TW202233637A - 作為egfr抑制劑之經取代1h-吡唑并[4,3-c]吡啶及衍生物 - Google Patents

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Abstract

本發明涵蓋:式( I)化合物
Figure 110140534-A0101-11-0001-1
, 其中基團 R 1 R 4 X 1 X 5 具有申請專利範圍及說明書中所給出之含義;其作為突變型EGFR之抑制劑的用途;含有此類化合物之醫藥組合物;及其作為藥物/醫療用途,尤其作為用於治療及/或預防致癌疾病之藥劑的用途。

Description

作為EGFR抑制劑之經取代1H-吡唑并[4,3-C]吡啶及衍生物
本發明係關於:式( I)之新穎經取代 1H-吡唑并[4,3-c]吡啶及衍生物
Figure 02_image006
其中基團 R 1 R 4 X 1 X 5 具有申請專利範圍及說明書中所給出之含義;其作為突變型EGFR之抑制劑的用途;含有此類化合物之醫藥組合物;及其作為藥物/醫療用途,尤其作為用於治療及/或預防致癌疾病之藥劑的用途。
表皮生長因子受體(EGFR)為轉導細胞分裂信號之受體酪胺酸激酶。藉由腺癌組織學在大約12%至47%之非小細胞肺癌(NSCLC)腫瘤中發現了EGFR基因之突變(Midha, 2015)。NSCLC腫瘤中發現的兩種最頻繁 EGFR變異為 EGFR基因之外顯子19中之短框內缺失(del19)及外顯子21中之單一誤義突變L858R (Konduri, 2016)。此等兩種突變引起與配體無關之EGFR活化且統稱為EGFR M+。 EGFR中之Del19及L858R突變使NSCLC腫瘤對EGFR酪胺酸激酶抑制劑(TKI)治療敏感。臨床經驗顯示用第1、第2及第3代EGFR TKI厄洛替尼(erlotinib)、吉非替尼(gefitinib)、阿法替尼(afatinib)及奧希替尼(osimertinib)進行第1線治療之EGFR M+ NSCLC患者具有大約60-85%之客觀反應率(Mitsudomi, 2010;Park, 2016;Soria, 2017;Zhou, 2011)。此等反應證實EGFR M+ NSCLC細胞及腫瘤依賴於致癌EGFR活性而存活及增殖,從而使得del19或L858R突變之EGFR成為治療NSCLC的經驗證藥物目標及預測性生物標記物。第1代EGFR TKI厄洛替尼及吉非替尼以及第2代TKI阿法替尼已由FDA批准用於EGFR M+ NSCLC患者之第1線治療。
雖然腫瘤反應為患者之明顯腫瘤縮小,但該反應通常不持久且大部分患者在用第1及第2代EGFR TKI治療10至12個月內復發(Mitsudomi, 2010;Park, 2016;Soria, 2017;Zhou, 2011)。最主要的分子機制潛在進展是在用第1及第2代EGFR抑制劑治療但仍進展之50%至70%患者中獲得 EGFR之二級突變,亦即T790M (Blakely, 2012;Kobayashi, 2005)。此突變減弱第1及第2代TKI在細胞分析中的抑制活性(參見例如表A中之資料)。
已研發出在存在及不存在二級T790M抗性突變之情況下有效抑制初級 EGFR突變del19及L858R的突變選擇性及共價的第3代EGFR TKI,諸如奧希替尼(Cross, 2014;Wang, 2016)。在EGFR M+ T790M陽性NSCLC之第2線治療中觀測到之第3代EGFR TKI奧希替尼之功效在臨床上證實,腫瘤細胞存活及增殖依賴於突變之EGFR對偶基因(Jänne, 2015;Mok, 2016)。先前用前一代EGFR TKI治療之EGFR M+ T790M陽性患者中有大約70%對第2線奧希替尼治療有反應。然而,疾病進展在平均10個月之持續時間之後發生(Mok, 2016)。已研究對第3代EGFR TKI之獲得性耐藥性的潛在機制,且該機制已開始出現(Ou, 2017)。近期資料表明,一種主要耐藥性機制為在約20-40%用奧希替尼TKI治療復發的第2線患者中獲得三級 EGFR突變C797S (Ortiz-Cuaran, 2016;Ou, 2017;Song, 2016;Thress, 2015;Yu, 2015)。諸如奧希替尼之第3代TKI經由殘基C797共價連接至EGFR (Cross, 2014;Wang, 2016)。在細胞模型中,C797S突變消除所測試之第3代TKI之活性(Thress, 2015)(參見例如表A中之資料)。在第2線患者中,結合EGFR del19基因型且在與T790M突變相同之對偶基因上優先發現突變C797S (順式構形)(82%之C797S+患者)(Piotrowska, 2017)。至關重要的是,用奧希替尼治療後仍進展(Ortiz-Cuaran, 2016;Ou, 2017;Song, 2016;Thress, 2015;Yu, 2015)之第2線患者中出現的EGFR del19/L858R T790M C797S順式突變型激酶變體可能不再受第1、第2或第3代EGFR TKI抑制(Thress, 2015)(參見例如表A中之資料)。基於在用奧希替尼治療後仍存在之進展(Ortiz-Cuaran, 2016;Ou, 2017;Song, 2016;Thress, 2015;Yu, 2015)中偵測到C797S突變的事實,EGFR del19/L858R T790M C797S患者中之腫瘤細胞存活及增殖很可能依賴於此突變對偶基因且可藉由靶向此對偶基因而被抑制。近期在用奧希替尼治療後仍進展之第2線EGFR M+ NSCLC患者中描述發生率比C797S低的額外 EGFR抗性突變:L718Q、L792F/H/Y及C797G/N (Bersanelli, 2016;Chen, 2017;Ou, 2017)。
第3代EGFR TKI奧希替尼近期亦在先前未經治療之EGFR M+ NSCLC患者中顯示功效(Soria, 2017)。疾病進展在平均19個月之持續時間之後發生。雖然在第1線奧希替尼治療後之EGFR抗性突變範圍尚未經廣泛研究,但首次可得之資料亦表明出現消除奧希替尼活性之突變C797S (Ramalingam, 2017)。基於奧希替尼在未經治療EGFR M+ NSCLC患者及T790M陽性第2線患者中之功效,已在兩種情況下批准該藥物。
未經批准之EGFR TKI可抑制 EGFRdel19/L858R T790M C797S變體,即在患者用第1或第2線奧希替尼治療仍進展後出現之對偶基因的事實突顯了對下一代EGFR TKI,即「第4代EGFR TKI」的醫學需求。此第4代EGFR TKI將強效抑制EGFR del19或L858R,無論是否存在兩種常見抗性突變T790M及C797S,尤其是EGFR del19 T790M C797S。此第4代EGFR TKI之效用將藉由化合物對額外抗性突變,諸如潛在奧希替尼抗性突變C797X (X = S、G、N)及L792F/H/Y之活性增強。分子對亦無T790M及/或C797S突變之EGFR del19或L858R變體的廣泛活性將確保新化合物可作為單一治療劑有效地應對患者腫瘤之預期對偶基因複雜性。無論是否存在抗性突變T790M及C797S皆對EGFR del19及EGFR L858R初級活化突變具有活性的第4代EGFR TKI分子將允許治療及預防抗性疾病。詳言之,其將適用於治療在用第1、第2或第3代TKI進行先前EGFR TKI療法後仍進展的EGFR M+ NSCLC患者以及未經EGFR TKI治療之第1線患者。為了促進有效給藥及降低EGFR介導之正中目標之毒性,第4代EGFR TKI不應抑制野生型EGFR。對人類激酶組之高選擇性將降低化合物之偏離目標毒性。第4代EGFR TKI之另一期望特性為能夠有效滲入大腦(血腦障壁滲透)以便能夠預防及/或治療腦轉移及腦膜疾病。
第4代EGFR TKI之前述特性將允許治療用諸如奧希替尼之第3代TKI (例如具有基因型EGFR del19/L858R T790M C797S)進行第2線治療後仍進展之患者,該等患者在目前沒有靶向療法治療選項。此外,此等特性亦可允許第4代EGFR TKI為前一線治療患者(諸如用具有EGFR C797S突變之第1線奧希替尼治療後仍進展之患者)以及第1線患者提供更長反應持續時間。第4代EGFR TKI對諸如T790M、C797X (X = S、G、N)及L792X (X = F、H、Y)之抗性突變的活性可延遲NSCLC腫瘤中經由EGFR框內目標突變產生抗性。以上概述之特性將第4代EGFR TKI定義為能夠有效靶向患有攜帶EGFR del19或L858R基因型以及EGFR del19/L858R T790M C797X/L792X變體之NSCLC腫瘤之患者的第一EGFR TKI。此外,第4代EGFR TKI將為第一種亦抑制T790M陽性對偶基因、具有EGFR野生型保留活性且有效滲入大腦的C797S活性化合物。
在過去幾年內,突變型EGFR之選擇性靶向已逐漸備受關注。迄今為止,就上文所提及之特性而言,已作出若干努力來鑑別且最佳化靶向EGFR突變體之催化位點或EGFR蛋白之異位位點的抑制劑,大部分僅具有有限成果。接近所需特性之苯并咪唑化合物揭示於WO 2019/162323中。
另外,已公開多種可克服EGFR抗性突變之EGFR抑制劑,該等EGFR抗性突變包括突變T790M以及C797S突變及兩者之組合(Zhang, 2017;Park, 2017;Chen, 2017;Bryan 2016;Juchum, 2017;Günther, 2017;WO 2017/004383)。大部分公開之分子為基於喹唑啉之第2代EGFR抑制劑之非共價變體。(Patel, 2017;Park, 2017;Chen, 2017)。然而,此等公開之分子為對EGFR wt具有低選擇性之較弱抑制劑(Patel, 2017;Chen, 2017)或經設計成僅特異性結合del19/T790M/C797S突變體而對其他EGFR變體組合及突變無活性(Park, 2017)。其他公開之化合物類別僅對L858R活化背景中之T790M及T790M/C797S抗性突變顯示活性(Bryan 2016;Juchum, 2017;Günther, 2017)。然而,由於僅在小部分患者群體中觀測到此等突變及突變組合且由於轉移性腫瘤之對偶基因複雜度可能較高,故不太可能滿足開發有效EGFR抑制劑之所需準則。
以下先前技術文獻揭示對攜帶T790M之EGFR具有活性的作為突變型選擇性EGFR抑制劑的非共價化合物:WO 2014/210354;WO 2014/081718;Heald, 2015;Hanan, 2014;Lelais, 2016;Chan, 2016。
儘管主張上文所提及之文獻中的化合物對兩種最常見EGFR活化/抗性突變組合del19/T790M及L858/T790M具有活性,但其中大多數僅對更普遍之del19/T790M突變顯示弱活性,對單獨攜帶初級活化突變del19及L858R之EGFR亦不顯示親和力。雙重突變EGFR對於針對單活化突變之活性的此類選擇性抑制歸因於患者中EGFR突變之異質性而高度不利且將可能導致功效有限。另外,大多數化合物對EGFR wt僅顯示出較小選擇性,已知EGFR wt為導致EGFR靶向療法常見副作用(腹瀉、皮疹)的主要因素,其導致目標特異性毒性。此特異性細胞毒性組分不合需要,因為其可能導致經治療患者之不良事件。
以下先前技術文獻揭示了具有對兩種致癌驅動突變L858R及del19之活性及對T790M抗性突變之活性以及其組合的作為EGFR選擇性抑制劑的基於胺基苯并咪唑之化合物:WO 2013/184757;WO 2013/184766、WO 2015/143148、WO 2015/143161、WO 2016/185333;Lelais, 2016;Jia, 2016。
總而言之,根據本發明之化合物( I)對有或無T790M及/或C797S突變之EGFR del19或EGFR L858R變體顯示廣泛活性,其確保化合物可作為單一治療劑有效地應對患者腫瘤之預期對偶基因複雜性。為促進有效給藥及降低EGFR介導之正中目標之毒性,本發明化合物對於野生型EGFR具有降低的抑制潛能。化合物( I)對人類激酶組顯示高選擇性,可降低化合物之偏離目標毒性。根據本發明之化合物( I)之另一特性為能夠潛在地滲入大腦(血腦障壁滲透),以便用於預防及/或治療腦轉移及腦膜疾病。除抑制作用及效力以外,本文所揭示之化合物顯示良好溶解性及適合用於生物體環境之DMPK特性。
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化合物 現已出人意料地發現,其中基團 R 1 R 4 X 1 X 5 具有下文所給出之含義的式( I)化合物用作參與控制細胞增殖之突變型EGFR之抑制劑。因此,本發明化合物可用於例如治療以過度或異常細胞增殖為特徵的疾病。
因此,本發明係關於一種式( I)化合物
Figure 02_image008
, 其中 [A0]R 1係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; R 2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基;或 R 1 R 2 與其所連接之碳原子一起形成5員至6員雜環或5員至6員雜芳環; [B0] R 3 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-CN、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; [C0] R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c1、-N(R c1)R c1、鹵素、-CN、-C(=O)R c1、-C(=O)OR c1、-C(=O)N(R c1)R c1、-C(=O)N(H)OR c1、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c1、-S(=O) 2R c1、-S(=O) 2N(R c1)R c1、-N(H)C(=O)R c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c1、-N(H)C(=O)OR c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e1、-N(R e1)R e1、鹵素、-CN、-C(=O)R e1、-C(=O)OR e1、-C(=O)N(R e1)R e1、-C(=O)N(H)OR e1、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e1、-S(=O) 2R e1、-S(=O) 2N(R e1)R e1、-N(H)C(=O)R e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e1、-N(H)C(=O)OR e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; [D0] X 1 係選自由碳(C)及氮(N)組成之群; X 2 係選自由碳(C)及氮(N)組成之群; X 1 X 2 中之至少一者為碳(C); X 3 係選自由以下組成之群:氮(N)、C(R 5)、N(R 6)、C(R 5)(R 5)、氧(O)、硫(S)、S(=O)、S(=O) 2及C(=O); X 4 係選自由以下組成之群:氮(N)、C(R 7)、N(R 8)、C(R 7)(R 7)、氧(O)、硫(S)、S(=O)、S(=O) 2及C(=O); X 5 係選自由以下組成之群:氮(N)、C(R 9)、N(R 10)、C(R 9)(R 9)、氧(O)、硫(S)、S(=O)、S(=O) 2及C(=O); 環A中環成員之間的各鍵係獨立地選自單鍵、雙鍵或(雜)芳族鍵; 各 R 5 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 6 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; 各 R 8 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 9 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 10 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 或其鹽。
以下結構態樣分別代表對應結構態樣 [A0] [B0] [C0][D0]之較佳實施例 [A1][A9] [B1][B4][C1][C16][D1][D9]: 在一個態樣 [A1]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; R 2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基。
在另一態樣 [A2]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; R 2 為氫。
在另一態樣 [A3]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、C 3-6環烷基及C 3-6環烷氧基; R 2 為氫。
在另一態樣 [A4]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 係選自由以下組成之群:甲氧基、異丙氧基、-OH、環丙基及環丙氧基; R 2 為氫。
在另一態樣 [A5]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 係選自由C 1-4烷氧基及-OH組成之群; R 2 為氫。
在另一態樣 [A6]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 為甲氧基; R 2 為氫。
在另一態樣 [A7]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 為-OH; R 2 為氫。
在另一態樣 [A8]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 R 2 與其所連接之碳原子一起形成5員至6員雜環或5員至6員雜芳環。
在另一態樣 [A9]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 1 R 2 與其所連接之碳原子一起形成選自由吡咯、2,3-二氫呋喃及呋喃組成之群的環。
在另一態樣 [B1]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 3 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基及鹵素。
在另一態樣 [B2]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 3 係選自由以下組成之群:氫、C 1-4烷基、C 1-4鹵烷基及鹵素。
在另一態樣 [B3]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 3 為C 1-4烷基。
在另一態樣 [B4]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 3 為甲基。
在另一態樣 [C1]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c1、-N(R c1)R c1、鹵素、-CN、-C(=O)R c1、-C(=O)OR c1、-C(=O)N(R c1)R c1、-C(=O)N(H)OR c1、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c1、-S(=O) 2R c1、-S(=O) 2N(R c1)R c1、-N(H)C(=O)R c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c1、-N(H)C(=O)OR c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e1、-N(R e1)R e1、鹵素、-CN、-C(=O)R e1、-C(=O)OR e1、-C(=O)N(R e1)R e1、-C(=O)N(H)OR e1、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e1、-S(=O) 2R e1、-S(=O) 2N(R e1)R e1、-N(H)C(=O)R e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e1、-N(H)C(=O)OR e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O。
在另一態樣 [C2]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c1、-N(R c1)R c1、鹵素、-CN、-C(=O)N(R c1)R c1、-S(=O) 2N(R c1)R c1、-N(H)C(=O)R c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c1、-N(H)C(=O)OR c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e1、-N(R e1)R e1、鹵素、-CN、-C(=O)N(R e1)R e1、-S(=O) 2N(R e1)R e1、-N(H)C(=O)R e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e1、-N(H)C(=O)OR e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O。
在另一態樣 [C3]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c1、-N(R c1)R c1、鹵素及該二價取代基=O; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e1、-N(R e1)R e1、鹵素及該二價取代基=O; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由鹵素及二價取代基=O組成之群的取代基取代。
在另一態樣 [C4]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一態樣 [C5]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 R a1 R a1 為視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代之3員至11員雜環基; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一態樣 [C6]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 R a1 R a1 係選自由以下組成之群:
Figure 02_image010
Figure 02_image012
, 其中各 R a1 視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一態樣 [C7]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 R a1 R a1 係選自由以下組成之群:
Figure 02_image014
Figure 02_image016
, 其中各 R a1 視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由氫及C 1-6烷基組成之群。
在另一態樣 [C8]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由以下組成之群:
Figure 02_image018
Figure 02_image020
Figure 02_image022
在另一態樣 [C9]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由-NH 2、-NH(C 1-4烷基)及-N(C 1-4烷基) 2組成之群。
在另一態樣 [C10]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 為-N(C 1-4烷基) 2
在另一態樣 [C11]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 為-OR c1R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一態樣 [C12]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 為-OR c1R c1 係獨立地選自由C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 為鹵素; 各 R e1 係獨立地選自由C 3-10環烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一態樣 [C13]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由以下組成之群:
Figure 02_image024
Figure 02_image026
在另一態樣 [C14]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一態樣 [C15]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由氫及C 1-6烷基組成之群。
在另一態樣 [C16]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中 R 4 係選自由以下組成之群:
Figure 02_image028
在另一態樣 [D1]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image030
係選自由以下組成之群:
Figure 02_image032
Figure 02_image034
Figure 02_image036
Figure 02_image038
; 各 R 5 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 6 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; 各 R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1- 4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; 各 R 8 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 9 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 10 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一態樣 [D2]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image040
Figure 02_image042
R 7 係選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; R 10 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一態樣 [D3]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image044
Figure 02_image046
R 7 係選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O。
在另一個態樣 [D4]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image048
Figure 02_image050
R 5 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; R 7 係選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; R 9 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一態樣 [D5]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image052
Figure 02_image054
R 5 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; R 7 係選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3 -10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; R 10 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一個態樣 [D6]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image056
Figure 02_image058
R 6 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; R 7 係選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; R 9 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一個態樣 [D7]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image060
Figure 02_image062
R 6 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; R 10 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一態樣 [D8]中,本發明係關於一種式( I)之化合物或其鹽,其中
Figure 02_image064
Figure 02_image066
R 5 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; R 10 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一態樣[ D9]中,本發明係關於一種式( I)化合物或其鹽,其中
Figure 02_image068
Figure 02_image070
R 6 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; R 9 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
以下態樣 [E1][E3]為態樣 [D0][D1][D4][D5][D8]之關於殘基 R 5 的子態樣: 在一個子態樣 [E1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D4][D5][D8]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 5 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-4烷基、C 1-4鹵烷基、C 1-4烷氧基、C 1-4鹵烷氧基。
在另一子態樣 [E2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D4][D5][D8]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 5 為C 1-4烷基。
在另一子態樣 [E3]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D4][D5][D8]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 5 為甲基。
以下態樣 [F1][F3]為態樣 [D0][D1][D6][D7][D9]之關於殘基 R 6 的子態樣: 在一個子態樣 [F1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D6][D7][D9]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 6 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-4烷基及C 1-4鹵烷基。
在另一子態樣 [F2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D6][D7][D9]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 6 為C 1-4烷基。
在另一子態樣 [F3]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D6][D7][D9]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 6 為甲基。
以下態樣 [G1][G2]為態樣[D0]及[D1]之關於殘基 R 8 的子態樣: 在一個子態樣 [G1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 8 為C 1-4烷基。
在另一子態樣 [G2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 8 為甲基。
以下態樣 [H1][H3]為態樣 [D0][D1][D4][D6][D9]之關於殘基 R 9 的子態樣: 在一個子態樣 [H1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D4][D6][D9]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 9 係獨立地選自由氫、C 1-4烷基、C 1-4鹵烷基組成之群。
在另一子態樣 [H2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D4][D6][D9]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 9 為C 1-4烷基。
在另一子態樣 [H3]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D4][D6][D9]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 9 為甲基。
以下態樣 [I1][I3]為態樣 [D0][D1][D2][D5][D7][D8]之關於殘基 R 10 的子態樣: 在一個子態樣 [I1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D5][D7][D8]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 10 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-4烷基、C 1-4鹵烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
在另一子態樣 [I2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D5][D7][D8]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 10 為C 1-4烷基。
在另一子態樣 [I3]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D5][D7][D8]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 10 係獨立地選自由甲基、乙基及異丙基組成之群。
以下態樣 [J1][J9]為態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之關於殘基 R 7 的子態樣: 在一個子態樣 [J1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O。
在另一子態樣 [J2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由鹵素及二價取代基=O組成之群的取代基取代。
在另一子態樣 [J3]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2及-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一子態樣 [J3a]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2及-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一子態樣 [J4]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2及-C(=O)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由-OR e2及-C(=O)OR e2組成之群; 各 R e2 係獨立地選自由氫及C 1-6烷基組成之群。
在另一子態樣 [J4a]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2及-C(=O)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由-OR e2及-C(=O)OR e2組成之群; 各R e2係獨立地選自由氫、C 3-10環烷基及C 1-6烷基組成之群。
在另一子態樣 [J5]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 R a2 R a2 為視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代之3員至11員雜環基; 各 R b2 係獨立地選自由鹵素、-C(=O)R c2及-C(=O)OR c2組成之群; 各 R c2 為視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代之C 1-6烷基; 各 R d2 係獨立地選自由-OR e2及-C(=O)OR e2組成之群; 各 R e2 係獨立地選自由氫及C 1-6烷基組成之群。
在另一子態樣 [J6]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-4烷基、
Figure 02_image072
Figure 02_image074
在另一子態樣 [J6a]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-4烷基、
Figure 02_image076
Figure 02_image078
Figure 02_image080
Figure 02_image082
Figure 02_image084
在另一子態樣 [J6b]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由以下組成之群:
Figure 02_image086
Figure 02_image088
在另一子態樣 [J7]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 R b2 ; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2及-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
在另一子態樣 [J8 ]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 R b2 ; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2及-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、鹵素、-C(=O)R e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群。
在另一子態樣 [J9]中,本發明係關於一種根據態樣 [D0][D1][D2][D3][D4][D5][D6]之式( I)化合物或其鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由以下組成之群:
Figure 02_image090
Figure 02_image092
Figure 02_image094
在另一態樣 [L1]中,本發明係關於一種根據態樣 [D2]與態樣 [A5][A6]之組合的式( I)化合物或其鹽。
在另一態樣 [L2]中,本發明係關於一種根據態樣 [D2]或根據態樣 [L1]的式( I)化合物或其鹽,該等態樣各自與態樣 [B3][B4]組合。
在另一態樣 [L3]中,本發明係關於一種根據態樣 [D2]或根據態樣 [L1][L2]的式( I)化合物或其鹽,該等態樣各自與態樣 [I2][I3]組合。
在另一態樣 [L4]中,本發明係關於一種根據態樣 [D2][L1][L3]中之任一者的式( I)化合物或其鹽,該等態樣各自與態樣 [C5][C8]中之任一者組合。
在另一態樣 [L5]中,本發明係關於一種根據態樣 [D2][L1][L4]中之任一者的式( I)化合物或其鹽,該等態樣各自與態樣 [J1][J7][J3a][J4a][J6a][J6b]中之任一者組合。
在另一態樣 [L6]中,本發明係關於一種根據態樣 [D2][L1][L5]中之任一者的式( I)化合物或其鹽,該等態樣各自與 R 4 為3員至11員雜環基或 R 4 為7員雜環基組合。
應理解,所有子態樣 [E1][E3](關於殘基 R 5 )、 [F1][F3](關於殘基 R 6 )、 [G1][G2](關於殘基 R 8 )、 [H1][H3](關於殘基 R 9 )、 [I1][I3](關於殘基 R 10 )以及 [J1][J9](關於殘基 R 7 )可在適當時基於態樣 [D0][D9]彼此組合形成亦將全部包括在內的額外態樣 [D]
所有上文所提及之結構態樣 [A1][A9][B1][B4][C1][C16][D1][D9](包括在適當時及如上文所描述的基於 [D1[D9]與子態樣 [E1][E3][F1][F3][G1][G2][H1][H3][I1][I3]以及 [J1][J9]之組合的額外態樣)分別為對應結構態樣 [A0][B0][C0][D0]之較佳實施例。與根據本發明之化合物( I)之不同分子部分相關的結構態樣 [A0][A9][B0][B4][C0][C16][D0][D9](包括如上文所描述之額外態樣 [D])可視需要呈組合 [A][B][C][D]彼此組合以獲得較佳化合物( I)。各此類組合 [A][B][C][D]代表且定義根據本發明之化合物( I)的個別實施例或通用子集。
具有結構( I)的本發明之較佳實施例為實例化合物 I-1I-225及其任何子集。
在本文中普通定義以及特別揭示之所有合成中間物及其鹽亦為本發明之部分。
在本文中普通定義或特別揭示之所有個別合成反應步驟以及包含此等個別合成反應步驟之反應順序亦為本發明之部分。
本發明進一步係關於式( I)化合物之水合物、溶劑合物、多晶型物、代謝物、衍生物、立體異構物及前藥(包括本文中所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
本發明進一步係關於一種式( I)化合物之水合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
本發明進一步係關於一種式(I)化合物之溶劑合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
例如帶有酯基之式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)為可能之前藥,該酯在生理條件下裂解且亦為本發明之部分。
本發明進一步係關於一種式( I)化合物之醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
本發明進一步係關於一種式( I)化合物與非有機或有機酸或鹼的之醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
醫藥組合物 適合用於投與根據本發明之式(I)化合物的醫藥組合物將對一般熟習此項技術者顯而易見,且包括例如錠劑、丸劑、膠囊、栓劑、口含錠、糖衣錠、溶液(尤其注射(皮下、靜脈內、肌肉內)及輸注用溶液(可注射劑))、酏劑、糖漿、藥囊、乳液、吸入劑或可分散散劑。化合物(I)之含量應在組合物整體之0.1至90wt%、較佳地0.5至50wt%之範圍內,亦即足以達成以下指定劑量範圍的量。必要時,指定之劑量可一日給予若干次,例如每天兩次。
適合之錠劑可例如藉由將化合物(I)與已知醫藥學上可接受之賦形劑,例如惰性稀釋劑、載劑、崩解劑、佐劑、界面活性劑、黏合劑及/或潤滑劑混合而獲得。錠劑亦可包含若干層。
因此,包衣錠劑可藉由用一般用於錠劑包衣之賦形劑(例如可力酮(collidone)或蟲膠、阿拉伯膠、滑石、二氧化鈦或糖)包覆以類似錠劑之方式產生之核心來製備。為達成延遲釋放或預防不相容,核心亦可由多個層組成。類似地,錠劑包衣可由多個層組成以達成延遲釋放,可能使用上文關於錠劑所提及之賦形劑。
含有一或多種化合物( I)或與一或多種其他醫藥活性物質之組合的糖漿或酏劑可另外含有賦形劑,如甜味劑,諸如糖精、環己胺磺酸鹽、丙三醇或糖;及增味劑,例如調味劑,諸如香草精或橙子提取物。其亦可含有賦形劑,如懸浮佐劑或增稠劑,諸如羧甲基纖維素鈉;濕潤劑,諸如脂肪醇與環氧乙烷之縮合產物;或防腐劑,諸如對羥基苯甲酸酯。
注射及輸注用溶液係以常用方式製備,例如添加如等張試劑之賦形劑、諸如對羥基苯甲酸酯之防腐劑或諸如乙二胺四乙酸之鹼金屬鹽的穩定劑,視情況使用乳化劑及/或分散劑,同時若將水用作稀釋劑,則例如有機溶劑可視情況用作溶劑化試劑或溶解助劑,且轉移至注射小瓶或安瓿或輸注瓶。
含有一或多種化合物 (I)或與一或多種其他醫藥活性物質之組合的膠囊可例如藉由將化合物/活性物質與諸如乳糖或山梨糖醇之惰性賦形劑混合且將其填充至明膠膠囊中來製備。
適合之栓劑可例如藉由與為此提供之諸如中性脂肪或聚乙二醇或其衍生物之賦形劑進行混合來製備。
可使用之賦形劑包括:例如水;醫藥學上可接受之有機溶劑,諸如石蠟(例如石油餾分)、植物油(例如花生油或芝麻油)、單官能性或多官能性醇(例如乙醇或丙三醇);載劑,諸如天然礦物粉末(例如高嶺土、黏土、滑石、白堊)、合成礦物粉末(例如高度分散性矽酸及矽酸鹽)、糖(例如甘蔗糖、乳糖及葡萄糖)、乳化劑(例如木質素、廢亞硫酸液體、甲基纖維素、澱粉及聚乙烯吡咯啶酮)及潤滑劑(例如硬脂酸鎂、滑石、硬脂酸及月桂基硫酸鈉)。
醫藥組合物係藉由常用方法,較佳地藉由經口或經皮途徑,最佳地藉由經口途徑投與。對於經口投與,錠劑除含有上文所提及之賦形劑之外當然亦可含有諸如檸檬酸鈉、碳酸鈣及磷酸氫鈣之額外賦形劑以及諸如澱粉(較佳馬鈴薯澱粉)、明膠及其類似物之各種賦形劑。此外,諸如硬脂酸鎂、月桂基硫酸鈉及滑石之潤滑劑可同時用於製錠製程。在水性懸浮液之情況下,活性物質可與除上文所提及之賦形劑以外的各種增味劑或著色劑組合。
對於非經腸用途,可使用具有適合之液體賦形劑的活性物質之溶液。
每天適用的式( I)化合物之劑量範圍通常為1 mg至2000 mg,較佳為250 mg至2000 mg。
然而,取決於體重、年齡、投與途徑、疾病之嚴重程度、個體對藥物之反應、其調配物之性質及投與藥物之時間或時間間隔(每天一劑或多劑之連續或間斷治療),有時可能需要偏離指定量。因此,在一些情況下,使用小於上文給出之最小劑量可能足夠,而在其他情況下可能必須超過上限。當投與較大量時,可能可取的是在一天內將其分成多個較小劑量。
因此,在另一態樣中,本發明係關於一種醫藥組合物,其包含至少一種(較佳一種)式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)以及一或多種醫藥學上可接受之賦形劑。
式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽以及包含此類化合物及鹽之醫藥組合物亦可與其他藥理活性物質,例如與其他抗贅生性化合物(例如化學療法)一起共同投與,亦即組合使用(參見下文進一步之組合治療)。
此類組合之元素可藉由熟習此項技術者習用之方法且如同其用於單一療法中一樣投與(無論依賴性地或獨立地),例如藉由經口、經腸、非經腸(例如,肌肉內、腹膜內、靜脈內、經皮或皮下注射或植入)、經鼻、經陰道、經直腸或局部投與途徑且可呈含有適於各投與途徑之習知無毒性醫藥學上可接受之賦形劑的適合劑量單位調配物單獨或一起調配。
可以治療有效之單次或分次每日劑量投與組合。可以在單一療法中治療有效之此類劑量或以低於單一療法中使用之劑量的此類劑量投與組合之活性組分,但當組合時產生所需(聯合)治療有效量。
然而,當兩種或更多種活性物質或成分之組合使用引起協同效應時,亦可降低待投與之物質或成分中之一者、多者或全部的量,同時仍達成所需治療作用。此可例如適用於避免、限制或降低當以其常用量使用時,任何與該等物質或成分中之一或多者的使用相關聯之不合需要之副作用,同時仍獲得所需藥理學或治療作用。
因此,在另一態樣中,本發明亦係關於一種醫藥組合物,其包含式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)以及一或多種(較佳一或兩種,最佳一種)其他藥理活性物質。
在另一態樣中,本發明亦係關於一種醫藥製劑,其包含式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)以及一或多種(較佳一或兩種,最佳一種)其他藥理活性物質。
待共同投與或組合使用之醫藥組合物亦可呈套組形式提供。
因此,在另一態樣中,本發明亦係關於一種套組,其包含: ● 第一醫藥組合物或劑型,其包含式(I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)以及視情況存在之一或多種醫藥學上可接受之賦形劑,及 ● 第二醫藥組合物或劑型,其包含另一藥理活性物質以及視情況存在之一或多種醫藥學上可接受之賦形劑。
在一個態樣中,此類套組包含第三醫藥組合物或劑型,其包含另一藥理活性物質以及視情況存在之一或多種醫藥學上可接受之賦形劑。
醫學用途 - 治療方法 適應症 - 患者群體本發明主要針對EGFR抑制劑,詳言之式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集),其潛在地適用於治療及/或預防與突變型EGFR相關聯或由突變型EGFR調節/介導之疾病及/或病況,尤其其中突變型EGFR之抑制具有治療益處,包括但不限於治療及/或預防癌症。
在一個態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用作藥物。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用於治療人體或動物體之方法。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用於治療及/或預防由突變型EGFR介導之疾病及/或病況。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造治療及/或預防由突變型EGFR介導之疾病及/或病況的藥物。
在另一態樣中,本發明係關於一種用於治療及/或預防由突變型EGFR介導之疾病及/或病況的方法,其包含向人類投與治療有效量之式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用於治療及/或預防癌症。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用於治療及/或預防人體或動物體之癌症的方法中。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造治療及/或預防癌症之藥物。
在另一態樣中,本發明係關於一種用於治療及/或預防癌症之方法,其包含向人類投與治療有效量之式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用於提供對突變型EGFR之抑制作用。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造用於對突變型EGFR提供抑制作用的藥物。
在另一態樣中,本發明係關於一種用於對突變型EGFR提供抑制作用之方法,其包含向人類投與治療有效量之式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽。
另一態樣係基於鑑別患者之EGFR突變狀態與對式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療之可能敏感性之間的關聯。EGFR抑制劑,諸如式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)則可有利地用於治療可能對其他療法具有抗性的具有EGFR突變之患者。因此,此提供了選擇用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療之患者,尤其癌症患者的機會、方法及工具。該選擇係基於待處理之腫瘤細胞具有野生型抑或突變型EGFR基因。因此,EGFR基因狀態可用作指示選擇用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療可能有利的生物標記物。
根據一個態樣,提供一種選擇用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療之患者的方法,該方法包含 ● 提供來自患者之含腫瘤細胞樣本,較佳地含腫瘤DNA樣本; ● 判定患者之樣本中之EGFR基因編碼野生型抑或突變型EGFR蛋白;且 ● 基於以上選擇用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療之患者。
該方法可包括或不包括實際患者樣本分離步驟。
如本文在揭示及定義本發明之態樣時所用的「突變型EGFR」係指突變型EGFR基因及/或來源於該等突變型EGFR基因之對應蛋白,且包括但不限於: [K1]● 包含外顯子19中之缺失(= del 19)的EGFR 例如-    delE746_A750 (最常見), -    delE746_S752insV, -    delL747_A750insP, -    delL747_P753insS, -    delS752_I759; ● 包含外顯子21中之突變L858R (= L858R)的EGFR; ● 包含外顯子20中之突變T790M (= T790M)的EGFR ● 包含外顯子20中之殘基C797之突變( =C797mut)的EGFR 例如 -    C797S, -    C797G, -    C797N, ● 包含外顯子20中之殘基L792之突變(= L792mut)的EGFR 例如 -    L792F, -    L792H, -    L792Y, 或包含兩個或更多個突變之組合的任何突變型EGFR,例如 ● del19 T790M ● del19 C797mut -    del19 C797S -    del19 C797G -    del19 C797N ● del19 T790M C797mut -    del19 T790M C797S -    del19 T790M C797G -    del19 T790M C797N ● del19 L792mut -    del19 L792F -    del19 L792H -    del19 L792Y ● del19 T790M L792mut -    del19 T790M L792F -    del19 T790M L792H -    del19 T790M L792Y ● L858R T790M ● L858R C797mut -    L858R C797S -    L858R C797G -    L858R C797N ● L858R T790M C797mut -    L858R T790M C797S -    L858R T790M C797G -    L858R T790M C797N ● L858R L792mut -    L858R L792F -    L858R L792H -    L858R L792Y ● L858R T790M L792mut -    L858R T790M L792F -    L858R T790M L792H -    L858R T790M L792Y
因此,在本發明之一個態樣 [K2]中,突變型EGFR包含外顯子19中之缺失(= del 19)。
在本發明之另一態樣 [K3]中,突變型EGFR包含外顯子21中之突變L858R (= L858R)。
在本發明之另一態樣 [K4]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變T790M (= T790M)。
在本發明之另一態樣 [K5]中,突變型EGFR包含外顯子20中之殘基C797之突變(= C797mut)。
在本發明之另一態樣 [K6]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變C797S (= C797S)。
在本發明之另一態樣 [K7]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變C797G (= C797G)。
在本發明之另一態樣 [K8]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變C797N (= C797N)。
在本發明之另一態樣 [K9]中,突變型EGFR包含外顯子20中之殘基L792之突變(= L792mut)。
在本發明之另一態樣 [K10]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變L792F (= L792F)。
在本發明之另一態樣 [K11]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變L792H (= L792H)。
在本發明之另一態樣 [K12]中,突變型EGFR包含外顯子20中之突變L792Y (= L792Y)。
在本發明之另一態樣 [K13]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M。
在本發明之另一態樣 [K14]中,突變型EGFR包含突變del19 C797mut。
在本發明之另一態樣 [K15]中,突變型EGFR包含突變del19 C797S。
在本發明之另一態樣 [K16]中,突變型EGFR包含突變del19 C797G。
在本發明之另一態樣 [K17]中,突變型EGFR包含突變del19 C797N。
在本發明之另一態樣 [K18]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M C797mut。
在本發明之另一態樣 [K19]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M C797S。
在本發明之另一態樣 [K20]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M C797G。
在本發明之另一態樣 [K21]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M C797N。
在本發明之另一態樣 [K22]中,突變型EGFR包含突變del19 L792mut。
在本發明之另一態樣 [K23]中,突變型EGFR包含突變del19 L792F。
在本發明之另一態樣 [K24]中,突變型EGFR包含突變del19 L792H。
在本發明之另一態樣 [K25]中,突變型EGFR包含突變del19 L792Y。
在本發明之另一態樣 [K26]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M L792mut。
在本發明之另一態樣 [K27]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M L792F。
在本發明之另一態樣 [K28]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M L792H。
在本發明之另一態樣 [K29]中,突變型EGFR包含突變del19 T790M L792Y。
在本發明之另一態樣 [K30]中,突變型EGFR包含EGFR L858R T790M。
在本發明之另一態樣 [K31]中,突變型EGFR包含EGFR L858R C797mut。
在本發明之另一態樣 [K32]中,突變型EGFR包含突變L858R C797S。
在本發明之另一態樣[ K33]中,突變型EGFR包含突變L858R C797G。
在本發明之另一態樣 [K34]中,突變型EGFR包含突變L858R C797N。
在本發明之另一態樣 [K35]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M C797mut。
在本發明之另一態樣 [K36]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M C797S。
在本發明之另一態樣[ K37]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M C797G。
在本發明之另一態樣 [K38]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M C797N。
在本發明之另一態樣 [K39]中,突變型EGFR包含突變L858R L792mut。
在本發明之另一態樣 [K40]中,突變型EGFR包含突變L858R L792F。
在本發明之另一態樣 [K41]中,突變型EGFR包含突變L858R L792H。
在本發明之另一態樣 [K42]中,突變型EGFR包含突變L858R L792Y。
在本發明之另一態樣[ K43]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M L792mut。
在本發明之另一態樣 [K44]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M L792F。
在本發明之另一態樣 [K45]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M L792H。
在本發明之另一態樣 [K46]中,突變型EGFR包含突變L858R T790M L792Y。
在一個態樣中,若腫瘤細胞DNA攜帶突變型EGFR基因,則選擇該患者以用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療,其中突變型EGFR基因較佳地選自 [K1][K46]中之任一者。
在另一態樣中,提供一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其用於治療具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因較佳地選自 [K1][K46]中之任一者。
在另一態樣中,提供一種治療具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞之癌症的方法,其包含向人類投與治療有效量之式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽,其中突變型EGFR基因較佳地選自 [K1][K46]中之任一者。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造用以治療具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞之癌症的藥物,其中突變型EGFR基因較佳地選自 [K1][K46]中之任一者。
判定腫瘤或癌症是否包含突變型EGFR可藉由在DNA或RNA層級評定編碼EGFR蛋白之核苷酸序列、藉由評定EGFR蛋白之胺基酸序列或藉由評定推定EGFR突變蛋白之特性來進行。野生型人類EGFR之序列為此項技術中已知。偵測EGFR核苷酸序列中之突變的方法為熟習此項技術者所知。此等方法包括但不限於聚合酶鏈反應-限制性片段長度多形性(PCR-RFLP)分析、聚合酶鏈反應-單股構形多形性(PCR-SSCP)分析、即時PCR分析、PCR定序、突變對偶基因特異性PCR擴增(MASA)分析、數位液滴PCR、直接定序、引子延伸反應、電泳、寡核苷酸接合分析、雜交分析、塔克曼分析(TaqMan assay)、SNP基因分型分析、高解析度解鏈分析、微陣列分析及下一代定序。在一些實施例中,藉由即時PCR評估樣本中之EGFR突變。在即時PCR中,使用對EGFR突變具有特異性的螢光探針。存在突變時,探針結合且偵測到螢光。在一些實施例中,使用EGFR基因中之特定區之直接定序法鑑別EGFR突變。此技術將鑑別所定序區域中的所有可能突變。偵測EGFR蛋白中之突變的方法為熟習此項技術者所知。此等方法包括但不限於使用對突變蛋白具有特異性之結合劑(例如抗體)偵測EGFR突變體、蛋白質電泳、西方墨點法及直接肽定序。
判定腫瘤或癌症是否包含EGFR突變之方法可使用多種樣本。在一些實施例中,樣本取自患有腫瘤或癌症的個體。在一些實施例中,樣本為新鮮的腫瘤/癌症樣本。在一些實施例中,樣本為冷凍的腫瘤/癌症樣本。在一些實施例中,樣本為福馬林固定石蠟包埋樣本。在一些實施例中,將樣本處理成細胞溶解物。在一些實施例中,將樣本處理成DNA或RNA。在一些實施例中,樣本為液體活體組織切片,且針對血液、尿液、痰液或其他體液樣本進行測試以尋找此等樣本內所含的來自腫瘤之癌細胞或此等樣本內所含的來自腫瘤細胞之DNA碎片。
在另一態樣中,用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療/預防或如本文所揭示之醫療用途、用途、治療及/或預防方法中的疾病/病況/癌症係選自由以下組成之群:肺癌、腦癌、大腸直腸癌、膀胱癌、尿道上皮癌、乳癌、前列腺癌、卵巢癌、頭頸癌、胰臟癌、胃癌及間皮瘤,包括所有所列癌症之轉移(詳言之腦轉移)。
在另一態樣中,用式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)治療/預防或如本文所揭示之醫療用途、用途、治療及/或預防方法中的疾病/病況/癌症為肺癌。較佳地,待治療之肺癌為非小細胞肺癌(NSCLC),包括例如局部晚期或轉移性NSCLC、NSCLC腺癌、具有鱗狀組織學之NSCLC及具有非鱗狀組織學之NSCLC。最佳地,待治療之肺癌為NSCLC腺癌。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含外顯子19中之缺失(= del19)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第一線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者就EGFR TKI而言為未經治療的。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 T790M。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼(icotinib)、阿法替尼或達可替尼(dacomitinib)之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 C797S。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第3代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用例如奧希替尼、奧莫替尼(olmutinib)、那紮替尼(nazartinib)、拉澤替尼(lazertinib)、阿美替尼(almonertinib)或阿維替尼(avitinib)之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 C797mut (較佳C797G或C797N)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式(I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第3代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 T790M C797S。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者在T790M獲得後用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)且在C797S獲得後在用第3代EGFR TKI之額外療法後仍進展(亦即,該等患者在用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之額外治療後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 T790M C797mut (較佳C797G或C797N)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者在T790M獲得後用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)且在C797mut (較佳C797G或C797N)獲得後在用第3代EGFR TKI之額外療法後仍進展(亦即,該等患者在用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之額外治療後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 L792mut (較佳L792F、L792H或L792Y)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第3代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變del19 T790M L792mut (較佳L792F、L792H或L792Y)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者在T790M獲得後用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)且在L792mut (較佳L792F、L792H或L792Y)獲得後在用第3代EGFR TKI之額外療法後仍進展(亦即,該等患者在用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之額外治療後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含L858R突變。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第一線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者就EGFR TKI而言為未經治療的。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R T790M。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R C797S。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第3代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R C797mut (較佳C797G或C797N)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第3代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R T790M C797S。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者在T790M獲得後用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)且在C797S獲得後在用第3代EGFR TKI之額外療法後仍進展(亦即,該等患者在用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之額外治療後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R T790M C797mut (較佳C797G或C797N)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者在T790M獲得後用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)且在C797mut (較佳C797G或C797N)獲得後在用第3代EGFR TKI之額外療法後仍進展(亦即,該等患者在用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之額外治療後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R L792mut (較佳L792F、L792H或L792Y)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者用第3代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之先前治療之後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞的癌症,其中突變型EGFR基因包含突變L858R T790M L792mut (較佳L792F、L792H或L792Y)。較佳地,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言),亦即該等患者在T790M獲得後用第1或第2代EGFR TKI之先前療法治療後仍進展(亦即,患者在使用吉非替尼、厄洛替尼、埃克替尼、阿法替尼或達可替尼之先前治療之後仍進展)且在L792mut (較佳L792F、L792H或L792Y)獲得後在用第3代EGFR TKI之額外療法後仍進展(亦即,該等患者在用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之額外治療後仍進展)。
在另一態樣中,待治療之癌症(包括如本文所揭示之所有實施例)為在用第3代EGFR TKI之先前治療後仍進展的癌症(亦即,該癌症在使用例如奧希替尼、奧莫替尼、那紮替尼、拉澤替尼、阿美替尼或阿維替尼之先前治療後仍進展)。在一個態樣中,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第二線治療(就EGFR TKI治療而言)。在另一態樣中,待治療且患有此癌症之癌症患者經投與式( I)化合物(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)作為第三線治療(就EGFR TKI治療而言)。此等情況下之較佳治療為使用奧希替尼之先前治療後的治療。
本發明之化合物可用於預防、短期或長期治療上文所提及之疾病/病況/癌症/腫瘤,視情況亦與放射線療法及/或手術組合。
如本文(上文及下文)所揭示使用之治療方法、方法、用途及化合物可用任何式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)及用包含式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)之任何醫藥組合物或套組進行。
組合治療式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)及包含此類化合物及鹽之醫藥組合物亦可與其他藥理活性物質,例如與其他抗贅生性化合物(例如化學療法)一起共同投與或與諸如放射線或手術干預的其他治療(以手術前輔助或術後輔助之形式)組合使用。較佳地,用於共同投與之藥理活性物質為抗贅生性化合物。
因此,在另一態樣中,本發明係關於一種如上文所揭示使用的式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集),其中該化合物在一或多種其他藥理活性物質之前、之後或與其一起投與。
在另一態樣中,本發明係關於一種如上文所揭示使用的式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集),其中該化合物與一或多種其他藥理活性物質組合投與。
在另一態樣中,本發明係關於如上文所揭示的式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)的用途,其中該化合物將在一或多種其他藥理活性物質之前、之後或與其一起投與。
在另一態樣中,本發明係關於一種如上文所揭示的方法(例如一種治療及/或預防方法),其中在治療有效量之一或多種其他藥理活性物質之前、之後或與其一起投與式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
在另一態樣中,本發明係關於一種如上文所揭示之方法(例如一種治療及/或預防方法),其中與治療有效量之一或多種其他藥理活性物質組合投與式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)。
在另一態樣中,本發明係關於一種用於治療及/或預防癌症之方法,其包含向有需要之患者投與治療有效量之式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)及治療有效量之一或多種其他藥理活性物質,其中式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽與一或多種其他藥理活性物質同時、並行、依序、連續、交替或分開投與。
在另一態樣中,本發明係關於一種式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集),其用於治療及/或預防癌症,其中式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽與一或多種其他藥理活性物質同時、並行、依序、連續、交替或分開投與。
在另一態樣中,本發明係關於一種套組,其包含 ●  第一醫藥組合物或劑型,其包含式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)以及視情況存在之一或多種醫藥學上可接受之賦形劑,及 ●  第二醫藥組合物或劑型,其包含另一藥理活性物質以及視情況存在之一或多種醫藥學上可接受之賦形劑, 其用於治療及/或預防癌症,其中第一醫藥組合物將與第二及/或額外醫藥組合物或劑型同時、並行、依序、連續、交替或分開投與。
在一個態樣中,用於該用途之此類套組包含第三醫藥組合物或劑型,其包含含有另一藥理活性物質及視情況存在之一或多種醫藥學上可接受之賦形劑的第三醫藥組合物或劑型。
在本發明之另一實施例中,根據本發明(包括所有實施例)使用之組合、套組、用途、方法及化合物的組分(亦即組合搭配物)係同時投與。
在本發明之另一實施例中,根據本發明(包括所有實施例)使用之組合、套組、用途、方法及化合物之組分(亦即,組合搭配物)係並行投與。
在本發明之另一實施例中,根據本發明(包括所有實施例)使用之組合、套組、用途、方法及化合物之組分(亦即,組合搭配物)係依序投與。
在本發明之另一實施例中,根據本發明(包括所有實施例)使用之組合、套組、用途、方法及化合物之組分(亦即,組合搭配物)係連續投與。
在本發明之另一實施例中,根據本發明(包括所有實施例)使用之組合、套組、用途、方法及化合物之組分(亦即,組合搭配物)係交替投與。
在本發明之另一實施例中,根據本發明(包括所有實施例)使用之組合、套組、用途、方法及化合物之組分(亦即,組合搭配物)係分開投與。
與式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括化合物( I)之所有個別實施例或通用子集)一起/組合使用或在如本文(上文及下文)所揭示之醫療用途、用途、治療及/或預防方法中使用的藥理活性物質可選自以下中之任一者或多者(較佳地,存在一或兩種用於所有此等實施例之額外藥理活性物質): 1. EGFR / ErbB2 (HER2) / ErbB3 (HER3) / ErbB4 (HER4) 或其任何突變體之抑制劑a. 不可逆抑制劑:例如阿法替尼、達可替尼、卡奈替尼(canertinib)、來那替尼(neratinib)、阿維替尼、波齊奧替尼(poziotinib)、AV 412、PF-6274484、HKI 357、奧莫替尼、奧希替尼、阿美替尼、那紮替尼、拉澤替尼、培利替尼(pelitinib); b. 可逆抑制劑:例如厄洛替尼、吉非替尼、埃克替尼、沙匹替尼(sapitinib)、拉帕替尼(lapatinib)、伐利替尼(varlitinib)、凡德他尼(vandetanib)、TAK-285、AEE788、BMS599626/AC-480、GW 583340; c. 抗EGFR抗體:例如萊西單抗(necitumumab)、帕尼單抗(panitumumab)、西妥昔單抗(cetuximab)、阿米萬單抗(amivantanab); d. 抗HER2抗體:例如帕妥珠單抗(pertuzumab)、曲妥珠單抗(trastuzumab)、曲妥珠單抗美坦新(trastuzumab emtansine); e. 突變型EGFR之抑制劑; f.  具有外顯子20突變之HER2之抑制劑; g. 較佳不可逆抑制劑為阿法替尼; h. 較佳抗EGFR抗體為西妥昔單抗; 2. MEK / 或其突變體之抑制劑a. 例如曲美替尼(trametinib)、考比替尼(cobimetinib)、貝美替尼(binimetinib)、司美替尼(selumetinib)、瑞法美替尼(refametinib)、BI 3011441; b. 較佳為曲美替尼及BI 3011441; c. 最佳為BI 3011441; 3. c-MET / 或其突變體之抑制劑a. 例如薩沃替尼(savolitinib)、卡博替尼(cabozantinib)、弗雷替尼(foretinib); b. MET抗體,例如艾米貝珠單抗(emibetuzumab)、阿米萬單抗(amivantanab); 4. SOS1 / 或其任何突變體之抑制劑(亦即,例如藉由結合於SOS1且預防SOS1與(突變型) Ras蛋白,例如KRAS之間的蛋白-蛋白質相互作用來調節/抑制SOS1之GEF功能性的化合物) a. 例如BAY-293、BI-3406、BI 1701963; b. 最佳為BI 1701963; 5. GDP 負載 GTP 負載 RAS / 或其任何突變體之抑制劑(亦即,藉由例如結合於GDP負載或GTP負載(突變型) RAS蛋白,例如KRAS、NRAS及/或HRAS,較佳KRAS調節/抑制(突變型)RAS蛋白之功能性的化合物) a. KRAS G12C之不可逆抑制劑; i.  例如AMG-510、MRTX849、ARS-324、GDC-6036; b. 可逆或不可逆GDP負載(突變型) KRAS結合劑; c. 可逆或不可逆GTP負載(突變型) KRAS結合劑; 6. 免疫治療劑a. 例如免疫檢查點抑制劑 i.  例如抗CTLA4 mAb、抗PD1 mAb、抗PD-L1 mAb、抗PD-L2 mAb、抗LAG3 mAb、抗TIM3 mAb; ii.         較佳為抗PD1 mAb; iii.       例如伊匹木單抗(ipilimumab)、納武單抗(nivolumab)、帕博利珠單抗(pembrolizumab)、替雷利珠單抗(tislelizumab)、阿特珠單抗(atezolizumab)、阿維魯單抗(avelumab)、德瓦魯單抗(durvalumab)、皮立珠單抗(pidilizumab)、PDR-001 (=斯巴達珠單抗(spartalizumab))、AMG-404、埃本利單抗(ezabenlimab); iv.        較佳為納武單抗、帕博利珠單抗、PDR-001 (=斯巴達珠單抗)及埃本利單抗; v. 最佳為帕博利珠單抗、納武單抗及埃本利單抗。 b. 例如免疫調節劑 i.  例如CD73抑制劑或CD73抑制性抗體 7. ALK / 或其任何突變體之抑制劑a. 例如克唑替尼(crizotinib)、阿來替尼(alectinib)、恩曲替尼(entrectinib)、布加替尼(brigatinib)、色瑞替尼(ceritinib); b. 較佳為克唑替尼及阿來替尼; c. 最佳為克唑替尼; 8. 紫杉烷a. 例如太平洋紫杉醇、白蛋白結合型太平洋紫杉醇(nab-paclitaxel)、多西他賽(docetaxel); b. 較佳為太平洋紫杉醇; 9. 含鉑化合物a. 例如順鉑(cisplatin)、卡鉑(carboplatin)、奧沙利鉑(oxaliplatin) b. 較佳為卡鉑; 10. 抗代謝物a. 例如5-氟尿嘧啶、卡培他濱(capecitabine)、氟尿苷、阿糖胞苷(cytarabine)、吉西他濱(gemcitabine)、培美曲塞(pemetrexed)、曲氟尿苷及替吡嘧啶之組合(=TAS102); b. 較佳為培美曲塞; 11. 細胞週期抑制劑a. 例如CDK4/6及/或其任何突變體之抑制劑 i.  例如帕泊昔布(palbociclib)、瑞博昔布(ribociclib)、阿貝馬昔布(abemaciclib)、曲拉昔布(trilaciclib)、PF-06873600; ii.         較佳為帕泊昔布及阿貝馬昔布; iii.       最佳為阿貝馬昔布。 b. 例如長春花生物鹼 i.  例如長春瑞賓。 c. 例如Aurora激酶及/或其任何突變體之抑制劑 i.  例如阿立色替(alisertib)、巴拉色替(barasertib)。 12. mTOR 抑制劑a. 例如雷帕黴素(rapamycin)、坦西莫司(temsirolimus)、依維莫司(everolimus)、地磷莫司(ridaforolimus)、佐他莫司(zotarolimus)、賽泮色替(sapanisertib)、Torin 1、達妥昔布(dactolisib)、GDC-0349、VS-5584、維塞色替(vistusertib)、AZD8055。 13.    Src 家族激酶及 / 或其任何突變體之抑制劑a. 例如SrcA亞家族激酶及/或其任何突變體之抑制劑,亦即Src、Yes、Fyn、Fgr及/或其任何突變體之抑制劑; b. 例如SrcB亞家族激酶及/或其任何突變體之抑制劑,亦即Lck、Hck、Blk、Lyn及/或其任何突變體之抑制劑; c. 例如Frk亞家族激酶及/或其任何突變體之抑制劑,亦即Frk及/或其任何突變體之抑制劑; d.例如達沙替尼(dasatinib)、普納替尼(ponatinib)、伯舒替尼(bosutinib)、凡德他尼(vandetanib)、KX-01、塞卡替尼(saracatinib)、KX2-391、SU 6656、WH-4-023。 14. 細胞凋亡誘導劑a. 例如MCL-1抑制劑; i.  例如AZD-5991、AMG-176、AMG-397、S64315、S63845、A-1210477; b. 例如Bcl-2抑制劑; i.  例如維奈托克(venetoclax)、奧布托克(obatoclax)、納維托克(navitoclax)、奧利默森(oblimersen); c. 例如Bcl-xL抑制劑 15. 抗血管生成劑a. 例如貝伐單抗(bevacizumab)、尼達尼布(nintedanib); b. 最佳為貝伐單抗; c. 例如抗VEGF/Ang2雙特異性抗體 i.  例如WO 2012/131078及WO 2018/220169中所揭示及描述之雙特異性結合分子; 16.    PI3 激酶 (= PI3K) / 或其任何突變體之抑制劑a. 例如PI3Kα及/或其任何突變體之抑制劑 i.  例如艾培昔布(alpelisib)、賽拉昔布(serabelisib)、GDC-0077、HH-CYH33、AMG 511、布帕昔布(buparlisib)、達妥昔布(dactolisib)、皮克昔布(pictilisib)、泰尼昔布(taselisib); 17. 組蛋白去乙醯酶抑制劑 18.    IL6 抑制劑 19.    JAK / 或其任何突變體之抑制劑 20.    A-Raf / B-Raf / C-Raf / 或其任何突變體之抑制劑a. 例如恩拉非尼(encorafenib)、達拉非尼(dabrafenib)、維羅非尼(vemurafenib)、PLX-8394、RAF-709 (=WO 2014/151616中之實例131)、LXH254、索拉非尼(sorafenib)、LY-3009120 (=WO 2013/134243中之實例1)、力拉菲尼(lifirafenib)、TAK-632、格拉非尼(agerafenib)、CCT196969、RO5126766、RAF265; 21. 受體酪胺酸激酶 (RTK) / 或其任何突變體之抑制劑 22.    SHP2 / 或其任何突變體之抑制劑a. 例如SHP099、TNO155、RMC-4550、RMC-4630、IACS-13909。
在如上文所描述之(組合)用途及方法(例如治療及/或預防方法)之另一實施例中,一種其他藥理活性物質將在式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)之前、之後或與其一起投與,其中該一種其他藥理活性物質為 ●  SOS1抑制劑;或 ●  BI 1701963;或 ●  MEK抑制劑;或 ●  曲美替尼,或 ●  BI 3011441,或 ●  抗PD-1抗體;或 ●  埃本利單抗,或 ●  西妥昔單抗;或 ●  阿法替尼;或 ●  GDP負載或GTP負載突變型KRAS之抑制劑;或 ●  MCL1抑制劑;或 ●  PI3K抑制劑。
在如上文所描述之(組合)用途及方法(例如治療及/或預防方法)之另一實施例中,一種其他藥理活性物質將與式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)組合投與,其中該一種其他藥理活性物質為 ●  SOS1抑制劑;或 ●  BI 1701963 ●  MEK抑制劑;或 ●  曲美替尼,或 ●  BI 3011441,或 ●  抗PD-1抗體;或 ●  埃本利單抗,或 ●  西妥昔單抗;或 ●  阿法替尼;或 ●  GDP負載或GTP負載突變型KRAS之抑制劑;或 ●  MCL1抑制劑;或 ●  PI3K抑制劑。
在如上文所描述之(組合)用途及方法(例如治療及/或預防方法)之另一態樣中,兩種其他藥理活性物質將在式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)之前、之後或與其一起投與,其中該兩種其他藥理活性物質為 ●  MEK抑制劑及SOS1抑制劑;或 ●  曲美替尼及SOS1抑制劑;或 ●  曲美替尼及BI 1701963,或 ●  BI 3011441及BI 1701963,或 ●  抗PD-1抗體及抗LAG-3抗體;或 ●  抗PD-1抗體及抗CTLA-4抗體;或 ●  抗PD-1抗體及SOS1抑制劑;或 ●  埃本利單抗及BI 1701963;或 ●  MEK抑制劑及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  BI 3011441及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  SOS1抑制劑及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  BI 1701963及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  MEK抑制劑及阿法替尼;或 ●  BI 3011441及阿法替尼;或 ●  MEK抑制劑及西妥昔單抗;或 ●  BI 3011441及西妥昔單抗;或 ●  曲美替尼及阿法替尼;或 ●  曲美替尼及西妥昔單抗;或 ●  SOS1抑制劑及阿法替尼;或 ●  BI 1701963及阿法替尼;或 ●  SOS1抑制劑及西妥昔單抗;或 ●  BI 1701963及西妥昔單抗;或 ●  SOS1抑制劑及GDP負載或GTP負載突變型KRAS之抑制劑;或 ●  BI 1701963及GDP負載或GTP負載突變型KRAS之抑制劑;或 ●  順鉑及培美曲塞;或 ●  卡鉑及培美曲塞。
在如上文所描述之(組合)用途及方法(例如治療及/或預防方法)之另一態樣中,兩種其他藥理活性物質將與式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括本文所揭示之所有個別實施例及通用子集)組合投與,其中該兩種其他藥理活性物質為 ●  MEK抑制劑及SOS1抑制劑;或 ●  曲美替尼及SOS1抑制劑;或 ●  曲美替尼及BI 1701963,或 ●  BI 3011441及BI 1701963,或 ●  抗PD-1抗體及抗LAG-3抗體;或 ●  抗PD-1抗體及抗CTLA-4抗體;或 ●  抗PD-1抗體及SOS1抑制劑;或 ●  埃本利單抗及BI 1701963;或 ●  MEK抑制劑及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  BI 3011441及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  SOS1抑制劑及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  BI 1701963及選自由以下組成之群的抑制劑:EGFR抑制劑及/或ErbB2 (HER2)抑制劑及/或其任何突變體之抑制劑;或 ●  MEK抑制劑及阿法替尼;或 ●  BI 3011441及阿法替尼;或 ●  MEK抑制劑及西妥昔單抗;或 ●  BI 3011441及西妥昔單抗;或 ●  曲美替尼及阿法替尼;或 ●  曲美替尼及西妥昔單抗;或 ●  SOS1抑制劑及阿法替尼;或 ●  BI 1701963及阿法替尼;或 ●  SOS1抑制劑及西妥昔單抗;或 ●  BI 1701963及西妥昔單抗;或 ●  SOS1抑制劑及GDP負載或GTP負載突變型KRAS之抑制劑;或 ●  BI 1701963及GDP負載或GTP負載突變型KRAS之抑制劑;或 ●  順鉑及培美曲塞;或 ●  卡鉑及培美曲塞。
亦可與式(I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽(包括化合物(I)之所有個別實施例或通用子集)一起/組合使用或在如本文(上文及下文)所揭示之醫療用途、用途、治療及/或預防方法中使用的額外藥理活性物質包括但不限於:激素、激素類似物及抗激素(例如他莫昔芬(tamoxifen)、托瑞米芬(toremifene)、雷諾昔芬(raloxifene)、氟維司群(fulvestrant)、乙酸甲地孕酮(megestrol acetate)、氟他胺(flutamide)、尼魯胺(nilutamide)、比卡魯胺(bicalutamide)、胺魯米特(aminoglutethimide)、乙酸環丙孕酮(cyproterone acetate)、非那雄安(finasteride)、乙酸布舍瑞林(buserelin acetate)、氟氫可體松(fludrocortisone)、氟羥甲基睾酮(fluoxymesterone)、甲羥孕酮(medroxyprogesterone)、奧曲肽(octreotide));芳香酶抑制劑(例如阿那曲唑(anastrozole)、來曲唑(letrozole)、利阿唑(liarozole)、伏羅唑(vorozole)、依西美坦(exemestane)、阿他美坦(atamestane));LHRH促效劑及拮抗劑(例如乙酸戈舍瑞林(goserelin acetate)、魯普利德(luprolide));生長因子及/或其對應受體之抑制劑(生長因子諸如血小板源生長因子(PDGF)、纖維母細胞生長因子(FGF)、血管內皮生長因子(VEGF)、表皮生長因子(EGF)、胰島素樣生長因子(IGF)、人類表皮生長因子(HER,例如HER2、HER3、HER4)及肝細胞生長因子(HGF)及/或其對應受體);例如(抗)生長因子抗體、(抗)生長因子受體抗體及酪胺酸激酶抑制劑之抑制劑,諸如西妥昔單抗、吉非替尼、阿法替尼、尼達尼布、伊馬替尼(imatinib)、拉帕替尼、伯舒替尼、貝伐單抗及曲妥珠單抗);抗代謝物(例如諸如甲胺喋呤之抗葉酸劑、雷替曲塞(raltitrexed)、諸如5-氟尿嘧啶(5-FU)之嘧啶類似物、核糖核苷及去氧核苷類似物、卡培他濱及吉西他濱、諸如巰基嘌呤、硫鳥嘌呤、克拉屈濱(cladribine)及噴司他汀(pentostatin)之嘌呤及腺苷類似物、阿糖胞苷(ara C)、氟達拉濱(fludarabine));抗腫瘤抗生素(例如蒽環類藥物,諸如阿黴素(doxorubicin)、多希(doxil)(聚乙二醇化脂質鹽酸阿黴素、莫西特(myocet)(非聚乙二醇化脂質阿黴素)、道諾比星(daunorubicin)、表柔比星(epirubicin)及伊達比星(idarubicin)、絲裂黴素-C (mitomycin-C)、博萊黴素(bleomycin)、放線菌素(dactinomycin)、普卡黴素(plicamycin)、鏈脲佐菌素(streptozocin));鉑衍生物(例如順鉑、奧沙利鉑、卡鉑);烷化劑(例如雌莫司汀(estramustin)、氮芥(meclorethamine)、美法侖(melphalan)、苯丁酸氮芥(chlorambucil)、白消安(busulphan)、達卡巴嗪(dacarbazin)、環磷醯胺、異環磷醯胺、替莫唑胺(temozolomide)、諸如卡莫司汀(carmustin)及洛莫司汀(lomustin)之亞硝基脲、噻替派(thiotepa));抗有絲分裂劑(例如,長春花生物鹼(Vinca alkaloid),諸如長春鹼(vinblastine)、長春地辛(vindesin)、長春瑞賓(vinorelbin)及長春新鹼(vincristine);及紫杉烷,諸如太平洋紫杉醇、多西他賽);血管生成抑制劑(例如他喹莫德(tasquinimod);微管蛋白(tubuline)抑制劑;DNA合成抑制劑;PARP抑制劑;拓樸異構酶抑制劑(例如表鬼臼毒素(epipodophyllotoxin),諸如依託泊苷(etoposide)及凡畢複(etopophos)、替尼泊苷(teniposide)、阿薩克林(amsacrin)、拓朴替康(topotecan)、伊立替康(irinotecan)、米托蒽醌(mitoxantrone));絲胺酸/蘇胺酸激酶抑制劑(例如PDK 1抑制劑、Raf抑制劑、A-Raf抑制劑、B-Raf抑制劑、C-Raf抑制劑、mTOR抑制劑、mTORC1/2抑制劑、PI3K抑制劑、PI3Kα抑制劑、雙重mTOR/PI3K抑制劑、STK 33抑制劑、AKT抑制劑、PLK 1抑制劑、CDK抑制劑、Aurora激酶抑制劑);酪胺酸激酶抑制劑(例如PTK2/FAK抑制劑);蛋白質-蛋白質相互作用抑制劑(例如IAP抑制劑/SMAC模擬物、Mcl-1、MDM2/MDMX);MEK抑制劑;ERK抑制劑;FLT3抑制劑;BRD4抑制劑;IGF-1R抑制劑;TRAILR2促效劑;Bcl-xL抑制劑;Bcl-2抑制劑(例如維奈托克(venetoclax));Bcl-2/Bcl-xL抑制劑;ErbB受體抑制劑;BCR-ABL抑制劑;ABL抑制劑;Src抑制劑;雷帕黴素類似物(例如依維莫司、坦西莫司、地磷莫司、西羅莫司(sirolimus));雄激素合成抑制劑;雄激素受體抑制劑;DNMT抑制劑;HDAC抑制劑;ANG1/2抑制劑;CYP17抑制劑;放射性醫藥;蛋白酶體抑制劑(例如卡非佐米(carfilzomib));免疫治療劑,諸如免疫檢查點抑制劑(例如CTLA4、PD1、PD-L1、PD-L2、LAG3及TIM3結合分子/免疫球蛋白,諸如伊匹木單抗、納武單抗、帕博利珠單抗);ADCC (抗體依賴性細胞介導的細胞毒性)增強劑(例如抗CD33抗體、抗CD37抗體、抗CD20抗體);T細胞接合子(例如雙特異性T細胞接合子(BiTEs ®),如CD3×BCMA、CD3×CD33、CD3×CD19、PSMA×CD3);腫瘤疫苗;及各種化學治療劑,諸如阿米福汀(amifostin)、阿那格雷(anagrelid)、氯膦酸鹽(clodronat)、非格司亭(filgrastin)、干擾素、干擾素α、甲醯四氫葉酸、丙卡巴肼(procarbazine)、左旋咪唑(levamisole)、美司鈉(mesna)、米托坦(mitotane)、帕米膦酸鹽(pamidronate)及卟吩姆(porfimer)。
應理解,根據本發明使用之組合、組合物、套組、方法、用途或化合物可設想同時、並行、依序、連續、交替或分開投與活性成分或組分。應瞭解,式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽及一或多種其他藥理活性物質可依賴性或獨立地投與,諸如式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽及一或多種其他藥理活性物質可作為同一醫藥組合物/劑型之部分或較佳呈分開之醫藥組合物/劑型投與。
在此上下文中,在本發明之含義內之「組合」或「經組合」包括但不限於由混合或組合超過一種活性成分產生之產物且包括固定及非固定(例如自由)組合(包括套組)及用途,諸如組分或成分之同時、並行、依序、連續、交替或分開使用。術語「固定組合」意謂以單一實體或劑量形式向患者同時投與活性成分。術語「非固定組合」意謂在無特定時間限制之情況下,以分開之實體形式同時、並行或依序向患者投與活性成分,其中此類投與在患者體內提供治療有效量之化合物。
式( I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽及一或多種其他藥理活性物質的投與可藉由共同投與活性組分或成分,諸如藉由以一個單一調配物或劑型或以兩個或更多個分開調配物或劑型同時或並行地投與來進行。或者,式(I)化合物或其醫藥學上可接受之鹽及一或多種其他藥理活性物質的投與可藉由諸如以兩個或更多個分開調配物或劑型依序或交替投與活性組分或成分來進行。
舉例而言,同時投與包括基本上同一時間投與。此形式之投與亦可稱為「伴隨」投與。並行投與包括在同一通用時段(例如在同一天但不一定在同一時間)內投與活性劑。交替投與包括在一時段期間(例如在幾天或一週之時程內)投與一種藥劑,接著在後續時段期間(例如在幾天或一週之時程內)投與另一藥劑,且隨後將該模式重複一或多個循環。依序或連續投與包括使用一或多個劑量在第一時段期間(例如在幾天或一週之時程內)投與一種藥劑,接著使用一或多個劑量在第二及/或額外時段期間(例如在幾天或一週之時程內)投與另一藥劑。亦可採用重疊時程表,其包括在治療期內之不同日期投與活性劑,不一定要根據規律順序。亦可採用此等通用準則之變化形式,例如根據所使用之藥劑及個體之病況而定。
定義 未在本文中特別定義之術語應被賦予熟習此項技術者鑒於本發明及上下文將對其賦予之含義。然而,如本說明書中所使用,除非相反地說明,否則以下術語具有指定之含義且將遵守以下慣例: 字首 C x-y 之使用,其中 xy各自表示正整數( x < y),指示以直接關聯指定及提及之鏈或環結構或鏈及環結構組合整體可由最大值 y及最小值 x個碳原子組成。
含有一或多個雜原子之基團(例如,雜芳基、雜芳基烷基、雜環基、雜環基烷基)中成員數目之指示係關於所有環成員之總原子數或所有環及碳鏈成員之總數。
由碳鏈及碳環結構之組合組成的基團(例如環烷基烷基、芳基烷基)中碳原子數之指示係關於所有碳環及碳鏈成員之總碳原子數。顯然,環結構具有至少三個成員。
一般而言,對於包含兩個或更多個子基團之基團(例如雜芳基烷基、雜環基烷基、環烷基烷基、芳基烷基或類似基團),最後命名之子基團為基團連接點,例如取代基芳基C 1-6烷基意謂芳基結合至C 1-6烷基,後者結合至核心或取代基所連接之基團。
在如HO、H 2N、(O)S、(O) 2S、NC(氰基)、HOOC、F 3C或類似者之基團中,熟習此項技術者可自基團自身之游離價數看到分子之基團連接點。
烷基表示單價飽和烴鏈,其可呈直鏈(未分支)及分支鏈形式存在。若 烷基經取代,則在各情況下可由所有載氫碳原子上彼此獨立之單取代或多取代來進行取代。
術語「C 1-5烷基」包括例如H 3C-、H 3C-CH 2-、H 3C-CH 2-CH 2-、H 3C-CH(CH 3)-、H 3C-CH 2-CH 2-CH 2-、H 3C-CH 2-CH(CH 3)-、H 3C-CH(CH 3)-CH 2-、H 3C-C(CH 3) 2-、H 3C-CH 2-CH 2-CH 2-CH 2-、H 3C-CH 2-CH 2-CH(CH 3)-、H 3C-CH 2-CH(CH 3)-CH 2-、H 3C-CH(CH 3)-CH 2-CH 2-、H 3C-CH 2-C(CH 3) 2-、H 3C-C(CH 3) 2-CH 2-、H 3C-CH(CH 3)-CH(CH 3)-及H 3C-CH 2-CH(CH 2CH 3)-。
烷基之其他實例為甲基(Me、-CH 3)、乙基(Et、-CH 2CH 3)、1-丙基(正丙基、 n-Pr、-CH 2CH 2CH 3)、2-丙基( i-Pr、異丙基、-CH(CH 3) 2)、1-丁基(正丁基、 n-Bu、-CH 2CH 2CH 2CH 3)、2-甲基-1-丙基(異丁基、 i-Bu、-CH 2CH(CH 3) 2)、2-丁基(二級丁基、 sec-Bu、-CH(CH 3)CH 2CH 3)、2-甲基-2-丙基(三級丁基、 t-Bu、-C(CH 3) 3)、1-戊基(正戊基、-CH 2CH 2CH 2CH 2CH 3)、2-戊基(-CH(CH 3)CH 2CH 2CH 3)、3-戊基(-CH(CH 2CH 3) 2)、3-甲基-1-丁基(異戊基、-CH 2CH 2CH(CH 3) 2)、2-甲基-2-丁基(-C(CH 3) 2CH 2CH 3)、3-甲基-2-丁基(-CH(CH 3)CH(CH 3) 2)、2,2-二甲基-1-丙基(新戊基、-CH 2C(CH 3) 3)、2-甲基-1-丁基(-CH 2CH(CH 3)CH 2CH 3)、1-己基(正己基、-CH 2CH 2CH 2CH 2CH 2CH 3)、2-己基(-CH(CH 3)CH 2CH 2CH 2CH 3)、3-己基(-CH(CH 2CH 3)(CH 2CH 2CH 3))、2-甲基-2-戊基(-C(CH 3) 2CH 2CH 2CH 3)、3-甲基-2-戊基(-CH(CH 3)CH(CH 3)CH 2CH 3)、4-甲基-2-戊基(-CH(CH 3)CH 2CH(CH 3) 2)、3-甲基-3-戊基(-C(CH 3)(CH 2CH 3) 2)、2-甲基-3-戊基(-CH(CH 2CH 3)CH(CH 3) 2)、2,3-二甲基-2-丁基(-C(CH 3) 2CH(CH 3) 2)、3,3-二甲基-2-丁基(-CH(CH 3)C(CH 3) 3)、2,3-二甲基-1-丁基(-CH 2CH(CH 3)CH(CH 3)CH 3)、2,2-二甲基-1-丁基(-CH 2C(CH 3) 2CH 2CH 3)、3,3-二甲基-1-丁基(-CH 2CH 2C(CH 3) 3)、2-甲基-1-戊基(-CH 2CH(CH 3)CH 2CH 2CH 3)、3-甲基-1-戊基(-CH 2CH 2CH(CH 3)CH 2CH 3)、1-庚基(正庚基)、2-甲基-1-己基、3-甲基-1-己基、2,2-二甲基-1-戊基、2,3-二甲基-1-戊基、2,4-二甲基-1-戊基、3,3-二甲基-1-戊基、2,2,3-三甲基-1-丁基、3-乙基-1-戊基、1-辛基(正辛基)、1-壬基(正壬基)、1-癸基(正癸基)等。
無任何其他定義之通用術語丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基或類似基團意謂具有對應碳原子數目之飽和烴基,其中包括所有異構形式。
若烷基為另一(組合)基團(如C x-y 烷基胺基或C x-y 烷基氧基)之一部分,則以上關於 烷基之定義亦適用。
術語 伸烷基衍生自 烷基。與 烷基不同, 伸烷基為二價且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 烷基移除氫原子產生第二價數。對應基團為例如-CH 3及-CH 2-、-CH 2CH 3及-CH 2CH 2-或>CHCH 3等。
術語「C 1-4伸烷基」包括例如-(CH 2)-、-(CH 2-CH 2)-、-(CH(CH 3))-、-(CH 2-CH 2-CH 2)-、-(C(CH 3) 2)-、-(CH(CH 2CH 3))-、-(CH(CH 3)-CH 2)-、-(CH 2-CH(CH 3))-、-(CH 2-CH 2-CH 2-CH 2)-、-(CH 2-CH 2-CH(CH 3))-、-(CH(CH 3)-CH 2-CH 2)-、-(CH 2-CH(CH 3)-CH 2)-、-(CH 2-C(CH 3) 2)-、-(C(CH 3) 2-CH 2)-、-(CH(CH 3)-CH(CH 3))-、-(CH 2-CH(CH 2CH 3))-、-(CH(CH 2CH 3)-CH 2)-、-(CH(CH 2CH 2CH 3))-、-(CH(CH(CH 3)) 2)-及-C(CH 3)(CH 2CH 3)-。
伸烷基之其他實例為亞甲基、伸乙基、伸丙基、1-甲基伸乙基、伸丁基、1-甲基伸丙基、1,1-二甲基伸乙基、1,2-二甲基伸乙基、伸戊基、1,1-二甲基伸丙基、2,2-二甲基伸丙基、1,2-二甲基伸丙基、1,3-二甲基伸丙基、伸己基等。
無任何其他定義之通用術語伸丙基、伸丁基、伸戊基、伸己基或類似基團意謂所有具有所對應碳原子數目之可設想異構形式,亦即伸丙基包括1-甲基伸乙基,且伸丁基包括1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、1,1-二甲基伸乙基及1,2-二甲基伸乙基。
伸烷基為另一(組合)基團之一部分(如在HO-C x-y 伸烷基胺基或H 2N-C x-y 伸烷基氧基中),則以上關於 伸烷基之定義亦適用。
不同於 烷基烯基由至少兩個碳原子組成,其中至少兩個相鄰碳原子藉由C-C雙鍵接合在一起且一個碳原子僅可為一個C-C雙鍵之一部分。若在如上文定義之具有至少兩個碳原子之 烷基中,形式上移除相鄰碳原子處之兩個氫原子且使游離價數飽和以形成第二鍵,則形成對應 烯基
烯基之實例為乙烯基(vinyl/ethenyl)、丙-1-烯基、烯丙基(丙-2-烯基)、異丙烯基、丁-1-烯基、丁-2-烯基、丁-3-烯基、2-甲基-丙-2-烯基、2-甲基-丙-1-烯基、1-甲基-丙-2-烯基、1-甲基-丙-1-烯基、1-亞甲基丙基、戊-1-烯基、戊-2-烯基、戊-3-烯基、戊-4-烯基、3-甲基-丁-3-烯基、3-甲基-丁-2-烯基、3-甲基-丁-1-烯基、己-1-烯基、己-2-烯基、己-3-烯基、己-4-烯基、己-5-烯基、2,3-二甲基-丁-3-烯基、2,3-二甲基-丁-2-烯基、2-亞甲基-3-甲基丁基、2,3-二甲基-丁-1-烯基、己-1,3-二烯基、己-1,4-二烯基、戊-1,4-二烯基、戊-1,3-二烯基、丁-1,3-二烯基、2,3-二甲基丁-1,3-二烯等。
無任何其他定義之通用術語丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、丁二烯基、戊二烯基、己二烯基、庚二烯基、辛二烯基、壬二烯基、癸二烯基或類似基團意謂所有具有對應碳原子數目之可設想異構形式,亦即丙烯基包括丙-1-烯基及丙-2-烯基,丁烯基包括丁-1-烯基、丁-2-烯基、丁-3-烯基、1-甲基-丙-1-烯基、1-甲基-丙-2-烯基等。
烯基可視情況相對於雙鍵以順式或反式或 EZ定向存在。
烯基為另一(組合)基團之一部分(如在C x-y 烯基胺基或C x-y 烯基氧基中),以上關於 烯基之定義亦適用。
不同於 伸烷基伸烯基由至少兩個碳原子組成,其中至少兩個相鄰碳原子藉由C-C雙鍵接合在一起,且一個碳原子僅可為一個C-C雙鍵之一部分。若在如上文定義之具有至少兩個碳原子之 伸烷基中,形式上移除相鄰碳原子處之兩個氫原子且使游離價數飽和以形成第二鍵,則形成對應 伸烯基
伸烯基之實例為伸乙烯基、伸丙烯基、1-甲基伸乙烯基、伸丁烯基、1-甲基伸丙烯基、1,1-二甲基伸乙烯基、1,2-二甲基伸乙烯基、伸戊烯基、1,1-二甲基伸丙烯基、2,2-二甲基伸丙烯基、1,2-二甲基伸丙烯基、1,3-二甲基伸丙烯基、伸己烯基等。
無任何其他定義之通用術語伸丙烯基、伸丁烯基、伸戊烯基、伸己烯基或類似基團意謂所有具有對應碳原子數目之可設想異構形式,亦即伸丙烯基包括1-甲基伸乙烯基,且伸丁烯基包括1-甲基伸丙烯基、2-甲基伸丙烯基、1,1-二甲基伸乙烯基及1,2-二甲基伸乙烯基。
伸烯基可視情況相對於雙鍵以順式或反式或 EZ定向存在。
伸烯基為另一(組合)基團之一部分(如在HO-C x-y 伸烯基胺基或H 2N-C x-y 伸烯基氧基中),以上關於 伸烯基之定義亦適用。
不同於 烷基炔基由至少兩個碳原子組成,其中至少兩個相鄰碳原子藉由C-C參鍵接合在一起。若在如上文定義之具有至少兩個碳原子之 烷基中,在各情況下形式上移除相鄰碳原子處之兩個氫原子且使游離價數飽和以形成另兩個鍵,則形成對應 炔基
炔基之實例為乙炔基、丙-1-炔基、丙-2-炔基、丁-1-炔基、丁-2-炔基、丁-3-炔基、1-甲基-丙-2-炔基、戊-1-炔基、戊-2-炔基、戊-3-炔基、戊-4-炔基、3-甲基-丁-1-炔基、己-1-炔基、己-2-炔基、己-3-炔基、己-4-炔基、己-5-炔基等。
無任何其他定義之通用術語丙炔基、丁炔基、戊炔基、己炔基、庚炔基、辛炔基、壬炔基、癸炔基或類似基團意謂所有具有對應碳原子數目之可設想異構形式,亦即丙炔基包括丙-1-炔基及丙-2-炔基,丁炔基包括丁-1-炔基、丁-2-炔基、丁-3-炔基、1-甲基-丙-1-炔基、1-甲基-丙-2-炔基等。
若烴鏈攜帶至少一個雙鍵以及至少一個參鍵兩者,則根據定義,其屬於 炔基子基團。
炔基為另一(組合)基團之一部分(如在C x-y 炔基胺基或C x-y 炔基氧基中),則以上關於 炔基之定義亦適用。
不同於 伸烷基伸炔基由至少兩個碳原子組成,其中至少兩個相鄰碳原子藉由C-C參鍵接合在一起。若在如上文定義之具有至少兩個碳原子之 伸烷基中,在各情況下形式上移除相鄰碳原子處之兩個氫原子且使游離價數飽和以形成另兩個鍵,則形成對應 伸炔基
伸炔基之實例為伸乙炔基、伸丙炔基、1-甲基伸乙炔基、伸丁炔基、1-甲基伸丙炔基、1,1-二甲基伸乙炔基、1,2-二甲基伸乙炔基、伸戊炔基、1,1-二甲基伸丙炔基、2,2-二甲基伸丙炔基、1,2-二甲基伸丙炔基、1,3-二甲基伸丙炔基、伸己炔基等。
無任何其他定義之通用術語伸丙炔基、伸丁炔基、伸戊炔基、伸己炔基或類似基團意謂所有具有對應碳原子數目之可設想異構形式,亦即伸丙炔基包括1-甲基伸乙炔基,且伸丁炔基包括1-甲基伸丙炔基、2-甲基伸丙炔基、1,1-二甲基伸乙炔基及1,2-二甲基伸乙炔基。
伸炔基為另一(組合)基團之一部分(如在HO-C x-y 伸炔基胺基或H 2N-C x-y 伸炔基氧基中),則以上關於 伸炔基之定義亦適用。
雜原子意謂氧、氮、磷及硫原子。較佳地,雜原子係選自氧、氮及硫。
鹵烷基( 鹵烯基鹵炔基)藉由烴鏈之一或多個氫原子彼此獨立地經可相同或不同的鹵素原子置換而衍生自先前定義之 烷基( 烯基炔基)。若 鹵烷基( 鹵烯基鹵炔基)進一步經取代,則取代可在各情況下以單取代或多取代形式彼此獨立地在所有載氫碳原子上進行。
鹵烷基( 鹵烯基鹵炔基)之實例為-CF 3、-CHF 2、-CH 2F、-CF 2CF 3、-CHFCF 3、-CH 2CF 3、-CF 2CH 3、-CHFCH 3、-CF 2CF 2CF 3、-CF 2CH 2CH 3、-CF=CF 2、-CCl=CH 2、-CBr=CH 2、-C≡C-CF 3、-CHFCH 2CH 3、-CHFCH 2CF 3等。
先前定義之 鹵烷基( 鹵烯基鹵炔基)亦衍生術語 鹵伸烷基( 鹵伸烯基鹵伸炔基)。不同於 鹵烷基( 鹵烯基鹵炔基), 鹵伸烷基( 鹵伸烯基鹵伸炔基)為二價的且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 鹵烷基( 鹵烯基鹵炔基)移除氫原子而形成第二價數。
對應基團為例如-CH 2F及-CHF-、-CHFCH 2F及-CHFCHF-或>CFCH 2F等。
若對應含鹵素基團為另一(組合)基團之一部分,則以上定義亦適用。
鹵素係指氟、氯、溴及/或碘原子。
環烷基由子基團 單環環烷基(=單環烴環)、 雙環環烷基(=雙環烴環)及 螺環烷基(=螺烴環)組成。環系統為飽和的。在雙環烴環中,兩個環接合在一起使得其共同具有至少兩個碳原子。在螺烴環中,一個碳原子(螺原子)同時屬於兩個環。
環烷基經取代,則取代可在各情況下以單取代或多取代形式彼此獨立地在所有載氫碳原子上進行。 環烷基自身可作為取代基經由環系統之每個適合的位置鍵聯至分子。
環烷基之實例為環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、雙環[2.2.0]己基、雙環[3.2.0]庚基、雙環[3.2.1]辛基、雙環[2.2.2]辛基、雙環[4.3.0]壬基(八氫茚基)、雙環[4.4.0]癸基(十氫萘基)、雙環[2.2.1]庚基(降𦯉基)、雙環[4.1.0]庚基(降蒈基)、雙環[3.1.1]庚基(蒎基)、螺[2.5]辛基、螺[3.3]庚基等。
環烷基為另一(組合)基團之一部分(如在C x-y 環烷基胺基、C x-y 環烷基氧基或C x-y 環烷基烷基中),則以上關於 環烷基之定義亦適用。
環烷基之游離價數為飽和的,則獲得 脂環基(其中所有關於環烷基之定義對應地適用於脂環基)。
術語 伸環烷基衍生自先前定義之環烷基。不同於 環烷基伸環烷基為二價的且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 環烷基移除氫原子獲得第二價數。對應基團為例如: 環己基及
Figure 02_image096
(伸環己基)。
伸環烷基為另一(組合)基團之一部分(如在HO-C x-y 伸環烷基胺基或H 2N-C x-y 伸環烷基氧基中),則以上關於 伸環烷基之定義亦適用。
環烯基亦由子基團 單環環烯基(=單環烴環)、 雙環環烯基(=雙環烴環)及 螺環烯基(=螺烴環)構成。然而,系統為不飽和的,亦即存在至少一個C-C雙鍵,但不存在芳族系統。若在如上文中所定義之 環烷基中,形式上移除相鄰環碳原子處之兩個氫原子且使游離價數飽和以形成第二鍵,則獲得對應 環烯基
環烯基經取代,則取代可在各情況下以單取代或多取代形式彼此獨立地在所有載氫碳原子上進行。 環烯基自身可作為取代基經由環系統之每個適合的位置鍵聯至分子。
環烯基之實例為環丙-1-烯基、環丙-2-烯基、環丁-1-烯基、環丁-2-烯基、環戊-1-烯基、環戊-2-烯基、環戊-3-烯基、環己-1-烯基、環己-2-烯基、環己-3-烯基、環庚-1-烯基、環庚-2-烯基、環庚-3-烯基、環庚-4-烯基、環丁-1,3-二烯基、環戊-1,4-二烯基、環戊-1,3-二烯基、環戊-2,4-二烯基、環己-1,3-二烯基、環己-1,5-二烯基、環己-2,4-二烯基、環己-1,4-二烯基、環己-2,5-二烯基、雙環[2.2.1]庚-2,5-二烯基(降𦯉-2,5-二烯基)、雙環[2.2.1]庚-2-烯基(降𦯉烯基)、螺[4,5]癸-2-烯基等。
環烯基為另一(組合)基團之一部分(如在C x-y 環烯基胺基、C x-y 環烯基氧基或C x-y 環烯基烷基中)時,以上關於 環烯基之定義亦適用。
環烯基之游離價數為飽和的,則獲得 不飽和 脂環基(其中所有關於環烯基之定義對應地適用於不飽和脂環基)。
因此,術語 伸環烯基可衍生自先前定義之環烯基。不同於 環烯基伸環烯基為二價的且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 環烯基移除氫原子而獲得第二價數。對應基團為例如: 環戊烯基及
Figure 02_image098
(伸環戊烯基)等。
伸環烯基為另一(組合)基團之一部分(如在HO-C x-y 伸環烯基胺基或H 2N-C x-y 伸環烯基氧基中),則以上關於 伸環烯基之定義亦適用
芳基表示具有至少一個芳族碳環之單環、雙環或三環碳環。較佳地,其表示具有六個碳原子之單環基團(苯基)或具有九或十個碳原子之雙環基團(兩個六員環或一個具有五員環之六員環),其中第二環亦可為芳族或亦可為部分飽和的。
芳基經取代,則取代可在各情況下以單取代或多取代形式彼此獨立地在所有載氫碳原子上進行。 芳基自身可作為取代基經由環系統之每個適合的位置鍵聯至分子。
芳基之實例為苯基、萘基、茚滿基(indanyl)(2,3-二氫茚基)、茚基、蒽基、菲基、四氫萘基(tetrahydronaphthyl)(1,2,3,4-四氫萘基、萘滿基(tetralinyl))、二氫萘基(1,2-二氫萘基)、茀基等。最佳為苯基。
芳基為另一(組合)基團之一部分(如在 芳基胺基芳基氧基芳基烷基中),以上關於 芳基之定義亦適用。
芳基之游離價數為飽和的,則獲得 芳族基(其中所有關於芳基之定義對應地適用於芳族基)。
術語 伸芳基亦可衍生自先前定義之 芳基。不同於 芳基伸芳基為二價的且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 芳基移除氫原子形成第二價數。對應基團為例如: 苯基及
Figure 02_image100
(鄰伸苯基、間伸苯基、對伸苯基), 萘基及
Figure 02_image102
等。
伸芳基為另一(組合)基團之一部分(如在HO- 伸芳基胺基或H 2N- 伸芳基氧基中),則以上關於 伸芳基之定義亦適用。
雜環基表示環系統,其藉由一或多個碳原子經雜原子置換,例如烴環中之基團-CH 2-彼此獨立地經例如基團-O-、-S-、-NH-或-PH-置換,或藉由例如一或多個基團=CH-經基團=N-置換而衍生自先前定義之 環烷基環烯基芳基,其中可存在總共不超過五個雜原子,至少一個碳原子必須在兩個氧原子之間及兩個硫原子之間或在氧與硫原子之間,且環整體必須具有化學穩定性。雜原子可視情況存在於所有可能之氧化階段(硫à亞碸-SO-、碸-SO 2-;氮àN-氧化物)中。在 雜環基中,不存在雜芳環,亦即無雜原子為芳族系統之一部分。
衍生自 環烷基環烯基芳基之直接結果為 雜環基由子基團 單環雜環基(=單環雜環)、 雙環雜環基(=雙環雜環)、 三環雜環基(=三環雜環)及 螺雜環基(=螺雜環)構成,其可以飽和或不飽和形式存在。
不飽和意謂所討論之環系統中存在至少一個雙鍵,但不形成雜芳族系統。在雙環雜環中,兩個環鍵聯在一起使得其共同具有至少兩個(雜)原子。在螺雜環中,一個碳原子(螺原子)同時屬於兩個環。
雜環基經取代,則取代可在各情況下以單取代或多取代形式彼此獨立地在所有載氫碳及/或氮原子上進行。 雜環基自身可作為取代基經由環系統之每個適合的位置鍵聯至分子。 雜環基上之取代基不對 雜環基之成員數進行計數,亦即 雜環基之給定成員數目僅係指形成 雜環基之環/環系統的原子數目。
雜環基之實例為四氫呋喃基、吡咯啶基、吡咯啉基、咪唑啶基、噻唑啶基、咪唑啉基、吡唑啶基、吡唑啉基、哌啶基、哌𠯤基、環氧乙基、氮丙啶基、氮雜環丁基、1,4-二㗁烷基、氮雜環庚基、二氮雜環庚基、𠰌啉基、硫代𠰌啉基、高𠰌啉基、高哌啶基、高哌𠯤基、高硫代𠰌啉基、硫代𠰌啉基- S-氧化物、硫代𠰌啉基- S,S-二氧化物、1,3-二氧戊環基、四氫哌喃基、四氫硫代哌喃基、[1,4]-氧氮雜環庚基、四氫噻吩基、高硫代𠰌啉基- S,S-二氧化物、㗁唑啶酮基、二氫吡唑基、二氫吡咯基、二氫吡𠯤基、二氫吡啶基、二氫嘧啶基、二氫呋喃基、二氫哌喃基、四氫噻吩基- S-氧化物、四氫噻吩基- S,S-二氧化物、高硫代𠰌啉基- S-氧化物、2,3-二氫氮唉、 2H-吡咯基、4 H-哌喃基、1,4-二氫吡啶基、8-氮雜-雙環[3.2.1]辛基、8-氮雜-雙環[5.1.0]辛基、2-氧雜-5-氮雜雙環[2.2.1]庚基、8-氧雜-3-氮雜-雙環[3.2.1]辛基、3,8-二氮雜-雙環[3.2.1]辛基、2,5-二氮雜-雙環[2.2.1]庚基、1-氮雜-雙環[2.2.2]辛基、3,8-二氮雜-雙環[3.2.1]辛基、3,9-二氮雜-雙環[4.2.1]壬基、2,6-二氮雜-雙環[3.2.2]壬基、1,4-二氧雜-螺[4.5]癸基、1-氧雜-3,8-二氮雜-螺[4.5]癸基、2,6-二氮雜-螺[3.3]庚基、2,7-二氮雜-螺[4.4]壬基、2,6-二氮雜-螺[3.4]辛基、3,9-二氮雜-螺[5.5]十一基、2.8-二氮雜-螺[4,5]癸基、2-氧雜-6-氮螺[3.3]庚基、5-氧雜-2-氮雜螺[3.4]辛基、6-氧雜-2-氮雜螺[3.4]辛基等。
其他實例為下文說明之結構,其可經由各載氫原子(與氫交換)連接:
Figure 02_image104
Figure 02_image106
Figure 02_image108
Figure 02_image110
較佳地,雜環基為4員至8員單環雜環基且具有一或兩個獨立地選自氧、氮及硫之雜原子。
較佳雜環基為:哌𠯤基、哌啶基、𠰌啉基、高𠰌啉基、吡咯啶基、氮雜環丁基、氧雜環丁基、四氫哌喃基、四氫呋喃基、2-氧雜-6-氮螺[3.3]庚基、5-氧雜-2-氮雜螺[3.4]辛基、6-氧雜-2-氮雜螺[3.4]辛基、2-氧雜-5-氮雜雙環[2.2.1]庚基、2,5-二氮雜雙環[2.2.1]庚基。
較佳單環雜環基為4員至7員單環雜環基且具有一或兩個獨立地選自氧、氮及硫之雜原子。
較佳單環雜環基為:哌𠯤基、哌啶基、𠰌啉基、吡咯啶基及氮雜環丁基。
較佳雙環雜環基為6員至10員雙環雜環基且具有一或兩個獨立地選自氧、氮及硫之雜原子。
較佳三環雜環基為9員三環雜環基且具有一或兩個獨立地選自氧、氮及硫之雜原子。
較佳螺雜環基為7員至11員螺雜環基且具有一或兩個獨立地選自氧、氮及硫之雜原子。
雜環基為另一(組合)基團之一部分(如在 雜環基胺基、 雜環基氧基或 雜環基烷基中),則 雜環基之以上定義亦適用。
雜環基之游離價數為飽和的,則獲得 雜環(其中所有關於 雜環基之定義對應地適用於雜環)。
術語 伸雜環基亦衍生自先前定義之 雜環基。不同於 雜環基伸雜環基為二價的且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 雜環基移除氫原子而獲得第二價數。對應基團為例如: 哌啶基及
Figure 02_image112
, 2,3-二氫-1 H-吡咯基及
Figure 02_image114
等。
伸雜環基為另一(組合)基團之一部分(如在HO- 伸雜環基胺基或H 2N- 伸雜環基氧基中),則 伸雜環基之以上定義亦適用。
雜芳基表示具有至少一個雜芳環之單環雜芳環或多環,其相較於對應 芳基環烷基( 環烯基)含有一或多個彼此獨立選自氮、硫及氧之相同或不同雜原子而非一或多個碳原子,其中所得基團必須為化學穩定的。 雜芳基存在之前提條件為雜原子及雜芳族系統。
雜芳基經取代,則取代可在各情況下以單取代或多取代形式彼此獨立地在所有載氫碳及/或氮原子上進行。 雜芳基自身可作為取代基經由環系統之各適合位置(碳及氮兩者)鍵聯至分子。 雜芳基上之取代基不對 雜芳基之成員數目進行計數,亦即 雜芳基之給定成員數目僅係指形成 雜芳基之環/環系統的原子數目。
雜芳基之實例為呋喃基、噻吩基、吡咯基、㗁唑基、噻唑基、異㗁唑基、異噻唑基、吡唑基、咪唑基、三唑基、四唑基、㗁二唑基、噻二唑基、吡啶基、嘧啶基、嗒𠯤基、吡𠯤基、三𠯤基、吡啶基- N-氧化物、吡咯基- N-氧化物、嘧啶基- N-氧化物、嗒𠯤基- N-氧化物、吡𠯤基- N-氧化物、咪唑基- N-氧化物、異㗁唑基- N-氧化物、㗁唑基- N-氧化物、噻唑基- N-氧化物、㗁二唑基- N-氧化物、噻二唑基- N-氧化物、三唑基- N-氧化物、四唑基- N-氧化物、吲哚基、異吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、苯并㗁唑基、苯并噻唑基、苯并異㗁唑基、苯并異噻唑基、苯并咪唑基、吲唑基、異喹啉基、喹啉基、喹㗁啉基、㖕啉基、呔𠯤基、喹唑啉基、苯并三𠯤基、吲
Figure 110140534-A0101-1
基、㗁唑并吡啶基、咪唑并吡啶基、㖠啶基、苯并㗁唑基、吡啶并吡啶基、嘧啶并吡啶基、嘌呤基、喋啶基、苯并噻唑基、咪唑并吡啶基、咪唑并噻唑基、喹啉基- N-氧化物、吲哚基- N-氧化物、異喹啉基- N-氧化物、喹唑啉基- N-氧化物、喹㗁啉基- N-氧化物、呔𠯤基- N-氧化物、吲𠯤基- N-氧化物、吲唑基- N-氧化物、苯并噻唑基- N-氧化物、苯并咪唑基- N-氧化物等。
其他實例為下文說明之結構,其可經由各載氫原子(與氫交換)連接:
Figure 02_image116
Figure 02_image118
較佳地,雜芳基為5員至6員單環或9員至10員雙環雜芳基,各具有1至4個獨立地選自氧、氮及硫之雜原子。
雜芳基為另一(組合)基團之一部分(如在 雜芳基胺基、 雜芳基氧基或 雜芳基烷基中), 雜芳基之以上定義亦適用。
雜芳基之游離價數為飽和的,則獲得 雜芳環(其中所有關於雜芳基之定義對應地適用於雜芳環)。
術語 伸雜芳基亦衍生自先前定義之 雜芳基。不同於 雜芳基伸雜芳基為二價的且需要兩個結合搭配物。形式上,藉由自 雜芳基移除氫原子獲得第二價數。對應基團為例如: 吡咯基及
Figure 02_image120
等。
伸雜芳基為另一(組合)基團之一部分(如在HO- 伸雜芳基胺基或H 2N- 伸雜芳基氧基中),則 伸雜芳基之以上定義亦適用。
經取代意謂直接結合至考慮中之原子之氫原子經另一原子或另一原子團( 取代基)置換。視起始條件(氫原子數目)而定,單取代或多取代可在一個原子上進行。經特定取代基取代僅在代取代之取代基及原子之准許價數彼此對應且取代產生穩定化合物(亦即,例如重排、環化或抵消不會自發地轉化化合物)時可行。
二價取代基,諸如=S、=NR、=NOR、=NNRR、=NN(R)C(O)NRR、=N 2或類似基團,僅可為碳原子上之取代基,而二價取代基=O及=NR亦可為硫及磷上之取代基。一般而言,取代可藉由二價取代基僅在環系統上進行且需要用兩個偕位氫原子(亦即,結合至取代前飽和之同一碳原子的氫原子)置換。因此,經二價取代基取代僅在環系統之基團-CH 2-、硫及磷原子處(僅=O基團或=NR基團,可能一或兩個=O基團或例如一個=O基團及一個=NR基團,各基團置換自由電子對)可行。
立體化學 / 溶劑合物 / 水合物:除非有特定指示,否則在整篇說明書及隨附申請專利範圍中,給定化學式或名稱將涵蓋互變異構物及所有立體、光學及幾何異構物(例如鏡像異構物、非鏡像異構物、 E/Z異構物等)及其外消旋物,以及不同比例之個別鏡像異構物之混合物、非鏡像異構物之混合物、或存在此類異構物及鏡像異構物之任何前述形式之混合物、以及其鹽(包括其醫藥學上可接受之鹽)及其溶劑合物(諸如水合物),包括游離化合物之溶劑合物及水合物或化合物之鹽的溶劑合物及水合物。
一般而言,可根據熟習此項技術者已知之合成原理來獲得實質上純的立體異構物,例如藉由分離對應混合物,藉由使用立體化學純起始物質及/或藉由立體選擇性合成。此項技術中已知如何製備光學活性形式,諸如藉由外消旋形式之解析或藉由合成,例如以光學活性起始物質起始及/或藉由使用對掌性試劑。
本發明之鏡像異構性純化合物或中間物可經由不對稱合成製備,例如藉由製備及後續分離可藉由已知方法(例如藉由層析分離或結晶)分離的適當非鏡像異構化合物或中間物,及/或藉由使用對掌性試劑,諸如對掌性起始物質、對掌性催化劑或對掌性助劑製備。
此外,熟習此項技術者已知如何自對應外消旋混合物製備鏡像異構性純的化合物,諸如藉由在對掌性固定相上層析分離對應外消旋混合物,或藉由使用適當解析劑來解析外消旋混合物,例如藉助於外消旋化合物與光學活性酸或鹼形成非鏡像異構鹽,隨後解析鹽及自鹽釋放所需化合物,或藉由用光學活性對掌性輔助試劑衍生對應外消旋化合物,隨後進行非鏡像異構物分離及移除對掌性輔助基團,或藉由動力學解析外消旋物(例如藉由酶解析);藉由在適合條件下自同形異向晶體之聚結物進行對映體選擇性結晶,或藉由在光學活性對掌性助劑之存在下自適合溶劑進行(分級)結晶。
片語「 醫藥學上可接受」在本文中用於指代在合理醫學判斷範疇內,適用於與人類及動物之組織接觸而無過度毒性、刺激、過敏反應或其他問題或併發症,且與合理益處/風險比相匹配的彼等化合物、材料、組合物及/或劑型。
如本文所用,「 醫藥學上可接受之鹽」係指所揭示化合物之衍生物,其中母體化合物藉由製造其酸或式鹽而改質。醫藥學上可接受之鹽的實例包括但不限於鹼性殘基(諸如胺)之無機酸鹽或有機酸鹽;酸性殘基(諸如羧酸)之鹼金屬鹽或有機鹽;及類似鹽。
舉例而言,此類鹽包括來自以下之鹽:苯磺酸、苯甲酸、檸檬酸、乙磺酸、反丁烯二酸、龍膽酸、氫溴酸、氫氯酸、順丁烯二酸、蘋果酸、丙二酸、杏仁酸、甲磺酸、4-甲基-苯磺酸、磷酸、水楊酸、丁二酸、硫酸及酒石酸。
可與來自氨、L-精胺酸、鈣、2,2'-亞胺基雙乙醇、L-離胺酸、鎂、 N-甲基-D-葡糖胺、鉀、鈉及參(羥甲基)-胺基甲烷之陽離子形成其他醫藥學上可接受之鹽。
本發明之醫藥學上可接受之鹽可由含有鹼性或酸性部分之母體化合物藉由習知化學方法合成。一般而言,此類鹽可藉由使此等化合物之游離酸或游離鹼形式與足量適當鹼或酸在水或有機稀釋劑(如乙醚、乙酸乙酯、乙醇、異丙醇或乙腈或其混合物)中反應來製備。
除上文所提及之彼等鹽以外,例如適用於純化或分離本發明化合物的其他酸之鹽(例如,三氟乙酸鹽)亦為本發明之一部分。
在諸如以下之表示中
Figure 02_image122
字母A具有環指代功能以易於例如指示所討論之環與其他環之連接。
在諸如以下之表示中
Figure 02_image124
環A中之點線圓形表示環A中環成員之間的各鍵可獨立地選自單鍵、雙鍵或(雜)芳族鍵。(雜)芳族鍵為包含在單鍵與雙鍵之間具有鍵次序的非定域結合電子的鍵。較佳地,環A為(雜)芳族環。
基團或取代基通常選自具有對應基團名稱(例如, R a R b 等)之許多替代性基團/取代基。若在分子之不同部分重複使用此類基團定義本發明化合物,則應指出各個使用應視為完全彼此獨立。
出於本發明之目的, 治療有效量意謂能夠消除疾病症狀或者預防或緩解此等症狀或延長所治療患者之存活期的物質之量。 縮寫清單
Ac 乙醯基
AcCN 乙腈
aq. 水、水溶液
ATP 三磷酸腺苷
Bn 苯甲基
Boc 三級丁氧基羰基
Bu 丁基
c 濃度
CSA 樟腦磺酸
d
dba 二苯亞甲基丙酮
TLC 薄層層析
Davephos 2-二甲基胺基-2'-二環己基胺基膦基聯苯
DBA 二苯亞甲基丙酮
DCM 二氯甲烷
DEA 二乙胺
DEAD 偶氮二甲酸二乙酯
DIPEA N-乙基- N, N-二異丙胺(Hünig氏鹼)
DMAP 4- N, N-二甲胺基吡啶
DME 1,2-二甲氧基乙烷
DMF N, N-二甲基甲醯胺
DMSO 二甲亞碸
DPPA 二苯基磷醯基疊氮化物
dppf 1.1´-雙(二苯基膦基)二茂鐵
EDTA 乙二胺四乙酸
EGTA 乙二醇四乙酸
eq. 當量
ESI 電噴離子化
Et 乙基
Et 2O 乙醚
EtOAc 乙酸乙酯
EtOH 乙醇
h 小時
HATU 六氟磷酸O-(7-氮雜苯并三唑-1-基)- N, N, N', N'-四甲基-
Figure 110140534-A0101-2
HPLC 高效液相層析
IBX 2-二氧碘基苯甲酸
i
conc. 濃縮
LAH 氫化鋰鋁
LC 液相層析
LiHMDS 雙(三甲基矽基)醯胺化鋰
sln. 溶液
Me 甲基
MeOH 甲醇
min 分鐘
MPLC 中壓液相層析
MS 質譜
MTBE 甲基三級丁基醚
NBS N-溴-丁二醯亞胺
NIS N-碘-丁二醯亞胺
NMM N-甲基𠰌啉
NMP N-甲基吡咯啶酮
NP 正相
n.a. 不適用
PBS 磷酸鹽緩衝生理鹽水
Ph 苯基
Pr 丙基
Py 吡啶
rac 外消旋
red. 還原
Rf (R f) 滯留因子
RP 逆相
rt 環境溫度
SEM 三甲基矽烷基乙氧基甲基
SFC 超臨界流體層析
S N 親核取代
T3P 丙基膦酸酐
TBAF 氟化四丁銨
TBDMS 三級丁基二甲基矽烷基
TBME 三級丁基甲基醚
TBTU 四氟硼酸O-(苯并三唑-1-基)-N,N,N',N'-四甲基-
Figure 110140534-A0101-2
tBu 四丁基
TEA 三乙胺
temp. 溫度
tert 三級
Tf 三氟甲磺酸酯
TFA 三氟乙酸
THF 四氫呋喃
TMS 三甲基矽烷基
t Ret. 滯留時間(HPLC)
TRIS 參(羥甲基)-胺基甲烷
TsOH 對甲苯磺酸
UV 紫外線
本發明之特徵及優勢將根據以下詳述實例變得顯而易見,其藉由實例說明本發明之原理而不限定其範疇: 製備本發明化合物 綜述除非另有說明,否則所有反應使用化學實驗室中常用之方法在商業上可獲得的設備中進行。對空氣及/或水分敏感之起始物質儲存在保護性氣體下,且與此對應的反應及操作在保護性氣體(氮氣或氬氣)下進行。
本發明化合物根據IUPAC規則使用軟體ChemDraw來命名。若化合物由結構式及由其命名表示,則在存在衝突之情況下,以結構式為准。
微波反應在由Biotage製造之引發器/反應器中或在由CEM製造之Explorer中或在由Anton Paar製造之Synthos 3000或Monowave 3000中,在密封容器(較佳2、5或20 mL)中較佳在攪拌下進行。
層析薄層層析在由Merck製造之玻璃(具有螢光指示劑F-254)上之現成矽膠60 TLC板上進行。
根據本發明之實例化合物之 製備型高壓層析 (HPLC)用由Waters製造之管柱(名稱:Sunfire C18 OBD,10 µm,30×100 mm 部件號186003971;X-Bridge C18 OBD,10 µm,30×100 mm 部件號186003930)進行。使用例如不同梯度之H 2O/AcCN溶離化合物,其中將0.2% HCOOH添加至水(酸性條件)。對於在鹼性條件下之層析,例如根據以下配方使水呈鹼性:用H 2O將5 mL碳酸氫銨溶液(158 g至1 L H 2O)及2 mL 32%氨 (aq)補充至1 L。
根據本發明之中間物及實例化合物的 超臨界流體層析 (SFC)在具有以下管柱之JASCO SFC系統上進行:Chiralcel OJ (250×20 mm,5 µm)、Chiralpak AD (250×20 mm,5 µm)、Chiralpak AS (250×20 mm,5 µm)、Chiralpak IC (250×20 mm,5 µm)、Chiralpak IA (250×20 mm,5 µm)、Chiralcel OJ (250×20 mm,5 µm)、Chiralcel OD (250×20 mm,5 µm)、Phenomenex Lux C2 (250×20 mm,5 µm)。
用例如由Waters及Phenomenex製造之管柱進行中間化合物之 分析型 HPLC ( 反應監測 )。在各情況下,分析型設備亦具備質量偵測器。
HPLC 質譜 /UV 光譜使用由Agilent製造之HPLC-MS設備(具有質量偵測器之高效液相層析)產生表徵根據本發明之實例化合物的滯留時間/MS-ESI +。注入峰值下溶離之化合物的滯留時間t Ret.= 0.00。
HPLC- 方法 ( 製備型 ) NP 1NP純化:     玻璃管柱 管柱:          100-200篩孔尺寸矽膠 溶劑:          A:DCM;B:MeOH 偵測:          KMnO 4流量:          100 mL/min 梯度:          0 - 60 min:1 % B 60 - 100 min:可變的 100 - 200 min:10 % B 製備型 HPLC 1 HPLC:       333及334泵 管柱:          Waters XBridge C18 OBD,10 µm,30×100 mm,部件號186003930 溶劑:          A:10 mM NH 4HCO 3於H 2O中;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          UV/Vis-155 流量:          50 mL/min 梯度:          0.00 - 1.50 min:1.5 % B 1.50 - 7.50 min:可變的 7.50 - 9.00 min:100 % B 製備型 HPLC 3 HPLC/MS: 半製備型HPLC Agilent 管柱:          Triart Prep C18,10 µm,30×100 mm,部件號3010000120 溶劑:          A:H 2O + 0.2 % HCOOH;B:AcCN (HPLC級) + 0.2 % HCOOH 偵測:          UV/Vis-155 質量:          Agilent G6120B MSD - API-ES,正模式範圍120-820 流量:          50 mL/min 梯度:          0.00 - 0.80 min:28 % B 0.80 - 6.80 min:可變的 6.80 - 9.00 min:98 % B
HPLC- 方法 ( 分析型 ) LCMS3, basisch_1 HPLC:       Agilent 1100系列 MS:              Agilent LC/MSD (API-ES +/- 3000 V,四極桿,G6140) 管柱:          Waters,XBridge C18,2.5 µm,2.1×20 mm管柱 溶劑:          A:20 mM NH 4HCO 3/NH 3於H 2O中pH 9;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   120 - 900 m/z 流量:          1.00 mL/min 管柱溫度:   60 ℃ 梯度:          0.00 - 1.50 min:10 % à 95 % B 1.50 - 2.00 min:95 % B 2.00 - 2.10 min:95 % à 10 % B VAB HPLC:       Agilent 1100/1200系列 MS:              Agilent LC/MSD SL 管柱:          Waters XBridge BEH C18,2.5 µm,2.1×30 mm XP 溶劑:          A:5 mM NH 4HCO 3/19 mM NH 3於H 2O中;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   100 - 1200 m/z 流量:          1.40 mL/min 管柱溫度:   45 ℃ 梯度:          0.00 - 1.00 min:5 % B à 100 % B 1.00 - 1.37 min:100 % B 1.37 - 1.40 min:100 % à 5 % B VAS HPLC:       Agilent 1100/1200系列 MS:              Agilent LC/MSD SL 管柱:          YMC TriART C18 2.0×30mm,3 µm 溶劑:          A: H2O + 0.2 %甲酸;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   105 - 1200 m/z 流量:          1.40 mL/min 管柱溫度:   35 ℃ 梯度:          0.0 min:5 % B 0.0 - 1.00 min:5 % B à 100 % B 1.00 - 1.37 min:100 % B 1.37 - 1.40 min:100 % B à 5 % B TCG_LCMS, basisch_1 HPLC:       Waters ACQUITY UPLC MS:              來自Waters之ACQUITY SQD質譜儀 管柱:          YMC triart Waters,1.8 µm,2.1×33 mm 溶劑:          A:10 mM NH 4OAc pH 6.5;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   100 - 1000 m/z 流量:          1.00 mL/min 管柱溫度:   50 ℃ 梯度:          0.00 - 0.75 min:2 % B 0.75 - 1.00 min:2 % à 10 % B 1.00 - 2.00 min:10 % à 98 % B 2.00 - 2.50 min:98 % B 2.50 - 2.90 min:98 % B 2.90 - 3.00 min:98 %à2 % B TCG_LCMS, basisch_2 HPLC:       Shimadzu Prominance MS:              LCMS/MS-API Q trap 管柱:          Waters XBridge C18;4.6×50 mm,5 µm 溶劑:          A:10 mM NH 4OAc pH 6.5;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   100 - 800 m/z 流量:          1.20 mL/min 管柱溫度:   25 ℃ 梯度:          0.00 - 0.01 min:0 % à 10 % B 0.01 - 1.50 min:10 % à 30 % B 1.50 - 3.00 min:30 % à 90 % B 3.00 - 4.00 min:90 % B 4.00 - 5.00 min:90 % à 10 % B GVK_LCMS_19HPLC:       Agilent RRLC MS:              Agilent Technologies - 6130四極桿LC/MS 管柱:          Waters XBridge C18,4.6×75 mm,3.5 µm 溶劑:          A:10 mM NH 4OAc;B:AcCN (HPLC級) 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   70 - 1200 m/z 流量:          2.0 mL/min 管柱溫度:   35 ℃ 梯度:          0.00 - 0.20 min:10 % B 0.20 - 2.50 min:10 % à 75 % B 2.50 - 3.00 min:75 % à100 % B 3.00 - 4.80 min:100 % B 4.80 - 5.00 min:100 % à 5 % B GVK_LCMS_41UPLC/MS: Waters Acquity-UPLC-SQ Detector-2 管柱:          AQUITY UPLC BEH C18 1.7 µm,2.1×50 mm 溶劑:          A:0.07 %甲酸/AcCN;B:0.07 %甲酸/水 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   100 - 1500 m/z 流量:          0.6 mL/min 管柱溫度:   35 ℃ 梯度:          0.00 - 0.30 min:97 % B 0.30 - 2.20 min:97 % à 2 % B 2.20 - 3.30 min:2 % B 3.30 - 4.50 min:2% à 97 % B 4.50 - 4.51min:97 % B GVK_LCMS_61UPLC/MS: Waters Acquity-二元溶劑管理器-UPLC-SQ Detector-2 管柱:          AQUITY UPLC BEH C18 1.7 µm, 2.1×50 mm 溶劑:          A:0.07 %甲酸/AcCN;B:0.07 %甲酸/水 偵測:          MS:正及負模式 質量範圍:   100 - 1500 m/z 流量:          0.6 mL/min 管柱溫度:   35 ℃ 梯度:          0.00 - 0.40 min:97 % B 0.40 - 2.50 min:97 % à 2 % B 2.50 - 3.40 min:2 % B 3.40 - 3.50 min:2 % à 97 % B 3.50 - 4.00 min:97 % B XB5AHPLC:       Agilent HPLC 1100/1200 管柱:          Waters XBridge BEH C18,4.6×50 mm,p/n 186006037 溶劑:          A: H 2O + 0.01 % HClO 4;B:100 % AcCN (HPLC級) 流量:          1.50 mL/min 管柱溫度:   30 ℃ 梯度:          0.00 - 3.50:10 % B 3.50 - 4.50 min:10 % à 95 % B 4.50 - 5.00 min:10 % B
根據本發明之化合物及中間物係藉由下文描述之合成方法製備,其中通式之取代基具有上文給出之含義。此等方法意欲作為本發明之說明,而不會限制其主題及此等實例所主張之化合物之範疇。在未描述起始化合物之製備之情況下,其為商業上可獲得的或其合成描述於先前技術中或其可類似於已知先前技術化合物或本文所描述之方法製備,亦即合成此等化合物在有機化學工作者之技能內。文獻中所描述之物質可根據公開之合成方法製備。
通用反應流程及合成途徑之概述根據本發明之化合物( I)可使用布赫瓦爾德-哈特維希(BUCHWALD-HARTWIG)交叉偶合反應(à流程1),以1 H-吡唑并[4,3-c]吡啶 A-1及不同鹵化建構嵌段 B-1為起始物質,使用鈀源(例如參-(二苯亞甲基丙酮)-二鈀(0))及膦配體(例如三級丁基XPhos)合成(參見例如WO 2019/105886)。
流程 1
Figure 02_image126
所需 A-1建構嵌段可以吡啶衍生物 A-7為起始物質合成(à流程2)。還原酯基,之後氧化,得到甲醛 A-5。與單水合肼進行閉環反應(參見例如WO 2015/94929),之後保護 A-4中之吲唑氮(例如用Boc或THP基團),得到經保護吲唑 A-3。與硼酸酯 C-1進行鈴木偶合(參見例如J. Org. Chem. 2007, 72, 4067-4072;Org. Lett., 2011, 13, 252-255;J. Org. Chem. 2004, 69, 7779-7782)或與對應錫烷 C-2進行施蒂勒偶合(參見例如WO 2003/87037),之後去保護,得到 1H-吡唑并[4,3-c]吡啶 A-1。或者,可以丙二醯氯及腈類( D-4)為起始物質獲得甲醛 A-5。隨後使所得二羥基吡啶 D-3經歷氯化條件,得到二氯化物 D-2(參見例如WO 2018/93569、WO 2014/52563、J. Med. Chem. 2009, 52, 7473-7487)。還原腈基,之後水解,得到醛 A-5
流程 2
Figure 02_image128
關鍵建構嵌段 B-1例如可經由三種不同合成策略以 B-3為起始物質獲得(à流程3a): 具有N鍵聯殘基 R 4 之建構嵌段 B-1可用過量對應N-親核試劑/胺 B-2在純淨條件下經由親核芳香族取代獲得。
具有O鍵聯殘基 R 4 之建構嵌段 B-1可經由於適合溶劑中用過量O-親核試劑/醇 B-2及例如氫化鈉之強鹼進行的親核芳香族取代獲得(參見例如US 2016/207924)。
R 4 之C-C偶合可用殘基 R 4 之硼酸衍生物 B-2之鈴木偶合使用鈀催化劑(例如[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯鈀(II))實現。
流程 3a
Figure 02_image130
建構嵌段 B-1之更特定例示性實施例如下(à流程3b): 流程 3b
Figure 02_image132
視雙環系統之確切性質而定,存在不同關鍵建構嵌段 B-3合成方法: 建構嵌段 B-3a可經由以下順序獲得(à流程4): 將殘基 R 10 引入起始物質 B-9-a中(例如經由用含對應碘化物及碳酸鉀之AcCN烷化或還原胺化,à B-8),之後用鐵還原硝基,獲得中間物 B-7。隨後用硫羰基二咪唑經由閉環反應獲得 B-6a(參見例如WO 2016/196840)。用亞硫醯氯進行氯化(參見例如WO 2003/74515)得到 B-5a。隨後可最後經由用親核試劑/胺 B-4進行親核芳香族取代獲得建構嵌段 B-3a(例如使用碳酸鉀及AcCN作為溶劑-參見例如J. Med. Chem. 2007,第50卷, # 26, 第6450 - 6453頁)。或者,可自2,4,6-三氯吡啶開始,用胺經由S NAr獲得中間物 B-5a,得到胺基吡啶 E-4(參見例如WO 2006/53166、WO 2008/92942、New J. Chem. 2016, 第40卷, # 11, 第9194 - 9204頁、WO 2006/122137)。隨後使 E-4碘化,得到 E-3,隨後可與異氰酸氯磺醯酯反應,得到脲 E-2(參見例如Org. Lett., 2006,第8卷, # 15, 第3311 - 3314頁)。厄爾曼-戈德伯格(ULLMAN-GOLDBERG)胺化得到側氧基氮雜苯并咪唑 B-3f,其可最終氯化,得到三氯化物 B-5a
流程 4
Figure 02_image134
在替代方法(à流程5)中,經由用甲酸 B-11醯胺化成中間物 B -10及在酸性條件下進行環縮合來對中間物 B-7執行閉環(參見例如Bioorg. Med. Chem. Lett., 2011, 第21卷, # 14, 第4197 - 4202頁)。在又一變化形式中,例如用聚磷酸使甲酸 B-11活化,且可在單步/一鍋式反應中閉環/縮合成 B-3a。在 R 7 = H之情況下,衣殼用原甲酸三甲酯(TMOF)作為C1酸等效物進行閉環。
流程 5
Figure 02_image136
建構嵌段 B-3b可經由以下順序獲得(à流程6): 一種可能之反應順序開始於還原起始物質 B-13-a之硝基(例如用鐵)。可用例如乙基黃酸鉀(à B-6b;參見例如WO 2015/104688)進行 B-12之閉環反應。用硫醯氯進行氯化(參見例如WO 2013/56679)得到 B-5b。隨後可最後經由用親核試劑/胺 B-4進行親核芳香族取代獲得建構嵌段 B-3b(例如使用碳酸鉀及AcCN作為溶劑-參見例如J. Med. Chem. 2007,第50卷, # 26, 第6450 - 6453頁)。
流程 6
Figure 02_image138
建構嵌段 B-3c*可經由以下順序獲得(à流程7): 使起始物質 B-18在吡咯環上烷基化,得到 B-17,隨後用水合肼處理,得到 B-16。在乙酸條件下之閉環反應得到 B-15,隨後用亞硝酸鈉及鹽酸處理,得到 B-14(參見例如Monatshefte für Chemie 2016, 第147卷, # 4, 第783 - 789頁)。在最終步驟中,可藉由用氧氯化磷及五氯化磷之混合物進行氯化反應獲得 B- 3c*
流程 7
Figure 02_image140
建構嵌段 B-3d*可經由以下順序獲得(à流程8): 產生建構嵌段 B-3d*之反應順序開始於用例如 n-BuLi及甲酸乙酯使 B-24甲醯化,得到甲醛 B-23(參見例如WO 2015/25026)。進行格林納反應(GRIGNARD reaction),接著氧化,得到中間物 B-21(參見例如WO 2017/42100)。可經由用對應甘胺酸酯 B-20與例如含DIPEA之EtOH進行親核芳香族取代獲得 B-19。在鹼性條件下進行結束閉環反應,得到 B-3d*
流程 8
Figure 02_image142
建構嵌段 B-3e*可經由以下順序獲得(à流程9): 建構嵌段 B-3e*之多步驟反應順序開始於 B-31之硝化,接著 B-30與草酸二酯 B-29反應,得到 B-28(參見例如WO 2004/104001)。還原硝基使得 B-27閉環(參見例如WO 2012/80450)。用含 N-碘丁二醯亞胺之DCM碘化得到 B-26,之後用對應烷基鹵化物烷化,得到 B-25。該順序以鈴木偶合結束以引入 R 9 部分,得到 B-3e*(參見例如US 2013/210818)。
流程 9
Figure 02_image144
建構嵌段 B-3c*B-3d*B-3e*分別為更一般建構嵌段 B-3cB-3dB-3e之實施例,其中 R 7 = -C(=O)OR*,其可轉化成中間物 B-1且隨後與中間物 A-1偶合。因此獲得之根據本發明之化合物( I)隨後可藉由游離羧基之皂化及衍生化/醯胺化而進一步改質。
建構嵌段 B-3f可經由以下順序獲得(à流程10): 再次以二氯吡啶 B-7起始(參見流程4及5),可經由閉環獲得中間物 B-32。例如藉由用含對應烷基化劑(如烷基碘)及鹼(例如氫化鈉)之溶劑(如DMF)烷化來引入殘基 R 6 ,得到 B-3f
流程 10
Figure 02_image146
建構嵌段 B-3g可經由以下順序獲得(à流程11): 以三氯吡啶化合物 B- 34為起始物質,藉由使用對應肼 B-33,例如在如MeOH之溶劑中實現閉環及殘基 R 10 引入。
流程 11
Figure 02_image148
建構嵌段 B-3h可經由以下順序獲得(à流程12): 以 B-36之重氮化開始,接著進行閉環,可獲得中間物 B-3h(參見例如WO 2007/117778)。例如藉由用含對應烷基化劑 B-35(如硫酸二甲酯)及鹼(例如碳酸鉀)之溶劑(如AcCN)烷化來引入其他殘基 R 6 ,得到其他中間物 B-3h
流程 12
Figure 02_image150
合成中間物 A-1 合成 A-1-a
Figure 02_image152
合成 A-6-a 實驗程序在0℃下向 A-7-a(100.0 g;42.70 mmol)於THF (100.0 mL)中之攪拌溶液中添加DIBAL-H (854.0 mL;85.40 mmol)。在rt下攪拌反應混合物4 h。用羅謝爾鹽(Rochelle salt)(1000 mL)淬滅反應物且隨後添加EtOAc (1000 mL)。反應混合物經由矽藻土墊過濾且用EtOAc (1000 mL)洗滌。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/石油醚20:80)純化粗產物,得到所需產物 A-6-a(HPLC-MS:(M+H) += 192.1,t Ret.= 1.60 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 A-5-a 實驗程序在rt下向 A-6-a(70.0 g;36.50 mmol)於DCM (100.0 mL)中之攪拌溶液中添加戴斯-馬丁高碘烷(DESS-MARTIN periodinane)(170.0 g;40.1 mmol)。在rt下攪拌反應混合物3 h。用飽和NaHCO 3溶液(2000 mL)淬滅反應混合物且攪拌15 min。反應混合物經由矽藻土墊過濾且用DCM (1000 mL)洗滌。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/石油醚10:80)純化粗產物,得到所需產物 A-5-a(HPLC-MS:(M+H) += 190.0,t Ret.= 2.00 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 A-4-a 實驗程序在0℃下向 A-5-a(46.0 g,24.2 mmol)於DMA (460.0 mL)中之攪拌溶液中添加單水合肼(63.7 mL;121.0 mmol)。在80℃下攪拌反應混合物3 h。將反應混合物倒入冰水(800 mL)中且用EtOAc (3×)萃取。合併之有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/石油醚85:15)純化粗產物,得到所需產物 A-4-a(HPLC-MS:(M+H) += 168.1,t Ret.= 1.54 min,方法GVK_LCMS_19)。
合成 A-3-a 實驗程序在rt下向 A-4-a(25.0 g;14.9 mmol)於THF (250.0 mL)中之攪拌溶液中添加TEA (24.5 mL,17.9 mmol)及Boc酸酐(41.11 mL;17.9 mmol)。在rt下攪拌反應混合物16 h。將反應混合物倒入冰水(500 mL)中且用EtOAc (3×)萃取。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/石油醚20:80)純化粗產物,得到所需產物 A-3-a(HPLC-MS:(M+H) += 268,t Ret.= 1.31 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 A-2-a 實驗程序A-3-a(34.0 g;12.7 mmol)於1,4-二㗁烷(340.0 mL)中之攪拌溶液中添加 C-1-a(35.83 g;15.2 mmol)、碳酸銫(2.0 M於水中;124.14 g;38.1 mmol)、PdCl 2(dppf)(10.37 g;1.13 mmol,0.1當量)。在100℃下攪拌反應混合物1 h。反應混合物經由矽藻土墊過濾且用EtOAc (2×250 mL)洗滌。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑,得到所需產物 A-2-a(HPLC-MS:(M+H) += 341,t Ret. = 1.14 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 A-1-a 實驗程序在0℃下向 A-2-a(50.0 g;14.7 mmol)於1,4-二㗁烷(500.0 mL)中之攪拌溶液中添加含4.0 M之二㗁烷(250.0 mL)。在rt下攪拌反應混合物6 h。濾出反應混合物且用EtOAc (2×200 mL)洗滌。將所獲得固體溶解於水(400 mL)中且冷卻至0℃,且藉由使用1 N NaOH水溶液將pH調節至9。濾出沈澱物,用二乙醚(2×250 mL)洗滌,得到 A-1-a(HPLC-MS:(M+H) += 241,t Ret.= 0.59 min,方法LCMS3, basisch_1)
替代地合成建構嵌段A-4-a
Figure 02_image154
合成 D-3-a 實驗程序以將內部溫度控制在15℃以下的速率向丙二醯氯(5.00 g,34.409 mmol,1.0當量)於乙腈(37.5 mL)中之溶液中添加 D-4-a(2.825 g,34.409 mmol,1.0當量)於乙腈(21.0 mL)中之溶液。在20℃下於氮氣下攪拌反應混合物15 h,隨後過濾且用乙腈(19.5 mL)沖洗。在50℃下在氮氣排放下真空乾燥所得固體,得到所需產物 D-3-a( 1H-NMR (500 MHz, DMSO-d6) δ 5.77 (1H, s), 2.37 (3H, s))。
合成 D-2-a 實驗程序在20℃下向 D-3-a(6.61 g,19.752 mmol,1.0當量)及氯化苯甲基三乙銨(4.50 g,19.752 mmol,1.0當量)於乙腈(13.2 mL)中之懸浮液中添加氧氯化磷(10.0 g,65.181 mmol,3.3當量)。在20℃下攪拌混合物3 h,隨後加熱至78℃,保持8 h。使混合物冷卻至22℃,且添加甲苯(46.3 mL)。使混合物冷卻至15℃,隨後以將內部溫度控制在25℃以下的速率添加水(15.8 mL)。以將溫度保持為25℃以下之速率添加氫氧化鈉(50%於水中,12.64 g,158.015 mmol,8.0當量)於水(9.9 mL)中之溶液,以達到pH 7.4。混合物經由矽藻土過濾,用甲苯(27.8 mL)沖洗。移除水相,且用水(9.9 mL)洗滌有機相。使有機相循環經過碳過濾器,隨後藉由真空蒸餾移除甲苯。添加甲基環己烷(66 mL),且繼續真空蒸餾。將混合物加熱至70℃直至獲得澄清溶液為止,隨後使混合物冷卻至20℃。過濾混合物且用庚烷(13.2 mL)沖洗固體,得到所需產物 D-2-a( 1H-NMR (500 MHz, DMSO-d6) δ 8.01 (1H, s), 2.70 (3H, s))。
合成 A-3-a 實驗程序 ( 經由 A-4-a A-5-a)以將內部溫度控制在-20℃以下的速率在-30℃下向 D-2-a(3.04 g,15.622 mmol,1.0當量)於庚烷(30.4 mL)中之溶液中添加含1 M氫化二異丁基鋁之庚烷(12.1 g,17.184 mmol,1.1當量)。在-25℃下攪拌混合物50 min,隨後以將內部溫度控制在-20℃以下的速率添加EtOAc (1.1 g,12.497 mmol,0.8當量)。使混合物升溫至-10℃且攪拌15 min。以將內部溫度控制在5℃以下的速率添加酒石酸(2.58 g,17.184 mmol,1.1當量)於水(11.4 mL)中之溶液。使混合物升溫至5℃且攪拌15 min。添加四水合酒石酸鉀鈉(4.41 g,15.622 mmol,1.0當量)於水(11.4 mL)中之溶液以使pH為6.5,從而使混合物升溫至rt。添加乙酸異丙酯(18 mL),且在rt下攪拌混合物1.5 h。移除水相,且藉由真空蒸餾移除庚烷/乙酸異丙酯直至留下約9 mL為止,隨後添加EtOH (30 mL)且繼續蒸餾直至留下約12 mL (à A-5-a)為止。向 A-5-a EtOH中之此溶液中添加水合肼(55%於水中,4.24 g,46.865 mmol,3.0當量),且在78℃下加熱混合物12 h。使混合物冷卻至rt,隨後添加2-甲基四氫呋喃(30 mL)及水(15 mL),攪拌15 min,隨後移除水相。藉由真空蒸餾移除2-甲基四氫呋喃直至留下約6 mL為止,隨後添加乙腈(30 mL)且繼續蒸餾直至留下約6 mL (à A-4-a)為止。使混合物冷卻至rt,且隨後添加TEA (4.74 g,46.865 mmol,3.0當量),之後添加含DMAP (0.191 g,1.562 mmol,0.1當量)之乙腈(1.5 mL)及含二碳酸二三級丁酯(4.43 g,20.308 mmol,1.3當量)之乙腈(6.0 mL)。在rt下使混合物老化40 min,隨後經1 h添加水(24 mL)。在rt下攪拌混合物1 h,隨後過濾以收集 A-3-a。用水(6 mL)沖洗固體,隨後在40℃下真空乾燥( 1H-NMR (500 MHz, CDCl 3) δ 8.22 (s, 1H), 7.93 (s, 1H), 2.83 (s, 3H), 1.73 (s, 9H))。
合成 A-1-b
Figure 02_image156
合成 A-3-b 實驗程序A-4-a(3.0 g;167.6 mmol)於EtOAc (70.0 mL)中之懸浮液中添加 p-TsOH (0.3 g;172.1 mmol)及2,3-二氫- 4H-哌喃(4.5 g;84 mmol)且在60℃下攪拌3 h。用水稀釋反應混合物且用EtOAc萃取。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(環己烷/EtOAc 10:50)純化粗產物,得到所需產物 A-3-b(HPLC-MS: (M+H) += 252.0,t Ret.= 0.850 min,方法VAB)。
合成 A-2-b 實驗程序A-3-b(179.3 mg;0.44 mmol)於DMF (4.0 mL)中之攪拌溶液中添加 C-2-a(100.0 mg;0.39 mmol)、碘化銅(I)(3.0 mg;0.02 mmol)、氟化銫(120.7 mg;0.80 mmol)、PdCl 2(dppf)(30.6 mg;0.04 mmol)。在100℃下於氬氣下攪拌反應混合物3 h。將反應混合物倒入水中且用DCM萃取。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由逆相層析HPLC 1純化粗產物,得到所需產物 A-2-b(HPLC-MS: (M+H) += 337,t Ret.= 0.852 min,方法VAB)。
合成 A-1-b 實驗程序在rt下向 A-2-b(54.0 mg;0.16 mmol)於DCM (1.5 mL)中之攪拌溶液中添加含4.0 M HCl之二㗁烷(0.8 mL)。在rt下攪拌反應混合物3 h。減壓濃縮反應混合物,得到 A-1-b(HPLC-MS:(M+H) += 253.3,t Ret.= 0.623 min,方法VAB)。
合成 C-2-a
Figure 02_image158
在rt下向 C-3-a(400.0 mg;1.62 mmol)於脫氣甲苯中之攪拌溶液中添加六丁基二錫(4.7 g;8.1 mmol)、DIPEA (1.49 mL,8.1 mmol)及Pd(PPh 3) 4且在微波反應器中在130℃下攪拌2 h。減壓濃縮反應混合物且將粗物質溶解於EtOAc中,用水(2×10 mL)洗滌。有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(己烷/EtOAc)純化粗產物,得到所需產物 C-2-a(HPLC-MS: (M+H) += 412.2,t Ret.= 2.33 min,方法GVK_LCMS_41)
以下中間物 A-1(表1)可以類似方式以不同建構嵌段 A-7 A-3 C-1C-2為起始物質而獲得。 1
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
A-1-a
Figure 02_image160
(M+H) += 241; t Ret.= 0.59 LCMS3, basisch_1
A-1-b
Figure 02_image162
(M+H) += 253; t Ret.= 0.623 VAB
A-1-c
Figure 02_image164
(M+H) += 251; t Ret.= 0.78 LCMS3, basisch_1
A-1-d
Figure 02_image166
(M+H) += 267; t Ret.= 0.81 LCMS3, basisch_1
A-1-e
Figure 02_image168
(M+H) += 269; t Ret.= 0.69 VAB
A-1-f
Figure 02_image170
(M+H) += 251; t Ret.= 0.67 VAB
合成中間物 B-1 合成 B-1a-a
Figure 02_image172
向起始物質 B-3a-a(1.5 g,4.36 mmol)添加 B-2-a(3.84 mL,43.6 mmol)。在微波照射下在140℃下攪拌反應混合物1 h。使用DCM/MeOH藉由正相層析純化,得到純產物 B-1a-a
以下中間物 B-1aB-1bB-1c*B-1d*B-1e*(表2)可以類似方式以不同建構嵌段 B-3aB-3bB-3c*B-3d*B-3e*為起始物質而獲得。 2
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-1a-a
Figure 02_image174
(M+H) += 395; t Ret.= 0.899 VAB
B-1a-b
Figure 02_image176
(M+H) += 407; t Ret.= 0.859 VAB
B-1a-c
Figure 02_image178
(M+H) += 407; t Ret.= 0.861 VAB
B-1a-d
Figure 02_image180
(M+H) += 281; t Ret.= 0.857 VAB
B-1a-e
Figure 02_image182
(M+H) += 281; t Ret.= 0.848 VAB
B-1a-f
Figure 02_image184
(M+H) += 295; t Ret.= 0.890 VAB
B-1a-g
Figure 02_image186
(M+H) += 293; t Ret.= 0.777 VAB
B-1a-h
Figure 02_image188
(M+H) += 251; t Ret.= 0.957 VAB
B-1a-i
Figure 02_image190
(M+H) += 267; t Ret.= 0.734 VAB
B-1a-j
Figure 02_image192
(M+H) += 225; t Ret.= 0.882 VAB
B-1a-k
Figure 02_image194
(M+H) += 253; t Ret.= 0.780 VAB
B-1a-l
Figure 02_image196
(M+H) += 211; t Ret.= 0.806 VAB
B-1a-m
Figure 02_image198
(M+H) += 365; t Ret.= 0.838 VAB
B-1a-n
Figure 02_image200
(M+H) += 310; t Ret.= 0.862 VAB
B-1a-o
Figure 02_image202
(M+H) += 325; t Ret.= 0.939 VAB
B-1a-p
Figure 02_image204
(M+H) += 436; t Ret.= 1.049 VAB
B-1a-q
Figure 02_image206
(M+H) += 472; t Ret.= 1.091 VAB
B-1a-r
Figure 02_image208
(M+H) += 336; t Ret.= 0.854 VAB
B-1a-ap
Figure 02_image210
(M+H) += 308; t Ret.= 0.86 VAB
B-1a-aq
Figure 02_image212
(M+H) += 350; t Ret.= 1.12 LCMS3, basisch_1
B-1a-ar
Figure 02_image214
(M+H) +=364.3; t Ret.= 0.880 VAB
B-1a-as
Figure 02_image216
(M+H) += 378; t Ret.= 0.91 VAB
B-1a-at
Figure 02_image218
(M+H) += 362; t Ret.= 0.80 VAB
B-1a-au
Figure 02_image220
(M+H) += 362; t Ret.= 0.80 VAB
B-1a-av
Figure 02_image222
(M+H) += 378; t Ret.= 0.91 VAB
B-1a-aw
Figure 02_image224
(M+H) += 378; t Ret.= 0.91 VAB
B-1a-ax
Figure 02_image226
(M+H) += 378; t Ret.= 0.93 VAB
B-1a-ay
Figure 02_image228
(M+H) += 377; t Ret.= 1.23 LCMS3, basisch_1
B-1a-az
Figure 02_image230
(M+H) += 391; t Ret.= 0.90 VAB
B-1a-ba
Figure 02_image232
(M+H) += 391; t Ret.= 0.90 VAB
B-1a-bb
Figure 02_image234
(M+H) += 363; t Ret.= 0.82 VAB
B-1a-bc
Figure 02_image236
(M+H) += 377; t Ret.= 0.86 VAB
B-1a-bd
Figure 02_image238
(M+H) += 389; t Ret.= 0.95 VAB
B-1a-be
Figure 02_image240
(M+H) += 391; t Ret.= 0.91 VAB
B-1a-bf
Figure 02_image242
t Ret.= 5.54 XB5A
B-1a-bg
Figure 02_image244
(M+H) += 405; t Ret.= 0.79 VAB
B-1a-bh
Figure 02_image246
(M+H) += 446; t Ret.= 0.780 VAB
B-1a-bi
Figure 02_image248
(M+H) += 433; t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
B-1a-bj
Figure 02_image250
(M+H) += 447; t Ret.= 0.94 VAB
B-1a-bk
Figure 02_image252
(M+H) += 490; t Ret.= 0.81 VAB
B-1a-bl
Figure 02_image254
(M+H) += 404; t Ret.= 1.28 LCMS3, basisch_1
B-1a-bm
Figure 02_image256
(M+H) += 404; t Ret.= 0.96 VAB
B-1a-bn
Figure 02_image258
(M+H) += 390; t Ret.= 1.19 LCMS3, basisch_1
B-1a-bo
Figure 02_image260
(M+H) += 453; t Ret.= 0.98 VAB
B-1a-bp
Figure 02_image262
(M+H) += 449; t Ret.= 0.94 VAB
B-1a-bq
Figure 02_image264
(M+H) += 405; t Ret.= 1.09 LCMS3, basisch_1
B-1a-br
Figure 02_image266
(M+H) += 405; t Ret.= 1.09 LCMS3, basisch_1
B-1a-bs
Figure 02_image268
(M+H) += 405; t Ret.= 0.80 VAB
B-1a-bt
Figure 02_image270
(M+H) += 389; t Ret.= 0.89 VAB
B-1a-bu
Figure 02_image272
(M+H) += 389; t Ret.= 0.89 VAB
B-1a-bv
Figure 02_image274
(M+H) += 425; t Ret.= 0.94 VAB
B-1a-bw
Figure 02_image276
(M+H) += 425; t Ret.= 0.98 VAB
B-1a-bx
Figure 02_image278
(M+H) += 405 t Ret.= 0.77 VAB
B-1a-by
Figure 02_image280
(M+H) += 376; t Ret.= 0.83 VAB
B-1a-bz
Figure 02_image282
(M+H) += 389; t Ret.= 0.83 VAB
B-1a-ca
Figure 02_image284
(M+H) += 320; t Ret.= 0.84 VAB
B-1a-cb
Figure 02_image286
(M+H) += 405; t Ret.= 0.78 VAB
B-1a-cc
Figure 02_image288
(M+H) += 376; t Ret.= 1.10 LCMS3, basisch_1
B-1a-cd
Figure 02_image290
(M+H) += 350; t Ret.= 1.11 LCMS3, basisch_1
B-1a-ce
Figure 02_image292
(M+H) += 362; t Ret.= 1.02 LCMS3, basisch_1
B-1a-cf
Figure 02_image294
(M+H) += 351; t Ret.= 0.85 VAB
B-1a-cg
Figure 02_image296
(M+H) += 349; t Ret.= 1.02 VAB
B-1a-ch
Figure 02_image298
(M+H) += 357; t Ret.= 0.91 VAB
B-1b-a
Figure 02_image300
(M+H) += 398; t Ret.= 0.981 VAB
B-1b-b
Figure 02_image302
(M+H) += 410; t Ret.= 0.963 VAB
B-1b-c
Figure 02_image304
(M+H) += 410; t Ret.= 0.963 VAB
B-1b-d
Figure 02_image306
(M+H) += 452; t Ret.= 1.101 VAB
B-1b-e
Figure 02_image308
(M+H) += 452; t Ret.= 1.101 VAB
B-1b-f
Figure 02_image310
(M+H) += 398; t Ret.= 0.981 VAB
B-1c*-a
Figure 02_image312
(M+H) +=338; t Ret.= 1.054 VAB
B-1d*-a
Figure 02_image314
(M+H) +=366; t Ret.= 1.154 VAB
B-1d*-b
Figure 02_image316
(M+H) +=378; t Ret.= 1.125 VAB
B-1d*-c
Figure 02_image318
(M+H) +=392; t Ret.= 0.960 VAB
B-1e*-a
Figure 02_image320
(M+H) +=338; t Ret.= 1.089 VAB
合成 B-1a-s
Figure 02_image322
B-3a-d(100 mg;0.44 mmol)於AcCN (0.50 mL)中之攪拌溶液中添加 B-2-b(75.0 mg;0.78 mmol)及Cs 2CO 3(500 mg;1.54 mmol)。在75℃下攪拌混合物48 h。經由製備型HPLC 1純化,得到 B-1a-s
合成 B-1b-g
Figure 02_image324
B-2-c(75 mg;0.20 mmol)於DMSO中之溶液中添加NaH (32 mg;0.80 mmol)。在環境溫度下攪拌5 min後,將 B-3b-a添加至反應混合物且持續攪拌3 d。藉由製備型HPLC 1純化,得到純產物 B-1b-g
以下中間物 B-1aB-1b(表3)可以類似方式以不同建構嵌段 B-3aB-3b為起始物質而獲得。 3
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-1a-s
Figure 02_image326
(M+H) += 276; t Ret.= 0.845 VAB
B-1a-t
Figure 02_image328
(M+H) += 396; t Ret.= 0.821 VAB
B-1a-u
Figure 02_image330
(M+H) += 396; t Ret.= 0.832 VAB
B-1a-v
Figure 02_image332
(M+H) += 410; t Ret.= 0.851 VAB
B-1a-w
Figure 02_image334
(M+H) += 270; t Ret.= 0.844 VAB
B-1a-x
Figure 02_image336
(M+H) += 286; t Ret.= 0.750 VAB
B-1a-y
Figure 02_image338
(M+H) += 212; t Ret.= 0.764 VAB
B-1b-g
Figure 02_image340
(M+H) += 399; t Ret.= 0.910 VAB
B-1b-h
Figure 02_image342
(M+H) += 453; t Ret.= 1.029 VAB
合成 B-1a-z
Figure 02_image344
B-3a-a(250 mg,0.73 mmol)、 B-2-d(141 mg;0.80 mmol)、Pd(II)dppf Cl 2* CH 2Cl 2(61 mg;0.07 mmol)及碳酸鈉(196 mg;1.82 mmol)懸浮於二㗁烷(2.0 mL)及水(1.0 mL)中。在微波照射下在100℃下攪拌反應混合物1 h。經由NP 1純化,得到不飽和中間物,其直接用於下一步驟中。
向BUCHI實驗室高壓釜中裝入不飽和中間物(215 mg;0.62 mmol)、EtOH (5.0 mL)及氯化參(三苯基膦)銠(I)(113 mg;0.12 mmol)。在5巴H 2壓力下攪拌混合物16 h。反應混合物用DCM及飽和NaHCO 3水溶液稀釋且萃取。有機相經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑,得到 B-1a-z
合成 B-1b-i
Figure 02_image346
B-3b-a(130 mg;0.37 mmol)之攪拌溶液中添加Pd(II)dppf Cl 2* CH 2Cl 2(61 mg;0.07 mmol)、碳酸鈉(196 mg;1,82 mmol)及 B-2-e(77 mg;0.90 mmol)且攪拌混合物16 h。將反應混合物倒入飽和NaHCO 3水溶液中且用DCM萃取。有機相經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。經由製備型HPLC 1純化此粗產物,得到 B-1b-1
以下中間物 B-1aB-1bB-1c*B-1d*B-1e*(表4)可以類似方式以不同建構嵌段 B-3aB-3bB-3c*B-3d*B-3e*為起始物質而獲得。 4
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-1a-z
Figure 02_image348
(M+H) += 352; t Ret.= 0.879 VAB
B-1a-aa
Figure 02_image350
(M+H) += 350; t Ret.= 0.866 VAB
B-1a-ab
Figure 02_image352
(M+H) += 404; t Ret.= 1.015 VAB
B-1a-ac
Figure 02_image354
(M+H) += 404; t Ret.= 1.001 VAB
B-1a-ad
Figure 02_image356
(M+H) += 394; t Ret.= 0.809 VAB
B-1a-ae
Figure 02_image358
(M+H) += 253; t Ret.= 0.825 VAB
B-1a-af
Figure 02_image360
(M+H) += 210; t Ret.= 0.760 VAB
B-1a-ag
Figure 02_image362
(M+H) += 307; t Ret.= 0.809 VAB
B-1a-ah
Figure 02_image364
(M+H) += 238; t Ret.= 0.806 VAB
B-1a-ai
Figure 02_image366
(M+H) += 238; t Ret.= 0.819 VAB
B-1a-aj
Figure 02_image368
(M+H) += 208; t Ret.= 0.754 VAB
B-1a-ak
Figure 02_image370
(M+H) += 210; t Ret.= 0.729 VAB
B-1a-al
Figure 02_image372
(M+H) += 238; t Ret.= 0.809 VAB
B-1a-am
Figure 02_image374
(M+H) += 307; t Ret.= 0.828 VAB
B-1a-an
Figure 02_image376
(M+H) += 238; t Ret.= 0.716 VAB
B-1a-ao
Figure 02_image378
(M+H) += 252; t Ret.= 0 VAB
B-1a-ci
Figure 02_image380
(M+H) += 336; t Ret.= 0.92 VAB
B-1a-cj
Figure 02_image382
(M+H) += 322; t Ret.= 1.27 LCMS3, basisch_1
B-1a-ck
Figure 02_image384
(M+H) += 295; t Ret.= 1.16 LCMS3, basisch_1
B-1a-cl
Figure 02_image386
(M+H) += 323; t Ret.= 0.95 VAB
B-1a-cm
Figure 02_image388
(M+H) += 358; t Ret.= 0.96 VAB
B-1a-cn
Figure 02_image390
(M+H) += 308; t Ret.= 0.83 VAB
B-1a-co
Figure 02_image392
(M+H) += 322; t Ret.= 1.28 LCMS3, basisch_1
B-1a-cp
Figure 02_image394
(M+H) += 398; t Ret.= 1.00 VAB
B-1a-cq
Figure 02_image396
(M+H) += 378; t Ret.= 0.85 VAB
B-1a-cr
Figure 02_image398
(M+H) += 295; t Ret.= 0.83 VAB
B-1a-cs
Figure 02_image400
(M+H) += 350; t Ret.= 1.06 LCMS3, basisch_1
B-1a-ct
Figure 02_image402
(M+H) += 350; t Ret.= 1.14 LCMS3, basisch_1
B-1a-cu
Figure 02_image404
(M+H) += 350; t Ret.= 0.83 VAB
B-1a-cv
Figure 02_image406
(M+H) += 334; t Ret.= 0.57 VAS
B-1a-cw
Figure 02_image408
(M+H) += 334; t Ret.= 0.60 VAS
B-1a-cx
Figure 02_image410
(M+H) += 370; t Ret.= 0.97 VAB
B-1a-cy
Figure 02_image412
(M+H) += 350; t Ret.= 0.79 VAB
B-1b-i
Figure 02_image414
(M+H) += 353; t Ret.= 1.028 VAB
B-1c*-b
Figure 02_image416
(M+H) += 295; t Ret.= 1.139 VAB
B-1c*-c
Figure 02_image418
(M+H)+ = 295; t Ret.= 1.113 VAB
B-1d*-d
Figure 02_image420
(M+H) += 323; t Ret.= 1.203 VAB
B-1d*-e
Figure 02_image422
(M+H) += 323; t Ret.= 1.236 VAB
B-1d*-f
Figure 02_image424
(M+H) += 321; t Ret.= 1.215 VAB
B-1d*-g
Figure 02_image426
(M+H) += 351; t Ret.= 1.140 VAB
B-1d*-h
Figure 02_image428
(M+H) += 365; t Ret.= 1.129 VAB
B-1d*-i
Figure 02_image430
(M+H) += 351; t Ret.= 1.114 VAB
B-1e*-b
Figure 02_image432
(M+H) += 295; t Ret.= 1.162 VAB
B-1e*-c
Figure 02_image434
(M+H) += 295; t Ret.= 1.129 VAB
合成中間物 B-3 合成 B-3a-a
Figure 02_image436
將起始物質 B-5a-a(30.0 g,126.9 mmol)及 B-4-a(18.3 g,126.9 mmol)懸浮於AcCN中。在微波照射下在60℃下攪拌反應混合物3 h。反應混合物用DCM稀釋,與半飽和NH 4Cl水溶液混合且萃取一次。有機相經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑,得到 B-3a-a
以下中間物 B-3aB-3b(表5)可以類似方式以不同建構嵌段 B-5aB-5b為起始物質而獲得。 5
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-3a-a
Figure 02_image438
(M+H) += 344; t Ret.= 0.762 VAB
B-3a-b
Figure 02_image440
(M+H) += 245; t Ret.= 0.719 VAB
B-3a-n
Figure 02_image442
(M+H) += 328; t Ret.= 0.81 VAB
B-3a-o
Figure 02_image444
(M+H) +=328; t Ret.= 0.81 VAB
B-3a-p
Figure 02_image446
(M+H) +=383; t Ret.= 0.70 VAB
B-3a-q
Figure 02_image448
(M+H) +=326; t Ret.= 0.79 VAB
B-3a-r
Figure 02_image450
(M+H) +=315; t Ret.= 0.82 VAB
B-3a-s
Figure 02_image452
(M+H) +=315; t Ret.= 0.82 VAB
B-3a-t
Figure 02_image454
(M+H) +=342; t Ret.= 0.93 LCMS3, basisch_1
B-3a-u
Figure 02_image456
(M+H) +=326; t Ret.= 0.79 VAB
B-3a-v
Figure 02_image458
(M+H) += 342; t Ret.= 0.67 VAB
B-3a-w
Figure 02_image460
(M+H) += 370; t Ret.= 0.73 VAB
B-3a-x
Figure 02_image462
(M+H) +=390; t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
B-3a-y
Figure 02_image464
(M+H) +=350; t Ret.= 1.16 LCMS3, basisch_1
B-3a-z
Figure 02_image466
(M+H) +=314; t Ret.= 0.77 VAB
B-3a-aa
Figure 02_image468
(M+H) +=384; t Ret.= 0.85 VAB
B-3a-ab
Figure 02_image470
(M+H) +=313; t Ret.= 0.72 VAB
B-3a-ac
Figure 02_image472
(M+H) += 362; t Ret.= 0.85 VAB
B-3a-ad
Figure 02_image474
(M+H) +=300; t Ret.= 0.96 LCMS3, basisch_1
B-3a-ae
Figure 02_image476
t Ret.= 2.07 XB5A
B-3a-af
Figure 02_image478
(M+H) +=287; t Ret.= 0.72 VAB
B-3a-ag
Figure 02_image480
(M+H) +=342; t Ret.= 0.70 VAB
B-3a-ah
Figure 02_image482
(M+H) +=386; t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
B-3a-ai
Figure 02_image484
(M+H) +=326; t Ret.= 0.83 VAB
B-3a-aj
Figure 02_image486
(M+H) +=326; t Ret.= 0.74 VAB
B-3a-ak
Figure 02_image488
(M+H) +=301; t Ret.= 0.76 VAB
B-3a-al
Figure 02_image490
(M+H) +=314; t Ret.= 1.07 LCMS3, basisch_1
B-3a-am
Figure 02_image492
(M+H) +=341; t Ret.= 0.82 VAB
B-3a-an
Figure 02_image494
(M+H) +=287; t Ret.= 0.90 LCMS3, basisch_1
B-3a-ao
Figure 02_image496
(M+H) +=299; t Ret.= 0.70 VAB
B-3a-ap
Figure 02_image498
(M+H) +=257; t Ret.= 0.72 VAB
B-3a-aq
Figure 02_image500
(M+H) +=328; t Ret.= 0.82 VAB
B-3a-ar
Figure 02_image502
(M+H) += 342 t Ret.= 0.69 VAB
B-3a-as
Figure 02_image504
(M+H) +=327; t Ret.= 0.77 VAB
B-3a-at
Figure 02_image506
(M+H) +=313; t Ret.= 0.92 LCMS3, basisch_1
B-3a-au
Figure 02_image508
(M+H) +=313; t Ret.= 0.92 LCMS3, basisch_1
B-3a-av
Figure 02_image510
(M+H) +=342; t Ret.= 0.93 LCMS3, basisch_1
B-3a-aw
Figure 02_image512
(M+H) +=342; t Ret.= 0.93 LCMS3, basisch_1
B-3a-ax
Figure 02_image514
(M+H) +=299; t Ret.= 0.69 VAB
B-3a-ay
Figure 02_image516
(M+H) +=362; t Ret.= 0.86 VAB
B-3a-az
Figure 02_image518
(M+H) +=315; t Ret.= 0.83 VAB
B-3a-ba
Figure 02_image520
(M+H) +=341; t Ret.= 0.85 VAB
B-3b-a
Figure 02_image522
(M+H) += 347; t Ret.= 0.908 VAB
B-3b-b
Figure 02_image524
(M+H) += 401; t Ret.= 1.024 VAB
合成 B-3c*-a
Figure 02_image526
合成 B-17-a 實驗程序在0℃下向 B-18-a(65.0 g;271.6 mmol)於DMF (650.0 mL)中之攪拌溶液中逐滴添加NaH (32.46 mL;814.98 mmol)。在0℃下攪拌反應混合物10 min且隨後在0℃下添加氯乙酸乙酯。在rt下攪拌反應混合物16 h。將反應混合物倒入冰水(2000 mL)中且過濾沈澱物並真空乾燥,得到 B-17-a(HPLC-MS:(M+H) += 326,t Ret.= 1.41 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 B-16-a 實驗程序在rt下向 B-17-a(75.0 g;230.52 mmol)於EtOH (1000 mL)中之攪拌溶液中添加水合肼(500 mL)。在80℃下攪拌反應混合物6 h。使反應混合物冷卻至rt,且過濾沈澱物,用EtOAc洗滌,且真空乾燥,得到 B-16-a
合成 B-15-a 實驗程序B-16-a(160 g;538.15 mmol)溶解於乙酸(1500 mL)中且在rt下攪拌反應混合物16 h。隨後將二乙醚(2500 mL)添加至反應混合物且過濾沈澱物並真空乾燥,得到 B-15-a(HPLC-MS:(M+H) += 266.1,t Ret.= 0.775 min,方法VAB)。
合成 B-14-a 實驗程序在0℃下向 B-15-a(35.0 g;131.65 mmol)於4 N HCl水溶液(1500 mL)中之攪拌溶液中添加亞硝酸鈉(45.52 g,659.72 mmol)於水中之溶液。使反應混合物經16 h之時段達至rt。將沈澱物過濾,用水(500 mL)洗滌,且真空乾燥,得到 B-14-a(HPLC-MS:(M+H) += 251.0,t Ret.= 0.92 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 B-3c*-a 實驗程序在0℃下向 B-14-a(23.0 g;91.91 mmol)於甲苯(100.0 mL)中之攪拌溶液中添加POCl 3(400.0 mL)、DIPEA (76.0 mL;459.54 mmol)及PCl 5(19.1 g;91.91 mmol)。隨後在回流下攪拌反應混合物48 h。減壓移除POCl 3及甲苯,且將所獲得殘餘物溶解於EtOAc (1000 mL)中且用飽和NaHCO 3水溶液(2×1000 mL)萃取,隨後用鹽水(500 mL)洗滌。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/己烷0:10)純化粗產物,得到所需產物 B-3c*-a(HPLC-MS:(M+H) += 287.1,t Ret.= 2.40 min,方法GVK_LCMS_61)。
合成 B-3d*-a
Figure 02_image528
合成 B-23-a 實驗程序使 B-24-a(500.0 g;2.74 mol)於THF (5.0 L)中之攪拌溶液冷卻至-78℃。在氮氣條件下添加含1.6 M正丁基鋰之己烷(1.7 L;2.74 mol)。在-78℃下攪拌反應混合物60 min且隨後在-78℃下逐滴添加甲酸乙酯(220.45 mL;2.74 mol),且在-78℃下攪拌反應混合物4 h。用飽和氯化銨溶液(200 mL)淬滅反應物且用EtOAc (2×2.0 L)萃取。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/己烷0:10)純化粗產物,得到所需產物 B-23-a(HPLC-MS:t Ret.= 2.11 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-22-a 實驗程序使 B-23-a(170 g;807.8 mmol)於THF (1.7 L)中之攪拌溶液冷卻至-78℃。隨後在氮氣條件下添加含2 M甲基鎂之THF (807.8 mL,1.62 mol)。在-78℃下攪拌反應混合物4 h。用飽和氯化銨溶液(200 mL)淬滅反應物且用EtOAc (1×2.0 L)萃取。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/己烷5:20)純化粗產物,得到所需產物 B-22-a(HPLC-MS:t Ret.= 1.75 min,方法GVK_LCMS_61)。
合成 B-21-a 實驗程序在rt下向 B-22-a(170 g,0.76 mol)於DCM (1.7 L)中之攪拌溶液中添加N-甲基𠰌啉(131.7 g,1.13 mol,1.5當量)。在rt下攪拌反應混合物30 min。隨後添加高釕酸四丙銨(8.7 g,24.7 mmol)且在rt下攪拌反應混合物4 h。反應混合物經由矽藻土墊過濾且用DCM (3000 mL)洗滌。減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/己烷10:50)純化粗產物,得到所需產物 B-21-a(HPLC-MS:t Ret.= 2.02 min,方法GVK_LCMS_61)。
合成 B-19-a 實驗程序在rt下向 B-21-a(268 g;1.19 mol)及甘胺酸三級丁基甲酯 B-20-a(259.0 g;1.43 mol)於EtOH (2.6 L)中之攪拌溶液中添加DIPEA (256.7 mL,1.43 mol)。在80℃下攪拌反應混合物12 h。用水(200 mL)淬滅反應混合物且減壓移除溶劑,隨後用EtOAc (2×200 mL)萃取。有機層經MgSO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/己烷2:5)純化粗產物,得到所需產物 B-19-a(HPLC-MS:(M+H) += 333.0,t Ret.= 1.39 min,方法LCMS3,basisch_1)。
合成 B-3d*-a 實驗程序在-15℃下向 B-19-a(100 g,0.30 mol)於DME (800 mL)中之攪拌溶液中添加三級丁醇鉀(16.84 g;0.15 mol)。在-15℃下攪拌反應混合物6 h。用冰水(2 L)淬滅反應混合物且過濾沈澱物,用正戊烷洗滌並真空乾燥,得到 B-3d*-a(HPLC-MS:(M+H) += 315.0,t Ret.= 1.67 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 B-3e*-a
Figure 02_image530
合成 B-30-a 實驗程序使 B-31-a(350.0 g;2.2 mol)於三氟乙酸酐(1.7 L)中之攪拌溶液冷卻至0℃。隨後在0℃下逐滴添加硝酸(285.8 g;4.5 mol),且使反應混合物經18 h之時段達至rt。用偏亞硫酸氫鈉淬滅反應混合物且在rt下攪拌2 h。藉由使用8 N NaOH水溶液將反應混合物中和至pH = 7且用DCM (2×600 mL)萃取,用鹽水洗滌。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑,得到所需產物 B-30-a(HPLC-MS:(M+H) += 207.0,t Ret. = 2.62 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-28-a 實驗程序於氬氣氛圍中向乙醇鉀(40.56 g;0.48 mol)於二乙醚(2.5 L)及EtOH (0.3 L)中之攪拌溶液中添加 B-30-a(70.5 g;0.48 mol)且在rt下攪拌反應混合物30 min。將 B-29-a(100.0 g;0.48 mol)於二乙醚(150 mL)中之溶液添加至反應物。在rt下攪拌反應混合物16 h。減壓移除溶劑且藉由使用乙酸酸化至pH = 4,用EtOAc (2×600 mL)萃取。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑,得到所需產物 B-28-a(HPLC-MS:(M+H) += 307.0,t Ret. = 2.37 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-27-a 實驗程序在rt下向含 B-28-a(50.0 g;0.16 mol)之EtOH (1.75 L)溶液與EtOH (0.75 L)之攪拌溶液中添加鐵(54.7 g;0.98 mol)及氯化銨水溶液(750.0 mL)。在90℃下攪拌反應混合物5 h。反應混合物經由矽藻土墊過濾且用熱EtOH及THF洗滌。於水中稀釋溶劑且用EtOAc (2×1 L)萃取。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑,得到所需產物 B-27-a(HPLC-MS:(M+H) += 269,t Ret. = 2.25 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-26-a 實驗程序在rt下向含 B-27-a(40.0 g;0.15 mol)之DCM (400 mL)溶液與DMF (200 mL)之攪拌溶液中添加NIS (69.5 g;0.31 mol),且在rt下攪拌反應混合物24 h。將反應混合物用冰水淬滅且用DCM (2×2 L)萃取。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/石油醚50:70)純化粗產物,得到所需產物 B-26-a(HPLC-MS:(M+H) += 273.38,t Ret.= 3.12 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-25-a 實驗程序使 B-26-a(50.5 g;0.13 mol)於DMF (500 mL)中之攪拌溶液冷卻至0℃,隨後添加NaH (6.3 g;0.26 mol),且在rt下攪拌反應混合物30 min。使反應混合物冷卻至0℃,之後添加碘甲烷(37.25 g;0.26 mol)。在rt下攪拌反應混合物3 h,隨後用水淬滅。過濾沈澱物,用二乙醚洗滌,且真空乾燥,得到 B-25-a(HPLC-MS:(M+H) += 398.90,t Ret.= 2.73 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-3e*-a 實驗程序在rt下向 B-25-a(20.0 g;0.05 mol)於THF (400 mL)中之攪拌溶液中添加Fe(acac) 3(1.77 g;0.005 mol),且使反應混合物冷卻至0℃。隨後在0℃下添加1 N MeMgBr溶液(100 mL)且使反應混合物經8 h之時段達至rt。用飽和氯化銨溶液淬滅反應物且用EtOAc (2×200 mL)萃取。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥,過濾,且減壓蒸發溶劑。藉由正相層析(EtOAc/石油醚1:10)純化粗產物,得到所需產物 B-3e*-a(HPLC-MS:(M+H) += 287.19,t Ret.= 2.46 min,方法GVK_LCMS_61)。
合成 B-3f-a B-3f-b
Figure 02_image532
合成 B-3f-a 實驗程序B-7-a(336 mg,1.66 mmol)於DCE (6 mL)中之攪拌溶液中添加CDI (350 mg,2.16 mmol)且在50℃下攪拌反應混合物隔夜。用AcCN (4 mL)處理殘餘物,且過濾沈澱物,用AcCN洗滌並於真空乾燥烘箱中在45℃下乾燥隔夜,得到 B-3f-a(HPLC-MS:(M+H) += 218,t Ret.= 0.50 min,方法VAB)。
合成 B-3f-b 實驗程序在-5℃下向 B-3f-a(29.38 g,134.75 mmol)於DMF (293.4 mL)中之攪拌溶液中添加氫化鈉(6.47 g,161.69 mmol)且攪拌10 min。添加碘甲烷(10.07 mL,161.69 mmol)且在-5℃下攪拌45 min。用飽和NH 4Cl (300 mL)淬滅反應混合物且用飽和鹽水(200 mL)稀釋。過濾沈澱物,用水洗滌且在真空烘箱中在50℃下乾燥,得到 B-3f-b(30.06 g;129.53 mmol)(HPLC:t Ret.= 2.42 min,方法XB5A)。
合成 B-3g-a
Figure 02_image534
合成 B-3g-a 實驗程序B-34-a(50.00 mg;0.223 mmol)於MeOH (1 mL)中之攪拌溶液中添加甲基肼(0.023 mL;0.445 mmol)且在60℃下攪拌隔夜。過濾反應混合物且藉由製備型HPLC 3純化,得到所需產物 B-3g-a(20 mg,0.093 mmol)(HPLC-MS:(M+H) += 216,t Ret.= 1.24 min,方法LCMS3, basisch_1)。
以下中間物 B-3g(表6)可以類似方式以建構嵌段 B-34及對應肼衍生物為起始物質而獲得。 6
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-3g-a
Figure 02_image536
(M+H) += 216; t Ret.= 1.24 LCMS3, basisch_1
B-3g-b
Figure 02_image538
(M+H) += 244; t Ret.= 2.22 GVK_LCMS_61
B-3g-c
Figure 02_image540
(M+H) += 230; t Ret.= 2.08 GVK_LCMS_61
合成 B-3h-a
Figure 02_image542
合成 B-3h-a 實驗程序在rt下攪拌 B-36-a(200.0 mg;0.975 mmol)於濃HCl (2.0 mL)中之溶液10 min且冷卻至0℃,隨後在-5℃下逐滴添加含NaNO 2(79.594 mg;1.170 mmol)之水且在0至-5℃下攪拌15 min。逐滴添加含SnCl 2* 2 H 2O (511.507 mg;2.243 mmol)之濃HCl,且攪拌所得反應混合物30 min。隨後過濾反應混合物且用水、NaHCO 3水溶液洗滌並風乾。藉由急驟管柱層析使用0-30% EtOAc/ PE作為溶離劑純化所獲得粗物質,得到所需產物 B-3h-a(50.0 mg,0.247 mmol)(HPLC-MS:(M+H) += 202,t Ret.= 1.93 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-3h-b 實驗程序B-3h-a(50.00 mg,0.247 mmol)及碳酸鉀(100.00 mg,0.716 mmol)於AcCN (2 mL)中之攪拌溶液中逐滴添加硫酸二甲酯(25.0 µL,0.258 mmol)且在rt下攪拌30 min。過濾反應混合物且減壓移除溶劑。藉由製備型HPLC 1純化殘餘物,得到 B-3h-b(22.00 mg,0.102 mmol)(HPLC-MS:(M+H) += 216,t Ret.= 1.23 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 B-3a-c
Figure 02_image544
合成 B-10-a 實驗程序使 B-7-a(200 mg,1.04 mmol)於DCM (10 mL)中之攪拌溶液冷卻至-20℃。添加 B-11-a(120 mg,1.25 mmol,1.2當量)且在-20℃下攪拌反應混合物2 h。用碳酸鈉(飽和水溶液)使反應混合物鹼化。用DCM萃取水相。將有機層濃縮至乾燥。純化粗化合物(正相層析),得到所需產物 B-10-a(HPLC-MS:(M+H) += 248.0,t Ret.= 1.46 min,方法TCG _LCMS, basisch_1)。
合成 B-3a-c 實驗程序B-10-a(500 mg,2.0 mmol)中添加1,4-二㗁烷(10 mL)及乙酸(1.0 mL,15.5 mmol,8.7當量)。將反應混合物加熱至110℃。完全轉化後,蒸發溶劑。用碳酸氫鈉(飽和水溶液)使殘餘物鹼化。用EtOAc萃取水層。蒸發溶劑且純化殘餘物(正相層析,移動相環己烷/EtOAc),得到 B-3a-c
以下中間物 B-10(表7)亦可類似於合成 B-10-a以不同建構嵌段 B-7B-11為起始物質而獲得。 7
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-10-a
Figure 02_image546
(M+H) += 248; t Ret.= 1.46 TCG _LCMS, basisch_1
B-10-b
Figure 02_image548
(M+H) += 439.1; t Ret.= 0.942 VAB
合成 B-3a-d
Figure 02_image550
B-7-a(34.7 g,174.8 mmol,1當量)中添加乙酸(100 mL,1740 mmol,10當量)及聚磷酸(135 mL,2320 mmol,13.3當量)。在100℃下攪拌反應混合物3 h。使反應混合物冷卻至rt,用水稀釋且用6 N氫氧化鈉水溶液鹼化至pH 8。用DCM萃取水相。將有機層濃縮至乾燥,純化殘餘物(正相層析,移動相環己烷/EtOAc 35%至95%),得到 B-3a-d
合成 B-3a-e
Figure 02_image552
B-7-a(2.8 g,14.58 mmol,1當量)、原甲酸三甲酯(30 mL,274 mmol,18.8當量)及乙酸(3 mL,52 mmol,3.6當量)裝入壓力反應器。在100℃下攪拌反應混合物16 h。冷卻後,用碳酸氫鈉水溶液使反應混合物鹼化。用EtOAc萃取水相。有機相用鹽水洗滌,經硫酸鈉乾燥,且濃縮至乾燥。藉由正相層析(移動相環己烯/EtOAc)純化殘餘物,得到 B-3a-e
合成 B-3a-g
Figure 02_image554
在0℃下向 B-3a-f(18.0 g,77.56 mmol)於DCM (270.0 mL)中之溶液中添加戴斯-馬丁試劑(39.46 g,93.08 mmol,1.2當量)且在rt下攪拌12 h。用飽和NaHCO 3溶液(500.0 mL)稀釋反應混合物且用DCM (2×500 mL)萃取。合併之有機層經Na 2SO 4乾燥且減壓濃縮。藉由正相層析(移動相環己烯/EtOAc 30-80%)純化粗物質,得到 B-3a-g(HPLC-MS:(M+H) += 248.0,t Ret.= 0.64 min,方法VAB)。起始物質 B-3a-f可類似於如關於 B-3a-d所描述之合成使用羥基乙酸作為羧酸來獲得。
合成 B-3a-h
Figure 02_image556
在rt下將 B-3a-g(75.00 mg,0.267 mmol)及1-甲基哌𠯤(53.52 mg,0.534 mmol)於DCM (1 mL)中之溶液振盪10 min。添加乙酸(7.640 µL;0.134 mmol)及三乙醯氧基硼氫化鈉(141.565 mg;0.668 mmol),且在rt下振盪反應混合物2 h。減壓濃縮混合物且溶解於DMF及水中,過濾且藉由製備型HPLC 1純化,得到 B-3a-h(41.00 mg,0.112 mmol)。
以下中間物 B-3a(表8)可以與關於中間物 B-3a-cB-3a-eB-3a-gB-3a-h所描述類似之方式獲得。
以下中間物 B-3a(表8)可以類似方式以不同建構嵌段 B-7B-14為起始物質而獲得。 8
# 結構 MS (M+H) +; t Ret.HPLC [min] HPLC-MS方法
B-3a-c
Figure 02_image558
(M+H) += 230; t Ret.= 2.88 TCG _LCMS, basisch_2
B-3a-d
Figure 02_image560
(M+H) += 216; t Ret.= 0.76 LCMS3, basisch_1
B-3a-e
Figure 02_image562
(M+H) += 202.0; t Ret.= 0.56 VAB
B-3a-f
Figure 02_image564
(M+H) += 232; t Ret.= 0.60 LCMS3, basisch_1
B-3a-g
Figure 02_image566
(M+H) += 248; t Ret.= 0.61 VAB
B-3a-h
Figure 02_image568
(M+H) += 314; t Ret.= 0.91 LCMS3, basisch_1
B-3a-i
Figure 02_image570
(M+H) += 259; t Ret.= 0.95 LCMS3, basisch_1
B-3a-j
Figure 02_image572
(M+H) += 299; t Ret.= 0.735 VAB
B-3a-k
Figure 02_image574
(M+H) += 421.1; t Ret.= 1.01 VAB
B-3a-l
Figure 02_image576
(M+H) += 327.0; t Ret.= 0.699 VAB
B-3a-m
Figure 02_image578
(M+H) += 285.0; t Ret.= 0.97 LCMS3, basisch_1
合成中間物 B-5 合成 B-5a-a
Figure 02_image580
合成 B-8-a 實驗程序在0℃下向 B-9-a(100.0 g;0.480 mol)於AcCN (1500 mL)中之攪拌溶液中添加K 2CO 3(165.9 g;1.20 mol)且攪拌15 min。隨後在相同溫度下添加MeI (186.2 mL;2.90 mol)且將反應物加熱至80℃,保持16 h。減壓移除溶劑,且將所獲得粗物質分配在冰冷之水與EtOAc之間。分離之有機層經Na 2SO 4乾燥且減壓濃縮。藉由急驟管柱層析使用EtOAc/石油醚作為溶離劑純化所獲得粗物質,得到所需產物 B-8-a(HPLC-MS:(M+H) += 222.0;t Ret. = 1.11 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 B-7-a 實驗程序B-8-a(85.0 g;0.383 mol)於EtOH (750 mL)中之攪拌溶液中添加NH 4Cl (101.5 g;1.91 mol)及水(100.0 mL)且攪拌10 min,之後添加鐵(105.3 g;1.91 mol)。在90℃下攪拌反應混合物16 h。完全轉化後,將反應混合物真空蒸發且溶解於EtOAc及水中並經由矽藻土墊過濾。有機層經無水Na 2SO 4乾燥且真空濃縮,得到粗產物。將此粗產物用5% EtOAc/石油醚濕磨,攪拌30 min,過濾,且真空乾燥,得到 B-7-a(HPLC-MS:(M+H) += 192.0;t Ret. = 0.81 min,方法LCMS3, basisch_1)。
合成 B-6a-a 實驗程序B-7-a(75.0 g;0.391 mol)於THF (600 mL)中之攪拌溶液中添加1,1'-硫羰基二咪唑(139.0 g;0.781 mol)。在80℃下攪拌反應混合物24 h,隨後冷卻至rt且蒸發至乾燥。將EtOAc添加至殘餘物且用水萃取混合物。有機層用水洗滌,經無水Na 2SO 4乾燥且真空濃縮,得到粗產物,用二乙醚濕磨,攪拌30 min,過濾,且真空乾燥,得到 B-6a-a(HPLC-MS:(M+H) += 234.3,t Ret. = 1.93 min,方法GVK_LCMS_41)。
合成 B-5a-a 實驗程序在80℃下攪拌 B- 6a-a(60.0 g;0.256 mol)於亞硫醯氯(600 mL)及DMF (120 mL)中之溶液30 min。將反應混合物真空蒸發,用EtOAc稀釋且用飽和NaHCO 3溶液萃取。有機層經無水Na 2SO 4乾燥且真空濃縮,得到粗產物。藉由正相層析使用DCM/石油醚純化此粗產物,得到 B-5a-a(HPLC-MS:(M+H) += 236.0,t Ret. = 2.03 min,方法GVK_LCMS_41)。
替代合成 B-5a-a
Figure 02_image582
合成 E-4-a 實驗程序在80℃下經4 h向2,4,6-三氯吡啶(2.5 g,13.7 mmol,1.0當量)於EtOH (2.5 mL)中之懸浮液中添加含甲基胺之EtOH (33wt%,10.0 mL,73.04 mmol,5.33當量)。在80℃下攪拌混合物4 h,隨後經2 h冷卻至rt。在rt下攪拌混合物1 h,隨後過濾。依序用水(5.0 mL)、庚烷(2.5 mL)及MTBE (2.5 mL)沖洗固體。在50℃下真空乾燥固體,隨後在rt下用MTBE (10.0 mL)漿化1 h。將混合物過濾,隨後用MTBE (2.5 mL)沖洗。在55℃下真空乾燥固體,得到 E-4-a( 1H-NMR (500 MHz, DMSO-d6) δ 7.35 (d, J = 5 Hz, 1H), 6.51 (s, 2H), 2.72 (d, J = 5 Hz, 3H))。
合成 E-3-a 實驗程序E-4-a(5.0 g,27.715 mmol,1.0當量)及 N-碘代丁二醯亞胺(6.55 g,29.101 mmol,1.05 當量)於乙腈(30 mL)中之懸浮液加熱至80℃,保持8 h。經1 h使混合物冷卻至rt,隨後經1 h添加水(20 mL)。使混合物冷卻至rt,且在rt下攪拌1 h。過濾混合物,隨後用水(13 mL)沖洗固體。在55℃下真空乾燥固體,得到 E-3-a( 1H-NMR (500 MHz, DMSO-d6) δ 6.58 (d, J = 4 Hz, 1H), 6.45 (s, 1H), 2.82 (d, J = 4 Hz, 3H))。
合成 E-2-a 實驗程序在-15℃下向異氰酸氯磺醯酯(2.32 g,25.107 mmol,1.3當量)於2-甲基四氫呋喃(6 mL)中之溶液中添加含 E-3-a(5.97 g,19.313 mmol,1.0當量)之2-甲基四氫呋喃(30 mL)以使溫度保持在-5℃以下。在-10℃下攪拌混合物1 h,隨後以將溫度保持在18℃以下的速率添加2.0 M氫氧化鈉溶液(3.92當量)。使混合物冷卻至0℃,隨後在彼溫度下攪拌1 h,隨後過濾。用水(12 mL)及乙酸異丙酯(12 mL)沖洗固體。隨後在55℃下真空乾燥固體,得到 E-2-a( 1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 7.58 (s, 1H), 6.25 (s, 2H), 3.05 (s, 3H))。
合成 B-3f-a 實驗程序E-2-a(10.0 g,26.883 mmol,1.0當量)、碘化銅(I)(57.5 mg,0.5 mmol,0.02當量)及1,10-啡啉(48.5 mg,0.269 mmol,0.01當量)於乙腈(100 mL)中之懸浮液中添加 N,N-二異丙基乙胺(9.37 mL,53.765 mmol,2.0當量)。在80℃下加熱混合物18 h,隨後冷卻至rt。將混合物過濾且用乙腈(10 mL)沖洗。隨後真空蒸餾濾液直至留下50 mL溶液為止。隨後過濾混合物以收集第二批固體。在40℃下用乙腈(5 mL)及10 wt%氯化銨(水溶液,10 mL)處理經合併之各批固體。在40℃下攪拌混合物2 h,隨後冷卻至rt,且過濾。在55℃下真空乾燥固體,得到 B-3f-a( 1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 11.86 (br s, 1H), 7.40 (s, 1H), 3.30 (s, 3H))。
合成 B-5a-a 實驗程序在105℃下加熱 B-3f-a(2.54 g,11.16 mmol,1.0當量)及氯化苯甲基三乙銨(5.08 g,22.32 mmol,2.0當量)於氧氯化磷(9.41 g,61.386 mmol,5.5當量)中之懸浮液24 h。添加甲苯(25.4 mL),且使混合物冷卻至rt。以將溫度保持在50℃以下的速率添加水(12.7 mL)。使混合物冷卻至25℃,隨後添加30wt%氫氧化鈉(22當量)以使pH為7.4。隨後將混合物過濾且用甲苯(5 mL)沖洗。移除水相,且用水(13 mL)洗滌有機相。移除水相,且藉由真空蒸餾移除甲苯直至留下7.5 mL為止。使混合物冷卻至rt,添加庚烷(7.6 mL),且在rt下攪拌混合物1 h,之後過濾。用水(5 mL)沖洗固體,隨後在50℃下乾燥固體,得到 B-5a-a( 1H-NMR (500 MHz, DMSO-d6) δ 7.99 (s, 1H), 3.82 (s, 3H))。
合成 B-5b-a
Figure 02_image584
合成 B-12-a 實驗程序B-13-a(150.0 g;0.66 mol)於EtOH (1200 mL)中之攪拌溶液中添加水(300 mL)及NH 4Cl (178.1 g;3.30mol)。隨後緩慢添加鐵粉(181.4 g;3.30 mol)且在80℃下攪拌反應混合物6 h。反應混合物經由矽藻土墊過濾,且真空蒸發溶劑。將剩餘殘餘物溶解於EtOAc中且用水萃取。有機層經無水Na 2SO 4乾燥且真空濃縮,得到粗物質。將此粗物質與石油醚一起攪拌1 h,過濾且用石油醚洗滌,得到 B-12-a(HPLC-MS:(M+H) += 197.0,t Ret. = 0.817 min,方法VAB)。
合成 B-6b-a 實驗程序B-12-a(2.46 g;12.5 mmol)於AcCN (50 mL)中之攪拌溶液中添加O-乙基二硫代碳酸鉀(3.00 g;18.7 mmol)。在80℃下攪拌反應混合物3 d。用水稀釋混合物且用DCM萃取。將含有水相之產物用1 N HCl水溶液酸化且用DCM萃取。有機層經無水MgSO 4乾燥且真空濃縮,得到 B-6b-a(HPLC-MS:(M+H) += 237.1,t Ret. = 0.562 min,方法VAB)。
合成 B-5b-a 實驗程序B-6b-a(1.10 g;4.64 mmol)於1,2-二氯乙烷中之攪拌溶液中添加乙二醯氯(0.5 mL;5.80 mmol)。此後逐滴添加DMF (0.36 mL;4.64 mmol)且在80℃下攪拌混合物16 h。使反應混合物冷卻至rt,用DCM及水稀釋且萃取。有機層經無水MgSO 4乾燥且真空濃縮,得到 B-5b-a(HPLC-MS:(M+H) += 252.1,t Ret. = 0.909 min,方法VAB)。
合成根據本發明之化合物 (I) 合成 I-001
Figure 02_image586
B-1b-b(80 mg,0.2 mmol,1當量)、 A-1-a(50 mg,0.2 mmol,1當量)、參(二苯亞甲基-丙酮)二鈀(0)(18 mg,0.02 mmol,0,1當量)及三級丁基XPhos(18 mg,0.04 mmol,0.2當量)裝入壓力容器。添加甲苯(1 mL)及1,4-二㗁烷(1 mL)且用氬氣吹掃反應混合物。添加三級丁醇鈉(2 M於THF中;155 µL,0.34 mmol,1.75當量),且將反應混合物加熱(微波照射)至125℃,保持20 min。純化反應混合物(正相層析,移動相DCM/MeOH),得到 I-001
合成 I-002 I-003 I-004
Figure 02_image588
步驟 1B-1b-d(180 mg,0.4 mmol)、 A-1-a(100 mg,0.4 mmol,1當量)、參(二苯亞甲基-丙酮)二鈀(0)(36 mg,0.04 mmol,0.1當量)及三級丁基XPhos(36 mg,0.04 mmol,0.2當量)裝入壓力容器。添加甲苯(1 mL)及1,4-二㗁烷(1 mL)且用氬氣吹掃反應混合物。添加三級丁醇鈉(2 M於THF中;320 µL,0.7 mmol,1.75當量),且將反應混合物加熱(微波照射)至125℃,保持20 min。純化反應混合物(正相層析,移動相DCM/MeOH),得到 I-002
步驟 2I-002(140 mg,0.21 mmol)溶解於DCM (2.5 mL)中。添加三氟乙酸(0.5 mL,6.5 mmol,30當量)且在rt下攪拌反應混合物4 h。添加碳酸氫鉀水溶液,用DCM萃取鹼化水層。有機相經硫酸鈉乾燥且濾出。將濾液縮減至乾燥,得到 I-003
步驟 3I-003(40 mg,0.07 mmol)溶解於DCM (1 mL)及MeOH (1 mL)之混合物中。添加冰乙酸(8.3 µL,0.14 mmol,2當量)及甲醛(37%於水中;16 µL,0.21 mmol,3當量),且在rt下攪拌反應混合物10 min。添加氰基硼氫化鈉(23.8 mg,0.36 mmol,5當量)且在rt下攪拌反應混合物1 h。用水稀釋反應混合物,用DCM萃取水相。蒸發溶劑,純化殘餘物(正相層析,移動相DCM/MeOH),得到 I-004
合成 I-069 I-070 I-071
Figure 02_image590
步驟 1B-1c*-b(3.80 g;12.63 mmol)、 A-1-1(3.25 g;12.85 mmol)、參-(二苯亞甲基丙酮)-二鈀(0)(750 mg,0.80 mmol)及三級丁基XPhos (750 mg,1.68 mmol)裝入燒瓶中。添加甲苯(100 mL)且用氬氣吹掃反應混合物。添加三級丁醇鈉(2 M於THF中;12.5 mL,25.0 mmol),且在80℃下攪拌反應混合物6 h。純化反應混合物(正相層析,移動相DCM/MeOH),得到 I-069
步驟 2I-069(1.56 g;2.97 mmol)溶解於EtOH (15.0 mL)及水(5 mL)中,且添加LiOH (0.5 g;20.5 mmol),且在回流下攪拌反應混合物6.5 h。將混合物蒸發至乾燥,用水漿化且用1 N HCl水溶液酸化至pH 5。將所得殘餘物過濾,用水洗滌且冷凍乾燥,得到 I-070
步驟 3I-070(1.10 g;2.22 mmol)溶解於AcCN (15.0 mL)及DIPEA (1.00 mL;5.70 mmol)中。向溶液中添加HATU (1.50 g;3.75 mmol)且在rt下攪拌混合物30 min。添加𠰌啉(0.35 mL;4.05 mmol)且繼續在rt下攪拌17 h。純化反應混合物(正相層析,移動相DCM/MeOH/NH 4OH),得到 I-071
合成 I-082 I-083 I-084
Figure 02_image592
步驟 1B-1d*-a(1.80 g,4.67 mmol)、 A-1-a(1.40 g,5.54 mmol)、參-(二苯亞甲基丙酮)-二鈀(0)(350 mg,0.38 mmol)及三級丁基XPhos (330 mg,0.74 mmol)裝入燒瓶。添加甲苯(45 mL)且用氬氣吹掃反應混合物。添加三級丁醇鈉(2 M於THF中;4.5 mL,9.00 mmol)且在100℃下攪拌反應混合物1 h。純化反應混合物(製備型HPLC 1),得到 I-082
步驟 2I-082(1.18 g;2.07 mmol)溶解於1,4-二㗁烷(16.0 mL)中,且添加含4 N氯化氫之1,4-二㗁烷(4.0 mL;46.67 mmol)。在65℃下攪拌反應混合物3.5 h且隨後冷卻至rt。濾出所得沈澱物,用1,4-二㗁烷洗滌且真空乾燥,得到 I-083
步驟 3I-083(1.10 g;1.90 mmol)溶解於NMP (10.0 mL)及DIPEA (1.75 mL;10.24 mmol)中。向溶液中添加HATU (1.00 g;2.50 mmol)且在30℃下攪拌混合物30 min。添加吡咯啶(0.20 mL;2.32 mmol)且繼續在30℃下攪拌1 h。用水稀釋混合物且用DCM萃取。蒸發溶劑,純化殘餘物(正相層析,移動相DCM/MeOH/NH 4OH),得到 I-084
合成 I-126
Figure 02_image594
在壓力容器中,將 I-107(150 mg;0.27 mmol)、對甲苯磺酸(467 mg;2.71 mmol)及氯化鋰(115 mg;2.71 mmol)懸浮於NMP中,且在微波照射下在180℃下攪拌25 min。用製備型HPLC 1純化反應混合物,得到 I-126
以下化合物( I)(表9及表10)可以與關於化合物 I-001I-004 I-069I-071 I-082I-084I-126所描述類似之方式或藉由使最初以此方式獲得之化合物( I)進一步衍生化而獲得。 9
# 結構 IC 50[nM] MS (M+H) + t RetHPLC [min] HPLC-MS 方法
I-001
Figure 02_image596
1.4 (M+H) += 614; t Ret.= 1.33 LCMS3, basisch_1
I-002
Figure 02_image598
   n.a. n.a.
I-003
Figure 02_image600
   (M+H) += 556 t Ret.= 0.84 VAB
I-004
Figure 02_image602
1.4 (M+H) += 570 t Ret.= 1.25 LCMS3, basisch_1
I-005
Figure 02_image604
1.6 (M+H) += 570 t Ret.= 1.25 LCMS3, basisch_1
I-006
Figure 02_image606
1.9 (M+H) += 614 t Ret.= 1.29 LCMS3, basisch_1
I-007
Figure 02_image608
2.1 (M+H) += 614 t Ret.= 1.29 LCMS3, basisch_1
I-008
Figure 02_image610
2.6 (M+H) += 602 t Ret.= 1.34 LCMS3, basisch_1
I-009
Figure 02_image612
3.9 (M+H) += 603 t Ret.= 1.22 LCMS3, basisch_1
I-010
Figure 02_image614
5.8 (M+H) += 615 t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
I-011
Figure 02_image616
6.1 (M+H) += 557 t Ret.= 1.41 LCMS3, basisch_1
I-012
Figure 02_image618
31 (M+H) += 614 t Ret.= 1.33 LCMS3, basisch_1
I-013
Figure 02_image620
43 (M+H) += 558 t Ret.= 1.32 LCMS3, basisch_1
I-014
Figure 02_image622
16 (M+H) += 601 t Ret.= 1.55 LCMS3. basisch_1
           
I-015
Figure 02_image624
1.5 (M+H) += 522 t Ret.= 1.13 LCMS3, basisch_1
I-016
Figure 02_image626
1.5 (M+H) += 556 t Ret.= 1.25 LCMS3, basisch_1
I-017
Figure 02_image628
1.9 (M+H) += 457 t Ret.= 1.28 LCMS3, basisch_1
I-018
Figure 02_image630
2.0 (M+H) += 554 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-019
Figure 02_image632
2.8 (M+H) += 566 t Ret.= 1.17 LCMS3, basisch_1
I-020
Figure 02_image634
3.1 (M+H) += 566 t Ret.= 1.17 LCMS3, basisch_1
I-021
Figure 02_image636
7.4 (M+H) += 598 t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
I-022
Figure 02_image638
1.0 (M+H) += 611 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-023
Figure 02_image640
2.5 (M+H) += 599 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-024
Figure 02_image642
3.5 (M+H) += 611 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-025
Figure 02_image644
1.1 (M-H) -= 595 t Ret.= 1.06 LCMS3, basisch_1
I-026
Figure 02_image646
6.7 (M+H) += 600 t Ret.= 1.12 LCMS3, basisch_1
I-027
Figure 02_image648
7.8 (M+H) += 600 t Ret.= 1.12 LCMS3, basisch_1
I-028
Figure 02_image650
6.8 (M+H) += 614 t Ret.= 1.13 LCMS3, basisch_1
I-029
Figure 02_image652
0.9 (M+H) += 553 t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
I-030
Figure 02_image654
0.5 (M+H) += 590 t Ret.= 1.26 LCMS3. basisch_1
I-031
Figure 02_image656
1.2 (M+H) += 485 t Ret.= 1.14 LCMS3. basisch_1
I-032
Figure 02_image658
1.9 (M+H) += 455 t Ret.= 1.28 LCMS3. basisch_1
I-033
Figure 02_image660
1.9 (M+H) += 471 t Ret.= 1.04 LCMS3. basisch_1
I-034
Figure 02_image662
2.3 (M+H) += 569 t Ret.= 1.15 LCMS3. basisch_1
I-035
Figure 02_image664
2.4 (M+H) += 429 t Ret.= 1.22 LCMS3. basisch_1
I-036
Figure 02_image666
2.5 (M+H) += 582 t Ret.= 1.09 LCMS3. basisch_1
I-037
Figure 02_image668
2.8 (M+H) += 457 t Ret.= 1.11 LCMS3. basisch_1
I-038
Figure 02_image670
2.8 (M+H) += 485 t Ret.= 1.14 LCMS3. basisch_1
I-039
Figure 02_image672
3.4 (M+H) += 514 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-040
Figure 02_image674
3.6 (M+H) += 590 t Ret.= 1.26 LCMS3. basisch_1
I-041
Figure 02_image676
3.7 (M+H) += 540 t Ret.= 1.21 LCMS3. basisch_1
I-042
Figure 02_image678
4.2 (M+H) += 499 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-043
Figure 02_image680
4.5 (M+H) += 415 t Ret.= 1.15 LCMS3. basisch_1
I-044
Figure 02_image682
4.7 (M+H) += 514 t Ret.= 1.15 LCMS3. basisch_1
I-045
Figure 02_image684
5.1 (M+H) += 583 t Ret.= 1.11 LCMS3. basisch_1
I-046
Figure 02_image686
9.6 (M+H) += 611 t Ret.= 0.86 LCMS3, basisch_1
I-047
Figure 02_image688
5.3 (M+H) += 528 t Ret.= 1.12 LCMS3. basisch_1
I-048
Figure 02_image690
6.7 (M+H) += 497 t Ret.= 1.12 LCMS3. basisch_1
I-049
Figure 02_image692
2.5 (M+H) += 480 t Ret.= 1.11 LCMS3. basisch_1
I-050
Figure 02_image694
5.8 (M+H) += 474 t Ret.= 1.11 LCMS3. basisch_1
I-051
Figure 02_image696
32 (M+H) += 490 t Ret.= 1.13 LCMS3. basisch_1
I-052
Figure 02_image698
8 (M+H) += 416 t Ret.= 1.08 LCMS3. basisch_1
I-053
Figure 02_image700
1.1 (M+H) += 414 t Ret.= 1.16 LCMS3. basisch_1
I-054
Figure 02_image702
1.4 (M+H) += 511 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-055
Figure 02_image704
   n.a. n.a.
I-056
Figure 02_image706
1.8 (M+H) += 442 t Ret.= 1.22 LCMS3. basisch_1
I-057
Figure 02_image708
2.1 (M+H) += 428 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-058
Figure 02_image710
2.3 (M+H) += 412 t Ret.= 1.12 LCMS3. basisch_1
I-059
Figure 02_image712
2.9 (M+H) += 414 t Ret.= 1.15 LCMS3. basisch_1
I-060
Figure 02_image714
3.3 (M+H) += 442 t Ret.= 1.24 LCMS3. basisch_1
I-061
Figure 02_image716
3.3 (M+H) += 430 t Ret.= 1.07 LCMS3. basisch_1
I-062
Figure 02_image718
3.9 (M+H) += 456 t Ret.= 1.08 LCMS3. basisch_1
I-063
Figure 02_image720
4.3 (M+H) += 511 t Ret.= 1.16 LCMS3. basisch_1
I-064
Figure 02_image722
27 (M+H) += 597 t Ret.= 1.11 LCMS3. basisch_1
I-065
Figure 02_image724
65 (M+H) += 456 t Ret.= 1.25 LCMS3. basisch_1
I-066
Figure 02_image726
81 (M+H) += 454 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-067
Figure 02_image728
135 (M+H) += 438 t Ret.= 1.25 LCMS3. basisch_1
I-068
Figure 02_image730
60 (M+H) += 437 t Ret.= 1.12 LCMS3, basisch_1
           
I-069
Figure 02_image732
   n.a. n.a.
I-070
Figure 02_image734
   n.a. n.a.
I-071
Figure 02_image736
2.3 (M+H) += 540 t Ret.= 1.21 LCMS3. basisch_1
I-072
Figure 02_image738
21 (M+H) += 539 t Ret.= 1.10 LCMS3. basisch_1
I-073
Figure 02_image740
72 (M+H) += 553 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-074
Figure 02_image742
64 (M+H) += 567 t Ret.= 1.29 LCMS3. basisch_1
I-075
Figure 02_image744
3 (M+H) += 553 t Ret.= 1.19 LCMS3. basisch_1
I-076
Figure 02_image746
20 (M+H) += 540 t Ret.= 1.24 LCMS3. basisch_1
I-077
Figure 02_image748
3 (M+H) += 539 t Ret.= 1.05 LCMS3. basisch_1
I-078
Figure 02_image750
3.1 (M+H) += 567 t Ret.= 1.19 LCMS3. basisch_1
I-079
Figure 02_image752
5.4 (M+H) += 541 t Ret.= 1.12 LCMS3. basisch_1
I-080
Figure 02_image754
1.1 (M+H) += 527 t Ret.= 1.08 LCMS3. basisch_1
I-081
Figure 02_image756
1.1 (M+H) += 596 t Ret.= 1.12 LCMS3. basisch_1
           
I-082
Figure 02_image758
   (M+H) += 570 t Ret.= 1.64 LCMS3. basisch_1
I-083
Figure 02_image760
24 (M+H) += 514 t Ret.= 0.80 LCMS3. basisch_1
I-084
Figure 02_image762
1.2 (M+H) += 567 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-085
Figure 02_image764
1.3 (M+H) += 553 t Ret.= 1.15 LCMS3. basisch_1
I-086
Figure 02_image766
1.3 (M+H) += 541 t Ret.= 1.14 LCMS3. basisch_1
I-087
Figure 02_image768
1.6 (M+H) += 571 t Ret.= 1.03 LCMS3. basisch_1
I-088
Figure 02_image770
2.4 (M+H) += 589 t Ret.= 1.26 LCMS3. basisch_1
I-089
Figure 02_image772
3.8 (M+H) += 593 t Ret.= 1.24 LCMS3. basisch_1
I-090
Figure 02_image774
3.8 (M+H) += 567 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-091
Figure 02_image776
4.3 (M+H) += 609 t Ret.= 1.16 LCMS3. basisch_1
I-092
Figure 02_image778
6.7 (M+H) += 615 t Ret.= 1.29 LCMS3. basisch_1
I-093
Figure 02_image780
6.9 (M+H) += 583 t Ret.= 1.21 LCMS3. basisch_1
I-094
Figure 02_image782
24 (M+H) += 514 t Ret.= 0.80 LCMS3. basisch_1
I-095
Figure 02_image784
0.6 (M+H) += 540 t Ret.= 1.10 LCMS3. basisch_1
I-096
Figure 02_image786
0.6 (M+H) += 595 t Ret.= 1.16 LCMS3. basisch_1
I-097
Figure 02_image788
0.7 (M+H) += 540 t Ret.= 1.10 LCMS3. basisch_1
I-098
Figure 02_image790
0.9 (M+H) += 572 t Ret.= 1.08 LCMS3. basisch_1
I-099
Figure 02_image792
1.0 (M+H) += 581 t Ret.= 1.14 LCMS3. basisch_1
I-100
Figure 02_image794
1.1 (M+H) += 566 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-101
Figure 02_image796
1.1 (M+H) += 539 t Ret.= 1.08 LCMS3. basisch_1
I-102
Figure 02_image798
1.1 (M+H) += 538 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-103
Figure 02_image800
1.2 (M+H) += 540 t Ret.= 1.23 LCMS3. basisch_1
I-104
Figure 02_image802
1.2 (M+H) += 553 t Ret.= 1.22 LCMS3. basisch_1
I-105
Figure 02_image804
1.3 (M+H) += 539 t Ret.= 1.07 LCMS3. basisch_1
I-106
Figure 02_image806
1.4 (M+H) += 552 t Ret.= 1.17 LCMS3. basisch_1
I-107
Figure 02_image808
1.6 (M+H) += 553 t Ret.= 1.22 LCMS3. basisch_1
I-108
Figure 02_image810
1.7 (M+H) += 567 t Ret.= 1.21 LCMS3. basisch_1
I-109
Figure 02_image812
1.9 (M+H) += 496 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-110
Figure 02_image814
1.9 (M+H) += 552 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-111
Figure 02_image816
2 (M+H) += 579 t Ret.= 1.31 LCMS3. basisch_1
I-112
Figure 02_image818
2 (M+H) += 526 t Ret.= 1.11 LCMS3. basisch_1
I-113
Figure 02_image820
2 (M+H) += 512 t Ret.= 1.25 LCMS3. basisch_1
I-114
Figure 02_image822
2.2 (M+H) += 526 t Ret.= 1.12 LCMS3. basisch_1
I-115
Figure 02_image824
2.8 (M+H) += 522 t Ret.= 1.27 LCMS3. basisch_1
I-116
Figure 02_image826
2.9 (M+H) += 553 t Ret.= 1.18 LCMS3. basisch_1
I-117
Figure 02_image828
2.9 (M+H) += 579 t Ret.= 1.34 LCMS3. basisch_1
I-118
Figure 02_image830
3 (M+H) += 544 t Ret.= 1.32 LCMS3. basisch_1
I-119
Figure 02_image832
5.6 (M+H) += 586 t Ret.= 1.04 LCMS3. basisch_1
I-120
Figure 02_image834
5.7 (M+H) += 540 t Ret.= 1.23 LCMS3. basisch_1
I-121
Figure 02_image836
40 (M+H) += 471 t Ret.=0.84 LCMS3. basisch_1
I-122
Figure 02_image838
4.0 (M+H) += 551 t Ret.= 1.19 LCMS3. basisch_1
I-123
Figure 02_image840
16 (M+H) += 526 t Ret.= 1.16 LCMS3. basisch_1
I-124
Figure 02_image842
48 (M+H) += 567 t Ret.= 1.27 LCMS3. basisch_1
I-125
Figure 02_image844
   (M+H) += 526 t Ret.= 1.10 LCMS3. basisch_1
I-126
Figure 02_image846
205 (M+H) += 539 t Ret.= 1.09 LCMS3. basisch_1
I-127
Figure 02_image848
5.2 (M+H) += 577 t Ret.= 1.40 LCMS3. basisch_1
           
I-128
Figure 02_image850
1.4 (M+H) += 553 t Ret.= 1.17 LCMS3. basisch_1
I-129
Figure 02_image852
5.3 (M+H) += 553 t Ret.= 1.22 LCMS3. basisch_1
I-130
Figure 02_image854
   (M+H) += 540 t Ret.= 1.20 LCMS3. basisch_1
I-131
Figure 02_image856
1.9 (M+H) += 567 t Ret.= 1.24 LCMS3. basisch_1
I-132
Figure 02_image858
2.3 (M+H) += 541 t Ret.= 1.17 LCMS3. basisch_1
I-133
Figure 02_image860
11 (M+H) += 484 t Ret.= 1.43 LCMS3. basisch_1
           
I-134
Figure 02_image862
4.5 (M+H) += 485 t Ret.= 1.26 LCMS3, basisch_1
I-135
Figure 02_image864
1.5 (M+H) += 471 t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
I-136
Figure 02_image866
3.8 (M+H) += 499 t Ret.= 2.06 LCMS3, basisch_1
I-137
Figure 02_image868
5.5 (M+H) += 477 t Ret.= 1.27 LCMS3, basisch_1
I-138
Figure 02_image870
7.8 (M+H) += 428 t Ret.= 1.33 LCMS3, basisch_1
           
I-139
Figure 02_image872
6.4 (M+H) += 462 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-140
Figure 02_image874
11 (M+H) += 569 t Ret.= 1.19 LCMS3, basisch_1
I-141
Figure 02_image876
1.6 (M+H) += 444 t Ret.= 1.17 LCMS3, basisch_1
I-142
Figure 02_image878
2.1 (M+H) += 485 t Ret.= 1.27 LCMS3, basisch_1
I-143
Figure 02_image880
2.8 (M+H) += 503 t Ret.= 1.19 LCMS3, basisch_1
I-144
Figure 02_image882
2.9 (M+H) += 511 t Ret.= 1.33 LCMS3, basisch_1
I-145
Figure 02_image884
3.3 (M+H) += 515 t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
I-146
Figure 02_image886
3.9 (M+H) += 444 t Ret.= 1.17 LCMS3, basisch_1
I-147
Figure 02_image888
4.9 (M+H) += 568 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-148
Figure 02_image890
6.5 (M+H) += 515 t Ret.= 1.08 LCMS3, basisch_1
I-149
Figure 02_image892
6.6 (M+H) += 471 t Ret.= 1.17 LCMS3, basisch_1
I-150
Figure 02_image894
7.5 (M+H) += 487 t Ret.= 1.07 LCMS3, basisch_1
I-151
Figure 02_image896
7.7 (M+H) += 565 t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
I-152
Figure 02_image898
13 (M+H) += 543 t Ret.= 1.80 LCMS3, basisch_1
I-153
Figure 02_image900
18 (M+H) += 521 t Ret.= 1.22 LCMS3, basisch_1
I-154
Figure 02_image902
18 (M+H) += 472 t Ret.= 1.20 LCMS3, basisch_1
I-155
Figure 02_image904
18 (M+H) += 565 t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
I-156
Figure 02_image906
19 (M+H) += 486 t Ret.= 1.24 LCMS3, basisch_1
I-157
Figure 02_image908
21 (M+H) += 487 t Ret.= 0.98 LCMS3, basisch_1
           
I-158
Figure 02_image910
2.9 (M+H) += 471 t Ret.= 1.22 LCMS3, basisch_1
10
# 結構 IC 50 [nM] MS (M+H) + t RetHPLC [min] HPLC-MS 方法
I-159
Figure 02_image912
6 (M+H) += 595 t Ret.= 1.29 LCMS3, basisch_1
I-160
Figure 02_image914
6.9 (M+H) += 595 t Ret.= 1.31 LCMS3, basisch_1
I-161
Figure 02_image916
8.1 (M+H) += 650 t Ret.= 1.23 LCMS3, basisch_1
I-162
Figure 02_image918
12 (M+H) += 593 t Ret.= 1.28 LCMS3, basisch_1
I-163
Figure 02_image920
12 (M+H) += 582 t Ret.= 1.35 LCMS3, basisch_1
I-164
Figure 02_image922
13 (M+H) += 527 t Ret.= 1.96 LCMS3, basisch_1
I-165
Figure 02_image924
14 (M+H) += 694 t Ret.= 1.19 LCMS3, basisch_1
I-166
Figure 02_image926
14 (M+H) += 609 t Ret.= 1.14 LCMS3, basisch_1
I-167
Figure 02_image928
18 (M+H) += 593 t Ret.= 1.28 LCMS3, basisch_1
I-168
Figure 02_image930
18 (M+H) += 554 t Ret.= 1.16 LCMS3, basisch_1
I-169
Figure 02_image932
19 (M+H) += 582 t Ret.= 1.23 LCMS3, basisch_1
I-170
Figure 02_image934
20 (M+H) += 538 t Ret.= 1.33 LCMS3, basisch_1
I-171
Figure 02_image936
20 (M+H) += 554 t Ret.= 1.20 LCMS3, basisch_1
I-172
Figure 02_image938
20 (M+H) += 609 t Ret.= 1.12 LCMS3, basisch_1
I-173
Figure 02_image940
21 (M+H) += 657 t Ret.= 1.38 LCMS3, basisch_1
I-174
Figure 02_image942
21 (M+H) += 609 t Ret.= 1.14 LCMS3, basisch_1
I-175
Figure 02_image944
22 (M+H) += 637 t Ret.= 1.20 LCMS3, basisch_1
I-176
Figure 02_image946
24 (M+H) += 562 t Ret.= 1.37 LCMS3, basisch_1
I-177
Figure 02_image948
26 (M+H) += 581 t Ret.= 1.30 LCMS3, basisch_1
I-178
Figure 02_image950
27 (M+H) += 651 t Ret.= 1.36 LCMS3, basisch_1
I-179
Figure 02_image952
29 (M+H) += 580 t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
I-180
Figure 02_image954
30 (M+H) += 629 t Ret.= 1.34 LCMS3, basisch_1
I-181
Figure 02_image956
30 (M+H) += 554 t Ret.= 1.19 LCMS3, basisch_1
I-182
Figure 02_image958
31 (M+H) += 582 t Ret.= 1.32 LCMS3, basisch_1
I-183
Figure 02_image960
33 (M+H) += 609 t Ret.= 1.14 LCMS3, basisch_1
I-184
Figure 02_image962
34 (M+H) += 567 t Ret.= 1.19 LCMS3, basisch_1
I-185
Figure 02_image964
34 (M+H) += 637 t Ret.= 1.25 LCMS3, basisch_1
I-186
Figure 02_image966
35 (M+H) += 607 t Ret.= 1.36 LCMS3, basisch_1
I-187
Figure 02_image968
35 (M+H) += 554 t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
I-188
Figure 02_image970
36 (M+H) += 602 t Ret.= 1.43 LCMS3, basisch_1
I-189
Figure 02_image972
36 (M+H) += 609 t Ret.= 1.11 LCMS3, basisch_1
I-190
Figure 02_image974
36 (M+H) += 512 t Ret.= 1.24 LCMS3, basisch_1
I-191
Figure 02_image976
39 (M+H) += 653 t Ret.= 1.35 LCMS3, basisch_1
I-192
Figure 02_image978
39 (M+H) += 574 t Ret.= 1.38 LCMS3, basisch_1
I-193
Figure 02_image980
40 (M+H) += 499 t Ret.= 1.22 LCMS3, basisch_1
I-194
Figure 02_image982
41 (M+H) += 593 t Ret.= 1.37 LCMS3, basisch_1
I-195
Figure 02_image984
42 (M+H) += 512 t Ret.= 1.23 LCMS3, basisch_1
I-196
Figure 02_image986
43 (M+H) += 593 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-197
Figure 02_image988
44 (M+H) += 538 t Ret.= 1.40 LCMS3, basisch_1
I-198
Figure 02_image990
50 (M+H) += 568 t Ret.= 1.27 LCMS3, basisch_1
I-199
Figure 02_image992
51 (M+H) += 581 t Ret.= 1.29 LCMS3, basisch_1
I-200
Figure 02_image994
51 (M+H) += 538 t Ret.= 1.34 LCMS3, basisch_1
I-201
Figure 02_image996
51 (M+H) += 608 t Ret.= 1.31 LCMS3, basisch_1
I-202
Figure 02_image998
51 (M+H) += 582 t Ret.= 1.35 LCMS3, basisch_1
I-203
Figure 02_image1000
51 (M+H) += 582 t Ret.= 1.27 LCMS3, basisch_1
I-204
Figure 02_image1002
52 (M+H) += 553 t Ret.= 1.37 LCMS3, basisch_1
I-205
Figure 02_image1004
52 (M+H) += 499 t Ret.= 1.20 LCMS3, basisch_1
I-206
Figure 02_image1006
53 (M+H) += 526 t Ret.= 1.33 LCMS3, basisch_1
I-207
Figure 02_image1008
55 (M+H) += 566 t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
I-208
Figure 02_image1010
56 (M+H) += 524 t Ret.= 1.21 LCMS3, basisch_1
I-209
Figure 02_image1012
57 (M+H) += 595 t Ret.= 1.35 LCMS3, basisch_1
I-210
Figure 02_image1014
62 (M+H) += 609 t Ret.= 1.10 LCMS3, basisch_1
I-211
Figure 02_image1016
64 (M+H) += 555 t Ret.= 1.18 LCMS3, basisch_1
I-212
Figure 02_image1018
64 (M+H) += 554 t Ret.= 1.17 LCMS3, basisch_1
I-213
Figure 02_image1020
65 (M+H) += 566 t Ret.= 1.16 LCMS3, basisch_1
I-214
Figure 02_image1022
67 (M+H) += 526 t Ret.= 1.32 LCMS3, basisch_1
I-215
Figure 02_image1024
71 (M+H) += 561 t Ret.= 1.31 LCMS3, basisch_1
I-216
Figure 02_image1026
71 (M+H) += 639 t Ret.= 0.91 LCMS3, basisch_1
I-217
Figure 02_image1028
75 (M+H) += 552 t Ret.= 1.40 LCMS3, basisch_1
I-218
Figure 02_image1030
76 (M+H) += 594 t Ret.= 1.23 LCMS3, basisch_1
I-219
Figure 02_image1032
80 (M+H) += 582 t Ret.= 1.34 LCMS3, basisch_1
I-220
Figure 02_image1034
81 (M+H) += 580 t Ret.= 1.15 LCMS3, basisch_1
I-221
Figure 02_image1036
87 (M+H) += 629 t Ret.= 1.34 LCMS3, basisch_1
I-222
Figure 02_image1038
87 (M+H) += 566 t Ret.= 1.09 LCMS3, basisch_1
I-223
Figure 02_image1040
95 (M+H) += 554 t Ret.= 1.13 LCMS3, basisch_1
I-224
Figure 02_image1042
97 (M+H) += 608 t Ret.= 1.39 LCMS3, basisch_1
I-225
Figure 02_image1044
100 (M+H) += 540 t Ret.= 1.35 LCMS3, basisch_1
以下實例描述根據本發明之化合物的生物活性,但本發明不限於此等實例: Ba/F3 細胞模型產生及增殖分析Ba/F3細胞係自DSMZ (ACC300,Lot17)訂購,且在37℃下在5% CO 2氛圍中於RPMI-1640 (ATCC 30-2001) + 10% FCS + 10 ng/mL IL-3中生長。含有EGFR突變體之質體係獲自GeneScript。為產生EGFR依賴性Ba/F3模型,Ba/F3細胞用含有攜帶EGFR同功異型物之載體的反轉錄病毒轉導。將鉑-E細胞(Cell Biolabs)用於反轉錄病毒封裝。將反轉錄病毒添加至Ba/F3細胞中。為確保感染,添加4 μg/ml凝聚胺且使細胞旋轉感染(spinfected)。藉由使用細胞分析儀量測GFP陽性細胞來確認感染效率。進一步培養感染效率為10%至20%之細胞,且開始用1 μg/ml嘌呤黴素進行選擇。作為對照,將親體Ba/F3細胞用於展示選擇狀態。當親體Ba/F3細胞培養物死亡時,選擇視為成功。為評估EGFR突變之轉化潛力,生長培養基不再補充IL-3。將攜帶空白載體之Ba/F3細胞用作對照。用已知對EGF配體具有相依性之野生型EGFR對Ba/F3細胞進行IL-3至EGF之轉換。在進行實驗之前約十天,不使用嘌呤黴素。對於增殖分析(表13中之資料),將Ba/F3細胞在生長培養基中以5×10 3個細胞/100 μl接種至96孔盤中。藉由使用HP D3000數位分配器添加化合物。以三次技術重複進行所有處理。在37℃下在5% CO 2下培育經處理細胞72 h。進行CellTiter-Glo ®發光細胞活力分析(Promega),且藉由使用多標記盤讀取器VICTOR X4來量測化學發光。將原始資料導入Boehringer Ingelheim專有軟體MegaLab (基於程式PRISM之曲線擬合,GraphPad Inc.)中且用其進行分析。 A:由指定EGFR對偶基因驅動且用指定化合物處理的Ba/F3細胞株之以nM為單位的活力IC 50值(展示具有三次技術重複的兩個獨立生物學實驗之平均資料)。
細胞模型 藥物 IC 50EGFR-非依賴性+ IL-3 [nM] IC 50EGFR wt+ EGFR [nM] IC 50EGFR del19 [nM]
厄洛替尼 > 5000 38.9 2.0
吉非替尼 > 5000 37.0 1.8
阿法替尼 1055.7 0.60 0.02
達可替尼 977.9 0.64 0.01
奧希替尼 960.3 26.7 0.5
那紮替尼 > 5000 95.1 1.1
I-107 632.89 249.26 5.45
I-022 2941.2 2708.3 3.7
I-204 816.1 334.3 2.7
I-162 1367.3 356.2 1.1
I-161 3798.5 764.2 2.4
I-186 1627.8 449.6 2.0
細胞模型 藥物 IC 50EGFR del19 T790M [nM] IC 50EGFR del19 C797S [nM] IC 50EGFR del19 T790M C797S [nM] (*)
厄洛替尼 1039.8 3.0 3562.5
吉非替尼 852.7 2.6 2091.2
阿法替尼 31.2 1.9 807.3
達可替尼 56.3 1.6 1170.3
奧希替尼 1.6 628.4 729.6
那紮替尼 4.1 744.8 455.2
I-107 6.06 7.07 5.42
I-022 7.8 5.0 7.4
I-204 8.3 3.5 7.3
I-162 3.2 1.1 2.6
I-161 9.3 3.0 8.4
I-186 5.2 2.6 4.2
細胞模型 藥物 IC 50EGFR L858R [nM] IC 50EGFR L858R T790M [nM] IC 50EGFR L858R C797S [nM]
厄洛替尼 4.6 > 5000 11.1
吉非替尼 5.8 3399.6 11.5
阿法替尼 0.02 34.8 7.2
達可替尼 0.03 61.4 6.9
奧希替尼 1.1 1.9 768.7
那紮替尼 5.1 7.3 1985.2
I-107 26.38 29.68 52.22
I-022 19.0 12.4 33.9
I-204 13.5 15.7 26.9
I-162 4.6 7.2 10.6
I-161 11.5 13.3 23.5
I-186 11.3 10.8 19.0
細胞模型 藥物 IC 50EGFR L858R T790M C797S [nM]
厄洛替尼 > 5000
吉非替尼 > 5000
阿法替尼 1145.4
達可替尼 1602.4
奧希替尼 1082.3
那紮替尼 758.8
I-107 24.34
I-022 14.2
I-204 19.2
I-162 7.8
I-161 14.6
I-186 12.9
Ba/F3 EGFR del19 T790M C797S 增殖分析用上文所描述之分析量測的其他化合物用(*)指示
# IC 50EGFR del19 T790M C797S [nM]
I-017 9
I-022 7.4
I-023 4
I-031 4
I-032 9
I-033 13
I-034 44
I-036 13
I-038 9
I-044 15
I-048 53
I-053 9
I-054 10
I-096 3
I-135 8
I-141 7
I-142 8
I-145 7
I-150 65
I-158 7
pEGFR 分析此分析量化EGFR在Tyr1068處之磷酸化且用於量測化合物對Ba/F3細胞中之轉殖基因EGFR del19 T790M C797S蛋白的抑制作用。使鼠類Ba/F3細胞在37℃下於5% CO 2氛圍下生長於RPMI-1640 (ATCC 30-2001) + 10% FCS + 10 ng/mL IL-3中且用編碼EGFR del19 T790M C797S之反轉錄病毒載體轉導。使用嘌呤黴素選擇經轉導之細胞。選擇後,抽取IL-3且培養IL-3非依賴性細胞。使用AlphaScreen Surefire pEGF受體(Tyr1068)分析(PerkinElmer,TGRERS)測定p-EGFR Tyr1068。為了分析,將Ba/F3 EGFR del19 T790M C797S細胞接種於含10% FCS之DMEM培養基中。使用Echo平台將60 nL化合物稀釋液添加至Greiner TC 384盤之各孔。隨後,添加60.000個細胞/孔,60 µL。在37℃下將細胞與化合物一起培育4 h。在離心且移除培養基上清液之後,添加20 µL來自TGR/Perkin Elmer套組之1.6倍溶解緩衝液與蛋白酶抑制劑。在室溫下在振盪(700 rpm)下培育混合物20 min。離心後,將4 µL溶解物轉移至Proxiplates。將5 µL受體混合物(以1:25稀釋於合併之反應緩衝液1及反應緩衝液2 (TGRERS分析套組,PerkinElmer)中之活化緩衝液加1:50之蛋白A受體珠粒6760137)添加至各孔。將盤振盪1 min (1400 rpm),且在室溫下在暗處培育2 h。將3 µL供體混合物(以1:50稀釋於稀釋緩衝液(TGRERS分析套組,PerkinElmer)中之經AlphaScreen鏈黴親和素塗佈之供體珠粒(6760002,PerkinElmer))添加至各孔。將盤振盪1 min (1400 rpm),且在室溫下在暗處培育2 h。隨後使用Envision讀取器平台分析盤。以以下方式計算結果:計算測試化合物之值與陰性對照(DMSO)之值的比。在MEGASTAR IC 50應用中使用4參數邏輯模型根據此等值計算IC 50值。
此細胞磷酸-EGFR (pEGFR)化合物劑量-反應分析量化表現EGFR變體del19 T790M C797S之/F3細胞中EGFR在Tyr1068處之磷酸化。分析之結果提供為IC 50值(參見表9)。報導之給定化合物之pEGFR IC 50值越低,則化合物抑制Ba/F3細胞中EGFR del19 T790M C797S目標蛋白之效力越強。
PC-9 EGFR del19 T790M C797S 增殖分析此分析量化表10之化合物在PC-9 EGFR del19 T790M C797S細胞中的抗增殖作用。PC-9為獲自歐洲認證細胞培養聯合會之非小細胞肺癌細胞株(ECACC #90071810;批號:14A030),其表現稱為EGFR del19的EGFR之致癌變體。為產生表現EGFR del19 T790M C797S之PC-9_TMCS_10純系,使用基因體工程改造分別將突變T790M及C797S引入至PC-9親本細胞中基因體EGFR基因座之外顯子20中。使用定序驗證突變之成功引入。將細胞在生長培養基(RPMI-1640 (Gibco #12633012)+ 10% FCS (HyClone #SH30071))中接種至96孔盤(150 μL)中。在平板接種細胞後一天,藉由使用HP D3000數位分配器添加化合物。以三次技術重複進行所有處理。在37℃及5% CO 2下將經處理細胞培育96 h。進行CellTiter-Glo ®發光細胞活力分析(Promega),且藉由使用多標記盤讀取器VICTOR X4來量測化學發光。將原始資料導入Boehringer Ingelheim專有軟體MegaLab (基於R (庫DLC)之曲線擬合)中且用其進行分析。藉由以DMSO標準化經化合物處理之細胞來計算活細胞之定量。使用4參數邏輯回歸模型計算劑量反應曲線。相對IC50值定義為劑量反應曲線之拐點處的藥物濃度。
分析之結果提供為IC 50值(參見表10)。給定化合物在上文所提及之細胞上的所報導IC 50值越低,化合物之抗增殖作用越強。
以下調配物實例說明本發明而不限制其範疇: 醫藥調配物之實例
A) 錠劑 每錠劑
根據式 (I)之活性物質 100 mg
乳糖 140 mg
玉米澱粉 240 mg
聚乙烯吡咯啶酮 15 mg
硬脂酸鎂 5 mg
500 mg
將細粉狀活性物質、乳糖及一些玉米澱粉混合在一起。篩分混合物,隨後用聚乙烯吡咯啶酮於水中之溶液濕潤,揉合,濕法造粒且乾燥。將顆粒、剩餘玉米澱粉及硬脂酸鎂篩分且混合在一起。壓製混合物以產生具有適合形狀及大小之錠劑。
B) 錠劑 每錠劑
根據式 (I)之活性物質 80 mg
乳糖 55 mg
玉米澱粉 190 mg
微晶纖維素 35 mg
聚乙烯吡咯啶酮 15 mg
羧甲基澱粉鈉 23 mg
硬脂酸鎂 2 mg
400 mg
將細粉狀活性物質、一些玉米澱粉、乳糖、微晶纖維素及聚乙烯吡咯啶酮混合在一起,篩分混合物且用剩餘玉米澱粉及水加工以形成顆粒,將其乾燥且進行篩分。添加且混合羧甲基澱粉鈉及硬脂酸鎂,且壓製混合物以形成適合大小之錠劑。
C) 錠劑 每錠劑
根據式 (I)之活性物質 25 mg
乳糖 50 mg
微晶纖維素 24 mg
硬脂酸鎂 1 mg
100 mg
將活性物質、乳糖及纖維素混合在一起。篩分混合物,隨後用水濕潤,揉合,濕法造粒且乾燥,或乾法造粒,或直接與硬脂酸鎂最終摻合,且壓製成具有適合形狀及大小之錠劑。當濕法造粒時,添加額外乳糖或纖維素及硬脂酸鎂且壓製混合物以產生具有適合形狀及大小之錠劑。
D) 安瓿溶液   
根據式 (I)之活性物質 50 mg
氯化鈉 50 mg
注射用水 5 mL
將活性物質溶解於具有固有pH或視情況處於pH 5.5至6.5下的水中,且添加氯化鈉以使其等張。過濾所得溶液使其不含熱原質,且在無菌條件下將濾液轉移至安瓿中,隨後滅菌且藉由熔合密封。安瓿含有5 mg、25 mg及50 mg活性物質。
Figure 110140534-A0101-11-0002-4

Claims (23)

  1. 一種式( I)化合物
    Figure 03_image004
    ,其中 R 1 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; R 2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基;或 R 1 R 2 與其所連接之碳原子一起形成5員至6員雜環或5員至6員雜芳環; R 3 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-CN、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c1、-N(R c1)R c1、鹵素、-CN、-C(=O)R c1、-C(=O)OR c1、-C(=O)N(R c1)R c1、-C(=O)N(H)OR c1、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c1、-S(=O) 2R c1、-S(=O) 2N(R c1)R c1、-N(H)C(=O)R c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c1、-N(H)C(=O)OR c1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e1、-N(R e1)R e1、鹵素、-CN、-C(=O)R e1、-C(=O)OR e1、-C(=O)N(R e1)R e1、-C(=O)N(H)OR e1、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e1、-S(=O) 2R e1、-S(=O) 2N(R e1)R e1、-N(H)C(=O)R e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e1、-N(H)C(=O)OR e1、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e1、-N(H)S(=O) 2R c1、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c1及二價取代基=O; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; X 1 係選自由碳(C)及氮(N)組成之群; X 2 係選自由碳(C)及氮(N)組成之群; X 1 X 2 中之至少一者為碳(C); X 3 係選自由以下組成之群:氮(N)、C(R 5)、N(R 6)、C(R 5)(R 5)、氧(O)、硫(S)、S(=O)、S(=O) 2及C(=O); X 4 係選自由以下組成之群:氮(N)、C(R 7)、N(R 8)、C(R 7)(R 7)、氧(O)、硫(S)、S(=O)、S(=O) 2及C(=O); X 5 係選自由以下組成之群:氮(N)、C(R 9)、N(R 10)、C(R 9)(R 9)、氧(O)、硫(S)、S(=O)、S(=O) 2及C(=O); 環A中環成員之間的各鍵係獨立地選自單鍵、雙鍵或(雜)芳族鍵; 各 R 5 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 6 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; 各 R 8 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 9 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 10 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 或其鹽。
  2. 如請求項1之化合物或鹽,其中 R 1 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基; R 2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、鹵素、-OH、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基、C 3-6環烷氧基、3員至6員雜環基氧基及3員至6員雜環基。
  3. 如請求項1之化合物或鹽,其中 R 1 R 2 與其所連接之碳原子一起形成5員至6員雜環或5員至6員雜芳環。
  4. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中 R 3 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基及鹵素。
  5. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中 R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c1、-N(R c1)R c1、鹵素及二價取代基=O; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e1、-N(R e1)R e1、鹵素及二價取代基=O; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、苯基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由鹵素及二價取代基=O組成之群的取代基取代。
  6. 如請求項5之化合物或鹽,其中 R 4 係選自由 R a1 R b1 組成之群; R a1 係選自由以下組成之群:C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
  7. 如請求項6之化合物或鹽,其中 R 4 R a1 R a1 為視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代之3員至11員雜環基; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
  8. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中 R 4 係選自由-NH 2、-NH(C 1-4烷基)及-N(C 1-4烷基) 2組成之群。
  9. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中 R 4 為-OR c1R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
  10. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中 R 4 係選自由C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b1 及/或 R c1 取代; 各 R b1 係獨立地選自由-OR c1、-N(R c1)R c1及鹵素組成之群; 各 R c1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、3員至11員雜環基及5員至6員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d1 及/或 R e1 取代; 各 R d1 係獨立地選自由-OR e1、-N(R e1)R e1及鹵素組成之群; 各 R e1 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-10環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
  11. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中
    Figure 03_image1047
    係選自由以下組成之群:
    Figure 03_image1049
    Figure 03_image1051
    Figure 03_image1053
    ; 各 R 5 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-4烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 6 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; 各 R a2 係選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4 -10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-CN、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2、-S(=O) 2R c2、-S(=O) 2N(R c2)R c2、-N(H)C(=O)R c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R c2、-N(H)C(=O)OR c2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR c2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-CN、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2、-C(=O)N(R e2)R e2、-C(=O)N(H)OR e2、-C(=O)N(C 1-4烷基)OR e2、-S(=O) 2R e2、-S(=O) 2N(R e2)R e2、-N(H)C(=O)R e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)R e2、-N(H)C(=O)OR e2、-N(C 1-4烷基)C(=O)OR e2、-N(H)S(=O) 2R c2、-N(C 1-4烷基)S(=O) 2R c2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基,其中該C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 2-6烯基、C 2-6炔基、C 3-10環烷基、C 4-10環烯基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基及5員至10員雜芳基全部視情況經一或多個相同或不同選自由以下組成之群的取代基取代:C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 3-10環烷基、3員至11員雜環基、C 6-10芳基、5員至10員雜芳基、-OH、C 1-6烷氧基、C 1-4烷氧基C 1-4烷基、羥基C 1-4烷基、鹵素、-CN、-NH 2、-C(=O)C 1-4烷基、-NH(C 1-4烷基)、-N(C 1-4烷基) 2及二價取代基=O; 各 R 8 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 9 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基、C 1-6鹵烷氧基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、鹵素、-NH 2、-NH(C 1-6烷基)、-N(C 1-6烷基) 2、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基; 各 R 10 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 1-6鹵烷基、C 1-6烷氧基C 1-6烷基、C 1-6鹵烷氧基C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至6員雜環基。
  12. 如請求項1至3中任一項之化合物或鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR c2、-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2及-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
  13. 如請求項12之化合物或鹽,其中 各 R 7 係獨立地選自由 R a2 R b2 組成之群; R a2 係選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-N(R c2)R c2、鹵素、-C(=O)R c2及-C(=O)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由以下組成之群:氫、C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至11員雜環基,其中該C 1-6烷基、C 3-6環烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由-OR e2及-C(=O)OR e2組成之群; 各 R e2 係獨立地選自由氫、C 3-6環烷基及C 1-6烷基組成之群。
  14. 如請求項13之化合物或鹽,其中 各 R 7 R a2 R a2 為視情況經一或多個相同或不同 R b2 及/或 R c2 取代之3員至11員雜環基; 各 R b2 係獨立地選自由鹵素、-C(=O)R c2及-C(=O)OR c2組成之群; 各 R c2 為視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代之C 1-6烷基; 各 R d2 係獨立地選自由-OR e2及-C(=O)OR e2組成之群; 各 R e2 係獨立地選自由氫及C 1-6烷基組成之群。
  15. 如請求項12之化合物或鹽,其中 各 R 7 R b2 ; 各 R b2 係獨立地選自由以下組成之群:-C(=O)R c2、-C(=O)OR c2、-C(=O)N(R c2)R c2、-C(=O)N(H)OR c2及-C(=O)N(C 1-4烷基)OR c2; 各 R c2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同 R d2 及/或 R e2 取代; 各 R d2 係獨立地選自由以下組成之群:-OR e2、-N(R e2)R e2、鹵素、-C(=O)R e2、-C(=O)OR e2及二價取代基=O; 各 R e2 係獨立地選自由氫、C 1-6烷基及3員至11員雜環基組成之群,其中該C 1-6烷基及3員至11員雜環基全部視情況經一或多個相同或不同鹵素取代。
  16. 一種如請求項1至15中任一項之化合物或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造治療及/或預防由突變型EGFR介導之疾病及/或病況的藥物。
  17. 一種如請求項1至15中任一項之化合物或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造治療及/或預防癌症之藥物。
  18. 一種如請求項1至15中任一項之化合物或其醫藥學上可接受之鹽的用途,其用於製造治療具有攜帶突變型EGFR基因之腫瘤細胞之癌症的藥物。
  19. 如請求項16至18中任一項之用途,其中該化合物或其醫藥學上可接受之鹽係在一或多種其他藥理活性物質之前、之後投與或一起投與。
  20. 如請求項16至18中任一項之用途,其中該化合物或其醫藥學上可接受之鹽係與治療有效量之一或多種其他藥理活性物質組合投與。
  21. 如請求項17至18中任一項之用途,其中該癌症係選自由以下組成之群:肺癌、腦癌、大腸直腸癌、膀胱癌、尿道上皮癌、乳癌、前列腺癌、卵巢癌、頭頸癌、胰臟癌、胃癌及間皮瘤,包括全部所列癌症之轉移(詳言之腦轉移)。
  22. 一種醫藥組合物,其包含如請求項1至15中任一項之化合物或其醫藥學上可接受之鹽及一或多種醫藥學上可接受之賦形劑。
  23. 一種醫藥組合物,其包含如請求項1至15中任一項之化合物或其醫藥學上可接受之鹽及一或多種其他藥理活性物質。
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