TW202202563A - 偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法 - Google Patents

偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW202202563A
TW202202563A TW110121707A TW110121707A TW202202563A TW 202202563 A TW202202563 A TW 202202563A TW 110121707 A TW110121707 A TW 110121707A TW 110121707 A TW110121707 A TW 110121707A TW 202202563 A TW202202563 A TW 202202563A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
polarizing film
pva
based resin
stretching
treatment
Prior art date
Application number
TW110121707A
Other languages
English (en)
Inventor
高永幸佑
上条卓史
川綠一葵
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW202202563A publication Critical patent/TW202202563A/zh

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/04—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/04—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique
    • B29C55/06—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique parallel with the direction of feed
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

本發明提供一種沿吸收軸方向之斷裂經抑制的偏光膜。本發明偏光膜係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成。在一實施形態中，偏光膜於令單體透射率為x%、且令聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。在一實施形態中，偏光膜於令單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。在一實施形態中，偏光膜之厚度為10μm以下。本發明偏光板具有上述偏光膜與配置偏光膜之至少一側的保護層。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　　  (2)

Description

偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法
本發明涉及偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法。
在屬代表性影像顯示裝置的液晶顯示裝置中，由於其影像形成方式而於液晶單元的兩側配置有偏光膜。作為偏光膜之製造方法，例如已提出有一種將具有樹脂基材與聚乙烯醇(PVA)系樹脂層之積層體延伸，接著施以染色處理，而在樹脂基材上獲得偏光膜之方法(例如專利文獻1)。藉由這種方法可獲得厚度較薄的偏光膜，因能對近年之影像顯示裝置的薄型化有所貢獻而備受矚目。然而，如上述之薄型偏光膜卻有容易沿吸收軸方向裂開(容易破裂)之問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2001-343521號公報
發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往課題而成者，其主要目的在於提供一種沿吸收軸方向之斷裂經抑制之偏光膜。
用以解決課題之手段 根據本發明之一面向提供一種偏光膜，其係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，並且於令單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。 y＜-0.011x+0.525　　　　(1) 根據本發明之另一面向提供一種偏光膜，其係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，並且於令單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。 z＜-60x+2875　　　　　　　　(2) 在一實施形態中，上述偏光膜之厚度為10µm以下。 在一實施形態中，上述偏光膜之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上。 根據本發明之又另一面向提供一種偏光板，其具有上述偏光膜與配置於該偏光膜之至少一側的保護層。 在一實施形態中，上述偏光板之總厚度為30µm以下。 根據本發明之又另一面向提供一種上述偏光膜之製造方法。該製造方法包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成包含碘化物或氯化鈉與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層，而製成積層體；以及，對該積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將該積層體一邊沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上；該空中輔助延伸處理及該水中延伸處理之延伸的總倍率相對於該積層體之原長為3.0倍~4.5倍，且該空中輔助延伸處理之延伸倍率大於該水中延伸處理之延伸倍率。
發明效果 本發明偏光膜係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成，且單體透射率與該PVA系樹脂之雙折射或PVA系樹脂薄膜之面內相位差滿足預定之關係。滿足所述關係之偏光膜因PVA系樹脂之定向狀態等，可實現實際使用上可容許之光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)，同時可抑制沿吸收軸方向之斷裂。
以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。又，各實施形態可適當組合。
A.偏光膜 本發明之一實施形態之偏光膜係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成，並且於令單體透射率為x%、且令該PVA系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。又，本發明之另一實施形態之偏光膜係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成，並且於令單體透射率為x%、且令該PVA系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2)
上述偏光膜之PVA系樹脂之雙折射(以下表記為PVA之雙折射或PVA之Δn)及PVA系樹脂薄膜之面內相位差(以下表記為「PVA之面內相位差」)，皆為與構成偏光膜之PVA系樹脂之分子鏈的定向度相關之值，隨著定向度之上升會變成大的值。上述偏光膜其PVA系樹脂之分子鏈往吸收軸方向之定向較以往之偏光膜更和緩，因此沿吸收軸方向之斷裂便被抑制。結果可獲得撓曲性非常優異之偏光膜(以結果而言為偏光板)。所述偏光膜(以結果而言為偏光板)宜可應用於彎曲的影像顯示裝置、較佳可應用於可彎折的影像顯示裝置、更佳可應用於可折疊的影像顯示裝置膜。以往，定向度低之偏光膜難以獲得可容許之光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)，但滿足上述式(1)及/或式(2)之偏光膜可兼顧較以往更低之PVA系樹脂之定向度與可容許之光學特性。
本發明實施形態之偏光膜宜滿足下述式(1a)及/或式(2a)，較宜滿足下述式(1b)及/或式(2b)。 -0.004x+0.18＜y＜-0.011x+0.525　　(1a) -0.003x+0.145＜y＜-0.011x+0.520　　(1b) -40x+1800＜z＜-60x+2875　　(2a) -30x+1450＜z＜-60x+2850　　(2b)
本說明書中，上述PVA之面內相位差係PVA系樹脂薄膜在23℃、波長1000nm下之面內相位差值。藉由將近紅外線區域設為測定波長，可排除偏光膜中之碘的吸收的影響而可測定相位差。又，上述PVA之雙折射(面內雙折射)係將PVA之面內相位差除以偏光膜之厚度所得之值。
PVA之面內相位差係如下述進行評估。首先，以複數個波長850nm以上之波長測定相位差值，並進行測得之相位差值：R(λ)與波長：λ之繪圖，將其用最小平方法擬合至下述色邁耶爾(Sellmeier)公式。在此，A及B為擬合參數，係利用最小平方法決定之係數。 R(λ)=A+B/(λ2 -6002 ) 此時，該相位差值R(λ)可以下述方式分離無波長依存性之PVA的面內相位差(Rpva)與波長依存性強之碘的面內相位差值(Ri)。 Rpva=A Ri=B/(λ2 -6002 ) 根據該分離式，可算出PVA在波長λ=1000nm下之面內相位差(亦即Rpva)。此外，關於該PVA之面內相位差之評估方法，亦記載於日本專利第5932760號公報中，可因應需要參照。 又，將該相位差除以厚度，藉此可算出PVA之雙折射(Δn)。
用以測定上述PVA在波長1000nm下之面內相位差的市售裝置，可舉王子計測公司製之KOBRA-WR/IR系列、KOBRA-31X/IR系列等。
構成上述偏光膜之PVA系樹脂的定向函數(f)例如為0.25以下，宜為0.22以下，較宜為0.20以下，更宜為0.18以下，尤宜為0.15以下。定向函數的下限例如可為0.05。定向函數若過小，有無法獲得可容許之單體透射率及/或偏光度之情形。
定向函數(f)例如係用傅立葉轉換紅外光譜光度計(FT-IR)並以偏光作為測定光，藉由衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定來求得。具體而言，用以使偏光膜密著之微晶係使用鍺，測定光之入射角設為45°入射，且令欲入射之經偏光的紅外線(測定光)為朝使鍺結晶之試樣密著的面平行振動之偏光(s偏光)，並在將偏光膜之延伸方向相對於測定光之偏光方向作平行及垂直配置之狀態下實施測定，然後使用所得吸光度光譜之2941cm-1 的強度，依下述式算出。在此，強度I係以3330cm-1 為參考波峰，而為2941cm-1 /3330cm-1 之值。另外，f=1時為完全定向，f=0時為無規。又，吾等認為2941cm-1 之波峰為起因於偏光膜中之PVA主鏈(-CH2 -)所致之振動的吸收。 f=(3＜cos2 θ＞-1)/2 =(1-D)/[c(2D+1)] =-2×(1-D)/(2D+1) 惟， 以c=(3cos2 β-1)/2，2941cm-1 之振動時，β=90°。 θ：分子鏈相對於延伸方向之角度 β：躍遷偶極矩相對於分子鏈軸之角度 D=(I⊥ )/(I// )  (此時，PVA分子越定向，D越大) I⊥ ：測定光之偏光方向與偏光膜之延伸方向呈垂直時之吸收強度 I// ：測定光之偏光方向與偏光膜之延伸方向呈平行時之吸收強度
偏光膜之厚度宜為10µm以下，較宜為8µm以下。偏光膜之厚度的下限例如可為1µm。偏光膜之厚度在一實施形態中亦可為2µm~10µm，在另一實施形態中亦可為2µm~8µm。藉由使偏光膜之厚度如所述般非常薄，可使熱收縮變得非常小。吾等推測所述構成亦有助於抑制吸收軸方向之斷裂。
偏光膜宜在波長380nm~780nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光膜之單體透射率宜為40.0%以上，較宜為41.0%以上。單體透射率之上限例如可為49.0%。偏光膜之單體透射率在一實施形態中為40.0%~45.0%。偏光膜之偏光度宜為99.0%以上，較宜為99.4%以上。偏光度之上限例如可為99.999%。偏光膜之偏光度在一實施形態中為99.0%~99.9%。本發明實施形態之偏光膜之一特徵在於：即便構成該偏光膜之PVA系樹脂之定向度較以往更低，且具有如上述之面內相位差、雙折射及/或定向函數，仍可實現所述之實際使用上可容許之單體透射率及偏光度。吾等推測其係因後述之製造方法所致。此外，單體透射率代表上係使用紫外線可見光分光光度計來測定並進行視感度校正所得之Y值。又，使用具有[偏光膜/樹脂基材(保護層)]之構成的偏光板來測定偏光膜之單體透射率時，上述偏光膜之單體透射率係將偏光板之一表面之折射率換算為1.50，並將另一表面之折射率換算為1.53時的值。偏光度代表上可基於使用紫外線可見光分光光度計測定並進行視感度校正所得之平行透射率Tp及正交透射率Tc，透過下述式來求得。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1 /2 ×100
偏光膜之穿刺強度例如為30gf/µm以上，且宜為35gf/µm以上，較宜為40gf/µm以上，更宜為45gf/µm以上，尤宜為50gf/µm以上。穿刺強度之上限例如可為80gf/µm。藉由將偏光膜之穿刺強度設為所述範圍，可顯著抑制偏光膜沿吸收軸方向裂開。結果可獲得撓曲性非常優異之偏光膜(以結果而言為偏光板)。穿刺強度係表示以預定強度穿刺偏光膜時之偏光膜的抗破裂耐性。穿刺強度例如可以於壓縮試驗機裝設預定之針，並將該針以預定速度穿刺偏光膜時偏光膜破裂之強度(斷裂強度)來表示。此外，從單位可明顯知道，穿刺強度意指偏光膜之每單位厚度(1µm)的穿刺強度。
偏光膜如上述係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成。宜為構成PVA系樹脂薄膜(實質上為偏光膜)之PVA系樹脂包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。若為所述構成，便可獲得具有所期望之穿刺強度的偏光膜。當令PVA系樹脂整體為100重量%時，經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂之摻混量宜為5重量%~20重量%，較宜為8重量%~12重量%。摻混量若在所述範圍內，便可將穿刺強度設為更適宜之範圍。
偏光膜在代表上可使用兩層以上之積層體來製作。使用積層體所得之偏光膜的具體例，可舉出使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體所得之偏光膜。使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材上之PVA系樹脂層的積層體所得之偏光膜，例如可藉由以下方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；以及，將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光膜。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中來延伸。並且，延伸宜更包含下述步驟：在硼酸水溶液中延伸之前，在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。本發明實施形態中，延伸之總倍率宜為3.0倍~4.5倍，與一般相較下顯著較小。即便為所述之延伸總倍率，藉由添加鹵化物及乾燥收縮處理之組合，亦可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。並且，本發明實施形態中，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於硼酸水中延伸之延伸倍率。藉由設成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。並且，積層體宜供於一邊沿長邊方向輸送一邊進行加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上之乾燥收縮處理。在一實施形態中，偏光膜之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光膜的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。所得樹脂基材/偏光膜之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光膜之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光膜之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面積層因應目的之任意適當的保護層後再來使用。關於偏光膜之製造方法的詳細內容將於C項說明。
B.偏光板 圖1(a)及圖1(b)分別為本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。圖1(a)所示偏光板100a具有偏光膜10與配置於偏光膜10之一側的第1保護層20。圖1(b)所示偏光板100b具有：偏光膜10、配置於偏光膜10之一側的第1保護層20、及配置於偏光膜10之另一側的第2保護層30。偏光膜10係於上述A項所說明之本發明偏光膜。另，如上述，第1保護層及第2保護層之中，亦可有一者為用於上述偏光膜之製造的樹脂基材。
上述偏光板之總厚度例如為150µm以下，宜為30µm以下，較宜為25µm以下，更宜為20µm以下。總厚度之下限例如可為10µm。具有所述總厚度之偏光板可具有極優異之可撓性及抗彎折耐久性。所述附相位差層之偏光板尤可適於應用於彎曲的影像顯示裝置及/或可撓曲或彎折的影像顯示裝置。另外，所謂偏光板的總厚度係指扣除用以使偏光板與面板或玻璃等外部被黏體密著的黏著劑層後，構成偏光板的所有層之厚度合計(亦即偏光板的總厚度不包含用以將偏光板貼附至影像顯示單元等鄰接構件的黏著劑層及可暫時黏附於其表面的剝離薄膜之厚度)。
在一實施形態中，第1及/或第2保護薄膜係以可作為偏光膜之保護層使用的任意適當的薄膜形成。作為成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可舉三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可舉(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物，可舉例如具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物與丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
在另一實施形態中，第1及/或第2保護層係以熱塑性樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物(以下亦稱熱塑性樹脂之塗覆膜)構成。熱塑性樹脂可按目的適使用任意適當之樹脂。例如，可例示丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂等，其中又以丙烯酸系樹脂及環氧系樹脂為佳。
在將偏光板100應用於影像顯示裝置時，配置於與顯示面板相反之側的保護層(外側保護層)之厚度宜為2µm~80µm，較宜為2µm~40µm，更宜為2µm~25µm。外側保護層為熱塑性樹脂之塗覆膜時，其厚度例如為10µm以下，宜為7µm以下，較宜為5µm以下。此外，施行有表面處理時，外側保護層之厚度係包含表面處理層之厚度的厚度。
在將偏光板100應用於影像顯示裝置時，配置於顯示面板側的保護層(內側保護層)之厚度宜為5µm~80µm，較宜為5µm~40µm，更宜為5µm~25µm。在一實施形態中，內側保護層係任意適當之具有相位差值的相位差層。此時，在23℃下以波長550nm之光測定之相位差層之面內相位差Re(550)例如為110nm~150nm。「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差，可藉由式：Re=(nx-ny)×d求得。在此，「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)之折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率，「d」為層(薄膜)之厚度(nm)。
C.偏光膜之製造方法 本發明一實施形態之偏光膜之製造方法包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)，而製成積層體；以及，對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將積層體一邊沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理，且加熱輥之溫度宜為60℃~120℃。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率宜為2%以上。並且，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於水中延伸之延伸倍率。根據所述製造方法可獲得在上述A項所說明之偏光膜。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)之偏光膜：製作包含含鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後，將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸，再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱使其於寬度方向收縮2%以上。
C-1.積層體之製作 製作熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體的方法可採用任意適當之方法。宜將含鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材之表面並乾燥，藉此於熱塑性樹脂基材上形成PVA系樹脂層。如上述，PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液之塗佈方法可採用任意適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(缺角輪塗佈法等)等。上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。
PVA系樹脂層之厚度宜為2µm~30µm，更宜為2µm~20µm。藉由使延伸前之PVA系樹脂層之厚度如所述般非常薄且如後述縮小延伸之總倍率，可獲得即便PVA系樹脂之定向度較以往更低卻具有可容許之單體透射率及偏光度之偏光膜。
在形成PVA系樹脂層之前，可對熱塑性樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等)，也可於熱塑性樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理，可提升熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
C-1-1.熱塑性樹脂基材 熱塑性樹脂基材可採用任意適當的熱塑性樹脂薄膜。關於熱塑性樹脂薄膜基材的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
C-1-2.塗佈液 塗佈液係如上述包含鹵化物與PVA系樹脂。上述塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合來使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於熱塑性樹脂基材之均勻的塗佈膜。塗佈液中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉例如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可舉例如乙二醇或甘油等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子界面活性劑。該等可為了更提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。
上述PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。可舉例如聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而獲得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依循JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光膜。皂化度過高時，會有膠化之虞。如上述，PVA系樹脂宜包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。此外，平均聚合度可依循JIS K 6726-1994而求得。
上述鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。
塗佈液中之鹵化物之量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份，較佳為相對於PVA系樹脂100重量份為10重量份~15重量份。若鹵化物相對於PVA系樹脂100重量份之量大於20重量份，則有鹵化物溢出而最後獲得之偏光膜變白濁之情形。
一般而言，PVA系樹脂層經延伸，PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性會變高，但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中，則有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時，為了使熱塑性樹脂基材之延伸穩定而在相對較高溫度下將上述積層體在硼酸水中進行延伸時，上述定向度降低之傾向很明顯。舉例而言，PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般係在60℃下進行，相對於此，A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度的較高溫度下進行，此時，延伸初始之PVA的定向性會在藉由水中延伸而上升之前的階段便降低。對此，藉由製作含鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體，並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸)，可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光膜的光學特性。
C-2.空中輔助延伸處理 尤其為了獲得高光學特性，會選擇組合乾式延伸(輔助延伸)與硼酸水中延伸之2段延伸之方法。如2段延伸之方式，藉由導入輔助延伸，可一邊抑制熱塑性樹脂基材之結晶化一邊進行延伸。並且，在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂基材上時，為了抑制熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度之影響，必須使塗佈溫度比將PVA系樹脂塗佈於一般的金屬滾筒上之情況更低，結果會產生PVA系樹脂之結晶化相對變低而無法獲得充分光學特性之問題。對此，藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。
空中輔助延伸之延伸方法可為固定端延伸(例如使用拉幅延伸機進行延伸之方法)，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸之方法)，惟為了獲得高光學特性，可積極採用自由端延伸。在一實施形態中，空中延伸處理包含加熱輥延伸步驟，該步驟係將上述積層體一邊沿其長邊方向輸送一邊利用加熱輥間之周速差進行延伸。空中延伸處理代表上包含區域(zone)延伸步驟與加熱輥延伸步驟。另，區域延伸步驟與加熱輥延伸步驟之順序無限定，可先進行區域延伸步驟，亦可先進行加熱輥延伸步驟。亦可省略區域延伸步驟。在一實施形態中，係依序進行區域延伸步驟及加熱輥延伸步驟。又，在另一實施形態中，係於拉幅延伸機中把持薄膜端部，並將拉幅機間之距離往行進方向擴大來延伸(拉幅機間距離的增幅即為延伸倍率)。此時，寬度方向(相對於行進方向為垂直方向)之拉幅機的距離係設定成可任意接近。宜可設定成相對於行進方向之延伸倍率來利用自由端延伸作接近。為自由端延伸時，係以寬度方向之收縮率=(1/延伸倍率)1/2 來計算。
空中輔助延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸倍率為各階段之延伸倍率之積。空中輔助延伸中之延伸方向宜與水中延伸之延伸方向大致相同。
空中輔助延伸之延伸倍率宜為1.0倍~4.0倍，較宜為1.5倍~3.5倍，更宜為2.0倍~3.0倍。空中輔助延伸之延伸倍率若在所述範圍內，便可在與水中延伸組合時將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之雙折射、面內相位差及/或定向函數。結果可獲得沿吸收軸方向之斷裂經抑制的偏光膜。並且，如上述，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於水中延伸之延伸倍率。藉由設成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光膜。更詳細而言，空中輔助延伸之延伸倍率與水中延伸之延伸倍率的比(水中延伸/空中輔助延伸)宜為0.4~0.9，較宜為0.5~0.8。
空中輔助延伸之延伸溫度可因應熱塑性樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定成任意適當之值。延伸溫度宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，更宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上，尤宜為Tg+15℃以上。另一方面，延伸溫度之上限宜為170℃。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化急速進展，而可抑制該結晶化所造成的不良情況(例如，因延伸而妨礙PVA系樹脂層之定向)。
C-3.不溶解處理、染色處理及交聯處理 視需要，在空中輔助延伸處理之後且在水中延伸處理或染色處理之前，施行不溶解處理。上述不溶解處理代表上係將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。上述染色處理代表上係以二色性物質(代表上為碘)將PVA系樹脂層染色來進行。視需要，在染色處理之後且在水中延伸處理之前，施行交聯處理。上述交聯處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。關於不溶解處理、染色處理及交聯處理的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。
C-4.水中延伸處理 水中延伸處理係使積層體浸漬於延伸浴來進行。藉由水中延伸處理，可在比上述熱塑性樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上為80℃左右)更低的溫度下延伸，而可一邊抑制PVA系樹脂層結晶化一邊進行延伸。結果可製出具有優異光學特性之偏光膜。
積層體之延伸方法可採用任意適當的方法。具體而言，可為固定端延伸，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸的方法)。宜選擇自由端延伸。積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸之總倍率為各階段之延伸倍率之積。
水中延伸宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時施加之張力的剛性與不溶於水的耐水性。具體上，硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性，進行良好地延伸，從而製出具有優異光學特性之偏光膜。
上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於屬溶劑的水而獲得。硼酸濃度相對於水100重量份宜為1重量份~10重量份，較宜為2.5重量份~6重量份，尤宜為3重量份~5重量份。藉由將硼酸濃度設為1重量份以上，可有效抑制PVA系樹脂層之溶解，製造特性更高之偏光膜。此外，除硼酸或硼酸鹽外，亦可使用將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。
宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物之具體例如上述。碘化物之濃度相對於水100重量份宜為0.05重量份~15重量份，較宜為0.5重量份~8重量份。
延伸溫度(延伸浴之液溫)宜為40℃~85℃，較宜為60℃~75℃。若為所述溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解，同時又可高倍率地延伸。具體而言如上所述，以與形成PVA系樹脂層之關係來說，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以60℃以上為宜。此時，延伸溫度若低於40℃，則即使考慮以水將熱塑性樹脂基材塑化，也恐無法良好地延伸。另一方面，延伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性就愈高，而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴之浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
水中延伸進行之延伸倍率宜為1.0倍~2.2倍，較宜為1.1倍~2.0倍，更宜為1.1倍~1.8倍，又更宜為1.2倍~1.6倍。水中延伸之延伸倍率若在所述範圍內，便可將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之雙折射、面內相位差及/或定向函數。結果可獲得沿吸收軸方向之斷裂經抑制的偏光膜。延伸之總倍率(組合空中輔助延伸與水中延伸時之延伸倍率的合計)如上述，相對於積層體之原長宜為3.0倍~4.5倍，較宜為3.0倍~4.3倍，更宜為3.0倍~4.0倍。藉由適當組合對塗佈液添加鹵化物、調整空中輔助延伸及水中延伸之延伸倍率、及乾燥收縮處理，即便為所述延伸之總倍率，仍可獲得具有可容許之光學特性的偏光膜。
C-5.乾燥收縮處理 上述乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行，亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥，可有效率地抑制積層體之加熱捲曲，而製造出外觀優異的偏光膜。具體而言，藉由在使積層體巡經加熱輥之狀態下進行乾燥，可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶度，即使是在相對較低的乾燥溫度下，仍可良好增加熱塑性樹脂基材之結晶度。結果熱塑性樹脂基材之剛性增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態，從而捲曲受到抑制。又，藉由使用加熱輥，可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥，因此不只能抑制捲曲還能抑制起皺的發生。此時，積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮，來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率宜為1%~10%，較宜為2%~8%，尤宜為4%~6%。
圖2係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中，係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體200一邊使其乾燥。在圖式例中，係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面，但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體200的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。
藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等，可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃，更宜為65℃~100℃，尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶度而良好地抑制捲曲的同時，製造出耐久性極優異的光學積層體。另，加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥，惟輸送輥若為複數個則無特別限制。輸送輥通常為2個~40個，宜設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜，以1~20秒較佳，以1~10秒更佳。
加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內，亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥，可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化，而可容易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且，熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/s~30m/s左右。此外，該風速係在加熱爐內之風速，可以迷你扇葉型數位風速計來測定。
C-6.其他處理 宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前，施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例及比較例中之「份」及「%」即為重量基準。 (1)厚度 使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。厚度計算所用之計算波長範圍係在400nm~500nm下，且折射率設為1.53。 (2)PVA之面內相位差(Re) 針對從實施例及比較例所得偏光膜/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光膜(偏光膜單體)，使用相位差測定裝置(王子計測機器公司製 製品名「KOBRA-31X100/IR」)評估PVA在波長1000nm下之面內相位差(Rpva)(根據所說明之原理，係從在波長1000nm下之總面內相位差減去碘之面內相位差(Ri)所得之數值)。吸收端波長設為600nm。 (3)PVA之雙折射(Δn) 將上述(2)測定之PVA的面內相位差除以偏光膜之厚度，藉此算出PVA之雙折射(Δn)。 (4)單體透射率及偏光度 針對從實施例及比較例所得偏光膜/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光膜(偏光膜單體)，使用紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製「V-7100」)測定單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。從所得Tp及Tc利用下述式求得偏光度P。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1 /2 ×100 另，分光光度計亦可使用大塚電子公司製「LPF-200」等進行同等之測定，不論在使用何種分光光度計之情況下皆可確認有獲得同等的測定結果。 (5)斷裂強度 從實施例及比較例所得偏光膜/熱塑性樹脂基材之積層體剝離偏光膜，並載置於裝設有針之壓縮試驗機(KATO TECH CO., LTD.製，製品名「NDG5」針貫通力測定規格)，在室溫(23℃±3℃)環境下，以穿刺速度0.33cm/秒穿刺，並將偏光膜破裂時之強度作為斷裂強度。評估值係測定10個試料片之斷裂強度並使用其平均值。此外，針係使用前端徑1mmφ、0.5R者。針對要測定之偏光膜，將具有直徑11mm之圓形開口部的夾具從偏光膜兩面夾住固定後，對開口部之中央部穿刺針進行試驗。以每單位厚度之斷裂強度(穿刺強度)作為破裂難度的指標，按以下基準進行評估。 優：穿刺強度為45gf/µm以上 良：穿刺強度為30gf/µm以上且小於45gf/µm 不良：穿刺強度小於30gf/µm
[實施例1] 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)。並對樹脂基材之單面施行電暈處理(處理條件：55W・min/m2 )。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中，添加碘化鉀13重量份，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13µm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內在周速相異之輥間沿縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光膜的單體透射率(Ts)成為40.5%(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，使積層體一邊浸漬於液溫62℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%，碘化鉀5.0重量%)中，一邊在周速相異的輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使延伸之總倍率達3.0倍(水中延伸處理：水中延伸處理之延伸倍率為1.25倍)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在維持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度維持於75℃之SUS製加熱輥約2秒鐘(乾燥收縮處理)。積層體在乾燥收縮處理下之寬度方向之收縮率為2%。 經由以上程序，於樹脂基材上形成了厚度7.4µm之偏光膜。
針對所得偏光膜測定單體透射率、偏光度及斷裂強度。與構成該偏光膜之PVA之雙折射及面內相位差一同將結果統整列於表1。
[實施例2~4] 除了使用碘濃度不同之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)外，依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光膜(厚度：7.4µm)。將所得偏光膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例5~8] 將水中延伸之延伸倍率設為1.46倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為3.5倍)、及使用碘濃度相異之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光膜(厚度：6.7µm)。將所得偏光膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例9~12] 將水中延伸之延伸倍率設為1.67倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為4.0倍)、及使用碘濃度相異之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光膜(厚度：6.2µm)。將所得偏光膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例13~16] 將水中延伸之延伸倍率設為1.88倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為4.5倍)、及使用碘濃度相異之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光膜(厚度：6.0µm)。將所得偏光膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例1~4] 將水中延伸之延伸倍率設為2.29倍(以結果而言，將延伸之總倍率設為5.5倍)、及使用碘濃度相異之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)，除此之外依與實施例1相同方式而於樹脂基材上形成了偏光膜(厚度：5.5µm)。將所得偏光膜供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image001
由表1可明顯可知，實施例之偏光膜具有實際使用上可容許之單體透射率及偏光度，並且滿足式(1)及式(2)。所述偏光膜之穿刺強度非常大，且顯示不易沿吸收軸方向裂開之特性。
又，於圖3及圖4分別顯示實施例及比較例所得偏光膜之單體透射率與PVA之Δn之關係及該偏光膜之單體透射率與PVA之面內相位差之關係。如圖3及圖4所示，可知即便雙折射或面內相位差為相同程度(以結果而言，定向度為相同程度)，在單體透射率高時，仍容易沿吸收軸方向裂開。因此，可知為了有效抑制偏光膜沿吸收軸方向之斷裂，不僅PVA系樹脂之定向度，單體透射率(以結果而言為二色性物質之吸附量)之調整亦很重要。又，可知滿足式(1)及/或式(2)之偏光膜係已適當進行該等之調整者，而可適當抑制沿吸收軸方向之斷裂。
產業上之可利用性 本發明之偏光膜及偏光板可適宜用於液晶顯示裝置。
10:偏光膜 20:第1保護層 30:第2保護層 100(100a,100b):偏光板 200:積層體 G1~G4:導輥 R1~R6:輸送輥
圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。 圖2係顯示使用加熱輥之乾燥收縮處理之一例的概略圖。 圖3係顯示實施例及比較例所製作之偏光膜的單體透射率與PVA系樹脂之雙折射之關係的圖。 圖4係顯示實施例及比較例所製作之偏光膜的單體透射率與PVA系樹脂薄膜之面內相位差之關係的圖。
10:偏光膜
20:第1保護層
30:第2保護層
100a,100b:偏光板

Claims (7)

  1. 一種偏光膜，係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，並且 於令單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)： y＜-0.011x+0.525　　　　　(1)。
  2. 一種偏光膜，係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成，並且 於令單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)： z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2)。
  3. 如請求項1或2之偏光膜，其厚度為10μm以下。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光膜，其單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上。
  5. 一種偏光板，具有如請求項1至4中任一項之偏光膜與配置於該偏光膜之至少一側的保護層。
  6. 如請求項5之偏光板，其總厚度為30µm以下。
  7. 一種偏光膜之製造方法，係製造如請求項1至4中任一項之偏光膜的方法，該製造方法包含以下步驟： 於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成包含碘化物或氯化鈉與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層，而製成積層體；以及 對該積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將該積層體一邊沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上； 該空中輔助延伸處理及該水中延伸處理之延伸的總倍率相對於該積層體之原長為3.0倍~4.5倍，且 該空中輔助延伸處理之延伸倍率大於該水中延伸處理之延伸倍率。
TW110121707A 2020-06-17 2021-06-15 偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法 TW202202563A (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020104192 2020-06-17
JP2020-104192 2020-06-17
JP2020133458 2020-08-06
JP2020-133458 2020-08-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202202563A true TW202202563A (zh) 2022-01-16

Family

ID=79267947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110121707A TW202202563A (zh) 2020-06-17 2021-06-15 偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2021256329A1 (zh)
KR (1) KR20230022171A (zh)
CN (1) CN115715375A (zh)
TW (1) TW202202563A (zh)
WO (1) WO2021256329A1 (zh)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343521A (ja) 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光板及びその製造方法
JP5036191B2 (ja) * 2005-03-16 2012-09-26 日本合成化学工業株式会社 ポリビニルアルコール系フィルムおよびその製造方法
JP6202062B2 (ja) * 2014-09-30 2017-09-27 住友化学株式会社 偏光フィルムの強度測定方法及び偏光板
KR102645969B1 (ko) * 2014-12-12 2024-03-08 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광 필름의 제조 방법 및 편광 필름
JP2017003954A (ja) * 2015-06-12 2017-01-05 住友化学株式会社 偏光フィルム及びそれを含む偏光板
EP3324224A4 (en) * 2015-07-16 2019-02-27 Tokai Seimitsu Industrial Co., Ltd. POLARIZABLE FORM BODY
JP2017187731A (ja) * 2016-03-30 2017-10-12 住友化学株式会社 延伸フィルムの製造方法及び偏光フィルムの製造方法
JP6684630B2 (ja) * 2016-03-31 2020-04-22 住友化学株式会社 偏光板、偏光板の製造方法
JP2017062517A (ja) * 2017-01-12 2017-03-30 日東電工株式会社 位相差層付偏光板および画像表示装置
KR102562326B1 (ko) * 2017-06-22 2023-08-02 닛토덴코 가부시키가이샤 적층체 및 적층체의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021256329A1 (ja) 2021-12-23
CN115715375A (zh) 2023-02-24
KR20230022171A (ko) 2023-02-14
JPWO2021256329A1 (zh) 2021-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022111165A (ja) 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
TW202125003A (zh) 偏光膜、偏光板及影像顯示裝置
WO2020262213A1 (ja) 偏光板の製造方法
JP2023130424A (ja) 偏光膜
JP7280349B2 (ja) 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
JP7165805B2 (ja) 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
TW202202563A (zh) 偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法
TW202101044A (zh) 偏光膜、偏光板、及該偏光膜之製造方法
TW202125002A (zh) 偏光膜、偏光板及影像顯示裝置
JP7421276B2 (ja) 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
JP7165813B2 (ja) 偏光膜、偏光板および該偏光膜の製造方法
JP7267396B2 (ja) 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
JP7300326B2 (ja) 偏光板および該偏光板の製造方法
WO2022024796A1 (ja) 偏光子ならびに該偏光子を含む偏光板および画像表示装置
WO2020261778A1 (ja) 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法
TW202210301A (zh) 偏光板及包含該偏光板之影像顯示裝置
JP2023050226A (ja) 偏光膜の製造方法
JP2023050227A (ja) 偏光膜の製造方法
TW202208174A (zh) 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置