TW432079B - Process for producing branched or crosslinked polyacetal resin - Google Patents

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TW432079B
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Kaoru Yamamoto
Hajime Serizawa
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Polyplastics Co
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Description

五、新型說明: 【新型所屬之技術領域】 組 J作疋有關於種輪入模組’且特別是一種按鍵模 【先前技術】 機算的進步,各種電子產品,例如計算機、翻詞 =„於-般人的日常生活中。其中,不論何㈣ ϋοσ,/、人機介面多需利用鍵盤作為輸入工具。因此, 鍵盤的按鍵結構的設計也逐漸為業者所重視。 現有按賴組通常⑽衝件連結在歸鍵帽與底層電 板之間’以在使时按壓鍵帽時除能使其抵壓電路板上 的接點而_其魏外,亦藉由緩衝件而讓使用者有較佳 的按壓手感。細,按鍵隨著其魏不同而具有不同的外 1輪廓與面積,對於使用者Μ,亦需施加不同的按壓力 里方月b使知:鍵模組上的每個按鍵順利地運作。因此,對於 部分面積較大的按鍵而言,由於與鍵帽連接的緩衝件亦隨 其外形輪廓而變大,常會讓使用者需以較大力量進行= 壓,因此有損於按鍵模組在輸入時的便利性。 【新型内容】 本創作k供一種按鍵模組’其具有較省力的按屢結構。 本創作的一實施例提出一種按鍵模組,適用於一°電子 裝置。按鍵模組包括一緩衝件以及一鍵帽。緩衝件具有— M432079 個裙部。鍵帽配置在緩衝件上。裙部從基部朝向 鍵中目延伸。鍵帽覆蓋至少兩個裙部。 ^本創作之—實施例中,上述被鍵帽覆蓋的错部在基 邛上的正投影分別為一封閉輪廓。 部上被鍵帽覆蓋的裙部在基 、二封閉輪廓彼此獨立且面積相等。 =創作之—實施例中,上述被鍵帽覆蓋的祿部在基 。、足些封閉輪廓的外形輪廓長度,小於鍵帽在Α 的正投影的外形輪廓長度。 純基社 在本創作之一實施例中,上述的鍵帽的重心在基 的正投影,位在裙部的這些封閉輪廊的形心位置。土 在本創作之一實施例中,上述的缓衝件還具 ::置二:基部朝鍵帽延伸而連接至對應的頂部。鍵巾; ,本創作之-實施例中,上述被鍵帽覆蓋的頂部 ° 土部上的正投影面積之和,小於鍵帽在基部上的^ 影面積。 土丨上的正投 基於上述,在本創作的上述實施例巾, 將鍵帽配置在緩衝件上時,讓鍵帽覆蓋至少兩 即讓緩衝件與鍵帽之間的支擇處位在鍵帽的範σ二亦 能降低使用者按壓大面積按鍵時的力道,:因而 有較為省力的按壓結構。 鍵#,组具 為讓本創作之上述特徵和優點能更明顯易懂 舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。,下文待 【實施方式】 圈。Ξ / 3疋依照本創作—實施例的—驗鍵模組的示意 1愈j1的按鍵模組的局部爆炸圖。請同時參考圖 j 2,在本實施例中’按鍵模組刚適用於一電子裝置 例如計算機、印表機等需以相關人機介面進 者,在此並未限制電子I置的形式。按鍵模組漏 緩衝件11G與配置其上的多個鍵帽懸、聰。 二广,是’在此以鍵帽12〇A代表位在按鍵模組 100 :文字鍵’而以鍵帽12GB代表位在按鍵模組100下 、上白鍵’其中因按鍵功能佈局所定義的鍵帽 120B (空 白1)的面積會大於鍵帽職(數字鍵)的面積,而後續 相關的結構皆會以此作為說明的依據。 緩衝件110例如是以橡膠、石夕膠等軟性且具有彈性的 材質所製成’其具有-基部112與突出於基部的多個裙部 114A、114B。鍵帽12〇A可在緩衝件ιι〇進行成型時與裙 部1HA-體成型,亦即裙部出八是沿著鍵帽12〇八的外 形輪磨邊緣而與其連接。然而,由於鍵帽12QB的面積大 於鍵帽1肅,故若仍以和鍵帽uoa相同製程所製作出的 按鍵結構,將會造成使用者需以較大力道按壓鍵帽12〇b 方能順利進行操作。 據此,本創作在緩衝件11〇成型時於空白鍵,即鍵帽 120A處成型出兩個裙部U4B與兩個頂部116,其中各裙 部114B從基部U2延伸而與對應的頂部116連接,而後 再以鍵帽120B貼附在此兩個頂部116上,亦即在本實施 M432079
例的按鍵模組100 t,鍵帽12〇B是覆蓋在兩個 MB 與兩個頂部116上。 ° 換句話說,在本實施例的按鍵模組100中,設計者可 依據每個鍵帽面積的不同而選擇不同的結構配置以下僅 針對鍵帽12GB的結構加以說明。圖3是圖丨的按鍵模組 沿平面A的局部剖視圖。圖4是圖丨於鍵帽12⑽處的局 部俯視圖。請同時參考圖3與圖4,在按鍵模組1〇〇中, ,鍵帽120B覆蓋的裙部114B在基部112上的正投影分別 是一封閉輪廓。在本實施例令,這些裙部U4B在基部Η? 上的正,f彡分別具有雜外形,且這些封嶋廓彼此獨立。 值得注意的是,這些封閉輪廓的環狀長度u、L2之 和小於鍵帽12GB在基部112上紅投影料形輪靡長度 L3。再者,裙部114B與頂部116在基部112上的正投臀 面積之和小於鍵巾胃聰在基部112上的正投影面積。以 句話說,頂部116與裙部114B在基部112上的正投影是 位在鍵帽120B在基部112上的正投影的範圍之内。如此 一來’裙部114B便非同糖部114A 一樣沿著鍵帽12〇a的 底部邊緣而連接,㈣代之的是則、於鍵帽〗應的範圍 而藉由頂部H6與鍵帽120B連接。此舉相較於鍵帽12〇a, 即沿外形輪廓邊緣連接的裙部114a結構而言鍵帽 與裙部114B之間的翻面積得以降低,進而讓使用者以 與按壓鍵帽Π0Α近似的按麗力量得以完成鍵帽【細的 壓動作。 M432079 在此’本實施例並未限制頂部ii6與裙部mB的面 積,更進-步地說’本實施例並未限制頂部ιΐ6與 114B η在基部112上的正投影的外形。凡能使緩衝件㈣ 與鍵中目1施之間的接觸位置,落在鍵帽的範圍之内 皆可適用於本創作。 ^ 另方面„月再參考圖4,在本實施例中,鍵帽1施 的重心G1在基料2上的正投影,位在這些裙部⑽在 基部112上的這些封閉輪廓的形心α位置。此舉讓本實 =的鍵帽1施在結構上是由兩個頂部 : 所平物t。換句話說,使財按細fi施= =的按f力能平均傳遞至兩個頂部m與兩個德部 ,而讓鍵帽120B被按壓時能相對於基部112呈現上 :平,的運動模式。需說明的是’在本實施例中雖是以兩 個裙β 114B與兩個頂部116作為鍵帽mB的支撐
mi作縣限制被鍵帽_覆蓋的祿部114B ‘部 ^量’在讓鍵帽職能覆蓋至少兩個裙部H 讓鍵;I在f創作的上述實施例中,按鍵模組藉由 斤具庙 〉兩個裙部,其憎部在基部上的正投沖 之和小於鍵帽在基部上的正投影的輪廓長度,亦^ 】二^與裙部在基部上的正投影面積之和小於鍵^在二 鍵帽的ί:積而^讓緩衝件與鍵帽之間的支稽處二 以讓使用者能以較省力的方式按壓按鍵的力道, 7 M432079 雖然本創作已以實施例揭露如上,然其並非用以限定 本創作’任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離 本創作之精神和範圍内,當可作些許之更動與潤飾,故本 創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 圖1是依照本創作一實施例的一種按鍵模組的示意 圖0 圖2是圖1的按鍵模組的局部爆炸圖。 圖3是圖1的按鏈模組沿平面A的局部剖視圖。 圖4是圖丨於鍵tfl遞處的局部俯視圖。 UOA、120B :鍵帽 C1 :形心 G1 :會心 【主要元件符號說明】 100 :按鍵模組 110 :緩衝件 112 :基部 114A、114B ··裙部 116 :頂部 :重心 U ' L2 :環狀長度 L2 :外形輪廓長度

Claims (1)

  1. 六、申請專利範圍: L —種按鍵模組,適用於/電子裝置,該按鍵模組包 括: 、、 一緩衝件,具有一基部與多個裙部;以及 二一鍵帽,配置在該緩衝件上,該些裙部從該基部朝向 該鍵帽延伸,且該鍵帽覆蓋至少兩個裙部。 2.如申請專利範圍第1項所述的按鍵模纽,其中被該 鍵帽覆蓋的該些裙部在該基部上的正投影分別為二封閉^ 廓。 研 3.如申請專利範圍第2項所述的按鍵模組,其中被該 鍵帽覆蓋的該些裙部在該基部上的該些封閉輪廓彼此獨立 且面積相等。 4·如申請專利範圍第2項所述的按鍵模組,其中被該 鍵帽覆蓋職她部在絲部上的該些朗輪廓的外形^ 廓長度之和,小於該鍵帽在該基部上的正投影的外形輪廓 長度。 ^ 5.如申請專利範圍第1項所述的按鍵模組,其中該鍵 帽的重心在該基部上的正投影,位在該些裙部的該些封閉 輪廓的形心位置。 — ι 6.如申晴專利範圍第1項所述的按鍵模組,其中該缓 衝件還具有多個頂部,各該裙部從該基部朝該鍵帽延伸而 連接至對應的該頂部,該鍵帽配置在該些頂部上。 η7. +如申請專利範圍第6項所述的按鍵模組,其中被該 鍵畅覆蓋的该些頂部與該些裙部在該基部上的正投影面積 之和,小於該鍵帽在該基部上的正投影面積。
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