TW387924B - A method of forming a coating on optical fiber with hydrogen silsesquioxane resin - Google Patents
A method of forming a coating on optical fiber with hydrogen silsesquioxane resin Download PDFInfo
- Publication number
- TW387924B TW387924B TW083106180A TW83106180A TW387924B TW 387924 B TW387924 B TW 387924B TW 083106180 A TW083106180 A TW 083106180A TW 83106180 A TW83106180 A TW 83106180A TW 387924 B TW387924 B TW 387924B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- coating
- optical fiber
- shoulder
- resin
- patent application
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 229920003209 poly(hydridosilsesquioxane) Polymers 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 3
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 9
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 epoxide urethanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 235000015170 shellfish Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 235000001674 Agaricus brunnescens Nutrition 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150056612 PPIA gene Proteins 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHHATQHNDHHOQU-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].O.O.O.[Hf+4] Chemical compound [O-2].[O-2].O.O.O.[Hf+4] SHHATQHNDHHOQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VABDZIFPFONJJU-UHFFFAOYSA-N [Pt].C(C)(=N)N Chemical compound [Pt].C(C)(=N)N VABDZIFPFONJJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002074 melt spinning Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYZXTLXQZSXOOV-UHFFFAOYSA-N osmium platinum Chemical class [Os].[Pt] IYZXTLXQZSXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 150000003282 rhenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
經濟部中夬揉準局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（1) 本發明係有瞄一種使用氫倍半矽氧烷樹脂保護光纖之方 法>亦有關於其上具有這些塗層之所得纖維。 光纖之製f通常包括之方法為孅维自所需玻璃之熔融預 形成物拉伸*接著捲繞於拉緊桶周圍。保護性_维鍍覆通 常在製造之較後階段施加。然而，嫌維烴常在镀覆之前即 已受捲繞，處理，输送等而損害；例如，在嫌維縝於拉緊 * 線袖上之摩擦及磨耗經常會引起镅維之機械損害。 已嘗試使用多種材料Μ避免此種損害。例如，環氧化物 胺基甲酸乙酯類，丙烯酸酯類•聚酯類，氟塑料及矽酮 等材料已在捲繞之前施用於未處理之嫌維上。然而，此種 材料經常難以加工（如在鍍覆前移除）及經常無效。 使用電子裝置之保謅中所用之氫倍半矽氧烷亦為本技藝 已知者，述於US-A 4,7 56,97 7，該掲示中所述之在電子裝 置上形成塗層之方法包括稀釋氫倍半矽氧烷於溶劑中•塗 佈溶液於基衬上，蒸發溶劑並加熱此經塗覆之基材至150 至lOOOt：之溫度。 本發.明教示使用氫倍半矽氧烷於光纖上形成保護塗層之 方法。 - • . 本發明提供一種保護光激之方法，此方法包括以含有氳 倍半矽氧烷樹脂之姐合物塗覆潘維•接著促使樹脂膠凝； 若需要，塗覆之纖維甚至可加熱至足K轉化樹脂成為含氧 化矽之塗層之溫度。 本發明係基於吾人不經事發現氫倍半矽氧烷可用以在光 钃上塗佈保護塗層而完成。此塗層可僅在纖維上膠凝，因 本紙張凡度逋用中属國家操準（CNS 210X297公釐〉 (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· A7 _._B7_ 五、發明説明（2 ) 而在鍍覆之前易於以溶劑移除。另外，此塗蘑可經烘烤並 留在表面上而變成鍍覆之一部份。 用於本發明之光纖並無限制且可為本技蓊已知之任何者 。此種纖維之實例包含高氧化矽玻璃及多成份玻璃之孅維 *如含有氧化矽與其他氧化物如氧化硼，二氧化緒及/或 五氧化瞵之組合之雄維。 製造這些嫌維之方法亦為本技藝已知者。例如，其可藉 使所需玻璃之預形成物熔融纺絲，接著拉伸此纖維於拉緊 桶上而製得。然而，另一種技術，如使用化學蒸汽沉積之 方法亦可用。這些及其他技術述於Kirk-Othmer之化學技 術百科全書*第10卷，紐約，約翰威利父子公司，1980年 Ο 依據本發明之方"法，光嚴係Ml倍半矽氧烷樹脂塗覆， 接著膠凝•.旦視情況適當地烘烤樹脂。 可用於本發明之氫倍半矽氧烷樹脂（H-樹脂）包括可完全 縮合或可僅.部份水解及/或縮合之各種氫矽氧烷樹脂 (HSi〇3/2)，雖然未以此式表示，這些樹脂之各種單元由 於涉及其形成及處理之各種S素因而可不具有或具有一個 - 鍰濟部中央揉準局貝工消费合作社印裝 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) K上之Si-H鍵。完全縮合之H-樹脂之實例為MUS-A 3,615,272之方法所形成者。此聚合物材料具有式 (HSi〇3/2)„之單元，其中η通常為8-1000，此樹脂具有自 800-2900之數平均分子量及介於8000-28,000之重量平均 分子量（使用聚二甲基砂氧烷作為校正標準KGPC分析所得 者）。 本紙强·尺度逋Λ中國鬮家操準（CNS〉Λ4规格（210X297公釐） 經濟部中央揉準局員工消费合作社印装 A7 __B7_ 五、發明説明（3 ) 非完全縮合之H-樹脂（含有式HSHOIOKOo^/a)單元之 聚合物）之實例包含 US-A 5,010,159 或 US-A- 4,999,397 者。第一儸專利敘述之方法包括於芳磺酸水合物水解介質 中水解氫矽氧烷，而形成樹脂*接著與中和劑接觸。第二 髑專利（4,999,397)申請之方法包括於含非硫極性溶劑中 ，藉添加水或HC1及金屬氧化物而水解三氛矽烷。本文中 v 之金鼷氧化物係作為HC1清除劑•且因而可作為水之連績 來源。 未完全水解或縮合之Η-樹脂實例為具有式 Η5ί(〇Η)χ(οΐϊ)γ〇ζ/2之單元者*各r分別為當纆由氧原子 鍵结至矽時可形成可水解取代基之有櫬基* i_=0-2, ϊ_=0-2,乙=卜3, χ_+ϊ_+ζ_=3 ，且聚合物之全部單元之1_平均胃 值大於0 基之實例包含1-6個碳原子之烷基，如甲基 ，乙基及丙基，芳基如笨基及烯基如乙烯基。這些樹腊之 形成可Μ包括在酸化之含氧極性有機溶劑中Μ水水解烴氧 基氫矽烷之方法完成。 鉑，铑或飼催化劑亦可與氫倍半矽氧烷混合Κ增加其轉 化成氧化矽之速率及程度。可溶於此溶劑之任何鉑，鍩或 • . 鋦化合物或錯合物均可使用。例如，有櫬鉑姐合物如乙醯 醑鉑或铑催化劑RhC〗3[S(CH2CH2CH2CH3)2]3可得自美國 密西根中部之道康寧公司。上述催化劑通常K樹胞重量為 準Μ介於5及500 ppia間之鉑或铑之最添加至溶液中。 本發明中使用H-樹脂塗覆光纖，H-樹脂可Μ任何搡作狀 態使用，但較好使用含Η-樹脂之適當溶劑之溶液。若使用 -6 - 林張ΛΑ逋用中國國家樑準（CNS ) Α姑L# ( 210 X 297公釐） IJ.--------:1-(-¾ —— (請先Μ讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 __
•-C A7 _B7__ 五、發明説明（4 ) 此溶液，刖此溶液通常係簡單地溶解或懋浮Η-樹脂於溶劑 或溶劑混合物中而形成。各種促進手段如加熱及/.或攪拌 可用以幫助溶解。可用於此方法之溶劑包含醇類如乙醇或 異丙醇；芳族烴類如笨或甲笨，烷類如正庚烷或十二烷； 嗣類，環吠二甲基聚矽氧烷，酯類及二酵鰱。所有酵類之 量為足以溶解上述材料至低固驩（0. ：!-50重量X溶液）者。 * 依據本發明之方法，光纖係Μ上述溶液塗覆，本文中之 方法可利用纺絲，唄佈，浸潰或流動塗覆。此外•塗覆可 藉蒸汽沉積法施用*如述於US-A 5, 1 65,955中者。 接著使溶劑蒸發因而使Μ矽氧烷為主之材枓膠凝而形成 保護塗層。可使用任何逋之蒸發方法*如藉曝露於周圍環 境下而簡單地Μ空氣乾堍或施加真空。 雖然上述方法主要集中於使用溶液*但热悉本技藝者可 了解其他塗覆孅維之對應方法亦可使用。 所得膠凝塗層係留於缠維上，直至欲施加織維鍍覆為止 。此膠凝塗層接著可藉簡單溶劑移除。實例包含醇類，芳 族烴類，烷類，酮類，環狀二甲基聚矽氧烷類，酯類及二 酵醚類。若需要，纖維亦可使用強酸如氟化氫清洗Κ移除 • » 任何微量或潛在之污染。 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 然而，另外，膠凝材料可經加熱使其轉化成可形成鍍覆 部份之含氧化矽陶磁。由於Η -樹脂之反射指數小於氧化矽 纗維之反射指數（1.4對1.46) •因而特別有利。 若塗經加熱則通常使用5〇至iooor之溫度。然而確 實溫度係視如裂解氛圍及所需塗層之因素而異。加熱進行 本紙fltAA逍用中•國家梯準（CNS > A4規格（210X297公釐） 經濟部中夹揉準局負工消费合作杜印装 A7 B7 五、發明説明（5 ) 之時間為足K形成所需塗層者，通常達6小時*但K少於 2小時較佳。 上述加熱可在自真空至超壓之任何有效大氣壓力下，及 在有效氧化或非氧化氣體環境中·如包括空氣，〇2·惰性 氣體0<2等），氨，胺，水氣，H20 、氫及烴中進行。 任何加熱方法•如對流烘箱，快速热加工，熱板或放射 ' 或微波能為通常使用者。再者，加熱速率亦無限制，但最 i陳且較佳者為儘可能快速地加熱。 K此等方法塗覆之嫌維為抗雜質者如對纖維有害之水氣 之抗性；此外·經塗覆孅維較無櫬械損害。 本發明亦可藉改變溶、液中H-樹脂濃度，改變溶劑•改變 浸潰速率或溫度而塗佈廣範圍之各棰塗覆。 下列實例將使热悉本技藝者更易了解本發明。 當例1 氫倍半矽氧烷樹脂（由Collins等人於US-A 3,615,272中 之方法製得）於八甲基四環矽氧烷中稀釋成10¾重量，接 著使2毫米直徑之石英棒浸入此溶液中，並在600¾氧氣 中燒烤3小時，使棒冷卻至室溫。 棒M SEM檢視顯示棒上已塗佈均勻連纘之氧化砂塗層， 最终塗層為1微米厚* Κ此材料預期之收縮為基準，估算 此”沉積”之塗層約1.1微米厚。 本紙張尺度逋用中國家標率（CNS > A4«MM 2J0X297公釐） (請先《讀背面之注意事項再填寫本萸) 裝. 訂
Claims (1)
- 公 專利由請案 範園修正本（85年5月） A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 L —種在光纖上形成塗層之方法，包括Μ含有氫倍生矽氧 烷樹脂之姐合物塗醑光纖*並促使氫1倍」^肩^肩4&喜 凝。 2 根據申請專利箭罱第丁項之方法，其中具有膠凝之氳倍 半砂氧烷樹脂塗層之瀑維係在選自空翁> 〇i，水氣及 n2〇之氣顦氛圍中，於50至6001C範醑之溫度下加熱高達 6小時* Μ使氪倍半砂t氧烷足Μ轉化成含氧fc砂材料。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貞工消費合作社印装 用中國國家媒準（CNS ) A4规格（210χ][97公釐） 公 專利由請案 範園修正本（85年5月） A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 L —種在光纖上形成塗層之方法，包括Μ含有氫倍生矽氧 烷樹脂之姐合物塗醑光纖*並促使氫1倍」^肩^肩4&喜 凝。 2 根據申請專利箭罱第丁項之方法，其中具有膠凝之氳倍 半砂氧烷樹脂塗層之瀑維係在選自空翁> 〇i，水氣及 n2〇之氣顦氛圍中，於50至6001C範醑之溫度下加熱高達 6小時* Μ使氪倍半砂t氧烷足Μ轉化成含氧fc砂材料。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貞工消費合作社印装 用中國國家媒準（CNS ) A4规格（210χ][97公釐）
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US9302893A | 1993-07-19 | 1993-07-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW387924B true TW387924B (en) | 2000-04-21 |
Family
ID=22236456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW083106180A TW387924B (en) | 1993-07-19 | 1994-07-06 | A method of forming a coating on optical fiber with hydrogen silsesquioxane resin |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0635554B1 (zh) |
| JP (1) | JPH0769685A (zh) |
| KR (1) | KR950003198A (zh) |
| DE (1) | DE69424602T2 (zh) |
| TW (1) | TW387924B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6018002A (en) * | 1998-02-06 | 2000-01-25 | Dow Corning Corporation | Photoluminescent material from hydrogen silsesquioxane resin |
| NL1009503C2 (nl) * | 1998-06-26 | 2000-01-04 | Plasma Optical Fibre Bv | Werkwijze voor het aanbrengen van een beschermende organische deklaag op een optische vezel van glas. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4756977A (en) * | 1986-12-03 | 1988-07-12 | Dow Corning Corporation | Multilayer ceramics from hydrogen silsesquioxane |
| CA2027031A1 (en) * | 1989-10-18 | 1991-04-19 | Loren A. Haluska | Hermetic substrate coatings in an inert gas atmosphere |
-
1994
- 1994-07-06 TW TW083106180A patent/TW387924B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-07-13 DE DE69424602T patent/DE69424602T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-13 EP EP94305128A patent/EP0635554B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-13 JP JP6160865A patent/JPH0769685A/ja not_active Withdrawn
- 1994-07-18 KR KR1019940017238A patent/KR950003198A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0635554B1 (en) | 2000-05-24 |
| JPH0769685A (ja) | 1995-03-14 |
| DE69424602D1 (de) | 2000-06-29 |
| EP0635554A2 (en) | 1995-01-25 |
| DE69424602T2 (de) | 2001-01-25 |
| KR950003198A (ko) | 1995-02-16 |
| EP0635554A3 (en) | 1996-09-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3701700B2 (ja) | Ｓｉ−Ｏ含有皮膜の形成方法 | |
| KR100251819B1 (ko) | 실리카 함유 세라믹 피복물을 기질 위에 형성시키는 방법 | |
| KR100333989B1 (ko) | Si-O함유 피막의 형성방법 | |
| US5547703A (en) | Method of forming si-o containing coatings | |
| JP3760471B2 (ja) | 反応性超微粒シリカ，これを含有するサスペンション，並びにハードコート用組成物 | |
| JP5412037B2 (ja) | シロキサン樹脂、シロキサン樹脂の調製方法および抗反射コーティング組成物 | |
| US5609925A (en) | Curing hydrogen silsesquioxane resin with an electron beam | |
| JP2000164589A (ja) | 被膜形成方法 | |
| JPH06107461A (ja) | ゾルゲル法による高密度チタニアの製造 | |
| JPH04228415A (ja) | アミン触媒を用いて低温でシリカ前駆体をシリカに転化する方法 | |
| JPWO2018061211A1 (ja) | エアロゲル複合体の製造方法、エアロゲル複合体及び被断熱体 | |
| JPS589791B2 (ja) | セラミツク基板の気孔率及び表面荒さを減少させる方法 | |
| JPH02178330A (ja) | 平面化ラダー型シルセスキオキサンポリマー絶縁層の形成方法 | |
| US5789325A (en) | Coating electronic substrates with silica derived from polycarbosilane | |
| JPH09176516A (ja) | 電子保護コーティングの形成方法 | |
| JP3163579B2 (ja) | 被膜形成用塗布液 | |
| JPH08225382A (ja) | 複合エレクトロニクス被膜 | |
| JPH0832855B2 (ja) | セラミック塗料及びその塗膜形成方法 | |
| JP2801660B2 (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液の製造方法 | |
| JP6803842B2 (ja) | オプトエレクトロニクス用途のためのポリシロキサン製剤及びコーティング | |
| US5820923A (en) | Curing silica precursors by exposure to nitrous oxide | |
| TW387924B (en) | A method of forming a coating on optical fiber with hydrogen silsesquioxane resin | |
| JPH08215637A (ja) | 基材上に不溶性コーティングを形成する方法 | |
| JP2003247078A (ja) | 無機有機ハイブリッド膜被覆ステンレス箔 | |
| JPH05124818A (ja) | 金属酸化物被膜形成用塗布液 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |