟邡^-慧財產局8工消，免合作社印製. A7 B； 五、發明說明（12 ) 光阻液吐出喷嘴5 1通過環狀蓋體45的開口 46將光阻液吐出 在基板G，在基板G上形成光阻膜。碇轉罩杯42，绽轉開 始後慢慢的將其旋轉的速度提高，在其上昇時將吐出量保 持在一定量A進行光阻液的供給。之後，旋轉罩杯42及基 板G以旋轉速度I500rpm由時刻T3至時刻T6保持一定的時 間’維持該旋轉速度後’將旋轉速度降低以致基板G及碇 轉罩杯42停止"光阻液的吐出量，係由旋轉罩杯42.的旋轉 速度形成一定速度時開始減少。於是，由光阻液的供給開 始以至旋轉罩杯42的旋轉停止為止，光阻液的吐出量階段 的減少成一定量B(第1階段）及一定量C(第2階段），當旋轉 罩杯4 2旋轉停止同時光阻液的吐出停止。該溶劑及光阻液 之吐出時，由於環狀的蓋體4 5而可防止溶劑及光阻液對外 部的飛散。光阻液之吐出停止後，溶劏吐出噴嘴5 2和光阻 液吐出噴嘴5 1如第3圖中所示移動至待避位置。本實施形 態中，在基板旋轉時，應塗佈光阻液的吐出量幾乎在使旋 轉罩杯的旋轉速度上昇之間吐出，之後之光阻液的吐出量 吐出減少。因而將光阻液的吐出量經由可以變化的設定， 不但光阻膜表面的乾燥得以不斷的抑制，而且可以將剩餘 光阻液的吐出壓低。 之後，在基板G及旋轉罩杯42停止時，如第3圖中所 示’經搬送懸臂55搬送小蓋53，在光阻液吐出後將小蓋53 安裝在環狀蓋體45的開口 46。接著，驅動真空幫浦60，經 由言路65、連接器57，支持轴内流通路64及小蓋流通路63 ’將一對的密封構件61 a、61 b之間的環狀溝62抽取真空， 本紙張又度通用+ g萏家標準（CNS)A4規格（2】ϋ X 297公爱） I - -------—訂-----I --- (請先wtt背面之;£意事項再填寫本頁) 15 ^濟部智"-財產局員工消費合作社印製 ^89508 五、發明說明（13 ) 小蓋53的下面經真空吸著而與環狀蓋體45開口 46的外周部 密著。在該情形，由於設置有一對的密封構件6l£1、61b. 故可以確實的防止由蓋體45開口 46與小蓋53之間空氣的滲 入。 當該蓋體45的開口 46與小蓋53之間產生空氣的滲入時 ，該滲入痕跡在基板G上之光阻膜有複印現象的顧慮：在 本實施形態中’利用一對的密封構件61a、61b作為吸著裝 置而提昇蓋體45的開口 46與小蓋55間之密著性，故可以確 實的防止此類滲入痕跡的複印現象。該密封構件，可以使 用鐵弗龍系的花弗龍。 並且’當將該蓋體45和小蓋53之間密封處理時，由於 可以經圓柱體56將小蓋53對蓋體45進行按壓，故可以將該 等之間的密著度進行真空抽取至充分的狀態。因此，可以 更一層的有效防止由蓋體45的開口 46和小蓋53之間的空氣 滲入現象。 經此過程將小蓋5 3安裝後，如第4圖中所示，基板G 及旋轉罩杯42的旋轉速度上昇至I 3 40rpm止並維持該旋轉 速度以勻整光阻膜的膜厚。此時，小蓋5 3經由軸承5 9自由 旋轉的受支持軸5 8所支持，並由於經由蓋内流通路63及支 持軸流通路64進行抽取真空，故當基板g與旋轉罩杯42同 時旋轉時’將小蓋53不斷的進行真空吸著並可使其與環狀 蓋體45—同旋轉。因此’藉由旋轉罩杯42及蓋體45與基板 G同時旋轉，當膜厚勻整時，由於旋轉罩杯42和基板g之 間沒有產生相對移動，故可以將基板周圍的空氣安定化， 本紙張尺I卵中關家科（CNS>A4規格⑵(JX观公爱） (請先wtt背面之注意事項再填寫本頁> •-------I I--------I I | n 16 A7 B7 經 濟 部 智. 財 產 局 f- 合 作 -社 印 η 五、發明說明（14 並可以使光阻膜的均勻性更一層的提高。並且，藉由小蓋 53與旋轉罩杯42及蓋體45—併旋轉的構成，而可以將基板 周圍的空氣更一層的安定化。 又，當勻整光阻膜的膜厚時，由於經真空吸著將小蓋 53安裝在環狀蓋體45的開口 46，故可以確實的防止光阻液 向外部的飛散。又，由於小蓋53係經真空吸著所安裝，可 以確實的防止由開口 46之空氣的侵入，並不致產生帶給基 板周圍處理惡影響的氣流。因此均勻的形成光阻膜的獏厚 成為可能。 又，藉由旋轉罩杯42的旋轉，對旋轉罩杯42内的空氣 笙生離心力作用，如第2及第3圖中之箭頭所示，形成經由 蓋體45的流入孔49由外部流入空氣，同時由旋轉罩杯42的 流出孔68將空氣流出外部的氣流。經由該氣流的控制，用 以調整基板G周邊光阻液的乾燥速度並可調整擴散速度， 不但可以控制基板G周邊光阻膜的膜厚，而且可以維持膜 厚的均勻性。 又，以往如前述之第7圖中所示，位在蓋體的下側， 設置有調整基板G外側氣體用之整流板1 〇6 ;而在本實施 形態中，經由流出孔68及流入孔69的設置可與以往形成同 樣的氣流，故沒有設置該整流板的必要。 再者，又在外蓋60之上由於配置有噴嘴驅動裝置及小 蓋驅動裝置，故噴嘴5 1、52和小蓋53的移動量少即可完成 ，不但生產量提昇係有可能，同時喷嘴驅動裝置及小蓋驅 動裝置的小型化亦有可能。又’由於在外蓋60之上載置有 本紙張尺度通用中s國家標莘（CNS) A4規格<210 x 297公爱） •-------I---------Ϊ i 訂 1 — — ！！線 <請先lytt背面之;i意事項再填窝本頁} 17 469508
五、發明說明（is ) 驅動裝置，故當將基板G搬出入旋轉罩杯42内時，若使外 蓋60及蓋體45上昇至不致干涉基板搬送懸臂的高度，其他 亦不存在有干涉基板搬送懸臂之物，而可以順利的進行基 板搬送。 接著’針對有關本發明之其他實施形態的光阻塗佈處 理單元（CT)22加以說明。第5及第6圖係有關本發明之其他 實施形態的光阻塗佈處理單元模式斷面圓；第5圖無顯示 女裝小蓋前的狀態圖；第6圖則係顯示安裝小蓋後的狀態 圖。在該等圖面中，與第2及第3圖相同者則賦ι與相同符號 而將其說明省略。 本實施形態中，位在蓋體45的開口 46，小蓋70係經培 力吸著所構成的安裝狀態。該小蓋70係由磁性金屬所形成 ’並由支持柱54所延伸而出的搬送懸臂7 1所搬送而成的狀 態。該搬送懸臂71係經支持柱54内的裝置（圖中未顯示）所 構成可以昇降的狀態。小蓋70經安裝在開口 46後的狀態， 係小蓋70的突出部70a形成嵌入開口 46的狀態》 位在該搬送懸臂71的先端，設置有保持小蓋70用之保 持構件72，而位在保持構件72的下端具有繫留小用之繫留 部73。該繫留部73係由小蓋73上面突出所設置鈎形物74形 成蘩留的狀態。於是，搬送懸臂7 1如第5圆中所示用以保 持小蓋70，並如第6圊中所示將小蓋70形成安裝在開口 46 的狀態。安裝後，經圖中未顯示的裝置將鈎形物74由繫留 部73卸下，搬送懸臂71形成退避的狀態。 位在蓋體45的開口 46之外側部份設置有在光阻液吐出 本紙張尺度適用中®园家標準（CNS)A4規格（2】〇 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} V------ 訂---------線_!- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 18 A7
五、發明說明（！6 ) 時防止其飛散用之筒狀構件77，由蓋體45的筒狀構件7?以 至開口 46之間形成有環狀部78，而位在該環狀部78的上面 ，外側部份設置有磁石79 ’而在内側部份設置有密封構伴 80。又，磁石79沿環狀部78的圓周方向呈環狀設置亦可. 而沿環狀部78的圓周方向呈多數配列亦無妨。 另一方面，位在小蓋70下面的内周部形成有嵌入密封 構件80之溝部70b ’而外周部形成有經磁石79所收著的磁 力吸著部70c。於是，當小蓋7〇如第6圖中所示經安裝在開 口46後時’係利用磁石79將蓋體7〇吸著在開口 46的外周部 經由因而所構成的光阻塗佈單元（C0T)在基板4表面 形成光阻膜時，係與以往的實施形態相同，依第4圆中類 示的步驟進行處理。 經 濟 部 智， 財 產 局 X. 消 費. 合 社- 印 製 首先’經與以往的實砲形態相同的滴下光阻液及在 bOOrpm下的旋轉以進行光阻擴散，當基板G及旋轉罩杯42 停止後’如第6圖中所示，經搬送懸臂7丨搬送小蓋7〇並安 裝在環狀蓋體45的開口 46。此時，小蓋7〇經磁力吸著而密 著在環狀蓋體45開口 46之外周部即環狀部78所設置的磁石 79。在該情形，由於設置有密封構件8〇，故可以確實的防 止由蓋體45的開口 46和小蓋70之間的空氣滲入現象，而可 以確實的防止上述般滲入痕跡的複印現象。 經此過程將小蓋70安裝後，與以往的實施形態相同將 基板G及旋轉罩杯42的旋轉速度上昇至〗34〇rpm，並維持 該旋轉速度以勻整光阻膜的膜厚。此時，小蓋7〇經磁力吸 本紙張（度遇用中國國家標革(CNWA4規格（2丨〇 X 297公爱)' 19 469508 A7 B7 經濟部智慧时產局肖工消費合作社印製 五、發明說明（I7 ) 著在蓋體4；),當與基板G和旋轉罩杯42 一同旋轉時，小蓋 70與蓋體45—併旋轉。 藉由該磁力吸著的使用，以簡單的構造使小蓋7〇得以 吸著，可以提高裝置的信賴性。尤其基板G同時與旋轉罩 杯42，使蓋體45及小蓋70旋轉情形下，在真空吸著時由於 不要上述必要的附加零件，故由裝置構成的簡略化及信賴 性的方面而言更一層的有利。 並且’該磁力吸著的情形亦與真空吸著的情形相同， 可以破實的防止光阻液向外部的飛散β又，由於小蓋7〇呈 磁力吸著的狀態，可以防止由開口 之空氣的侵入，並且 由於經密封構件80的密封處理而可以幾乎完全的防止該空 氣的侵入。因此’不致於產生帶給基板周圍處理惡影響的 氣流’均句的形成光阻膜的膜厚度成為可能。 又’本發明並不限定於上述實施形態，而有各種變形 的可此。例如在上述實施形態中曾針對光阻塗佈、顥像處 理系統適用本發明的情形加以說明，但並不限定於此。又 ’係顯示有關塗佈光阻液的情形，但若是經旋轉塗佈形成 塗佈膜的情形，亦有可能適用其他的塗佈液。又，上述實 施的形態中，係顯示有關使用LCD基板作為被處理基板的 情形’但並不限定於此亦可適用於半導體晶圓等對其他基 板之塗佈骐形成。 如以上說明，根據本發明，由於具備有具有開口之環 狀的蓋體’即使在塗佈液吐出時採用基板旋轉之動態塗佈 方式’經在塗佈液吐出時經環狀的蓋體可以防止塗佈液向 本紙張尺度適用中因國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱） I I - n I I I I I - - - ^ * n H I ϋ 1 I I I I - I n · J <請先《讀背&之注意事項再填芄本頁) 20 A7 A7 經濟部智慧財產局員工消'#.合作社印製. 五、發明說明（ 外部飛散。 又，由於具備有具有開口之環狀的蓋體和將其開口閉 令用之小蓋，通過環狀蓋趙的開口由塗佈液吐出喷嘴將塗 佈液吐出在基板，當塗佈液吐出完成後將小蓋安裝在環狀 蓋體的開口而可以進行句整膜厚。因此，在塗佈液吐出時 即使採用基板旋轉之所謂動態塗佈方<，在塗佈液吐出時 經裱狀的蓋體亦可防止塗佈液向外部飛散；而在塗伟液吐 出後，經環狀的蓋链和小蓋，亦可防止塗佈液對外部的飛 散，故由塗佈開始時以至完成時可以確實的防止塗佈液的 飛散。 [圖面的簡單說明] 第1圖係顯示構成本發明對象之塗佈處理裝置所適用 的光阻塗佈•顯像系統平面圖。 第2圖係顯示上述光阻塗佈顯像系統中所搭載之有關 本發明一實施形態的光阻塗佈處理單元安裝小^ _ 面圖5 第3圖係顯示上述光祖塗佈顯像系統中所搭載之有關 本發明一實施形態的光阻塗佈處理單元安裝小蓋後^態斷 面圖。 第4圖係顯示LCD基板的旋轉迷度及光阻吐出量和戊 理時間之間的關係圖形。 & 第5圖係顯示上述光限塗佈顯像系統中所搭載 本發明其他實施形態的光阻塗佈處理單元安裝小蓋前之f 態斷面圊。 ^ 1本紙張尺度適用中國Θ家標準（CNS)A4規格（21〇 公_£ I ---- t I 1 I I II— --1 I I I I. I «ΙΙΙΙΙ1Ι — <碕先閱讀背面之注意事項再填駕本頁) 21 16 95 0 8 A7 B7 五、發明說明（19 ) 第6圖係顯示上述先阻塗佈翱^ 冲...異像示統中所搭載之有關 本發明其他實施形態的光阻塗佈處理單元安裝小蓋後之狀 態斷面圖= 第7圖係有關以往之光阻塗佈處理單元模式斷面圖。 K ^1 ^1 ^1 ^1 I 1 n I I -m <請先閱ff背面之it事項再填^'本頁) 訂---------線_一 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 22 本紙張尺度通用中S S家標準（CNS)A4規格（210 * 297公釐） A7 B7_五、發明說明（2〇 ) 元件標號對照 -經濟部財產局_工消費合作社印製 1…卡匣儲留站 2…處理部 2a，2b，2c…前段部、中段 部、後段部 3…界面部 10…搬送裝置 10a···搬送路徑 11…搬送懸臂 12…搬送路徑 13…搬送路徑 14…搬送路徑 15，16·"中繼部 】7，]8，19…主搬送裝置 17a，18a，】9a…支持旋臂 21a，21b…洗淨單元 22…光阻塗佈處理單元（塗佈 處理裝置） 23…周緣光阻除去單元 24a，24b，24c…顯像處理單元 2 5…紫外線照射單元和冷卻 箪元之處理區塊 26，28，31…加熱處理單元 處理區塊 27…冷卻單元處理區塊 29，32，33…加熱處理箪元和 冷卻處理單元之處理區塊 30…黏著處理單元和冷卻單 元之處理區塊 34…藥液供給單元 35…維修空間 3 6…伸展台 3 7…缓衝台 38…搬送裝置 38a…搬送路徑 39…搬送懸臂 40…驅動裝置 41…旋轉夾盤(基板旋轉裝置） 42…旋轉罩杯(處理容器） 44…引流杯 45…環狀的蓋體 46··.開口 48…噴嘴愍臂 49…嗔頭 50，54…支持柱 51…光阻吐出噴嘴（塗佈液吐 出喷嘴） {請先閱讀背面之沈意事項再填窵本頁) 本紙張&度遇用中國國家標準（CNSM4規格（2JCM 297公釐） 23 46 95 0 8 A： B7 五、發明說明（21 ) 經濟部智"財產局8工消費合作社印- 52…溶劑吐出噴嘴 69…流入孔 53，70…小蓋 70a…小蓋突出部 53a···小蓋的突出部 70b…溝部 55，7卜·*搬送懸臂（小蓋搬送 70c…磁力吸著部 裝置） 71…搬送懸臂 56…按壓用的圓柱體(按壓裝置） 72…保持構件 56a…伸縮桿 73…繫留部 57…連接器 74…鈎形物 58…支持軸 77…筒狀構件 59…抽承 78···環狀部 60…外蓋 79…磁石 61 a，61 b…密封構件 80···密封構件 62…溝 101…旋轉夾盤 63…小蓋内流通路 102…吐出喷嘴 64…支持轴内流通路 103…旋轉罩杯 65…管路 104…外蓋 66…真空幫浦 105…蓋體 67…真空密封構件 106…整流板 68…流出孔 G…LCD基板 I- - 11 ί^— i— I.. · m n .^1 .^1 .^1 n ^1 n ^1 I Λ— ^ <請先閱汴背面之泫意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNTS)A4規格（210*297公复） 24