TW410414B
(en )
2000-11-01
Electrostatic wafer clamp having low particulate contamination of wafers
US5847918A
(en )
1998-12-08
Electrostatic clamping method and apparatus for dielectric workpieces in vacuum processors
JP3805134B2
(ja )
2006-08-02
絶縁性基板吸着用静電チャック
US5592358A
(en )
1997-01-07
Electrostatic chuck for magnetic flux processing
KR100369106B1
(ko )
2003-03-15
다층의정전식척및그제조방법
US8295026B2
(en )
2012-10-23
Electrostatic chuck and substrate processing apparatus having same
US6781812B2
(en )
2004-08-24
Chuck equipment
JP3655309B2
(ja )
2005-06-02
ハイブリッド静電チャック
TW507252B
(en )
2002-10-21
Active electrostatic seal, electrostatic vacuum pump and method for transporting a gas
US5539179A
(en )
1996-07-23
Electrostatic chuck having a multilayer structure for attracting an object
JPH08236602A
(ja )
1996-09-13
静電吸着装置
CN109072422A
(zh )
2018-12-21
具有不规则表面平坦度的盖板玻璃的静电夹持
JPH0652758B2
(ja )
1994-07-06
静電チヤツク
JPH1098093A
(ja )
1998-04-14
ワークピースを保持する単極静電チャック及び装置
JP2767282B2
(ja )
1998-06-18
基板保持装置
JP3527823B2
(ja )
2004-05-17
静電チャック
TW301787B
(cg-RX-API-DMAC7.html )
1997-04-01
JPH10242256A
(ja )
1998-09-11
静電チャック
US6935038B2
(en )
2005-08-30
Gap gauge
TW466560B
(en )
2001-12-01
Surface structure and method of making, and electrostatic wafer clamp incorporating surface structure
JPH10107132A
(ja )
1998-04-24
静電チャック
JP4338376B2
(ja )
2009-10-07
静電チャック装置
JP2005116686A
(ja )
2005-04-28
双極型静電チャック
TW380292B
(en )
2000-01-21
Electrostatic attachment electrode and manufacturing method thereof
JPH03232226A
(ja )
1991-10-16
エッチング装置