TW202342391A - 玻璃 - Google Patents

玻璃 Download PDF

Info

Publication number
TW202342391A
TW202342391A TW112127246A TW112127246A TW202342391A TW 202342391 A TW202342391 A TW 202342391A TW 112127246 A TW112127246 A TW 112127246A TW 112127246 A TW112127246 A TW 112127246A TW 202342391 A TW202342391 A TW 202342391A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass
less
mgo
cao
glass substrate
Prior art date
Application number
TW112127246A
Other languages
English (en)
Inventor
徳永博文
小野和孝
Original Assignee
日商Ａｇｃ股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商Ａｇｃ股份有限公司 filed Critical 日商Ａｇｃ股份有限公司
Publication of TW202342391A publication Critical patent/TW202342391A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/06—Forming glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02—Forming sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
    • C03C3/112—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
    • C03C3/112—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
    • C03C3/115—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine containing boron
    • C03C3/118—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine containing boron containing aluminium
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
    • G11B7/2531—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/08—Doped silica-based glasses containing boron or halide
    • C03C2201/12—Doped silica-based glasses containing boron or halide containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00—Production processes
    • C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本發明之目的在於提供一種玻璃，其能夠抑制玻璃基板之翹曲等變形，且成型性優異，對製造設備之負擔較低，容易製造大型且較薄之玻璃基板。本發明之玻璃之密度、楊氏模數、應變點、玻璃黏度成為10 4dPa･s之溫度T 4、玻璃表面失透溫度(T c)、熱膨脹係數為特定之範圍內，且選自由SiO 2、Al 2O 3、Li 2O、Na 2O及K 2O所組成之群中之至少1種鹼金屬氧化物、以及P 2O 5之含量為特定之範圍內。

Description

玻璃
本發明係關於一種玻璃，其適合作為各種顯示器用、光罩用、電子器件支持用、資訊記錄媒體用、平面型天線用等之玻璃基板。
各種顯示器用、光罩用、電子器件支持用、資訊記錄媒體用、平面型天線用之玻璃板(玻璃基板)、尤其是表面形成金屬或氧化物等之薄膜之玻璃板所使用之玻璃要求以下(1)～(4)等特性。 (1)於玻璃含有鹼金屬氧化物之情形時，鹼金屬離子會擴散至上述薄膜中使薄膜之膜特性劣化，因此玻璃應實質上不含鹼金屬離子。 (2)於在薄膜形成步驟中玻璃板暴露於高溫時，為了能夠將玻璃板之變形及伴隨玻璃之構造穩定化而產生之收縮(熱收縮)抑制為最小限度，應變點應較高。
(3)對半導體形成所使用之各種化學品應具有充分之化學耐久性。尤其是對SiO x或SiN x之蝕刻所使用之緩衝氫氟酸(BHF：氫氟酸與氟化銨之混合液)、ITO(Indium Tin Oxides，氧化銦錫)之蝕刻所使用之含有鹽酸之化學液、金屬電極之蝕刻所使用之各種酸(硝酸、硫酸等)、及抗蝕劑剝離液之鹼等應具有耐久性。 (4)於內部及表面應無缺陷(泡、條紋、內含物、凹坑、傷痕等)。
除上述要求以外，近年來亦進而提出以下(5)～(9)之要求。 (5)由於要求顯示器之輕量化，故而期望比重較小之玻璃。 (6)由於要求顯示器之輕量化，故而期望玻璃板之薄板化。 (7)由於除此前之非晶矽(a-Si)型之液晶顯示器以外，還製作熱處理溫度較高之多晶矽(p-Si)型之液晶顯示器(a-Si之熱處理溫度：約350℃、p-Si之熱處理溫度：350～550℃)，故而要求耐熱性。
(8)為了加快液晶顯示器之製作時之熱處理之升降溫速度從而提昇生產性、或提昇耐熱衝擊性，要求平均熱膨脹係數較小之玻璃。另一方面，於玻璃之平均熱膨脹係數過小之情形時，若液晶顯示器製作時之閘極金屬膜或閘極絕緣膜等之各種成膜步驟變多，則存在如下問題：玻璃之翹曲會變大、引起液晶顯示器之搬送時產生破裂或傷痕等不良情況、曝光圖案之偏移會變大等。 (9)又，隨著玻璃基板之大型化、薄板化，要求比彈性模數(楊氏模數/密度)較高之玻璃。
為了滿足如上所述之要求，此前例如於液晶顯示面板用玻璃中提出有各種玻璃組成(參照專利文獻1～4)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第5702888號說明書 專利文獻2：國際公開第2013/183626號 專利文獻3：日本專利第5849965號說明書 專利文獻4：日本專利第5712922號說明書
[發明所欲解決之問題]
近年來，正在推進電子顯示器之進一步高解像度化，於大型電視中，隨著高精細化，例如Cu配線之膜厚提高等，由各種成膜而引起之基板之翹曲容易變大。因此，對翹曲較少之基板之需求變高，為了滿足此種需求，需要提高玻璃之楊氏模數。 然而，如專利文獻3、4中所記載之公知之楊氏模數較高之玻璃存在應變點較高，失透溫度高於黏度成為10 4dPa･s之溫度T 4的傾向。其結果，玻璃之成型變難，對製造設備之負擔變大，因此擔憂生產成本之增加。
本發明之目的在於提供一種玻璃，其能夠抑制玻璃基板之翹曲等變形，且成型性優異，對製造設備之負擔較低，容易製造大型且較薄之玻璃基板。 [解決問題之技術手段]
達成上述目的之本發明之玻璃其密度為2.60 g/cm 3以下，楊氏模數為88 GPa以上，應變點為650～720℃，玻璃黏度成為10 4dPa･s之溫度T 4為1320℃以下，玻璃表面失透溫度(T c)為T 4＋20℃以下，50～350℃下之平均熱膨脹係數為30×10 -7～43×10 -7/℃，且以氧化物基準之莫耳%表示，包含50～80%之SiO 2、8～20%之Al 2O 3、合計0～0.5%之選自由Li 2O、Na 2O及K 2O所組成之群中之至少1種鹼金屬氧化物、及0～1%之P 2O 5。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，比彈性模數可為34 MN･m/kg以上。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，玻璃表面失透黏度(η c)可為10 3.8dPa･s以上。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，黏度成為10 2dPa･s之溫度T 2可為1680℃以下。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，玻璃轉移溫度可為730～790℃。
本發明之無鹼玻璃之一態樣可以氧化物基準之莫耳%表示，包含 50～80%之SiO 2、 8～20%之Al 2O 3、 0～5%之B 2O 3、 0～15%之MgO、 0～12%之CaO、 0～10%之SrO、 0～10%之BaO、 0.005～0.2%之Na 2O、 0.001～0.5%之F、 0～1%之P 2O 5、 合計0～0.5%之選自由Li 2O、Na 2O及K 2O所組成之群中之至少1種鹼金屬氧化物，且 MgO＋CaO＋SrO＋BaO為18～22%。
本發明之無鹼玻璃之一態樣可以氧化物基準之莫耳%表示，包含0.1～15%之MgO、1～12%之CaO，且MgO/CaO為0.7～1.33。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，β-OH值可為0.1～0.6 mm -1。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，下述式(I)所表示之值可為4.10以上。 (7.87[Al 2O 3]－8.5[B 2O 3]＋11.35[MgO]＋7.09[CaO]＋5.52[SrO]－1.45[BaO])/[SiO 2]…式(I)
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，下述式(II)所表示之值可為0.95以上。 {-1.02[Al 2O 3]＋10.79[B 2O 3]＋2.84[MgO]＋4.12[CaO]＋5.19[SrO]＋3.16[BaO]＋11.07×([Li 2O]＋[Na 2O]＋[K 2O])＋3.954[F]＋5.677[β-OH]}/[SiO 2]…式(II)
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，下述式(III)所表示之值可為5.5以下。 (8.9[Al 2O 3]＋4.26[B 2O 3]＋11.3[MgO]＋4.54[CaO]＋0.1[SrO]－9.98[BaO])×{1＋([MgO]/[CaO]－1) 2}/[SiO 2]…式(III)
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，可以氧化物基準之莫耳%表示，含有0.5%以下之SnO 2。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，緊密度(compaction)可為100 ppm以下。
於本發明之無鹼玻璃之一態樣中，等效冷卻速度可為5～500℃/min。
本發明之無鹼玻璃之一態樣可為至少一邊為1800 mm以上且厚度為0.7 mm以下之玻璃板。
本發明之無鹼玻璃之一態樣可利用浮式法或熔融法製造。
又，本發明之顯示面板具有本發明之玻璃。
又，本發明之半導體器件具有本發明之玻璃。
又，本發明之資訊記錄媒體具有本發明之玻璃。
又，本發明之平面型天線具有本發明之玻璃。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種玻璃，其能夠抑制玻璃基板之翹曲等變形，且成型性優異，對製造設備之負擔較低，容易製造大型且較薄之玻璃基板。
以下，針對本發明之實施形態進行說明。再者，本發明並不限定於以下所說明之實施形態。 以下，玻璃之各成分之組成範圍係以氧化物基準之莫耳%表示。 以下，「數值A～數值B」所表示之數值範圍表示分別包含數值A及數值B作為最小值及最大值之範圍，意指數值A以上且數值B以下。
首先，針對本實施形態之玻璃之組成進行說明。 若SiO 2之含量未達50莫耳%(以下，簡稱為%)，則有應變點不會充分地提高，且平均熱膨脹係數增大，比重上升之傾向。因此，SiO 2之含量為50%以上，較佳為62%以上，更佳為62.5%以上，進而較佳為63%以上，尤佳為63.5%以上，最佳為64%以上。 若SiO 2之含量超過80%，則有玻璃之熔解性降低，楊氏模數降低，失透溫度上升之傾向。因此，SiO 2之含量為80%以下，較佳為70%以下，更佳為68%以下，進而較佳為67%以下，尤佳為66%以下，最佳為65.7%以下。
Al 2O 3會提高楊氏模數從而抑制撓曲，且抑制玻璃之分相性，降低平均熱膨脹係數，提高應變點，使破壞韌性值提昇從而提高玻璃強度。若Al 2O 3之含量未達8%，則有不易出現該等效果，又，使平均熱膨脹係數增大之其他成分會相對地增加，因而結果平均熱膨脹係數變大之傾向。因此，Al 2O 3之含量為8%以上，較佳為10%以上，更佳為12%以上，進而較佳為12.5%以上，尤佳為12.8%以上，最佳為13%以上。 若Al 2O 3之含量超過20%，則有玻璃之熔解性變差，又，失透溫度上升之虞。因此，Al 2O 3之含量為20%以下，較佳為16.5%以下，更佳為16%以下，進而較佳為15%以下，尤佳為14.5%以下，最佳為14%以下。
B 2O 3雖然不為必需成分，但由於會改善耐BHF性，且優化玻璃之熔解反應性，降低失透溫度，故而可含有6%以下。B 2O 3之含量為6%以下，較佳為5%以下，更佳為3%以下。 B 2O 3由於會降低楊氏模數，故而B 2O 3之含量更佳為2.5%以下，更佳為2.2%以下，進而較佳為2%以下，尤佳為1.7%以下，最佳為1.5%以下。
MgO雖然不為必需成分，但由於提高楊氏模數而不提高比重，故而能夠提高比彈性模數從而抑制撓曲，又，會使破壞韌性值提昇從而提高玻璃強度，故而亦可含有。又，MgO亦會使熔解性提昇。若MgO之含量未達1%，則有不易出現該等效果，且熱膨脹係數變得過低之虞。因此，MgO之含量較佳為1%以上，更佳為7%以上，進而較佳為8%以上，尤佳為8.2%以上，最佳為8.5%以上。 然而，若MgO含量過多，則失透溫度容易上升。因此，MgO之含量較佳為15%以下，更佳為13%以下，進而較佳為10%以下，尤佳為9.7%以下。
CaO雖然不為必需成分，但由於具有於鹼土金屬中次於MgO提高比彈性模數、且不會使應變點過於降低之特徵，與MgO同樣地亦會使熔解性提昇，故而可含有。進而，CaO亦具有與MgO相比不易提高失透溫度之特徵。若CaO之含量未達1%，則不易出現該等效果。因此，CaO之含量較佳為1%以上，更佳為6%以上，進而較佳為7%以上，尤佳為8%以上，最佳為8.5%以上。 若CaO之含量超過12%，則平均熱膨脹係數變得過高，又，失透溫度變高，於玻璃之製造時容易失透。因此，CaO之含量較佳為12%以下，更佳為10.5%以下，進而較佳為10%以下。
SrO雖然不為必需成分，但由於提昇熔解性而不使玻璃之失透溫度上升，故而可含有。但是，若SrO之含量未達0.5%，則不易出現該等效果。因此，SrO之含量較佳為0.5%以上，更佳為1%以上，進而較佳為1.2%以上，尤佳為1.5%以上。 SrO之上述效果低於BaO，若過於增多SrO之含量，則加大比重之效果反而會超過上述效果，平均熱膨脹係數亦可能變得過高。因此，SrO之含量較佳為10%以下，更佳為4%以下，進而較佳為3%以下，尤佳為2%以下。
BaO雖然不為必需成分，但由於會提昇熔解性而不使玻璃之失透溫度上升，故而亦可使本實施形態之玻璃含有。然而，若BaO之含量過量，則存在比重變大，楊氏模數降低，平均熱膨脹係數變得過大之傾向。因此，BaO之含量較佳為10%以下，更佳為0.5%以下。本實施形態之玻璃進而較佳為實質上不含BaO。 再者，於本說明書中所謂「實質上不含」，意指除自原料等混入之不可避免之雜質以外不含有，即不刻意地含有。於本實施形態中，實質上不含BaO之情形時之BaO之含量例如為0.3%以下，較佳為0.2%以下。
若鹼土金屬氧化物之合計量即MgO＋CaO＋SrO＋BaO(以下，亦稱為「RO」)較少，則失透溫度變高，即，失透黏度變低，成形性變差。因此，RO設為18%以上。 若RO過多，則有平均熱膨脹係數變大之虞，又，有耐酸性變差之虞。因此，RO為22%以下，較佳為20.7%以下，更佳為20.5%以下。
又，於MgO為1%以上且CaO為1%以上時，若MgO之含量相對於CaO之含量之比率即MgO/CaO較小，則容易析出CaO-Al 2O 3-SiO 2系之結晶，成形性變差。具體而言，失透溫度變高，即，失透黏度變低。因此，MgO/CaO為0.7以上，較佳為0.8以上，更佳為0.85以上，進而較佳為0.9以上，尤佳為0.92以上。但是，若MgO/CaO過大，則容易析出MgO-Al 2O 3-SiO 2系之結晶，失透溫度變高，即，失透黏度變低。因此，MgO/CaO為1.33以下，較佳為1.3以下，更佳為1.25以下，進而較佳為1.2%以下，尤佳為1.1%以下，最佳為1.05%以下。
本實施形態之玻璃中，自原料雜質等不可避免地含有鹼金屬氧化物，又，為了使熔解性提昇，容許含有極微量之鹼金屬氧化物。 然而，於將本實施形態之玻璃用作平板顯示器之TFT(Thin-Film Transistor，薄膜電晶體)側基板之情形時，若鹼金屬氧化物之含量過多，則鹼離子向TFT元件中之遷移變得顯著，電晶體特性變得不穩定，或失去可靠性，因此其含量需要抑制為合適之範圍。 又，於將本實施形態之玻璃用作半導體支持基板之情形時，若鹼金屬氧化物之含量過多，則有於將包含矽之基板與玻璃基板貼合之熱處理步驟中，鹼離子擴散至包含矽之基板之虞。 因此，鹼金屬氧化物之合計量即Li 2O＋Na 2O＋K 2O(以下，亦稱為「R' 2O」)為0.5%以下，較佳為0.2%以下，更佳為0.1%以下，更佳為0.08%以下，進而較佳為0.05%以下，最佳為0.03%以下。
但是，Na 2O由於具有降低玻璃之應變點之作用，故而可於不產生上述問題之範圍內含有。為了獲得降低玻璃之應變點之作用，Na 2O之含量較佳為0.005%以上，進而較佳為0.01%以上，尤佳為0.015%以上，最佳為0.02%以上。 然而，若較多地含有Na 2O，則有產生上述問題之虞，因此Na 2O之含量較佳為0.5%以下，更佳為0.2%以下，進而較佳為0.1%以下，進而較佳為0.08%以下，尤佳為0.05%以下，最佳為0.03%以下。
F雖不為必需成分，但由於具有降低玻璃之應變點之作用，故而可含有。為了獲得降低玻璃之應變點之作用，F之含量較佳為0.001%以上，更佳為0.01%以上。F含量之上限並無特別限定，較佳為1.5%以下(0.43質量%以下)，進而較佳為0.7%以下。
若於玻璃中較多地包含P 2O 5，則有玻璃之耐水性變差，容易產生條紋(striae)，玻璃之均一性劣化之虞。又，於將玻璃用作顯示器之情形時，若玻璃中之P較多，則有出現TFT中產生漏電流之問題之虞。 因此，本實施形態之玻璃之P 2O 5含量為1%以下。本實施形態之玻璃較佳為實質上不含P 2O 5。於本實施形態中，實質上不含P 2O 5之情形時之P 2O 5之含量例如為0.01%以下，較佳為0.005%以下。
進而，為了使玻璃之再利用變得容易，本實施形態之玻璃較佳為實質上不含PbO、As 2O 3、Sb 2O 3。於本實施形態中，實質上不含PbO、As 2O 3、Sb 2O 3之情形時之PbO、As 2O 3、Sb 2O 3之含量分別例如為0.01%以下，較佳為0.005%以下。
為了改善玻璃之熔解性、澄清性、成形性等，本實施形態之玻璃可含有以總量計2%以下、較佳為1%以下、更佳為0.5%以下之ZrO 2、ZnO、Fe 2O 3、SO 3、Cl、及SnO 2中之1種以上。該等之中，於為了改善玻璃之熔解性、澄清性而含有SnO 2之情形時，SnO 2之含量較佳為0.5%以下(1.1質量%以下)。
玻璃中之水分具有降低玻璃之應變點之作用。玻璃之β-OH值係用作玻璃中之水分含量之指標。若玻璃之β-OH值為0.1～0.6 mm -1，則適合於降低玻璃之應變點。若β-OH值超過0.6 mm -1，則無法抑制於鉑界面產生泡。鉑界面泡係因通過鉑材料制之熔融玻璃流路之壁面的H 2與熔融玻璃中之水分反應產生O 2而產生。玻璃之β-OH值更佳為0.15～0.6 mm -1，更佳為0.2～0.45 mm -1，進而較佳為0.22～0.35 mm -1，進而較佳為0.25～0.3 mm -1。 玻璃之β-OH值可藉由玻璃原料之熔解時之各種條件例如玻璃原料中之水分量、熔解槽中之水蒸氣濃度、熔解槽中之玻璃融液之停留時間等進行調節。 作為調節玻璃原料中之水分量之方法，有使用氫氧化物代替氧化物作為玻璃原料之方法(例如，使用氫氧化鎂(Mg(OH) 2)代替氧化鎂(MgO)作為鎂源)。 又，作為調節熔解槽中之水蒸氣濃度之方法，有為了加熱熔解槽而燃燒城市煤氣、重油等燃料時使用氧氣代替使用空氣之方法、或使用氧氣與空氣之混合氣體之方法。
本實施形態之玻璃較佳為下述式(I)所表示之值為4.10以上。 (7.87[Al 2O 3]－8.5[B 2O 3]＋11.35[MgO]＋7.09[CaO]＋5.52[SrO]－1.45[BaO])/[SiO 2]…式(I) 式(I)所表示之值係楊氏模數之指標，若該值未達4.10，則楊氏模數變低。於本實施形態之玻璃中，式(I)所表示之值更佳為4.15以上，進而較佳為4.20以上，尤佳為4.25以上，最佳為4.30以上。 再者，於上述式(I)中，[Al 2O 3]、[B 2O 3]、[MgO]、[CaO]、[SrO]、[BaO]、[SiO 2]分別意指以氧化物基準之莫耳%表示之Al 2O 3、B 2O 3、MgO、CaO、SrO、BaO、SiO 2之含量。於下述式(II)及(III)中亦相同。
本實施形態之玻璃較佳為下述式(II)所表示之值為0.95以上。 {-1.02[Al 2O 3]＋10.79[B 2O 3]＋2.84[MgO]＋4.12[CaO]＋5.19[SrO]＋3.16[BaO]＋11.07×([Li 2O]＋[Na 2O]＋[K 2O])＋3.954[F]＋5.677[β-OH]}/[SiO 2]…式(II) 式(II)所表示之值係應變點之指標，若該值未達0.95，則應變點變高。於本實施形態之玻璃中，式(II)所表示之值更佳為1.0以上，進而較佳為1.05以上，尤佳為1.10以上。 再者，於上述式(II)中，[Li 2O]、[Na 2O]、[K 2O]、[F]分別意指以氧化物基準之莫耳%表示之Li 2O、Na 2O、K 2O、F之含量。 於上述式(II)中，[β-OH]意指以mm -1為單位之β-OH值。
本實施形態之玻璃較佳為下述式(III)所表示之值為5.5以下。 (8.9[Al 2O 3]＋4.26[B 2O 3]＋11.3[MgO]＋4.54[CaO]＋0.1[SrO]－9.98[BaO])×{1＋([MgO]/[CaO]－1) 2}/[SiO 2]…式(III) 式(III)所表示之值係失透黏度之指標，若該值超過5.5，則失透黏度變低。於本實施形態之玻璃中，式(III)所表示之值更佳為5.1以下，進而較佳為4.8以下，尤佳為4.5以下，最佳為4.30以下。
本實施形態之玻璃之楊氏模數為88 GPa以上。藉此，抑制因外部應力而引起之基板之變形。例如，於平板顯示器之TFT側基板之製造中，抑制於基板之表面形成銅等之閘極金屬膜、或氮化矽等之閘極絕緣膜時之基板之翹曲。又，亦抑制基板之撓曲。楊氏模數較佳為88.5 GPa以上，更佳為89 GPa以上，進而較佳為89.5 GPa以上，尤佳為90 GPa以上，最佳為90.5 GPa以上。楊氏模數可藉由超音波法進行測定。
本實施形態之玻璃之密度為2.60 g/cm 3以下。藉此，自重撓曲變小，製成大型基板時之操作變得容易。又，能夠將使用本實施形態之玻璃之器件輕量化。密度更佳為2.59 g/cm 3以下，進而較佳為2.58 g/cm 3以下，尤佳為2.57 g/cm 3以下，最佳為2.56 g/cm 3以下。再者，所謂大型基板，例如為至少一邊為1800 mm以上之基板。大型基板之至少一邊例如可為2000 mm以上，亦可為2500 mm以上，亦可為3000 mm以上，還可為3500 mm以上。
本實施形態之玻璃之應變點為650～720℃。若應變點未達650℃，則於顯示器之薄膜形成步驟中玻璃板暴露於高溫時，容易引起玻璃板之變形及伴隨玻璃之構造穩定化而產生之收縮(熱收縮)。應變點較佳為685℃以上，更佳為690℃以上，進而較佳為693℃以上，尤佳為695℃以上，最佳為698℃以上。另一方面，若應變點過高，則需要與此相應地提高緩冷裝置之溫度，有緩冷裝置之壽命降低之傾向。又，亦有玻璃之成形變難，板厚偏差或表面之起伏變大之虞。應變點較佳為718℃以下，更佳為716℃以下，進而較佳為714℃以下，尤佳為712℃以下，最佳為710℃以下。
本實施形態之玻璃其黏度成為10 4dPa･s之溫度T 4為1320℃以下。藉此，本實施形態之玻璃之成形性優異。又，藉此能夠降低對製造設備之負擔。例如，能夠延長使玻璃成形之浮拋窯等之壽命，能夠提昇生產性。T 4較佳為1300℃以下，更佳為1290℃以下，進而較佳為1285℃以下，尤佳為1280℃以下。 T 4可按照ASTM C 965-96所規定之方法，使用旋轉黏度計對黏度進行測定，作為黏度成為10 4d･Pa･s時之溫度求出。再者，下文所述之實施例中，使用NBS710及NIST717a作為裝置校正用之參照試樣。
本實施形態之玻璃之玻璃表面失透溫度(T c)為T 4＋20℃以下。藉此，本實施形態之玻璃之成形性優異。又，藉此能夠抑制於成形中於玻璃內部產生結晶而降低透過率。又，藉此能夠降低對製造設備之負擔。例如，能夠延長將玻璃成形之浮拋窯等之壽命，能夠提昇生產性。 玻璃表面失透溫度(T c)較佳為T 4＋10℃以下，更佳為T 4＋5℃以下，進而較佳為T 4℃以下，尤佳為T 4－1℃以下，最佳為T 4－5℃以下。 玻璃表面失透溫度(T c)及玻璃內部失透溫度(T d)可按如下所述之方式求出。即，於鉑製盤中放入經粉碎之玻璃粒子，於控制為一定溫度之電爐中進行17小時熱處理，於熱處理後使用光學顯微鏡對玻璃之表面析出結晶之最高溫度及不析出結晶之最低溫度進行測定，將其平均值作為玻璃表面失透溫度(T c)。同樣地，對玻璃之內部析出結晶之最高溫度及不析出結晶之最低溫度進行測定，將其平均值作為玻璃內部失透溫度(T d)。玻璃表面失透溫度(T c)及玻璃內部失透溫度(T d)下之黏度可藉由對各失透溫度下之玻璃之黏度進行測定而獲得。
本實施形態之玻璃之50～350℃下之平均熱膨脹係數為30×10 -7/℃以上。例如，於平板顯示器之TFT側基板之製造中，存在於玻璃上依序積層銅等之閘極金屬膜、氮化矽等之閘極絕緣膜之情況。於此情形時，若50～350℃下之平均熱膨脹係數未達30×10 -7/℃，則有與形成於基板表面之銅等之閘極金屬膜之熱膨脹差變大，出現基板翹曲、產生膜剝落等問題之虞。 50～350℃下之平均熱膨脹係數較佳為33×10 -7/℃以上，更佳為35×10 -7/℃以上，進而較佳為36×10 -7/℃以上，尤佳為37×10 -7/℃以上，最佳為38×10 -7/℃以上。 另一方面，若50～350℃下之平均熱膨脹係數超過43×10 -7/℃，則有於顯示器等之製品製造步驟中玻璃破裂之虞。因此，50～350℃下之平均熱膨脹係數為43×10 -7/℃以下。 50～350℃下之平均熱膨脹係數較佳為42×10 -7/℃以下，更佳為41.5×10 -7/℃以下，進而較佳為41×10 -7/℃以下，尤佳為40.5×10 -7/℃以下，最佳為40.3×10 -7/℃以下。
本實施形態之玻璃之比彈性模數(楊氏模數(GPa)/密度(g/cm 3))較佳為34 MN･m/kg以上。藉此，自重撓曲變小，製成大型基板時之操作變得容易。比彈性模數更佳為34.5 MN･m/kg以上，進而較佳為34.8 MN･m/kg以上，尤佳為35 MN･m/kg以上，最佳為35.2 MN･m/kg以上。
本實施形態之玻璃之玻璃表面失透溫度(T c)下之黏度即玻璃表面失透黏度(η c)較佳為10 3.8dPa･s以上。藉此，玻璃基板之成形性優異。又，藉此能夠抑制於成形中於玻璃內部產生結晶而降低透過率。又，藉此能夠降低對製造設備之負擔。例如，能夠延長將玻璃基板成形之浮拋窯等之壽命，能夠提昇生產性。玻璃表面失透黏度(η c)更佳為10 3.85dPa･s以上，進而較佳為10 3.9dPa･s以上，尤佳為10 4dPa･s以上，最佳為10 4.05dPa･s以上。
本實施形態之玻璃之黏度成為10 2dPa･s之溫度T 2較佳為1680℃以下。藉此，玻璃之熔解性優異。又，藉此能夠降低對製造設備之負擔。例如，能夠延長將玻璃熔解之窯等之壽命，能夠提昇生產性。又，藉此能夠減少由窯導致之缺陷(例如，麻點缺陷、Zr缺陷等)。T 2更佳為1670℃以下，進而較佳為1660℃以下。
本實施形態之玻璃之玻璃轉移溫度較佳為730～790℃。藉由使玻璃轉移溫度為730℃以上，玻璃之成形性優異。例如，能夠減少板厚偏差或表面之起伏。又，藉由使玻璃轉移溫度為790℃以下，能夠降低對製造設備之負擔。例如，能夠降低玻璃之成形所使用之輥之表面溫度，能夠延長設備之壽命，能夠提昇生產性。玻璃轉移溫度更佳為740℃以上，進而較佳為745℃以上，尤佳為750℃以上，最佳為755℃以上。另一方面，玻璃轉移溫度更佳為785℃以下，進而較佳為783℃以下，尤佳為780℃以下，最佳為775℃以下。
本實施形態之玻璃之緊密度較佳為100 ppm以下，更佳為90 ppm以下，進而較佳為80 ppm以下，進而較佳為75 ppm以下，尤佳為70 ppm以下，最佳為65 ppm以下。所謂緊密度，係於加熱處理時因玻璃構造之緩和而產生之玻璃熱收縮率。若緊密度為100 ppm以下，則於製造各種顯示器之過程中所實施之薄膜形成步驟中暴露於高溫時，能夠將玻璃之變形及伴隨玻璃之構造穩定化而產生之尺寸變化抑制為最小限度。 再者，本實施形態中之緊密度意指按照如下程序所測得之緊密度。 將對本實施形態之玻璃進行加工而獲得之玻璃板試樣(利用氧化鈰經鏡面研磨之長度100 mm×寬度10 mm×厚度1 mm之試樣)於玻璃轉移溫度＋120℃之溫度下保持5分鐘，其後，以每分鐘40℃冷卻至室溫。玻璃板試樣冷卻至室溫後，測量試樣之總長(長度方向)L1。其後，將玻璃板試樣以每小時100℃加熱至600℃，於600℃下保持80分鐘，並以每小時100℃冷卻至室溫。玻璃板試樣冷卻至室溫後，再次測量試樣之總長L2。將600℃下之熱處理前後之總長之差(L1－L2)與600℃下之熱處理前之試樣總長L1之比(L1－L2)/L1作為緊密度之值。
為了降低緊密度，本實施形態之玻璃例如較佳為將等效冷卻速度設為500℃/min以下。就緊密度與生產性之平衡之觀點而言，等效冷卻速度較佳為5℃/min以上且500℃/min以下。就生產性之觀點而言，等效冷卻速度更佳為10℃/min以上，進而較佳為15℃/min以上，尤佳為20℃/min以上，最佳為25℃/min以上。就緊密度之觀點而言，等效冷卻速度更佳為300℃/min以下，進而較佳為200℃/min以下，尤佳為150℃/min以下，最佳為100℃/min以下。 再者，本實施形態中之等效冷卻速度意指按照如下程序所測得之等效冷卻速度。 準備複數片對本實施形態之玻璃進行加工而獲得之10 mm×10 mm×1 mm之長方體狀之校正曲線製作用試樣，將該等使用紅外線加熱式電爐於玻璃轉移溫度＋120℃下保持5分鐘。其後，將各試樣以1℃/min至1000℃/min之範圍之不同之冷卻速度冷卻至25℃。繼而，使用Shimadzu Device公司製造之精密折射計KPR-2000對該等試樣之d射線(波長587.6 nm)之折射率n d藉由V形塊法進行測定。將各試樣中所獲得之n d相對於冷卻速度之對數進行繪圖，藉此獲得n d相對於冷卻速度之校正曲線。 繼而，將本實施形態之玻璃加工成10 mm×10 mm×1 mm之長方體狀，使用Shimadzu Device公司製造之精密折射計KPR-2000藉由V形塊法測定n d。藉由上述校正曲線求出與所獲得之n d對應之冷卻速度，將其作為等效冷卻速度。
本實施形態之玻璃由於楊氏模數較高為88 GPa以上，可抑制因外部應力而引起之基板之變形，故而適合於用作大型基板之玻璃板。大型基板係例如至少一邊為1800 mm以上之玻璃板，作為具體例，為長邊1800 mm以上且短邊1500 mm以上之玻璃板。 本實施形態之玻璃更佳為至少一邊為2400 mm以上之玻璃板，例如長邊2400 mm以上且短邊2100 mm以上之玻璃板，進而較佳為至少一邊為3000 mm以上之玻璃板，例如長邊3000 mm以上且短邊2800 mm以上之玻璃板，尤佳為至少一邊為3200 mm以上之玻璃板，例如長邊3200 mm以上且短邊2900 mm以上之玻璃板，最佳為至少一邊為3300 mm以上之玻璃板，例如長邊3300 mm以上且短邊2950 mm以上之玻璃板。 本實施形態之玻璃若厚度為0.7 mm以下，則成為輕量，因而較佳。本實施形態之玻璃之厚度更佳為0.65 mm以下，進而較佳為0.55 mm以下，較佳為0.45 mm以下，最佳為0.4 mm以下。亦可將厚度設為0.1 mm以下、或0.05 mm以下，但就防止自重撓曲之觀點而言，厚度較佳為0.1 mm以上，更佳為0.2 mm以上。
本實施形態之玻璃例如可按照以下程序製造。 以成為所需玻璃組成之方式調配玻璃之原料，並將其投入至熔解爐中加熱至1500～1800℃進行熔解而獲得熔融玻璃。將所獲得之熔融玻璃利用成形裝置成形為特定板厚之玻璃帶，將該玻璃帶進行緩冷，其後進行切斷，藉此獲得玻璃。 再者，於本實施形態之玻璃之製造中，為了降低緊密度，例如較佳為以等效冷卻速度成為500℃/min以下之方式進行冷卻。
於本實施形態之玻璃之製造中，較佳為利用浮式法或熔融法等將熔融玻璃成形為玻璃板。就穩定地生產高楊氏模數之大型板玻璃(例如一邊為1800 mm以上)之觀點而言，較佳為浮式法。
繼而，對本實施形態之顯示面板進行說明。 本實施形態之顯示面板具有上述本實施形態之玻璃作為玻璃基板。顯示面板只要具有本實施形態之玻璃，則並無特別限定，可為液晶顯示面板、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示面板等各種顯示面板。 以薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)之情形為例，具有：顯示面電極基板(陣列基板)，於其表面形成有閘極電極線及閘極絕緣用氧化物層，進而於該氧化物層表面形成有像素電極；及彩色濾光片基板，於其表面形成有RGB(Red-Green-Blue，紅-綠-藍)之彩色濾光片及對向電極；於相互成對之該陣列基板與該彩色濾光片基板之間夾入液晶材料構成單元(cell)。液晶顯示面板除此種單元以外還包含周邊電路等其他要素。本實施形態之液晶顯示面板將本實施形態之玻璃用於構成單元之1對基板中之至少一者。
本實施形態之玻璃例如可用作電子器件支持用玻璃板。於將本實施形態之玻璃用作電子器件支持用玻璃板時，於本實施形態之玻璃(電子器件支持用玻璃板)上直接或使用接著材貼合玻璃基板、矽基板、樹脂基板等器件形成基板，藉此對器件形成基板進行支持。作為電子器件支持用玻璃板，例如可列舉以聚醯亞胺等樹脂為基板之可撓顯示器(例如有機EL顯示器)之製造步驟中之支持用玻璃板、半導體封裝製造步驟中之樹脂-矽晶片複合晶圓之支持用玻璃板等。
繼而，對本實施形態之半導體器件進行說明。 本實施形態之半導體器件具有上述本實施形態之玻璃作為玻璃基板。關於本實施形態之半導體器件，具體而言，例如具有本實施形態之玻璃作為MEMS(Micro Electro Mechanical System，微機電系統)、CMOS(complementary metal oxide，互補金屬氧化物半導體)、CIS(CMOS Image Sensor，CMOS影像感測器)等影像感測器用之玻璃基板。又，本實施形態之半導體器件具有本實施形態之玻璃作為投影用途之顯示器件用之覆蓋玻璃，例如LCOS(Liquid Cristyal ON Silicon，液晶覆矽)之覆蓋玻璃。
繼而，對本實施形態之資訊記錄媒體進行說明。 本實施形態之資訊記錄媒體具有上述本實施形態之玻璃作為玻璃基板。作為資訊記錄媒體，具體而言，例如可列舉磁性記錄媒體或光碟。作為磁性記錄媒體，例如可列舉能量輔助方式之磁性記錄媒體或垂直磁性記錄方式之磁性記錄媒體。
繼而，對本實施形態之平面型天線進行說明。 本實施形態之平面型天線具有上述本實施形態之玻璃作為玻璃基板。作為本實施形態之平面型天線，具體而言，作為指向性及接收感度良好之天線，例如可列舉液晶天線、微帶天線(塊狀天線)之類之具有平面形狀之平面液晶天線。關於液晶天線，例如揭示於國際公開第2018/016398號中。關於塊狀天線，例如揭示於日本專利特表2017-509266號公報、或日本專利特開2017-063255號公報中。 實施例
以下，針對實施例進行說明，但本發明並不限定於該等實施例。以下，例1～22、及例29～49為實施例，例23～28為比較例。 以玻璃組成成為表1～7所示之組成(單位：莫耳%)之方式調配各成分之原料，使用鉑坩堝以1600℃熔解1小時。熔解後，使熔融液流出至碳板上，並於玻璃轉移溫度＋30℃之溫度下保持60分鐘，其後，以每分鐘1℃冷卻至室溫(25℃)，獲得板狀玻璃。對其進行鏡面研磨，獲得玻璃板，並進行各種物性之測定。將結果示於表1～7中。再者，於表1～7中，括弧內所示之值為計算值，空欄為未測定。
以下表示各物性之測定方法。 (玻璃之β-OH值) 針對玻璃試樣測定對波長2.75～2.95 μm光之吸光度，將其最大值β max除以該試樣之厚度(mm)，藉此求出玻璃之β-OH值。
(平均熱膨脹係數) 根據JIS R3102(1995年)所規定之方法，使用示差熱膨脹計(TMA)進行測定。測定溫度範圍設為室溫～400℃以上，將單位設為10 -7/℃而表示50～350℃之平均熱膨脹係數。 (密度) 根據JIS Z 8807所規定之方法，藉由阿基米德法測定不含泡之約20 g之玻璃塊之密度。
(應變點) 根據JIS R3103-2(2001年)所規定之方法，藉由纖維拉伸法測定應變點。 (玻璃轉移溫度Tg) 根據JIS R3103-3(2001年)所規定之方法，使用示差熱膨脹計(TMA)藉由熱膨脹法測定玻璃轉移溫度Tg。 (楊氏模數) 根據JIS Z 2280所規定之方法，針對厚度0.5～10 mm之玻璃藉由超音波脈衝法測定楊氏模數。
(T 2) 根據ASTM C 965-96所規定之方法，使用旋轉黏度計測定黏度，並測定成為10 2d･Pa･s時之溫度T 2(℃)。 (T 4) 根據ASTM C 965-96所規定之方法，使用旋轉黏度計測定黏度，並測定成為10 4d･Pa･s時之溫度T 4(℃)。 (失透溫度) 將玻璃粉碎，使用試驗用篩以粒徑成為2～4 mm之範圍之方式進行分級。 將所獲得之玻璃屑於異丙醇中進行5分鐘超音波洗淨，並利用離子交換水進行洗淨，其後，使之乾燥，並放入至鉑製盤中，於控制於一定溫度之電爐中進行17小時之熱處理。熱處理之溫度以10℃間隔進行設定。熱處理後，自鉑盤取出玻璃，使用光學顯微鏡對玻璃之表面及內部析出結晶之最高溫度及不析出結晶之最低溫度進行測定。玻璃之表面及內部析出結晶之最高溫度及不析出結晶之最低溫度分別測定1次(難以進行結晶之析出之判斷之情形時，測定2次)。求出玻璃表面析出結晶之最高溫度與不析出結晶之最低溫度之平均值，作為玻璃表面失透溫度(T c)。同樣地，求出結晶析出至玻璃內部之最高溫度與不析出結晶之最低溫度之平均值，作為玻璃內部失透溫度(T d)。
(比彈性模數) 將按照上述程序求出之楊氏模數除以密度，藉此求出比彈性模數。 (失透黏度) 藉由上述方法求出玻璃表面失透溫度(T c)，並測定玻璃表面失透溫度(T c)下之玻璃之黏度，作為玻璃表面失透黏度(η c)。同樣地，求出玻璃內部失透溫度(T d)，並測定玻璃內部失透溫度(T d)下之玻璃之黏度，作為玻璃內部失透黏度(η d)。
[表1]
表1
   例1 例2 例3 例4 例5 例6 例7
SiO 2 65.1 65.2 65.2 65.2 65.2 65.2 64.8
Al 2O 3 13.5 13.5 13.5 13.8 13.8 13.8 14.2
B 2O 3 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2
MgO 9.5 9.2 8.9 8.9 9.2 8.6 9.0
CaO 10.0 9.7 9.4 9.4 9.1 9.7 9.0
SrO 0.6 1.2 1.8 1.5 1.5 1.5 1.8
BaO 0 0 0 0 0 0 0
Li 2O 0 0 0 0 0 0 0
Na 2O 0.08 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02
K 2O 0 0 0 0 0 0 0
F 0.13 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06
P 2O 5 0 0 0 0 0 0 0
SnO 2 0 0 0 0 0 0 0
β-OH[/mm] 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
R 2O 0.08 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02
RO 20.1 20.1 20.1 19.8 19.8 19.8 19.8
MgO/CaO 0.95 0.95 0.95 0.95 1.01 0.89 1.00
式(I)之值 4.27 4.23 4.20 4.21 4.23 4.19 4.28
式(II)之值 1.13 1.13 1.14 1.11 1.11 1.12 1.12
式(III)之值 4.28 4.20 4.13 4.17 4.19 4.18 4.23
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) 39.0 39.6 40.2 39.8 39.8 40.0 39.6
密度(g/cm 3) 2.54 2.55 2.56 2.55 2.55 2.55 2.56
應變點(℃) (715) 712 715 718 717 716 715
玻璃轉移溫度(℃) 781 768 768 770 771 770 770
楊氏模數(GPa) 91.3 92.0 90.8 90.3 90.3 90.1 90.0
T 2(℃) 1611 1616 1617 1610 1610 1610 1611
T 4(℃) 1276 1279 1279 1276 1276 1276 1277
T c(℃) 1275 1275 1265 1275 1265 1275 1285
T d(℃) ＜1270 ＜1270 ＜1260 ＜1260 ＜1260 1265 ＜1280
η c(dPa･s) 10 4.01 10 4.03 10 4 . 12 10 4 . 01 10 4.10 10 4 . 01 10 3 . 94
η d(dPa･s) ＞10 4 . 05 ＞10 4 . 07 ＞10 4 . 16 ＞10 4 . 14 ＞10 4 . 14 10 4 . 09 ＞10 3 . 98
比彈性模數 (MNm/kg) 35.9 36.0 35.4 35.4 35.4 35.3 35.1
等效冷卻速度(℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100)
[表2]
表2
   例8 例9 例10 例11 例12 例13 例14
SiO 2 64.8 63.2 63.2 65.1 65.1 67.5 67.5
Al 2O 3 14.2 15.5 15.5 13.5 13.5 13.4 13.4
B 2O 3 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2
MgO 8.6 10.0 9.2 9.5 10.1 9.5 7.6
CaO 9.4 8.3 9.1 8.8 8.2 6.4 8.3
SrO 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8 1.8
BaO 0 0 0 0 0 0 0
Li 2O 0 0 0 0 0 0 0
Na 2O 0.02 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
K 2O 0 0 0 0 0 0 0
F 0.06 0.06 0.06 0.13 0.13 0.13 0.13
P 2O 5 0 0 0 0 0 0 0
SnO 2 0 0 0 0 0 0 0
β-OH[/mm] 0.25 0.25 0.25 0.32 0.32 0.32 0.32
R 2O 0.02 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
RO 19.8 20.1 20.1 20.1 20.1 17.7 17.7
MgO/CaO 0.91 1.20 1.01 1.08 1.23 1.48 0.92
式(I)之值 4.26 4.65 4.60 4.24 4.28 3.83 3.71
式(II)之值 1.12 1.13 1.15 1.15 1.14 0.97 1.00
式(III)之值 4.22 4.85 4.57 4.22 4.48 4.77 3.70
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) 40.2 39.5 40.1 40.5 39.5 36.3 37.4
密度(g/cm 3) 2.56 2.58 2.58 2.56 2.56 2.53 2.53
應變點(℃) 716 (716) (716) (711) (716) (716) (716)
玻璃轉移溫度(℃) 772 (770) (770) (771) (767) (783) (763)
楊氏模數(GPa) 89.7 91.5 91.6 89.7997 90.3 89.2 88.9
T 2(℃) 1610 1577 1583 1613 1613 1664 1665
T 4(℃) 1278 1258 1263 1276 1276 1312 1313
T c(℃) 1275 1265 1275 1265 1265 1295 1255
T d(℃) ＜1270 ＜1260 ＜1260 ＜1260 ＜1250 ＜1280 ＜1250
η c(dPa･s) 10 4.02 10 3.94 10 3.90 10 4 . 09 10 4 . 09 10 4 . 14 10 4.48
η d(dPa･s) ＞10 4.06 ＞10 3.99 ＞10 4.03 10 4 . 13 10 4.13 10 4.27 10 4 . 53
比彈性模數 (MNm/kg) 35.0 35.5 35.5 35.1 35.3 35.3 35.1
等效冷卻速度(℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) 43 39
[表3]
表3
   例15 例16 例17 例18 例19 例20 例21
SiO 2 65.2 65.1 65.1 65.1 65.1 65.1 64.7
Al 2O 3 13.5 13.5 13.5 13.8 13.8 13.8 14.2
B 2O 3 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2
MgO 8.5 9.2 8.9 8.9 9.2 8.6 9.0
CaO 11.0 9.7 9.4 9.4 9.1 9.7 9.0
SrO 0.6 1.2 1.8 1.5 1.5 1.5 1.8
BaO 0 0 0 0 0 0 0
Li 2O 0 0 0 0 0 0 0
Na 2O 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
K 2O 0 0 0 0 0 0 0
F 0.13 0.13 0.13 0.13 0.13 0.13 0.13
P 2O 5 0 0 0 0 0 0 0
SnO 2 0 0 0 0 0 0 0
β-OH[/mm] 0.32 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
R 2O 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
RO 20.1 20.1 20.1 19.8 19.8 19.8 19.8
MgO/CaO 0.77 0.95 0.95 0.95 1.01 0.89 1.00
式(I)之值 4.20 4.24 4.20 4.21 4.23 4.19 4.29
式(II)之值 1.15 1.14 1.16 1.13 1.12 1.13 1.13
式(III)之值 4.38 4.21 4.14 4.18 4.20 4.19 4.24
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) 40.5 (39.6) (40.2) (39.8) (39.8) (40.0) (39.6)
密度(g/cm 3) 2.55 (2.55) (2.56) (2.55) (2.55) (2.55) (2.56)
應變點(℃) (718) (706) (709) (708) (707) (706) (707)
玻璃轉移溫度(℃) (770) (761) (761) (763) (764) (763) (763)
楊氏模數(GPa) 92.0 (92) (91) (90) (90) (90) (90)
T 2(℃) 1616 (1616) (1617) (1610) (1610) (1610) (1611)
T 4(℃) 1276 (1279) (1279) (1276) (1276) (1276) (1277)
T c(℃) 1285 (1275) (1265) (1275) (1265) (1275) (1285)
T d(℃) ＜1280 (＜1270) (＜1260) (＜1260) (＜1260) (1265) (＜1280)
η c(dPa･s) 10 3.93 (10 4 . 03) (10 4 . 12) (10 4 . 01) (10 4 . 10) (10 4 . 01) (10 3 . 94)
η d(dPa･s) ＞10 3.97 (＞10 4 . 07) (＞10 4 . 16) (＞10 4 . 14) (＞10 4 . 14) (10 4 . 09) (＞10 3 . 98)
比彈性模數 (MNm/kg) 36.1 (36.0) (35.4) (35.4) (35.4) (35.3) (35.1)
等效冷卻速度(℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100)
[表4]
表4
   例22 例23 例24 例25 例26 例27 例28
SiO 2 64.7 66.6 65.6 65.7 61.9 68.4 64.3
Al 2O 3 14.2 12.1 12.4 15.9 10.2 11.0 15.5
B 2O 3 1.2 4 2.7 0.0 0.0 0.0 0
MgO 8.6 7.6 10.9 8.0 14.2 10.0 15.7
CaO 9.4 5.2 8.4 10.4 13.7 10.6 4.5
SrO 1.8 5 0.0 0.0 0.0 0 0
BaO 0 0 0 0 0 0 0
Li 2O 0 0 0 0 0 0 0
Na 2O 0.08 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03
K 2O 0 0 0 0 0 0 0
F 0.13 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
P 2O 5 0 0 0 0 0 0 0
SnO 2 0 0 0 0 0 0 0
β-OH[/mm] 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
R 2O 0.08 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03
RO 19.8 17.5 19.4 18.4 27.9 20.6 20.2
MgO/CaO 0.91 1.45 1.30 0.77 1.04 0.95 3.48
式(I)之值 4.26 3.20 3.94 4.41 5.47 4.02 5.17
式(II)之值 1.14 1.46 1.29 0.78 1.43 0.92 0.77
式(III)之值 4.23 4.22 4.71 4.47 5.07 3.80 37.35
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) (40.2) (38) 40.0 - 47.0 (37) (35)
密度(g/cm 3) (2.56) (2.56) 2.50 2.54 2.60 (2.55) 2.55
應變點(℃) (707) (698) (710) (761) (704) (731) (744)
玻璃轉移溫度(℃) (765) (763) 761 (811) 764 (800) (797)
楊氏模數(GPa) (90) (84.6) 89.3 92.2 92.7 (89.7) 95.4
T 2(℃) (1610) (1647) 1615 1629 (1523) (1612) (1589)
T 4(℃) (1278) (1297) 1272 1301 (1205) (1253) (1268)
T c(℃) (1275) - 1350 - 1210 - (＞1288)
T d(℃) (＜1270) - - - - - -
η c(dPa･s) (10 4.02) - - - - - ＜'10 3 . 8 0
η d(dPa･s) (＞10 4.06)                  
比彈性模數 (MNm/kg) (35.0) (33.0) 35.7 36.3 35.7 (35.2) 37.4
等效冷卻速度 (℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100)
[表5]
表5
   例29 例30 例31 例32 例33 例34 例35
SiO 2 64.4 63.7 63.5 63.9 64.2 64.9 64.9
Al 2O 3 14.2 14.2 16.0 15.5 15.5 12.8 12.8
B 2O 3 2.2 2.8 2.2 2.0 1.2 0.5 1.2
MgO 9.5 9.7 9.0 8.0 7.5 11.0 10.0
CaO 7.5 7.9 8.0 8.0 8.3 9.7 9.0
SrO 2.1 1.6 1.3 2.5 3.2 1.0 2.0
BaO 0 0 0 0 0 0 0
Li 2O 0.01 0.01 0 0 0 0 0
Na 2O 0.05 0.05 0.08 0.01 0.08 0.08 0.08
K 2O 0.01 0.01 0 0 0 0 0
F 0.13 0.06 0.06 0.06 0.13 0.13 0.13
P 2O 5 0 0 0 0.1 0 0 0
SnO 2 0 0.1 0 0 0 0 0
β-OH[/mm] 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
R 2O 0.07 0.07 0.08 0.01 0.08 0.08 0.08
RO 19.1 19.2 18.3 18.5 19 21.7 21.0
MgO/CaO 1.27 1.23 1.13 1.00 0.90 1.13 1.11
式(I)之值 4.12 4.13 4.30 4.17 4.26 4.56 4.30
式(II)之值 1.25 1.36 1.18 1.19 1.12 1.10 1.21
式(III)之值 4.61 4.69 4.64 4.28 4.18 4.46 4.26
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) 38.7 (38.6) (37.3) 38.8 39.8 40.9 41.1
密度(g/cm 3) 2.55 (2.54) (2.55) (2.57) 2.59 (2.56) (2.57)
應變點(℃) 712 (703) (719) (721) 726 (705) (700)
玻璃轉移溫度(℃) 770 (760) (779) (782) 779 (761) (756)
楊氏模數(GPa) 88.7 (89) (90) (89) 89.1 (92) (90)
T 2(℃) 1610 (1592) (1594) (1605) 1616 (1603) (1608)
T 4(℃) 1268 (1260) (1269) (1276) 1278 (1266) (1268)
T c(℃) 1285 (≦1280) (≦1289) (≦1296) (≦1298) (≦1286) (≦1288)
T d(℃) ＜1285 (≦1280) (≦1289) (≦1296) (≦1298) (≦1286) (≦1288)
η c(dPa･s) 10 3.87 (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8)
η d(dPa･s) ＞10 3 . 97 (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8)
比彈性模數 (MNm/kg) 34.8 (35.0) (35.3) (34.6) 34.4 (35.8) (35.0)
等效冷卻速度(℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100)
[表6]
表6
   例36 例37 例38 例39 例40 例41 例42
SiO 2 64.4 64.9 64.7 64.2 64.2 65.1 64.9
Al 2O 3 12.8 13.0 13.0 13.8 13.8 13.8 14.5
B 2O 3 1.8 1.5 1.8 0.5 0.5 1.5 1.5
MgO 9.3 9.0 10.0 10.1 9.6 9.2 9.1
CaO 8.6 9.5 8.4 9.3 8.8 8.2 7.7
SrO 3.0 2.0 2.0 2.0 3.0 1.8 2.0
BaO 0 0 0 0 0 0.3 0.1
Li 2O 0 0 0 0 0 0 0
Na 2O 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
K 2O 0 0 0 0 0 0 0
F 0.13 0.13 0.13 0.13 0.13 0.13 0.13
P 2O 5 0 0 0 0 0 0 0
SnO 2 0 0 0 0 0 0 0.1
β-OH[/mm] 0.25 0.25 0.25 0.32 0.32 0.32 0.32
R 2O 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08 0.08
RO 20.9 20.5 20.4 21.4 21.4 19.5 18.9
MgO/CaO 1.08 0.95 1.19 1.09 1.09 1.12 1.18
式(I)之值 4.17 4.16 4.19 4.61 4.55 4.12 4.16
式(II)之值 1.34 1.25 1.27 1.12 1.15 1.16 1.12
式(III)之值 4.16 4.13 4.40 4.42 4.30 4.17 4.34
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) 41.9 41.1 40.3 41.6 42.3 39.6 38.9
密度(g/cm 3) 2.58 (2.56) 40.6 (2.58) (2.60) (2.56) (2.56)
應變點(℃) 704 (700) 2.56 (713) (713) (710) (712)
玻璃轉移溫度(℃) 754 (757) 706 (768) (769) (765) (769)
楊氏模數(GPa) 87.9 (89) 758 (91) (91) (89) (89)
T 2(℃) 1608 (1610) 88.4 (1597) (1599) (1622) (1624)
T 4(℃) 1261 (1270) 1611 (1264) (1266) (1279) (1282)
T c(℃) (≦1281) (≦1290) 1265 (≦1284) (≦1286) (≦1299) (≦1302)
T d(℃) (≦1281) (≦1290) 1265 (≦1284) (≦1286) (≦1299) (≦1302)
η c(dPa･s) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) 10 4 . 00 (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8)
η d(dPa･s) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 4 . 0) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8)
比彈性模數(MNm/kg) 34.1 (34.7) (18.7) (35.3) (35.0) (34.7) (34.8)
等效冷卻速度(℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100)
[表7]
表7
   例43 例44 例45 例46 例47 例48 例49
SiO 2 62.4 63.5 63.5 65.1 64.3 64.5 64.8
Al 2O 3 16.0 13.0 13.0 14.0 15.5 12.8 13.0
B 2O 3 0.7 1.5 1.7 1.2 1.2 1.8 1.8
MgO 11.0 12.1 9.2 8.6 7.5 9.3 10.0
CaO 8.8 9.2 11.2 7.5 8.3 8.6 8.4
SrO 1.0 0.6 1.3 3.5 3.2 3.0 2.0
BaO 0 0 0 0 0 0 0
Li 2O 0 0 0 0 0 0 0
Na 2O 0.08 0.08 0.08 0.08 0.13 0 0
K 2O 0 0 0 0 0 0 0
F 0.13 0.13 0.13 0.13 0.08 0 0
P 2O 5 0 0 0 0 0 0 0
SnO 2 0 0 0 0 0 0 0
β-OH[/mm] 0.32 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
R 2O 0.08 0.08 0.08 0.08 0.13 0.00 0.00
RO 20.8 21.9 21.7 19.6 19.0 20.9 20.4
MgO/CaO 1.25 1.32 0.82 1.15 0.90 1.08 1.19
式(I)之值 5.01 4.65 4.39 4.15 4.25 4.16 4.18
式(II)之值 1.08 1.28 1.37 1.15 1.13 1.32 1.25
式(III)之值 5.27 5.21 4.52 4.10 4.17 4.15 4.39
平均熱膨脹係數 (×10 -7/℃) 39.7 (40.5) (42.6) (40.6) (40.1) (42.0) (40.3)
密度(g/cm 3) (2.57) (2.55) (2.57) (2.58) (2.59) (2.58) (2.56)
應變點(℃) (715) (700) (699) (712) (715) (710) (712)
玻璃轉移溫度(℃) (773) (753) (752) (769) (775) (763) (765)
楊氏模數(GPa) (93) (91) (90) (89) (89.1) (88.7) (89.4)
T 2(℃) (1577) (1573) (1580) (1624) (1613) (1602) (1605)
T 4(℃) (1255) (1242) (1245) (1283) (1282) (1263) (1266)
T c(℃) (≦1275) (≦1262) (≦1265) (≦1303) (≦1302) (≦1283) (≦1286)
T d(℃) (≦1275) (≦1262) (≦1265) (≦1303) (≦1302) (≦1283) (≦1286)
η c(dPa･s) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8)
η d(dPa･s) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8) (≧10 3 . 8)
比彈性模數 (MNm/kg) (36.2) (35.8) (35.0) (34.4) (34.3) (34.4) (35.0)
等效冷卻速度(℃/min) 40 40 40 40 40 40 40
緊密度(ppm) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100) (≦100)
例23之楊氏模數較低，未達88 GPa。例24之玻璃表面失透溫度(T c)高於T 4＋20℃。例25、27、28之應變點較高。RO超過22之例26之平均熱膨脹係數較大，超過43×10 -7/℃。
參照特定之態樣對本發明詳細地進行了說明，但對於業者而言明確：可不脫離本發明之精神及範圍而進行各種變更及修正。再者，本申請案係基於2018年3月14日提出申請之日本專利申請(日本專利特願2018-46854)，將其整體藉由引用而援用。又，此處所引用之所有參照係作為整體收入。 [產業上之可利用性]
具有上述特徵之本發明之玻璃適合於顯示器用基板、光罩用基板、電子器件支持用基板、資訊記錄媒體用基板、平面型天線用基板等之用途。

Claims (17)

  1. 一種玻璃基板用玻璃，其密度為2.60 g/cm 3以下，比彈性模數為34 MN･m/kg以上，應變點為650～720℃，玻璃黏度成為10 4dPa･s之溫度T 4為1320℃以下，玻璃表面失透溫度(T c)為T 4＋20℃以下，50～350℃下之平均熱膨脹係數為30×10 -7～43×10 -7/℃， 以氧化物基準之莫耳%表示，包含 50～80%之SiO 2、 8～20%之Al 2O 3、 合計0～0.5%之選自由Li 2O、Na 2O及K 2O所組成之群中之至少1種鹼金屬氧化物、及 0～1%之P 2O 5， β-OH值為0.1～0.6 mm -1，且 下述式(III)所表示之值為5.5以下： (8.9[Al 2O 3]＋4.26[B 2O 3]＋11.3[MgO]＋4.54[CaO]＋0.1[SrO]－9.98[BaO])×{1＋([MgO]/[CaO]－1) 2}/[SiO 2]…     式(III)。
  2. 如請求項1之玻璃基板用玻璃，其玻璃表面失透黏度(η c)為10 3.8dPa･s以上。
  3. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其黏度成為10 2dPa･s之溫度T 2為1680℃以下。
  4. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其玻璃轉移溫度為730～790℃。
  5. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其以氧化物基準之莫耳%表示，包含 50～80%之SiO 2、 8～20%之Al 2O 3、 0～5%之B 2O 3、 0～15%之MgO、 0～12%之CaO、 0～10%之SrO、 0～10%之BaO、 0.005～0.2%之Na 2O、 0.001～0.5%之F、 0～1%之P 2O 5、及 合計0～0.5%之選自由Li 2O、Na 2O及K 2O所組成之群中之至少1種鹼金屬氧化物，且 MgO＋CaO＋SrO＋BaO為18～22%。
  6. 如請求項5之玻璃基板用玻璃，其以氧化物基準之莫耳%表示，包含 0.1～15%之MgO、及 1～12%之CaO，且 MgO/CaO為0.7～1.33。
  7. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其下述式(I)所表示之值為4.10以上： (7.87[Al 2O 3]－8.5[B 2O 3]＋11.35[MgO]＋7.09[CaO]＋5.52[SrO]－1.45[BaO])/[SiO 2]…式(I)。
  8. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其下述式(II)所表示之值為0.95以上： {-1.02[Al 2O 3]＋10.79[B 2O 3]＋2.84[MgO]＋4.12[CaO]＋5.19[SrO]＋3.16[BaO]＋11.07×([Li 2O]＋[Na 2O]＋[K 2O])＋3.954[F]＋5.677[β-OH]}/[SiO 2]…式(II)。
  9. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其以氧化物基準之莫耳%表示，含有0.5%以下之SnO 2。
  10. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其緊密度為100 ppm以下。
  11. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其等效冷卻速度為5～500℃/min。
  12. 如請求項1或2之玻璃基板用玻璃，其係至少一邊為1800 mm以上且厚度為0.7 mm以下之玻璃板。
  13. 如請求項12之玻璃基板用玻璃，其以浮式法或熔融法製造。
  14. 一種顯示面板，其具有如請求項1至13中任一項之玻璃基板用玻璃。
  15. 一種半導體器件，其具有如請求項1至13中任一項之玻璃基板用玻璃。
  16. 一種資訊記錄媒體，其具有如請求項1至13中任一項之玻璃基板用玻璃。
  17. 一種平面型天線，其具有如請求項1至13中任一項之玻璃基板用玻璃。
TW112127246A 2018-03-14 2019-03-14 玻璃 TW202342391A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-046854 2018-03-14
JP2018046854 2018-03-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202342391A true TW202342391A (zh) 2023-11-01

Family

ID=67908375

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108108651A TWI812684B (zh) 2018-03-14 2019-03-14 玻璃
TW112127246A TW202342391A (zh) 2018-03-14 2019-03-14 玻璃

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108108651A TWI812684B (zh) 2018-03-14 2019-03-14 玻璃

Country Status (5)

Country Link
JP (3) JP7136189B2 (zh)
KR (2) KR102682708B1 (zh)
CN (2) CN117088611A (zh)
TW (2) TWI812684B (zh)
WO (1) WO2019177070A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7136189B2 (ja) * 2018-03-14 2022-09-13 Ａｇｃ株式会社 ガラス
CN115699177A (zh) * 2020-06-02 2023-02-03 日本电气硝子株式会社 磁存储介质用玻璃盘以及使用该磁存储介质用玻璃盘的磁存储装置
TW202319363A (zh) * 2021-06-28 2023-05-16 日商日本電氣硝子股份有限公司 無鹼玻璃板
WO2024122539A1 (ja) * 2022-12-07 2024-06-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS572888U (zh) 1980-06-06 1982-01-08
JPS5712922U (zh) 1980-06-25 1982-01-22
JPS5849965U (ja) 1981-10-02 1983-04-04 ヤマハ株式会社 楽器用椅子
JP2007228446A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Hitachi Displays Ltd 携帯情報機器
CN101489944A (zh) * 2006-07-13 2009-07-22 旭硝子株式会社 无碱玻璃基板及其制造方法以及液晶显示面板
EP2450319A4 (en) * 2009-07-02 2015-01-28 Asahi Glass Co Ltd ALKALIFREE GLASS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
JP5649910B2 (ja) * 2010-10-22 2015-01-07 京セラ株式会社 携帯通信端末
EP2602476A1 (en) 2011-12-07 2013-06-12 Continental Automotive GmbH Valve assembly means for an injection valve and injection valve
WO2013161902A1 (ja) 2012-04-27 2013-10-31 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその製造方法
CN104302590B (zh) * 2012-05-16 2016-08-31 旭硝子株式会社 平板玻璃的制造方法
KR20200003272A (ko) * 2012-06-05 2020-01-08 에이지씨 가부시키가이샤 무알칼리 유리 및 그 제조 방법
WO2014175144A1 (ja) * 2013-04-25 2014-10-30 旭硝子株式会社 化学強化用ガラス板およびその製造方法
JP2016155692A (ja) * 2013-06-27 2016-09-01 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
JP2016188148A (ja) * 2013-08-30 2016-11-04 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその製造方法
JP2015224150A (ja) * 2014-05-27 2015-12-14 旭硝子株式会社 無アルカリガラスの製造方法
JP6812796B2 (ja) * 2014-10-23 2021-01-13 Ａｇｃ株式会社 無アルカリガラス
KR102403524B1 (ko) * 2016-08-23 2022-05-31 에이지씨 가부시키가이샤 무알칼리 유리
JP7136189B2 (ja) * 2018-03-14 2022-09-13 Ａｇｃ株式会社 ガラス

Also Published As

Publication number Publication date
KR102682708B1 (ko) 2024-07-12
TWI812684B (zh) 2023-08-21
JP2024009237A (ja) 2024-01-19
CN111836790A (zh) 2020-10-27
WO2019177070A1 (ja) 2019-09-19
CN117088611A (zh) 2023-11-21
KR20240112946A (ko) 2024-07-19
JP2022171721A (ja) 2022-11-11
KR20200132865A (ko) 2020-11-25
TW201938501A (zh) 2019-10-01
CN111836790B (zh) 2023-08-18
JPWO2019177070A1 (ja) 2021-02-25
JP7136189B2 (ja) 2022-09-13
US20200407264A1 (en) 2020-12-31
JP7396413B2 (ja) 2023-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI391357B (zh) 無鹼玻璃以及無鹼玻璃基板
TWI812684B (zh) 玻璃
TWI812683B (zh) 無鹼玻璃
WO2019208584A1 (ja) 無アルカリガラス
TW201739713A (zh) 無鹼玻璃
US20210380466A1 (en) Alkali-free glass
TW202031613A (zh) 無鹼玻璃
TW202039388A (zh) 無鹼玻璃
TW202325673A (zh) 無鹼玻璃
TW202104119A (zh) 包含磷與低離子場強度修飾劑之顯示組成物