TW202405852A - 電氣零件、ｘ射線產生裝置及ｘ射線攝像裝置 - Google Patents
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Abstract
電氣零件具備電氣電路、和覆蓋前述電氣電路的金屬容器。前述金屬容器包含：包圍前述電氣電路的周圍之側壁部；及覆蓋前述側壁部的端部，構成前述金屬容器的端面之封閉部。前述封閉部的外周部中之露出於前述金屬容器的外側之露出面在與前述端面呈垂直的剖面，具有圓角。
Description
本發明係關於電氣零件、X射線產生裝置及X射線攝像裝置。
在X射線產生裝置，X射線產生管及將其驅動的驅動電路可儲存在構成X射線產生裝置的外表面之收容容器。驅動電路例如產生100kV程度的電位差，因此，可在收容容器的內部空間填充絕緣性液體。絕緣性液體藉由熱，在收容容器的內部空間對流，此可能產生雜訊。
藉由將覆蓋驅動電路的金屬容器配置於收容容器的內部空間，可遮斷因絕緣性液體的對流可能產生之雜訊。但，若將金屬容器配置於收容容器中，則在金屬容器與收容容器等之間，有引起放電的可能性。
本發明的目的在於提供有利於降低金屬容器與收容容器等之間的放電的技術。
本發明的第1態樣係一電氣零件，前述電氣零件具備電氣電路、和覆蓋前述電氣電路的金屬容器。前述金屬容器包含：包圍前述電氣電路的周圍之側壁部；及覆蓋前述側壁部的端部，構成前述金屬容器的端面之封閉部，前述封閉部的外周部中之露出於前述金屬容器的外側之露出面在與前述端面呈垂直的剖面，具有圓角。
本發明的第2態樣係一X射線產生裝置，前述X射線產生裝置具備：第1態樣之電氣零件、X射線產生管、及收容前述電氣零件及前述X射線產生管之收容容器。前述電氣零件構成為驅動前述X射線產生管，在前述收容容器的內部空間填充有絕緣液體。
本發明的第3態樣係X射線攝像裝置，前述X射線攝像裝置具備：第2態樣之X射線產生裝置；及檢測從前述X射線產生裝置放射的X射線之X射線檢測器。
以下，參照圖面詳細說明實施形態。再者，以下的實施形態並非用來限定申請專利範圍的發明。在實施形態記載有複數個特徵，但這些複數個特徵並非全部為實施發明必要者，另外，複數個特徵可任意地組合。且，針對圖式，對於相同或同樣的結構賦予相同符號並省略重複的說明。
在本說明書中，如上、下等表示方向或位置的用語是表示以下說明中的將金屬容器等構造體以一種姿勢配置的狀態觀察該構造體時的相對的位置的用語，不排除以其他姿勢配置該構造體的情況。
圖1顯示一實施形態的X射線產生裝置1的結構。X射線產生裝置1可具備：X射線產生管110；電氣零件EC；收容X射線產生管110及電氣零件EC之收容容器(或外裝容器)100；及未圖示的第2電氣零件。X射線產生管110能以1個面或一部分露出於外部空間的方式藉由收容容器100收容。電氣零件EC具備電氣電路120、和覆蓋電氣電路120的金屬容器MC。作為一例，收容容器100可藉由導體構成並接地。另外，電氣電路120的接地端子經由電纜131可與收容容器100電性連接。電氣電路120的正極端子經由電纜132可與外部電源的正極端子連接。未圖示的第2電氣零件被收容容器100收納，可配置於金屬容器MC的外側。第2電氣零件可為例如科克羅夫特(Cockcroft)電路等。
電氣電路120可構成驅動X射線產生管110。電氣電路120可接收通過電纜132所供給的電壓，產生用來驅動X射線產生管110的1個或複數個負驅動電位。該1個或複數個負驅動電位可經由電纜133供給至X射線產生管110。X射線產生管110作為陽極接地方式而構成，X射線產生管110的陽極可與收容容器100電性連接。對X射線產生管110的陰極，可供給電氣電路120所產生之負電位。電氣電路120可產生例如100kV的電位差(例如-100kV)。在金屬容器MC，可施加例如具有電氣電路120所產生的負的最大絕對值之電位(例如-100kV)。
在收容容器100的內部空間，可填充絕緣油等的絕緣性液體150。藉由電氣電路120所產生的熱，絕緣性液體150可在收容容器100的內部空間形成對流。因這樣的對流可能產生雜訊，但，雜訊對電氣電路120的傳達可被金屬容器MC遮斷。為了防止金屬容器MC與收容容器100或第2電氣零件之間的放電，金屬容器MC可具有以下進行說明的特殊構造。具備具有這種構造之金屬容器MC的電氣零件EC亦可使用於X射線產生裝置以外的用途。
圖2係示意地顯示一實施形態的金屬容器MC或電氣零件EC的外觀。在圖2顯示XYZ座標系，圖3、圖4、圖5之方向依據圖2之XYZ座標系。圖3係顯示將圖2所示的金屬容器MC或電氣零件EC在預定的XY平面切斷之剖面。圖4係顯示將圖2所示的金屬容器MC或電氣零件EC在預定的XZ平面切斷之剖面的一部分。圖5係顯示將圖2所示的金屬容器MC或電氣零件EC在預定的XY平面切斷之剖面的一部分。
金屬容器MC包含：包圍電氣電路120的周圍之側壁部10；及覆蓋側壁部10的端部10e，並構成金屬容器MC的端面(頂面22、底面32)之封閉部(頂板20、底板30)。在此，構成端面(頂面22、底面32)之封閉部(頂板20、底板30)作為互相具有相同特徵者進行了說明，但亦可為其中一方具有該特徵。
如圖4所示，封閉部(頂板20、底板30)的外周部中之露出於金屬容器MC的外側之露出面(換言之，為外側表面)在與端面(頂面22、底面32)呈垂直的剖面(例如、XZ剖面)可具有圓角。這是對於緩和電場集中，防止在金屬容器MC與收容容器100或第2電氣零件之間的放電有效。
如圖4所示，作為第1封閉部之頂板20的外周部具有可接收側壁部10的端部10e之溝G。側壁部10的端部10e可包含：與溝G的底面B相面對的緣面ES；和側壁部10的外側面中之與緣面ES接近的端部外側面EOS。作為封閉部之頂板20的外周部可包含與側壁部10的端部外側面EOS相面對之折彎部F。折彎部F具有進行R加工(倒角加工)的形狀。作為封閉部之頂板20可包含厚壁部T1；和包圍厚壁部T1之薄壁部T2。薄壁部T2的厚度較厚壁部T1薄。藉由厚壁部T1與薄壁部T2之階差，可形成規定溝G的2個壁面S1、S2中的其中一方之壁面S1，藉由折彎部F，可形成2個壁面S1、S2中的另一方之壁面S2。這樣的結構有助於對金屬容器MC的外部空間隱藏側壁部10的端部10e這樣的角部分，緩和電場集中。另外，這樣的結構有助於對金屬容器MC的內部空間也可隱藏側壁部10的端部10e這樣的角部分，緩和電場集中。
雖未圖示，作為第2封閉部之底板30也可具有與作為第1封閉部之頂板20相同的特徵。亦即，作為第2封閉部之底板30覆蓋側壁部10的第2端部(下端)並構成金屬容器MC的第2端面32。作為第2封閉部之底板30的外周部中之露出於金屬容器MC的外側之露出面在第2端面32呈垂直的剖面，具有圓角。作為第2封閉部之底板30的外周部具有可接收側壁部10的第2端部(下端)之第2溝。側壁部10的第2端部(下端)可包含：與第2溝的底面相面對的第2緣面；和側壁部10的外側面中之與第2緣面32接近的第2端部外側面。作為第2封閉部之底板30的外周部可包含與側壁部10的第2端部外側面相面對之第2折彎部。作為第2封閉部之底板30可包含第2厚壁部；和包圍第2厚壁部之第2薄壁部。藉由第2厚壁部與第2薄壁部的階差，可形成規定第2溝之2個第2壁面中的其中一方，藉由第2折彎部，可形成該2個第2壁面中之另一方。
圖6示意地顯示加工前的側壁部10。在其他的觀點，圖6示意地顯示側壁部10已經展開的狀態。側壁部10具備將具有2組對邊的板構件以該2組對邊中之1組對邊11a、11b構成互相面對的角筒形狀的方式折彎之構造。另外，如圖3、圖5示意所示，側壁部10的外側面中之露出於金屬容器MC的外側之露出面可在與端面(頂面22、底面32)平行的剖面具有圓角。1組對邊11a、11b分別可具有包邊彎曲(hemming bend)形狀16a、16b。在此，包邊彎曲形狀16a、16b是如圖3、圖5示意所示，以朝向金屬容器MC的內側的方式彎曲之包邊彎曲形狀。
通過對邊11a、11b相面對的空間，前述電纜131、132、133可從金屬容器MC的內部空間拉出至外部區段(收容容器100的內部空間)。當然，亦可在側壁部10、頂板20及底板30中的至少1個設置至少1個孔，通過該孔將電纜131、132、133從金屬容器MC的內部空間拉出至外部區段(收容容器100的內部空間)。對這樣的孔，可賦予在與該孔的軸平行的剖面具有圓角之形狀。
包邊彎曲形狀只是具有圓角的形狀的一例，具有圓角的形狀例如圖8所示的捲曲加工等，可從各種形狀中選擇。在以朝向金屬容器MC的內側的方式將板構件的端部折彎的情況，折彎角度係90度以上為佳。在包邊彎曲，折彎角度為180度。在將板構件加工而形成側壁部10的情況，亦可將板構件加工成板構件的對邊彼此(一端與另一端)互相地卡合。亦可例如圖7所示，將板構件的對邊彼此(一端與另一端)互相卡合並進行包邊彎曲。如此，藉由對於金屬容器MC的內側也進行具有圓角的形狀之加工，能夠防止設在金屬容器MC的內側且對於金屬容器MC具有電位差之電氣電路與金屬容器MC之間的放電。這樣的加工，亦可理解作為側壁部10的內側面中之露出於金屬容器MC的內側之露出面可在與端面(頂面22、底面32)平行的剖面具有圓角之加工。
在如圖2、圖3、圖4、圖5所示的例子，側壁部10具有由第1面12a、12b、第2面13、第3面14及第4面15所構成的角筒形狀，其可由1個板構件所構成。但，側壁部10亦可由複數個構件構成。另外，側壁部10可具有四角形以外的其他多角形的筒形狀，亦可具有圓筒形狀，亦可具有其他形狀。
圖9顯示一實施形態的X射線攝像裝置200的結構。X射線攝像裝置200可具備：X射線產生裝置1；及檢測穿透從X射線產生裝置1釋出的物體230之X射線XR的X射線檢測裝置240。X射線攝像裝置200亦可還具備控制裝置210及顯示裝置220。X射線檢測裝置240可包含X射線檢測器242和訊號處理部244。控制裝置210可控制X射線產生裝置1及X射線檢測裝置240。X射線檢測器242檢測或拍攝穿透從X射線產生裝置1釋出的物體230之X射線XR。訊號處理部244可處理自X射線檢測器242輸出的訊號，再將處理過的訊號供給至控制裝置210。控制裝置210依據自訊號處理部244所供給的訊號，將圖像顯示於顯示裝置220。
1:X射線產生裝置
10:側壁部
20:頂板
30:底板
100:收容容器
110:X射線產生管
120:電氣電路
131,132,133:電纜
150:絕緣性液體
EC:電氣零件
MC:金屬容器
[圖1]係顯示一實施形態之X射線產生裝置的結構之圖。
[圖2]係示意地顯示一實施形態的金屬容器或電氣零件的外觀之圖。
[圖3]係顯示將圖2所示的金屬容器或電氣零件在預定的XY平面切斷之剖面的圖。
[圖4]係顯示將圖2所示的金屬容器或電氣零件在預定的XZ平面切斷之剖面的一部分之圖。
[圖5]係顯示將圖2所示的金屬容器或電氣零件在預定的XY平面切斷之剖面的一部分之圖。
[圖6]係示意地顯示加工前的側壁部、或已經將側壁部展開的狀態之圖。
[圖7]係例示側壁構件或板構件的形狀或者加工方法之圖。
[圖8]係例示側壁構件或板構件的形狀或者加工方法之圖。
[圖9]係顯示一實施形態之X射線攝像裝置的結構之圖。
10:側壁部
20:頂板
22:頂面
12a,12b:第1面
10e:端部
T1:厚壁部
T2:薄壁部
S1,S2:壁面
ES:緣面
B:底面
F:折彎部
G:溝
EOS:端部外側面
Claims (13)
- 一種電氣零件，係具備電氣電路、和覆蓋前述電氣電路的金屬容器，其特徵為： 前述金屬容器包含：包圍前述電氣電路的周圍之側壁部；及覆蓋前述側壁部的端部，並構成前述金屬容器的端面之封閉部， 前述封閉部的外周部中之露出於前述金屬容器的外側之露出面係在與前述端面呈垂直的剖面，具有圓角。
- 如請求項1的電氣零件，其中，前述封閉部的外周部具有溝，其用來接收前述側壁部的前述端部。
- 如請求項2的電氣零件，其中，前述側壁部的前述端部包含：與前述溝的底面相面對的緣面；及前述側壁部的外側面中之與前述緣面接近的端部外側面， 前述封閉部的前述外周部包含折彎部，其與前述側壁部的前述端部外側面相面對。
- 如請求項3的電氣零件，其中，前述封閉部包含厚壁部；和包圍前述厚壁部之薄壁部， 藉由前述厚壁部與前述薄壁部的階差，形成規定前述溝之2個壁面中的其中一方，藉由前述折彎部，形成前述2個壁面中之另一方。
- 如請求項1至4中任一項的電氣零件，其中，還包含第2封閉部，其覆蓋前述側壁部的第2端部並構成前述金屬容器的第2端面， 前述第2封閉部的外周部中之露出於前述金屬容器的外側之露出面在與前述第2端面呈垂直的剖面，具有圓角。
- 如請求項5的電氣零件，其中，前述第2封閉部的外周部具有第2溝，其用來接收前述側壁部的前述第2端部。
- 如請求項6的電氣零件，其中，前述側壁部的前述第2端部包含：與前述第2溝的底面相面對的第2緣面；及前述側壁部的外側面中之與前述第2緣面接近的第2端部外側面， 前述第2封閉部的前述外周部包含第2折彎部，其與前述側壁部的前述第2端部外側面相面對。
- 如請求項7的電氣零件，其中，前述第2封閉部包含第2厚壁部；和包圍前述第2厚壁部之第2薄壁部， 藉由前述第2厚壁部與前述第2薄壁部的階差，形成規定前述第2溝之2個第2壁面中的其中一方，藉由前述第2折彎部，形成前述2個第2壁面中之另一方。
- 如請求項1至8中任一項的電氣零件，其中，前述側壁部具備將具有2組對邊的板構件以前述2組對邊中之1組對邊構成互相面對的筒形狀的方式折彎之構造，前述側壁部的外側面中之露出於前述金屬容器的外側之露出面在與前述端面呈平行的剖面，具有圓角。
- 如請求項9的電氣零件，其中，前述2組對邊中之前述1組對邊分別具有包邊彎曲形狀。
- 如請求項10的電氣零件，其中，前述包邊彎曲形狀為以朝向前述金屬容器的內側的方式進行包邊彎曲之形狀。
- 一種X射線產生裝置，其特徵為具備有：如請求項1至11中任一項之電氣零件； X射線產生管；及 收容容器，其收容前述電氣零件及前述X射線產生管， 前述電氣零件構成為驅動前述X射線產生管， 在前述收容容器的內部空間填充有絕緣性液體。
- 一種X射線攝像裝置，其特徵為具備有：如請求項12的X射線產生裝置；及 X射線檢測器，其檢測從前述X射線產生裝置放射的X射線。
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