TW202144177A - 偏光薄膜、光學積層體及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

偏光薄膜具備：偏光件；偏光件之一主面側的第1加飾層及第1黏著層；以及，另一主面側的第2加飾層及第2黏著層、或保護薄膜。第1加飾層係不透過接著層而直接接著於一主面之周緣部，第1黏著層係覆蓋第1加飾層之與偏光件相反之側的面及一主面之未接著第1加飾層之區域。第2加飾層係不透過接著層而直接接著於另一主面之周緣部，第2黏著層係覆蓋第2加飾層之與偏光件相反之側的面及另一主面之未接著第2加飾層之區域。保護薄膜係不透過黏著層而直接接著於另一主面上，或透過接著層接著於另一主面上。第1加飾層、第2加飾層及保護薄膜各自在厚度為25µm時，透濕度為1500g/m2 ・24h以下。

Description

偏光薄膜、光學積層體及影像顯示裝置
本發明涉及偏光薄膜、光學積層體及影像顯示裝置。
顯示靜止影像或動態影像等影像之影像顯示裝置具備有例如視窗構件、光學薄膜及包含顯示面板之面板構件。影像顯示裝置亦有更具備觸控感測器之情形。又，在組裝影像顯示裝置時，有時會提供呈現使影像顯示裝置之面板構件除外的積層結構維持於分離件上之狀態的光學積層體。例如，剝離光學積層體之分離件並與面板構件貼合後，便可形成影像顯示裝置。
影像顯示裝置所用光學薄膜通常具備有偏光薄膜。一般的偏光薄膜具備薄膜狀偏光件與以分別包夾偏光件兩主面之方式配置的保護薄膜。偏光件與各保護薄膜之間有時也會中介接著層。
又，對於影像顯示裝置之薄型化及低成本化之要求日益漸高。
專利文獻1中提出了一種偏光薄膜，其包含：偏光基底層；塗覆於前述偏光基底層之下部面的偏光塗覆層；配置於前述偏光基底層上部的接著層；及印刷於前述偏光基底層或前述偏光塗覆層表面而構成單一薄膜之遮光構件。專利文獻1中記載了以配置於覆蓋玻璃下部的偏光塗覆層來取代配置於顯示器面板之最上部的偏光板，來減少顯示器面板之厚度，而減少製造費用。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：韓國公開專利第10-2019-0020925號公報(請求項1、[0006])
發明欲解決之課題 一般的偏光薄膜中，保護薄膜係配置於偏光件兩主面上。由薄型化及低成本之觀點來看，不使用所述保護薄膜之至少一者來形成偏光薄膜實乃有利。然而已知曉當偏光件之至少一主面側未被保護薄膜保護的偏光薄膜曝露在高溫高濕環境下時，會有產生於偏光件端部脫色變顯著之課題的情形。
此外，本說明書中，有時會將偏光件兩主面中至少一主面側不具有保護薄膜之偏光薄膜稱為無保護偏光薄膜。
用以解決課題之手段 本發明第1面向涉及一種偏光薄膜，其具備： 偏光件； 接著於前述偏光件之一主面上的第1加飾層及第1黏著層；以及 接著於前述偏光件之另一主面上的第2加飾層及第2黏著層、或保護薄膜； 前述第1加飾層係不透過接著層而直接接著於前述一主面之周緣部； 前述第1黏著層係形成成覆蓋前述第1加飾層之與前述偏光件相反之側的面及前述一主面之未接著前述第1加飾層之區域； 前述第2加飾層係不透過接著層而直接接著於前述另一主面之周緣部； 前述第2黏著層係形成成覆蓋前述第2加飾層之與前述偏光件相反之側的面及前述另一主面之未接著前述第2加飾層之區域； 前述保護薄膜係不透過黏著層而直接接著於前述另一主面上，或透過接著層接著於前述另一主面上； 前述第1加飾層、前述第2加飾層及前述保護薄膜各自在厚度為25µm時，透濕度為1500g/m2 ・24h以下。
本發明第2面向涉及一種光學積層體，其具備：上述偏光薄膜；以及視窗構件及相位差薄膜中之至少一者； 前述偏光薄膜具備視辨側之第1主面及與前述第1主面相反之側的第2主面； 前述視窗構件配置於前述偏光薄膜之第1主面側，且 前述相位差薄膜配置於前述偏光薄膜之第2主面側。
本發明第3面向涉及一種影像顯示裝置，其具備上述偏光薄膜與面板構件； 前述偏光薄膜具備視辨側之第1主面及與前述第1主面相反之側的第2主面； 前述面板構件配置於前述第2主面側。
本發明第4面向涉及一種影像顯示裝置，其具備上述光學積層體及配置於前述光學積層體之與視辨側相反之側的面板構件。
發明效果 可降低無保護偏光薄膜暴露於高溫高濕環境下時偏光件之脫色。
無保護偏光薄膜由薄型化及低成本化之觀點來看很優異。但以知曉將無保護偏光薄膜暴露於高溫高濕環境下時，有於偏光件(尤其是偏光件之端部)脫色變顯著之新課題的情形。吾等認為所述偏光件之脫色係因在高溫高濕環境下，水分會順著偏光件與鄰接偏光件之層的界面而侵入，或是被鄰接偏光件之層吸收之水分從該層往厚度方向侵入偏光件內所致。
一般的偏光薄膜中，偏光件兩主面被保護薄膜覆蓋著，故通過保護薄膜侵入偏光件內之水分量相對較少。又，保護薄膜係直接接著於偏光件之主面上，或透過接著層接著於偏光件之主面上。接著層係接著劑之硬化物之層。因此，藉由偏光件與保護薄膜或接著層之界面的接著性高，能抑制水分從該界面侵入。且亦可抑制水分通過屬硬化物之接著層而侵入。所以，以偏光件兩主面被保護薄膜覆蓋之一般偏光薄膜來說，偏光件之端部的變色幾乎不成問題。
另一方面，偏光薄膜中有鄰接偏光件而配置黏著層之情形。黏著層係以非硬化性接著劑構成之層，具有流動性。黏著層之形成不需要硬化步驟，因此具有容易進行與其他構件之積層並且可重工的優點。又，以用於撓性影像顯示裝置之偏光薄膜來說，若設置黏著層，便可藉由黏著層緩和反覆撓曲撓性影像顯示裝置時之應力。所述黏著層其大多構成材料本身具有與接著性相關的官能基，而親水性較構成接著層之硬化物更高，因此相較於接著層，水分更容易侵入層內。除了材料本身的親水性，還因黏著層的流動性，水分容易順著偏光件與黏著層之間的界面而侵入內部。因此，明顯可知以具備黏著層之無保護偏光薄膜來說，尤其是在暴露於高溫高濕環境下時，偏光件之端部脫色的課題會更明顯。且，近年來影像之顯示範圍越趨擴大(例如趨往全畫面顯示)，故即便是偏光件之端部的些許脫色亦易成為問題。
鑒於上述，本發明第1側面之偏光薄膜具備：偏光件；接著於偏光件之一主面上的第1加飾層及第1黏著層；以及接著於偏光件之另一主面上的第2加飾層及第2黏著層、或保護薄膜。第1加飾層係不透過接著層而直接接著於偏光件之一主面的周緣部。第1黏著層係形成成覆蓋第1加飾層之與偏光件相反之側的面及偏光件之一主面之未接著第1加飾層之區域。第2加飾層係不透過接著層而直接接著於偏光件之另一主面的周緣部。第2黏著層係形成成覆蓋第2加飾層之與偏光件相反之側的面及另一主面之未接著第2加飾層之區域。保護薄膜係不透過黏著層而直接接著於偏光件之另一主面上，或透過接著層接著於偏光件之另一主面上。第1加飾層、第2加飾層及保護薄膜各自在厚度為25µm時，透濕度為1500g/m2 ・24h以下。
藉由所述構成，本發明偏光薄膜不論是否為無保護偏光薄膜，皆可減少偏光薄膜暴露於高溫高濕環境下之偏光件之脫色。吾等認為係因以下理由所致。
首先，藉由加飾層在直接接著於偏光件之主面的周緣部之狀態下配置，能在高溫高濕環境下抑制水分順著加飾層與偏光件之界面侵入內部。又，藉由配置於偏光件之主面的周緣部之加飾層的透濕度低，能降低水分從加飾層之端面侵入加飾層內部。因此，不論是否有透濕度容易變高之黏著層配置成與偏光件鄰接，仍能減低水分通過黏著層侵入偏光件。又，在將透濕度低的保護薄膜不透過黏著層而直接接著於偏光件之另一主面、或是透過接著層接著於偏光件之另一主面時，能抑制水分通過偏光件與保護薄膜或接著層之間的界面、黏著層、接著層及保護薄膜侵入內部。如此一來，吾等認為藉由降低水分侵入偏光件，能減少偏光件因水分之作用造成脫色。
影像顯示裝置中，於顯示影像之顯示部之外周存在驅動元件或觸控感測器之導引配線。因此，於影像顯示裝置或影像顯示裝置所用光學積層體一般會設置加飾層，以免從外部看見導引配線。如所述，加飾層原本為配置於影像顯示裝置或光學積層體之構件，因此無須為了降低偏光件之脫色而新使用其他構件，而不會損及使用無保護偏光薄膜之原本所求薄型化及低成本化之目的。
透濕度可依循JIS Z 0208：1976「防濕包裝材料之透濕度試驗方法(透濕杯法)」來測定。試驗係在溫度40±0.5℃及相對濕度90%±2%之溫濕度條件下來進行。透濕度之值與測定之樣本的厚度成反比。因此，厚度為25µm時的透濕度可藉由於測得之透濕度之值乘上試樣之厚度(µm)，並除以25µm來求得。此外，加飾層通常為極薄之層，因此係針對加飾層與基材之積層體測定透濕度Jt ，並從該透濕度Jt 及基材之透濕度Jsub 依下述式求出加飾層之透濕度J。然後將加飾層之透濕度J依與上述相同方式換算成厚度為25µm時之透濕度。 1/Jt =1/J+1/Jsub
積層體之透濕度Jt 係在積層體之基材配置成朝測定杯之內側且加飾層配置成朝外側之狀態下進行測定。作為基材係使用厚度25µm之三醋酸纖維素薄膜。積層體可藉由在基材之一主面以後述程序塗佈包含加飾層之構成成分的塗覆劑或是以氣相法使構成成分堆積而形成加飾層來獲得。
加飾層之一主面的面積為25cm2 以上時，可如上述由積層體求出加飾層之透濕度。欲從實際之偏光薄膜的加飾層求出透濕度時，可分析加飾層之構成成分及各構成成分之含有比率，並以上述方式來製作具有相同組成之加飾層與基材之積層體後，從該積層體求出加飾層之透濕度。加飾層之一主面的面積小於25cm2 時，可從實際之偏光薄膜的加飾層分析加飾層之構成成分及各構成成分之含有比率，並與已知透濕度之加飾層比較來預估透濕度。加飾層之構成成分及其含有比率之分析，例如可使用選自於由核磁共振法、質量分析法、氣相層析法及液相層析法所構成群組中之至少1者來進行。
如上述，本發明偏光薄膜可減少暴露於高溫高濕環境下時之偏光件之脫色。例如，偏光薄膜於60℃±1℃及相對濕度90%±2%下保持175小時後，於偏光件之端部不包含經脫色之部分，或即便於包含經脫色之部分之情況下，該經脫色之部分係形成於從偏光件之端面起算之距離小於100µm(宜為80µm以下)之區域。當偏光薄膜在將加飾層配置於偏光件之視辨側的主面時，即便於偏光件之端部形成經脫色之部分之情況下，仍可藉由形成於極靠端面之附近，利用加飾層來遮蔽經脫色之部分。
偏光件之形狀通常為薄膜狀。因此，偏光件具備佔偏光件之表面面積大部分的一對主面與在各主面之周緣與各主面連接之端面。所謂一對主面相當於上述一主面與位於該一主面之相反側的上述另一主面。偏光件之端部係指偏光件之端面及其附近之部分。
本發明中亦包含具備上述偏光薄膜之光學積層體及具備該光學積層體之影像顯示裝置、具備上述偏光薄膜之影像顯示裝置。偏光薄膜具備佔偏光薄膜表面之大部分的一對主面。將偏光薄膜之視辨側的主面稱為第1主面，且將與第1主面相反之側的主面稱為第2主面。
光學積層體具備：上述偏光薄膜；以及，視窗構件及相位差薄膜中之至少一者。視窗構件配置於偏光薄膜之第1主面側，而相位差薄膜配置於偏光薄膜之第2主面側。
顯示裝置具備上述偏光薄膜或上述光學積層體、與面板構件。面板構件相對於偏光薄膜配置於第2主面側。面板構件相對於光學積層體配置於與視辨側相反之側。
此外，本說明書中，關於構成偏光薄膜之各層、構成光學積層體或影像顯示裝置之各構件的積層方向(換言之為各層或各構件之平均厚度方向)，有時會將各層及各構件(或構成各構件之層)的相對位置關係使用偏光薄膜、影像顯示裝置或光學積層體之「視辨側」或「與視辨側相反之側」的表現方式來表現。
本說明書中，構成偏光薄膜、光學積層體或影像顯示裝置之構件或層的厚度係指排除關於透濕度規定的25µm厚度之情形，裁切出偏光薄膜、光學積層體或影像顯示裝置之截面，並根據該截面之掃描型電子顯微鏡(SEM)所得影像進行測定而得之平均厚度。平均厚度可藉由在上述截面影像中，在任意複數處(例如5處)測定厚度並平均化來求得。
以下針對偏光薄膜、光學積層體及影像顯示裝置之構成進行更具體說明。
(偏光薄膜) 偏光薄膜包含以下情形：(i)具有偏光件、接著於偏光件之一主面上的第1加飾層及第1黏著層、以及接著於偏光件之另一主面上的第2加飾層及第2黏著層之情形；(ii)具備偏光件、接著於偏光件之一主面上的第1加飾層及第1黏著層、以及接著於偏光件之另一主面上的保護薄膜之情形。偏光薄膜亦可更具備有配置於第1黏著層之與偏光件相反之側的第1分離件。偏光薄膜具備第2黏著層時，偏光薄膜亦可更具備有配置於第2黏著層之與偏光件相反之側的第2分離件。將各分離件剝離後將各黏著層貼附於其他構件時，可將偏光薄膜積層於其他構件上。
(偏光件) 偏光件並無特別限制，可利用在影像顯示裝置之領域等中所利用者。偏光件可舉例如使親水性高分子薄膜吸附二色性物質並進行單軸延伸的薄膜、多烯系定向薄膜。構成親水性高分子薄膜之親水性高分子可舉例如聚乙烯醇系樹脂(亦包含部分縮甲醛化聚乙烯醇系樹脂)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物之部分皂化物。二色性物質可舉例如碘、二色性染料。構成多烯系定向薄膜之材料可舉例如聚乙烯醇系樹脂之脫水處理物、聚氯乙烯系樹脂之脫鹽酸處理物。
偏光件之厚度例如為1µm以上且30µm以下，亦可為2µm以上且15µm以下或3µm以上且10µm以下。
(第1加飾層及第2加飾層) 第1加飾層係不透過接著層而直接接著於偏光件之一主面的周緣部。第2加飾層係不透過接著層而直接接著於偏光件之另一主面的周緣部。藉此，其本身可抑制水分通過接著層而侵入內部，並能減低水分順著偏光件與加飾層之界面侵入內部。因此，不論是否有透濕度容易變高之黏著層配置成與偏光件鄰接，仍可有效減低水分通過黏著層侵入偏光件。
各加飾層係設置於顯示影像之顯示部之外周，以免從外部視辨到驅動元件或觸控感測器之導引配線。因此，各加飾層只要為可遮蔽導引配線等之形狀即可，且只要形成於偏光件主面之周緣部的至少一部分即可。由抑制水分侵入偏光薄膜內部之效果更提高之觀點來看，宜以包圍主面之內側區域之方式以框狀圖案來形成於周緣部整體。又，由抑制偏光件之脫色之效果提高之觀點來看，偏光件之端面宜與各加飾層之端面齊平，或宜位於較各加飾層之端面更內側。
加飾層在厚度為25µm時之透濕度只要為1500g/m2 ・24h以下即可，且1300g/m2 ・24h以下或1200g/m2 ・24h以下較佳。加飾層在厚度為25µm時之透濕度之下限值並無特別限制，例如為500g/m2 ・24h以上，亦可為1000g/m2 ・24h以上。該等上限值與下限值可任意組合。
加飾層之厚度例如為3µm以上。由抑制水分從加飾層之厚度方向侵入之效果更提高之觀點來看，加飾層之厚度宜為5µm以上，亦可為6µm以上。加飾層之厚度例如為20µm以下，亦可為15µm以下。由容易利用黏著層消除加飾層造成之高低差的觀點來看，加飾層之厚度宜為10µm以下，亦可為8µm以下。且，當加飾層之厚度為所述範圍時，容易確保影像顯示裝置及光學積層體的高耐撓曲性。該等下限值與上限值可任意組合。
各加飾層之寬度例如為0.1mm以上。由抑制水分通過加飾層與偏光件之界面及通過加飾層侵入之效果提高之觀點來看，各加飾層之寬度宜為0.5mm以上，亦可為1mm以上。各加飾層之寬度上限只要在可確保配線等之遮蔽性與視辨性之範圍內選擇即可，例如可為30mm以下，亦可為20mm以下。該等下限值與上限值可任意組合。
所謂加飾層之寬度，係在偏光薄膜中從與偏光件之主面垂直之方向觀看加飾層時於任意30處計測加飾層之寬度，並將從較小之值起算10個之值平均化所得之平均值。亦可針對從光學積層體或影像顯示裝置剝離其他構件後取出之偏光薄膜求出加飾層之寬度。
對於加飾層除了要求不反射來自視辨側之光外，還要求遮蔽來自與視辨側相反之側的光。加飾層可舉例如印墨層、金屬薄膜、含金屬微粒子之層(薄膜)等。加飾層可為單層結構亦可為積層結構。積層結構之加飾層例如可為選自於由印墨層、金屬薄膜及含金屬微粒子之層所構成群組中之至少2層的積層體。所述積層體不僅包含具有印墨層、金屬薄膜及含金屬微粒子之層所構成群組中之至少2種層的積層體，還包含組成不同之2層以上印墨層的積層體、組成不同之2層以上金屬薄膜的積層體、組成不同之2層以上含金屬微粒子之層的積層體等。含金屬微粒子之層例如包含金屬微粒子與黏結劑樹脂。在積層體中，鄰接之層或薄膜間宜在未中介接著層之狀態下直接接著。
加飾層之中，印墨層或金屬微粒子之層例如可藉由於偏光件之主面塗佈包含加飾層之構成成分的塗覆劑(亦包含印墨)，並將塗覆劑之塗膜固化來形成。塗膜之固化可藉由選自乾燥、加熱及曝光等之至少任一種來進行。塗覆劑包含例如可發揮遮蔽性之微粒子、樹脂黏結劑、因應需求之液態介質。塗覆劑亦可因應需求包含添加劑。
可發揮遮蔽性之微粒子可舉例如顏料、無機微粒子。顏料可舉例如無機顏料(碳黑等)、分散型有機顏料、溶解型螢光顏料。無機微粒子可舉顏料以外之無機成分的微粒子。無機成分可舉金屬、合金、金屬化合物(氧化物、氮化物等)、碳質材料(石墨化碳等)等。可發揮遮蔽性之微粒子可單獨使用一種，亦可組合二種以上來使用。
作為樹脂黏結劑可舉熱塑性樹脂、硬化性樹脂(熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等)等。由易獲得更低的透濕度且易確保在塗覆劑中之高分散穩定性之觀點來看，其中又以環狀烯烴樹脂、丙烯酸樹脂為宜。樹脂黏結劑可單獨使用一種，亦可組合二種以上來使用。
液態介質可因應塗覆劑之成分使用例如有機液態介質、水、及該等之混合物。液態介質宜使用有機液態介質(乙醇、異丙醇、甘醇醚等)。液態介質可單獨使用一種，亦可組合二種以上來使用。
添加劑可使用公知物，可舉例如分散劑、界面活性劑、耦合劑。惟，添加劑不限於該等。
加飾層亦可利用氣相法來形成。更具體而言，加飾層之中，金屬薄膜例如亦可藉由以氣相法使構成成分堆積於偏光件之主面來形成。氣相法可舉濺鍍法、真空蒸鍍法、化學氣相沉積(CVD：Chemical Vapor Deposition)法、電子束蒸鍍法等。
(第1黏著層及第2黏著層) 第1黏著層形成成覆蓋第1加飾層之與偏光件相反之側的面及偏光件之一主面之未接著第1加飾層之區域。第2黏著層形成成覆蓋第2加飾層之與偏光件相反之側的面及偏光件之另一主面之未接著第2加飾層之區域。
各黏著層在25℃下之儲存彈性模數通常為10MPa以下，可為3MPa以下，可為1MPa以下，亦可為0.2MPa以下或0.1MPa以下。黏著層之儲存彈性模數在所述範圍內時，可確保高接著性，並且還與硬化後之接著層的情況不同，易緩和按壓造成之應力。各黏著層在25℃下之儲存彈性模數可為0.001MPa以上，亦可為0.005MPa以上。該等上限值與下限值可任意組合。
另一方面，接著層在25℃下之儲存彈性模數大於10MPa，可為100MPa以上，一般為1GPa左右。本說明書中，接著層意指具有所述儲存彈性模數者。 如此一來，黏著層便能藉由儲存彈性模數與接著層區別。
黏著層之儲存彈性模數可依循JIS K 7244-1：1998來測定。具體上，首先使用黏著層或構成黏著層之黏著劑，製作厚度約1.5mm之成形物。將該成形品沖裁成直徑7.9mm之圓盤狀而製作出試驗片。將該試驗片夾入平行板，用動態黏彈性測定裝置(例如Rheometric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，在下述條件下進行黏彈性測定，求出25℃下之儲存彈性模數。此外，接著層的儲存彈性模數亦可依循黏著層之情況來求得。
(測定條件) 變形模式：扭轉 測定頻率：1Hz 測定溫度：-40℃~+150℃ 升溫溫度：5℃/分鐘
由用於影像顯示裝置時確保面板構件之高視辨性之觀點來看，各黏著層之全光線透射率宜為85%以上，且90%以上較佳。
黏著層之全光線透射率可依循JIS K 7136K：2000來測定。測定可使用於無鹼玻璃(厚度0.8~1.0mm，全光線透射率92%)上將黏著層或構成黏著層之黏著劑配置至約1.5mm之厚度為止而成的試驗片。
各黏著層由黏著劑構成。黏著劑之種類並無特別限制，可舉例如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑及纖維素系黏著劑等。黏著劑中可包含例如基底聚合物、交聯劑、添加劑(例如增黏劑、耦合劑、聚合抑制劑、交聯延遲劑、觸媒、塑化劑、軟化劑、填充劑、著色劑、金屬粉、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗氧化劑、抗劣化劑、界面活性劑、抗靜電劑、表面潤滑劑、調平劑、防腐劑、無機或有機系材料之粒子(金屬化合物粒子(金屬氧化物粒子等)、樹脂粒子等))。黏著劑之構成成分不限於該等。
分別構成第1黏著層及第2黏著層之黏著劑可相同亦可互異。
各黏著層之厚度可為50µm以下，亦可為40µm以下或30µm以下。由易確保影像顯示裝置或光學積層體之高撓曲性的觀點來看，各黏著層之厚度分別宜為5µm以上，亦可為7µm以上。由易吸收加飾層之高低差的觀點來看，各黏著層之厚度宜為10µm以上。
由易吸收加飾層所造成之高低差的觀點來看，可將各黏著層之厚度設為欲使接著之加飾層之厚度的1.5倍以上，亦可設為2.5倍以上或3倍以上。
上述黏著層之厚度的上限值與下限值可以任意組合。
各黏著層例如可藉由在偏光件之主面的周緣部接著有加飾層之狀態下，以覆蓋加飾層之與偏光件相反之側的面及偏光件之未接著加飾層之區域之方式，塗佈構成各黏著層之黏著劑、或是轉印成形成片狀之黏著劑來形成。轉印黏著劑時，亦可將於第1分離件或第2分離件之表面上成形成片狀之黏著劑與分離件一同轉印。
(第1分離件及第2分離件) 分離件例如可使用具備基材片材與配置於基材片材之至少一主面的剝離劑之剝離片材。各分離件係在剝離劑與第1黏著層或第2黏著層(更具體而言為各黏著層之與偏光件相反之側的面)接觸之狀態下配置。
基材片材只要為具有適當之強度及柔軟性且可輕易形成剝離劑之層者即可。基材片材可使用樹脂薄膜、紙或該等之積層體等。基材片材之材質可因應剝離劑之種類、偏光薄膜之其他構成等來決定。樹脂薄膜亦可使用例如聚酯薄膜(聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等)、聚烯烴薄膜(聚丙烯薄膜等)。基材片材之厚度亦無特別限制，可考量所期望之剝離性來選擇。剝離劑可使用公知之物，且宜選擇黏著層對分離件的殘存量少者。例如亦可使用聚矽氧系剝離劑、氟系剝離劑。
(保護薄膜) 保護薄膜不透過黏著層而直接接著於偏光件之另一主面上，或透過接著層接著於偏光件之另一主面上。保護薄膜配置成覆蓋偏光件之另一主面整體。
保護薄膜在厚度為25µm時之透濕度只要為1500g/m2 ・24h以下即可，宜為1000g/m2 ・24h以下，且700g/m2 ・24h以下或500g/m2 ・24h以下較佳。保護薄膜在厚度為25µm時之透濕度之下限值並無特別限制，例如為50g/m2 ・24h以上，亦可為100g/m2 ・24h以上。該等上限值與下限值可任意組合。
作為保護薄膜，可使用在展現如上述之低透濕度的同時，例如透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性及光學各向同性優異的高分子薄膜。以具有所述性質之高分子材料來說，保護薄膜宜包含選自於由丙烯酸樹脂及環狀聚烯烴樹脂所構成群組中之至少一種。包含該等樹脂之保護薄膜之透濕度低，可更提高降低偏光件脫色之效果。
丙烯酸樹脂可舉包含選自於由丙烯酸烷基酯及甲基丙烯酸烷基酯所構成群組中之至少一種單體單元的均聚物或共聚物。丙烯酸烷基酯及甲基丙烯酸烷基酯之烷基部分的碳數宜為1~4，亦可為1或2。由透明性、耐熱性及耐濕性優異之觀點來看，宜使用至少包含甲基丙烯酸甲酯單元之丙烯酸樹脂(亦即甲基丙烯酸樹脂)作為丙烯酸樹脂。
丙烯酸樹脂亦可為於主鏈具有環結構者。由耐熱性及耐濕性優異之觀點來看，所述環結構以醯亞胺環結構為宜。醯亞胺環結構可舉戊二醯亞胺結構、N-取代馬來醯亞胺結構(例如環己基馬來醯亞胺結構、甲基馬來醯亞胺結構、苯基馬來醯亞胺結構、苄基馬來醯亞胺結構)等。丙烯酸樹脂宜包含於主鏈具有醯亞胺環結構之甲基丙烯酸樹脂。
環狀聚烯烴樹脂可舉例如使用降莰烯、二環戊二烯等環狀烯烴作為單體之均聚物或共聚物。環狀烯烴中亦包含具有取代基者(例如1-甲基降莰烯、4-甲基降莰烯、4-苯基降莰烯)。使用降莰烯之環狀聚烯烴樹脂可為藉由降莰烯之開環聚合而得者，亦可為藉由加成聚合而得者。
保護薄膜除了上述樹脂外，亦可包含其他樹脂。其他樹脂並無特別限制，可舉例如纖維素系樹脂、環狀聚烯烴以外之聚烯烴系樹脂、醯亞胺系樹脂(亦包含苯基馬來醯亞胺系樹脂)、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂(聚丙烯酸酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯樹脂等))、乙酸酯系樹脂、碸系樹脂(亦包含聚醚碸系樹脂)、聚氯乙烯系樹脂、聚二氯亞乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、硫化物系樹脂(例如聚伸苯硫系樹脂)、聚醚醚酮系樹脂、環氧系樹脂及胺甲酸酯系樹脂。其他樹脂之比率係以使保護薄膜之透濕度成為上述範圍之方式來調節。
保護薄膜之厚度例如為20µm以上。由保護薄膜整體透濕度降低，而抑制水分從厚度方向侵入之效果更提高之觀點來看，保護薄膜之厚度宜為35µm以上，且40µm以上較佳。保護薄膜之厚度上限並無特別限制，可為100µm以下，亦可為60µm以下。該等下限值與上限值可任意組合。
(接著層) 接著層係接著劑之硬化物之層。作為接著劑可使用可用於偏光薄膜之硬化型接著劑。所述接著劑可舉例如活性能量線硬化型接著劑(紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等)、熱硬化型接著劑。所述接著劑可舉丙烯酸系接著劑、環氧系接著劑、胺甲酸酯系接著劑等，惟不受該等所限。
接著層在25℃下之儲存彈性模數為上述範圍。接著層在25℃下之儲存彈性模數之上限並無特別限制，例如為15GPa以下，亦可為10GPa以下。該等上限值與上述接著層在25℃下之儲存彈性模數的下限值可任意組合。
接著層之厚度例如為5µm以下。由更降低水分通過接著層侵入之觀點來看，接著層之厚度宜為3µm以下，2µm以下或1.5µm以下較佳。由更減低水分通過偏光件與保護薄膜之界面侵入之觀點來看，接著層之厚度宜為0.5µm以上，0.8µm以上或1µm以上較佳。該等上限值與下限值可任意組合。
偏光薄膜例如可藉由以下方式來形成：於保護薄膜之一主面上不透過黏著層而直接積層偏光件或透過接著層積層偏光件，且於偏光件之與保護薄膜相反之側的主面上形成第1加飾層，並將另外形成之第1黏著層(及因應需求的第1分離件)以覆蓋第1加飾層及偏光件之未接著第1加飾層之區域之方式轉印。又，偏光薄膜例如亦可藉由以下方式來形成：於偏光件之一主面上以與上述相同方式形成第1加飾層，並轉印第1黏著層(及因應需要之第1分離件)，同時於偏光件之另一主面上不透過黏著層而直接積層保護薄膜或透過接著層積層保護薄膜。偏光薄膜例如亦可藉由以下方式來形成：於偏光件之一主面上以與上述相同方式形成第1加飾層，並轉印第1黏著層(及因應需要之第1分離件)，同時與第1加飾層之情況相同於偏光件之另一主面上形成第2加飾層，並與第1黏著層(及第1分離件)之情況相同轉印第2黏著層(及因應需要之第2分離件)。
(光學積層體及影像顯示裝置) 光學積層體亦可具備有：上述偏光薄膜；以及，視窗構件及相位差薄膜中之至少一者。影像顯示裝置具備上述偏光薄膜或光學積層體、與面板構件。光學積層體或影像顯示裝置更可具備有觸控感測器。或者，亦可使用附觸控感測器之面板構件作為面板構件。光學積層體或影像顯示裝置亦可具備有用以接著鄰接之構件(或層)間之黏著層或接著層。偏光薄膜包含第1分離件及第2分離件之至少一者時，影像顯示裝置會包含剝離第1分離件及第2分離件後之狀態的偏光薄膜。光學積層體亦可包含有偏光薄膜在剝離第1分離件及第2分離件之至少一者後之狀態的偏光薄膜。
光學積層體或影像顯示裝置中，視窗構件配置於偏光薄膜之視辨側的第1主面側，而相位差薄膜配置於偏光薄膜之與視辨側相反之側的第2主面側。面板構件配置於偏光薄膜之第2主面側。另，偏光薄膜之第1主面為偏光件之一主面側時，第2主面便為偏光件之另一主面側。而偏光薄膜之第1主面為偏光件之另一主面側時，第2主面便為偏光件之一主面側。偏光薄膜包含保護薄膜時，保護薄膜亦可位於第1主面側及第2主面側之任一側，惟由保護視辨側之面之觀點來看，使保護薄膜位於第1主面側較有利。
(視窗構件) 為了防止偏光薄膜等構成光學積層體或影像顯示裝置之其他構件破損，視窗構件係配置於影像顯示裝置或光學積層體之視辨側的最表面。
視窗構件一般具備有選自於由視窗薄膜及視窗玻璃所構成群組中之至少1層。對於光學積層體或影像顯示裝置要求高透明性(高全光線透射率及低霧度等)及高硬度。且，對於撓性影像顯示裝置，除了該等物性，還要求更高的柔軟性(高可換性等)。視窗薄膜之材質或視窗玻璃只要為滿足該等物性者即無特別限制。
視窗玻璃可舉例如薄玻璃基板。
視窗玻璃之厚度例如為5µm以上且40µm以下，亦可為10µm以上且35µm以下。
視窗薄膜可舉例如透明樹脂薄膜。構成透明樹脂薄膜之樹脂可舉例如選自於由作為偏光薄膜所含保護薄膜之材料所例示之丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂及其他樹脂(例如醯亞胺系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂等聚酯系樹脂)所構成群組中之至少一種。惟，構成透明樹脂薄膜之樹脂不限於該等。
視窗薄膜之厚度例如為20µm以上且500µm以下，亦可為30µm以上且200µm以下。
本說明書中，關於構成偏光薄膜、光學積層體及影像顯示裝置之構件(成形體)或其材料，所謂透明者意指試驗片之全光線透射率在80%以上者。全光線透射率之測定可使用以透明材料或構件構成之厚度約1.5mm的試驗片。全光線透射率可依循黏著層之情況來測定。
視窗構件亦可具備有硬塗層。硬塗層一般係與視窗薄膜積層。由可容易獲得視窗薄膜之高度防止破損之效果的觀點來看，硬塗層宜至少設於視窗薄膜之視辨側的表面。
硬塗層之厚度例如為1µm以上且100µm以下，亦可為1µm以上且50µm以下。視窗構件具備複數硬塗層時，只要將各硬塗層之厚度設為所述範圍即可。
硬塗層例如係藉由於成為基底之層(例如視窗薄膜)的表面塗佈硬化性之塗覆劑並使其硬化來形成。
塗覆劑例如可利用光學薄膜用途者。塗覆劑可舉例如丙烯酸系塗覆劑、三聚氰胺系塗覆劑、胺甲酸酯系塗覆劑、環氧系塗覆劑、聚矽氧系塗覆劑、無機系塗覆劑，惟不限於該等。
塗覆劑亦可包含有添加劑。添加劑可舉例如矽烷耦合劑、著色劑、染料、粉體或粒子(顏料、無機或有機填充劑、無機或有機系材料之粒子等)、界面活性劑、塑化劑、抗靜電劑、表面潤滑劑、調平劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、防污材等，惟不限於該等。
視窗構件視需求亦可具備有其他層(以下稱層A)。層A可舉例如抗反射層、防眩層、防污層、抗黏著層、色相調整層、抗靜電層、易接著層、防止離子或寡聚物等析出之層、衝擊吸收層、防飛散層等。視窗構件可包含有1層層A，亦可包含有複數層。層A例如係設於構成視窗構件之1層(例如視窗薄膜或視窗玻璃)或2以上之層的積層體(例如視窗薄膜與硬塗層之積層體)之視辨側的表面側或與視辨側相反之側的表面。層A可於構成視窗構件之層上藉由塗覆等來直接形成，亦可透過接著層或黏著層來積層。
視窗構件之厚度例如為0.02mm以上且0.6mm以下，亦可為0.03mm以上且0.3mm以下。
(相位差薄膜) 作為相位差薄膜可舉例如可用於光學積層體或影像顯示裝置等之相位差薄膜。作為相位差薄膜可舉單軸性或雙軸性相位差薄膜、具有液晶扭轉定向或液晶傾斜定向之液晶薄膜、1/2波長板、1/4波長板等。光學積層體可包含1層相位差薄膜，亦可包含2層以上相位差薄膜的積層體。
相位差薄膜之厚度例如為10µm以上且100µm以下，亦可為15µm以上且60µm以下。
相位差薄膜可利用塗覆等直接積層於保護薄膜上，亦可透過接著層積層於保護薄膜上。又，相位差薄膜亦可貼附於第1黏著層或第2黏著層上。
具備偏光薄膜與相位差薄膜之積層體一般有稱為光學薄膜之情形。光學薄膜亦可因應需要更具備有偏光薄膜及相位差薄膜以外之層(層B)。
(層B) 層B可舉例如偏光件及相位差薄膜以外之光學各向異性薄膜、基材層(或保護層)。
偏光件及相位差薄膜以外之其他光學各向異性薄膜可舉例如視角擴大薄膜、視角限制(防窺)薄膜、增亮薄膜、光學補償薄膜，惟不受該等所限。光學積層體或影像顯示裝置可包含有1層該等光學各向異性薄膜，亦可包含有2層以上。
其他光學各向異性薄膜可利用塗覆等直接積層於鄰接之層(例如相位差薄膜)，亦可透過接著層或黏著層積層於鄰接之層。
基材層可使用薄玻璃基板、高分子薄膜等。構成高分子薄膜之高分子材料可舉選自於由作為偏光薄膜所含保護薄膜之材料所例示之丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂及其他樹脂所構成群組中之至少一種。由薄型化之觀點來看，光學薄膜宜不具這種基材層。
層B之厚度無特別限制，例如為0.1µm以上且100µm以下。
(觸控感測器) 觸控感測器可使用例如在影像顯示裝置之領域等中所用之物。觸控感測器可舉例如電阻膜式、電容式、光學式或超音波式者，惟不限於該等。若使用電容式觸控感測器，則可易獲得高感度。
電容式觸控感測器一般具備有透明導電層。這種觸控感測器可舉例如透明導電層與透明基材之積層體。透明基材可舉例如透明薄膜。
透明導電層並無特別限定，可使用導電性金屬氧化物、金屬奈米線等。金屬氧化物可舉例如含氧化錫之氧化銦(ITO：Indium Tin Oxide)、含銻之氧化錫。透明導電層亦可為以金屬氧化物或金屬構成之導電性圖案。導電性圖案之形狀可舉條紋狀、四方狀、格子狀等，惟不限於該等。
透明導電層之表面電阻值例如為0.1Ω/□以上且1000Ω/□以下，亦可為0.5Ω/□以上且500Ω/□以下。
透明導電層之厚度例如為0.005µm以上且10µm以下，亦可為0.01µm以上且3µm以下。
透明薄膜可使用例如透明樹脂薄膜。構成透明樹脂薄膜之樹脂可舉選自於由作為偏光薄膜所含保護薄膜之材料所例示之丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂及其他樹脂所構成群組中之至少一種。其中又以聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂為佳。惟，構成透明樹脂薄膜的樹脂不限於該等樹脂。
由提高透明導電層與透明基材之密著性之觀點來看，透明基材亦可使用經表面處理者。表面處理可採用公知者。又，視需求，亦可在積層透明導電層之前，對透明基材進行例如除塵或清淨化處理(利用溶劑或超音波等之洗淨處理等)。
觸控感測器視需求亦可包含透明導電層及透明基材以外之其他層(以下稱為層C)。例如，亦可於透明導電層與透明基材之間設置底塗層或寡聚物析出防止層作為層C。又，亦可於透明導電層及透明基材之至少一者之表面積層層C。惟，層C不受該等層所限。層C視需求亦可透過接著層或黏著層積層於透明導電層或透明基材上。
觸控感測器整體之厚度例如為0.005mm以上且0.25mm以下，亦可為0.01mm以上且0.2mm以下。
(黏著層及分離件) 光學積層體亦可具備有用以貼附至面板構件等構成影像顯示裝置之其他構件來積層的黏著層。光學積層體亦可更具備有覆蓋所述黏著層之分離件(第3分離件)。黏著層之構成可參照第1黏著層及第2黏著層之說明。第3分離件之構成可參照第1分離件及第2分離件之說明。依光學積層體之層構成，黏著層可配置於光學積層體之視辨側的主面側及與視辨側相反之側的主面側之一側，亦可配置於兩者之主面側。具備第3分離件之光學積層體可在剝離第3分離件後之狀態下用於影像顯示裝置。
光學積層體在具備第1分離件及第2分離件之至少一者之狀態下包含偏光薄膜時，係在剝離各分離件後之狀態下用於影像顯示裝置。
(面板構件) 影像顯示裝置所含面板構件例如包含至少影像顯示面板。亦可於影像顯示面板之視辨側配置有密封構件(薄膜密封層等)。密封構件通常係直接配置於影像顯示面板之視辨側的主面。
影像顯示面板可使用公知之物。影像顯示面板可舉例如有機電致發光(EL：Electro Luminescence)面板。
(保護構件) 影像顯示裝置亦可包含面板構件與保護構件之積層體。保護構件可舉例如保持或保護面板構件的片材或薄膜(或基板)。保護構件只要為具有用以保持面板構件並保護面板構件之適度的強度、及不會妨礙撓性影像顯示裝置之撓曲性之適度的柔軟性者即可。保護構件可使用樹脂片材等。樹脂片材之材質無特別限制，例如可因應影像顯示面板之種類來適當選擇。
(附觸控感測器之面板構件) 影像顯示裝置亦可為具備有附觸控感測器之面板構件者。附觸控感測器之面板構件係觸控感測器與面板構件一體化而成者。當影像顯示裝置具備附觸控感測器之面板構件時，不需要如上述之其他觸控感測器。
這種附觸控感測器之面板構件亦包含有例如於有機發光二極體(OLED：Organic Light Emitting Diode)之薄膜密封層上形成有金屬網格電極的電容式觸控感測器之構成者。觸控感測器亦可參照上述說明。惟，附觸控感測器之面板構件係採用不含黏著層者。
關於構成附觸控感測器之面板構件的面板構件可參照針對上述面板構件之說明。
附觸控感測器之面板構件亦可具備有保護構件。關於保護構件可參照上述說明。
附觸控感測器之面板構件整體之厚度例如為0.005mm以上且0.1mm以下，亦可為0.01mm以上且0.05mm以下。
(其他) 光學積層體或影像顯示裝置亦可因應需要包含第1加飾層及第2加飾層以外之加飾層(第3加飾層)。光學積層體或影像顯示裝置可包含1層第3加飾層，亦可包含2層以上第3加飾層。第3加飾層例如係在較觸控感測器或附觸控感測器之面板構件更靠視辨側於與黏著層接觸之狀態下配置。第3加飾層亦可包含於偏光薄膜以外之構件中。第3加飾層亦可包含於偏光薄膜中，但未與偏光件接著。
第3加飾層亦可為如針對第1加飾層及第2加飾層所記載之印墨層、金屬薄膜、含金屬微粒子之層或積層體等。
第3加飾層之厚度例如為20µm以下，亦可為15µm以下。由確保導引配線之更高的遮蔽效果之觀點來看，可將第3加飾層之厚度設為10nm以上，亦可設為30nm以上或50nm以上。該等上限值與下限值可任意組合。
使用塗覆劑來形成第3加飾層時，亦可在構件或層(黏著層除外)之要塗佈塗覆劑的表面上，於塗佈前配置有底漆層。底漆層例如包含選自於由金屬化合物(金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬硫化物等)及樹脂材料所構成群組中之至少一種。底漆層宜為透明。
底塗層之厚度例如為500nm以下，亦可為100nm以下或30nm以下。
光學積層體及影像顯示裝置各自可藉由例如積層構成構件來形成。積層順序無特別限制，只要考量作業性等來決定即可。積層可在積層的構件(或層)間配置黏著層或接著層的同時進行。
圖1係本發明一實施形態之撓性影像顯示裝置的概略截面圖。撓性影像顯示裝置1具備視窗構件13、包含偏光薄膜11之光學薄膜10、以及觸控感測器14及面板構件15之積層體。觸控感測器14與面板構件15係構成如上述所說明之附觸控感測器之面板構件。光學薄膜10與視窗構件13係以中介有黏著層22之狀態下積層。觸控感測器14與光學薄膜10之間中介有黏著層23。圖1中，例如觸控感測器14及面板構件15除外之構成與第3分離件(未圖示)的積層體相當於光學積層體。
窗構件13係透過黏著層22接著於偏光薄膜11之第1主面上。視窗構件13例如具備有視窗薄膜131與積層於視窗薄膜131之硬塗層132。硬塗層132係設於視窗構件13之與光學薄膜10側相反之側。
光學薄膜10具備偏光薄膜11與接著於偏光薄膜11之第2主面上的相位差薄膜12。偏光薄膜11具備偏光件111、接著於偏光件111之一主面上的第1加飾層112a及第1黏著層113a、以及透過接著層115接著於偏光件111之另一主面上的保護薄膜114。第1加飾層112a係不透過接著層而直接接著於偏光件111之一主面的周緣部。第1黏著層113a係形成成覆蓋第1加飾層112a之與偏光件111相反之側的主面及偏光件111之未接著第1加飾層112a之區域。保護薄膜114之與偏光件111相反之側的主面相當於偏光薄膜11之第1主面，而第1黏著層113a之與偏光件111相反之側的主面相當於偏光薄膜11之第2主面。
第1加飾層112a及保護薄膜114各自在厚度為25µm時，透濕度為1500g/m2 ・24h以下。如此一來，偏光薄膜11中，低透濕度的第1加飾層112a不透過接著層而直接接著於偏光件111之一主面的周緣部，且低透濕度的保護薄膜114透過接著層接著於偏光件111之另一主面上。藉此，能減少水分從偏光薄膜11之側面侵入偏光薄膜11內。因此，可降低偏光件111之脫色。
圖1中，保護薄膜114配置於第1主面側，第1加飾層112a及第1黏著層113a係配置於第2主面側，惟亦可將保護薄膜114配置於第2主面側，並將第1加飾層112a及第1黏著層113a配置於第1主面側。
圖2係本發明其他實施形態之撓性影像顯示裝置的概略截面圖。圖2之撓性影像顯示裝置101除了偏光薄膜11之構成與圖1不同外，其餘之構成與圖1相同，可參照圖1之說明。
影像顯示裝置101之偏光薄膜11除了具備第2加飾層112b及第2黏著層113b來取代保護薄膜114及接著層115外，其餘與圖1之偏光薄膜11相同。第2加飾層112b係不透過接著層而直接接著於偏光件111之另一主面的周緣部。第2黏著層113b係形成成覆蓋第2加飾層112b之與偏光件111相反之側的主面及偏光件111之未接著第2加飾層112b之區域。
第1加飾層112a及第2加飾層112b各自在厚度為25µm時，透濕度為1500g/m2 ・24h以下。依所述，偏光薄膜11中，低透濕度的第1加飾層112a及第2加飾層112b各自係不透過接著層而分別直接接著於偏光件111之各主面的周緣部。藉此，能減少水分從偏光薄膜11之側面侵入偏光薄膜11內。因此，可降低偏光件111之脫色。
[實施例] 以下，基於實施例及比較例來具體說明本發明，惟本發明不受以下實施例所限。
《實施例1》 (1)製作評估用試樣 按以下程序製作圖3所示之包含偏光薄膜11之積層體的評估用試樣。 (a)製作偏光件111 作為熱塑性樹脂製基材係準備含7莫耳%異酞酸單元的非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度100μm)，並對表面以58W/m2 ・min之輸出放電量進行電暈處理。
準備添加有乙醯乙醯基改質聚乙烯醇(日本合成化學工業(股)製，商品名：GOHSEFIMER Z200(平均聚合度1200、皂化度98.5莫耳%、乙醯乙醯基化度5莫耳%)1質量%之聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2%)，而準備出含5.5質量%之聚乙烯醇(PVA)系樹脂的水性塗敷液。
將塗敷液以乾燥後之膜厚成為12µm的方式塗佈於基材表面，並在60℃的氣體環境下利用熱風乾燥來乾燥10分鐘，藉此製作出於基材上設有PVA系樹脂之層的積層體。
將所得積層體首先在空氣中在130℃下進行自由端延伸成1.8倍(空中輔助延伸)，藉此生成延伸積層體。接著藉由將延伸積層體浸漬在液溫30℃的硼酸不溶解水溶液中30秒鐘，進行對延伸積層體所含PVA分子經定向的PVA層進行不溶解之步驟。本步驟的硼酸不溶解水溶液係硼酸含量相對於水100質量份為3質量份的硼酸水溶液。藉由將所得延伸積層體染色而生成著色積層體。著色積層體係將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中預定時間，以使構成最後生成的偏光件之PVA層的單體透射率成為40~44%，藉此利用碘使延伸積層體所含PVA層染色而成者。本步驟中，染色液係包含碘及碘化鉀之水溶液(碘濃度：0.1~0.4質量%、碘化鉀濃度：0.7~2.8質量%、碘與碘化鉀之濃度比：1比7)。接著藉由將著色積層體浸漬於30℃之硼酸交聯水溶液中60秒鐘，進行對已吸附碘之PVA層的PVA分子彼此施行交聯處理之步驟。本步驟的硼酸交聯水溶液係包含硼酸及碘化鉀之水溶液(硼酸含量：相對於水100質量份為3質量份，碘化鉀含量：相對於水100質量份為3質量份)。
將所得著色積層體在硼酸水溶液中以延伸溫度70℃，沿與在上述之空氣中進行延伸之相同方向延伸成3.05倍(硼酸水中延伸)，藉此獲得最後延伸倍率為5.50倍之積層體。將所得積層體從硼酸水溶液取出，以碘化鉀溶液(碘化鉀含量：相對於水100重量份為4重量份)洗淨附著於PVA層表面之硼酸。將洗淨後的積層體進行利用60℃的溫風之乾燥步驟來乾燥。乾燥後之積層體所含偏光件111的厚度為5μm。
(b)製作保護薄膜114 保護薄膜114係使用將具有戊二醯亞胺環單元的甲基丙烯酸樹脂丸粒藉由擠製成形為薄膜狀後延伸而成之丙烯酸系薄膜。保護薄膜114之厚度為40µm。使用接著劑(活性能量線硬化型接著劑)貼合保護薄膜114與上述(a)所得積層體之偏光件111，並以下述條件照射紫外線使接著劑硬化。接著，藉由去除基材，而製作出透過接著層115接著之保護薄膜114與偏光件111的積層體(偏光薄膜)。
充有鎵之金屬鹵素燈：Fusion UV Systems.Inc公司製，商品名「Light HAMMER10」 閥：V閥 峰值照度：1600mW/cm2 累積照射量：1000mJ/cm2 (波長380~440nm)
以所述程序求得之保護薄膜114在厚度為25µm時之透濕度為295g/m2 ・24h。
接著劑係將下述成分以接著劑100質量%中之含量成為下述之值之比率混合，並在50℃下攪拌1小時來調製。 羥乙基丙烯醯胺…11.4質量% 三丙二醇二丙烯酸酯…57.1質量% 丙烯醯基嗎福林…11.4質量% 2-乙醯乙醯氧基乙基甲基丙烯酸酯…4.6質量% 丙烯酸系聚合物(ARUFON UP-1190，東亞合成公司製)…11.4質量% 2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林丙-1-酮…2.8質量% 二乙基9-氧硫
Figure 109139026-A0101-12-01
Figure 109139026-A0101-12-02
…1.3質量%
(c)製作相位差薄膜12 (c1)製作第1相位差層 使用具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器之由2台直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。於反應器中，饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷(BPFM)29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10-2 質量份(6.78×10-5 mol)。
將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加熱，並於反應器內之溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使反應器內之溫度達到220℃，並控制維持該溫度。在反應器內之溫度達到220℃之時間點開始減壓，並使90分鐘後之壓力成為13.3kPa。
將在聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器後暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並在50分鐘內使第1反應器內之溫度成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到攪拌動力成為預定值為止。在攪拌動力達到預定值之時間點時將氮導入反應器後使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。
使用擠製機將所得聚酯碳酸酯99.5質量份與聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)0.5質量份熔融捏合，獲得樹脂組成物(PMMA含量：0.5質量%)之丸粒。將該樹脂組成物(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(Isuzu Chemical Industries Co., Ltd.，螺桿徑25mm，缸筒設定溫度：220℃)、T型模(寬：300mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出長3m、寬200mm、厚100μm之長條未延伸薄膜。將所得長條未延伸薄膜以固定端單軸延伸法沿寬度方向(橫向)延伸成2.7倍，製作出厚度37µm之第1相位差層。
(c2)製作包含第2相位差層之積層薄膜 將下述化學式(I)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，權宜上以嵌段聚合物表示：重量平均分子量5000)所示側鏈型液晶聚合物20質量份、展現向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製：商品名PaliocolorLC242)80質量份及光聚合引發劑(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.製：商品名IRGACURE 907)5質量份溶解於環戊酮200質量份，而調製出液晶塗敷液。
[化學式1]
Figure 02_image001
將所得液晶塗敷液使用棒塗機塗佈至基材薄膜(降莰烯系樹脂薄膜：日本ZEON(股)製，商品名「ZEONEX」)後，在80℃下加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶定向。對該液晶層照射紫外線使液晶層硬化而於基材薄膜上形成成為第2相位差層之液晶固化層(厚度：0.58µm)。該層顯示nz＞nx=ny之折射率特性。此處，nx為液晶固化層之面內之折射率成最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率。ny為液晶固化層於面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率。「nz」為液晶固化層之厚度方向的折射率。
(c3)製作第1相位差層及第2相位差層之積層體 於第1相位差層之一主面透過丙烯酸系接著劑貼附積層薄膜之液晶固化層(第2相位差層)。接著去除積層薄膜所含基材薄膜。如上述，製作出積層有第1相位差層與相當於液晶固化層之第2相位差層的積層體。
(d)調製黏著劑 按下述程序調製丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組成物)。 (d1)調製丙烯酸系寡聚物 作為單體成分係混合甲基丙烯酸二環戊酯60質量份及甲基丙烯酸甲酯40質量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油3.5質量份及作為聚合溶劑之甲苯100質量份，並在氮氣環境下在70℃下攪拌1小時。接著，投入作為熱聚合引發劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.2質量份，並在70℃下反應2小時後，升溫至80℃使其反應2小時。之後，將反應液加熱至130℃，並將甲苯、鏈轉移劑及未反應單體乾燥去除而獲得固態丙烯酸系寡聚物。丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量為5100，玻璃轉移溫度(Tg)為130℃。
(d2)調製預聚物組成物 摻混丙烯酸月桂酯43質量份、丙烯酸2-乙基己酯44質量份、丙烯酸4-羥丁酯6質量份及N-乙烯基-2-吡咯啶酮7質量份、以及作為光聚合引發劑之BASF製「IRGACURE 184」0.015質量份，並照射紫外線進行聚合，藉此獲得預聚物組成物(聚合率：約10%)。
(d3)調製丙烯酸系黏著劑 於上述預聚物組成物100質量份中，添加1,6-己二醇二丙烯酸酯0.07質量份、上述丙烯酸系寡聚物1質量份及矽烷耦合劑(信越化學製「KBM403J」)0.3質量份並均勻地混合，藉此調製出丙烯酸系黏著劑。
(e)形成第1加飾層112a 於上述(b)所得偏光薄膜之偏光件111之與保護薄膜114相反之側的主面，利用網版印刷設置框狀狀印墨層(寬度15mm、厚度6µm)作為第1加飾層112a。以所述程序求得之第1加飾層112a在厚度為25µm時之透濕度為1135g/m2 ・24h。
構成第1加飾層112a之印墨係藉由將溶解型螢光顏料(Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd製，MIX-HF網版印墨)、硬化劑(Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd製，210硬化劑)與溶劑(Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd製，C-002溶劑)混合來調製。印墨中的溶解型螢光顏料及硬化劑的濃度分別設為85質量%及3質量%。印墨中，溶解型螢光顏料及硬化劑有均勻分散。印墨即使在5℃下放置一晩仍未觀察有析出及凝集，呈均勻狀態。
(f)製作光學薄膜10 使用於(d)所得丙烯酸系黏著劑，將於上述(e)所得偏光件111之主面形成有第1加飾層112a的偏光薄膜與於(c)所得相位差層的積層體(相位差薄膜12)藉由捲料對捲料方式連續貼合。此時，相位差薄膜12係貼合成使第1相位差層位於偏光件側。以慢軸與吸收軸之軸角度成為45°的方式積層。依上述方式製作光學薄膜10。以丙烯酸系黏著劑構成之黏著層(第1黏著層113a)之厚度為25µm。以所述程序求得之第1黏著層113a在厚度為25µm時之透濕度為4678g/m2 ・24h。又，以所述程序求出以丙烯酸系黏著劑構成之黏著層之儲存彈性模數，得0.03MPa。
(g)貼附玻璃板S 於上述(f)所得光學薄膜10之相位差薄膜12之與偏光件111相反之側的主面(第2相位差層側之主面)塗佈於(d)所得丙烯酸系黏著劑，並透過該黏著劑將玻璃板S(松浪硝子工業製，S200423 MICRO SLIDE GLASS，厚度1.2mm)與光學薄膜10貼合。依上述方式，製作出圖3所示層構成之試樣。
(2)評估 將上述(1)製作出之試樣在高溫高濕環境(60℃±1℃及相對濕度90%±2%)下保持175小時。接著，依下述程序評估試樣之偏光件111之脫色。
利用拉曼分光測定以下述條件評估偏光件111之脫色。更具體而言，係以可從保護薄膜114側分析偏光件111之方式固定試樣，並在從偏光件111之端面朝內側聚焦於長度550µm及寬度50µm之區域的狀態下，從保護薄膜114側(於顯示裝置則為視辨側)進行分布分析。拉曼光譜係針對從偏光件111之端面起算之距離為50µm、100µm、250µm及500µm之合計4點來測定。 測定裝置：SNOM/AFM/Raman複合機(WITec公司製alpha300RSA) 激發波長：532nm 測定波長範圍：125cm-1 ~3800cm-1 物鏡：10倍 測定間距：2µm 檢測器：EMCCD
《比較例1》 實施例1中，係不將第1加飾層112a形成於偏光件111之主面，而係在使其接著於相位差薄膜112之第1相位差層側之主面的周緣部的狀態下形成。除此之外，依與實施例1之情況相同方式製作出光學薄膜10，並貼附玻璃板S，藉此製作出試樣並進行評估。
《比較例2》 實施例1中，作為保護薄膜114係使用三醋酸纖維素薄膜(厚度40µm)取代丙烯酸系薄膜。除此之外，依與實施例1相同方式製作出光學薄膜10，並貼附玻璃板S，藉此製作出試樣並進行評估。此時，以所述程序求得之保護薄膜114在厚度為25µm時之透濕度為2151g/m2 ・24h。
將實施例1及比較例1之拉曼光譜分別示於圖4及圖5。該等圖中，分別將各測定點之拉曼光譜以測定點之距離離偏光件111之端面較近之順序從上往下來表示。在含碘之偏光件的拉曼光譜中，係分別在拉曼位移為106cm-1 及156cm-1 之位置觀察到源自I5 - 及I3 - 之拉曼線。如圖5所示，在比較例1中，以偏光件111之最內側的測定點來說，即便將試樣長時間暴露於高溫高濕環境後，仍會觀察到源自I5 - 及I3 - 之拉曼線，但在其以外之測定點就觀察不到源自I5 - 及I3 - 之拉曼線。相對於此，在實施例1中，如圖4所示，即便將試樣長時間暴露於高溫高濕環境後，仍能於全部測定點觀察到源自I5 - 及I3 - 之拉曼線。以最靠近端面之測定點來說，源自I5 - 及I3 - 之拉曼線之強度小於最內側之測定點的強度，而觀察到些微脫色。但，相較於比較例1，可謂偏光件111之脫色有明顯降低。 此外，關於比較例2亦可獲得與比較例1類似之結果。
吾等已就本發明以目前較佳實施態樣進行了說明，惟不得將上述揭示作限定性解釋。對本發明所屬技術領域中之技藝人士來說參閱上述揭示即可進行各種變形及變更，理應自明。因此，在未脫離本發明之核心精神及範圍下所有變形及變更即可解釋為包含於所附申請專利範圍中。
產業上之可利用性 本發明偏光薄膜或光學積層體可利用於撓性影像顯示裝置等影像顯示裝置。
1,101:撓性影像顯示裝置 10:光學薄膜 11:偏光薄膜 111:偏光件 112a:第1加飾層 112b:第2加飾層 113a:第1黏著層 113b:第2黏著層 114:保護薄膜 115:接著層 12:相位差薄膜 13:視窗構件 131:視窗薄膜 132:硬塗層 14:觸控感測器 15:面板構件 22,23:黏著層 S:玻璃板
圖1係本發明一實施形態之具備偏光薄膜的影像顯示裝置的概略截面圖。 圖2係本發明其他實施形態之具備偏光薄膜的影像顯示裝置的概略截面圖。 圖3係實施例1製出之包含偏光薄膜的積層體(評估用試樣)的概略截面圖。 圖4係將實施例1之評估用試樣長時間暴露於高溫高濕環境後，偏光件在4個測定點之拉曼光譜。 圖5係將比較例1之評估用試樣長時間暴露於高溫高濕環境後，偏光件在4個測定點之拉曼光譜。
1:撓性影像顯示裝置
10:光學薄膜
11:偏光薄膜
111:偏光件
112a:第1加飾層
113a:第1黏著層
114:保護薄膜
115:接著層
12:相位差薄膜
13:視窗構件
131:視窗薄膜
132:硬塗層
14:觸控感測器
15:面板構件
22,23:黏著層

Claims (10)

  1. 一種偏光薄膜，具備： 偏光件； 接著於前述偏光件之一主面上的第1加飾層及第1黏著層；以及 接著於前述偏光件之另一主面上的第2加飾層及第2黏著層、或保護薄膜； 前述第1加飾層係不透過接著層而直接接著於前述一主面之周緣部； 前述第1黏著層係形成成覆蓋前述第1加飾層之與前述偏光件相反之側的面及前述一主面之未接著前述第1加飾層之區域； 前述第2加飾層係不透過接著層而直接接著於前述另一主面之周緣部； 前述第2黏著層係形成成覆蓋前述第2加飾層之與前述偏光件相反之側的面及前述另一主面之未接著前述第2加飾層之區域； 前述保護薄膜係不透過黏著層而直接接著於前述另一主面上，或透過接著層接著於前述另一主面上； 前述第1加飾層、前述第2加飾層及前述保護薄膜各自在厚度為25µm時，透濕度為1500g/m2 ・24h以下。
  2. 如請求項1之偏光薄膜，前述偏光薄膜於60℃±1℃及相對濕度90%±2%下保持175小時後，前述偏光件中於前述偏光件之端面及其附近不包含經脫色之部分、或包含經脫色之部分； 當前述偏光薄膜包含前述經脫色之部分時，前述經脫色之部分係形成於從前述端面起算之距離小於100µm之區域。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜，其中前述第1加飾層及前述第2加飾層各自之寬度為0.1mm以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光薄膜，其中前述第1加飾層及前述第2加飾層各自之厚度為5µm以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光薄膜，其中前述第1加飾層及前述第2加飾層各自包含丙烯酸樹脂。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光薄膜，其中前述保護薄膜包含選自於由丙烯酸樹脂及環狀烯烴樹脂所構成群組中之至少一種。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光薄膜，其中前述保護薄膜之厚度為40µm以上。
  8. 一種光學積層體，具備：如請求項1至7中任一項之偏光薄膜；以及視窗構件及相位差薄膜中之至少一者； 前述偏光薄膜具備視辨側之第1主面及與前述第1主面相反之側的第2主面； 前述視窗構件配置於前述偏光薄膜之第1主面側，且 前述相位差薄膜配置於前述偏光薄膜之第2主面側。
  9. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至7中任一項之偏光薄膜與面板構件； 前述偏光薄膜具備視辨側之第1主面及與前述第1主面相反之側的第2主面； 前述面板構件配置於前述第2主面側。
  10. 一種影像顯示裝置，具備如請求項8之光學積層體及配置於前述光學積層體之與視辨側相反之側的面板構件。
TW109139026A 2020-04-17 2020-11-09 偏光薄膜、光學積層體及影像顯示裝置 TW202144177A (zh)

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