TW458805B - Apparatus for producing a gas mixture - Google Patents

Apparatus for producing a gas mixture Download PDF

Info

Publication number
TW458805B
TW458805B TW089126944A TW89126944A TW458805B TW 458805 B TW458805 B TW 458805B TW 089126944 A TW089126944 A TW 089126944A TW 89126944 A TW89126944 A TW 89126944A TW 458805 B TW458805 B TW 458805B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
tower
gas
scope
central
patent application
Prior art date
Application number
TW089126944A
Other languages
English (en)
Inventor
Rodney Moore
Andreas Luttringhaus-Henkel
Patrik Hoffmann
Original Assignee
Tetra Laval Holdings & Amp Fin
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tetra Laval Holdings & Amp Fin filed Critical Tetra Laval Holdings & Amp Fin
Application granted granted Critical
Publication of TW458805B publication Critical patent/TW458805B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4481Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(Ί ) 本發明關於製造包括一液態離析化合物(例如 Η M D S 0 )和一載體氣體(例如氧)的氣體混合物做爲 吱應之裝置。
Li知者爲利用電漿包覆程序處理工件,其中使用氣體 混合物來製造電漿,氣體混合物包括一液態離析化合物和 一載體氣體,例如六甲基乙矽醚(Η M D S ◦)和氧。這 種本說明書一開始就敘述之裝置已發展出來以進行包覆程 序而將例如光學透鏡包覆。這種裝置中,主要地液態 Η M D S 0被加熱所產生之蒸氣與氧氣結合,所得氣體混 合物做爲反應氣體。Η M D S 0的沸點與水幾乎相同,因 此所產生的氣體混合物之一缺點爲其溫度爲1 0 0 °C,另 -缺點爲其部分在氣體承載管線內凝結到製造電漿之設備 -冇人企圖藉由加熱氣體承載管線(包括閥、分配器等等 )而將氣體損失加以控制,然而此種裝置複雜且昂貴’而 且技術上施行時有困難。
因此本發明之目的在於提供一種本說明書起頭敘述之 裝置’其可持續製造大量反應氣體’而且可在實用上可工 作溫度下將反應氣體移出。實用可工作溫度假定在外界溫 度下出現的氣體產品(氣體混合物)的溫度在〇 C〜2 0 Γ亦視爲實用上可工作°達成本發明目的的另一種狀況是 提供每單位時間大體積之氣體流量’此處爲每小時 〇 · 〇 5〜5 m 3,較佳爲每小時0 . 1〜0 5 Π1 3,最 ίΐ爲每小時0 . 2〜0 · 5 πί 3〔體積流量轉換成標準狀況 ,1 b a r ,2 0 °C ) D 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 * 297公釐) -4- I---------^----I----線 t (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 二 t、·.⑽ 5 A7 __B7 五、發明說明(2 ) 依據本發明,其目的之達成係將多個塡料包在一細長 丨1. K質h垂直設置的可冷却塔中以互相疊置方式設置,固 設在塔上部有一進給管部(其從外部通到塔內)和一向下 的氣體出U管,而且設有測量排出的氣體混合物之溫度, 壓力和量。在本發明裝置中和一載體氣體一起製造氣體混 合物的液態離析化合物最佳爲Η M D S 0,因此本發明裝 置在製造複合其他液體離析化合物和一載體氣體的氣體混 合物也有用。 典型用於製造電漿的液態離析化合物包括金屬或半金 屬,例如錫、鋅、矽I锆、鈦或鋁》化合物爲有機化合物 或fj機金屬化合物,諸如烴氧基金屬、醋酸鹽、脂環基或 芳基金屬,最好是使用有機矽化合物,諸如四甲氧基矽醚 ,特佳者爲四甲基乙矽醚或矽氨烷,諸如六甲基乙矽醚。 對本發明有用的數種離析化合物載於美國第 5 ,0 4 1 ,3 0 3號專利中。 習於此技之人士可知此處所稱最佳離析化合物 HMD S 0爲說明用,其在相同方式下或在化合物特定變 化下亦適用上述液態離析化合物。 本發明致力於在低溫下由Η M D S 0製造蒸氣,因此 必須在不升高溫度下利用其他裝置蒸發液態Η M D S 0 » 爲了提供此種蒸發裝置,本發明使用蒸餾塔或萃取塔,加 以適當修改及尺寸,俾使從實質上垂直設置的塔頂部呈液 態導人的HMD S 0在適溫下蒸發=在此方面本發明亦採 用從其他習用背景得知的蜂巢狀塡料包,藉此液態 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝--------訂---------線! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 .:U :Ί 5_ Α7 __________Β7______ 五、發明說明(3 ) Η M D S 0甚至在低溫下的分割亦得以改進。習用蜂巢狀 塡料包最好包含金屬而且呈互相疊置關係而使其在液態Η M D S 〇的進給管部下方3若進給管部終端在塔的上部, 液態Η M D S 0流可轉換成滴在上塡料包且在重力下逐漸 通過置於下方的塡料包內之液滴·,有大面積變潮溼, Η M D S ◦的黏稠性(與水幾乎相同)允許如此分割。在 此方面,爲了維持混合物中Η M D S 0與載體氣體之一定 比率,絕對需要保持塔溫一定,若將塔冷却可有特別有利 狀況,在此方面已考量1 °c〜2 0 °C,較佳爲5 °C〜1 1 t。技術上可在塔上裝設冷却套供冷媒流經,冷媒(在此 使闬水最簡單)可以傳統恆溫器控制溫度。 另一氣體,例如氧(可由氬代替)|由塔下部供應。 當液態成分朝塔底移動時,氣體蒸氣上升。依據本發明, 一氣體出口管固定在一適當有利位置,且向外延伸,讓所 要的Η M D S ◦與載體氣體(例如氧)的混合物移出塔外 此外,在本發明的塔上或塔內設有測量液體及/或氣 體或氣體混合物的溫度和壓力,因爲氣體混合物製造程序 uj藉由調節溫度和壓力而最佳化。在排出的氣體混合物方 阼亦適,其量應配合且適於另外的工作程序、然而在本 發明製造裝置中的其他變數亦應適用。 本發明的新穎製造裝置能持續地製造大量反應氣體, 特別是在外界溫度下,使得在實際上於毫無技術困難下讓 反應氣體進行另外程序及工作,例如通過相當長的管線, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) *------- 訂---— II---t i . 本紙張尺度適用申國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -6- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 —_______B7___ 五、發明說明(4 ) 通過分配裝置等等, 在此方面’依據本發明,其有需要在塔底連接爲過量 液體而設之一液體感測器及可由閥關閉之一條排放管。經 發現在使用本發明氣體製造裝置時,即使在整個塡料包有 良好分布’有一部分呈液態供應的Η M D S 0向下通過到 塔底部而未蒸發。因此偵測其存在於塔底(亦可偵測其量 )並將過量液體經由一閥排放有其好處。液體可存在於一 容器或再處理設備,使得液態Η M D S 0多次通過裝置而 以最大可能比率轉換成蒸發狀態。 塔長在15〜1.5m(最好爲30cm)已證明爲 可行,在此方面,其直徑爲30〜300mm,較佳爲 40〜200 mm,特佳爲50〜80mm。2〜1 ◦個 (較佳爲3〜8個)蜂巢狀塡料包可以互相疊置方式設在 坍內 此外實際實驗也顯示出,所製造的氣體混合物的體積 流量增加,在塔底的液態Η M D S 0之量也較大。若想要 供應高流量反應氣體(例如每小時1 〇 m 3〜2 0 m 3 )給 很有效力的機器,則新穎裝置的產量流量隨著時間經過掉 到產量流之下,因而不再能保證供應給有效力的工作機器 藉由建造更長的塔(內部塡充更多的塡料包)或是每 單位表面積有更多蜂巢之更貴的塡料包者,可明顯地增加 產敏輸出:然而此種結構昂貴且需高度困難技術及費用, 因此對於高輸出方面,本發明循不同路徑來進行一步設計 本紙張又度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) J --------1 裝—-----訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明(5 ) 上述裝置,在進給管部的內排放端下方設置一分割缽或杯 ’其延沖於塔之橫截囬且有氣體通孔。請了解這種分割鮮 必須能讓氣體通過,因爲由下往上升且由塡料包製造之蒸 氣必須能由下往上穿過分割缽。另一方面,藉由此種分割 缽,其能使液態Η M D S 0大液滴(在進給管排放端)被 分割成大數目之小液滴。爲了使分割效果最大,分割缽是 僅可能大。在本發明上述裝置中使用這種分割缽之作用爲 能產生大量氣體混合物’例如每小時1 〇 〇 m 3,而不需在 製造期問偵測產量之下降;對於產品氣體混合物之實用可 工作溫度即爲如此。 依據本發明,若在分割缽中央區設具通孔且外側由氣 體通孔環繞之中心盤或板部有其優點。在本發明的裝置之 塔橫截面爲圓形,因爲較易使用工業塡料包。平坦或梢微 彎曲的分割缽周圍可依需要固定在塔內壁,使分割缽延伸 於塔的整個橫截面。上述中心盤或板部可依需要僅位於分 '刮缽中臾區,中心盤或板部具有讓液態Η M D S 0通過之 通孔,通孔的自由流通橫截面相對於中心盤或板部封閉表 面區之比率爲1〜2 0 %,較佳爲5〜1 0 %。關於塔總 橫截面,在中心板部周圍外面且由氣體通孔預定之表面積 比率較大,例如佔塔總橫截面的5 0〜8 0 %。經發現供 出進給管的液態Η M D S 0在中心板部區域滴在分割缽上 ,且嘗試向下經由個別通孔進入最上部塡料包’如此’塡 料包被供以液態流,其分割方式比沒有分割缽之第一個敘 述之裝置爲佳。 --------------裝----I---訂---------線 <:請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) -8 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 458805 B7 五、發明說明(6 ) 在此方面,依據本發明’分割缽的中心板部在通孔之 丨1¾丨务ί閉ii.由一中,’Ll、兀ff*系載有其需要,在其中央區,固 定在塔的圓柱內表面之中心板部有上部中心環元件,其內 部設置:中心板部’其依上述比率關係分別經由通孔啓閉。 此種分割缽之製造簡單。中心板部可朝中心彎曲,中心環 元件可利用輻狀連接柱與固定在塔內壁的分割缽之一外環 連接~ 在本發明另一實施例中,中心板部呈篩板狀,中心板 部亦由一中心環元件支撐。歸板部亦可爲任何適當金屬或 塑膠材料製成之篩子1最好是燒結金屬,其亦可呈玻璃原 料形式。 依據本發明,上述裝置在包覆中空體內表面最佳,特 別言之,僅有單一孔口的中空體可依該方式包覆內部,只 要所要的氣體混合物在正確及實用可行溫度下製造,導入 且剩餘反應氣體可再度移除(在中空體內表面處理及澱積 之後)。 以下參照圖式將可更了解本發明的其他優點1特徵及 可能用途,其中: 圖1爲主系統槪示圖,其中央爲製造氣體混合物之裝 匿j 阊2爲本發明之塔的橫截面圖,塔內無分割缽。 圖3爲本發明之塔的橫截面圖,塔內有一分割缽。 圖4爲圖3—部分放大圖。 圖5爲具一封閉中心板部及通孔的一分割缽立體圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------—裝--------訂·---I----線 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) 458 80 5 A7 _B7__五、發明說明(7 ) 圖6爲具一嵌入篩板之一分割缽另一實施例 主要元件對照表 1 9 4 5 6 6 7 8 9 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 7 塔 塡料包 進給管部 流向 進給管部釋出端 塔縱向中心線 氣體出口管 氣體混合物流向 壓力調節器 閥 分配系統 分配器 導入管 頂部開口瓶 冷却套 冷媒出口 冷媒流向 入口 流向 供應容器 質量流量調節器 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公笼) -10 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4588 0 5五、發明說明(8 ) 18 1 8 > 19 2 0 2 1 2 2 2 3 2 4 2 5 2 5 ^ 2 6 2 7 2 8 2 9 3 0 A7 B7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -------訂·--------— 3 4 3 5 3 6 3 7 3 8 氣體導入管 載體氣體導入方向 質量流量調節器 塔底 氣體導入管下游端 蓋子 排放管 閥 進口管 流向 熱電偶 液體感測器 夾持環 分割魅 分割缽中心區 隆起部 通孔 中心板部 通孔 環件 輕板 外環 氣體通孔 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -11 - A7
化卜切S r------------- 五、發明說明(9 ) 請參閱圖1 ,其幾近中心處者爲製造產品氣體混合物 z裝直,注丨標號1表示,其代表細長且垂直設置之塔丄, 且塡以五個塡料包2 ,各塡料包2爲蜂巢狀且包含易受少 t化學物侵襲之鎳一鉻—鉬合金(商標名爲Hastell〇y ) a …進給管邰3從塔1上部由外界進入塔內,進給管部3的 内釋出端4終點在約在塔1的垂直縱向中心線5。 圖1中箭號6 —指示所製造的氣體混合物流向,氣體 uk ϋ物k頂部離開ί合1且通過向下延伸的氣_出口管6。 反應戚體爲載體氣體與蒸發的Η M D S 0之混合物,且在 通過一壓力調節器7之後,經由一閥8進入分配系統9。 在圖1所示實施例中,分配系統9爲一分配器1 〇 ,十條 導入管1 1從分配器1 0插入中空體內部,此例中,中空 體爲頂部開口之瓶1 2。 塔1本身可冷却’亦即其外部包覆一冷却套1 3 ,做 爲冷媒的水可流經冷却套1 3 °水從進口 1 4從一恒溫器 處沿箭號1 4 —方向流入冷却套1 3中空內部且沿箭號 1 5 -方向由出口 1 5離開。在此處施行的製造程序中, 冷别水藉由恆溫器保持在5〜1 1 °C之間。液態 Η M D S 0 (六甲基乙砂醚)從供應容器1 6經由質量流 域調節器1 7沿箭號3 '方向從進給管部3滴入。在圖1 叫/丨:例中,反應氣體不單只是蒸氣的HMD S 0,而是 懷·^載體氣體(此處爲氧’但於其他實施例中亦可爲氩, 妃等等)之混合物。做爲載體氣體之氧氣經由導入管i 8 沿箭號1 8 >方向通過質量流量調節器1 9進入塔1底部 用中13國家標準(CNS)Ail規格(210 κ 297公釐) -12^ --— 装*-------訂---------線- (請先閱讀背面之注咅〖事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 A7 經濟邹智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明說明(10 ) 2 0。氣體導入管1 8的下游端見圖2和圖3 ,其設一蓋 子2 2來防止液態Η M D S 0滴入氣體導入管1 8。 未蒸發的Η M D S 0可由塔底在一閥2 4控制下經由 一排放管2 3排到一回收設備(未示出)。 如箭號2 5 >所示,若塔1內需額外氣體成分,輔助 氣體可經由進口管2 5進給到塔1頂部,進口管2 5亦可 做爲塔1之沖洗管。 塔1頭部中間有一熱電耦2 6來偵測塔內氣體溫度。 塔底2 0亦可設一液體感測器(未示出)來偵測塔底 2 ◦是否有未蒸發的HMD S 0以及其量。 圖2和圖3示出塔1內構造,頂部爲塡料包2和夾持 環2 8 ,以次及塔1底部構造。圖2類似圖1所示實施例 ,其中液態Η M D S 0從進給管部3釋出口 4呈較大液滴 滴在塡料體上|因爲液滴實質上分布於塡料體2內;圖3 爲另一輔助例,進一步言之,實質上與垂直縱向中心線5 垂直(亦即水平)的一分割缽或杯2 9延伸於塔1的整個 内橫截面。分割缽2 9設在進給管3內釋出端4下部的下 方約0 . 1〜1 0 m m (最好爲2 m m )處。 圖4爲塔1中一分割缽2 9第一實施例放大圖,其頂 部和底部切斷。分割缽與進給管部3內釋出端4之間的間 隔係從分割缽中心區3 0量得,因爲垂直縱向中心線5延 伸通過中心區3 0且實質上接觸進給管部3釋出端4下部 ,設在分割缽2 9中心區3 0內者爲相對於縱向中心線5 對稱之隆起部。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---III— ---------1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) -13- 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(11 ) 示於圖5中的另一實施例亦有一隆起部3 1 ,其有一 中火適孔3 2 ’圖4中未見該通孔3 2。在分割缽2 9中 央应3 0的隆起部3 1在圖4實施例爲實心,在圖5中爲 • n y.tj iii - 在圖4至圖6中所示三個實施例中,分割缽2 9橫截 而.爲適於塔內部空間,由圖5和圖6立體圖可淸楚看到= 所示:三個實施例中重要者爲分割缽2 9內爲中心盤或 板部3 3 ’圖4中例子之中心板部3 3爲具隆起部3 1的 實心結構;圖5中例子之中心板部爲具中心通孔3 2之向 上彎曲板:圖6中例子之中心板部爲一平坦篩。 圖6中篩子構造的通孔係均勻地分布於整個中心板部 3 3 (邊緣區可不設),較寬的通孔3 4則設在圓形中心 板部3 3邊緣。通孔3 2和3 4讓經由進給管部3供應的 液態HMDSO滴穿。在進入塡料體2之前,HMDSO 已被分割缽細分。與離開進給管部3內釋出端4的較大液 滴相較比它小1〜2級的液滴由分布在分割缽2 9上的中 心板部3 3區在垂直向下方向離開分割缽2 9 ,俾進入塡 料包且而進一步被分割。 中心板部3 3由一中心環元件3 5支撐,中心環元件 3 5利用徑向均勻分布在周圍的輻板3 6而固設在與之有 ---間隔的.一外環3 7 ,外環3 7與中心環元件3 5之間的 間隔提供了四個段(氣體通孔3 8 )組成的一個自由環狀 區域。 操作時,在塡料體內被細細分割且部分蒸發的 ---------------------^---I-----線': (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) 本氓張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公Μ〉 - 14 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 58 8 05 A7 _B7__ 五、發明說明(12 ) Η M D S 0必須向上流經分割缽2 9的氣體通孔3 8到達 塔1頂,使得產品氣體混合物可隨後經由管6供給消費者 ---r ------ ----~ 裝—------訂·-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -15- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. ^ 4 St ^ 05 含§ D8 >、申請專利範圍 ’、 丨.一種製造氣體混合物之裝置,氣體混合物爲液態 ^少合物(例如H M D S ◦)與載體氣體(例如氧氣) 離析仏^ 物’以做爲反應氣體’其特徵在於:在一細長且實 之混θ <上.爱直設置的可冷却塔(1 )內設有互相叠置的多個塡 , 9 ),塔(1 )上部固設從塔(1 )外側伸入塔內 料Ή ' — _ g給管部(3 )以及向外延伸的一氣體出口管(6 ) # ^有測量排出的氣體混合物之溫度、壓力及量的裝置 ^ .如申請專利範圍第1項之裝置,其中塔(1 )底 )連接一液體感測器和供過多液體用之可由〜閥 關閉的一條排放管(2 3 )。 如申請專利範圍第1項之裝置,其中在進給管部 3 )的內釋出端(4 )下方設有延伸於塔(1 )的橫截 n函有氣體通孔(3 8 )的一分割缽(2 9 )。 面旦抖1 4,如申請專利範圍第1項之裝置’其中分割缽( 2 g )的中心區(3 0 )爲中心板部(3 3 ) ’中心扳部 有通孔(3 4 ) ’且外側由氣體通孔(3 8 )圍繞。 5 .如申請專利範圍第1項之裝置,其中分割缽( 2 9 )的中心板部(3 3 )在通孔(3 2 ’ 3 4 )之間封 閉且由一中心環元件(3 5 )支擦。 6 .如申請專利範圍第1項之裝置1其中中心板部( 3 3 )呈一篩板,且由一中心環元件(3 5 )支撐。 7 .使用如申請專利範圍第1項之裝置來包覆中空體 (1 2 )的內表面° --------I-----I ----! I 訂--------- C锖先閱讀背面之注意事項再寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印Ssf 本紙張尺度適用中幽函家標準(CNS)A4規格(210 X 297公S > 10 *—1
TW089126944A 1999-12-15 2000-12-15 Apparatus for producing a gas mixture TW458805B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19960333A DE19960333C2 (de) 1999-12-15 1999-12-15 Vorrichtung zum Herstellen eines Gasgemisches und deren Verwendung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW458805B true TW458805B (en) 2001-10-11

Family

ID=7932657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW089126944A TW458805B (en) 1999-12-15 2000-12-15 Apparatus for producing a gas mixture

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20030094711A1 (zh)
EP (1) EP1244823A1 (zh)
JP (1) JP2003517102A (zh)
AU (1) AU3009101A (zh)
DE (1) DE19960333C2 (zh)
TW (1) TW458805B (zh)
WO (1) WO2001044538A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19963122A1 (de) * 1999-12-24 2001-06-28 Tetra Laval Holdings & Finance Anordnung zum Einkoppeln von Mikrowellenenergie in eine Behandlungskammer
DE10010642B4 (de) * 2000-03-03 2007-07-26 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Maschine zum Beschichten von Hohlkörpern
DE10114401B4 (de) * 2001-03-23 2005-03-17 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Verfahren zum Blasformen eines Behälters aus Kunststoff und zum Beschichten des Behälterinneren
DE102004017241B4 (de) 2004-04-05 2012-09-27 Schott Ag Verbundmaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102004043384B4 (de) * 2004-09-08 2010-06-17 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Hohlkörper-Substrates aus zumindest Polyethylenterephthalat
DE102007062977B4 (de) 2007-12-21 2018-07-19 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Prozessgasen für die Dampfphasenabscheidung
US9431238B2 (en) * 2014-06-05 2016-08-30 Asm Ip Holding B.V. Reactive curing process for semiconductor substrates

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2072382A (en) * 1935-03-28 1937-03-02 Standard Oil Co Counter current contactor
US2125343A (en) * 1935-04-18 1938-08-02 Ig Farbenindustrie Ag Column containing filler bodies
US2428922A (en) * 1944-09-30 1947-10-14 Universal Oil Prod Co Liquid distributing apparatus
DE1667327A1 (de) * 1965-04-26 1971-06-09 Union Oil Co Zustromverteiler
US4212663A (en) * 1978-01-26 1980-07-15 Corning Glass Works Reactants delivery system for optical waveguide manufacturing
US4436674A (en) * 1981-07-30 1984-03-13 J.C. Schumacher Co. Vapor mass flow control system
US4924936A (en) * 1987-08-05 1990-05-15 M&T Chemicals Inc. Multiple, parallel packed column vaporizer
US4808350A (en) * 1987-08-26 1989-02-28 The Dow Chemical Company Liquid distributor apparatus for high turndown ratios and minimum fouling
GB8823671D0 (en) * 1988-10-08 1988-11-16 British Petroleum Co Plc Method for mixing vapour
US5139544A (en) * 1990-10-22 1992-08-18 Koch Engineering Company, Inc. Gas-liquid contact column with improved mist eliminator and method
US5470441A (en) * 1994-03-07 1995-11-28 Phillips Petroleum Company Packed column vaporizer and vaporizing process
US5558687A (en) * 1994-12-30 1996-09-24 Corning Incorporated Vertical, packed-bed, film evaporator for halide-free, silicon-containing compounds
DE19629877C1 (de) * 1996-07-24 1997-03-27 Schott Glaswerke CVD-Verfahren und Vorrichtung zur Innenbeschichtung von Hohlkörpern
US6122931A (en) * 1998-04-07 2000-09-26 American Air Liquide Inc. System and method for delivery of a vapor phase product to a point of use
DE59810591D1 (de) * 1998-04-09 2004-02-19 Sulzer Chemtech Ag Winterthur Flüssigkeitsverteiler für Trennkolonnen

Also Published As

Publication number Publication date
AU3009101A (en) 2001-06-25
WO2001044538A9 (de) 2001-10-25
WO2001044538A1 (de) 2001-06-21
US20030094711A1 (en) 2003-05-22
DE19960333C2 (de) 2002-12-19
DE19960333A1 (de) 2001-06-21
EP1244823A1 (de) 2002-10-02
JP2003517102A (ja) 2003-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1955338B (zh) 气化器以及半导体处理系统
TW458805B (en) Apparatus for producing a gas mixture
JP5483226B2 (ja) 純粋な水蒸気を生成するための方法と装置
JPH03500667A (ja) 多重平行充てんカラム気化器
US7670572B2 (en) Multi-phase fluid distributor for a bundled-tube reactor
JP6324609B1 (ja) 固体材料容器およびその固体材料容器に固体材料が充填されている固体材料製品
JP2004510058A (ja) 特に有機皮膜をovpd法によって沈積する方法および装置
JP2014522723A (ja) 液体混合物の成分を分離する方法及び装置
TWI781330B (zh) 具有流分配器的蒸氣輸送容器
JP7116733B2 (ja) 分配装置、特に、流下薄膜型蒸発器およびその使用のための分配装置
CN102470336A (zh) 连续加工反应器及其使用方法
JP5929209B2 (ja) 電気ケトル
CN105879415A (zh) 一种薄层化多折面蒸发器的制造方法
US3491821A (en) Method and apparatus for drying urea solutions
US3230055A (en) Apparatus for contacting liquid and gaseous reactants
JP3074871B2 (ja) Cvd用原料蒸発器
US6221133B1 (en) Fluid separation packing
US7488452B2 (en) System for performing experiments, in particular for high throughput experimentation
JPH02145768A (ja) 液体原料気化装置
JPH05309201A (ja) 噴霧乾燥装置
US3969741A (en) Apparatus for producing a developer medium for diazotype materials
CN109499086A (zh) 真空套式多层精馏塔和螺旋塔板柱
SU812335A1 (ru) Газлифтный аппарат
JPS6033521B2 (ja) 縦型多管式の液膜降下式蒸発装置
JP4397021B2 (ja) 発泡性溶液の蒸発装置及び蒸発方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees