TW202134062A - 膜捲筒 - Google Patents

Abstract

於本發明中，提供一種即便在將積層膜以膜捲筒之形式保管之情形時，解捲時亦不會產生捲曲或即便有捲曲亦使之非常少之方法。 本發明提供一種膜捲筒，其係將積層膜捲繞而成者，該積層膜包含：光學膜，其含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂；及硬化樹脂層，其積層於該光學膜；且該膜捲筒自捲筒之芯側起依序捲繞有該積層膜之硬化樹脂層、光學膜。

Description

膜捲筒

本發明係關於一種將積層膜捲繞而成之膜捲筒、尤其是將積層膜捲出時不易產生捲曲之膜捲筒。

將含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜與硬化樹脂層積層而成之積層膜被用於各種領域。例如，伴隨著各種圖像顯示裝置之顯示器之薄型化、輕量化及軟性化等，將含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學樹脂膜層與硬塗層積層而成之積層膜被用作代替先前所使用之玻璃之材料。

通常，於積層膜製造後，該等積層膜係捲繞於捲筒芯以膜捲筒之形式被保管。當然，於使用積層膜時，係自膜捲筒解捲而以平坦之積層膜之形式使用。

然而，將膜捲筒解捲而使用時，有時會因捲繞慣性力產生與捲繞方向為相同方向之捲曲。所謂捲曲，係指如下狀態，即，將積層膜之任一表面放置在平面上時積層膜之端部自平面離開。若積層膜產生捲曲，則難以直接使用，故需要進行作業使積層膜恢復至不存在捲曲之狀態，從而會產生作業上之損失，導致作業效率變差。又，若產生捲曲，則以平面狀態使用膜之情形時，使膜自平面分離之力會發生作用，從而亦要考慮對使用積層膜之製品產生之不良影響。具體而言，存在如下問題，即，在與其他構件貼合時，捲曲之部分無法良好地貼合從而咬入氣泡，或者在一面進行抽吸一面貼合膜時，若捲曲較強則無法進行抽吸並自抽吸部剝離，從而產生錯誤，導致裝置停止。積層膜較佳為，於製造時以膜捲筒形態進行保管，但於解捲而使用時為不產生捲曲之狀態。

於專利文獻1中，揭示有一種印刷版材料，其係於支持體上具有親水性層者，支持體由塑膠膜構成，且上升捲曲為0 mm以上60 mm以下。於專利文獻1中，亦提出減小捲曲，但該方法中進行逐次雙軸延伸，該逐次雙軸延伸係在流延後於縱向上延伸之後進一步於橫向上延伸，從而於製造時需要進行延伸作業，導致製造成本增大。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2004-74502號公報

[發明所欲解決之問題]

本發明之目的在於提供一種即便在將積層膜以膜捲筒之形式保管之情形時，解捲時亦不會產生捲曲或即便有捲曲亦使之非常少之簡單之方法。 [解決問題之技術手段]

即，本發明提供一種膜捲筒，其係將積層膜捲繞而成者，該積層膜包含： 光學膜，其含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂；及 硬化樹脂層，其積層於該光學膜；且 該膜捲筒自捲筒之芯側起依序捲繞有該積層膜之硬化樹脂層、光學膜。

又，本發明具有以下態樣： 積層膜係光學膜側之吸水率較硬化樹脂層側高之膜； 於將積層膜之光學膜側曝露於水蒸氣中5分鐘時，該積層膜之吸水率為1.1%以上； 硬化樹脂層具有選自由硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能所組成之群中之1種以上功能； 硬化樹脂層為UV(ultraviolet，紫外線)硬化樹脂層。 [發明之效果]

本發明僅藉由控制將積層膜捲繞於捲筒芯時之順序，便可預防捲曲，尤其是亦不會對製造方法等產生影響等，可簡單地預防捲曲，因此可謂非常優異之方法。尤其是可抑制於通常溫度環境下、通常濕度環境下保存時之捲曲。

本發明中之捲曲係於通常溫度環境下、通常濕度環境下保管膜捲筒時所產生者。於本說明書中，所謂通常溫度環境係指20～35℃左右之溫度環境，所謂通常濕度環境係指以相對濕度計為30～70%之環境。

本發明係一種膜捲筒，其係將積層膜捲繞於捲筒芯而成者，上述積層膜包含：光學膜，其含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂；及硬化樹脂層，其積層於上述光學膜；上述膜捲筒之特徵在於：將於捲筒芯上捲繞積層膜時之積層順序設為自捲筒之芯側起依序為硬化樹脂層、光學膜。以下，對各構成進行說明。

＜光學膜＞ 構成本發明之積層膜之光學膜含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂。

於本說明書中，所謂聚醯亞胺系樹脂，表示選自由聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚醯亞胺前驅物樹脂、及聚醯胺醯亞胺前驅物樹脂所組成之群中之至少1種樹脂。聚醯亞胺樹脂係含有包含醯亞胺基之重複結構單元之樹脂，聚醯胺醯亞胺樹脂係含有包含醯亞胺基及醯胺基兩者之重複結構單元之樹脂。聚醯亞胺前驅物樹脂及聚醯胺醯亞胺前驅物樹脂分別為藉由醯亞胺化提供聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化前之前驅物，且係亦稱為聚醯胺酸之樹脂。又，於本說明書中，聚醯胺系樹脂係含有包含醯胺基之重複結構單元之樹脂。本發明之光學膜可包含1種聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂，亦可組合包含2種以上聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂。基於容易兼顧光學膜之化學穩定性及耐捲曲性之觀點，本發明之光學膜較佳為包含聚醯亞胺系樹脂，該聚醯亞胺系樹脂較佳為聚醯亞胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂，更佳為聚醯胺醯亞胺樹脂。

於本發明之較佳之一實施方式中，基於更容易提高光學膜之彈性模數及耐捲曲性之觀點，聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂較佳為芳香族系樹脂。於本說明書中，所謂芳香族系樹脂，表示聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所包含之結構單元主要為芳香族系結構單元之樹脂。

於上述較佳之一實施方式中，基於更容易提高光學膜之彈性模數及耐捲曲性之觀點，源自芳香族系單體之結構單元相對於聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所含有之所有結構單元之比率較佳為60莫耳%以上，更佳為70莫耳%以上，進而較佳為80莫耳%以上，尤佳為85莫耳%以上。此處，所謂源自芳香族系單體之結構單元，係源自至少一部分中含有芳香族系之結構、例如芳香環之單體，且至少一部分中含有芳香族系之結構、例如芳香環之結構單元。作為芳香族系單體，例如可例舉芳香族四羧酸化合物、芳香族二胺、芳香族二羧酸等。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂較佳為具有式(1)

[化1]

[式(1)中，Y表示4價有機基，X表示2價有機基，*表示鍵結鍵] 所表示之結構單元之聚醯亞胺樹脂、或具有式(1)所表示之結構單元及式(2)

[化2]

[式(2)中，Z及X相互獨立地表示2價有機基，*表示鍵結鍵] 所表示之結構單元之聚醯胺醯亞胺樹脂。又，聚醯胺系樹脂較佳為具有式(2)所表示之結構單元之聚醯胺樹脂。以下對式(1)及式(2)進行說明，對於式(1)之說明關於聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂兩者，對於式(2)之說明關於聚醯胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂兩者。

式(1)所表示之結構單元係四羧酸化合物與二胺化合物反應而形成之結構單元，式(2)所表示之結構單元係二羧酸化合物與二胺化合物反應而形成之結構單元。

於式(2)中，Z為2價有機基，較佳為可被取代為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可被取代為鹵素原子(較佳為氟原子))之碳數4～40之2價有機基，更佳為可被取代為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可被取代為鹵素原子(較佳為氟原子))之具有環狀結構之碳數4～40之2價有機基。再者，作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基之例，關於下述式(3)中之R^3a 及R^3b 之例示同樣適合。作為環狀結構，可例舉脂環、芳香環、雜環結構。作為Z之有機基，可例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)

[化3]

[式(20)～式(29)中，W¹ 表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-Ar-、-SO₂ -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH₂ -Ar-、-Ar-C(CH₃ )₂ -Ar-或-Ar-SO₂ -Ar-，此處，Ar相互獨立地表示氫原子可被取代為氟原子之碳數6～20之伸芳基(例如伸苯基)，*表示鍵結鍵] 所表示之基之鍵結鍵中不鄰接之2個被氫原子取代之基及碳數6以下之2價鏈式烴基，作為Z之雜環結構，可例示具有噻吩環骨架之基。基於容易降低作為光學膜之黃度指標之YI(yellow index，黃色指數)值之觀點，較佳為式(20)～式(29)所表示之基及具有噻吩環骨架之基，更佳為式(26)、式(28)及式(29)所表示之基。

作為Z之有機基，更佳為式(20')、式(21')、式(22')、式(23')、式(24')、式(25')、式(26')、式(27')、式(28')及式(29')

[化4]

[式(20')～式(29')中，W¹ 及*如式(20)～式(29)中所定義般] 所表示之2價有機基。再者，式(20)～式(29)及式(20')～式(29')中之環上之氫原子可被取代為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可被取代為鹵素原子(較佳為氟原子))。

於聚醯胺系樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z由上述式(20')～式(29')之任一者表示之結構單元之情形時，尤其是具有式(2)中之Z由下述式(3')表示之結構單元之情形時，基於容易提高清漆之成膜性且容易提高光學膜之均勻性之觀點，聚醯胺系樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂較佳為除該結構單元以外，進而具有源自下式(d1)

[化5]

[式(d1)中，R²⁴ 係對於下述式(3)中之R^3a 定義之基或氫原子，R²⁵ 表示R²⁴ 或-C(=O)-*，*表示鍵結鍵] 所表示之羧酸之結構單元。作為結構單元(d1)，具體可例舉：R²⁴ 及R²⁵ 均為氫原子之結構單元(源自二羧酸化合物之結構單元)；R²⁴ 均為氫原子且R²⁵ 表示-C(=O)-*之結構單元(源自三羧酸化合物之結構單元)等。

聚醯胺系樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Z作為式(2)中之Z，複數種Z彼此可相同，亦可不同。尤其是，基於容易提高本發明之光學膜之彈性模數、耐捲曲性且容易提高光學特性之觀點，式(2)中之Z較佳為至少具有式(3)

[化6]

[式(3)中，R^3a 及R^3b 相互獨立地表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R^3a 及R^3b 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子， W相互獨立地表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，R⁹ 表示氫原子、可被取代為鹵素原子之碳數1～12之1價烴基， s為0～4之整數，t為0～4之整數，u為0～4之整數，*表示鍵結鍵] 所表示之結構單元，更佳為至少具有式(3')

[化7]

[式(3')中，R^3a 、R^3b 、s、t、u、W及*如式(3)中所定義般] 所表示之結構單元。再者，於本說明書中，所謂聚醯胺系樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z由式(3)表示之結構單元、及聚醯胺系樹脂或聚醯胺醯亞胺系樹脂具有式(3)所表示之結構作為式(2)中之Z，具有相同含義，意指聚醯胺系樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂中所包含之複數個式(2)所表示之結構單元中至少一部分結構單元中之Z由式(3)表示。該記載亦適合其他同樣之記載。

於式(3)及式(3')中，W相互獨立地表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，就光學膜之耐彎曲性之觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為表示-O-。 R^3a 及R^3b 相互獨立地表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基等。作為碳數1～6之烷氧基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基、環己氧基等。作為碳數6～12之芳基，例如可例舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。就光學膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，R^3a 及R^3b 相互獨立地較佳為表示碳數1～6之烷基，更佳為表示碳數1～3之烷基。此處，R^3a 及R^3b 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。 R⁹ 表示氫原子、可被取代為鹵素原子之碳數1～12之1價烴基。作為碳數1～12之1價烴基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，其等可被取代為鹵素原子。作為上述鹵素原子，可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。

式(3)及式(3')中之t及u相互獨立地為0～4之整數，較佳為0～2之整數，更佳為0或1，進而較佳為0。

式(3)中及式(3')中之s為0～4之範圍內之整數，若s處於該範圍內，則容易提昇光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性。基於更容易提昇光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性之觀點，式(3)及式(3')中之s較佳為0～3之範圍內之整數，更佳為0～2之範圍內之整數，進而較佳為0或1，尤佳為0。s為0之式(3)或式(3')所表示之結構單元例如為源自對苯二甲酸或間苯二甲酸之結構單元，該結構單元尤佳為式(3)或式(3')中之s為0且u為0之結構單元。基於容易提昇光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性之觀點，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂較佳為包含源自對苯二甲酸之結構單元。聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂亦可於Z中，包含1種或2種以上式(3)或式(3')所表示之結構單元。基於提昇光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，降低YI值之觀點，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂較佳為於Z中，包含式(3)中或式(3')中之s之值不同之2種以上結構單元，更佳為於Z中，包含式(3)或式(3')中之s之值不同之2種或3種結構單元。於此情形時，基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低光學膜之YI值之觀點，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂進而較佳為含有s為0之式(3)所表示之結構作為式(2)所表示之結構單元中之Z，且除包含該結構之結構單元以外，進而含有包含s為1之式(3)所表示之結構之結構單元。又，亦較佳為，除具有s為0之式(3)所表示之Z之式(2)所表示之結構單元以外，進而包含上述式(d1)所表示之結構單元。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂包含s＝0且u＝0之結構單元作為式(3)或式(3')所表示之結構單元。於本發明之更佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂包含s＝0且u＝0之結構單元及式(3'')

[化8]

所表示之結構單元作為式(3)或式(3')所表示之結構單元。於此情形時，容易提昇光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低YI值。

於聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂包含式(3)或式(3')所表示之結構單元之情形時，其比率於將聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂之式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元的合計設為100莫耳%時，較佳為20莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，進而較佳為40莫耳%以上，進而更佳為50莫耳%以上，尤佳為60莫耳%以上，且較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而較佳為80莫耳%以下。若式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性。若式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則抑制由源自式(3)之醯胺鍵間氫鍵引起之含樹脂之清漆的黏度上升，從而容易提昇膜之加工性。

又，於聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂包含s＝1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之情形時，於將聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂之式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為7莫耳%以上，尤佳為9莫耳%以上，且較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，尤佳為30莫耳%以下。若s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性。若s為1～4之式(3)所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則抑制由源自式(3)或式(3')所表示之結構單元之醯胺鍵間氫鍵引起之含樹脂之清漆的黏度上升，從而容易提昇膜之加工性。再者，式(1)、式(2)、式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂中之Z中，較佳為30莫耳%以上、更佳為40莫耳%以上、進而較佳為45莫耳%以上、進而更佳為50莫耳%以上係s為0～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元。若Z之上述下限以上係s為0～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元，則容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性。又，只要聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂中之Z之100莫耳%以下係s為0～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元即可。再者，樹脂中之s為0～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂中之Z中，較佳為5莫耳%以上、更佳為8莫耳%以上、進而較佳為10莫耳%以上、尤佳為12莫耳%以上由s為1～4之式(3)或式(3')表示。於聚醯胺醯亞胺樹脂或聚醯胺系樹脂之Z之上述下限以上由s為1～4之式(3)或式(3')表示之情形時，容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性。又，Z中，較佳為90莫耳%以下、更佳為70莫耳%以下、進而較佳為50莫耳%以下、尤佳為30莫耳%以下由s為1～4之式(3)或式(3')表示。於Z之上述上限以下由s為1～4之式(3)表示之情形時，抑制由源自s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之醯胺鍵間氫鍵引起之含樹脂之清漆的黏度上升，從而容易提昇膜之加工性。再者，樹脂中之s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於式(1)及式(2)中，X相互獨立地表示2價有機基，較佳為表示碳數4～40之2價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之2價有機基。作為環狀結構，可例舉：脂環、芳香環、雜環結構。上述有機基中，有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基，於此情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施方式中，本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種X，複數種X彼此可相同亦可不同。作為X，可例示：式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基而成之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。

[化9]

式(10)～式(18)中，*表示鍵結鍵， V¹ 、V² 及V³ 相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-CO-或-N(Q)-。此處，Q表示可被取代為鹵素原子之碳數1～12之1價烴基。作為碳數1～12之1價烴基，可例舉對於R⁹ 上述所說明之基。 示例之一係V¹ 及V³ 為單鍵、-O-或-S-，且V² 為-CH₂ -、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -或-SO₂ -。V¹ 與V² 相對於各環之鍵結位置、及V² 與V³ 相對於各環之鍵結位置相互獨立地相對於各環較佳為間位或對位，更佳為對位。

式(10)～式(18)所表示之基之中，基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性之觀點，較佳為式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及式(17)所表示之基，更佳為式(14)、式(15)及式(16)所表示之基。又，基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及柔軟性之觀點，V¹ 、V² 及V³ 相互獨立地較佳為單鍵、-O-或-S-，更佳為單鍵或-O-。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺系樹脂及聚醯亞胺系樹脂包含式(4)

[化10]

[式(4)中，R¹⁰ ～R¹⁷ 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R¹⁰ ～R¹⁷ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵] 所表示之結構作為式(1)中之X或式(2)中之X。若式(1)及式(2)所表示之複數個結構單元中之X之至少一部分為式(4)所表示之結構，則容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及透明性。

於式(4)中，R¹⁰ 、R¹¹ 、R¹² 、R¹³ 、R¹⁴ 、R¹⁵ 、R¹⁶ 及R¹⁷ 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，可例舉：作為式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基例示之基。R¹⁰ ～R¹⁷ 相互獨立地較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R¹⁰ ～R¹⁷ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。作為鹵素原子，例如可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。就光學膜之耐捲曲性、彈性模數、透明性及耐彎曲性之觀點而言，R¹⁰ ～R¹⁷ 相互獨立地進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，進而更佳為R¹⁰ 、R¹² 、R¹³ 、R¹⁴ 、R¹⁵ 及R¹⁶ 為氫原子，R¹¹ 及R¹⁷ 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R¹¹ 及R¹⁷ 為甲基或三氟甲基。

於本發明之較佳之一實施方式中，式(4)所表示之結構單元為式(4')

[化11]

所表示之結構單元，即，式(1)及式(2)所表示之複數個結構單元中之X之至少一部分為式(4')所表示之結構單元。於此情形時，藉由含有氟元素之骨架提高聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂於溶劑中之溶解性，容易提昇含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易降低該清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提昇光學膜之光學特性。

於本發明之較佳之一實施方式中，上述聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之X中，較佳為30莫耳%以上、更佳為50莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(4)、尤其是式(4')表示。於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之上述範圍內之X由式(4)、尤其是式(4')表示之情形時，所獲得之光學膜藉由含有氟元素之骨架提高樹脂於溶劑中之溶解性，容易提昇含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易降低該清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，亦容易提昇光學膜之光學特性。再者，較佳為，上述聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之X之100莫耳%以下由式(4)、尤其是式(4')表示。亦可上述樹脂中之X為式(4)、尤其是式(4')。上述樹脂中之X之式(4)所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於式(1)中，Y表示4價有機基，較佳為表示碳數4～40之4價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之4價有機基。作為環狀結構，可例舉：脂環、芳香環、雜環結構；基於容易提高耐捲曲性及彈性模數之觀點，較佳可例舉芳香環。上述有機基係有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基，於此情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂可包含複數種Y，複數種Y彼此可相同，亦可不同。作為Y，可例示：以下式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基而成之基；以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。

[化12]

式(20)～式(29)中，*表示鍵結鍵，W¹ 表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-Ar-、-SO₂ -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH₂ -Ar-、-Ar-C(CH₃ )₂ -Ar-或-Ar-SO₂ -Ar-。Ar表示氫原子可被取代為氟原子之碳數6～20之伸芳基，作為具體例可例舉伸苯基。

式(20)～式(29)所表示之基之中，基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性之觀點，較佳為式(26)、式(28)或式(29)所表示之基，更佳為式(26)所表示之基。又，基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低光學膜之YI值之觀點，W¹ 相互獨立地較佳為單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -，更佳為單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -，進而較佳為單鍵、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -，最佳為單鍵或-C(CF₃ )₂ -。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂中之Y中，較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(26)表示。若聚醯亞胺系樹脂中之上述範圍內之Y由式(26)表示，較佳為由W¹ 為單鍵、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -之式(26)表示，更佳為由W¹ 為單鍵或-C(CF₃ )₂ -之式(26)表示，則容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易降低光學膜之YI值。聚醯亞胺系樹脂中之Y為式(26)所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，複數個式(1)中之Y之至少一部分由式(5)

[化13]

[式(5)中，R¹⁸ ～R²⁵ 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R¹⁸ ～R²⁵ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵] 及/或式(9)

[化14]

[式(9)中，R³⁵ ～R⁴⁰ 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，R³⁵ ～R⁴⁰ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵] 表示。若複數個式(1)中之Y之至少一部分由式(5)表示、及/或由式(9)表示，則容易提昇光學膜之耐捲曲性、彈性模數及光學特性。

於式(5)中，R¹⁸ 、R¹⁹ 、R²⁰ 、R²¹ 、R²² 、R²³ 、R²⁴ 及R²⁵ 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，可例舉：作為式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基於上述例示者。R¹⁸ ～R²⁵ 相互獨立地較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R¹⁸ ～R²⁵ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。作為該鹵素原子，可例舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，且容易提高透明性並且容易維持該透明性之觀點，R¹⁸ ～R²⁵ 相互獨立地進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，進而更佳為R¹⁸ 、R¹⁹ 、R²⁰ 、R²³ 、R²⁴ 及R²⁵ 為氫原子，R²¹ 及R²² 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R²¹ 及R²² 為甲基或三氟甲基。

於式(9)中，基於容易提高光學膜之化學穩定性、耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性，且容易提高透明性並且容易維持該透明性之觀點，R³⁵ ～R⁴⁰ 較佳為氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為氫原子或碳數1～3之烷基，進而較佳為氫原子。此處，R³⁵ ～R⁴⁰ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，作為該鹵素原子，例如可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。作為R³⁵ ～R⁴⁰ 中之碳數1～6之烷基及碳數6～12之芳基，分別可例舉上述所例示者。

於本發明之較佳之一實施方式中，式(5)由式(5')表示，式(9)由式(9')

[化15]

表示。即，複數個Y之至少一部分由式(5')及/或式(9')表示。於此情形時，容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性。進而，於式(5)由式(5')表示之情形時，藉由含有氟元素之骨架提高聚醯亞胺系樹脂於溶劑中之溶解性，容易提昇含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易降低該清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提昇光學膜之光學特性。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂中之Y中，較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(5)、尤其是式(5')表示。若聚醯亞胺系樹脂中之上述範圍內之Y由式(5)、尤其是式(5')表示，則藉由含有氟元素之骨架提高聚醯亞胺系樹脂於溶劑中之溶解性，容易降低含有該樹脂之清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提昇光學膜之光學特性。再者，較佳為，上述聚醯亞胺系樹脂中之Y之100莫耳%以下由式(5)、尤其是式(5')表示。亦可聚醯亞胺系樹脂中之Y為式(5)、尤其是式(5')。聚醯亞胺系樹脂中之Y之式(5)所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，式(1)所表示之複數個結構單元較佳為除Y由式(5)表示之結構單元以外，進而包含Y由式(9)表示之結構單元。於進而包含Y由式(9)表示之結構單元之情形時，更容易提昇光學膜之耐捲曲性及彈性模數。

聚醯亞胺系樹脂可包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元，又，亦可除式(1)所表示之結構單元及視情形包含之式(2)所表示之結構單元以外，還包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元。

[化16]

於式(30)中，Y¹ 為4價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基。作為Y¹ ，可例示：式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基而成之基；以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂可包含複數種Y¹ ，複數種Y¹ 彼此可相同，亦可不同。

於式(31)中，Y² 為3價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基。作為Y² ，可例示：上述式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵之任一個被氫原子取代之基、及3價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂可包含複數種Y² ，複數種Y² 彼此可相同，亦可不同。

於式(30)及式(31)中，X¹ 及X² 相互獨立地為2價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或經氟取代之烴基之有機基。作為X¹ 及X² ，可例示：上述式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基而成之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。

於本發明之一實施方式中，聚醯亞胺系樹脂包含式(1)及/或式(2)所表示之結構單元、以及視情形包含之式(30)及/或式(31)所表示之結構單元。又，基於容易提高光學膜之光學特性、耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性之觀點，於上述聚醯亞胺系樹脂中，基於式(1)及式(2)、以及視情形包含之式(30)及式(31)所表示之所有結構單元，式(1)及式(2)所表示之結構單元之比率較佳為80莫耳%以上，更佳為90莫耳%以上，進而較佳為95莫耳%以上。再者，於聚醯亞胺系樹脂中，基於式(1)及式(2)、以及視情形包含之式(30)及/或式(31)所表示之所有結構單元，式(1)及式(2)所表示之結構單元之比率通常為100%以下。再者，上述比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之添加比算出。

於本發明之一實施方式中，相對於光學膜100質量份，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量較佳為10質量份以上，更佳為30質量份以上，進而較佳為50質量份以上，且較佳為99.5質量份以下，更佳為95質量份以下。若聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量處於上述範圍內，則容易提昇光學膜之光學特性、耐捲曲性及彈性模數。

基於容易提高光學膜之耐捲曲性、彈性模數及耐彎曲性之觀點，聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂之重量平均分子量以標準聚苯乙烯換算，較佳為200,000以上，更佳為230,000以上，進而較佳為250,000以上，進而更佳為270,000以上，尤佳為280,000以上。又，基於容易提昇該樹脂對溶劑之溶解性，並且容易提昇光學膜之延伸性及加工性之觀點，聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為1,000,000以下，更佳為800,000以下，進而較佳為700,000以下，尤佳為500,000以下。重量平均分子量例如可藉由凝膠滲透層析法(以下，有時記載為GPC)進行測定並根據標準聚苯乙烯換算而求出，例如可藉由實施例中所記載之方法算出。

於聚醯胺醯亞胺樹脂中，相對於式(1)所表示之結構單元1莫耳，式(2)所表示之結構單元之含量較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，進而較佳為1.0莫耳以上，進而更佳為1.5莫耳以上，且較佳為6.0莫耳以下，更佳為5.0莫耳以下，進而較佳為4.5莫耳以下。若式(2)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐捲曲性及彈性模數。又，若式(2)所表示之結構單元之含量為上述上限以下，則抑制因式(2)中之醯胺鍵間之氫鍵引起增黏，容易提昇光學膜之加工性。

於本發明之較佳之一實施方式中，光學膜中所包含之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂例如可含有可藉由上述含氟取代基等導入之氟原子等鹵素原子。於聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂含有鹵素原子之情形時，提昇光學膜之彈性模數，且容易降低YI值。若光學膜之彈性模數較高，則容易抑制產生損傷及褶皺等。又，若光學膜之YI值較低，則容易提昇該膜之透明性及視認性。鹵素原子較佳為氟原子。作為用以使聚醯亞胺系樹脂含有氟原子之較佳含氟取代基，例如可例舉氟基及三氟甲基。

以聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂之質量為基準，聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂中之鹵素原子之含量分別較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而較佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量為上述下限以上，則更加提昇光學膜之彈性模數，降低吸水率，更加降低YI值，從而更容易提昇透明性及視認性。若鹵素原子之含量為上述上限以下，則容易進行合成。

聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率較佳為90%以上，更佳為93%以上，進而較佳為96%以上。基於容易提高光學膜之光學特性之觀點，醯亞胺化率為上述下限以上較佳。又，醯亞胺化率之上限為100%以下。醯亞胺化率表示聚醯亞胺系樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯亞胺系樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值的比率。再者，於聚醯亞胺系樹脂包含三羧酸化合物之情形時，醯亞胺化率表示聚醯亞胺系樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯亞胺系樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值與源自三羧酸化合物之結構單元之莫耳量的合計之比率。又，醯亞胺化率可藉由IR(infrared，紅外線)法、NMR法等求出。

作為聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂，亦可使用市售品。作為聚醯亞胺樹脂之市售品，例如可例舉：三菱瓦斯化學股份有限公司製造之Neopulim(註冊商標)、河村產業股份有限公司製造之KPI-MX300F等。

於本發明中，光學膜亦可包含聚醯胺系樹脂。本實施方式之聚醯胺系樹脂係以式(2)所表示之重複結構單元為主之聚合物。聚醯胺系樹脂中之式(2)中之Z之較佳之例及具體例與聚醯亞胺系樹脂中之Z之較佳之例及具體例相同。上述聚醯胺系樹脂亦可包含Z不同之2種以上式(2)所表示之重複結構單元。

(樹脂之製造方法) 聚醯亞胺樹脂及聚醯亞胺前驅物樹脂例如可以四羧酸化合物及二胺化合物為主要原料進行製造，聚醯胺醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺前驅物樹脂例如可以四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物為主要原料進行製造，聚醯胺樹脂例如可以二胺化合物及二羧酸化合物為主要原料進行製造。此處，二羧酸化合物較佳為至少包含式(3'')所表示之化合物。

[化17]

[式(3'')中，R¹ ～R⁸ 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R¹ ～R⁸ 中所含有之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子， A表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-， R⁹ 表示氫原子、可被取代為鹵素原子之碳數1～12之1價烴基， m為0～4之整數， R³¹ 及R³² 相互獨立地表示羥基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基或氯原子]

於本發明之較佳之一實施方式中，二羧酸化合物係m為0之式(3'')所表示之化合物。作為二羧酸化合物，更佳為，除m為0之式(3'')所表示之化合物以外，還使用A為氧原子之式(3'')所表示之化合物。又，於另一較佳之一實施方式中，二羧酸化合物係R³¹ 及R³² 為氯原子之式(3'')所表示之化合物。又，亦可使用二異氰酸酯化合物來代替二胺化合物。

作為用於製造樹脂之二胺化合物，例如可例舉：脂肪族二胺、芳香族二胺及其等之混合物。再者，於本實施方式中，所謂「芳香族二胺」，表示胺基直接鍵結於芳香環之二胺，亦可於其結構之一部分包含脂肪族基或其他取代基。該芳香環可為單環亦可為縮合環，可例示苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於其等。其中，較佳可例示苯環。又，所謂「脂肪族二胺」，表示胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，亦可於其結構之一部分包含芳香環或其他取代基。

作為脂肪族二胺，例如可例舉：六亞甲基二胺等非環式脂肪族二胺、以及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降𦯉烷二胺及4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。其等可單獨使用或組合2種以上使用。

作為芳香族二胺，例如可例舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺；4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(有時記載為TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上芳香環之芳香族二胺。其等可單獨使用或組合2種以上使用。

芳香族二胺較佳為4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、TFMB、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯，更佳為4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、TFMB、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯。其等可單獨使用或組合2種以上使用。

上述二胺化合物中，就光學膜之高彈性模數、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群中之1種以上。更佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、TFMB、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯醚所組成之群中之1種以上，進而較佳為使用TFMB。

作為用於製造樹脂之四羧酸化合物，可例舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物等。四羧酸化合物可單獨使用，或者亦可組合2種以上使用。除二酐以外，四羧酸化合物亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物相關物。

作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可例舉：非縮合多環式芳香族四羧酸二酐、單環式芳香族四羧酸二酐及縮合多環式芳香族四羧酸二酐。作為非縮合多環式芳香族四羧酸二酐，例如可例舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐(有時記載為BPDA)、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(有時記載為6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐、4,4'-(間苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。又，作為單環式芳香族四羧酸二酐，例如可例舉1,2,4,5-苯四羧酸二酐，作為縮合多環式芳香族四羧酸二酐，例如可例舉2,3,6,7-萘四羧酸二酐。

其中，較佳可例舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、BPDA、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、6FDA、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐，更佳可例舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、BPDA、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、6FDA、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。其等可單獨使用或組合2種以上使用。

作為脂肪族四羧酸二酐，可例舉環式或非環式脂肪族四羧酸二酐。所謂環式脂肪族四羧酸二酐，係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可例舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、二環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及其等之位置異構物。其等可單獨使用或組合2種以上使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可例舉：1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，其等可單獨使用或組合2種以上使用。又，亦可將環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐組合使用。

上述四羧酸二酐中，就光學膜之高耐捲曲性、高彈性模數、高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性、及低著色性之觀點而言，較佳為：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、BPDA、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、6FDA、以及其等之混合物，更佳為BPDA及6FDA、以及其等之混合物，進而較佳為6FDA及BPDA。

作為用於製造樹脂之二羧酸化合物，較佳為使用對苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或其等之醯氯化合物。除對苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或其等之醯氯化合物以外，亦可使用其他二羧酸化合物。作為其他二羧酸化合物，可例舉：芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及其等之相關醯氯化合物、酸酐等，亦可組合2種以上使用。作為具體例，可例舉：間苯二甲酸；萘二羧酸；4,4'-聯苯二羧酸；3,3'-聯苯二羧酸；碳數8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及2個苯甲酸以單鍵、-CH₂ -、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -或伸苯基連結而成之化合物以及其等之醯氯化合物。作為具體例，較佳為4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)、對苯二甲醯氯或間苯二甲醯氯，進而較佳為將4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)與對苯二甲醯氯組合使用。

再者，上述聚醯亞胺系樹脂亦可為於不損及光學膜之各種物性之範圍內，除上述四羧酸化合物以外，進而使四羧酸及三羧酸以及其等之酐及衍生物反應所得者。

作為四羧酸，可例舉上述四羧酸化合物之酐之水加成物。

作為三羧酸化合物，可例舉：芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及其等之相關醯氯化合物、酸酐等，亦可組合2種以上使用。作為具體例，可例舉：1,2,4-苯三羧酸之酐；1,3,5-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸以單鍵、-O-、-CH₂ -、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -或伸苯基連結而成之化合物。

於樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及/或二羧酸化合物之使用量可根據所需聚醯亞胺系樹脂之各結構單元之比率適當選擇。

於樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物之反應溫度並無特別限定，例如為5～350℃，較佳為20～200℃，更佳為25～100℃。反應時間亦無特別限定，例如為30分鐘～10小時左右。視需要，可於惰性氛圍或減壓條件下進行反應。於較佳之態樣中，反應於常壓及/或惰性氣氛下，一面攪拌一面進行。又，反應較佳為於對反應惰性之溶劑中進行。作為溶劑，並無特別限定，只要不對反應產生影響即可，例如可例舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇、丙二醇單甲醚等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯(以下，有時記載為GBL)、γ-戊內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、甲基異丁基酮等酮系溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；N,N-二甲基乙醯胺(以下，有時記載為DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺(以下，有時記載為DMF)等醯胺系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及其等之組合(混合溶劑)等。其中，就溶解性之觀點而言，適宜使用醯胺系溶劑。

於聚醯亞胺系樹脂之製造中之醯亞胺化步驟中，可於醯亞胺化觸媒之存在下進行醯亞胺化。作為醯亞胺化觸媒，例如可例舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及吡啶、2-甲基吡啶(2-picoline)、3-甲基吡啶(3-picoline)、4-甲基吡啶(4-picoline)、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉及異喹啉等芳香族胺。又，基於容易促進醯亞胺化反應之觀點，較佳為與醯亞胺化觸媒一起使用酸酐。酸酐可例舉醯亞胺化反應中所使用之慣用之酸酐等，作為其具體例，可例舉：乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等脂肪族酸酐、鄰苯二甲酸等芳香族酸酐等。

聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂可藉由慣用方法、例如過濾、濃縮、萃取、晶析、再結晶、管柱層析法等分離方法、或將該等方法組合而成之分離方法分離純化從而進行單離，於較佳之態樣中，可藉由向包含透明聚醯胺醯亞胺樹脂之反應液中添加大量甲醇等醇，使樹脂析出，並進行濃縮、過濾、乾燥等，進行單離。

(光學膜) 於本發明中，構成光學膜之樹脂組合物中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量相對於樹脂組合物之固形物成分，較佳為40質量%以上，更佳為50質量%以上，進而較佳為60質量%以上，尤佳為70質量%以上，亦可為100質量%。若聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量為上述下限值以上，則光學膜之彎曲性良好。再者，所謂固形物成分係指樹脂組合物中除溶劑以外之成分之合計量。

於本發明中，形成光學膜之樹脂組合物除上述聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂以外，亦可進而含有無機粒子等無機材料。作為無機材料，可例舉：二氧化矽粒子、鈦粒子、氫氧化鋁、氧化鋯粒子、鈦酸鋇粒子等無機粒子，又，可例舉：原矽酸四乙酯等4級烷氧基矽烷等矽化合物。就清漆之穩定性、無機材料之分散性之觀點而言，較佳可例舉二氧化矽粒子、氫氧化鋁、氧化鋯粒子，進而較佳為二氧化矽粒子。

無機材料粒子之平均一次粒徑較佳為1～100 nm，更佳為5～70 nm，進而較佳為10～50 nm，尤佳為10～30 nm。若二氧化矽粒子之平均一次粒徑處於上述範圍內，則透明性呈提昇之趨勢，又，二氧化矽粒子之凝聚力變弱故而呈容易處理之趨勢。

於本發明中，二氧化矽粒子可為使二氧化矽粒子分散於有機溶劑等所得之矽溶膠，亦可使用藉由氣相法製造之二氧化矽微粒子粉末，基於容易進行操作之觀點，較佳為藉由液相法製造之矽溶膠。

光學膜中之二氧化矽粒子之平均一次粒徑可藉由利用穿透式電子顯微鏡(TEM)進行之觀察求出。形成光學膜之前之二氧化矽粒子之平均一次粒徑可藉由BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法求出，粒度分佈可藉由市售之雷射繞射式粒度分佈計求出。

於本發明中，相對於樹脂組合物之固形物成分，樹脂組合物中之無機材料之含量較佳為0質量%以上90質量%以下，更佳為10質量%以上60質量%以下，進而較佳為20質量%以上50質量%以下。若樹脂組合物中之無機材料之含量處於上述範圍內，則呈容易兼顧光學膜之透明性及機械強度之趨勢。再者，所謂固形物成分，係指樹脂組合物中除溶劑以外之成分之合計量。

構成光學膜之樹脂組合物除以上所說明之成分以外，亦可進而含有其他成分。作為其他成分，例如可例舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、脫模劑、光穩定劑、上藍劑、阻燃劑、潤滑劑及調平劑。

紫外線吸收劑可自樹脂材料領域中通常所使用之紫外線吸收劑中適當選擇。紫外線吸收劑亦可包含吸收400 nm以下之波長之光之化合物。作為紫外線吸收劑，例如可例舉：選自由二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并三唑系化合物及三𠯤系化合物所組成之群中之至少1種化合物。紫外線吸收劑可單獨使用或組合兩種以上使用。藉由光學膜含有紫外線吸收劑，樹脂之劣化得到抑制，故而於將所獲得之光學膜適用於圖像顯示裝置等之情形時可提高視認性。於本說明書中，所謂「系化合物」係指附有該「系化合物」之化合物之衍生物。例如，所謂「二苯甲酮系化合物」係指具有作為母體骨架之二苯甲酮及鍵結於二苯甲酮之取代基之化合物。

於光學膜含有紫外線吸收劑之情形時，相對於光學膜100質量份，紫外線吸收劑之含量較佳為1質量份以上，更佳為2質量份以上，進而較佳為3質量份以上，且較佳為10質量份以下，更佳為8質量份以下，進而較佳為6質量份以下。適宜之含量根據所使用之紫外線吸收劑而有所不同，但若以400 nm之光線透過率成為20～60%左右之方式調節紫外線吸收劑之含量，則光學膜之耐光性得到提高，並且容易提高透明性。

於本發明中，樹脂組合物包含除聚醯亞胺系樹脂等樹脂成分及無機材料、紫外線吸收劑以外之其他成分之情形時，相對於光學膜之總質量，其他成分之含量較佳為0%以上20質量%以下，更佳為0.01%以上10質量%以下。

於本發明中，光學膜例如可自樹脂清漆製造，該樹脂清漆藉由向樹脂組合物中，添加溶劑並進行混合及攪拌而製備，該樹脂組合物包含自上述四羧酸化合物、上述二胺及上述其他原料中選擇並使之反應而獲得之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之反應液、視需要添加之無機材料以及其他成分。於上述樹脂組合物中，亦可使用所購入之聚醯亞胺系樹脂等之溶液、或所購入之固體之聚醯亞胺系樹脂等之溶液來代替聚醯亞胺系樹脂等之反應液。

作為用以製備樹脂清漆之溶劑，可適當選擇使聚醯亞胺系樹脂等樹脂成分溶解或分散所得者。就樹脂成分之溶解性、塗佈性及乾燥性等觀點而言，上述有機溶劑之沸點較佳為120～300℃，更佳為120～270℃，進而較佳為120～250℃，尤佳為120～230℃。作為此種有機溶劑，具體而言，例如可例舉：DMF、DMAc、N-甲基吡咯啶酮等醯胺系溶劑；GBL、γ-戊內酯等內酯系溶劑；環己酮、環戊酮、甲基乙基酮等酮系溶劑；乙酸丁酯、乙酸戊酯等乙酸酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑、碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑等。其中，基於使對聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂之溶解性優異之觀點，較佳為選自由DMAc(沸點：165℃)、GBL(沸點：204℃)、N-甲基吡咯啶酮(沸點：202℃)、乙酸丁酯(沸點：126℃)、環戊酮(沸點：131℃)及乙酸戊酯(沸點：149℃)所組成之群中之溶劑。作為溶劑，可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。再者，於使用2種以上溶劑之情形時，較佳為以所使用之溶劑中沸點最高之溶劑之沸點落於上述範圍內之方式選擇溶劑之種類。

溶劑之量只要以成為能夠處理樹脂清漆之黏度之方式進行選擇即可，並無特別限制，例如相對於樹脂組合物之固形物成分100質量份，較佳為50～95質量份，更佳為70～95質量份，進而較佳為80～95質量份。

光學膜之厚度只要根據光學膜之用途等適當決定即可，通常為10～500 μm，較佳為15～200 μm，更佳為20～130 μm。若光學膜之厚度處於上述範圍內，則光學膜之彎曲性呈良好之趨勢。

＜硬化樹脂層＞ 本發明之積層膜具有光學膜及積層於該光學膜之單面之硬化樹脂層。硬化樹脂層例如可藉由如下方法設置於光學膜上，即，藉由向塗佈於光學膜上之硬化樹脂組合物照射活性能量線，而利用聚合或交聯、其他硬化反應來使樹脂硬化。又，於本發明中，硬化樹脂層較佳為具有功能之層，本說明書中所謂「功能」係指對光學膜賦予之功能，更具體而言，可例舉：硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能、防污功能、阻氣功能、底漆功能、電磁波屏蔽功能、底塗功能、紫外線吸收功能、黏著功能、色相調整功能等，但並不限定於其等。又，本說明書中所謂「硬化」不僅意指聚合或交聯、其他硬化反應，還意指樹脂層不會簡單地自光學膜剝離以便保持對光學膜賦予之功能。具有功能之硬化樹脂層(亦稱為功能層)可為具有1種功能之層，亦可為兼具2種以上功能之層。基於容易用作軟性顯示裝置之前面板之觀點，較佳為該功能層之至少1層為具有選自由硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能所組成之群中之至少1種功能的層。功能層可以1層具有複數種功能，亦可積層2層以上具有各功能之層。於積層2層以上之情形時，積層之順序可根據其功能適當設定。該等層積層於光學膜之單面或雙面。於積層於雙面之情形時，積層於各面之層之厚度、功能、積層之順序可相同，亦可不同。基於容易預防積層膜之捲曲之觀點，功能層較佳為5層以下，更佳為3層以下，進而較佳為2層以下，尤佳為1層。

功能層之厚度可根據目標功能適當設定，基於容易預防積層膜之捲曲，又，容易提高輕量化及光學均質性之觀點，較佳為30 μm以下，更佳為20 μm以下，進而較佳為1 μm以上10 μm以下，進而更佳為1 μm以上8 μm以下，尤佳為2 μm以上7 μm以下。此處所謂之厚度，於積層有2層以上功能層之情形時係指所有層之厚度。再者，於本發明中，功能層之厚度例如可使用接觸式之數位式量表並根據與光學膜之厚度之差算出。

於將光學膜之厚度設為T1，將功能層之厚度設為T2時，T1/T2較佳為1以上40以下，更佳為1.5以上30以下，進而較佳為2以上20以下，尤佳為3以上10以下。若T1/T2處於上述範圍內，則光學膜與功能層取得平衡，不易產生捲曲。

光學膜與功能層較佳為充分密接。密接性例如可藉由依照JIS K 5600-5-6之十字劃格試驗來進行評價，具體而言，以2 mm間隔10×10之棋盤格狀劃入傷痕，並貼附Sellotape(註冊商標，米其邦股份有限公司製造)，在相對於面為60°之方向上撕下Sellotape後，對所殘留之棋盤格之數量進行計數。此時，所殘留之棋盤格之數量越多，則可謂密接性越高，其數量較佳為100。

(硬塗功能) 硬塗功能係對光學膜之表面賦予耐劃傷性、耐化學品性等保護光學膜之功能。於本發明之積層膜中，功能層可為具有硬塗功能之層、即硬塗層。作為硬塗層，可適當採用公知之化合物，例如可例舉：丙烯酸系、環氧系、胺基甲酸酯系、苄基氯系、乙烯系等公知之硬塗層。其中，基於抑制積層膜之廣角方向之視認性下降，且提昇耐彎曲性之觀點，較佳為丙烯酸系、胺基甲酸酯系及其等之組合之硬塗層。例如，硬塗層可為含有活性能量線硬化性化合物之組合物之硬化物。活性能量線硬化性化合物係具有藉由照射電子束、紫外線等活性能量線而硬化之性質之化合物。作為此種活性能量線硬化性化合物，例如可例舉：藉由照射電子束而硬化之電子束硬化性化合物、或藉由照射紫外線而硬化之紫外線硬化性化合物等。該等化合物係與通常用於形成硬塗層之硬塗劑之主成分相同的化合物，例如可例舉：(甲基)丙烯酸系樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂中，以多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物為主成分者較佳。再者，於本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸，所謂(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。

所謂多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，係於分子中具有至少2個丙烯醯氧基及/或甲基丙烯醯氧基之化合物，具體可例舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、五甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸三((甲基)丙烯醯氧基乙基)酯、於磷腈化合物之磷腈環上導入(甲基)丙烯醯氧基所得之磷腈系丙烯酸酯化合物或磷腈系甲基丙烯酸酯化合物、藉由分子中具有至少2個異氰酸基之聚異氰酸酯與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及羥基之多元醇化合物之反應獲得的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯化合物、藉由分子中至少2個羧醯鹵化物與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及羥基之多元醇化合物之反應獲得的聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物、以及如上述各化合物之二聚物、三聚物等之低聚物等。

該等化合物可分別單獨使用或混合2種以上使用。再者，除上述多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物以外，亦可使用至少1種單官能(甲基)丙烯酸酯。作為單官能(甲基)丙烯酸酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。該等化合物可單獨使用或混合2種以上使用。相對於功能層形成用組合物(亦稱為硬塗層用塗料)中所包含之化合物之固形物成分，單官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之含量較佳為10質量%以下之量。再者，於本說明書中，所謂固形物成分係指硬化性組合物中所包含之除溶劑以外之所有成分。

例如為了調整硬度，功能層中亦可添加聚合性低聚物。作為此種低聚物，可例舉：末端(甲基)丙烯酸酯聚甲基丙烯酸甲酯、末端苯乙烯基聚(甲基)丙烯酸酯、末端(甲基)丙烯酸酯聚苯乙烯、末端(甲基)丙烯酸酯聚乙二醇、末端(甲基)丙烯酸酯丙烯腈-苯乙烯共聚物、末端(甲基)丙烯酸酯苯乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物等巨單體。於添加聚合性低聚物之情形時，其含量相對於功能層形成用組合物之固形物成分，較佳為5～50質量%。

活性能量線硬化性化合物亦可以與溶劑混合之溶液之狀態使用。活性能量線硬化性化合物或其溶液亦可為作為硬塗劑市售者。作為市售之硬塗劑，具體可例示：「NK HARD M101」(新中村化學股份有限公司製造之丙烯酸胺基甲酸酯化合物)、「NK ESTER A-TMM-3L」(新中村化學股份有限公司製造之四羥甲基甲烷三丙烯酸酯)、「NK ESTER A-9530」(新中村化學股份有限公司製造之二季戊四醇六丙烯酸酯)、「KAYARAD(註冊商標)DPCA系列」(日本化藥股份有限公司製造之二季戊四醇六丙烯酸酯化合物之衍生物)、「ARONIX(註冊商標)M-8560」(東亞合成股份有限公司製造之聚酯丙烯酸酯化合物)、「NEW FRONTIER(註冊商標)TEICA」(第一工業製藥股份有限公司製造之異氰尿酸三(丙烯醯氧基乙基)酯)、「PPZ」(共榮社化學股份有限公司製造之磷腈系甲基丙烯酸酯化合物)等。

作為使硬塗層積層於光學膜之方法，例如只要將含有活性能量線硬化性化合物(亦稱為活性能量線硬化性樹脂)之硬塗層形成用組合物塗佈於光學膜之表面，並照射活性能量線即可。此種組合物可藉由將活性能量線硬化性化合物視需要與添加劑等混合而獲得。該硬塗層形成用組合物之硬化物構成硬塗層。

硬塗層形成用組合物較佳為包含溶劑，且較佳為於該硬塗層形成用組合物中，活性能量線硬化性化合物由溶劑稀釋。於此情形時，關於該組合物，可將活性能量線硬化性化合物與用以賦予表面平滑性等之各種添加劑、例如聚矽氧油等混合後，藉由溶劑將所獲得之混合物稀釋而製造，亦可藉由溶劑將活性能量線硬化性化合物稀釋後混合添加劑而製造，亦可將活性能量線硬化性化合物與預先藉由溶劑稀釋之添加劑混合而製造，還可將預先藉由溶劑稀釋之活性能量線硬化性化合物與預先藉由溶劑稀釋之添加劑混合而製造。混合後之組合物亦可進一步進行攪拌。

基於容易進行塗佈之觀點，亦較佳為硬塗層形成用組合物含有適當之溶劑。作為溶劑，可自如下化合物中適當選擇而使用：己烷、辛烷等脂肪族烴；甲苯、二甲苯等芳香族烴；乙醇、1-丙醇、異丙醇、1-丁醇等醇類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；溶纖劑類等。該等有機溶劑亦可視需要混合數種而使用。基於於塗佈後對硬塗層形成用組合物加熱，而使有機溶劑容易蒸發之觀點，溶劑之沸點較佳處於70～200℃之範圍內。溶劑之種類或使用量根據所使用之活性能量線硬化性化合物之種類或量、基材即光學膜之材質、形狀、塗佈方法、目標硬塗層之厚度等適當選擇。 對塗佈後之硬塗層形成用組合物進行乾燥之加熱溫度相對於該組合物中所包含之溶劑之沸點，較佳為±30℃，更佳為±20℃。若硬塗層形成用組合物之乾燥溫度處於上述範圍內，則呈溶劑不易殘留於所獲得之硬塗層，且密接性不易下降之趨勢。 硬塗層形成用組合物之固形物成分較佳為5～60質量%，更佳為10～55質量%，進而較佳為20～50質量%，尤佳為25～50質量%。若該固形物成分處於上述範圍內，則呈塗佈之厚度不會變得過厚從而防止捲曲之效果變得良好，且所獲得之硬塗層之表面之平滑性變得良好之趨勢。

硬塗層形成用組合物亦可含有聚合起始劑。於使用紫外線或可見光線作為活性能量線之情形時，通常使用光聚合起始劑作為聚合起始劑。

作為光聚合起始劑，例如可例舉：苯乙酮、苯乙酮苯偶醯縮酮、蒽醌、1-(4-異丙基苯基-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、咔唑、𠮿酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二胺基二苯甲酮、1,1-二甲氧基去氧苯偶姻、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、9-氧硫𠮿

、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、三苯胺、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、茀酮、茀、苯甲醛、苯偶姻乙基醚、苯并異丙基醚、二苯甲酮、米其勒酮、3-甲基苯乙酮、3,3',4,4'-四-第三丁基過氧基羰基二苯甲酮(有時記載為BTTB)、2-(二甲基胺基)-1-[4-(嗎啉基)苯基]-2-苯基甲基)-1-丁酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、苯偶醯等。又，光聚合起始劑亦可與色素增感劑組合使用。作為該色素增感劑，例如可例舉：𠮿

、硫𠮿

、香豆素、酮香豆素等。作為光聚合起始劑與色素增感劑之組合，例如可例舉：BTTB與𠮿

之組合、BTTB與硫𠮿

之組合、BTTB與香豆素之組合、BTTB與酮香豆素之組合等。

於使用光聚合起始劑之情形時，其使用量相對於活性能量線硬化性化合物100質量份，較佳為0.1質量份以上。若該使用量處於上述範圍內，則呈容易獲得充分之硬化速度之趨勢。再者，於活性能量線硬化性化合物每100質量份中，光聚合起始劑之使用量較佳為10質量份以下。

硬塗層形成用組合物除活性能量線硬化性化合物以外，亦可含有抗靜電劑。藉由該組合物含有抗靜電劑，可對硬塗層賦予抗靜電功能。作為抗靜電劑，例如可例舉：界面活性劑、導電性高分子、導電性粒子、鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽等。該等抗靜電劑分別使用1種或混合2種以上使用。

作為界面活性劑，可例舉：烴系界面活性劑、氟系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑等。

作為導電性高分子，可例舉：聚苯胺、聚吡咯、聚乙炔、聚噻吩等。

作為導電性粒子，例如可例舉：銦-錫-複合氧化物(ITO)、摻雜有銻之氧化錫等粒子。

作為鹼金屬鹽，可例舉鹼金屬之有機鹽及無機鹽。作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可例舉：鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子中，較佳為鋰離子。

鹼金屬鹽之陰離子部可包含有機物，亦可包含無機物。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用：CH₃ COO^- 、CF₃ COO^- 、CH₃ SO₃ ^- 、CF₃ SO₃ ^- 、(CF₃ SO₂ )₃ C^- 、C₄ F₉ SO₃ ^- 、C₃ F₇ COO^- 、(CF₃ SO₂ )(CF₃ CO)N^- 、(FSO₂ )₂ N^- 、^- O₃ S(CF₂ )₃ SO₃ ^- 、CO₃ ^2- 、式(A1)～式(A4)所表示之陰離子部等，其中，(A1)：(C_n F_{2n ＋ 1} SO₂ )₂ N^- (n表示1～10之整數)，(A2)：CF₂ (C_m F_2m SO₂ )₂ N^- (m表示1～10之整數)，(A3)：^- O₃ S(CF₂ )_l SO₃ ^- (l表示1～10之整數)，(A4)：(C_p F_{2p ＋ 1} SO₂ )N^- (C_q F_{2q ＋ 1} SO₂ )(其中，p及q相互獨立地表示1～10之整數)。其中，含有氟原子之陰離子部可獲得離子解離性良好之離子化合物，故而可較佳地使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用：Cl^- 、Br^- 、I^- 、AlCl₄ ^- 、Al₂ Cl₇ ^- 、BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、ClO₄ ^- 、NO₃ ^- 、AsF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、NbF₆ ^- 、TaF₆ ^- 、(CN)₂ N^- 等。作為陰離子部，較佳為(FSO₂ )₂ N^- 、(CF₃ O₂ )₂ N^- 、(C₂ F₅ SO₂ )₂ N^- ，更佳為(FSO₂ )₂ N^- 、(CF₃ SO₂ )₂ N^- 。

有機陽離子-陰離子鹽係包含陽離子部及陰離子部，且上述陽離子部為有機物之有機鹽。陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦可為稱為離子性液體、離子性固體之物質。

作為陽離子成分，具體可例舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。作為陰離子成分，可例舉與上述鹼金屬鹽之陰離子部相同者。其中，含有氟原子之陰離子成分可獲得離子解離性良好之離子化合物，故而可較佳地使用。

硬塗層形成用組合物例如亦可含有包含溴原子、氟原子、硫原子、苯環等之有機化合物、例如氧化錫、氧化銻、氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅、氧化矽等無機氧化物微粒子等。於此情形時，可調整所獲得之硬塗層之折射率，且可對硬塗層賦予低反射功能、抗反射功能等光學功能。

藉由將含有活性能量線硬化性化合物之硬塗層形成用組合物塗佈於光學膜之上之後，進行乾燥，可形成含有活性能量線硬化性化合物之層。塗佈例如可藉由微凹版塗佈法、輥塗法、浸漬塗佈法、旋轉塗佈法、模嘴塗佈法、流延轉印法、流塗法、噴霧塗佈法等通常之方法進行。基於容易提高積層膜之光學均質性之觀點，較佳為藉由微凹版塗佈法或模嘴塗佈法使硬塗層形成用組合物積層。

其後，藉由照射活性能量線，塗佈於光學膜之表面之活性能量線硬化性化合物硬化，獲得目標硬塗層。作為活性能量線，例如可例舉：電子束、紫外線、可見光線等，根據所使用之活性能量線硬化性化合物之種類適當選擇。活性能量線只要以與通常之硬塗層形成中之方式同樣之方式照射即可。所照射之活性能量線之強度、照射時間等根據所使用之硬化性化合物之種類、含有硬化性化合物之層之厚度等適當選擇。活性能量線亦可於惰性氣氛中照射。於氮氣氛圍中照射活性能量線時，只要例如於由惰性氣體密封之容器中進行活性能量線照射即可，作為惰性氣體，可使用氮氣、氬氣等。 亦可使下述抗反射層或低反射層進一步積層於硬塗層之表面。此情形時之抗反射層或低反射層可於硬塗層之表面以單層或複數層積層。

(抗靜電功能) 抗靜電功能係防止光學膜之表面帶電之功能。於本發明之積層膜中，功能層可為具有抗靜電功能之層即抗靜電層。作為形成抗靜電層之方法，除向上述硬塗層形成用組合物中添加抗靜電劑而對硬塗層賦予抗靜電功能之方法以外，還可例舉如下方法，即，將藉由溶劑等稀釋抗靜電劑所得之抗靜電層形成用組合物塗佈於光學膜或光學膜上所積層之功能層上，並視需要進行乾燥，而形成為單獨之膜。抗靜電劑可作為具有抗靜電功能之結構單元包含於構成功能層之樹脂、例如上述活性能量線硬化性化合物之硬化物之一部分中，亦可作為添加劑添加至形成功能層之樹脂中。於添加抗靜電劑作為添加劑之情形時，其添加量相對於功能層形成用組合物之固形物成分，較佳為0.01～20質量%，更佳為0.05～10質量%，進而較佳為0.1～10質量%。

(防眩功能) 防眩功能係藉由使光散射並反射而防止外界光映入之功能。於本發明之積層膜中，功能層可為具有防眩功能之層即防眩層。作為防眩層，可適當採用公知者。例如，藉由使用透光性樹脂中包含1種以上透光性微粒子之樹脂組合物，形成表面具有微細之凹凸形狀之層，可賦予防眩功能。更具體而言，此種防眩層例如可藉由如下方法形成，即，將使作為填料之透光性微粒子分散所得之透光性樹脂溶液塗佈於光學膜之上，並以透光性微粒子成為防眩層之表面中之凸形狀部分之方式調整塗佈之厚度。再者，於本說明書中，所謂「透光性」係指無論物質內部有無散射，光均可大致透過。

(透光性微粒子) 作為透光性微粒子，例如可例舉：(甲基)丙烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、有機聚矽氧樹脂、丙烯酸-苯乙烯共聚物等有機微粒子、及碳酸鈣、二氧化矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸鋇、氧化鈦、玻璃等無機微粒子。可使用1種或2種以上微粒子作為透光性微粒子。為了獲得所需防眩性，適當調整透光性微粒子之種類、粒徑、折射率、含量等。

透光性微粒子之粒徑較佳為0.5～5 μm，更佳為1～4 μm。若透光性微粒子之粒徑處於上述範圍內，則容易獲得所需光擴散效果，又，容易於防眩層之表面形成凹凸，故而容易獲得充分之防眩效果。進而，呈防眩層之表面形狀不粗糙，霧度值不大幅上升之趨勢。

透光性微粒子與透光性樹脂之折射率之差較佳為0.02～0.2，更佳為0.04～0.1。若折射率差處於上述範圍內，則容易獲得充分之光擴散效果，又，積層膜整體不易變白。

相對於透光性樹脂100質量份，透光性微粒子之添加量較佳為3～30質量份，更佳為5～20質量份。若添加量處於上述範圍內，則容易獲得充分之光擴散效果，又，積層膜整體不易變白。

於將透光性微粒子之粒徑、添加量、及/或透光性微粒子與透光性樹脂之折射率差調整於如上所述之範圍內之情形時，即便在防眩層之霧度較高之區域中，亦不會使透過清晰度下降，容易防止表面之眩光，進而即便在霧度較低之區域中，亦容易於維持高透過清晰度之狀態下防止眩光。

(透光性樹脂) 作為構成防眩層之透光性樹脂，並無特別限制，只要為具有透光性之樹脂即可，例如除如上所述之活性能量線硬化性化合物之硬化物以外，還可例舉：熱硬化性樹脂之硬化物、熱塑性樹脂、金屬烷氧化物系聚合物等。其中，活性能量線硬化性化合物之硬化物較為適宜。於使用紫外線硬化性樹脂等作為活性能量線硬化性化合物之情形時，與上述同樣地，可於塗佈液中含有光聚合起始劑、例如自由基聚合起始劑，藉由照射活性能量線使塗佈層硬化。

作為熱硬化性樹脂，可例舉：包含丙烯酸多元醇及異氰酸酯預聚物之熱硬化性聚胺酯樹脂、酚樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。

作為熱塑性樹脂，可例舉：乙醯纖維素、硝化纖維素、乙醯基丁基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物；乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯系樹脂；聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁醛等縮醛系樹脂；丙烯酸樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸樹脂及其共聚物等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂等。

作為金屬烷氧化物系聚合物，可使用以矽烷氧化物系材料為原料之氧化矽系基質等。具體而言，金屬烷氧化物系聚合物可為將四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷等烷氧基矽烷之水解物脫水縮合而獲得之無機系或有機無機複合系基質。

於使用熱硬化性樹脂之硬化物、金屬烷氧化物系聚合物作為透光性樹脂之情形時，於塗佈液塗佈之後有時需要加熱。

又，一般而言，紫外線硬化性樹脂之折射率為約1.5，與玻璃為相同程度，有時於與上述透光性微粒子之折射率比較時，所使用之紫外線硬化性樹脂之折射率較低。於此情形時，向透光性樹脂中，添加折射率較高之微粒子即TiO₂ (折射率：2.3～2.7)、Y₂ O₃ (折射率：1.87)、La₂ O₃ (折射率：1.95)、ZrO₂ (折射率：2.05)、Al₂ O₃ (折射率：1.63)等至可保持防眩層中之光之擴散性之程度，可提高透過性樹脂之折射率，將其調整於較佳之範圍內。

可使透光性微粒子分散於含有透光性樹脂及溶劑之組合物、例如上述硬塗層形成用組合物，而製造防眩層形成用組合物。使透光性微粒子分散之時點或分散方法並無特別限定。

藉由將該防眩層形成用組合物塗佈於光學膜之表面或光學膜上所積層之功能層之表面，並進行乾燥，可形成防眩層。塗佈可藉由通常之方法、例如微凹版塗佈法、輥塗法、浸漬塗佈法、旋轉塗佈法、模嘴塗佈法、流延轉印法、流塗法、噴霧塗佈法等方法進行。其後，較佳為藉由照射紫外線使紫外線硬化性樹脂硬化。所照射之紫外線之強度、照射時間等根據所使用之硬化性化合物之種類、含有硬化性化合物之層之厚度等適當選擇。紫外線亦可於惰性氣氛中照射。基於於惰性氣氛中照射紫外線之觀點，只要例如於由惰性氣體密封之容器中進行活性能量線照射即可，作為惰性氣體，可使用氮氣、氬氣等。

作為形成防眩層之另一方法，可使用壓紋處理。於該方法中，將防眩層形成用組合物塗佈於光學膜或光學膜上所積層之功能層上之後，一面將具有規定之表面凹凸形狀之稱為壓紋捲筒之模具壓抵於塗佈層一面視需要使塗佈層硬化，可對塗佈層之表面賦予凹凸。將防眩層自壓紋捲筒剝離之後，為了進一步促進該防眩層之硬化反應，實施自防眩層側再一次照射紫外線之第二硬化步驟亦較為有效。

防眩層之霧度較佳為0.1～50%。防眩層之霧度藉由依照JIS K 7361之方法進行測定。防眩層之厚度例如可以防眩層之霧度處於上述範圍內之方式適當調整，較佳為2～20 μm。若防眩層之厚度處於上述範圍內，則容易獲得充分之防眩效果，容易防止防眩層開裂，又，容易防止因防眩層之硬化收縮使防眩層捲曲導致生產性下降。又，一般而言，相對於分散之透光性微粒子之重量平均粒徑，防眩層之厚度較佳為85%以上，更佳為100%以上。若防眩層之厚度處於上述範圍內，則呈霧度不會變得過大從而視認性不易下降之趨勢。

防眩層亦可含有抗靜電劑。藉由含有抗靜電劑，可獲得具有抗靜電功能之防眩層。作為抗靜電劑，可例舉與上述硬塗層中添加之抗靜電劑相同者。

防眩層亦可於其最表面、即凹凸面側具有低反射層。即便在不具有低反射層之狀態下，亦會發揮充分之防眩功能，但藉由在最表面設置低反射層，可更加提昇防眩性。作為低反射層，可適用下述者。

(抗反射功能及低反射功能) 抗反射功能及低反射功能係防止或減少外界光之反射之功能。於本發明之積層膜中，功能層可為具有防止外界光之反射之功能之層即抗反射層，亦可為具有減少外界光之反射之功能之層即低反射層。抗反射層及低反射層可為單層亦可為多層。

(抗反射層) 抗反射層可具備低折射率層。又，抗反射層亦可為具有多層結構之層，該多層結構進而具備低折射率層、以及積層於該低折射率層與光學膜之間之高折射率層及/或中折射率層。亦可於抗反射層與光學膜之間設置上述硬塗層。

抗反射層之厚度較佳為0.01～1 μm，更佳為0.02～0.5 μm。作為抗反射層，可例舉：具有較積層該抗反射層之光學膜或功能層之折射率小之折射率、例如1.3～1.45之折射率之低折射率層；交替地積層複數個包含無機化合物之薄膜之低折射率層與包含無機化合物之薄膜之高折射率層所得的層等。此處，高折射率層之折射率只要大於低折射率層之折射率即可，較佳為1.60以上。

形成上述低折射率層之材料並無特別限制，只要為折射率較低之材料即可。例如，可例舉：活性能量線硬化性樹脂、例如紫外線硬化型丙烯酸樹脂等樹脂材料；使膠體二氧化矽等無機微粒子分散於樹脂中所得之混合材料；使用四乙氧基矽烷等金屬烷氧化物之溶膠-凝膠材料等。其等形成低折射率層之材料可為經聚合而成之聚合物，亦可為作為前驅物之單體或低聚物。又，基於可對抗反射層賦予防污功能之觀點，構成抗反射層之材料較佳為包含含有氟之化合物。

高折射率層可藉由如下方法形成，即，於塗佈含有上述活性能量線硬化性樹脂之硬化物或金屬烷氧化物系聚合物等透光性樹脂以及無機微粒子及/或有機微粒子之塗佈液之後，視需要使塗佈層硬化。作為無機微粒子，例如可例舉：氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋁、氧化矽烷、氧化鉭、氧化釔、氧化鐿、氧化鋯、氧化銻、氧化銦錫(ITO)等。包含該等無機微粒子之高折射率層亦可兼具抗靜電功能。

作為製造使折射率不同之無機化合物、例如金屬氧化物等之透明薄膜積層而成之多層膜之方法，可例舉如下等方法：藉由化學蒸鍍(CVD)法、物理蒸鍍(PVD)法、金屬烷氧化物等金屬化合物之溶膠/凝膠方法，形成膠體狀金屬氧化物粒子皮膜之後，進行後處理(例如，紫外線照射處理：日本專利特開平9-157855號公報；電漿處理：日本專利特開2002-327310號公報)，形成薄膜。

另一方面，基於容易提昇生產性之觀點，亦較佳為積層塗設使無機粒子分散於基質中所得之薄膜而使抗反射層積層。進而，藉由塗佈使無機粒子分散於基質中所得之抗反射層形成用組合物，使抗反射層積層時，在塗佈表面形成微細之凹凸形狀，藉此亦可對抗反射層進而賦予防眩功能。

(低反射層) 低反射層係藉由折射率較作為基材之光學膜低之低折射率材料形成之層。低折射率層可藉由如下方法形成，即，於塗佈含有上述活性能量線硬化性樹脂之硬化物或金屬烷氧化物系聚合物等透光性樹脂及無機微粒子之塗佈液之後，視需要使塗佈層硬化。作為此種低折射率材料，具體可例舉：使氟化鋰(LiF)、氟化鎂(MgF₂ )、氟化鋁(AlF₃ )、冰晶石(3NaF・AlF₃ 或Na₃ AlF₆ )等無機材料微粒子包含於丙烯酸系樹脂或環氧系樹脂等中所得之無機系低反射材料；氟系或聚矽氧系有機化合物、熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等有機系低反射材料。

(防污功能) 防污功能係防止污垢之功能，且係藉由對層賦予撥水性、撥油性、耐汗性、防污性、耐指紋性等獲得之功能。於本發明之積層膜中，功能層可為具有防污功能之層即防污層。用以形成防污層之材料可為有機化合物，亦可為無機化合物。作為帶來較高之撥水性及撥油性之材料，可例舉含氟有機化合物、有機矽化合物等。作為含氟有機化合物，可例舉：氟碳、全氟矽烷、其等之高分子化合物等。基於容易提高防止污垢附著之效果之觀點，較佳為如防污層表面相對於純水之接觸角度成為90°以上之材料，進而較佳為如防污層表面相對於純水之接觸角度成為100°以上之材料。防污層之形成方法可根據形成之材料，使用以蒸鍍或濺鍍為代表例之物理氣相沈積法、化學氣相沈積法、濕式塗佈法等。防污層之平均厚度通常為1～50 nm左右，較佳為3～35 nm。

(紫外線吸收功能) 於本發明之積層膜中，功能層可為具有紫外線吸收功能之紫外線吸收層。紫外線吸收層例如包含選自紫外線硬化型透光性樹脂、電子束硬化型透光性樹脂及熱硬化型透光性樹脂中之主材、及分散於該主材之紫外線吸收劑。

(黏著功能) 於本發明之積層膜中，功能層可為具有使光學膜接著於其他構件之黏著性之功能之黏著層。作為黏著層之形成材料，可使用通常所知之材料。例如，可使用熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物。於此情形時，可藉由事後供給能量，使熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物高分子化並硬化。

黏著層亦可為稱為壓敏型接著劑(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)之藉由按壓貼合於對象物之層。壓敏型接著劑可為「於常溫下具有黏著性，以較輕之壓力便接著於被接著材之物質」(JIS K 6800)即黏著劑，亦可為「將特定成分內含於保護覆膜(亦稱為微膠囊)中，且可保持穩定性直至藉由適當方法(壓力、熱等)破壞覆膜為止之接著劑」(JIS K 6800)即膠囊型接著劑。

(色相調整功能) 於本發明之積層膜中，功能層可為具有可將積層膜調整為目標色相之功能之色相調整層。色相調整層例如為含有樹脂及著色劑之層。作為著色劑，例如可例舉：氧化鈦、氧化鋅、紅丹、氧鈦系煅燒顏料、群青、鋁酸鈷及碳黑等無機顏料；偶氮系化合物、喹吖啶酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、異吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、蒽系化合物及吡咯并吡咯二酮系化合物等有機顏料；硫酸鋇及碳酸鈣等體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料及媒染染料等染料。

＜保護膜＞ 於本發明中，「保護膜」係為了暫時保護積層膜以免其自外部受到損傷或發生變形而積層之膜，該膜於將積層膜實際用於使用用途時並不存在。本發明之積層膜亦可包含貼合於上述光學膜之保護膜。保護膜通常貼合於硬化樹脂層上不存在光學膜之面。將積層膜捲取為捲筒狀時，若於黏連等捲取性上存在問題，則亦可對上述內容進行追加，於光學膜之不存在硬化樹脂層之面貼合保護膜。保護膜係用以暫時保護光學膜之表面之膜，並無特別限定，只要為可保護光學膜或功能層之表面之可剝離之膜即可。例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯膜等聚烯烴系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜等；較佳為選自由聚烯烴系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜及丙烯酸系樹脂膜所組成之群。於積層膜之雙面貼合有保護膜之情形時，各面之保護膜彼此可相同，亦可不同。

保護膜之厚度並無特別限定，通常為10～100 μm，較佳為10～80 μm，更佳為10～50 μm。於積層膜之雙面貼合有保護膜之情形時，各面之保護膜之厚度可相同，亦可不同。

＜膜捲筒＞ 於本發明中，將於卷芯上呈捲筒狀地捲繞上述積層膜所得者稱為膜捲筒，上述積層膜例如為積層光學膜、硬化樹脂層及視需要設置之保護膜所得者。膜捲筒於連續之製造步驟中，大多因空間及其他制約而暫時以捲筒之形式進行保管，膜捲筒亦為其中之一。於本發明中，關於膜捲筒之捲繞方法，需要自捲筒之芯側起依序捲繞積層膜之硬化樹脂層、光學膜。若以該順序形成膜捲筒，則在解捲後使用時不存在捲曲或捲曲得到減輕。於本說明書中，所謂「捲曲」，如上文中所述，係指如下狀態，即，將積層膜之任一表面放置在平面上時積層膜之端部自平面離開。關於捲曲之測定，係藉由實施例中所記載之捲曲量之測定方法來進行測定，從而規定捲曲量。捲曲量係於將積層膜放置在平面上時，端部自平面離開之距離較大時視為捲曲更大。基於容易處理所捲出之膜之觀點，捲曲量較佳為10 mm以下，更佳為7 mm以下，進而較佳為5 mm以下。

於本發明中，基於減小因捲繞慣性力產生之積層膜之捲曲之觀點，將積層膜之層中吸水率較高者配置於外側、即與捲筒芯遠離之層。因此，於捲繞積層膜時，若將硬化樹脂層設置於捲筒芯側，將光學膜設置於外側，則於製成膜捲筒之情形時，捲出之積層膜之捲曲、尤其是位於最外層之積層膜之捲曲變少。

積層膜之吸水率與捲曲同樣地藉由實施例中所記載之方法進行測定。簡單地對測定方法進行說明，自捲取為捲筒狀之積層膜切取特定大小、例如100 mm×100 mm之大小之膜，將其暫時充分乾燥並於未吸水之狀態下測定質量，將所測定之質量設為水蒸氣暴露前之積層膜之質量(W0)。繼而，用所切取之積層膜蓋住發生沸騰而出現蒸氣之燒杯的開口部，對經過5分鐘後之已吸水之狀態下之質量進行測定，將測定結果設為水蒸氣暴露後之積層膜之質量(W1)。吸水率由(W1－W0)/W0×100(%)表示。根據該測定可明確，上述式所表示之吸水率係根據積層膜整體之質量算出之吸水率，並非積層膜之各層之吸水率，積層膜之吸水率根據於測定積層膜時與蒸氣接觸之面之水蒸氣之吸收容易性而變化。

一般而言，吸水率較高之膜更容易引入水分，反之亦容易使水分脫離。通常，若膜中之水分脫離則膜發生收縮，於在膜正面及背面水分之脫離方向存在偏倚之情形時，向水分脫離之量較多之側收縮，以收縮之側為內側進行捲曲。本發明之膜捲筒係以硬化樹脂層側為內側、即捲筒芯側進行捲繞，從而硬化樹脂層側成為內側進行捲繞。位於外側之光學膜側之吸水率較硬化樹脂層側高，故而例如若因長期保管導致水分自光學膜側脫離，則力以於與膜捲筒之捲取方向相反之側、即光學膜側產生捲曲之方式作用，由於產生捲曲之方向相反，故而與積層膜之變形相關之力變得均衡，從而不存在捲曲或捲曲變小。

將光學膜側曝露於水蒸氣中時積層膜之吸水率以上述基準計，較佳為大於0.75%，更佳為1.00%以上3.00%以下，進而較佳為1.05%以上2.00%以下，進而更佳為1.10%以上1.80%以下，尤佳為1.20%以上1.70%以下。若積層膜之光學膜側之吸水率處於上述範圍內，則水分自膜脫離時，光學膜容易表現出適度之翹曲，結果，自膜捲筒捲出時之積層膜之捲曲容易變小。將硬化樹脂層側曝露於水蒸氣中時積層膜之吸水率較佳為1.30%以下，更佳為0.10%以上1.20%以下，進而較佳為0.50%以上1.10%以下，尤佳為0.75%以上1.05%以下。若積層膜之硬化樹脂層側之吸水率處於上述範圍內，則不易產生水分自硬化樹脂層側之脫離，從而可防止向硬化樹脂層側之翹曲變大，故而自膜捲筒捲出時之積層膜之捲曲容易變小。於本發明中，較佳為光學膜之吸水率較積層膜之硬化樹脂層高，將積層膜之光學膜側曝露於水蒸氣中時之吸水率與將硬化樹脂層側曝露於水蒸氣中時之吸水率的比、即(將光學膜側曝露於水蒸氣中時之吸水率)/(將硬化樹脂層側曝露於水蒸氣中時之吸水率)較佳為1.05以上4以下，更佳為1.10以上3以下，進而較佳為1.15以上2以下，尤佳為1.2以上1.5以下。若積層膜兩面之吸水率之比處於上述範圍內，則施加於積層膜之硬化樹脂側之應力與施加於光學膜側之應力容易抵消，從而自膜捲筒捲出時之積層膜之捲曲容易變小。

於本發明中，構成積層膜之光學膜可包含相對於光學膜之質量較佳為0.02%以上1.5%以下、更佳為0.1%以上1.2%以下、進而較佳為0.3%以上1.1%以下、尤佳為0.5%以上1.0%以下之溶劑。若溶劑之含量處於上述範圍內，則吸水率較高，即容易釋放水分，從而自膜捲筒捲出時之積層膜之捲曲變小。

光學膜中之溶劑量可根據光學膜製造時之乾燥條件或退火條件、例如溫度或時間進行調整。退火處理之溫度較佳為120～350℃，更佳為150～300℃，進而較佳為170～250℃。退火處理之時間可根據退火溫度適當設定，例如於退火溫度為200℃時，退火處理之時間較佳為超過20分鐘且為350分鐘以下，更佳為21分鐘以上200分鐘以下，進而較佳為22分鐘以上150分鐘以下，進而更佳為23分鐘以上120分鐘以下，尤佳為25分鐘以上60分鐘以下。又，退火處理亦可於大氣中、惰性氛圍或減壓條件下進行，但通常於大氣中進行。

本發明之積層膜之硬化樹脂層側具有2B以上之表面硬度，該表面硬度例如由鉛筆硬度表示。積層膜之鉛筆硬度較佳為B以上7H以下，更佳為HB以上6H以下，進而較佳為H以上5H以下。再者，鉛筆硬度可依照JIS K 5600-5-4：1999進行測定，例如可藉由實施例中所記載之方法進行測定。若積層膜之鉛筆硬度處於上述範圍內，則於與膜捲筒之捲繞慣性力相反之方向之翹曲力起作用時，捲曲量容易減少。

作為構成膜捲筒之卷芯之材料，例如可例舉：聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、酚樹脂、三聚氰胺樹脂、矽樹脂、聚胺酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂等合成樹脂；鋁等金屬；纖維強化塑膠(FRP：使玻璃纖維等纖維包含於塑膠而強度得到提昇之複合材料)等。卷芯呈圓筒狀或圓柱狀等形狀，其直徑例如為80～170 mm。又，捲取膜後之膜捲筒之直徑並無特別限定，通常為200～800 mm。

膜捲筒之寬度並無特別限定，於將光學膜之寬度設為L1，將硬化樹脂層之寬度設為L2時，基於容易改善積層膜之捲曲之觀點，較佳為L1＞L2，L2/L1較佳為0.80以上0.98以下，更佳為0.85以上0.97以下，進而較佳為0.90以上0.96以下。又，於L1為500 mm以上時，L1－L2較佳為20 mm以上90 mm以下，更佳為25 mm以上80 mm以下，進而較佳為30 mm以上70 mm以下。此處，若將水分自最外層之光學膜釋放，則光學膜收縮，由此產生與膜捲筒之捲繞慣性力相反之方向之捲曲。若光學膜之寬度較硬化樹脂層長20 mm以上，則容易因光學膜之收縮產生捲曲，與膜捲筒之捲繞慣性力抵消，藉此改善捲出之膜、尤其是最外層部分之膜之捲曲。另一方面，若寬度之差為90 mm以上，則光學膜之捲曲量會變得過大，與膜捲筒之捲繞慣性力相反之方向之捲曲變強，尤其導致捲曲殘存於膜捲筒之最外層部分之膜。 又，基於容易改善積層膜之捲曲之觀點，硬化樹脂層較佳為設置於光學膜之大致中央、較佳為中央，即，光學膜兩端之未設置硬化樹脂層之部分之長度大致相同。

＜膜捲筒之製造方法＞ 具有上述特徵之本發明之膜捲筒之製造方法並無特別限定，例如可藉由至少包含以下步驟之製造方法進行製造： (a)將至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂、以及溶劑之樹脂清漆塗佈於支持體上，並使其乾燥，從而形成塗膜； (b)將塗膜自支持體剝離； (c)對所剝離之塗膜加熱，從而獲得光學膜；及 (d)將硬化樹脂層積層於膜，獲得積層膜； (e)將所獲得之積層膜捲繞於卷芯。

上述步驟(a)中所使用之樹脂清漆至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂以及溶劑。作為樹脂清漆所含有之樹脂及溶劑，可例舉作為光學膜中所包含之樹脂於上述所記載之樹脂。又，樹脂清漆中，亦可含有上述無機材料等添加劑。樹脂清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%。

樹脂清漆可藉由將上述聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂、溶劑以及視需要使用之添加劑混合並進行攪拌而製備。

樹脂清漆之黏度較佳為5,000～60,000 cps，更佳為10,000～50,000 cps，進而較佳為15,000～45,000 cps。若樹脂清漆之黏度為上述下限以上，則容易獲得本發明之效果，若樹脂清漆之黏度為上述上限以下，則容易提昇樹脂清漆之操作性。

樹脂清漆之固形物成分濃度較佳為5～25質量%，更佳為10～23質量%，進而較佳為14～20質量%。就獲得較厚之膜之觀點而言，樹脂清漆之固形物成分濃度為上述下限以上較佳，就操作樹脂清漆之容易性之觀點而言，樹脂清漆之固形物成分濃度為上述上限以下較佳。

作為支持體，例如可例舉：樹脂基材、不鏽鋼帶、玻璃基材等，較佳可例舉樹脂膜基材。作為樹脂膜基材，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)膜、環烯烴系(COP)膜、丙烯酸系膜、聚醯亞胺膜、聚醯胺醯亞胺膜等，基於使平滑性、耐熱性優異之觀點，較佳可例舉PET膜、COP膜等，基於與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳可例舉PET膜。

支持體之厚度並無特別限制，較佳為50～250 μm，更佳為100～200 μm，進而較佳為125～200 μm。於支持體之厚度為上述上限以下之情形時，容易抑制光學膜之製造成本故而較佳。又，若支持體之厚度為上述下限以上，則容易抑制於去除溶劑之至少一部分之步驟中有可能產生之膜之捲曲，故而較佳。此處，支持體之厚度藉由接觸式膜厚計等進行測定。

於將樹脂清漆塗佈於支持體上時，可藉由公知之塗佈方法塗佈於支持體。作為公知之塗佈方法，例如可例舉：線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗法、模嘴塗佈法、卡馬(comma)塗佈法、模唇塗佈法、旋轉塗佈法、絲網塗佈法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流涎成形法等。

繼而，藉由使塗佈於支持體上之樹脂清漆之塗膜乾燥，可形成塗膜。乾燥藉由自樹脂清漆之塗膜去除至少一部分溶劑進行，乾燥方法並無特別限定。例如，可藉由對塗佈於支持體上之樹脂清漆之塗膜加熱而進行乾燥。

繼而，於步驟(b)中，將經乾燥之塗膜自支持體剝離。剝離方法並無特別限定，可於使支持體固定之狀態下使塗膜移動進行剝離，亦可於使塗膜固定之狀態下使支持體移動進行剝離，還可藉由使塗膜及支持體兩者移動進行剝離。

繼而，於步驟(c)中，藉由對步驟(b)中剝離之塗膜加熱，可獲得光學膜。於步驟(c)中，較佳為於使剝離塗膜於面內方向擴展之狀態下，實施乾燥。乾燥時之加熱溫度較佳為150～300℃，更佳為180～250℃，進而較佳為180～230℃。乾燥時之加熱時間較佳為10～60分鐘，更佳為30～50分鐘。

熱處理後之膜中之溶劑量以膜之質量為基準，較佳為0.001～3質量%，更佳為0.001～2質量%，進而較佳為0.001～1.5質量%，尤佳為0.001～1.3質量%。若熱處理後之膜中之溶劑量處於上述範圍內，則光學膜之外觀呈良好之趨勢。

繼而，於步驟(d)中，將硬化樹脂層積層於光學膜之單面，獲得積層膜。作為使硬化樹脂層積層於膜之單面之方法，可例舉如下方法：將硬化樹脂層形成用組合物塗佈於膜之單面，並視需要使其乾燥及/或硬化等從而積層；將膜狀之硬化樹脂層貼合於光學膜之單面來進行積層。基於容易提高積層膜之光學均質性之觀點，較佳為塗佈硬化樹脂層形成用組合物而形成。

本發明之積層膜於步驟(e)中捲取於卷芯，而獲得膜捲筒之形態。於積層膜之製造步驟中，具有光學膜及硬化樹脂層且任意地具有保護膜之積層膜具有呈捲筒狀地捲繞於捲芯之膜捲筒之形態。

於本發明中，膜捲筒其捲繞之順序受到控制。即，本發明之膜捲筒僅憑自捲筒之芯側起依序捲繞硬化樹脂層、光學膜，便能使捲出時之積層膜之捲曲、尤其是膜捲筒之最外層部分之積層膜之捲曲不存在或使捲曲變小，故而可非常簡單地防止自膜捲筒捲出之積層膜之捲曲，因此其技術有用性非常高。通常，最外層之積層膜由於捲曲較大，故而不適合使用因此會被廢棄，但若使用本發明之膜捲筒則不會存在廢棄之部分或者廢棄之部分變少，故而非常經濟並且不存在浪費，從而有效性較高。 [實施例]

以下，藉由實施例對本發明進一步詳細地進行說明。實施例中之「%」及「份」只要無特別記載便意指質量%及質量份。

首先，彙總記載測定方法。 ＜重量平均分子量＞ GPC測定 (1)預處理方法 使試樣溶解於GBL製成20質量%溶液之後，藉由DMF溶離液稀釋至100倍，並進行0.45 μm膜濾器過濾，將所得者設為測定溶液。 (2)測定條件 管柱：TSKgel SuperAWM-H×2＋SuperAW2500×1(內徑6.0 mm，長度150 mm，3根連結) 溶離液：DMF(添加10 mmol/L之溴化鋰) 流量：0.6 mL/分鐘 檢測器：RI(refractive index，折射率)檢測器 管柱溫度：40℃ 注入量：20 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯

＜醯亞胺化率＞ 醯亞胺化率藉由¹ H-NMR測定以如下方法求出。 (1)預處理方法 使試樣溶解於氘代二甲基亞碸(DMSO-d₆ )製成2質量%溶液，將其作為測定溶液。 (2)測定條件 測定裝置：JEOL製造之400MHz NMR裝置 JNM-ECZ400S/L1 標準物質：DMSO-d₆ (2.5 ppm) 試樣溫度：室溫 累計次數：256次 緩和時間：5秒 (3)醯亞胺化率解析方法 於所獲得之¹ H-NMR光譜中，於7.0～9.0 ppm處觀測到苯質子，將其中源自醯亞胺化前後不發生變化之結構之苯質子A之積分比設為Int_A 。又，於10.5～11.5 ppm處觀測到聚醯亞胺中所殘存之醯胺酸結構之醯胺質子，將該積分比設為Int_B 。根據該等積分比並利用以下之式求出醯亞胺化率。

[數1] 醯亞胺化率(%)＝100×(1－α×Int_B /Int_A ) 於上述式中，α係聚醯胺酸(醯亞胺化率0%)之情形時之苯質子A相對於1個醯胺質子之個數比率。

＜清漆之黏度＞ 依照JIS K 8803：2011，並使用布魯克菲爾德公司製造之E型黏度計DV-II＋Pro進行測定。測定溫度設為25℃。

＜膜之厚度＞ 使用Mitutoyo Corporation製造之ID-C112XBS，測定10點以上之膜之厚度，並算出其平均值。

＜鉛筆硬度之測定＞ 依照JIS K 5600-5-4：1999，測定積層膜之硬化樹脂層表面之鉛筆硬度。測定時之負載設為750 gf，測定速度設為4.5 mm/秒。

＜殘存溶劑之測定方法＞ 使用TG-DTA(SII股份有限公司製造之EXSTAR6000 TG/DTA6300)，將實施例1中所獲得之積層膜之光學膜部自30℃升溫至120℃，並於120℃下保持5分鐘，其後，以5℃/分鐘之升溫速度升溫至400℃。算出相對於120℃下之光學膜之質量的自120℃至250℃之光學膜之質量減少之比，作為光學膜中所包含之溶劑之含量(稱為殘存溶劑量)。光學膜中之殘存溶劑量表示光學膜中所包含之溶劑相對於光學膜之質量之比率。

以下製造例及實施例中所使用之簡稱如下所述。 TFMB：2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯 6FDA：4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐 TPC：對苯二甲醯氯 OBBC：4,4'-氧基雙(苯甲醯氯) DMAc：N,N-二甲基乙醯胺 GBL：γ-丁內酯 PET：聚對苯二甲酸乙二酯

＜製造例＞ 製造例1：聚醯胺醯亞胺樹脂1之製造 於氮氣氛圍下，準備可分離式燒瓶中具備攪拌葉之反應容器、及油浴。向設置於油浴之反應容器中，投入45份TFMB及768.55份DMAc。一面於室溫下攪拌反應容器內之內容物，一面使TFMB溶解於DMAc。繼而，向反應容器內進一步投入19.01份6FDA，並於室溫下對反應容器內之內容物進行3小時攪拌。其後，向反應容器中投入4.21份OBBC，繼而投入17.30份TPC，並於室溫下對反應容器內之內容物進行1小時攪拌。繼而，向反應容器內，進一步投入4.63份4-甲基吡啶及13.04份乙酸酐，並於室溫下對反應容器內之內容物進行30分鐘攪拌。攪拌後，使用油浴，將容器內溫度升溫至70℃，並維持於70℃進一步攪拌3小時，從而獲得反應液。

將所獲得之反應液冷卻至室溫，並線狀地投入至大量甲醇中，使沈澱物析出。取出所獲得之沈澱物，將其浸漬於大量甲醇中6小時之後，藉由甲醇進行洗淨。繼而，於100℃下進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂1。所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂1之重量平均分子量為400,000，醯亞胺化率為99.0%。

製造例2：矽溶膠1之製備 將藉由溶膠-凝膠法製作之平均一次粒徑(利用BET法測得之平均一次粒徑)為27 nm之非晶形矽溶膠作為原料，並利用溶劑置換，製備GBL置換矽溶膠。藉由網眼10 μm之膜濾器過濾所獲得之溶膠，從而獲得GBL置換矽溶膠1。所獲得之GBL置換矽溶膠中，二氧化矽粒子之含量為30質量%。

製造例3：光學膜用之樹脂清漆1之製備 將製造例1中所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂1、及製造例2中所獲得之矽溶膠1，以GBL中之聚醯胺醯亞胺樹脂：二氧化矽粒子之組成比成為60：40之方式混合。向所獲得之混合液中，添加相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與二氧化矽粒子之合計質量為2.0 phr之紫外線吸收劑「Sumisorb(註冊商標)250」(分子量389，Sumika Chemtex Co., Ltd.製造)及相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與二氧化矽粒子之合計質量為35 ppm之上藍劑「Sumiplast(註冊商標)Violet B」(Sumika Chemtex Co., Ltd.製造)，並進行攪拌直至變得均勻，從而獲得樹脂清漆1。樹脂清漆1之固形物成分為9.7質量%，25℃下之黏度為39,600 cps。

製造例4：光硬化性樹脂組合物1之製備 將28.4質量份三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(新中村化學股份有限公司製造之A-TMPT)、28.4質量份季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學股份有限公司製造之A-TMMT)、1.8質量份作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(BASF股份有限公司製造之Irgacure(註冊商標)184)、2.4質量份雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰(東京化成工業股份有限公司製造之LiFSI)、0.1質量份調平劑(BYK-Chemie Japan Co. Ltd.製造之BYK-307)、以及39質量份丙二醇-1-單甲醚(東京化成工業股份有限公司製造)攪拌混合，獲得光硬化性樹脂組合物1。

製造例5：膜捲筒1之製造 將製造例3中所獲得之樹脂清漆1於寬度900 mm之長條狀PET膜基材(東洋紡股份有限公司「COSMOSHINE(註冊商標)A4100」，厚度188 μm，厚度分佈±2 μm)上進行流涎成形，成形樹脂清漆之塗膜。此時，線速度為0.8 m/分鐘。將樹脂清漆之塗膜於如下乾燥條件下進行乾燥從而形成乾燥塗膜，該乾燥條件係於80℃下加熱10分鐘後，於100℃下加熱10分鐘，繼而於90℃下加熱10分鐘，最後於80℃下加熱10分鐘。其後，將塗膜自PET膜剝離，獲得厚度48 μm、寬度700 mm、長度500 m之膜捲筒形態之原料光學膜1。繼而，藉由稱為拉幅機之膜橫向延伸裝置，將原料光學膜1於200℃下以延伸倍率0.98倍之條件加熱25分鐘，獲得包含厚度40 μm之聚醯胺醯亞胺膜之膜捲筒1。

實施例1 藉由棒式塗佈機，以卷對卷方式，將光硬化性樹脂組合物1以乾燥後之厚度成為10 μm且寬度成為650 mm之方式塗佈於所獲得之膜捲筒1之單面之中央部。其後，利用80℃之烘箱進行3分鐘乾燥，並藉由高壓水銀燈以500 mJ/cm² 之能量照射紫外線以使其硬化，藉此形成具有硬塗功能之硬化樹脂層，以膜捲筒之形態獲得長度400 m之積層膜1。此時，以捲筒芯側成為硬化樹脂層之方式進行捲取。自捲取之膜捲筒切取一部分，並對硬化樹脂層之鉛筆硬度進行測定，結果為2H。又，對未形成硬化樹脂層之光學膜部之殘存溶劑量進行測定，結果為0.75%。

實施例2 自所獲得之膜捲筒1之單面之中央部切取寬度方向150 mm、捲出方向200 mm之膜。於寬度方向兩端，藉由KAPTON膠帶遮蔽與端部相距5 mm以內之區域，並藉由棒式塗佈機，以乾燥後之厚度成為10 μm且寬度成為140 mm之方式塗佈硬化性樹脂組合物1。即，與寬度方向兩端部分別相距5 mm以內之區域係未塗佈硬化樹脂層之狀態。其後，利用80℃之烘箱進行3分鐘乾燥，並藉由高壓水銀燈以500 mJ/cm² 之能量照射紫外線以使其硬化，藉此形成具有硬塗功能之硬化樹脂層，從而獲得積層膜2。對硬化樹脂層之鉛筆硬度進行測定，結果為2H。又，對未形成硬化樹脂層之光學膜部之殘存溶劑量進行測定，結果為0.75%。

＜捲曲量測定1＞ 自實施例1中所製作之膜捲筒切取寬度方向150 mm、捲出方向200 mm之積層膜1，並將積層膜1以捲繞方向與上述膜捲筒為相同方向之方式，捲繞於直徑3英吋之聚氯乙烯製芯上，於25℃、50%RH環境下放置24小時。關於捲繞於芯上之順序，如以下實驗1、2中所記載。其後，自芯剝離，並放置於水平台之上，對4角之捲曲量進行測定。將使硬化樹脂層朝下時之捲曲量設為負，將使光學膜朝下時之捲曲量設為正，求出4角之捲曲，並將其平均值設為捲曲量。再者，測定使用JIS 1級金屬尺。

實驗1 捲繞於聚氯乙烯芯時，以所切取之積層膜1之硬化樹脂層側成為捲筒芯側之方式捲繞積層膜1，其後，依照捲曲量測定之順序測定捲曲量。

實驗2 捲繞於聚氯乙烯芯時，以所切取之積層膜1之光學膜側成為捲筒芯側之方式捲繞積層膜1，其後，依照捲曲量測定之順序測定捲曲量。

[表1]

	捲曲量
實驗1	1 mm
實驗2	13 mm

＜捲曲量測定2＞ 將自實施例1中所製作之積層膜1切取之寬度方向150 mm、捲出方向200 mm之積層膜1、實施例2中所製作之積層膜2分別以捲繞方向與上述膜捲筒為相同方向之方式，捲繞於直徑1英吋之聚氯乙烯製芯上，並於25℃、50%RH環境下放置24小時。此時，以捲筒芯側成為硬化樹脂層之方式捲繞於聚氯乙烯芯。其後，自芯剝離，並放置於水平台之上，對4角之捲曲量進行測定。將使硬化樹脂層朝下時之捲曲量設為負，將使光學膜朝下時之捲曲量設為正，求出4角之捲曲，並將其平均值設為捲曲量。再者，測定使用JIS 1級金屬尺。

[表2]

	積層膜1	積層膜2
捲曲量	5 mm	3 mm

＜吸水率測定＞ 自膜捲筒之最外層部分切取寬度方向100 mm、捲出方向100 mm之積層膜。於80℃下乾燥3小時之後，測定積層膜之質量，將其設為水蒸氣暴露前之質量W0。

準備直徑75 mm之圓筒形之燒杯，於其中加入150 g水，將其放置於設定為120℃之加熱板上，使水沸騰。沸騰期間，用金屬板蓋住以免蒸氣逃離。充分沸騰之後，取下金屬板之蓋並蓋上預先切取之積層膜，進而於該積層膜上用金屬板蓋住，使水蒸氣暴露。經過5分鐘後，取出積層膜並測定質量，將其設為水蒸氣暴露後之質量W1，根據以下之式計算吸水率。將其結果示於表2。

[數2] 吸水率(%)＝(W1－W0)/W1×100

實驗3 以與蒸氣接觸之面為光學膜之方式蓋住，測定吸水率。

實驗4 以與蒸氣接觸之面為具有硬塗功能之硬化樹脂層之方式蓋住，測定吸水率。

[表3]

	實驗3	實驗4
水蒸氣曝露前	水蒸氣曝露後	水蒸氣曝露前	水蒸氣曝露後
膜質量(g)	0.7579	0.7678	0.7595	0.7671
水分增加量(g)	0.0099	0.0076
每單位面積之水分增加量(g/mm2 )	2.24E-06	1.72E-06
吸水率	1.31%	1.00%

根據表3可知，若將與蒸氣接觸之面設為光學膜，則吸水率更高。由此，可認為，相較於硬化樹脂層，光學膜更容易吸收水分，又，更容易釋放水分。捲繞為捲筒狀之狀態之積層膜例如於其製造時吸收水分，但尤其自其最表面容易釋放水分。若設為容易釋放水分之光學膜位於最表面即實施例1之構成，則捲繞為捲筒狀之長條膜雖因其捲繞慣性力產生捲曲，但會因光學膜中之水分使光學膜收縮，從而產生向與捲繞慣性力相反之側翹曲之力，從而認為捲曲變得良好。於模擬性地驗證了捲筒之捲繞慣性力之捲曲量測定中，實驗1較實驗2良好，據此亦可得出上述情況。

Claims (5)

1. 一種膜捲筒，其係將積層膜捲繞而成者，該積層膜包含： 光學膜，其含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂；及 硬化樹脂層，其積層於該光學膜；且 該膜捲筒自捲筒之芯側起依序捲繞有該積層膜之硬化樹脂層、光學膜。
2. 如請求項1之膜捲筒，其中積層膜係光學膜側之吸水率較硬化樹脂層側高之膜。
3. 如請求項1或2之膜捲筒，其中於將積層膜之光學膜側曝露於水蒸氣中5分鐘時，該積層膜之吸水率為1.1%以上。
4. 如請求項1至3中任一項之膜捲筒，其中硬化樹脂層具有選自由硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能所組成之群中之1種以上功能。
5. 如請求項1至4中任一項之膜捲筒，其中硬化樹脂層為UV硬化樹脂層。