TW443074B

TW443074B - Organic EL panel and its manufacture

Info

Publication number: TW443074B
Application number: TW088117191A
Authority: TW
Inventors: Yoshikazu Sakaguchi
Original assignee: Nippon Electric Co
Priority date: 1998-10-05
Filing date: 1999-10-04
Publication date: 2001-06-23
Also published as: KR100311265B1; US20030132703A1; US6794816B2; JP2000113979A; JP3031356B1; US6514649B1; KR20000028844A

Description

443074 五、發明說明（1) 發明所屬技術领祕本發明係關於有機電致發光板之製造方法，特別是關於有機電致發光板之像素形成方法及彩色分塗方法。又，本說明書中’以下將『電致』以『EL』稱之。習知技術曰本特開平5-108014公報揭示一種無機EL發光板之製造方法。此無機EL發光板之製造方法中，如圖22所示，將具有對應相同顯示色彩之像素用之發光膜部分之窗圖案 19A之光罩板19，於配設於非常接近發光板基板（於透明基板1上，疊層透明電極2及絕緣層1 7 )之狀態下，於各顏色分別偏移光罩板19位置，而依序造^行由沈積源2〇將相同顯示色彩之無機發光層18選擇性地且同時成膜於對應絕緣層 1 7上之窗圖案1 9A位置之製程，並於各顏色分別偏移位置’而依序進行不同顯示色彩之發光膜部分。以下，將此此方法稱為第1習知方法。 ’ 又，於日本特開平-1 2 1 056中，揭示一種電难努或液晶顯示器之濾色片之製造方法β依據此方法° 具有機光導電層之感光體層之基板可帶有所希於選擇性地曝光及形成靜電潛像後，使分散極性，影劑附著而形成圖f，燒成該基板，除去有機以：：而可得到所希望之圖案。以下，將此方法稱先導電層而法。 Jz W知方此外’液晶顯示器之濾色片之製造方法之顏料分散法^此方法係將分散著色顏料 :J1用微^ Α九性高分子

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光罩板因輻射光罩板或分離晝面化成圖案製作易之損傷因沈積有其限進行曝光’再依紅、綠、藍各顏形成著色圖案之方法。以下，將塗佈於基板後，介著光罩色重複進行顯影、蝕刻及此方法稱為比較例方法。發明欲解決之謖擷對應上述各顏色移動板本身重量、及沈積時之成光罩板彎曲、歪曲，及由，故各層容易產生重疊率觀點而言，具有不易大於薄金屬板上藉由光刻形易斷裂，故光罩板本身之止因光罩板與基板接觸時使光罩板與基板分離，但差部的情形’致使微縮化之第1習知方法，因光罩熱所產生之熱膨脹，而造之細微位置控制困難等理不足之問題’因此，就良等缺點。又，光罩板係為而製成，若越細微時越容更加困難。此外，為了防而造成各像素短路，必須時發生沈積材料覆蓋於段度。以無機顏料之分散顯影劑，將感光體之靜電潛像顯影後燒成並去除感光體之第2習知方法，因有機虬發光板上" 於發光層或電荷輸送層等上使用無耐熱性之有機材料，故無法於有機EL發光板中使用。又，於有機仳發光板中，因目前無白色發光材料’故不易用為濾色片。· 此外’將顏料分散方式適用於有機EL發光板之彩色化之比較例方法’因為有機EL材料非常怕水分，故於圖案化中’將感光性高分子塗佈於基板後，因介著光罩進行曝光’再進行顯影、蝕刻等濕式製程，故由於黑斑產生、成長、及有機層-陰極界面剝離等而產生像素缺陷。

第6頁 443074 五、發明說明（3) 如上所述，習知技術中，並無可實際有效地達到微縮化及/或彩色化之有機EL發光板之製造方法。本發明係有鑑於上述問題而成，其目的在於提供一種有機薄膜EL發光板之製造方法’可於有機EL發光板中，以對像素損傷少且簡便之方法達到微縮化及彩色化。發明概

為了解決該課題，於至少一邊為透明或半透明之相對之一對電極間疊層有機發光材料之有機EL發光板中，藉由形成像素發光層與像素電極之本發明之方法，其特徵為：準備於一邊之面形成有透明或半透明之共同電極之透明基於該共同電極上，形成之感光性薄膜，使該感光性薄膜相同帶電’以所給圖索進杆靜電潛像；乐运订曝先形成 Ο 將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體订顯影，而形成由帶電之該粉體顯影劑所隐= 序均勻地堆積發光層、電子輸送層及像素電福層. 之兮積後，利用該靜電潛像之電荷1用為4分隔壁 ^粉體顯影劑，藉由轉印選擇性地將該堆積體一

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五、發明說明（4) i m ΐ v —邊為透明或半透明之相對之一對電極間疊層有機發光材料之有機EL發光板中，藉由於各色相互分離地形成像素發光層與像素電極之本發明之方法，其特徵為· 之共同電極之透準備於一邊之面形成有透明或半透明明基板，於該共同電極上，形成具有電荷產生層與電荷移動芦之感光性薄膜；曰使该感光性薄膜相同帶電，以紅色、綠色及藍色3色中做為第1色之圖案進行曝光，形成靜電潛像；將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影劑進行顯影’而形成由帶電之該粉體顯影劑所成之覆蓋第丄色之像素區域以外之區域之第1光罩；依序均勻地堆積第1色之發光層、電子輸送層及像素電極層；於堆積後，利用靜電潛像之電荷，將用為該第1光罩之》亥粉體顯影劑，藉由轉印選擇性地將該堆積體一同除舍’形成該第1色之像素圖案之像素發光層與像素電極；使該感光性薄膜相同帶電，以紅色、綠色及；藍色3色中做為第2色之圖案進行曝光，形成靜電潛像；將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影劑進行顯影，將由帶電之該粉體顯影劑所成之覆蓋第2色之像素區域以外之區域之第2光罩，形成於與該第1光罩位置相偏移之位置；

五、發明說明（5) 電子輪送層及像素依序均勻地堆積第2色之發光層、電極層； a ，堆積後’利用靜電潛像之電荷，將用為該第之該粉體顯影劑，由棘命遁播卜罩 ^ ^ ^ ^ ΐ 2 k Λ /Λ ^ 料π: 案像素發光層與像素電極；使该感光性薄臈相同帶電，以紅色、綠色及藍色3色中做為第3色之圖案進行曝光，形成靜電潛像色色進扞=亥感ί性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影劑 :二j ’將由帶電之該粉體顯影劑所成之覆蓋第3色之 Λ外之區域之第3光罩，形成於和該第1光罩位置及该第2光罩位置皆偏移之位置； f序均勻地堆積第3色之發光層、電子輸送層及電極層；於堆積後’利用靜電潛像之電荷，將用為該第3光罩之該粉體顯影劑，藉由轉印選擇性地將該堆積體一同除去，形成該第3色之像素圖案之像素發光層與像素電極；分別形成所希望之像素圖案之紅色，綠色及藍色3色之像素發光層與像素電極。作用 ★依據本發明之有機EL發光板之製造方法，於成膜於玻璃等透明基板之透明或半透明之共同電極上，形成有機感光體並使帶電’並擇性地曝光成所指定之圖案而形成靜電潛像後’於發光部以外部分形成靜電潛像，使用一定粒徑 443074 五、發明說明（6) 之具帶電量之粉體顯影劑’對該靜電潛像進行顯影，而形成像素之分隔壁。又，依據本發明之彩色有機EL發光板之製造方法，於各顏色，使形成於透明電極侧之有機感光體帶電並進行曝光，形成該色之發光點以外部分（亦即，區分2色之點寬+ 間隔部分）之靜電潛像，使用顯影劑進行顯影，以顯影部分形成密接光罩。、/接著，實施以下製程：其依序且均勻地藉由如沈積方法形成該色之發光層、電子輸送層及像素電極層後，藉由將形成分隔壁或密接光罩之顯影劑自發光板基板除去，而得到該色之發光像素及像素電極。所得到之有機EL發光板之點間距及間隔寬度，係由曝光精度及顯影劑粒徑而決定，可形成大小為丨〇从m左右之微細圖案。又’藉由上述方法，因為不會如前述之第丨習知方法般，於使用與基板分離之光罩板以真空沈積法形成薄膜時因光罩之浮飄而造成沈積時之覆蓋於段差部，故不會產生顏色偏差，位置偏移，可製程邊緣清晰之發光板。因不需 ^行光罩之位置對準，可減少真空製程，故能楗高發光板製作製程之速度。邀隹實施例之詳細_日弓以下，以圖說明本發明。首先，如圖〖所示於玻璃等透明基板1上，形成氧化錫銦（IT〇)、氧化錫薄膜等透明

第10頁 443 0 7 4 五、發明說明（7) 之共同電極2。又，共同電極2亦可為半透明。形成共同電極2之薄膜形成方法，可使用濺鍍法、電子束法或化學反應法等。於透明電極2上，形成由有機電荷產生層3及有機電荷移動層4所成之有機感光體層。有機電荷產生層3係於如丁縮醛樹脂上使用分散有機電荷產生劑之塗液而成膜。有機電荷產生劑可使用無金屬酿菁、銅狄菁、鈥氧基酿菁、氧釩基酞菁等酞箐化合物、二萘嵌苯系色素、多環醌系色素、斯夸f色素（Squarylium dye)、甘菊藍色素 (azulenium dye)等《有機電荷產生層3最好至少具有〇〇4 β m膜厚。 ’、有機電荷移動層4係於如聚碳酸樹脂上，使用分散電洞移動性有機化合物之塗液而成膜。電洞移動性有機化合物可使用N，Ν’ -二苯基-N，-二（3-甲基苯基）一l 聯苯 -4,4’-二胺（簡稱丁？0)^’-二笨基11，„雙^_萘基） -1，1’ -聯苯-4, 4’ -二胺（簡稱α-NPD)等二胺衍生物、 4，4 ’4 -二（3-甲基本基苯基胺基）一三苯胺等芳基胺系衍生物、p等畊唑、哼唑、吡唑啉等雜環式化合物、腙系化合物、縮合多環式化合物等。此有機電荷移動層4表好至少具有0.04ym膜厚。電荷產生層3及電荷移動層4之薄臈形成方法，可使用浸潰法或旋轉塗佈法。由電荷產生層3與電荷移動層4所成之有機感光體層之膜厚，因考慮載子移動度及由玻S璃基板側之取光性，故越薄越好。然而，若太薄時，會造成由於

4 4 3 0 7 4 五 '發明說明（8) 針孔等而導致之絕緣破壞。另一方面，有機感光體層之臈厚若變厚時，會使所完成之有機EL發光板所需之驅動電壓變得過高，故上限最好設為25 左右。整體而言，有機感光體層之膜厚最好為0.1〜5//Π1左右。而電荷產生層3與電荷移動層4之膜厚比以1 :1〜1 :20為適當。其後製程因可分為幾種樣態，故以下分別說明各樣態。第1樣態使用如圖2所示之具有電暈充電管導線5a及柵極5b之電暈充電管（scorotron)等之電暈充電器5，或使用如圖3 所示之電刷式充電器、葉片式充電器或滾筒式充電器等接觸式充電器6，使形成於基板之有機感光層帶電。以透明電極2為接地電位時之感光體帶電電位v〇，依形成之有機膜膜厚或移動度而改變，而使用負帶電顯影劑，進行反向顯影時，則為-300〜-1200V左右。因此，為電暈充電管時，因伴隨著放電現象，故對電暈充電管導線5a之施加電壓為2KV至數KV左右。另一方面，若為接觸式充電器時，因於電刷、葉片或滾筒與感光層間具接觸電阻，故對接觸式充電器施加較感光體帶電電位V0大1〇〇〜3〇〇V左右之電壓（-400 〜-1 50 0V 左右）。其次’如圖4所示，於反向顯影時，使用雷'射或LED等曝光器8 ’選擇性地掃瞄沈積目標發光部以外之部分，進行圖案曝光，或介著形成圖案之光罩，對沈積目標發光部以外之部分’均勻地進行曝光。亦即，使充電後之感光體

第12頁 v 443074_ 五、發明說明（9) 曝光成欲形成之像素發光層之點圖案之反向圖案β此時，透明電極2與接地相連接。曝光器之波長為電荷產生層吸收波長之78 〇ηπι左右。此時’雷射光等光到達電荷產生層，產生電洞—電子對，此等電洞及電子相解離’電子介著透明電極2散至地面，而電洞則介著基於感光體表面帶電電位^〇之電場而植入並移至電荷移動層，而到達感光體表面。到達表面之電洞與帶電電荷相結合，藉由消減帶電電荷而形成如圖5所示之曝光電位Vi之靜電潛像9。於大面積基板上形成較粗圖案時，則使用光罩以LED 進行相同曝光較有效’而另一方面’於形成微細複雜圖案時’則雷射掃目苗曝光方式較有效。接著’使透明電極2保持為接地電位，以顯影劑1 〇，對靜電潛像進行顯影。顯影劑1〇可使用由選自聚酯、笨乙烯-丙烯酸共聚物及丙烯酸之高分子中混練帶電控制劑 (CCA)，再將其粉碎成適當粒徑之粉碎顯影劑，或於該高分子聚合時，使其含帶電控制劑（CCA)，而聚合成適當粒徑為止之聚合顯影劑。正帶電性帶電控制劑可使用苯胺黑染料或第4級銨鹽等。又’負帶電性帶電控制劑可使用單偶氮染料之金屬螯合物等之電子收容性物質。使顯影劑相同帶電使靜電潛像顯影之顯影器，為如圖 21所示之構造。#即，圖示之顯影器具有：漏斗21，貯存 1 0 ’顯影至2 2 ’可進行顯影劑J 〇對形成靜電潛像之感光層之供應β €

第13頁 r 443074 五、發明說明（10) 漏斗21内之顯影劑10，係以攪拌構 ^ ' 藉由圖中以反時鐘方向旋轉驅動之滾、丁祝拌’而應構件24，而供應至圖中之同樣以反二=構成之顯影劑供所構成之顯影劑载持體25。顯影劑载:寺之滾筒或鋁等金屬滾筒、以設於其外周如不鏽鋼賦予導電性之矽酮、腈/ 丁二烯共聚匕奴黑油或乙炔黑而塑膠材料。此顯影劑把持體25表面之彈性邻元八膠^彈性二片薄層形成構件26之接觸壓，將：膠2 = JIS之Α硬度計30〜40度’且更考慮因顯影阻而導致對靜電潛像載持體之攻漏，&由於高電 :=效率下降及霧化等’ 4 了使能得到最佳顯影，使滾请表面與軸間之電阻值為1〇5〜1〇6〇。又，述實施例所使用之粒徑6㈣左右顯影劑能均一充電丄：更送，顯影劑載持體之十點平均表面粗糖度Rz，冑好為工〇以 m以下。供應至顯影劑載持體25之顯影劑1〇，藉由薄層形成構件26而摩擦充電且.限制厚度，而成為顯影劑1層至數層左右之均一薄層。薄層形成構件26係由不鏽鋼、麟青鋼等金屬‘薄片之彈簧材所成。於顯影劑載持體上成為薄層之充電顯影劑，隨著顯影劑載持體之旋轉，而傳送至顯影劑載持體與感光體之對面部分’藉由基於感光體表面之帶電電位v〇、曝光電位Vi與施加於顯影劑載持體之顯影偏壓Vb之電位差之電場’而移動至感光體表面之靜電潛像而成像（圖5)。顯影

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五、發明說明（11) 劑載持體與有機感光體相接觸亦可’ * 離，因顯影劑藉由電場而飛至感而右為相接j $距 3。。_左右亦可。藉由，故即使相離10。〜影部之覆蓋或塵埃。接觸顯影，而可減少對非顯圖5所示之顯影，係為感光性為相同極性之反向顯影：九體電位與顯影劑之帶電極曝先而成之圖5之靜電潛像中，闽_系案，而帶電電位m备雷相〉^ \曝光電位Vl分佈於反向圖之靜電潛後以备；^s ,、'丨为佈於像素點圖案。將如此 1 〇不附著於鹛带』衫劑10進行顯影，則負帶電顯影劑著 ==電Γ(負電位)像素點圖案部分，而J 者於曝光電位ν 1之反向圖案部分。之帶電極11 f程可為如圖5所示之感光體電位與顯影劑體it同極性之反向顯影法，亦可為後述之感光區域π = ΐ之帶電為相反極性之正顯影法。於對較廣

I 二B # ΓΪ 一時’正顯影法較有效，而對微細區域進行顯影時’則反向顯影較有效。一藉由使用顯影器’對靜電潛像進行顯影，如圖6所不，以附著顯影劑形成發光點相互分開之分隔壁u。其次’如圖6所示’將透明電極2偏壓成正電位，藉由如真空沈積法而形成發光層丨2。為了形成綠色或紅色發光層12，可使用代表三（8_喹啉醇）銘（銘喹啉螯合物）之8_經基喳啉金屬螯合物一、〗，4_ ^ (2- f基苯乙婦）苯等之二苯乙稀苯衍生⑱、雙苯乙稀葱何生物、香旦素衍生物、二萘嵌苯衍生物等，做為基質，

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與綠色或釭色之摻雜物共同沈積。綠色之摻雜物使用喹吖啶酮、2, 9-二甲基喹吖啶酮等喹丫唆ig衍生物、或3_(2_苯並嘧唑7二乙基胺基香豆素（香jsl素540)等香豆素衍生物。紅色之摻雜物則使用4-二氰亞曱基_2- f基-6-(p-二甲基胺基苯乙烯）-4H-皮南（簡稱DCM)、4-二氰亞甲基-2-甲基-6-〔 2-(9-久洛尼定）乙烯基〕_4H_噻喃等二氰亞甲基皮南色素、吩惡嗪衍生物（phen〇xaz〇ne derivatives)，或斯夸芽色素。藍色之發光層12則沈積四苯基環戊二烯、五苯基環戊二烯、四笨基丁二烯衍生物、二萘嵌苯衍生物、二苯並丁省、本並祐等而形成。其-人，沈積以三（8 -嗅醇）銘、雙（8_嗜淋醇）鎖等8_ 經基峻啉金屬螯合物、哼畊唑衍生物、二萘嵌苯衍生物等之電子為載子之材料，而形成電子輸送層13。最後以Mg : Ag或A1 : Li之合金或使用共同沈積法，進行真空沈積’形成像素電極層亦即陰極1 4。如此’於附著顯影劑之分隔壁丨丨上與露出感光體表面上’均勻地形成由發光層12、電子輸送層13及像素電極層 (亦即陰極14)所成之3層膜（12 + 13+14)。沈積後’如圖7所示’將透明電極2偏壓成負電位，將用於發光部之分離壁之顯影劑，藉由自發光板基板轉印而除去，進行發光圖案形成、陰極分離及形成像素形成。除去顯影劑之方法，可於沈積後基板上配置厚度左右

第16頁五、發明說明（13) 等高分子薄片或無塵紙等之轉印媒體Η，由轉印 υΛ藉：電暈充電器(電暈充電管等)或接觸式充電 3等）之轉印構件1 6 ’施加正電場，而將用於分離壁之顯影劑轉印至轉印媒體15而除去。此時，3層膜選擇性地與顯影劑共同除去，而使3層膜 (12 + 13 + 14)圖案化。如，，^圖8所示，進行發光部之圖案形成及陰極分而元成單色有機EL發光板。亦即，於電荷移動層η 上，相互分離地形成由發光層12、電子輸送層”及像素電 f(亦即陰極14)所成之3層疊層體。而有機EL發光板中電何產生層3可做為電洞植入層，而電荷移動層4 洞輸送層。第2樣態上述第1實施樣態係進行反向顯影，而如上所述，亦可進行正顯影。以下，說明正顯影之例。至使有機感光層帶電之製程為止，與第丨實施樣態相同。然而，於使用正帶電顯影劑進行正顯影時，感光體帶電電位vo依形成之有機膜膜厚或移動度而改變，其為_1〇〇〜- 1 0 0 0V左右。於圖4之曝光製程中’正顯影係使用雷射或LED等曝光器8，選擇性地掃瞄沈積目標發光部以外之部分‘，進行圖案曝光’或介著形成圖案之光罩’對沈積目標發光部以外之部分，均勻地進行曝光。亦即，使充電後之感光體曝光成欲形成之像素發光層之點圖案。與第1實施樣態相同， 443074 五、發明說明（14) 曝光器之波長為電荷產生層吸收波長之78〇nm左右。此時，曝光電位Π之分布圖案係對應像素點圖案，而位V0部分之S分布圖案，則對應像素點圖案之反向圖案。與第1實施樣態相同，係使用如圊2】所示之顯影器進行顯影。然而，此時，顯影劑丨0係充電成正。於使° 電顯影劑之正顯影製程中，亦於顯影劑載持體上成之充電顯影劑，隨著顯影劑載持體之旋轉，而麵劑載持體與感光體之對面部分，#由基於感光體表面= :電位V0、曝光電位Vi與施加於顯影劑載持體之顯影偏壓 b之電位差之電場，而移動至感光體表面之靜電潛像（圖9)。此時’若以正電顯影劑1〇顯影靜電潛像，象電顯影劑10附著於帶電電位川負電位）之像素點圖案向圖案部分，而不附著於曝光電位Vi之像素點圖索了此時，亦與第1實施樣態相同，顯影劑载持體盘有牆 ”體：接觸亦可，而若為相接近之距離，因：影劑有藉機由電％而飛至感光體，故即使相離1〇〇〜3〇〇左右亦藉由進行非接觸顯影，而可減少對非顯影部之霧化及埃〇湮圖9所示之顯影，係為感光體電位，為相反極性之正顯m以像素點圖案曝^•而帶成電之極 9之靜電潛像中’ #光電位Vi分佈於像素點圖案、而圖電位V0(負電.位）則分佈於像素點圖案之反向電，2偏壓為接地電位，而將如此之靜電潛像以正電=月劑10進行顯影，則正顯影劑1〇附著於帶電電位v〇(負電位）

第18頁 443074 五、發明說明（15) 之反向囷案部分，而不附著於曝光電位π之像素點圖案。其次，如圖10所示，將透明電極偏壓成負電位，藉由 ^真空沈積法，形成由發光層12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層疊層體。形成由發光層12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層疊層體之装程’因與第1實施樣態相同，故省略其說明。沈積後，如圖11所示，將用於發光部之分離壁之顯影劑，藉由自發光板基板轉印而除去，進行發光圖案形成、陰極分離及形成像素形成。除去顯影劑之方法，可將透明電極2偏壓成正電位，於沈積後基板上配置厚度1〇 _左右之聚乙料高分子薄片或無塵紙等之轉印媒體15，由轉印媒體15背面藉由如電暈充電管5之電暈充電器或接觸式充電器（轉印滾筒等）之轉印構件，施加負電場，而將用於分離壁之顯影劑轉印至轉印媒體丨5而除去。此時，3層疊層膜（12 + 13 + 14)亦選擇性地與顯影劑共同除去，而使層疊層膜（12 + 13 + 14)圖案化。 θ 如此圖8所示，進行發光部之圖案形成及陰極分離，而完成單色有機EL發光板。亦即，於電荷移動層14 上，相互分離地形成由發光層12、電子輸送層"及像素電極（亦即陰極14)所成之3層疊層體。有狐發光板之彩色化方法，亦即彩色有肌發光板之製造方法，係依紅色、綠色、藍色3色之各顏色，而實行上述之單色有機EL發光板之製造方法。因此，於以下說明中’因各顏色所實行之製程詳細情形，基本上與上述單 Η 443074 五、發明說明（16)

色有機EL發光板之製造方法相同，故省略說明各細情形。另一方面’彩色有機EL發光板之製造方法亡色有機EL發光板之製造方法相同，可以感 = 劑之帶電極性為相同極性之反向顯影法影顯影劑之帶電極性為相反極性之正顯影法之2體離電位與施，故以下說明各樣態。取〜、貫第3樣態使用感光體電位與顯影劑之帶電極性為相向顯影法之彩色有機EL發光板之製造方法，如下所述。依據上述之單色有機EL發光板之製造方法之第$樣 Ϊ紅!：、綠色、藍色3色中之第1色如紅色之發光層、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層 f體，形成於電荷移動層4上之狀態，如圖丨2所示。與前逑第1樣態之相異點為：反向顯影時，於曝光所希望之2 色發光點以外部分，而形成靜電潛像時，其紅色發光點以外部分相當於〔其他2色分（亦即綠色、藍色）之點寬〕· + 、〔互相分離各顏色之間隔部）β因此，將如此靜電潛像，乂與感光體為相同帶電極性顯影劑進行顯影，而製成分隔壁。此分隔壁因可覆蓋相當於紅色發光點以外部分，二即。〔其他2色分之點寬〕+〔互相分離各顏色之間隔部）之區域’故於彩色有機EL發光板之製造方法時，稱為密接光 ^ 圖1 2中’將透明電極2偏壓成接地電位，最好介著電何移動層4 ’將紅色之陰極1 4偏壓成接地，使於電荷移動

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m _“3074·_____ 五、發明說明（ΙΌ 層4上形成之紅色發光層12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極1 4 )之3層疊層體之感光性薄膜，以負電荷均勻地充電’以紅色、綠色及藍色3色内之第2色，如綠色點圖案之反向圖案’進行曝光而形成靜電潛像。又，圖面中，為了簡化圖面’將發光層12與電子輸送層13表示成一個有機層。又’介著電荷移動層4，將紅色之陰極1 4偏壓成接地時’於紅色之陰極1 4上負電荷並不帶電，而所形成之靜電潛像’同樣地可對應綠色之點圖案之反向圖案。接著，如圖1 2所示’將透明電極2偏壓成接地電位，於均勻地充電時，介著電荷移動層4，將紅色之陰極14偏壓成接地時’介著電荷移動層4，將紅色之陰極1 4偏壓成正電位，使用以負電荷充電之粉體顯影劑，顯影感光性薄膜之曝光部。結果’如圖1 3所示，形成粉體顯影劑所成之分隔壁，亦即第2密接光罩11。此第2密接光罩丨丨係由帶電成負電荷之粉體顯影劑所成’覆蓋相當於綠色之發光點以外部分，亦即〔其他2色分之點寬〕+〔互相分離各顏色之間隔部）之區域。因此，第2密接光罩丨丨覆蓋於由紅色發光詹1 2、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層 #層體上’且形成於與用為形成紅色發光層之密·接光罩 C稱為第1密接光罩）位置相偏移之位置。其後’如圖1 3所示，將透明電極2偏壓成正.電位，藉由真空沈積法依序均句地沈積綠色發光層、電子輸送層與像素電極層。沈積後’利用靜電潛像之電荷，藉由轉印除去用於第

ί 44307 4 五、發明說明（18) 2密接光罩之粉體顯影劑’而形成綠色之像素圖案之像素發光層與像素電極。於此狀態下’如圖1 4所示，於電荷移動層4上’形成紅色發光層 '電子輪送層與像素電極之3層疊層體’及綠色發光層、電子輸送層與像素電極之3層叠層體。圖14中，將透明電極2偏壓成接地電位，最好介著電荷移動層4 ’將紅色與綠色之陰極1 4偏壓成接地，使於電荷移動層4上形成之紅色發光層、電子輪送層及像素電極之3廣疊層體’與綠色發光層、電子輪送層及像素電極之3 層疊層體之感光性薄膜，均勻地帶電，以紅.色、綠色及藍色3色内之第3色，亦即藍色之圖案之反向圖案，進行曝光而形成靜電潛像。又，介著電荷移動層4，將紅色與綠色之陰極1 4偏壓成接地時，於紅色與綠色之陰極丨4上負電荷並不帶電，但所形成之靜電潛像，同樣地可對應藍色之= 圖案之反向圖案。 ” 接著，如於均勻地充電之陰極1 4偏壓色之陰極1 4偏劑，顯影感.光由粉體顯影劑密接光罩11係當於藍色之發〔互相分離各圖14所示，製程中，介成接地時，壓成正電位性薄膜之曝所成之分隔由帶電成負光點以外部顏色之間隔 ey. I if j 著電荷移動層4，將紅色與綠色介著電荷移動層4，將紅色與綠 ’使用以負電荷充電之:粉體顯聚光。結果’如圖15所示，形咸壁’亦即第3密接光罩‘1!。此第〔電荷之粉體顯影劑所成，覆蓋相分’亦即〔其他2色分之點寬〕部）之區域。因此，第3密接光罩

第22頁 f 443074 1、發明說明（19) -- 11覆蓋於由紅色發光層12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層疊層體上，及由綠色發光層12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層疊層體上，且形成於與用為形成紅色發光層之第1密接光罩及與用為形成綠色發光層之第2密接光罩）位置相偏移之位置、。' 其後，如圖1 5所示，將透明電極2偏壓成正電位，藉由真空沈積法依序均勻地沈積藍色發光層、電子輸送層與像素電極層β沈積後，利用靜電潛像之電荷，藉由轉印除去用於第3密接光罩之粉體顯影劑，而形成藍色之像素圖案之像素發光層與像素電極。如此’如圖16所示’於電荷移動層4上，相互分離地形成紅色發光層 '電子輸送層與像素電極之3層疊層體，綠色發光層、電子輸送層與像素電極之3層疊層體，及藍色發光層、電子輸送層與像素電極之3層疊層體。第4樣態使用感光體電位與顯影劑之帶電極性為相反極性之正顯影法之彩色有機EL發光板之製造方法，如下所述。依據上述之單色有機EL發光板之製造方法之第2樣態’由紅色、綠色、藍色3色中之第1色如紅色乏發光層 12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)所成之3層疊層禮’形成於電荷移動層4上之狀態，如圖1 7所‘示《與前述第2樣態之相異點為：正顯影時，將希望之紅色發光點曝光而形成之靜電潛像，以與感光體為相反帶電極性顯影劑進行顯影而形成之分隔壁，其覆蓋相當於紅色發光點以

第23頁 443074 五、發明說明（20) 外部分，亦即〔其他2色分（亦即綠色、藍色）之點寬〕+ 〔互相分離各顏色之間隔部）之區域’如此形成之分隔壁與第3樣態相同，稱為密接光罩。 ^ 圖1 7中’將透明電極2偏壓成接地電位，最好介著電荷移動層4，將紅色之陰極1 4偏壓成接地，使於電荷移動層4上形成之紅色發光層12、電子輸送層13及像素電極（亦即陰極14)之3層疊層體之感光性薄膜，均勾地帶電，以紅色、綠色及藍色3色内之第2色’如綠色點圖案之反向圖案’進行曝光而形成靜電潛像。又，圖面中，為了簡化圖面，於第4樣態中’亦將發光層12與電子輸送層13表示成一個有機層。 +接著，如圖1 7所示’將透明電極2偏壓成接地電位，介著電荷移動層4，將紅色之陰極1 4偏壓成負電位，使用帶正電荷之粉體顯影劑，顯影感光性薄膜之曝光部，如圖 1 8所示，形成由粉體顯影劑所成之分隔壁，亦即第2密接光罩11。此第2密接光罩11係由帶電成正電荷之粉體顯影劑所成’覆蓋相當於綠色之發光點以外部分，亦即〔其他 2色为之點寬〕+〔互相分離各顏色之間隔部）之區域。因此，第2密接光罩11覆蓋於由紅色發光層12、電手輸送層 13及像素電極（亦即陰極丨4)所成之3層疊層體上，且形成於與用為形成紅色發光層之密接光罩（稱為第丨密接光罩）位置相偏移之位置。其後，如圖1 8所示，將透明電極2偏壓成正電位，藉由真空沈積法依序均勻地沈積綠色發光層、電子輸送層與 ^ 443074 五、發明說明（21) 像素電極層。沈積後，利用靜電潛像之電荷，藉由轉印除去用於第 2密接光罩之粉體顯影劑，而形成綠色之像素圖案之像素發光層與像素電極。於此狀態下，如圖1 9所示，於電荷移動層4上’形成紅色發光層、電子輸送層與像素電極之3層曼層體，及綠色發光層、電子輸送層與像素電極之3層疊層體》圖19中，將透明電極2偏壓成接地電 ^ -........... Ί儿取〜"夺电荷移動層4 ’將紅色與綠色之陰極丨4偏壓成接地，使於電荷移動層4上形成之紅色發光層、電子輸送層及像素電極之3層疊層體，與綠色發光層、電子輪送層及像素電極之3 層叠層體之感光性薄膜’均勻地帶電，此外，更以紅色、綠色及藍色3色内之第3色，亦即藍色之圖案之反向圖案，進行曝光而形成靜電潛像。 ” 接著，如圖19所示，將透明電極2偏壓成接地電位，著電何移動層4 ’將紅色與綠色之陰極14偏壓成負電以：電荷充電之粉體顯影劑’顯影感光性薄臈之 j曝y贫如圖20所示’形成由粉體顯影劑電荷之粉體顯影劑所成’覆蓋相當於藍色之點：^ 分，亦即〔其他2色分之點寬〕+〔互相分離各色邵 1^2 ! Ϊ^ ^ 11 1 ^ ^ 層體上，Si色=極輸送層〗3及像素電極

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第25頁 443074 五、發明說明（22) (亦即陰極14)所成之3層疊層體上，且形成於與用為形成紅色發光層之第1密接光罩及與用為形成綠色發光層之第2 密接光罩）位置相偏移之位置。其後，如圖20所示，將透明電極2偏壓成負電位，藉由真空沈積法依序均勻地沈積藍色發光層、電子輸送層與像素電極層。沈積後，利用靜電潛像之電荷’藉由轉印除去用於第 3密接光罩之粉體顯影劑，而形成藍色之像素圖案之像素發光層與像素電極。如此，如圖16所示，於電荷移動層4上’相互分離地形成紅色發光層、電子輸送層與像素電極之3層疊層體，綠色發光層、電子輸送層與像素電極之3層疊層體’及藍色發光層、電子輸送層與像素電極之3層疊層體。又，上述製程因可任意地於微細區域進行曝光及顯影，故可任意改變成膜順序。 [實施例] , 實施例1 於厚度0.7ram之玻璃基板上，藉由減;鐘形成20nm之ΙΤ0 膜做為陽極，並藉由微影及濕式蝕刻形成透明電胃極。薄片電阻為15Ω/□、配線寬為300em，間隔寬度為30弘〇1。塗於其上之電荷產生層（電洞植入層），其係將鈦氧基酞菁與丁縮醛樹脂之重量比秤量為3_0 :1，並溶於THF (四羥基呋喃）’且以混合器加以分散，而製成固體成分比率為3wt%之分散塗料。藉由浸潰法，使塗於該玻璃基板之塗

第26頁 443074 五、發明說明（23) 料乾燥而形成膜厚300nm之薄膜。電荷輸送層（電洞輸送層）係將N，Ν’ -二苯基-N, N，-二 (3-甲基苯基聯苯“4, 4’-二胺及聚碳酸之重量比秤量為2. 5 :1，溶於二氣甲烷’而製成固體成分比率3wt%之分散塗料。藉由浸潰法將溶於二氣甲烷之塗液形成膜厚 3 0 0nm之薄膜。將如上所述形成有機感光體之基板，使用充電滚筒之接觸式充電器而使其帶電。對充電滾筒之施加電壓為 -700V ’而以怪壓控制對玻璃基板之表面帶電電位v〇為 -400V 。其次，以半導體雷射，使與IT0之配線圖案成直交地對陰極間間隔部以外部分（所希望之像素圖案處），選擇性地進行圖案曝光。曝光器之波長為電荷產生劑之吸收波長 78 0nm。曝光量為〇· 3mW/cm2，曝光光點直徑為1〇以⑺，曝光寬度為30 ，而得到曝光電位Vi=_4〇v之靜電潛像。其次，用為顯影之顯影劑，係使用於苯乙烯_丙烯酸共聚物聚合時含正帶電性帶電控制劑（CCA)之體積中心粒徑為Mm、平均帶電量為8;zC/g之球形聚合顯影劑，將顯影偏壓Vb = -：f60V施加於顯影劑載持體（滚筒）25，，而進行顯 =)’使顯影劑（分離壁）附著於陰極間之間隔部（非曝光於其上，綠色發光層係將做為基質之三（8喹鋁喳啉螯合物）與做為摻雜物之喳d丫啶酮（摻雜 5wt%)共同沈積25nm，拉荽，跬士冲接'晨度為接者藉由’尤積Μ11111之做為電子輸

443074 五、發明說明（24) 送層之三（8 -唆淋醇））銘而形成。其次，電極則是藉由來自Mg : Ag二源之共同沈積，沈積1 5 0 nm而形成陰極。最後，於沈積後之基板上配置厚度10 左右之無塵紙’使用轉印滾筒，施加轉印偏壓Vp =-400V，將用於分離壁之顯影劑藉由自發光板基板轉印至無塵紙而除去。如此’進行發光圖案形成、陰極分離及像素形成。可製成點間距.為300x300仁m、間隔為30 // m、像素數為256x64點之綠色發光板。實施例2 於厚度1.1mm之玻璃基板上，藉由濺鍍形成2〇nm之ITO 臈做為陽極’並藉由微影及濕式蝕刻形成透明電極。薄片電阻為15 Ω / □、配線寬為160 ，間隔寬度為50 // m。電荷產生層（電洞植入層）係將鋼酞菁與丁縮醛樹脂之重量比秤量為3. 0 : 1 ’並溶於THF且以混合器加以分散，而製成固體成分比率為5wt%之分散塗料。於玻璃基板形成 ΪΤΟ薄膜之基板上’以旋轉塗佈法，將該塗料形成為膜厚為20 0nm之薄膜。電荷輸送層（電洞輸送層）係將N，N’ —二笨基_N，N，—雙 (α -萘基）-1，ι’_聯苯_4,4’-二胺及聚碳酸之重董比秤量，2· 5 : 1，溶於二氣甲烷’而製成固體成分比率以以之分散塗料。藉由旋轉塗佈法將該塗液於玻璃基板上形成膜厚 3 0 0nm之薄膜。將如上所述形成有機感光體之基板，使用電暈充電管使其充電為表面之帶電電位4V〇 = _4〇〇v。電暈充電管導線

第28頁 _4 43Q74 五、發明說明（25) ~ 5a之施加電壓DC約為-3KV，恆流控制為5〇〇 wa，栅極5b電壓Vg=-400V » 其次’為了進行反向，以半導體雷射’使與^^之配線圖案成直交地對所希望之發光色圖案以外處（相當於陰極間間隔部+所希望顏色以外處之部分），選擇性地進行圖案曝光。曝光器之波長、曝光量及曝光光點直徑與實施例 1相同。而形成感光層表面之帶電電位V0 = _400V，曝光電位Vi=-50V之靜電潛像。顯影劑係將混練使用單偶氮染料之金屬螯合物等電子接受性物質之帶電控制劑（CCA)之聚酯樹脂，粉碎至體積中心粒徑為6/zm、平均帶電量為-u #c/g，施加顯影偏壓 Vb = -1 50V而進行顯影’使顯影劑附著於欲沈積之發光部以外之基板部分（曝光部）。於其上，紅色發光層係將做為基質之三（8_喹啉醇）鋁與做為摻雜物之4-二氰亞甲基-2-甲基-6-(p-二甲基胺基苯乙烯）-4H-皮南（DCM ’摻雜濃度為5wt%)共同沈積25nm，接著，藉由沈積35nm之做為電子輸送層之三喳啉醇））鋁（鋁喹啉螯合物）而形成。其次，陰極則是藉由來自Ai : Li之共同沈積30nm後’再僅沈積ι〇〇ηπ]之銘而形成。製成紅色圖案後’於基板上配置厚度1〇以^左右之無塵紙，使用電暈充電管施加轉印偏壓Vp = 400V，，而將分隔壁（顯影劑層’亦即密接光罩）自基板除去（圖11 ) ^電暈充電管導線5a之施加電壓DC約3KV ’恆流控制5〇〇 VA，柵極5b 電壓 Vg = 40 0V。

第29頁 ^f 443 0 7 4 _ 五、發明說明(26)— 對於綠色發光部之形成，亦均勻地重複充電、曝光、顯影、沈積及轉印製程。反向顯影因先形成之紅色發光部 =表面為陰極，藉由接地而不帶電，與進行曝光均勻地顯衫。此外，為了更加大顯影效率，可對陰極部施加與顯影劑之極性為相反極性之偏壓即可（圖12)。綠色發光部係將以三（8-喽啉醇）鋁為基質’與做為摻雜物之29_二甲基喳 0丫咬酮（摻雜濃度為5wt%)共同沈積25nm，再沈積35nm之三 (8-喹啉醇）鋁做為電子輸送層後，以共同沈積，涔積3〇nm 之A1、L i後，再僅沈積1 〇〇nm之鋁做為陰極（圖丨3)。與紅色時相同，藉由轉印製程，除去分隔壁（顯影劑層，亦即密接光罩）。藍色發光部之形成’亦均勻地重複充電、曝光、顯影、沈積及轉印製程。藍色發光部係沈積25nm之四苯基丁二婦’再以沈積方法以與紅色、綠色為同樣材料及膜厚形成電子輸送層及陰極（圖15)。與紅色時相同，藉由轉印製程除去分隔壁（顯影劑層，亦即密接光罩），製成有機以發光板。可製成點間距5 0 // m、間隔1 5 // m、像素數：水平 320x垂直240點之可顯示彩色之發光板（圖16)。實施例3 ‘ 於厚度1.1mm之玻璃基板上，藉由濺鍍形成20nm之ΙΤ0 膜做為陽極’並藉由微影及濕式蝕刻形成透明電極。薄片電阻為15Ω/□、配線寬為I60jt/m，間隔寬度為50#m。電荷產生層（電洞植入層）係將無金屬酞菁與丁縮醛樹脂之重量比秤量為3 _ 0 : 1，並溶於THF且以混合器加以分

第30頁 443074 五、發明說明（27) 散，而製成固體成分比率為5wt%之分散塗料。於玻璃基板形成IT0薄膜之基板上’以旋轉塗佈法，將該塗料形成為膜厚為200nm之薄膜。電荷輸送層（電洞輸送層）係將Ν，Ν’ -二苯基-N, Ν’ -雙 (萘基）-1,1’ _聯苯-4,4’-二胺及聚碳酸之重量比科量為2· 5 : 1 ’溶於二氣甲烷，而製成固體成分比率2wt%之分散塗料。藉由旋轉塗佈法將該塗液於玻璃基板上形成膜厚 3 0 0nm之薄膜。將如上所述形成有機感光體之基板，使用電暈充電管使其充電為表面之帶電電位為V0 = -400v。.電暈充電管導線 5 a之施加電壓D C約為-3 K V，恆流控制為5 0 〇以A，柵極5 b電壓Vg=-400V 。其次，以半導體雷射，使與IT0之配線圖案成直交地對所希望之像素圖案處，選擇性地進行曝光（正顯影）。曝光器之波長、曝光量及曝光光點直徑與實施例1相同。而形成感光層表面之帶電電位V〇 = -4〇〇V，曝光電位Vi=-40V 之靜電潛像。

顯影劑係使用於苯乙烯-丙烯酸共聚物聚合時含正帶電性帶電控制劑（CCA)之體積中心粒徑為6 y m、平均帶電量為ίο #c/g之球形聚合顯影劑，施加顯影偏壓仏^丨50V 而進行顯影’使顯影劑附著於欲沈積之發光部以外之基板部分。於其上’紅色發光層係將做為基質之三（8 ~喹淋醇）鋁與做為摻雜物之4 -二氰亞甲基~2-甲基-6-( p-二曱基胺基

第31頁 443 07 4____ 五、發明汹⑽ ' 苯乙烯）-4H-皮南（DCM，摻雜濃度為5wt%)共同沈積“⑽，接著，藉由沈積35nm之做為電子輸送層之2_(4，_t 丁基苯基）-5-(4’ -聯苯）1，3, 4,嘮畊唑而形成。其次，藉由共同沈積30nm之A1 :Li，再僅沈積i〇〇nm2鋁而形成陰極。製成紅色圖案後，於基板上配置厚度丨〇私m左右之聚乙晞等高分子薄片’使用電暈充電管施加轉印偏壓” =3〇{^，而將分隔壁（顯影劑層，亦即密接光罩）自基板除去（圖u) ^ 電暈充電管導線5a之施加電壓DC約-2. 7KV，控制為惶流 500vA，柵極 5b 電壓 Vg 為-300V。對於綠色發光部之形成，亦均勻地重複充電、曝光、顯影、沈積及轉印製程。正顯影中，因對有機感光體之表面電位C帶電電位）使用相反極性之顯影劑，進行顯影，故對先形成之紅色發光部之陰極，施加與顯影劑之極性為相反極性之偏壓-250V(圖17)。藉此，於紅色發光部上亦為被顯影及遮蔽之狀態。亦即，形成分隔壁（顯影劑層，亦即密接光罩）。綠色發光部係將以三（8-喹啉醇）鋁（Alq3)為基質，與做為摻雜物之喳吖啶酮（摻雜濃度為3wt%)共同沈積 25nm，再沈積 35nm 之 2-(4’-t- 丁基苯基）-5-(4，二聯笨）1，3，4 -哼啡唑做為電子輸送層後，以共同沈積，沈積 30nm之A1、Li後’再僅沈積ι〇〇ηιη之鋁做為陰極〈圖18)。與紅色時相同’藉由轉印製程，除去分隔壁（顯影劑層，亦即密接光罩）。藍色發光部之形成，亦均句地重複充電、曝光、顯

第32頁 443074 五、發明說明（29) 影、沈積及轉印製程。藍色發光部係沈積25nm之五苯基環戍二烯’再以沈積方法以與紅色、綠色為同樣材料及膜厚形成電子輸送層及陰極。與紅色時相同，藉由轉印製程除去分隔壁（顯影劑層，亦即密接光罩），製成有機虬發光板0 可製成點間距5 0以m、間隔1 5以ra、像素數：水平3 2 0 X 垂直2 4 0點之可顯示彩色之發光板（圖丨6 )。習知例

I 為了與上述實施例相比較，於厚度llmm之玻璃基板上:將膜厚120nm表面電阻15Ω/□之ιτο薄膜藉由濺鍍艰成陽極以做為透明電極，於其上，以真空沈積形成5〇nm之 N’N _二笨基~N，N’_雙(萘基）-1，Γ _聯苯〜4, 4,-二胺，做為電洞植入、輸送層。於其上，於三（8，喹啉醇）鋁中摻雜5w%之DCM而共同沈積25nm之紅色發光層材料，再於三 (8_喳啉醇）鋁中與做為摻雜物之3w%之喳吖啶酮共同沈積成25nm^綠色發光層，再沈積25rm之五笨基環戊二烯做為藍色發光層，接著沈積3〇nm之鋁喹啉螯合物做為電子輸送層0 -

紅色、綠色、藍色各3色之顏色分離係藉由移動金屬次，使用金屬光罩，使其與1T0、有機薄、乂 ’藉由共同沈積30nm之Al、Li，且於其後僅沈積12〇nm之紹而形成陰極，如此製成有機EL發光板。於上述光罩之顏色分離方法中，點間距爪、間隔 4 0以m以下之弁丨置命φ μ她置對準困難’而容易產生色差，使發

443074 五、發明說明（30) 光板之製作困難° 發明效果如上所述，依據本發明’因於透明電極上形成有機感光體，選擇性地進行曝光、顯影’而形成發光圖案，與習知之用於有機EL發光板之製造方法之於真空沈積移動光罩板之方法相比較’不會由於光軍之歪曲或位置偏移而導致材料覆蓋於段差部及分離不足’可確保高尺寸精度及位篆精度。相關，故可微細加工至1 0以m左右。此外，發光圖案之分解能因與曝光器、顯影劑之粒猥可改善產出率及不艮又，成膜及顏色分離製程簡便，率0

’使ΙΤ0-有機層界貧變化。藉此，使 r 443074

圖式簡單說明圖1 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，表示於透明基板上形成透明電極及有機感光體薄膜之狀態之剖面圖β 圖2 ·本發明實施例之有機E L發光板之製造方法中，說明使感光體薄膜均勻地帶電之第1方法之剖面圖。圖3 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明使感光體薄膜均勻地帶電之第2方法之剖面圖。圖4 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明感光體薄膜曝光樣態之剖面圖。圖5 :本發明實施例之有機E L發光板之製造方法中，說明欲第1樣態之顯影方法之剖面圖。圖6 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明於第1樣態之形成發光層、電子輸送層、陰極之疊層體之方法之剖面圖。圖7 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明於第1樣態除去發光層、電子輸送層、陰極之疊層體之方法之剖面圖。圖8 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，於第1樣態及第2樣態所形成之有機EL發光板之概·略剖面圖。圖9 :本發明實施例之有機EL發光板之製造·方法中，說明於第2樣態之顯影方法之剖面圖。圖1 0 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中說明於第2樣態形成發光層、電子輸送層、陰極之疊層體

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圖式簡單說明之方法之剖面圖。圖11 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中說明於第2樣態除去發光層、電子輸送層、陰極聶圖1 2 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中說明於第3樣態之為了第2色之靜電潛像之顯影方法’ 圖。 < Μ面圖1 3 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中說明於第3樣態之除去第2色之發光層、電子輸送層、’ 之疊層體之方法之剖面圖。去極圖14 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明第3樣態之為了第3色之靜電潛像之顯影方法之Λ ’ 圖。面圖1 5 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明於第3樣態之除去為了第3色之發光層、電子輪送層、陰極之疊層體之方法之剖面圖。圖16 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，於第3樣態及第4樣態所形成之彩色有機EL發光板之概略剖面圖。 . 口

圖17 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明於第4樣態之為了第2色之靜電潛像之顯影方法之剖面圖。圖18 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明於第4樣態之除去為了第2色之發光層、電子輸送層、

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f·1 443 07 4 88117191 90 年 1 月 12 日修正

II 陰極之疊層體之方法之剖面圖》 ' 圖19 :本發明實施例之有機EL發光板之製造方法中，說明於第4樣態之為了第3色之靜電潛像之顯影方法之剖面圖。圖20 :本發明實施例之有機el發光板之製造方法中，說明於第4樣態之除去為了第3色之發光層、電子輪送層、陰極之#層體之方法之剖面圖β 圖21 :用於本發明實施例之有機EL發光板之製造之顯影器之剖面圖。圖22 .說明習知例之無機EL發光板之製造製程之剖面 if 月 /工 Ϊ' 曰 f所 2,提之 5 5a 5b VO Vi Vb Vp 透明基板 •共同電極有機電荷產生層有機電荷移動層電暈充電器 ~電暈充電管導線 ~栅極 ~帶電電位〜曝光電位』〜顯影偏壓 ~ 轉印偏壓 6〜接觸式充電器

第37頁 443074 案號88117191_年月日修正圖式簡單說明 7 - 表面電荷 8 - 曝光器 9 ~ 靜電潛像 10〜顯影劑 11 ~ 分隔壁 12 ~ 發光層 13 ~電子輸送層 14〜陰極 1 5〜轉印媒體 1 6 ~ 轉印構件 17〜絕緣層 1 8〜無機發光層 19〜光罩 19A〜窗圖案 2 0 ~ 沈積源 2 1 ~漏斗 2 2〜顯影室 2 3〜攪拌構件 24 ~顯影劑供應構件 25〜顯影劑載持體 26〜薄層形成構件 1 0 0〜沈積源（1 2、1 3、1 4之材料） 101 ~ 有機層a 102 ~有機層b 103 ~有機層c

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Claims

修正 V 443074 88117191 90 年 1 月 12 日铬 "~~—---; 1，一種有機電致發光板之製造方法，其為在至少—' 為透明或半透明之相對之一對電極間疊層有機發光S 邊有機EL發光板中，形成像素發光層與像素電極之方法之其特徵為： ^ 備妥於一邊之面形成有透明或半透明之共同電極之明基板； … 、於該共同電極上，形成具有電荷產生層與電荷移動$ 之感光性薄膜；使該感光性薄膜相同帶電，以所給圖案進行曝光形成靜電潛像；將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影齊) 進行顯影，而形成由帶電之該粉體顯影劑所成之分隔壁；依序均勻地堆積發光層、電子輸送層及像素電極層；於堆積後，利用該靜電潛像之電荷，將用為該分隔壁之該粉體顯影劑，藉由轉印選擇性地將該堆積體一同除去；且同時進行像素發光層之圖案形成與像素電極層之分離，形成所希望之像素圖案之像素發光層與像素電極。 2. 如申請專利範圍第1項之有機電致發光板之製造方法，其中，發光層、電子輸送層與像素電極層之該堆積，係藉由真空沈積法，依序均勻地沈積發光層、電子輸送層與像素電極層。 3. 如申請專利範圍第1項之有機電致發光板之製造方法’其中’該顯影係使用一定粒徑之具帶電量之粉體顯影

第40頁 443074 -- 案號88117191__年月日修正___ 六、申請專利範圍劑而進行。， 4，如申請專利範圍第1至3項中任一項之有機電致發光 •板之製造方法’其中，顯影劑係使用由選自聚酯、苯乙稀 -丙烯酸共聚物及丙烯酸之高分子中混練帶電控制劑，再將其粉碎成適當粒徑之粉碎顯影劑，或於該高分子聚合時’使其含帶電控制劑，而聚合成、通當粒徑為止之聚合顯影劑。 5. 如申請專利範圍第4項之有機電致發光板之製造方法’其中，該感光性薄膜係為由有機電荷產生層與有機電荷移動層所成之有機感光體層，該有機電荷產生層與該有機電荷移動層各具有至少為〇.〇4以瓜之膜厚。 6. 如申請專利範圍第5項之有機電致發光板之製造方法’其中’該有機電荷產生層係使用於丁縮醛樹脂分散有機電荷產生劑之塗液而成膜，該有機電荷移動層係使用於聚碳酸樹脂分散電洞移動性有機化合物之塗液而成膜。 7. 如申請專利範圍第i至3項中任一項之有機電致發光板之製造方法’其中’該感光性薄膜係為由有機電荷產生層與有機電荷移動層所成之有機感光體層，該有機電荷產生層與該有機電荷移動層各具有至少為〇〇4/ΖΙΠ之膜厚。 8. 如申請專利範圍第7項之有機電致發光板之製造方法’其中’該有機電荷產生層係使用於丁縮醛樹脂分散有機電荷產生劑之塗液而成膜，該有機電荷移動層係使用於聚碳酸樹脂，散電洞移動性有機化合物之塗液而成膜。 9. 如申清專利範固第1項之有機電致發光板之製造方

*' 443〇7 4 _案號 881171m__车屑曰__修正六、申請專利範圍 ' _ ----- 法，其中，該顯影係將該感光性薄膜與顯影劑把持體分 100〜300/zm左右，而進行非接觸顯影。離 10. —種有機電致發光板之製造方法，於至少—邊供透明或半透明之相對之一對電極間疊層有機發光材料之^ 機EL發光板中’於各色相互分離地形成像素發光層與有電極之方法，其特徵為： — ’ 素準備於一邊之面形成有透明或半透明之共同電極之明基板； ^ 於該共同電極上，形成具有電荷產生層與電荷移動之感光性薄膜; 使該感光性薄膜相同帶電，以紅色、綠色及藍色3色中做為第1色之圖案進行曝光，形成靜電潛像； 1 將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影劑進行顯影，而形成由帶電之該粉體顯影劑所成之覆蓋第1 色之像素區域以外之區域之第1光罩；依序均勻地堆積第1色之發光層、電子輸送層及像素電極層； ’ 於堆積後，利用靜電潛像之電荷，將用為該第丨光罩之該粉體顯影劑，藉由轉印選擇性地將該堆積體一同除去’形成該第1色之像素圖案之像素發光層與像素電極；使該感光性薄膜相同帶電，以紅色、綠色及藍色3色中做為第2色之圖案進行曝光，形成靜電潛像；將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影劑進行顯影’將由帶電之該粉體顯影劑所成之覆蓋第2色之

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_案號 881171m 六、申請專利範圍像素區域以外之區域之第2光罩’形成於與該第1光罩位置相偏移之位置； ' 依序均勻地堆積第2色之發光層、電子輸送層及像素電極層；於堆積後，利用靜電潛像之電荷，將用為該第2光罩之該粉體顯影劑’藉由轉印遽擇性地將該堆積體一同除去’形成該第2色之像素圖案之像素發光層與像素電極；使該感光性薄膜相同帶電，以紅色、綠色及藍色3色中做為第3色之圖案進行曝光，形成靜電潛像；將該感光性薄膜之曝光部或非曝光部，以粉體顯影劑進行顯影，將由帶電之該粉體顯影劑所成之覆蓋第3色,之像素區域以外之區域之第3光罩，形成於與該第^光罩位置及該第2光罩位置皆偏移之位置；依序均句地堆積第3色之發光層、電子輸送層及像電極層；於堆積後，利用靜電潛像之電荷，將用為該之該粉體顯影劑，蘊A趟允、s梅L a ^ 去，來出妨當Λ 轉印選擇性地將該堆積體一同除及 χ 之像素圖案之像素發光層與像素電極； ^別形成所希望之像素圖案之紅之像素發光層與像素電極。艰巴及藍色3色方法範項之有機電致發光板之製造，、藉真二沈積法，依序均勻地沈積發光層、電子輸第43頁 443074

送層與像素電極層。 12·如申請專利範圍第1〇項之有機電致發光板之製造方法’其中，該顯影係使用一定粒徑之具帶電量之影劑而進行。體顯 13. 如申請專利範圍第;[〇至12項中任一項之有機電致發光板之製造方法，其中，顯影劑‘使用由選自聚鴨、乙烯-丙烯酸共聚物及丙烯酸之高分子中混練帶電控制劑，再將其粉碎成適當粒徑之粉碎顯影劑，或於該高分聚合時，使其含帶電控制劑，而聚合成適當粒徑為:子合顯影劑。之聚 14. 如申請專利範圍第13項之有機電致發光板之製造方法’其中’該感光性薄膜係為由有機電荷產生層與有機電荷移動層所成之有機感光體層，該有機電荷產生層與該有機電荷移動層各具有至少為〇.〇4/zm之膜厚。 Λ 15. 如申請專利範圍第14項之有機電致發光板之製造方法，其中’該有機電荷產生層係使用於丁縮醛樹脂分散有機電荷產生劑之塗液而成膜，該有機電荷移動層係使用於聚碳酸樹脂分散電洞移動性有機化合物之塗液而成膜。 16，如申請專利範圍第1〇至12項中任一項之有機電致發光板之製造方法，其中，該感光性薄膜係為由有機電荷產生層與有機電荷移動層所成之有機感光體層，該有機電荷產生層與該有機電荷移動層各具有至少為0.04 gin之膜厚。 1 7 如申請專利範圍第1 6項之有機電致發光板之製造

443074 案號 88117191 曰修正六、申請專利範圍方法’其中’該有機電荷產生層係使用於丁縮醛樹脂分散有機電祷產生劑之塗液而成膜，該有機電荷移動層係使用於聚碳酸樹脂分散電洞移動性有機化合物之塗液而成膜。 18·如申請專利範圍第1項之有機電致發光板之製造方法，其中，該顯影係將該感光性薄膜與顯影劑把持體分離 100〜3 00 μ m左右，而進行非接觸顯、。 19. 一種有機電致發光板’為於至少一邊為透明或半透明之相對之一對電極間疊層有機發光材料之有機£1^發光板，其具備：透明基板，於一邊之面形成有透明或半透明之共同電極，感光性薄膜，形成於該共同電極上有電荷產生層與電荷移動層；及 ^ ^ 多數疊層體，於該感光性薄膜上形成為像素单位之發光層、電子輸送層及像素電極詹’ 其中，該多數疊層體相互分離。 20. 如申請專利範圍第19項之有機電致發光板，其中，該多數疊層體係依紅色、綠色與藍色分別設置’且相互分離。

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