TW202342279A - 裝飾材用之賦形片、裝飾材用之轉印片、裝飾材之製造方法 - Google Patents

裝飾材用之賦形片、裝飾材用之轉印片、裝飾材之製造方法 Download PDF

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Abstract

本揭示提供一種可使抗反射性良好之裝飾材用之賦形片。 一種裝飾材用之賦形片，其係於基材上具有消光層者，上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。

Description

裝飾材用之賦形片、裝飾材用之轉印片、裝飾材之製造方法
本揭示係關於一種裝飾材用之賦形片、裝飾材用之轉印片、裝飾材之製造方法。
作為牆壁、天花板、地板等建築物之內飾用構件；外壁、屋簷天花板、屋頂、圍牆、柵欄等外飾用構件；衣櫃、架子、桌子等家具；車輛之內飾構件；車輛之飾裝構件等物品之表面特性，有要求低光澤之情形。 要求低光澤之理由係為了使物品不反射自然光及室內光。
作為降低物品表面之光澤之方法，可例舉對物品之表面賦予凹凸形狀之方式。具體而言，可例舉使用壓紋板等之壓紋加工(專利文獻1)、使用賦形片之賦形(專利文獻2、3)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2011-73207號公報 專利文獻2：日本專利特開平2-235744號公報 專利文獻3：國際公開WO2021/201105號
[發明所欲解決之問題]
如專利文獻1般，藉由實施壓紋加工而於最表面形成凹凸形狀之方法之情形時，壓紋板之製作花費極大工夫，並不容易，進而需要按照每個期望之圖案製作板。因此，稱不上容易充分應對顧客需求之多樣性之方法。
專利文獻2及3中，揭示有裝飾材用之賦形片。 但，專利文獻2之賦形片(印刷片)之目的在於，在裝飾板之表面形成不同光澤之圖案花紋，關於抗反射性未作任何研討。 專利文獻3之賦形片係以消光為目的之賦形片。但，使用專利文獻3之賦形片之裝飾板頻繁發生抗反射性不足之實例。
本揭示之課題在於提供一種可使抗反射性良好之裝飾材用之賦形片及使用其之裝飾材之製造方法。又，本揭示之課題在於提供一種可使抗反射性良好之裝飾材用之轉印片及使用其之裝飾材之製造方法。 [解決問題之技術手段]
為解決上述問題，本揭示提供以下之[1]～[4]。 [1]一種裝飾材用之賦形片，其係於基材上具有消光層者， 上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。 [2]一種裝飾材之製造方法，其具有下述之步驟1～2。 步驟1：將[1]所記載之賦形片之消光層側之面壓抵於被賦形物，將被賦形物賦形之步驟。 步驟2：自被賦形物剝離上述賦形片，獲得裝飾材之步驟。 [3]一種裝飾材用之轉印片，其係於脫模性支持體上具有轉印層者， 上述脫模性支持體係如[1]所記載之賦形片，上述轉印片係將上述賦形片之上述消光層側之面朝向上述轉印層側配置而成。 [4]一種裝飾材之製造方法，其具有下述之步驟1～2。 步驟1：獲得將如[3]所記載之轉印片之轉印層與被接著體密接而成之積層體之步驟。 步驟2：自上述積層體剝離脫模性支持體，獲得於被接著體上具有轉印層之裝飾材之步驟。 [發明之效果]
根據本揭示，可提供一種能使抗反射性良好之裝飾材用之賦形片及使用其之裝飾材之製造方法。又，根據本揭示，可提供一種能使抗反射性良好之裝飾材用之轉印片及使用其之裝飾材之製造方法。
以下，針對本揭示之裝飾材用之賦形片、裝飾材用之轉印片、裝飾材之製造方法進行說明。 本說明書中，數值範圍之記載相關之「以上」、「以下」及「～」之數值為可任意組合之數值，實施例之數值為可用於數值範圍之上下限之數值。 本說明書中，有將「JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz」、「JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm」、「JIS B0601:2013所規定之算術平均粗糙度Ra」稱為「Rz」、「RSm」、「Ra」之情形。
[賦形片] 本揭示之裝飾材用之賦形片係於基材上具有消光層者， 上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。
圖1係顯示本揭示之裝飾材用之賦形片之實施形態之剖視圖。圖1之賦形片10於基材11上具有消光層12。圖1之賦形片10於消光層12側之表面具有凹凸形狀。 圖1係模式性剖視圖。即，構成賦形片10之各層之縮尺、表面之凹凸形狀之縮尺係為了易於圖示而模式化者，與實際之縮尺不同。圖1以外之圖亦同樣與實際之縮尺不同。
＜基材＞ 作為構成基材之材料，可例舉紙、不織布、織布、樹脂等。
作為紙基材，可例舉牛皮紙、鈦紙、棉絨紙、硫酸紙、玻璃紙、羊皮紙、樹脂浸漬紙、薄片紙、日本紙等。 作為構成不織布或織布之基材之纖維，可例舉選自由玻璃、氧化鋁、二氧化矽、碳等無機材料構成之無機纖維；由聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚乙烯、聚丙烯等合成樹脂構成之有機纖維等之1種以上。
作為樹脂基材，可例舉包含選自聚丙烯、聚乙烯、聚烯烴系熱塑性彈性體、離子聚合物等聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、乙二醇-對苯二甲酸-間苯二甲酸共聚物、聚酯系熱塑性彈性體等聚酯樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸丁酯共聚物等丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂、氯乙烯樹脂等之樹脂之1種以上之樹脂基材。
基材可包含著色劑、阻燃劑、抗氧化劑、潤滑劑、發泡劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑等添加劑。
基材可為單獨1種基材，亦可為將2種以上基材重合之複合基材。
基材之厚度無特別限制，只要根據所重視之性能適當決定即可。 於樹脂基材之情形時，厚度之下限較佳為20 μm以上，更佳為40 μm以上，上限較佳為300 μm以下，更佳為200 μm以下，進而較佳為100 μm以下。 於紙基材之情形時，基重較佳為20 g/m 2以上150 g/m 2以下，更佳為30 g/m 2以上100 g/m 2以下。
為了提高與消光層等之密接性，基材亦可為對單面或兩面實施氧化法、凹凸化法等物理性表面處理或化學性表面處理等表面處理者。又，亦可於基材與消光層間具有底塗層。
＜消光層＞ 本揭示之賦形片於基材上具有消光層。 消光層可形成於基材上之一部分，但較佳為形成於基材上之整個面。
本揭示之賦形片之消光層側之表面要求JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。 Rz為2.5 μm以上，RSm為50.0 μm以下之區域可為賦形片之消光層側之表面之一部分區域，但較佳為賦形片之消光層側之表面之全部區域。
Rz為2.5 μm以上且RSm為50.0 μm以下之賦形片之消光層側之表面之抗反射性良好。又，藉由賦形片賦形之裝飾材之表面形狀成為消光層之表面形狀之互補形狀(根據賦形時之熱及壓力等條件，有裝飾材之表面形狀與消光層之表面形狀非完全互補之關係之情形。但，裝飾材之表面形狀與消光層之表面形狀可謂大致互補之關係)。因此，裝飾材之Rz及Rsm之值成為與賦形片之消光層側表面之Rz及Rsm之值大致相同之值。因此，藉由賦形片之消光層側之表面之Rz為2.5 μm以上，且RSm為50.0 μm以下，可使裝飾材之抗反射性良好。 由於Rz為2.5 μm以上，且RSm為50.0 μm以下之形狀可減少反射光中朝正反射方向反射之光之比例，故可認為能使抗反射性良好。 於即使Rz為2.5 μm以上，但RSm超出50.0 μm之情形時，由於無法減少朝正反射方向反射之光之比例，故無法使抗反射性良好。又，於即使RSm為50.0 μm以下，但Rz未達2.5 μm之情形時，由於無法減少朝正反射方向反射之光之比例，故無法使抗反射性良好。
賦形片之消光層側之表面中，Rz較佳為3.0 μm以上，更佳為3.5 μm以上，進而較佳為4.0 μm以上。 若Rz過大，則反射光易朝各種角度散射，因而有被賦形物看起來發白，被賦形物之設計性降低之情形。因此，於賦形片之消光層側之表面之Rz較佳為10.0 μm以下，更佳為8.0 μ以下，進而較佳為6.0 μ以下。
於賦形片之消光層側之表面之RSm較佳為45.0 μm以下，更佳為40.0 μm以下，進而較佳為35.0 μm以下。 若RSm過小，則反射光易朝各種角度散射，因而有被賦形物看起來發白，被賦形物之設計性降低之情形。因此，於賦形片之消光層側之表面之RSm較佳為5.0 μm以上，更佳為7.5 μm以上，進而較佳為10.0 μm以上，進而更佳為20.0 μm以上。
本說明書中，Rz、RSm及後述之Ra例如可如下述A1～A3般測定。 A1：以雷射顯微鏡測定賦形片之消光層側之表面形狀。測定區域較佳設為縱204 μm×橫272 μm。雷射顯微鏡之接物透鏡較佳設為50倍。 A2：上述測定區域中，取得縱向8個剖面，橫向7個剖面。取得之剖面之間隔只要於間隔不過窄之範圍內適當設定即可。15處之剖面中，算出Rz、RSm及Ra。且，將15處之剖面之平均值設為測定區域(縱204 μm×橫272 μm)中之Rz、RSm及Ra。算出Rz、RSm及Ra時，相當於截取值λc之值較佳設定為0.8 mm。 A3：9處之測定區域(縱204 μm×橫272 μm)中，實施上述(1)及(2)之作業。且，將9處之測定區域之平均值設為賦形片之Rz、RSm及Ra。
本揭示之賦形片之消光層側之表面較佳為JIS B0601:2013所規定之算數平均粗糙度Ra為0.1 μm以上未達2.5 μm。Ra更佳為0.3 μm以上2.0 μm以下，進而較佳為0.5 μm以上1.5 μm以下，進而更佳為0.6 μm以上1.0 μm以下。 藉由將Ra設為0.1 μm以上，可使抗反射性更好。藉由將Ra設為未達2.5 μm，可更容易抑制由被賦形物看起來發白而導致被賦形物之設計性降低。
本揭示之賦形片之消光層側之表面之RSm/Ra較佳為60.0以下，更佳為50.0以下，進而較佳為45.0以下。藉由將RSm/Ra設為60.0以下，可容易使抗反射性更好。 若RSm為規定值以下，且RSm/Ra過小，則有被賦形物看起來發白之情形。因此，RSm/Ra較佳為10.0以上，更佳為20.0以上，進而較佳為30.0以上。
賦形片之消光層側之表面較佳為具有由不規則皺褶構成之凹凸形狀。藉由具有由不規則皺褶構成之凹凸形狀，可容易將Rz及RSm設為上述範圍。但，為了容易將Rz及RSm設為上述範圍，僅靠形成褶皺尚不夠，重要的是形成間距較細，標高較高之褶皺。 另，先前之通用之消光層包含黏合劑樹脂及消光劑，藉由起因於消光劑之表面凹凸而發揮消光效果。此種先前之通用之消光層中，無法於表面形成褶皺之凹凸，難以將Rz及RSm設為上述範圍。
作為褶皺相關之態樣，可例舉例如圖2所示之態樣。 圖2係顯示於賦形片10之消光層側之表面，俯視下具有不規則之褶皺。又，圖2中，顯示不規則褶皺藉由包含由彎曲之複數個線條突起部形成之複數個凸部3、及由複數個突起部(複數個凸部3)包圍而形成之凹部2而構成。又，圖2中，亦顯示彎曲之複數個凸部3之至少一部分由各個蜿蜒之線條突起部形成，且由該蜿蜒之線條突起部包圍，形成有蜿蜒之凹部2。
此處，「彎曲」意指俯視時具有1處以上連續之線條之凸部3之延伸方向自一側朝另一側反轉之部分。作為延伸方向自一側朝另一側反轉之部分之例，可例舉例如將線條之凸部3之俯視形狀之寬度視為0，以連續曲線來近似之情形時，連續曲線具有彎曲點的形態等。又，可例舉於忽視線條之凸部3之俯視形狀之寬度，而以直線來近似之情形時，具有以V字形折線或3角形之夾著1個頂點之2條邊來近似之部分。 又，「蜿蜒」意指俯視時，具有至少2處以上連續之線條之凸部3之延伸部分自一側朝另一側反轉之部分(以下，亦稱為「反轉部分」)，使線條之凸部3於其延伸方向行進時，且具有線條之凸部3之延伸方向於彼此相鄰之該等2處交替反向反轉之部分。例如，可例舉於忽視線條之凸部3之俯視形狀之寬度時而以連續曲線來近似之情形時，具有以羅馬字母「S」來近似之部分。又，可例舉於忽視線條之凸部3之俯視形狀之寬度時，而以直線來近似之情形時，具有以羅馬字母「W」來近似之部分。
本說明書中，不規則意指不能稱之為具有一定規律之形狀，又，以一定規律排列之所謂圖案化。作為非不規則之形狀(規則形狀)之典型例，可例舉例如如下形狀等：如將複數個圓柱形狀之單位透鏡於與其長邊方向正交之方向上彼此相鄰地排列之所謂「雙凸透鏡」般，於特定方向以一定週期性排列。因此，本實施形態之不規則褶皺包含：一個突起部之形狀本身並非以週期性等一定規律形成之形狀，而為不規則；又，藉由複數個突起部形成之複數個凸部之形狀並非以一定規律形成及排列，而為不規則；又，由此種複數個突起部包圍之凹部之形狀亦不規則。 本揭示之賦形片之消光層中，一個突起部(一個凸部)之形狀本身、複數個突起部(複數個凸部)各自之形狀及其排列、由複數個突起部包圍之凹部之形狀之任一者為不規則即可，較佳為皆不規則。藉由褶皺為不規則，可抑制反射光偏向特定角度，更容易使抗反射性良好。
如上已述，較佳為消光層之表面具有由不規則皺褶構成之凹凸形狀。凹凸形狀之凸部與凹部以凹凸形狀之高度分佈之中間值為基準，將超出該中間值之高度之區域定義為凸部，將該中間值以下高度之區域定義為凹部。例如，使用具有對應於本實施形態之消光層表面之高度之濃度的圖像之濃度差(即，亮度差)，將濃度分佈圖像中最濃部分設為灰階255，將濃度分佈圖像中最淡部分設為灰階0(對應於高度之中間值之濃度之中間值為127)，對於灰階0～255，只要將灰階0～127設為凹部，將灰階128～255設為凸部，進行二值化處理而區分即可。
本揭示之賦形片之消光層側之表面較佳為至少於其之一部分形成不規則褶皺，更佳為遍及整個面形成不規則褶皺。 又，亦如圖2所示，較佳為具有由雖不規則但具有某程度之均質性之複數個突起部形成之複數個凸部、及由該凸部包圍之凹部。因此，1個凸部(突起部)中，其寬度極大變化之形狀不易變為上述之表面形狀。以下，針對形成不規則褶皺之凸部(突起部)、凹部之形狀具體說明。
關於形成於消光層側之表面之褶皺之形狀，其凸部之高度(突起部之高度)較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上，進而較佳為2 μm以上，作為上限，為10 μm以下左右。又，凸部之寬度較佳為0.1 μm以上，更佳為0.3 μm以上，進而較佳為0.5 μm以上，作為上限，較佳為10 μm以下，更佳為4 μm以下，進而較佳為3 μm以下。若凸部之高度及寬度為上述範圍內，則容易呈上述表面形狀。 此處，凸部之上述尺寸為本揭示之賦形片之任意10處(100 μm見方之區域×10處)中之任意10個凸部(突起部)，即合計100個凸部之平均值。又，如圖2所示，由於1個凸部(突起部)中，其寬度不同，有寬有窄，故1個凸部(突起部)之寬度設為該1個凸部(突起部)中之任意5處之寬度之平均值。關於凸部(突起部)之高度亦同樣。
凹部之深度較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上，進而較佳為2 μm以上，作為上限，為10 μm以下左右。又，凹部之寬度較佳為0.1 μm以上，更佳為0.2 μm以上，進而較佳為0.3 μm以上，作為上限，較佳為10 μm以下，更佳為3 μm以下，進而較佳為2 μm以下。若凹部之深度及寬度為上述範圍內，則容易呈上述表面形狀。凹部之尺寸與上述凸部之尺寸同樣決定。
自凸部之頂至凹部之底之距離(凸部與凹部之高低差)較佳為1 μm以上，更佳為2 μm以上，進而較佳為4 μm以上，作為上限，較佳為20 μm以下，更佳為8 μm以下，進而較佳為7 μm以下。若該距離為上述範圍內，則容易呈上述表面形狀。
凸部之佔有比例較佳為15%以上，更佳為20%以上，進而較佳為30%以上，作為上限，較佳為80%以下，更佳為70%以下，進而較佳為60%以下。若凸部之佔有比例為上述範圍內，則容易呈上述表面形狀。 此處，凸部之佔有比例為本揭示之賦形片之任意10處(100 μm見方之區域×10處)中之凸部之佔有比例之平均值。
凸部及凹部可具有大致同一方向及大致同一寬度之部位，但為了提高抗反射性，較佳為其長度較短。具體而言，大致同一方向及大致同一寬度之凸部及凹部連續之長度較佳為95 μm以下，更佳為80 μm以下，進而較佳為70 μm以下，作為下限，較佳為5 μm以上，更佳為10 μm以上，進而較佳為15 μm以上。若該長度為上述範圍內，則褶皺變得更不規則，故可容易使抗反射性更好。 此處，關於本揭示之賦形片之任意10處(100 μm見方之區域×10處)中之任意10個凸部及凹部(即，合計100個凸部及凹部)，較佳為其之80%以上滿足上述條件，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上，進而更佳為95%以上。又，本說明書中之「大致同一」之「大致」意指大致相同，並無歧義，於方向之情形時意指±3°以內之差異，寬度之情形時意指±5%以內之差異。
100 μm見方之區域之凸部(突起部)之數量較佳為10以上，更佳為20以上，進而較佳為30以上，作為上限，較佳為200以下，更佳為100以下，進而較佳為70以下。若該凸部之數量為上述範圍內，則可容易使抗反射性更好。該凸部之數量為本揭示之賦形片之10處(100 μm見方之區域×10處)中之凸部之數量之平均值。
圖3係顯示構成本揭示之賦形片之消光層12之一實施形態之剖視圖，且係將消光層以與其厚度方向(同圖中為Z方向)平行之面切斷之剖視圖。 作為凹部之形狀，例如可如圖3之2a般為銳角狀者，又，亦可如2b所示般為半圓或半橢圓狀者，又可為該等之組合。又，還可為一個凸部於一部分具有凹部之如圖3之2c般之形狀。 另一方面，作為凸部之形狀，如圖3之3a、3b般，雖寬度有寬有窄，但較佳為呈半圓或半橢圓之形狀。
Rz及RSm為上述範圍之消光層例如可以下述(1)及(2)之方法製作。於下述(2)之方法之情形時，為了形成間距較細、標高較高之褶皺，重要的是調整黏合劑樹脂組成物之調配。又，於下述(2)之方法之情形時，重要的是控制將黏合劑樹脂組成物硬化時之波長。 (1)以模擬製作Rz及RSm為上述範圍之表面形狀。以反映模擬製作出之形狀之方式，將金屬之表面進行雷射雕刻，製作模型。將樹脂流入至上述模型，自模型取出樹脂，獲得消光層。 (2)藉由於基材上塗佈包含黏合劑樹脂及褶皺形成穩定劑之消光層用塗佈液並將之硬化，於表面形成具有褶皺形狀之消光層。
以上述(2)之方法獲得之消光層包含黏合劑樹脂及褶皺形成穩定劑。即，較佳為消光層包含黏合劑樹脂及褶皺形成穩定劑。
《褶皺形成穩定劑》 褶皺形成穩定劑可使褶皺穩定形成於消光層之表面。 先前技術之所謂「消光劑」與本揭示之「褶皺形成穩定劑」例如即使於其之構成物質、平均粒子徑相同之情形時，兩者之消光機構(作用)、用以表現消光之構造及使用量、及抗反射性上亦不同。
作為褶皺形成穩定劑，平均粒子徑較佳為將消光層之厚度之100%以下及30 μm以下之任一較小者設為上限者。 作為褶皺形成穩定劑，可例舉將平均粒子徑為1 μm以上，且上述消光層之厚度之100%以下及30 μm以下之任一較小者設為上限之褶皺形成穩定劑。本說明書中，有將「將平均粒子徑為1 μm以上，且上述消光層之厚度之100%以下及30 μm以下之任一較小者為上限之褶皺形成穩定劑」稱為褶皺形成穩定劑1之情形。 作為褶皺形成穩定劑，亦可例舉平均粒子徑未達1 μm之褶皺形成穩定劑。本說明書中，有將「平均粒子徑未達1 μm之褶皺形成穩定劑」稱為褶皺形成穩定劑2之情形。 本揭示中，較佳為包含褶皺形成穩定劑1或褶皺形成穩定劑2，更佳為包含褶皺形成穩定劑1及褶皺形成穩定劑2。
作為褶皺形成穩定劑，例如可使用有機粒子、無機粒子。 作為構成有機粒子之有機物，可例舉聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物樹脂、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯樹脂、苯幷胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、矽酮、氟系樹脂及聚酯系樹脂等。 作為構成無機粒子之無機物，可例舉二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、鋁矽酸鹽及硫酸鋇等，該等之中，透明性優異之二氧化矽較佳。
作為褶皺形成穩定劑之形狀，可例舉球形、多面體、鱗片狀、不定形等。
褶皺形成穩定劑1之平均粒子徑係1 μm以上且將上述消光層之厚度之100%以下及30 μm以下之任一較小者設為上限。褶皺形成穩定劑1之平均粒子徑之下限較佳為1.3 μm以上，更佳為1.5 μm以上，進而較佳為1.8 μm以上。褶皺形成穩定劑1之平均粒子徑之上限相對於消光層之厚度，較佳為消光層之厚度之90%以下，更佳為消光層之厚度之80%以下，進而較佳為消光層之厚度之70%以下，關於絕對值，較佳為20 μm以下，更佳為10 μm以下，進而較佳為8 μm以下，進而更佳為7 μm以下，只要設為將相對於消光層之厚度之上限與絕對值之上限任意組合時之任一較小者即可。例如，可將消光層之厚度之90%以下及20 μm以下之任一較小者設為上限，亦可將消光層之厚度之90%以下及10 μm以下之任一較小者設為上限。另，關於消光層之厚度於下文敘述。
褶皺形成穩定劑2之平均粒子徑未達1 μm。褶皺形成穩定劑2之平均粒子徑較佳為1 nm以上，更佳為3 nm以上，進而較佳為5 nm以上，作為上限，較佳為900 nm以下，更佳為700 nm以下，進而較佳為500 nm以下。 本說明書中，褶皺形成穩定劑之平均粒子徑係於雷射光衍射法之粒度分佈測定中以體積平均值d50而測定者。
褶皺形成穩定劑之含量(併用褶皺形成穩定劑1與褶皺形成穩定劑2之情形時，為該等之合計含量)相對於形成消光層之樹脂100質量份，下限較佳為0.5質量份以上，更佳為0.75質量份以上，進而較佳為1.0質量份以上，進而更佳為1.2質量份以上，上限較佳為25.0質量份以下，更佳為15.0質量份以下，進而較佳為10.0質量份以下，進而更佳為7.5質量份以下，尤佳為6.0質量份以下。 併用褶皺形成穩定劑1與褶皺形成穩定劑2之情形時，將褶皺形成穩定劑1與褶皺形成穩定劑2之合計量設為100質量份時之褶皺形成穩定劑1之調配量較佳為0.05質量份～0.95質量份，更佳為0.10質量份～0.90質量份，進而較佳為0.20質量份～0.80質量份，進而更佳為0.30質量份～0.70質量份。
於消光層包含消光劑之情形時，於賦形步驟中，有消光劑自消光層脫落之情形。若消光劑自消光層脫落，則有賦形片之表面形狀未反映到被賦形物，或被賦形物發生損傷之情形。因此，較佳為消光層實質上不含有消光劑。 本案說明書中，「消光劑」意指具有將超過消光層之厚度之100%及超過30 μm之任一較小者設為下限之平均粒子徑之粒子。 實質上不含有消光劑意指消光劑相對於消光層之全固形份之含量為0.1質量%以下，更佳為0.01質量%以下，進而較佳為0質量%。
《黏合劑樹脂》 為了提高賦形片之強度，黏合劑樹脂較佳為包含含有硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物，更佳為包含含有電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物。 作為硬化性樹脂，可例舉熱硬化性樹脂及電離輻射線硬化性樹脂。其中，較佳為提高賦形片之強度，進而容易形成褶皺形狀之電離輻射線硬化性樹脂。
電離輻射線硬化性樹脂為具有電離輻射線硬化性官能基之樹脂，電離輻射線硬化性官能基為藉由照射電離輻射線而交聯硬化之基，較佳可例舉例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等具有乙烯性雙鍵之官能基等。另，本說明書中，(甲基)丙烯醯基表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基。又，本說明書中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。 又，電離輻射線意指電磁波或荷電粒子束中，具有可將分子聚合及/或交聯之能量量子者，通常使用紫外線(UV)或電子束(EB)，此外，亦包含X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等荷電粒子束。
作為電離輻射線硬化性樹脂，可例舉電子束硬化性樹脂及紫外線硬化性樹脂。該等之中，較佳為容易形成褶皺形狀之紫外線硬化性樹脂。 電離輻射線硬化性樹脂具體而言，可自先前慣用為電離輻射線硬化性樹脂之聚合性單體、聚合性寡聚物中適當選擇而使用。
作為聚合性單體，較佳為分子中具有自由基聚合性不飽和基之(甲基)丙烯酸酯系單體，其中較佳為多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體。此處，「(甲基)丙烯酸酯」意指「丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯」。 作為多官能性(甲基)丙烯酸酯單體，可例舉分子中具有2種以上之電離輻射線硬化性官能基，且至少具有(甲基)丙烯醯基作為該官能基之(甲基)丙烯酸酯單體。
多官能性(甲基)丙烯酸酯單體之官能基數較佳為2以上8以下，更佳為2以上6以下，進而較佳為2以上4以下，進而更佳為2以上3以下。又，若為上述官能基數，則尤其容易獲得上述之表面形狀。多官能性(甲基)丙烯酸酯可單獨或將複數種組合而使用。
作為聚合性寡聚物，可例舉例如分子中具有2種以上電離輻射線硬化性官能基，且至少具有(甲基)丙烯醯基作為該官能基之(甲基)丙烯酸酯寡聚物。例如，可例舉胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、環氧(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚醚(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚碳酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、丙烯酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物等。 再者，作為聚合性寡聚物，此外亦有聚丁二烯寡聚物之支鏈具有(甲基)丙烯酸酯基之疏水性較高之聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯系寡聚物、主鏈具有聚矽氧烷鍵之矽酮(甲基)丙烯酸酯系寡聚物、將小分子內具有較多反應性基之胺基塑性樹脂改性而得之胺基塑性樹脂(甲基)丙烯酸酯系寡聚物、及酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚型環氧樹脂、脂肪族乙烯醚、芳香族乙烯醚等分子中具有陽離子聚合性官能基之寡聚物。
聚合性寡聚物可單獨或將複數種組合而使用。 聚合性寡聚物中，較佳為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、環氧(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚醚(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚碳酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、丙烯酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物，更佳為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物、聚碳酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物，進而佳為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物。
聚合性寡聚物之官能基數之下限較佳為2以上，上限較佳為8以下，更佳為6以下，進而較佳為4以下。若聚合性寡聚物之官能基數為上述範圍，則可容易獲得上述形狀，且容易使賦形片之強度良好。 又，聚合性寡聚物之重量平均分子量較佳為1,500以上7,500以下，更佳為1,700以上5,000以下，進而較佳為2,000以上4,000以下。此處，重量平均分子量係藉由GPC(Gel Permeation Chromatography：凝膠滲透層析法)分析測定，且以標準聚苯乙烯換算而得之平均分子量。若聚合性寡聚物之重量平均分子量為上述範圍，則可容易獲得上述形狀，且容易使賦形片之強度良好。
僅聚合性寡聚物難以獲得褶皺形狀。另一方面，僅聚合性單體有形成過量褶皺之情形。因此，作為電離輻射線硬化性樹脂，較佳為包含聚合性單體及聚合性寡聚物。 即使於包含聚合性單體及聚合性寡聚物作為電離輻射線硬化性樹脂之情形時，於聚合性單體之比例較少之情形時，亦不易獲得間距較細且標高較高之褶皺。又，即使於包含聚合性單體及聚合性寡聚物作為電離輻射線硬化性樹脂之情形時，於聚合性單體之相對過多之情形時，有形成過量之褶皺之情形。因此，聚合性單體與聚合性寡聚物之質量比較佳為85:15～40:60，較佳為70:20～45:55，進而較佳為65:35～50:50。
電離輻射線硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂之情形時，消光層用塗佈液較佳為包含光聚合起始劑、光聚合促進劑等添加劑。
《消光層之形成方法》 於藉由上述(2)之方法形成消光層之情形時，較佳為具備消光層形成步驟，其於基材上塗佈包含電離輻射線硬化性樹脂及褶皺形成穩定劑之消光層用塗佈液後，以100 nm以上380 nm以下之波長光照射而形成。 藉由照射100 nm以上380 nm以下之短波長紫外線，可於消光層之表面形成褶皺。再者，藉由將聚合性寡聚物與聚合性單體之調配比設為上述範圍，褶皺之間距及標高成為適當範圍，可容易獲得Rz及RSm之值成為上述範圍之褶皺形狀。
消光層用塗佈液之塗佈方法可例舉凹版印刷法、棒塗法、輥塗法、反向輥塗法、刮刀塗佈法等通用之方法。較佳為於塗佈消光層用塗佈液後，且照射規定波長光之前，視需要進行乾燥。
藉由照射短波長之紫外線，於消光層之表面形成褶皺之理由推測為根據以下機構者。
若於基材上，對塗佈有消光層用塗佈液之塗佈層照射短波長之紫外線，則該紫外線之能量僅滲透表面部分，能量未到達較其更下層，藉此僅該樹脂組成物之表面部分開始硬化。且，認為藉由僅表面部分產生硬化收縮，而形成褶皺。如此，認為褶皺之形成係藉由照射短波長之紫外線，僅距塗佈層之表面一定厚度之方向硬化之狀態下產生。由於褶皺之形成關係到樹脂之硬化，故如上所述，聚合性單體與聚合性寡聚物之質量比會對褶皺之形狀造成影響。具體而言，有聚合性單體之比例愈多，褶皺之標高愈高之傾向。由於褶皺之間距亦受褶皺之標高之影響，雖聚合性單體之比例較多，但間距不會變短。但，若聚合性單體之比例過少，則會導致褶皺之間距變長。 又，即使樹脂組成相同，於消光層用塗佈液不包含褶皺形成穩定劑之情形時，亦未穩定地形成褶皺。即，為了於消光層之整個面形成褶皺，包含褶皺形成穩定劑必不可缺。認為褶皺形成穩定劑具有如成為褶皺形成之契機之核心之功能。
較佳為藉由100 nm以上380 nm以下之波長光，使塗佈層之表面部分硬化後，進而實施其他照射處理，塗佈層之內部亦硬化。
作為100 nm以上380 nm以下之波長光，較佳為例如包含來自激發狀態之二聚體，即準分子(excimer)之紫外線波長域之光之「準分子光」，該激發狀態之二聚體藉由Ar、Kr、Xe、Ne等稀有氣體、F、Cl、I、Br等鹵素之稀有氣體之鹵化物等氣體、或該等之混合氣體之放電而形成。 作為準分子光之波長及成為光源之準分子，較佳可採用例如自Ar 2之準分子輻射之波長126 nm之光(以下，簡稱為「126 nm(Ar 2)」)、146 nm(Kr 2)、157 nm(F 2)、172 nm(Xe 2)、193 nm(ArF)、222 nm(KrCl)、247 nm(KrF)、308 nm(XeCl)、351 nm(XeF)等波長光。作為準分子光，可使用自發發射光、誘發發射之相干性(可干涉性)較高之雷射光之任一者，但通常只要使用自發發射光即可。另，發射該光(紫外線)之放電燈亦稱為「準分子燈」。 準分子光之特徵可例舉如下：波長峰值單一，又，與通常之紫外線(例如，自金屬鹵化物燈、水銀燈等發射之紫外線)相比，波長之半高寬較窄。藉由使用此種準分子光，可穩定形成褶皺。
為了穩定形成褶皺，作為波長，較佳為120 nm以上，更佳為140 nm以上，進而較佳為150 nm以上，進而更佳為155 nm以上，作為上限，較佳為320 nm以下，更佳為300 nm以下，進而較佳為250 nm以下，進而更佳為未達200 nm，最佳為172 nm(Xe 2)。
為了穩定形成褶皺，上述波長光之積算光量較佳為1 mJ/cm 2以上，更佳為10 mJ/cm 2以上，進而較佳為30 mJ/cm 2以上，進而更佳為50 mJ/cm 2以上。又，作為上限，未特別限制，基於減少照射波長光所需之燈數，且提高生產效率等生產性之觀點而言，較佳為1,000 mJ/cm 2以下，更佳為500 mJ/cm 2以下，進而較佳為300 mJ/cm 2以下。基於與此相同之觀點而言，紫外線輸出密度較佳為0.001 W/cm以上，更佳為0.01 W/cm以上，進而較佳為0.03 W/cm以上，作為上限，較佳為10 W/cm以下，更佳為5 W/cm以下，進而較佳為3 W/cm以下。 又，照射上述波長光時之氧濃度較佳為更低，較佳為1,000 ppm以下，更佳為750 ppm以下，進而較佳為500 ppm以下，進而更佳為300 ppm以下。
形成消光層時，除上述之100 nm以上380 nm以下之波長光之照射外，亦可進行有助於消光層用塗佈液之樹脂組成物之硬化之其他處理。 例如，基於促進消光層之表面部分與較表面更深部分之硬化進展之觀點而言，預先照射超出380 nm之波長光，較佳為385 nm以上400 nm以下左右之波長光，使消光層用塗佈液之樹脂組成物全體預備硬化後，以100 nm以上380 nm以下之波長光照射。或者，亦可於以100 nm以上380 nm以下之波長光之照射後，進行用以使樹脂組成物進而硬化之後硬化處理。預備硬化或後硬化之波長不限於紫外線，亦可使用電子束等其他電離輻射線。例如，後硬化中，基於提高消光層之表面特性之觀點而言，較佳可使用電子束。
消光層之厚度未特別限制，通常為1 μm以上，較佳為2 μm以上，更佳較為3 μm以上，進而更佳為4 μm以上，作為上限，較佳為300 μm以下，更佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下，更佳為20 μm以下，更佳為10 μm以下。 本說明書中，消光層之厚度係對於賦形片之剖面，自使用掃描電子顯微鏡(SEM)拍攝之圖像測定20處之厚度，設為20處之值之平均值。另，SEM之加速電壓為3 kV，倍率根據厚度而設定。又，關於其他層之厚度亦同樣。
本揭示之賦形片需要於將被賦形物賦形後，自被賦形物剝離賦形片。因此，較佳為消光層具有良好之剝離性。因此，較佳為消光層中包含脫模劑。作為脫模劑，可例舉氟系脫模劑、矽酮系脫模劑等，基於更低價且獲得較高脫模性之觀點而言，較佳為矽酮系脫模劑。
作為矽酮系脫模劑，可例舉將聚矽氧烷構造作為基本構造者，其中較佳為於其支鏈及末端之至少一者中導入有有機基之改性矽酮油，更佳為於兩末端導入有有機基之改性矽酮氧油。作為有機基，基於獲得質感更高之設計性之觀點而言，較佳可例舉(甲基)丙烯基、胺基、環氧基、巰基、甲醇基、苯酚基、羧基等反應性官能基、聚醚基、芳烷基、氟烷基、烷基、脂肪酸醯胺基、苯基等非反應性官能基等。其中，較佳為反應性官能基，尤佳為(甲基)丙烯基，即，尤佳為(甲基)丙烯酸改性矽酮油。又，該等有機基亦可具有氮原子、硫黃原子、羥基、烷基等取代基。
脫模劑之含量相對於黏合劑樹脂100質量份，較佳為0.1質量份～5質量份，更佳為0.5質量份～3質量份，進而較佳為1質量份～2質量份。
賦形片之消光層側之表面之JIS Z8741:1997所規定之60度鏡面光澤度較佳為10以下，更佳為7.5以下，更佳為5.0以下，更佳為3.0以下。本說明書中，60度鏡面光澤度設為10處之測定值之平均值。
[裝飾材之製造方法(使用賦形片之裝飾材之製造方法)] 本揭示之裝飾材之製造方法具有下述之步驟1～2。 步驟1：將上述之本揭示之賦形片之消光層側之面壓抵於被賦形物，將被賦形物賦形之步驟。 步驟2：自被賦形物剝離上述賦形片，獲得裝飾材之步驟。
步驟1可例舉例如使用將本揭示之賦形片輥狀配置之壓紋輥，將被賦形物賦形之實施形態。該實施形態中，由於賦形片作為壓紋板之代替品發揮功能，故作為被賦形物，只要為使用壓紋板對表面賦予凹凸形狀者即可，可不受特別限制而使用。作為被賦形物，可例舉例如包含熱塑性樹脂之片狀物等。
又，作為步驟1之其他實施態樣，可例舉如下態樣：獲得將含浸有樹脂組成物之基材與本揭示之賦形片重疊之積層體後，將積層體加熱加壓成形，使樹脂組成物硬化。本態樣係主要較佳用於熱硬化性樹脂裝飾板之製造方法的方法，且該熱硬化性樹脂裝飾板作為衣櫃、架子、桌子、門、櫃台等之表面板使用。
作為含浸有樹脂組成物之基材，可採用例如使熱硬化性樹脂含浸之纖維基材或紙基材。 作為樹脂組成物所含之熱硬化性樹脂，只要為藉由常溫或加熱而硬化者，則可不受特別限制而使用，較佳可例舉例如三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺-尿素樹脂、三聚氰二胺樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、聚酯樹脂、苯酚樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等，可例舉三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺-尿素樹脂、三聚氰二胺樹脂、磺醯胺樹脂等熱硬化性樹脂，三聚氰胺樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、聚酯樹脂、三聚氰二胺樹脂、苯酚樹脂等為其中通用之樹脂。
作為加熱加壓成形之條件，只要根據使用之熱硬化性樹脂之種類適當調整即可，未特別限制，通常為100°C以上200°C以下，較佳為120°C以上160°C以下之溫度條件，壓力為0.1 MPa以上，較佳為0.49 MPa以上，作為上限，較佳為1.47 MPa以下左右，時間為10秒至120分鐘之間。
如上述般獲得之裝飾材例如較佳用作墻牆壁、天花板、地板等建築物之內飾用構件；外壁、屋簷天花板、屋頂、圍牆、柵欄等外飾用構件；窗框、門、門框、扶手、踢腳板、天花板飾條、裝飾條等裝修門窗用構件；衣櫃、架子、桌子等一般家具用構件；餐桌、洗滌台等廚房家具用構件；廚房、廁所、浴室、盥洗台等用水區用之構件；家電用構件；車輛用構件等各種構件。即，本揭示之賦形片較佳用作對該等各種構件賦形凹凸形狀之賦形片。
[轉印片] 本揭示之轉印片為於脫模性支持體上具有轉印層者，且 上述脫模性支持體為上述之本揭示之賦形片，且該轉印片係將上述賦形片之上述消光層側之面朝向上述轉印層側配置而成者。
圖4係顯示本揭示之轉印片之實施形態之剖視圖。圖4之轉印片100於脫模性支持體20上具有轉印層30。圖4中，脫模性支持體20於基材11上具有消光層12。圖4中，轉印層30自靠近脫模性支持體20之側起依序具有剝離層31、底塗層32、裝飾層33及接著劑層34。
＜脫模性支持體＞ 脫模性支持體為上述本揭示之賦形片。 即，脫模性支持體於基材上具有消光層。又，脫模性支持體之消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。
轉印層之表面中與脫模性支持體相接之側之表面形狀成為脫模性支持體之消光層側之表面形狀之互補之形狀(根據轉印時之熱及壓力等條件，有裝飾材之表面形狀與消光層之表面形狀非完全互補之關係之情形。但，裝飾材之表面形狀與消光層之表面形狀可謂大致互補之關係。)。因此，裝飾材之Rz及RSm之值成為與脫模性支持體之消光層側表面之Rz及RSm之值大致相同之值。因此，藉由脫模性支持體之消光層側之表面之Rz為2.5 μm以上，且RSm為50.0 μm以下，可使裝飾材之抗反射性良好。
＜轉印層＞ 轉印層為被轉印於被接著體之層。 較佳為轉印層至少具有剝離層。又，更佳為轉印層自脫模性支持體側起依序具有剝離層及接著劑層。再者，更佳為轉印層於上述剝離層與上述接著劑層間，具有選自底塗層及裝飾層之1個以上之層。於上述剝離層與上述接著劑層間具有底塗層及裝飾層之情形時，較佳為將上述底塗層之位置設為較上述裝飾層更靠上述剝離層側。
又，轉印層亦可進而具有其他功能層。作為其他功能層，可例舉防眩層、防污層、應力緩和層、抗靜電層、阻氣層、防霧層及透明導電層等。
《剝離層》 剝離層為被轉印於被接著體時，位於轉印層之最表面之層。因此，剝離層較佳為耐擦傷性、耐候性及耐污染性等良好。
剝離層較佳為以樹脂為主成分。主成分意指構成剝離層之全固形份之50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上。
為了使耐擦傷性良好，剝離層較佳為包含含有硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物，作為上述樹脂。 包含硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物相對於剝離層所含之樹脂全量之比例較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上，更佳為90質量%以上，更佳為95質量%以上，更佳為100質量%。
作為包含硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物，可例舉包含熱硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物、包含電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物。 由於包含熱硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物無紫外線吸收劑之使用限制，故於容易使耐候性良好之點較佳。 包含電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物於更容易使耐擦傷性良好之點較佳。其中，由於包含電子束硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物之耐擦傷性更好，且無紫外線吸收劑之使用限制，故於容易使耐候性良好之點較佳。
作為包含剝離層之熱硬化性樹脂之樹脂組成物，可例舉丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸樹脂、苯酚樹脂、尿素三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、矽酮樹脂等。該等可單獨或將複數種組合而使用。又，包含熱硬化性樹脂之樹脂組成物亦可為添加有異氰酸酯系硬化劑、環氧系硬化劑等硬化劑者。
作為包含剝離層之電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物，可例舉作為包含消光層之電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物例示者，較佳為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物等胺基甲酸酯丙烯酸系樹脂。
剝離層亦可包含消光劑及褶皺形成穩定劑等粒子，但較佳為實質上不含有上述粒子。藉由剝離層中實質上不含有粒子，可抑制以粒子脫落為契機，剝離層之耐擦傷性、耐候性及耐污染性等降低。 剝離層實質上不含有粒子意指粒子之含量為構成剝離層之全固形份之1質量%以下，較佳為0.1質量%以下，更佳為0.01質量%以下，更佳為0質量%。
為了使耐候性良好，剝離層較佳為包含紫外線吸收劑或光穩定劑，更佳為包含紫外線吸收劑及光穩定劑。紫外線吸收劑及光穩定劑可使用通用之化合物。紫外線吸收劑中，較佳為羥基苯基三嗪化合物。光穩定劑中，較佳為受阻胺系化合物。
剝離層中之紫外線吸收劑之含量相對於剝離層之樹脂100質量份，較佳為0.01質量份以上15質量份以下，更佳為0.1質量份以上10質量份以下，進而為佳為1質量份以上7質量份以下。 剝離層中之光穩定劑之含量相對於剝離層之樹脂100質量份，較佳為0.01質量份以上15質量份以下，更佳為0.1質量份以上10質量份以下，進而為佳為1質量份以上7質量份以下。
為了提高轉印片之處理性以及剝離層之耐擦傷性及耐候性，剝離層之厚度較佳為1.5 μm以上30 μm以下，更佳為2 μm以上20 μm以下，進而為佳為3 μm以上15 μm以下。
《接著劑層》 為了易於將轉印層轉印於被接著體，轉印層亦可具有接著劑層。 於轉印層具有接著劑層之情形時，較佳為於構成轉印層之層中最遠離脫模性支持體之位置形成接著劑層。接著劑層亦可兼具後述之裝飾層之功能。
作為接著劑層，可例舉壓敏接著劑層、硬化系接著劑層及熱敏接著劑層。為了提高轉印片之處理性及轉印層與被接著體之密接性，其中較佳為熱敏接著劑層。亦有將熱敏接著劑層稱為熱密封層之情形。
於接著劑層為壓敏接著劑層之情形時，較佳為接著劑層包含黏著劑。作為黏著劑，可適當選擇丙烯酸系、胺基甲酸酯系、矽酮系、橡膠系等黏著劑而使用。 接著劑層為硬化系接著劑層之情形時，較佳為接著劑層包含熱硬化性接著劑。
於接著劑層為熱敏接著劑層之情形時，較佳為接著劑層包含熱塑性樹脂。 作為熱塑性樹脂，可例舉丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、氯乙烯系樹脂、乙酸乙烯系樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚酯樹脂、醯胺樹脂、氰基丙烯酸酯樹脂、環氧樹脂等，可將該等單獨或組合複數種使用。其中較佳為耐候性良好之丙烯酸樹脂。
上述熱塑性樹脂之重量平均分子量較佳為10,000以上200,000以下，較佳為50,000以上150,000以下，更佳為80,000以上120,000以下。若上述熱塑性樹脂之重量平均分子量為上述範圍內，則塗刷性良好，容易以良好之狀態形成接著劑層。再者，若上述熱塑性樹脂之重量平均分子量為上述範圍內，則可容易提高接著劑層與被接著體之密接性。
接著劑層之厚度較佳為1 μm以上10 μm以下，更佳為2 μm以上8 μm以下，進而較佳為3 μm以上7 μm以下。若接著劑層之厚度為上述範圍內，則可容易使接著劑層與被接著體之密接性良好，且可容易使轉印片之處理性良好。
接著劑層可視需要而包含著色劑。 藉由接著劑層包含著色劑，可以單獨之接著劑層或接著劑層與後述之裝飾層之組合，提高轉印層之設計性。
《底塗層》 為了使構成轉印層之層彼此之密接性良好，轉印層亦可於各層間具有底塗層。
底塗層主要由黏合劑樹脂構成，亦可視需要含有紫外線吸收劑、光穩定劑等添加劑。
底塗層之厚度較佳為0.5 μm以上10 μm以下，更佳為1 μm以上8 μm以下，進而佳為2 μm以上6 μm以下。
《裝飾層》 為了提高設計性，轉印層亦可具有裝飾層。裝飾層較佳為形成於剝離層與接著劑層之間。 裝飾層可形成於轉印片之整個面，亦可僅形成於一部分。
作為裝飾層，可例舉整個面塗刷油墨而成之著色層；將油墨作為花紋印刷而成之圖樣層；金屬薄膜等。
作為用於著色層及圖樣層之油墨，使用黏合劑樹脂中適當混合有染料等著色劑、體質顔料、溶劑、穩定劑、塑化劑、觸媒、硬化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑等者。 作為著色劑及圖樣層之黏合劑樹脂，未特別限制，可例舉例如胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸多元醇樹脂、丙烯酸樹脂、酯樹脂、醯胺樹脂、丁醛樹脂、苯乙烯樹脂、胺基甲酸酯-丙烯酸共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯共聚物樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯-丙烯酸共聚物樹脂、氯化丙稀樹脂、硝化纖維素樹脂、乙酸纖維素樹脂等樹脂。又，可使用單液硬化型樹脂、伴有異氰酸酯化合物等硬化劑之雙液硬化型樹脂等各種類型之樹脂。
作為著色劑，可例舉碳黑(墨)、鐵黑、鈦白、銻白、鉻黃、鈦黃、紅丹、鎘紅、群青、鈷藍等無機顏料；喹吖啶酮紅、異吲哚啉酮黃、鎳偶氮錯合物、酞菁藍、偶氮甲基偶氮黑等有機顏料或染料；鋁、黃銅等鱗片狀箔片等金屬顏料；二氧化鈦被覆雲母、鹼性碳酸鉛等鱗片狀箔片等珍珠光澤(Pearl)顏料等。
著色劑之含量相對於構成裝飾層之樹脂100質量份，較佳為5質量份以上90質量份以下，更佳為15質量份以上80質量份以下，進而較佳為30質量份以上70質量份以下。
著色劑及圖樣層亦可含有紫外線吸收劑、光穩定劑、著色劑等添加劑。 著色劑及圖樣層之厚度只要根據期望之圖樣適當選擇即可，為了提高設計性，較佳為0.5 μm以上20 μm以下，更佳為1 μm以上10 μm以下，進而較佳為2 μm以上5 μm以下。於需要隱蔽被接著材之顏色及外觀之情形時，雖亦根據含有之著色劑之種類及含量，但著色層及圖樣層之厚度較佳為1.5 μm以上。
作為金屬薄膜，可例舉金、銀、銅、錫、鐵、鎳、鉻、鈷等金屬元素單質之薄膜；包含2種以上之上述金屬元素之合金之薄膜等。作為合金，可例舉例如黃銅、青銅、不鏽鋼等。 金屬薄膜之膜厚可設為0.1 μm以上1 μm以下左右。
上述之剝離層、底塗層、接著劑層及裝飾層例如可藉由將包含形成各層之組成物之塗佈液以凹版印刷法、棒塗法、輥塗法、反向輥塗法、刮刀塗佈法等眾所周知之方式塗佈於脫模性支持體上，視需要乾燥、硬化而形成。
＜隔離物＞ 轉印片亦可於轉印層之脫模性支持體之相反側具有隔離物。 接著劑層為壓敏接著層之情形時，藉由於轉印層上具有隔離物，於輥狀捲繞轉印片時可容易防止黏結，或容易防止將轉印片不小心貼附於其他物體。
隔離物之材質只要為可與轉印層剝離之材質，則未特別限制，較佳使用塑膠薄膜。 作為用作隔離物之塑膠薄膜，可使用與上述之支持體所例示者相同者。隔離物較佳為將與轉印層相接之表面以脫模劑等進行脫模處理。作為脫模劑，可使用氟系脫模劑及矽酮系脫模劑等眾所周知之脫模劑。 隔離物之厚度雖未特別限定，但為了提高轉印片之處理性，較佳為10 μm以上200 μm以下，更佳為15 μm以上150 μm以下，進而較佳為20 μm以上100 μm以下。
[裝飾材之製造方法(使用轉印片之裝飾材之製造方法)] 本揭示之裝飾材之製造方法具有下述之步驟1～2。 (1)獲得將上述之本揭示之轉印片之轉印層側與被接著體密接而成之積層體之步驟。 (2)自上述積層體剝離脫模性支持體，獲得於被接著體上具有轉印層之裝飾材之步驟。
關於步驟1之被接著體，未特別限定，可適當選擇將樹脂、紙、不織布、織布、木材、金屬、非金屬無機材料等作為材質之被接著體。 將樹脂作為被接著體使用之情形時，為了提高轉印片之轉印層與被接著體之密接性，可根據期望，於單面或兩面實施氧化法及凹凸化法等物理性或化學性表面處理。 被接著體之形狀未特別限定，可為薄片形狀等平板狀，又，亦可為具有曲面板、多角柱等三維形狀者。
步驟1中，轉印片之轉印層側與被接著體例如可藉由轉印層之接著劑層密接。於轉印層不具有接著劑層之情形時，步驟1中，只要於轉印層與被接著體之間介置接著劑即可。
作為步驟1之一實施形態，可例舉依序具有下述(a1)及(a2)之步驟之疊層法之方法。 (a1)將轉印片之轉印層側之面與平板上之被接著體上相接並重合之步驟。 (a2)自轉印片之脫模性支持體側加熱及/或加壓，使上述平板上之被接著體與上述轉印片之轉印層密接之步驟。
作為步驟1之其他實施形態，可例舉依序需要下述(z1)～(z4)之步驟之模內成形之方法。模內成形中，步驟z2中流入之樹脂成為被接著體。 (z1)將轉印片之轉印層側向模內成形用模具之內側配置之步驟。 (z2)對上述模內成形用模具內射出注入樹脂之步驟。 (z3)使上述轉印片與上述樹脂一體化，使上述轉印片之轉印層與上述樹脂密接，形成樹脂成形體之步驟。 (z4)將上述樹脂成形體自上述模內成形用模具取出之步驟。
轉印片於轉印層之脫模性支持體之相反側具有隔離物之情形時，較佳為於步驟1之前具有下述之步驟0。 步驟0：自轉印片剝離隔離物之步驟。
本揭示包含以下之[1]～[15]。 [1]一種裝飾材用之賦形片，其係於基材上具有消光層者，且 上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。 [2]如[1]所記載之裝飾材用之賦形片，其中上述最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上10.0 μm以下。 [3]如[1]或[2]所記載之裝飾材用之賦形片，其中上述粗糙度曲線要素之平均長度RSm為5.0 μm以上50.0 μm以下。 [4]如[1]至[3]中任一者所記載之裝飾材用之賦形片，其中上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之算數平均粗糙度Ra為0.1 μm以上且未達2.5 μm。 [5]如[1]至[4]中任一者所記載之裝飾材用之賦形片，其中於上述賦形片之上述消光層側之表面具有由不規則褶皺構成之凹凸形狀。 [6]如[1]至[5]中任一者所記載之裝飾材用之賦形片，其中上述消光層包含黏合劑樹脂及褶皺形成穩定劑。 [7]如[6]所記載之裝飾材用之賦形片，其中上述黏合劑樹脂包含含有電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物。 [8]如[1]至[7]中任一者所記載之裝飾材用之賦形片，其中於上述基材上之整個面具有上述消光層。 [9]一種裝飾材之製造方法，其具有下述之步驟1～2。 步驟1：將[1]至[8]中任一者所記載之賦形片之消光層側之面壓抵於被賦形物，將被賦形物賦形之步驟。 步驟2：自被賦形物剝離上述賦形片，獲得裝飾材之步驟。
[10]一種裝飾材用之轉印片，其係於脫模性支持體上具有轉印層者，且 上述脫模性支持體係[1]至[8]中任一者所記載之賦形片，該轉印片係將上述賦形片之上述消光層側之面朝向上述轉印層側配置而成。 [11]如[10]所記載之裝飾材用之轉印片，其中上述轉印層自上述脫模性支持體側起依序具有剝離層及接著劑層。 [12]如[11]所記載之裝飾材用之轉印片，其中於上述剝離層與上述接著劑層間，具有選自底塗層及裝飾層之1個以上之層。 [13]如[11]或[12]所記載之裝飾材用之轉印片，其中上述剝離層包含含有電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物。 [14]如[11]至[13]中任一者所記載之裝飾材用之轉印片，其中上述剝離層實質上不含有粒子。 [15]一種裝飾材之製造方法，其具有下述之步驟1～2。 步驟1：獲得將[10]至[14]中任一者所記載之轉印片之轉印層與被接著體密接而成之積層體之步驟。 步驟2：自上述積層體剝離脫模性支持體，獲得於被接著體上具有轉印層之裝飾材之步驟。 [實施例]
接著，藉由實施例更詳細說明本揭示，但本揭示完全不受該例限定。
1.測定、評估 1-1.表面形狀之測定 依照說明書正文之A1～A3之記載，測定實施例及比較例之賦形片之表面形狀、及實施例及比較例之裝飾材之表面形狀，算出Rz、RSm、Ra。於算出Rz、RSm、Ra時，相當於截取值λc之值設定為0.8 mm。 雷射顯微鏡使用形狀分析雷射顯微鏡(「VK-X150(控制部)/VK-X160(測定部)」、Keyence股份有限公司製)。又，雷射顯微鏡之測定條件如下所示。 ＜測定條件＞ ・接物透鏡：50倍 ・雷射波長：658 nm ・測定模式：表面形狀模式 ・測定間距：0.13 μm ・測定品質：高速模式
1-2.抗反射性―照明之映入― 製作於可自實施例及比較例之轉印片獲得之裝飾材之轉印層之相反側之面，經由接著劑貼合有黑色板之樣本。 於明亮環境下，以樣本之轉印層側在上之方式設置於水平之台上。此時，以成為照明光之大致正下之方式設置樣本。20個觀察者自正面觀察樣本(但，觀察者不遮擋照明光)。且，基於下述基準進行評估。 ＜評估基準＞ A：回答照明之輪廓不清晰，照明之位置亦不清晰者為16人以上 B：回答照明之輪廓不清晰，照明之位置亦不清晰者為11人以上15人以下 C：回答照明之輪廓不清晰，照明之位置亦不清晰者為10人以下
1-3.設計性―白化― 於明亮環境下，以1-1中製作之樣本之轉印層側在上之方式設置於水平之台上。此時，以成為照明光之大致正下之方式設置樣本。20個觀察者自各種方向觀察樣本。且，基於下述之基準進行評估。 ＜評估基準＞ A：回答不介意樣本之白化者為16人以上 B：回答不介意樣本之白化者為11人以上15人以下 C：回答不介意樣本之白化者為10人以下
2.賦形片、轉運片及裝飾材之製作 [實施例1] 於基材(厚度50 μm之PET薄膜、東洋紡公司之商品名「Cosmoshine A4160」)之易接著面，塗佈有下述之消光層用塗佈液1。接著，使用由LED(Light Emitting Diode：發光二極體)構成之UV(Ultra Violet：紫外線)照射裝置照射紫外線(波長：395 nm，最大照度：0.6 W/cm 2，積算光量：30 mJ/cm 2～100 mJ/cm 2)，接著，使用準分子光照射裝置照射紫外線(波長：172 nm(Xe 2)，紫外線輸出密度：1 W/cm，積算光量：5～100 mJ/cm 2，氮氛圍(氧濃度200 ppm以下))，接著，進而使用高壓水銀燈照射(波長：365 nm，紫外線輸出密度：200 W/cm)，形成厚度5 μm之消光層，獲得實施例1之賦形片。
＜消光層用塗佈液1＞ ・3官能胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物：35質量份 (重量平均分子量：2,600) ・2官能丙烯酸酯單體：65質量份 ・褶皺形成穩定劑1:3.0質量份 (二氧化矽粒子，平均粒子徑：3 μm) ・二苯甲酮系光聚合起始劑：0.8質量份
接著，製作將實施例1之賦形片作為脫模性支持體之轉印片。 具體而言，於脫模性支持體(實施例1之賦形片)之消光層上，塗佈下述之剝離層用塗佈液1，形成未硬化樹脂層，照射電子束(加壓電壓：175 KeV，5 Mrad(50 kGy))，使未硬化樹脂層硬化，形成剝離層(厚度：5 μm)。其後，對剝離層上實施電暈照射。 接著，於電暈照射之剝離層上塗佈下述之底塗層用塗佈液並乾燥，形成厚度2.5 μm之底塗層。 接著，於上述底塗層上，塗佈丙烯酸樹脂(PMMA，重量平均分子量：96,000)並乾燥，形成厚度4 μm之具有熱密封性之接著劑層。形成接著層劑後，於常溫下陳化24小時，藉此獲得實施例1之轉印片。
＜剝離層用塗佈液1＞ ・電離輻射線硬化性樹脂：100質量份 (2官能胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物) ・紫外線吸收劑：0.5質量份 (BASF公司，商品名：Tinuvin479) ・光穩定劑：0.3質量份 (BASF公司，商品名：Tinuvin123)
＜底塗層用塗佈液＞ ・聚碳酸酯系胺基甲酸酯丙烯酸共聚物：100質量份 (重量平均分子量50,000) ・紫外線吸收劑：20質量份 (BASF公司，商品名：Tinuvin479) ・紫外線吸收劑：15質量份 (BASF公司，商品名：Tinuvin400) ・光穩定劑：3.5質量份 (BASF公司，商品名：Tinuvin123) ・防黏合劑：10質量份 (平均粒子徑3 μm之二氧化矽) ・溶劑：適量
將實施例1之轉印片之接著劑層與被接著體即ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene：丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)板積層。其後，自轉印片側，使用貼合機(Navitas公司製之輥式熱轉印機，型號「RT-300」)，以層壓輥溫度160°C，搬送速度1.5 m/min之條件一面加熱一面加壓，獲得將轉印片之轉印層與被接著體密接而成之積層體。 接著，自上述積層體剝離脫模性支持體，獲得實施例1之裝飾材。實施例1之裝飾材於被接著體上具有轉印層。
[實施例2] 除將消光層用塗佈液1變更為下述之消光層用塗佈液2以外，與實施例1同樣，獲得實施例2之賦形片、轉印片及裝飾材。 ＜消光層用塗佈液2＞ ・3官能胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物：50質量份 (重量平均分子量：2,600) ・2官能丙烯酸酯單體：50質量份 ・褶皺形成穩定劑1:3.0質量份 (二氧化矽粒子，平均粒子徑：3 μm) ・二苯甲酮系光聚合起始劑：0.8質量份
[實施例3] 除將消光層用塗佈液1變更為下述之消光層用塗佈液3以外，與實施例1同樣，獲得實施例3之賦形片、轉印片及裝飾材。 ＜消光層用塗佈液3＞ ・3官能胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物：20質量份 (重量平均分子量：2,600) ・2官能丙烯酸酯單體：80質量份 ・褶皺形成穩定劑1:3.0質量份 (二氧化矽粒子，平均粒子徑：3 μm) ・二苯甲酮系光聚合起始劑：0.8質量份
[比較例1] 將消光層用塗佈液1變更為下述之消光層用塗佈液4。再者，將硬化消光層用塗佈液時之光照射僅變更為使用高壓水銀燈之紫外線照射(波長：365 nm，紫外線輸出密度：200 W/cm)。除該等變更以外，與實施例1同樣，獲得比較例1之賦形片、轉印片及裝飾材。 ＜消光層用塗佈液4＞ ・3官能胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物：65質量份 (重量平均分子量：2,600) ・2官能丙烯酸酯單體：35質量份 ・消光劑：15質量份 (二氧化矽粒子，平均粒子徑：5 μm) ・二苯甲酮系光聚合起始劑：0.8質量份
[比較例2] 除將消光層用塗佈液1變更為下述之消光層用塗佈液5以外，與實施例1同樣，獲得比較例2之賦形片、轉印片及裝飾材。 ＜消光層用塗佈液5＞ ・3官能胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物：70質量份 (重量平均分子量：2,600) ・2官能丙烯酸酯單體：30質量份 ・褶皺形成穩定劑1:3.0質量份 (二氧化矽粒子，平均粒子徑：3 μm) ・二苯甲酮系光聚合起始劑：0.8質量份
[表1] 表1
   實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2
賦形片之表面形狀 [μm] Rz 4.6 4.1 8.7 2.4 1.5
RSm 33.3 23.5 20.3 35.2 62.9
Ra 0.81 0.72 1.35 0.47 0.23
裝飾材之表面形狀 [μm] Rz 4.7 4.3 8.5 2.3 1.4
RSm 32.5 22.5 20.2 37.2 61.5
Ra 0.79 0.70 1.32 0.46 0.21
抗反射性(防止映入) A A A B C
設計性(白化) A A B A A
由第1表之結果可確認，實施例之賦形片及轉印片可良好地獲得使用該等製作之裝飾材之抗反射性。尤其可確認，Rz不過大，且RSm不過小之實施例1及2之賦形片及轉印片亦可防止使用該等製作之裝飾材之白化。 比較例1之賦形片於消光層側之表面具有對應於消光劑之輪廓形狀之凸形狀，不具有褶皺形狀。因此，比較例1之賦形片之Rz較小，無法滿足抗反射性。 比較例2之賦形片雖於消光層側之表面產生褶皺形狀，但褶皺之間距較長，褶皺之標高亦較低，故Rz較小，RSm較大。因此，比較例2之賦形片無法滿足抗反射性。
1:賦形片 2:凹部 2a:凹部 2b:凹部 2c:凹部 3:凸部(突起部) 3a:凸部 3b:凸部 4:消光層 5:基材 6:接著層 7:樹脂層 8:底塗層 10:賦形片 11:基材 12:消光層 20:脫模性支持體 30:轉印層 31:剝離層 32:底塗層 33:裝飾層 34:接著劑層 100:轉印片
圖1係顯示本揭示之賦形片之一實施形態之剖視圖。 圖2係顯示本揭示之賦形片之一實施形態之俯視下之模式圖。 圖3係顯示本揭示之賦形片之消光層之一實施形態之剖視圖。 圖4係顯示本揭示之轉印片之一實施形態之剖視圖。

Claims (15)

  1. 一種裝飾材用之賦形片，其係於基材上具有消光層者，且 上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上，且JIS B0601:2013所規定之粗糙度曲線要素之平均長度RSm為50.0 μm以下。
  2. 如請求項1之裝飾材用之賦形片，其中上述最大高度粗糙度Rz為2.5 μm以上10.0 μm以下。
  3. 如請求項1之裝飾材用之賦形片，其中上述粗糙度曲線要素之平均長度RSm為5.0 μm以上50.0 μm以下。
  4. 如請求項1之裝飾材用之賦形片，其中上述賦形片之上述消光層側之表面之JIS B0601:2013所規定之算數平均粗糙度Ra為0.1 μm以上且未達2.5 μm。
  5. 如請求項1之裝飾材用之賦形片，其中於上述賦形片之上述消光層側之表面具有由不規則褶皺構成之凹凸形狀。
  6. 如請求項1之裝飾材用之賦形片，其中上述消光層包含黏合劑樹脂及褶皺形成穩定劑。
  7. 如請求項6之裝飾材用之賦形片，其中上述黏合劑樹脂包含含有電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物。
  8. 如請求項1之裝飾材用之賦形片，其中於上述基材上之整個面具有上述消光層。
  9. 一種裝飾材之製造方法，其具有下述之步驟1～2： 步驟1：將如請求項1至8中任一項之賦形片之消光層側之面壓抵於被賦形物，將被賦形物賦形之步驟； 步驟2：自被賦形物剝離上述賦形片，獲得裝飾材之步驟。
  10. 一種裝飾材用之轉印片，其係於脫模性支持體上具有轉印層者， 上述脫模性支持體係如請求項1至8中任一項之賦形片，且該轉印片係將上述賦形片之上述消光層側之面朝向上述轉印層側配置而成。
  11. 如請求項10之裝飾材用之轉印片，其中上述轉印層自上述脫模性支持體側起依序具有剝離層及接著劑層。
  12. 如請求項11之裝飾材用之轉印片，其中於上述剝離層與上述接著劑層間，具有選自底塗層及裝飾層之1個以上之層。
  13. 如請求項11之裝飾材用之轉印片，其中上述剝離層包含含有電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物之硬化物。
  14. 如請求項11之裝飾材用之轉印片，其中上述剝離層實質上不含有粒子。
  15. 一種裝飾材之製造方法，其具有下述之步驟1～2： 步驟1：獲得將如請求項10之轉印片之轉印層與被接著體密接而成之積層體之步驟； 步驟2：自上述積層體剝離脫模性支持體，獲得於被接著體上具有轉印層之裝飾材之步驟。
TW112108985A 2022-03-11 2023-03-10 裝飾材用之賦形片、裝飾材用之轉印片、裝飾材之製造方法 TW202342279A (zh)

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