TW202313892A - 光學積層體及使用其之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體、及使用該光學積層體之影像顯示裝置。本發明之光學積層體自視認側起依序具有包含偏光元件及配置於該偏光元件之至少視認側之保護層的偏光板、導電性黏著劑層、以及防濕層，該導電性黏著劑層之表面電阻值為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□，該防濕層之透濕度為20 g/m 2・24 h～500 g/m 2・24 h。

Description

光學積層體及使用其之影像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體及使用其之影像顯示裝置。
由液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)所代表之影像顯示裝置正在迅速普及。於影像顯示裝置中，代表性地，偏光板介隔黏著劑層而與顯示面板貼合。近年來，隨著影像顯示裝置之窄邊緣化、顯示面板內組裝有觸控面板用導電層之所謂內嵌型影像顯示裝置之發展等，要求改善影像顯示裝置之抗靜電性能。例如提出，將具有表面電阻值為1.0×10 9Ω/□～1.0×10 11Ω/□之抗靜電層之偏光膜配置於液晶層之視認側(專利文獻1)。又，提出使用具備抗靜電性能之黏著劑層。具備抗靜電性能之黏著劑可包含大量抗靜電劑以確保充分之帶電性能。然而，關於使用此種黏著劑層之偏光板，加濕環境下對偏光板造成之不良影響可能會成為問題。又，於在具備觸控面板之影像顯示裝置中使用包含抗靜電劑之黏著劑之情形時，於加濕環境下觸控面板感測器可能會發生腐蝕。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2013-105154號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之問題而成者，其主要目的在於提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體、及使用該光學積層體之影像顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明之實施方式之光學積層體自視認側起依序具有包含偏光元件及配置於該偏光元件之至少視認側之保護層的偏光板、導電性黏著劑層、以及防濕層，該導電性黏著劑層之表面電阻值為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□，該防濕層之透濕度為20 g/m 2・24 h～500 g/m 2・24 h。 於一個實施方式中，上述導電性黏著劑層係由包含基礎聚合物及抗靜電劑之黏著劑組合物所形成之層，且相對於該基礎聚合物100重量份，包含抗靜電劑5重量份～50重量份。 於一個實施方式中，上述防濕層亦作為保護層及/或相位差層發揮功能。 於一個實施方式中，上述偏光板僅於視認側包含保護層。 於一個實施方式中，上述抗靜電劑為離子性化合物。 於一個實施方式中，上述離子性化合物為選自鹼金屬鹽及有機陽離子-陰離子鹽中之至少1種。 於一個實施方式中，上述導電性黏著劑層之厚度為2 μm～55 μm。 於本發明之另一態樣中提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置自視認側起依序具有上述光學積層及觸控面板。 於一個實施方式中，上述影像顯示裝置為液晶顯示裝置、或有機電致發光顯示裝置。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，可提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體、及具有該光學積層體之影像顯示裝置。
以下，對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。
A.光學積層體之整體構成 圖1係本發明之一個實施方式之光學積層體之概略剖視圖。圖示例之光學積層體100代表性地自視認側起依序具有偏光板10、導電性黏著劑層20及防濕層30。偏光板10包含偏光元件11及配置於偏光元件11之至少視認側之保護層(視認側保護層)12。於圖示例中，於偏光元件11之與視認側相反之側設置有保護層(內側保護層)13，但保護層13亦可根據目的等而省略。較佳為偏光板10僅包含視認側之保護層12。實用上，於防濕層30之與偏光板10相反之側(即，作為與視認側相反之側之最外層)設置有黏著劑層(未圖示)，光學積層體可貼附於影像顯示裝置。進而，較佳為於光學積層體供於使用之前，在黏著劑層之表面暫時黏著剝離襯墊。藉由暫時黏著剝離襯墊，可保護黏著劑層，同時形成附相位差層之偏光板之輥。
於本發明之實施方式中，導電性黏著劑層之表面電阻值為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□。若導電性黏著劑層之表面電阻值為上述範圍，則可發揮優異之抗靜電性能。又，防濕層之透濕度為20 g/m 2・24 h～500 g/m 2・24 h。藉由自視認側起按照偏光板10、導電性黏著劑層20、及防濕層30之順序具有此種導電性黏著劑層及防濕層，即使於具備本發明之實施方式之光學積層體之影像顯示裝置被置於加濕環境下的情形時，亦可防止偏光板及觸控面板感測器之腐蝕。結果，可提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體。
防濕層30之透濕度為20 g/m 2・24 h～500 g/m 2・24 h，較佳為30 g/m 2・24 h～450 g/m 2・24 h，進而較佳為30 g/m 2・24 h～400 g/m 2・24 h。藉由使防濕層30之透濕度為上述範圍，可提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體。於本說明書中，透濕度係指依據JIS Z 0208所測得之值。
光學積層體亦可進而包含其他光學功能層。可設置於光學積層體之光學功能層之種類、特性、數量、組合、配置位置等可根據目的而適當設定。例如光學積層體亦可進而具有相位差層、導電層或附導電層之各向同性基材(均未圖示)。相位差層、導電層或附導電層之各向同性基材代表性地設置於防濕層30之外側(與偏光板10相反之側)。於設置有導電層或附導電層之各向同性基材之情形時，光學積層體可應用於所謂內部觸控面板型輸入顯示裝置。又，於光學積層體包含相位差層之情形時，相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可根據目的而適當設定。
光學積層體之總厚度較佳為60 μm～250 μm，更佳為70 μm～200 μm，進而較佳為80 μm～150 μm。於本說明書中，光學積層體之總厚度係指視認側保護層、偏光元件、內側保護層、導電性黏著劑層、防濕層、及任意其他光學功能層之合計厚度。
以下，對光學積層體之構成要素更詳細地進行說明。
B.偏光板 B-1.偏光元件 作為偏光元件11，可採用任意適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為包含單層樹脂膜之偏光元件之具體例，可例舉：藉由碘或二色性染料等二色性物質對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施染色處理及延伸處理所得者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為使用藉由碘將PVA系膜染色並進行單軸延伸所得之偏光元件。
上述藉由碘所進行之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可在延伸後染色。視需要，對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可將PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨，亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
偏光元件代表性地可使用兩層以上之積層體來製作。作為使用積層體所得之偏光元件之具體例，可例舉使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所得之偏光元件例如可藉由以下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材形成PVA系樹脂層，獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。延伸代表性地包括使積層體浸漬於硼酸水溶液中而延伸。進而，延伸可視需要進而包括於在硼酸水溶液中進行延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，於該剝離面積層與目的對應之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳情例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。關於該等公報，其整體記載係作為參考而引用至本說明書中。
偏光元件之製造方法代表性地包括：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成包含鹵化物及聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層而製成積層體；以及對上述積層體依序實施空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理、及藉由一面於長度方向上搬送一面進行加熱而使其於寬度方向上收縮2%以上之乾燥收縮處理。藉此，可提供一種非常薄型，具有優異之光學特性，並且光學特性之變動得到抑制之偏光元件。即，藉由導入輔助延伸，即使於在熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，亦可提高PVA之結晶性，可達成較高之光學特性。又，藉由事先同時提高PVA之配向性，可在後續染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA之配向性降低或溶解等問題，可達成較高之光學特性。進而，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，與PVA系樹脂層不含鹵化物之情形相比，可抑制聚乙烯醇分子之配向混亂及配向性降低。藉此，可提高經過染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中而進行之處理步驟所得之偏光元件之光學特性。進而，藉由利用乾燥收縮處理而使積層體於寬度方向上收縮，可使光學特性提高。
偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為12 μm以下，進而較佳為10 μm以下，特佳為8 μm以下。另一方面，偏光元件之厚度較佳為1 μm以上，更佳為2 μm以上，進而較佳為3 μm以上。若偏光元件之厚度為此種範圍，則可良好地抑制加熱時之捲曲，及可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為41.5%～46.0%，較佳為43.0%～46.0%，較佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層 視認側保護層12及內側保護層13(於存在之情形時)包含可作為偏光元件之保護層使用之任意適當之膜。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可例舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外，例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、以及側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物，例如可例舉具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、以及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
在偏光板配置於影像顯示裝置之視認側之情形時，保護層12代表性地配置於其視認側。於該情形時，亦可對保護層12視需要實施硬塗處理、抗反射處理、抗沾黏處理、防眩處理等表面處理。
保護層12之厚度較佳為10 μm～50 μm，更佳為15 μm～35 μm。再者，於實施了表面處理之情形時，外側保護層之厚度係包括表面處理層之厚度的厚度。
C.導電性黏著劑層 如上所述，導電性黏著劑層之表面電阻值為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□。較佳為5×10 7Ω/□～8×10 9Ω/□，更佳為7×10 7Ω/□～7×10 9Ω/□，進而較佳為8×10 7Ω/□～6×10 9Ω/□。藉由使表面電阻值為上述範圍，可發揮優異之抗靜電性能。
導電性黏著劑層之厚度較佳為2 μm～55 μm，更佳為2 μm～30 μm，進而較佳為5 μm～25 μm。導電性黏著劑層即使為此種厚度亦具有優異之抗靜電性能(例如1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□)。
導電性黏著劑層較佳為由包含基礎聚合物及抗靜電劑之黏著劑組合物所形成之層。黏著劑組合物例如可藉由於任意適當之黏著劑中添加抗靜電劑而製備。作為黏著劑，例如可例舉：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。根據黏著劑之種類來選擇黏著性基礎聚合物。上述黏著劑中，就光學透明性優異，表現出適度之濕潤性、凝聚性及接著性之黏著特性，耐候性及耐熱性等優異之觀點而言，較佳為使用丙烯酸系黏著劑。
C-1.基礎聚合物 上述丙烯酸系黏著劑包含(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。於(甲基)丙烯酸系聚合物中，通常，作為單體單元，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。於本說明書中，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架之(甲基)丙烯酸烷基酯，可例舉直鏈狀或支鏈狀之碳數1～18之烷基。該等可僅使用1種，亦可將2種以上組合使用。該等烷基之平均碳數較佳為3～9。
就黏著特性、耐久性、相位差之調整、折射率之調整等觀點而言，可使用(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯之類的含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷基酯。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物可藉由共聚而導入包含具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基之1種以上之共聚單體，以便改善接著性及耐熱性。作為共聚單體之具體例，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等含羧基單體；順丁烯二酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥基乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
又，作為以改質為目的之單體，可例舉：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺、N-丙烯醯𠰌啉等丁二醯亞胺系單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。
又，作為改質單體，亦可使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基𠰌啉、N-乙烯基羧醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、矽酮(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。進而可例舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯醚等。
作為除上述以外之可共聚之單體，可例舉含有矽原子之矽烷系單體。作為矽烷系單體，例如可例舉：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體，可使用：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等具有2個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體；或對聚酯、環氧、胺基甲酸酯等骨架加成2個以上之作為與單體成分相同之官能基之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵所得的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物係於所有結構單體之重量比率下，以(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分，(甲基)丙烯酸系聚合物中之共聚單體之比率可設定為任意適當之值。上述共聚單體之比率於所有結構單體之重量比率中，例如為0%～20%，較佳為0.1%～15%，進而較佳為0.1%～10%。
於共聚單體之中，就接著性、耐久性之觀點而言，較佳為使用含羥基單體、含羧基單體。含羥基單體及含羧基單體可併用。關於該等共聚單體，在黏著劑組合物含有交聯劑之情形時，成為與交聯劑之反應點。由於含羥基單體、含羧基單體等富有與分子間交聯劑之反應性，因此適宜用於提高所得之黏著劑層之凝聚性及耐熱性。含羥基單體就二次加工性之觀點而言較佳，又，含羧基單體就兼顧耐久性及二次加工性之觀點而言較佳。又，在添加抗靜電劑之情形時，就容易降低電阻值，於加濕環境下亦容易穩定之觀點而言，較佳為使用含醯胺基單體，可與上述含羥基單體及含羧基單體併用。
於含有含羥基單體作為共聚單體之情形時，其比率較佳為0.01重量%～15重量%，更佳為0.03重量%～10重量%，進而較佳為0.05重量%～7重量%。於含有含羧基單體作為共聚單體之情形時，其比率較佳為0.05重量%～10重量%，更佳為0.1重量%～8重量%，進而較佳為0.2重量%～6重量%。於含有含醯胺基單體之情形時，其比率較佳為0.1重量%以上。
(甲基)丙烯酸系聚合物通常使用重量平均分子量為50萬～300萬者。就耐久性、尤其是耐熱性之觀點而言，重量平均分子量較佳為70萬～270萬，進而較佳為80萬～250萬。若重量平均分子量未達50萬，則耐熱性存在改善之餘地。又，若重量平均分子量超過300萬，則為了調整至用以塗佈之黏度而需要大量稀釋溶劑，成本可能會上升。再者，於本說明書中，重量平均分子量係指藉由GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)進行測定，利用聚苯乙烯換算所算出之值。
關於(甲基)丙烯酸系聚合物之製造，可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等任意適當之方法。又，所得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物，亦可為嵌段共聚物，還可為接枝共聚物等。
C-2.抗靜電劑 作為抗靜電劑，可使用任意適當之抗靜電劑。作為抗靜電劑，就與基礎聚合物之相溶性、黏著劑層之透明性之觀點而言，較佳為離子性化合物。作為離子性化合物，較佳為鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。於使用離子性化合物作為抗靜電劑之情形時，加濕耐久性可能會進一步成為問題。具體而言，存在如下情形：於加濕環境下抗靜電劑自導電性黏著劑層與水分一同溶出，對偏光板之特性造成不良影響，腐蝕使用光學積層體之影像顯示裝置之觸控面板感測器。於本發明之實施方式中，即使於使用離子性化合物作為抗靜電劑之情形時，亦可提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體。作為鹼金屬鹽，可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。於本說明書中，「有機陽離子-陰離子鹽」為有機鹽，表示其陽離子部包含有機物者，陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦稱為離子性液體、離子性固體。
C-2-1.鹼金屬鹽 作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可例舉鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子之中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可包含有機物，亦可包含無機物。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(CF 3SO 2) 3C -、C 4F 9SO 3 -、C 3F 7COO -、(CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、-O 3S(CF 2) 3SO 3 -、PF 6 -、CO 3 2-、或由下述通式(1)～(4)： (1)：(C nF 2n ＋ 1SO 2) 2N -(n為1～10之整數)、 (2)：CF 2(C mF 2mSO 2) 2N -(m為1～10之整數)、 (3)：-O 3S(CF 2) lSO 3 -(l為1～10之整數)、 (4)：(C pF 2p ＋ 1SO 2)N -(C qF 2q ＋ 1SO 2)(p、q為1～10之整數) 所表示者。包含氟原子之陰離子部由於可獲得離子解離性較佳之離子化合物，因此適宜使用。
作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl -、Br -、I -、AlCl 4 -、Al 2Cl 7 -、BF 4 -、PF 6 -、ClO 4 -、NO 3 -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、(CN) 2N -等。作為陰離子部，較佳為由(CF 3SO 2) 2N -、(C 2F 5SO 2) 2N -等上述通式(1)所表示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，進而較佳為由(CF 3SO 2) 2N -所表示之(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可例舉：乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF 3SO 3、Li(CF 3SO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 2N、Li(C 2F 5SO 2) 2N、Li(C 4F 9SO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 3C、KO 3S(CF 2) 3SO 3K、LiO 3S(CF 2) 3SO 3K等。該等之中，較佳為LiCF 3SO 3、Li(CF 3SO 2) 2N、Li(C 2F 5SO 2) 2N、Li(C 4F 9SO 2) 2N、Li(CF 3SO 2) 3C，更佳為Li(CF 3SO 2) 2N、Li(C 2F 5SO 2) 2N、Li(C 4F 9SO 2) 2N等含氟之鋰醯亞胺鹽，特佳為(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽。
作為鹼金屬之無機鹽，可例舉：過氯酸鋰、碘化鋰。
C-2-2.有機陽離子-陰離子鹽 有機陽離子-陰離子鹽包含陽離子成分及陰離子成分，陽離子成分包含有機物。作為陽離子成分，具體而言，可例舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為陰離子成分，例如可使用Cl -、Br -、I -、AlCl 4 -、Al 2Cl 7 -、BF 4 -、PF 6 -、ClO 4 -、NO 3 -、CH 3COO -、CF 3COO -、CH 3SO 3 -、CF 3SO 3 -、(CF 3SO 2) 3C -、AsF 6 -、SbF 6 -、NbF 6 -、TaF 6 -、(CN) 2N -、C 4F 9SO 3 -、C 3F 7COO -、((CF 3SO 2)(CF 3CO)N -、-O 3S(CF 2) 3SO 3 -、或由下述通式(1)～(4)： (1)：(C nF 2n ＋ 1SO 2) 2N -(n為1～10之整數)、 (2)：CF 2(C mF 2mSO 2) 2N -(m為1～10之整數)、 (3)：-O 3S(CF 2) lSO 3 -(l為1～10之整數)、 (4)：(C pF 2p ＋ 1SO 2)N -(C qF 2q ＋ 1SO 2)(p、q為1～10之整數) 所表示者等。其中，包含氟原子之陰離子成分由於可獲得離子解離性較佳之離子化合物，因此適宜使用。
作為離子性化合物，除上述鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽以外，還可例舉：氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。該等離子性化合物可單獨使用或併用複數種。
抗靜電劑係以導電性黏著劑層之表面電阻值成為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□之方式，以任意適當之量使用。相對於上述基礎聚合物100重量份，抗靜電劑較佳為5重量份～50重量份，更佳為8重量份～45重量份，進而較佳為10重量份～40重量份。藉由使抗靜電劑處於上述範圍內，即使於厚度較薄之情形時，亦可形成表面電阻值為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□之導電性黏著劑層。於抗靜電劑之含量較多之情形時，存在如下情形：於加濕環境下抗靜電劑自導電性黏著劑層與水分一同溶出，腐蝕使用偏光板及光學積層體之影像顯示裝置中之觸控面板感測器。於使用離子性化合物作為抗靜電劑之情形時，加濕耐久性可能會進一步成為問題。根據本發明之實施方式之光學積層體，即使於抗靜電劑之含量較多之情形時亦可提供一種加濕耐久性優異之光學積層體。
C-3.交聯劑 黏著劑組合物亦可進而包含交聯劑。交聯劑可根據基礎聚合物使用任意適當之交聯劑。例如於使用(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之情形時，作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可例舉：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子，可例舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可例舉氧原子等，作為有機化合物，可例舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，交聯劑之含量較佳為3重量份以下，更佳為0.01重量份～3重量份，進而較佳為0.02重量份～2重量份，特佳為0.03重量份～1重量份。
C-4.添加劑 黏著劑組合物亦可進而包含任意適當之添加劑。具體而言，可使用矽烷偶合劑、聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制之範圍內，亦可採用添加有還原劑之氧化還原系統。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，該等添加劑較佳為使用5重量份以下，更佳為使用3重量份以下，進而較佳為使用1重量份以下。
D.防濕層 作為防濕層，可使用透濕度為20 g/m 2・24 h～500 g/m 2・24 h之任意適當之膜。防濕層之厚度可設定為任意適當之值，只要使防濕層具有上述透濕度即可。防濕層之厚度可根據構成防濕層之材料而設定。例如，防濕層之厚度較佳為10 μm～100 μm，更佳為15 μm～90 μm，進而較佳為20 μm～80 μm。藉由使防濕層之厚度為上述範圍，可提供一種具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異之光學積層體。於一個實施方式中，防濕層較佳為亦可作為保護層或相位差層發揮功能。
D-1.作為防濕層發揮功能之保護層 於一個實施方式中，防濕層可作為保護層發揮功能。藉由具備可作為保護層發揮功能之防濕層，在將光學積層體用於影像顯示裝置之情形時，可適當地保護觸控感測器等影像顯示裝置之構成構件。作為構成作為防濕層發揮功能之保護層之材料，代表性地可例舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂；聚降𦯉烯等環烯烴系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂；聚乙烯等聚烯烴系樹脂；聚碳酸酯系樹脂。作為(甲基)丙烯酸系樹脂之代表例，可例舉具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂例如記載於日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報中。該等公報係作為參考而引用至本說明書中。
D-2.可作為防濕層發揮功能之相位差層 於一個實施方式中，防濕層可作為相位差層發揮功能。藉由具備可作為相位差層發揮功能之防濕層，可省略光學功能層，製成薄型光學積層體。可作為防濕層發揮功能之相位差層例如為單層。
於相位差層為單層之情形時，相位差層代表性地可作為λ/4板發揮功能。相位差層代表性地為了對影像顯示裝置賦予抗反射特性而設置。相位差層代表性地表示折射率特性為nx＞ny＝nz之關係。相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～190 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。再者，此處，「ny＝nz」不僅包括ny與nz完全相等之情形，還包括實質上相等之情形。因此，在不會損害本發明之效果之範圍內，可存在ny＞nz或ny＜nz之情形。
相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。藉由滿足此種關係，可獲得具有非常優異之反射色相之有機EL顯示裝置。
於相位差層為單層之情形時，相位差層較佳為表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆波長色散特性。於該情形時，相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上0.95以下。若為此種構成，則可實現非常優異之抗反射特性。
相位差層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所形成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為約45°。若角度為此種範圍，則藉由以上述方式將相位差層製成λ/4板，可獲得具有非常優異之抗反射特性之有機EL顯示裝置。
相位差層可包含任意適當之材料，只要可滿足如上所述之特性即可。具體而言，相位差層係樹脂膜之延伸膜。
於相位差層為樹脂膜之延伸膜之情形時，作為構成樹脂膜之樹脂之代表例，可例舉聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下，有時簡稱為聚碳酸酯系樹脂)。作為聚碳酸酯系樹脂，可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂，只要可獲得所需之透濕度即可。例如，聚碳酸酯系樹脂包含：來自茀系二羥基化合物之結構單元；來自異山梨糖醇系二羥基化合物之結構單元；及來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少1種二羥基化合物之結構單元。較佳為聚碳酸酯系樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨糖醇系二羥基化合物之結構單元、及來自脂環式二甲醇之結構單元以及/或者來自二、三或聚乙二醇之結構單元；進而較佳為包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨糖醇系二羥基化合物之結構單元、及來自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含來自其他二羥基化合物之結構單元。相位差層可藉由將包含如上所述之聚碳酸酯系樹脂之膜於任意適當之延伸條件下進行延伸而形成。再者，聚碳酸酯系樹脂及相位差層之形成方法之詳情例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報、日本專利特開2017-54093號公報、日本專利特開2018-60014號公報中。該等公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。
代表性地，相位差層之厚度可設定為能夠發揮防濕功能且能夠作為λ/4板適當地發揮功能之厚度。
E.影像顯示裝置 於本發明之一個實施方式中提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置自視認側起依序具有上述光學積層體及觸控面板。關於具有觸控面板之影像顯示裝置，於加濕環境下抗靜電劑溶出而導致觸控面板感測器受到腐蝕，這可能會成為問題。如上所述，本發明之實施方式之光學積層體具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異。因此可適宜用於具有觸控面板之影像顯示裝置。
影像顯示裝置可為液晶顯示裝置，亦可為有機電致發光顯示裝置。又，可為內嵌型，亦可為表嵌型。於液晶顯示裝置為液晶顯示裝置之情形時，較佳為內嵌型影像顯示裝置。於液晶顯示裝置為有機電致發光顯示裝置之情形時，較佳為表嵌型影像顯示裝置。
圖2係本發明之實施方式之影像顯示裝置之概略剖視圖。該影像顯示300係內嵌型液晶顯示裝置。如圖2所示，內嵌型液晶單元200具有：包含在不存在電場之狀態下水平配向之液晶分子之液晶層90、於兩面夾持液晶層90之第1透明基板71及第2透明基板72。又，於液晶層90與第1透明基板71之間具有觸控感測器部61，於液晶層50與第2透明基板72之間具有驅動電極兼感測器部62。內嵌型液晶單元係於液晶單元內具有觸控感測器部61及驅動電極兼感測器部62，於液晶單元之外部不具有觸控感測器部。即，於內嵌型液晶單元之較第1透明基板41更靠視認側之位置未設置導電層(表面電阻值為1×10 13Ω/□以下)。
觸控感測器部61配置於偏光板10與液晶層90之間，通常可於第1透明基板71上以透明電極圖案之形式形成。對於驅動電極兼感測器部62，亦可藉由任意適當之方法形成透明電極圖案。上述透明電極圖案通常與形成於透明基板之端部之牽引線(未圖示)電性連接，上述牽引線與控制器IC(Integrated Circuit，積體電路)(未圖示)連接。透明電極圖案之形狀除梳形狀以外，還可根據用途採用條紋形狀或菱形形狀等任意形狀。透明電極圖案之高度例如為10 nm～100 nm，寬度為0.1 mm～5 mm。
於內嵌式液晶面板300中，在光學積層體100之至少一層之側面可設置導通結構51。藉由導通結構51，將電位自光學積層體100之至少一層之側面連接到其他適宜部位，從而可抑制靜電產生。作為形成導通結構51之材料，例如可例舉銀、金或其他金屬膏等導電性膏，除此以外，可使用導電性接著劑或任意之其他適宜導電材料。導通結構51亦可以自光學積層體100之至少一層之側面延伸之線形狀形成。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明具體地進行說明，但本發明並不受該等實施例限定。各特性之測定方法如下所述。再者，只要無特別明確記載，則實施例及比較例中之「份」及「%」係以重量為基準。 (1)厚度 10 μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製造，製品名「MCPD-3000」)測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(Anritsu公司製造，製品名「KC-351C」)測定。 (2)表面電阻值 將實施例及比較例中所使用之黏著劑以乾燥後之厚度成為23 μm之方式塗佈於基材(三菱樹脂(股)公司製造，商品名：MRF38，厚度：38 μm)，製作樣品。使用三菱化學ANALYTECH公司製造之MCP-HT450測定所製作之樣品之黏著劑層表面之電阻值。 (3)透濕度 依據JIS Z 0208進行測定。具體而言，將實施例及比較例中所使用之保護層或相位差層(構成保護層或相位差層之膜)切成10 cm
Figure 02_image001
之圓狀，製成測定試樣。對於該測定試樣，使用日立製作所公司製造之「MOCON」，於40℃、92%RH之試驗條件下測定透濕度。 (4)ESD試驗 如圖2所示，將實施例及比較例中所獲得之光學積層體介隔接著劑貼合於內嵌型液晶單元之視認側。其次，將寬度5 mm之銀膏以覆蓋偏光膜、黏著劑層、防濕層之各側面部之方式塗佈於所貼合之偏光膜之側面部，與來自外部之接地電極連接。又，將內嵌型液晶單元內部之透明電極圖案周邊部之牽引配線(未圖示)與控制器IC(未圖示)連接，製作內置有觸控感測功能之液晶顯示裝置。以10 kV之外加電壓對該液晶顯示裝置中之偏光膜面發射靜電放電槍(Electrostatic discharge Gun)，測定直至因電性而空心之部分消失為止之時間，根據下述基準進行判斷。 (評估基準) ◎：3秒以內。 ○：超過3秒～5秒以內。 △：超過5秒且在20秒以內。 ×：超過20秒。 (5)加濕試驗後觸控感測器感度 將(4)ESD試驗中所製作之內置有觸控感測功能之液晶顯示裝置之輸入顯示裝置於60℃/90%RH之氣體氛圍下放置500小時。其後，於使用內置有觸控感測功能之液晶顯示裝置之狀態下進行目視觀察，確認有無誤動作。計測10次使用中發生誤動作之次數，進行評估。 ○：0/10有誤動作。 △：1/10～2/10有誤動作。 ×：3/10～10/10有誤動作。
[實施例1] 1.偏光元件之製作 作為熱塑性樹脂基材，使用呈長條狀，吸水率為0.75%，Tg約為75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)。對樹脂基材之單面實施電暈處理。 於將聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z410」)以9：1混合所得之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，使所得者溶於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)。 藉由於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液，於60℃下進行乾燥，而形成厚度13 μm之PVA系樹脂，製作積層體。 將所得之積層體於130℃之烘箱內在周速不同之輥間沿縱向(長度方向)自由端單軸延伸至2.4倍(空中輔助延伸處理)。 其次，將積層體於液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份，調配硼酸4重量份而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。 其次，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，將碘及碘化鉀以1：7之重量比調配所得之碘水溶液)中，以最終所得之偏光膜之單體透過率(Ts)成為43.0%之方式，一面調整濃度一面浸漬60秒(染色處理)。 其次，於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀3重量份，調配硼酸5重量份而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。 其後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%、碘化鉀5.0重量%)中，一面在周速不同之輥間於縱向(長度方向)上以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 其後，將積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀4重量份而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 其後，一面於保持在90℃之烘箱中乾燥，一面與表面溫度保持在75℃之SUS(Steel Use Stainless，日本不鏽鋼標準)製加熱輥接觸約2秒(乾燥收縮處理)。乾燥收縮處理所致之積層體之寬度方向之收縮率為5.2%。 如此，於樹脂基材上形成厚度5 μm之偏光元件。
2.偏光板之製作 於以上所得之樹脂基材/偏光元件之積層體之偏光元件表面介隔紫外線硬化型接著劑貼合HC-TAC(hardcoat-triacetylcellulose，硬塗層-三乙醯纖維素)膜。具體而言，以硬化型接著劑之厚度成為1.0 μm之方式塗佈，使用滾壓機來貼合。其後，自HC-TAC膜側照射UV光線使接著劑硬化。再者，HC-TAC膜為三乙醯纖維素(TAC)膜(纖維素酯系樹脂膜，柯尼卡美能達公司製造，商品名：KC2UA)上形成有硬塗(HC)層(厚度7 μm)之膜，以TAC膜成為偏光元件側之方式貼合。
3.導電性黏著劑層之製作 3-1.丙烯酸系聚合物之製備 於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，添加含有丙烯酸丁酯74.8份、丙烯酸苯氧基乙酯23份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)0.5份、丙烯酸0.3份、丙烯酸4-羥基丁酯0.4份之單體混合物。進而，相對於單體混合物(固形物成分)100份，將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一同加入，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣而進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，製備重量平均分子量(Mw)160萬、Mw/Mn＝3.7之丙烯酸系聚合物之溶液。
3-2.導電性黏著劑組合物之製備 相對於以上所得之丙烯酸系聚合物之溶液之固形物成分100份，以表1所示之含量調配表1所示之導電性材料(離子性化合物)，進而調配異氰酸酯交聯劑(三井化學公司製造之Takenate D160N，三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯)0.1份、過氧化苯甲醯(日本油脂公司製造之Nyper BMT)0.3份及γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造：KBM-403)0.2份，製備形成導電性黏著劑層之丙烯酸系黏著劑組合物之溶液。
(導電性黏著劑層之形成) 其次，將上述丙烯酸系黏著劑組合物之溶液以乾燥後之黏著劑層之厚度成為表1所示之厚度的方式塗佈於經矽酮系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(剝離襯墊：三菱化學聚酯膜(股)製造，MRF38)之單面，於155℃下進行1分鐘乾燥，於剝離襯墊之表面形成導電性黏著劑層。 其次，剝離樹脂基材，將導電性黏著劑層轉印至剝離面。
4.防濕層1(相位差膜)之製作 4-1.聚酯碳酸酯系樹脂之聚合 使用包含2台立式反應器之分批聚合裝置進行聚合，上述立式反應器具備攪拌葉及控制在100℃之回流冷卻器。添加雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046 mol)、異山梨糖醇(ISB)29.21質量份(0.200 mol)、螺二醇(SPG)42.28質量份(0.139 mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298 mol)及作為觸媒之乙酸鈣一水合物1.19×10 -2質量份(6.78×10 -5mol)。將反應器內進行減壓氮氣置換後，利用熱媒進行加溫，在內溫達到100℃之時間點開始攪拌。升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，進行控制以保持該溫度，同時開始減壓，達到220℃後歷時90分鐘使其為13.3 kPa。將與聚合反應一起副產之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器中，使苯酚蒸氣中所含之若干單體成分回到反應器中，將未冷凝之苯酚蒸氣導入45℃之冷凝器中而回收。向第1反應器中導入氮氣而使其暫時恢復至大氣壓後，將第1反應器內之經低聚物化之反應液轉移至第2反應器中。其次，開始第2反應器內之升溫及減壓，歷時50分鐘使內溫為240℃，壓力為0.2 kPa。其後，進行聚合直至達到所需之攪拌動力。在達到所需動力之時間點向反應器中導入氮氣進行複壓，將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中，切割線料而獲得顆粒物。
4-2.相位差膜之製作 將所得之聚酯碳酸酯系樹脂(顆粒物)於80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠出機(東芝機械公司製造，料缸設定溫度：250℃)、T型模頭(寬度200 mm、設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120～130℃)及捲取機之膜製造裝置，製作厚度135 μm之長條狀樹脂膜。將所得之長條狀樹脂膜於寬度方向上以延伸溫度133℃、延伸倍率2.8倍進行延伸，獲得厚度47 μm之防濕層(相位差膜)。所得之相位差膜之Re(550)為141 nm，Re(450)/Re(550)為0.82，Nz係數為1.12。又，所得之相位差膜之透濕度為75 g/m 2・24 h。
將所得之防濕層積層於導電性黏著劑層，獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表1中。
[實施例2～4] 除將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表1所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表1中。
[實施例5～8] 除使用防濕層2(纖維素酯系樹脂膜，柯尼卡美能達公司製造，商品名：KC8UY)代替防濕層1，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表1所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表1中。
[實施例9～12] 除使用防濕層3(具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂膜)代替防濕層1，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表1所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表1中。
[實施例13～16] 除使用防濕層4(環烯烴系樹脂膜)代替防濕層1，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表1所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表1中。
(比較例1) 除於導電性黏著劑之製備中不添加抗靜電劑，不積層防濕層以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表2中。
(比較例2～6) 除不積層防濕層，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表2所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表2中。
(比較例7～10) 除使用防濕層5(纖維素酯系樹脂膜，柯尼卡美能達公司製造，商品名：KC2UA)代替防濕層1，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表2所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表2中。
(比較例11～14) 除使用防濕層6(纖維素酯系樹脂膜，柯尼卡美能達公司製造，商品名：KC4UA)代替防濕層1，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為表2所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表2中。
(比較例15) 於偏光板之製造步驟中，將樹脂基材剝離，於該剝離面貼合防濕層4，獲得具有視認側保護層(HC-TAC膜)/偏光元件/其他保護層(COP膜)之構成之偏光板。除使用此偏光板，不積層防濕層，以及將所使用之抗靜電劑之種類及含量設為如表2所記載者以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。將所得之光學積層體、以及光學積層體中所使用之導電性黏著劑層及防濕層供於上述(2)～(5)之評估。將結果示於表2中。
[表1]
   偏光板 黏著劑層 防濕層 評估
視認側保護層 面板側保護層 厚度 離子性化合物 離子性化合物 含量 表面電阻值 種類 厚度 透濕度 (40℃/92%RH) 加濕試驗後觸控感測器感度 ESD
種類 透過率 [%] 種類 [μm] 種類 [重量份] [Ω/□] [μm] [g/m 2•day]
實施例1 HC/KC2UA 43 - 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 防濕層1 (相位差膜) 47 75 ○ ○
實施例2 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 47 75 ○ ◎
實施例3 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 47 75 ○ ◎
實施例4 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 47 75 ○ ◎
實施例5 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 防濕層2 80 360 ○ ○
實施例6 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 80 360 ○ ◎
實施例7 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 80 360 ○ ◎
實施例8 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 80 360 ○ ◎
實施例9 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 防濕層3 20 146 ○ ○
實施例10 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 20 146 ○ ◎
實施例11 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 20 146 ○ ◎
實施例12 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 20 146 ○ ◎
實施例13 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 防濕層4 25 17 ○ ○
實施例14 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 25 17 ○ ◎
實施例15 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 25 17 ○ ◎
實施例16 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 25 17 ○ ◎
Li-TFSI：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰 MPP-TFSI：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺甲基丙基吡咯啶鎓 EMI-FSI：雙(氟磺醯基)醯亞胺1-乙基-3-甲基咪唑鎓 EMP-TFSI：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺乙基甲基吡咯啶鎓
[表2]
   偏光板    防濕層 評估
視認側保護層 面板側保護層 厚度 離子性化合物 離子性化合物含量 表面電阻值 種類 厚度 透濕度 (40℃/92%RH) 加濕後觸控感測器感度 ESD
種類 透過率 [%] 種類 [μm] 種類 [重量份] [Ω/□] [μm] [g/m 2•day]
比較例1 HC/KC2UA 43 - 23 - 0 無法測定(1.0×10 14以上) - -    ○ ×
比較例2 23 Li-TFSI 1 4.3×10 10 -    △ △
比較例3 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 - - × ○
比較例4 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 - - × ◎
比較例5 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 - - × ◎
比較例6 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 - - × ◎
比較例7 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 防濕層5 25 1250 × ○
比較例8 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 25 1250 × ◎
比較例9 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 25 1250 × ◎
比較例10 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 25 1250 × ◎
比較例11 23 Li-TFSI 8 5.2×10 9 防濕層6 40 800 △ ○
比較例12 23 MPP-TFSI 10 4.1×10 9 40 800 △ ◎
比較例13 23 MPP-TFSI 14 6.5×10 8 40 800 × ◎
比較例14 23 MPP-TFSI 40 8.2×10 7 40 800 × ◎
比較例15 防濕層4 23 Li-TFSI 8 6.2×10 9 - - - × ○
Li-TFSI：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰 MPP-TFSI：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺甲基丙基吡咯啶鎓 EMI-FSI：雙(氟磺醯基)醯亞胺1-乙基-3-甲基咪唑鎓 EMP-TFSI：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺乙基甲基吡咯啶鎓
[評估] 如表1及表2所示，本發明之實施方式之光學積層體具有優異之抗靜電性能且加濕耐久性優異。 [產業上之可利用性]
本發明之光學積層體適宜用於具有觸控面板之液晶顯示裝置及有機電致發光裝置等影像顯示裝置。
10:偏光板 11:偏光元件 12:保護層 13:保護層 20:導電性黏著劑層 30:防濕層 51:導通結構 61:觸控感測器部 62:驅動電極兼感測器部 71:第1透明基板 72:第2透明基板 90:液晶層 100:光學積層體 200:內嵌型液晶單元 300:影像顯示裝置
圖1係本發明之一個實施方式之光學積層體之概略剖視圖。 圖2係本發明之一個實施方式之影像顯示裝置之概略剖視圖。
10:偏光板
11:偏光元件
12:保護層
13:保護層
20:導電性黏著劑層
30:防濕層
100:光學積層體

Claims (9)

  1. 一種光學積層體，其自視認側起依序具有包含偏光元件及配置於該偏光元件之至少視認側之保護層的偏光板、導電性黏著劑層、以及防濕層， 該導電性黏著劑層之表面電阻值為1×10 7Ω/□～1×10 10Ω/□， 該防濕層之透濕度為20 g/m 2・24 h～500 g/m 2・24 h。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中上述導電性黏著劑層係由包含基礎聚合物及抗靜電劑之黏著劑組合物所形成之層，且 相對於該基礎聚合物100重量份，包含抗靜電劑5重量份～50重量份。
  3. 如請求項1或2之光學積層體，其中上述防濕層亦作為保護層及/或相位差層發揮功能。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學積層體，其中上述偏光板僅於視認側包含保護層。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學積層體，其中上述抗靜電劑為離子性化合物。
  6. 如請求項5之光學積層體，其中上述離子性化合物為選自鹼金屬鹽及有機陽離子-陰離子鹽中之至少1種。
  7. 如請求項1至6中任一項之光學積層體，其中上述導電性黏著劑層之厚度為2 μm～55 μm。
  8. 一種影像顯示裝置，其自視認側起依序具有如請求項1至7中任一項之光學積層體、及觸控面板。
  9. 如請求項8之影像顯示裝置，其為液晶顯示裝置、或有機電致發光顯示裝置。
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