TW202110563A - 光軸調整治具及雷射加工裝置之光軸確認方法 - Google Patents

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Abstract

[課題]可以定量地判斷雷射光束的光軸是否相對於被加工物為垂直。 [解決手段]一種光軸調整治具，包含：平行平板，於上表面及下表面形成有反射膜；及拍攝單元，配設在比平行平板更下方，且可拍攝雷射光束，平行平板是由對雷射光束的波長具有穿透性之素材所構成，且隔著平行平板來將雷射光束朝拍攝單元入射，而依據以拍攝單元所拍攝到的雷射光束的光束形狀來檢測雷射光束的光軸的傾斜度。

Description

光軸調整治具及雷射加工裝置之光軸確認方法
本發明是有關於一種光軸調整治具(jig)及雷射加工裝置之光軸確認方法。
在使用雷射光束來對被加工物施行加工的雷射加工裝置中，是形成為以下之構成：利用複數個光學元件將從雷射振盪器所射出之雷射光束傳播到加工點，並以聚光透鏡聚光來加工被加工物(參照例如專利文獻1及專利文獻2)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2010-099667號公報 專利文獻2：日本特開2011-25279號公報
發明欲解決之課題
在此，在專利文獻1及專利文獻2等所示之以往的雷射加工裝置中，當雷射光束為對被加工物傾斜入射時，會導致斜向地對被加工物進行加工、或在所形成之溝的兩側在加工結果上產生差異等，而有產生加工不良的可能性。因此，以往的雷射加工裝置必須進行雷射光束的光軸調整，以對被加工物垂直地照射雷射光束。
現狀，作為這種確認方法，一般的方法是使用讓雷射光束反射的鏡子來確認返回光。然而，因為此方法是以目測份量方式來判斷，所以會有基準較模糊的問題。
據此，本發明之目的在於提供一種可以定量地判斷雷射光束的光軸是否相對於被加工物為垂直之光軸調整治具及雷射加工裝置之光軸確認方法。 用以解決課題之手段
根據本發明之一個方面，可提供一種光軸調整治具，前述光軸調整治具具備：平行平板，於上表面及下表面形成有反射膜；及拍攝單元，配設在比該平行平板更下方，且可拍攝雷射光束，該平行平板是由對該雷射光束的波長具有穿透性之素材所構成，且隔著該平行平板來將雷射光束朝該拍攝單元入射，並依據以該拍攝單元所拍攝到的該雷射光束在該平行平板內的內部反射之像來檢測該雷射光束的光軸的傾斜度。
較佳的是，前述光軸調整治具更具備有顯示單元，前述顯示單元是顯示被該拍攝單元所拍攝到的圖像。
根據本發明的其他方面，可提供一種雷射加工裝置之光軸確認方法，是確認雷射加工裝置的光軸，且前述雷射加工裝置具備有：工作夾台，保持被加工物；雷射光束照射單元，對已保持在該工作夾台之被加工物照射雷射光束來施行加工；及移動單元，使該工作夾台與該雷射光束照射單元在X軸方向及和該X軸方向正交的Y軸方向上相對地移動，前述光軸確認方法具備有以下步驟： 準備步驟，準備光軸調整治具，前述光軸調整治具包含平行平板與拍攝單元，前述平行平板是由對該雷射光束的波長具有穿透性之素材所構成，且於上表面及下表面形成有反射膜，前述拍攝單元配設在比該平行平板更下方，且可拍攝雷射光束； 光軸調整治具定位步驟，將該光軸調整治具定位成該雷射光束隔著該平行平板來朝該拍攝單元入射； 拍攝步驟，在該光軸調整治具定位步驟之後，讓從雷射振盪器所射出的雷射光束入射到該拍攝單元，並拍攝該雷射光束；及 傾斜度檢測步驟，依據在該拍攝步驟所拍攝到的該雷射光束在該平行平板內的內部反射之像來檢測該雷射光束的光軸的傾斜度。
較佳的是，在前述雷射加工裝置之光軸確認方法中，該雷射加工裝置更包含顯示單元，前述顯示單元是顯示被該拍攝單元所拍攝到的圖像。 發明效果
本申請之發明會發揮以下效果：可以定量地判斷雷射光束的光軸是否相對於被加工物為垂直。
用以實施發明之形態
以下，針對本發明的實施形態，一面參照圖式一面詳細地說明。本發明並非因以下的實施形態所記載之內容而受到限定之發明。又，在以下所記載之構成要素中，包含所屬技術領域中具有通常知識者可以輕易地設想得到的或實質上是相同的構成要素。此外，以下所記載之構成是可適當組合的。又，只要在不脫離本發明之要旨的範圍內，可進行對構成的各種省略、置換或變更。
[實施形態] 依據圖式來說明本發明之實施形態的光軸調整治具及雷射加工裝置之光軸確認方法。圖1是顯示進行實施形態的雷射加工裝置之光軸確認方法的雷射加工裝置的構成例的立體圖。圖2是示意地顯示圖1所示之雷射加工裝置的雷射光束照射單元的構成的圖。圖3是顯示圖2所示之雷射光束照射單元的鏡子支持器的構成例的立體圖。圖4是顯示實施形態的光軸調整治具的光束檢測單元的構成的截面圖。圖5是顯示實施形態的雷射加工裝置之光軸確認方法的流程的流程圖。
實施形態的雷射加工裝置之光軸確認方法(以下，記為光軸確認方法)，是以圖1所示之雷射加工裝置1來進行。圖1所示之雷射加工裝置1是對被加工物200照射脈衝狀的雷射光束21來對被加工物200進行雷射加工之裝置。
圖1所示之雷射加工裝置1的加工對象即被加工物200是以下之晶圓：具有矽、藍寶石、砷化鎵等之基板201的圓板狀的半導體晶圓或光器件晶圓等。如圖1所示，被加工物200具有在基板201的正面202設定成格子狀的分割預定線203、及形成於被分割預定線203所區劃出的區域的器件204。器件204是例如IC(積體電路，Integrated Circuit)、或LSI(大型積體電路，Large Scale Integration)等的積體電路、CCD(電荷耦合元件，Charge Coupled Device)、或CMOS(互補式金屬氧化物半導體，Complementary Metal Oxide Semiconductor)等之影像感測器等。
在實施形態中，被加工物200是在正面202的背側之背面205貼附直徑比被加工物200的外徑更大之圓板狀且在外緣部貼附有環狀框架210的黏著膠帶211，而被支撐在環狀框架210的開口內。在實施形態中，被加工物200是沿著分割預定線203而分割成一個個的器件204。
(雷射加工裝置) 如圖1所示，雷射加工裝置1具備以保持面11保持被加工物200的工作夾台10、雷射光束照射單元20、移動單元30、及控制單元100。
工作夾台10是以保持面11來保持被加工物200。保持面11是由多孔陶瓷等所形成的圓盤形狀，且透過未圖示的真空吸引路徑來與未圖示的真空吸引源連接。工作夾台10會吸引保持已載置在保持面11上的被加工物200。在實施形態中，保持面11是與水平方向平行的平面。在工作夾台10的周圍配置有複數個夾具部12，前述夾具部12會夾持將被加工物200支撐於開口內的環狀框架210。又，工作夾台10是藉由旋轉單元13而繞著與Z軸方向平行的軸心旋轉。再者，Z軸方向是相對於保持面11正交，且與鉛直方向平行的方向。旋轉單元13及工作夾台10是藉由移動單元30的X軸移動單元31而在X軸方向上移動。
雷射光束照射單元20是對已保持於工作夾台10的被加工物200照射脈衝狀的雷射光束21，而對被加工物200施行雷射加工之單元。在實施形態中，雷射光束照射單元20的一部分是如圖1所示地支撐在支撐柱4的前端，前述支撐柱4是將基端部安裝在從裝置本體2豎立設置之立設壁3上。
如圖2所示，雷射光束照射單元20包含：雷射振盪器22，射出用於加工被加工物200的雷射光束21；複數個鏡子23，將雷射振盪器22所射出的雷射光束21朝向已保持在工作夾台10的保持面11的被加工物200反射；聚光透鏡24，使已被鏡子23反射的雷射光束21聚光於被加工物200；及未圖示的聚光點位置調整組件，使雷射光束21的聚光點25(圖2所示)的位置在Z軸方向上位移。
雷射光束照射單元20所照射的雷射光束21可為對被加工物200具有穿透性之波長，亦可為對被加工物200具有吸收性之波長。
鏡子23是將從雷射振盪器22所射出之雷射光束21傳輸到加工被加工物200的加工點之光學元件，且聚光透鏡24是將從雷射振盪器22所射出之雷射光束21傳輸並聚光到加工被加工物200的加工點之光學元件。又，雷射光束照射單元20包含複數個鏡子支持器26及透鏡支持器27，前述鏡子支持器26是保持鏡子23的光學元件支持器，前述透鏡支持器27是保持聚光透鏡24的光學元件支持器。如圖3所示，鏡子支持器26與透鏡支持器27具備有調整雷射光束21的光軸28(於圖2中以一點鏈線表示)的調整機構261。再者，在本說明書中，由於鏡子支持器26與透鏡支持器27具備有實質上具有同樣的功能之調整機構261，因此參照圖3來說明鏡子支持器26，而省略透鏡支持器27的說明。雖然在實施形態中，鏡子支持器26與透鏡支持器27具備實質上具有同樣的功能之調整機構261，但在本發明中，亦可為：鏡子支持器26具有傾斜度調整功能，透鏡支持器27則不具有傾斜度調整功能，而僅具有XY方向的移動功能。
在實施形態中，如圖3所示，鏡子支持器26具備保持鏡子23的第1板件262、固定在雷射加工裝置1的第2板件263、及調整機構261。第1板件262與第2板件263是形成為ㄑ字形。第1板件262是在中央部保持有鏡子23。
調整機構261具備有彈簧264與一對調整螺絲265、266，前述彈簧264是將第1板件262與第2板件263互相連結且朝讓這些板件262、263彼此互相接近的方向賦與勢能。在實施形態中，彈簧264是連結第1板件262與第2板件263的中央部彼此。調整螺絲265、266是螺入第2板件263的兩端部，且前端抵接於第1板件262的兩端部。一對調整螺絲265、266是藉由繞著軸心旋轉，而調整板件262、263的兩端部間的間隔，並調整鏡子23的光軸的方向即雷射光束21的光軸28的位置。
再者，在實施形態中，雖然作為光學元件而顯示有鏡子23及聚光透鏡24，但是在本發明中，光學元件並不限定於鏡子23及聚光透鏡24。又，在實施形態中，雖然作為光學元件支持器而顯示有鏡子支持器26及透鏡支持器27，但是在本發明中，光學元件支持器並不限定於鏡子支持器26及透鏡支持器27。又，在本發明中，作為光學元件支持器，鏡子支持器26及透鏡支持器27的構成並非限定於實施形態所記載的構成。
再者，雖然實施形態之雷射光束照射單元20是將對光軸28正交之截面形狀為圓形的雷射光束21照射於被加工物200，但在本發明中，雷射光束21的截面形狀並非限定於圓形。
移動單元30是使工作夾台10與雷射光束照射單元20在X軸方向及和X軸方向正交的Y軸方向上相對地移動之單元。再者，X軸方向及Y軸方向是與保持面11平行的方向。移動單元30具備使工作夾台10在X軸方向上移動的加工進給組件即X軸移動單元31、與使工作夾台10在Y軸方向上移動的分度進給組件即Y軸移動單元32。
在實施形態中，Y軸移動單元32是設置在雷射加工裝置1的裝置本體2上。Y軸移動單元32是將支撐有X軸移動單元31之移動板件14支撐成在Y軸方向上移動自如。X軸移動單元31是設置於移動板件14上。X軸移動單元31是將第2移動板件15支撐成在X軸方向上移動自如，前述第2移動板件15支撐有使工作夾台10以繞著和Z軸方向平行的軸心的方式旋轉的旋轉單元13。
X軸移動單元31及Y軸移動單元32具備：以繞著軸心的方式旋轉自如地設置之習知的滾珠螺桿、使滾珠螺桿繞著軸心地旋轉之習知的脈衝馬達、以及將移動板件14、15支撐成在X軸方向或Y軸方向上移動自如之習知的導軌。
又，雷射加工裝置1具備未圖示之X軸方向位置檢測單元與未圖示之Y軸方向位置檢測單元，前述X軸方向位置檢測單元是用於檢測工作夾台10的X軸方向的位置，前述Y軸方向位置檢測單元是用於檢測工作夾台10的Y軸方向的位置。各位置檢測單元是將檢測結果輸出至控制單元100。
控制單元100是分別控制雷射加工裝置1之上述的構成要素，並使雷射加工裝置1實施對被加工物200的加工動作之單元。再者，控制單元100是具有運算處理裝置、儲存裝置及輸入輸出介面裝置的電腦，前述運算處理裝置具有CPU(中央處理單元，central processing unit)之類的微處理器，前述儲存裝置具有ROM(唯讀記憶體，read only memory)或RAM(隨機存取記憶體，random access memory)之類的記憶體。控制單元100的運算處理裝置是依照儲存於儲存裝置之電腦程式來實施運算處理，並將用於控制雷射加工裝置1的控制訊號透過輸入輸出介面裝置輸出至雷射加工裝置1之上述的構成要素，而實現控制單元100的功能。
又，雷射加工裝置1具備顯示單元101與未圖示之輸入單元，前述顯示單元101是藉由顯示加工動作之狀態或圖像等的液晶顯示裝置等所構成，前述輸入單元在操作人員登錄加工內容資訊等之時使用。顯示單元101及輸入單元是連接於控制單元100。輸入單元是藉由設置於顯示單元101的觸控面板、及鍵盤等之外部輸入裝置當中的至少一種所構成。顯示單元101可藉由來自輸入單元等的操作而切換顯示於顯示面102之資訊或圖像。
又，如圖1所示，控制單元100可與光束檢測單元40連接。光束檢測單元40是可檢測以下的傾斜度之單元：從雷射振盪器22射出且藉由鏡子23及聚光透鏡24等而傳輸之雷射光束21相對於對保持面11正交之方向(亦即Z軸方向)的傾斜度。如圖4所示，光束檢測單元40包含構成光束檢測單元40的外殼的殼體41、被殼體41所支撐且於上表面421及下表面422形成有反射膜423之一片的平行平板42、及容置於殼體41內的拍攝單元43。
殼體41是形成為箱形，在實施形態中是載置於工作夾台10的保持面11上。平行平板42是將上表面421與下表面422形成為互相平行，且當將殼體41載置於保持面11上時，上表面421及下表面422即變得與保持面11平行。平行平板42在將殼體41載置於保持面11上後，上表面421與下表面422是互相在Z軸方向上隔著間隔而重疊。平行平板42的反射膜423會反射雷射光束21。
平行平板42藉由合成石英、BK7、或硼矽玻璃(borosilicate　glass)等之光學玻璃材料而構成基材。亦即，平行平板42的基材是以讓雷射光束21穿透的素材所構成。平行平板42於基材的上表面421及下表面422形成有反射膜。又，平行平板42在雷射光束21為紅外線雷射的情況下，亦能以矽來構成基材。
在實施形態中，雖然平行平板42的厚度是20mm以上且40mm以下，但在本發明中並非限定於此，亦可超過40mm。
平行平板42的反射膜423的雷射光束21之反射率為例如98%以上且99%以下。反射膜423可藉由介電質多層膜、或金屬膜來構成。亦即，雖然平行平板42是藉由反射膜423而反射幾乎全部的雷射光束21，但數%的雷射光束21仍會穿透反射膜423。
拍攝單元43是配設在平行平板42的下方。拍攝單元43是以下之單元：可拍攝從雷射振盪器22射出且藉由鏡子23及聚光透鏡24等而傳輸並朝向保持面11射出之雷射光束21。拍攝單元43具備拍攝雷射光束21之CCD(電荷耦合器件，Charge Coupled Device)拍攝元件或CMOS(互補式金屬氧化物半導體，Complementary MOS)拍攝元件等之拍攝元件431。拍攝元件431是在預定的視野範圍內拍攝，並拍攝視野範圍內的雷射光束21。拍攝單元43是得到拍攝元件431所拍攝之視野範圍的圖像(亦即包含雷射光束21的圖像)，並將所得到的圖像輸出至控制單元100及顯示單元101。顯示單元101是將從拍攝單元43所輸入的圖像(亦即被拍攝單元43所拍攝到的圖像)顯示於顯示面102。
又，控制單元100可依據從拍攝單元43所輸入的圖像，來計算雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向的傾斜度及傾斜的方向。隨著拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21相對於Z軸方向的傾斜度變大，拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的光束形狀會改變。例如，拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的長邊方向表示雷射光束21相對於Z軸方向傾斜的方向。再者，拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的光束形狀相當於在平行平板42內之內部反射之像。在實施形態中，控制單元100事先儲存有拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21相對於Z軸方向的傾斜度與拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的面積之關係，並且事先儲存有拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的長邊方向與雷射光束21相對於Z軸方向傾斜的方向之關係，而可依據拍攝單元43所拍攝到的圖像來計算雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向的傾斜度及傾斜的方向。
再者，光束檢測單元40、顯示單元101與控制單元100是構成光軸調整治具50。
前述之雷射加工裝置1會在加工被加工物200的加工動作之前，調整各支持器26、27的調整機構261，而事先調整雷射光束21的光軸28。雷射加工裝置1是當操作人員將加工內容資訊登錄到控制單元100，並隔著黏著膠帶211將被加工物200載置於工作夾台10的保持面11，且控制單元100從輸入單元受理操作人員的加工動作開始指示後，依據所登錄的加工內容資訊來開始加工動作。
在加工動作中，雷射加工裝置1是隔著黏著膠帶211將被加工物200吸引保持於工作夾台10的保持面11，並以夾具部12夾持環狀框架210。雷射加工裝置1是依據加工內容資訊，而藉由移動單元30使雷射光束照射單元20與被加工物200沿著分割預定線203相對地移動，並從雷射光束照射單元20照射脈衝狀的雷射光束21，來將被加工物200沿著分割預定線203進行雷射加工。雷射加工裝置1在沿著全部的分割預定線203進行雷射加工後，即停止雷射光束21的照射，並結束加工動作。
雷射加工裝置1在啟動時，發生錯誤時或無法獲得所期望的加工結果時等，會確認雷射光束21的光軸28並進行調整。
(雷射加工裝置之光軸確認方法) 實施形態的雷射加工裝置之光軸確認方法是確認前述之雷射加工裝置1的雷射光束21的光軸28之方法，且如圖5所示，具備準備步驟ST1、光軸調整治具定位步驟ST2、拍攝步驟ST3、顯示步驟ST4與傾斜度檢測步驟ST5。
(準備步驟) 準備步驟ST1是準備前述之光軸調整治具50之步驟。在實施形態中，是在準備步驟ST1中準備光束檢測單元40，且將光束檢測單元40連接於顯示單元101及控制單元100，並前進到光軸調整治具定位步驟ST2。
(光軸調整治具定位步驟) 光軸調整治具定位步驟ST2是將光軸調整治具50定位成使雷射光束21隔著平行平板42來朝拍攝單元43入射之步驟。在實施形態中，是在光軸調整治具定位步驟ST2中將光束檢測單元40設置在保持面11上的事先規定之預定的位置上。在實施形態中，預定的位置是保持面11的中央，但是在本發明中並非限定於保持面11的中央。當將光束檢測單元40設置於保持面11後，即前進到拍攝步驟ST3。
(拍攝步驟) 圖6是將圖5所示之雷射加工裝置之光軸確認方法的拍攝步驟以局部截面方式來示意地顯示的圖。圖7是示意地顯示在圖6所示的拍攝步驟中，雷射光束的光軸與Z軸方向平行的情況的圖。圖8是示意地顯示在圖6所示的拍攝步驟中，雷射光束的光軸相對於Z軸方向傾斜的情況的圖。
拍攝步驟ST3是在光軸調整治具定位步驟ST2之後，振盪產生雷射光束21並使其入射到拍攝單元43來拍攝雷射光束21之步驟。在實施形態中，是在拍攝步驟ST3中受理操作人員對輸入單元的操作，且雷射加工裝置1藉由移動單元30來調整工作夾台10的X軸方向及Y軸方向的位置，而使工作夾台10的保持面11上的光束檢測單元40在Z軸方向上相向於雷射光束照射單元20的聚光透鏡24。
在拍攝步驟ST3中，如圖6所示，是雷射加工裝置1從雷射振盪器22將雷射光束21射出，且通過平行平板42而讓光束檢測單元40的拍攝單元43拍攝雷射光束21。在拍攝步驟ST3中，若雷射光束21的光軸28與Z軸方向平行，如圖7所示，朝平行平板42入射之雷射光束21的光軸28、穿透形成於平行平板42的上表面421的反射膜423且在形成於下表面422的反射膜423上反射之雷射光束21的光軸28、與穿透形成於上表面421及下表面422的反射膜423的雙方之雷射光束21的光軸28是位於同一線上。
又，在拍攝步驟ST3中，若雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向傾斜，是如圖8所示，因為雷射光束21會因形成於平行平板42的上表面421及下表面422的反射膜423而在平行平板42內進行多重反射，所以會在每次反射時產生雷射光束21的位置偏移。拍攝單元43成為對穿透於形成在上表面421及下表面422的反射膜423而來的雷射光束21進行拍攝。
如此進行，而在拍攝步驟ST3中，隔著平行平板42將雷射光束21入射到拍攝單元43。在實施形態中，當在拍攝步驟ST3中拍攝單元43拍攝雷射光束21後，會將拍攝而得到的圖像輸出至顯示單元101及控制單元100，而前進到顯示步驟ST4。
(顯示步驟) 圖9是示意地顯示在圖5所示之雷射加工裝置之光軸確認方法的顯示步驟中，顯示單元顯示有圖7所示之雷射光束的狀態的圖。圖10是示意地顯示在圖5所示之雷射加工裝置之光軸確認方法的顯示步驟中，顯示單元顯示有圖8所示之雷射光束的狀態的圖。
顯示步驟ST4是顯示單元101將拍攝單元43拍攝而得到的圖像如圖9及圖10所示地顯示於顯示面102之步驟。如圖9及圖10所示，在顯示步驟ST4中，是顯示單元101將拍攝單元43拍攝而得到的圖像顯示於顯示面102並前進至傾斜度檢測步驟ST5。
(傾斜度檢測步驟) 傾斜度檢測步驟ST5是依據在拍攝步驟ST3中拍攝而得到的圖像中的雷射光束21的光束形狀，來檢測拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21的光軸28的傾斜度之步驟。
在此，雷射光束21的光軸28為與Z軸方向平行的狀態，亦即如圖7所示，在雷射光束21對平行平板42垂直地入射時，以拍攝單元43所拍攝，且顯示於顯示單元101的雷射光束21的面積是如圖9所示地成為極小值。在實施形態中，由於正交於雷射光束21的光軸28的截面形狀為圓形，因此在雷射光束21對平行平板42垂直地入射時，以拍攝單元43所拍攝而顯示於顯示單元101的雷射光束21是如圖9所示地成為圓形。
然而，雷射光束21的光軸28對Z軸方向已傾斜的狀態下，亦即如圖8所示，雷射光束21對平行平板42斜向地入射時，在實施形態中，即使正交於雷射光束21的光軸28之截面形狀為圓形，顯示在顯示單元101的雷射光束21仍然會如圖10所示地成為橢圓形，且面積比圖9更擴大。再者，在本發明中，即使在正交於雷射光束21的光軸28的截面形狀為橢圓形的情況下，若雷射光束21為斜向地入射時，仍然會成為顯示單元101所顯示的雷射光束21的面積擴大之情形。在實施形態中，拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21的面積為最小值時，雷射光束21的光軸28為與Z軸平行。
在傾斜度檢測步驟ST5中，控制單元100是從拍攝單元43所拍攝到的圖像提取雷射光束21。在傾斜度檢測步驟ST5中，控制單元100是計算從拍攝單元43所拍攝到的圖像提取出的雷射光束21的面積，並且參照事先儲存之拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21相對於Z軸方向的傾斜度、與拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的面積之關係，來檢測雷射光束21相對於Z軸方向的傾斜度，並顯示於顯示單元101。
又，在傾斜度檢測步驟ST5中，控制單元100也可以從拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的長邊方向的長度或偏移的方向等，來計算光軸28的傾斜的方向，並且顯示於顯示單元101。
如此進行，在傾斜度檢測步驟ST5中，光軸調整治具50可依據拍攝單元43所拍攝到的圖像中的雷射光束21的光束形狀，來檢測雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向的傾斜度。
雷射加工裝置的操作人員是一邊參照顯示單元101所顯示之拍攝雷射光束21而得到的圖像，一邊依據在傾斜度檢測步驟ST5中檢測出的雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向的傾斜度及相對於Z軸方向傾斜的方向，來調整用以保持雷射光束照射單元20之光學元件即複數個鏡子23及聚光透鏡24的各支持器26、27的調整機構261，以使雷射光束21的光軸28變得與Z軸方向平行，而結束實施形態之雷射加工裝置之光軸確認方法。
如以上所說明地，實施形態之光軸調整治具50及雷射加工裝置之光軸確認方法是成為以下之構成：光軸調整治具50於拍攝單元43的上方設置平行平板42，且因應於光軸28的傾斜度而改變以拍攝單元43拍攝的雷射光束21的光束形狀。實施形態之光軸調整治具50及雷射加工裝置之光軸確認方法是依據以拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21的光束形狀來檢測雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向的傾斜度。其結果，光軸調整治具50及雷射加工裝置之光軸確認方法會發揮以下效果：可以定量地判斷雷射光束21的光軸28是否相對於被加工物200為垂直。
[變形例] 依據圖式來說明本發明之實施形態的變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法。圖11是顯示進行實施形態之第1變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法的雷射加工裝置的構成例的立體圖。圖12是顯示進行實施形態之第2變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法的雷射加工裝置的構成例的立體圖。再者，圖11及圖12對與實施形態相同的部分是附加相同的符號而省略說明。
第1變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法除了以下之情形以外，與實施形態相同：如圖11所示，在雷射加工裝置1-1的第2移動板件15上的預定的位置預先配設有光束檢測單元40，而未實施準備步驟ST1及光軸調整治具定位步驟ST2，並且在拍攝步驟ST3中使雷射光束照射單元20在Z軸方向上相向於第2移動板件15上之光束檢測單元40。
第2變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法除了以下之情形以外，與實施形態相同：如圖12所示，在雷射加工裝置1-2的工作夾台10的保持面11內預先配設有光束檢測單元40，而未實施準備步驟ST1及光軸調整治具定位步驟ST2，並且在拍攝步驟ST3中使雷射光束照射單元20在Z軸方向上相向於保持面11內的光束檢測單元40。再者，在第2變形例中，所期望的是將平行平板42配置在與保持面11相同平面上或比保持面11更下方。
第1變形例及第2變形例的光軸調整治具50及雷射加工裝置之光軸確認方法，由於是依據以拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21的光束形狀來檢測雷射光束21的光軸28相對於Z軸方向的傾斜度，因此和實施形態同樣地發揮以下效果：可以定量地判斷雷射光束21的光軸28是否相對於被加工物200為垂直。
再者，本發明並非限定於上述實施形態之發明。亦即，在不脫離本發明之要點的範圍內，可以進行各種變形來實施。在實施形態等中，雖然將拍攝單元43所拍攝到的雷射光束21的圖像顯示於顯示單元101，但是在本發明中亦可僅將拍攝單元所拍攝而得到的雷射光束21的圖像當中光束強度超過預定之值的部分顯示於顯示單元101。又，本發明亦可不實施傾斜度檢測步驟ST5，而是操作人員一邊觀察在顯示步驟ST4中顯示於顯示單元101的雷射光束21的圖像，一邊調整各支持器26、27的調整機構261，來將雷射光束21的光軸28設成與Z軸方向平行。
1,1-1,1-2:雷射加工裝置 2:裝置本體 3:立設壁 4:支撐柱 10:工作夾台 11:保持面 12:夾具部 13:旋轉單元 14:移動板件 15:第2移動板件 20:雷射光束照射單元 21:雷射光束 22:雷射振盪器 23:鏡子 24:聚光透鏡 25:聚光點 26:鏡子支持器 261:調整機構 262:第1板件 263:第2板件 264:彈簧 265,266:調整螺絲 27:透鏡支持器 28:光軸 30:移動單元 31:X軸移動單元 32:Y軸移動單元 40:光束檢測單元 41:殼體 42:平行平板 421:上表面 422:下表面 423:反射膜 43:拍攝單元 431:拍攝元件 50:光軸調整治具 100:控制單元 101:顯示單元 102:顯示面 200:被加工物 201:基板 202:正面 203:分割預定線 204:器件 205:背面 210:環狀框架 211:黏著膠帶 X,Y,Z:方向 ST1:準備步驟 ST2:光軸調整治具定位步驟 ST3:拍攝步驟 ST4:顯示步驟 ST5:傾斜度檢測步驟
圖1是顯示進行實施形態的雷射加工裝置之光軸確認方法的雷射加工裝置的構成例的立體圖。 圖2是示意地顯示圖1所示之雷射加工裝置的雷射光束照射單元的構成的圖。 圖3是顯示圖2所示之雷射光束照射單元的鏡子支持器的構成例的立體圖。 圖4是顯示實施形態的光軸調整治具的光束檢測單元的構成的截面圖。 圖5是顯示實施形態的雷射加工裝置之光軸確認方法的流程的流程圖。 圖6是將圖5所示之雷射加工裝置之光軸確認方法的拍攝步驟以局部截面方式來示意地顯示的圖。 圖7是示意地顯示在圖6所示的拍攝步驟中，雷射光束的光軸與Z軸方向平行的情況的圖。 圖8是示意地顯示在圖6所示的拍攝步驟中，雷射光束的光軸相對於Z軸方向傾斜的情況的圖。 圖9是示意地顯示在圖5所示之雷射加工裝置之光軸確認方法的顯示步驟中顯示單元顯示有圖7所示之雷射光束的狀態的圖。 圖10是示意地顯示在圖5所示之雷射加工裝置之光軸確認方法的顯示步驟中顯示單元顯示有圖8所示之雷射光束的狀態的圖。 圖11是顯示進行實施形態之第1變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法的雷射加工裝置的構成例的立體圖。 圖12是顯示進行實施形態之第2變形例的雷射加工裝置之光軸確認方法的雷射加工裝置的構成例的立體圖。
40:光束檢測單元
41:殼體
42:平行平板
421:上表面
422:下表面
423:反射膜
43:拍攝單元
431:拍攝元件

Claims (4)

  1. 一種光軸調整治具，具備： 平行平板，於上表面及下表面形成有反射膜；及 拍攝單元，配設在比該平行平板更下方，且可拍攝雷射光束， 又，該平行平板是由對該雷射光束的波長具有穿透性之素材所構成，且隔著該平行平板來將雷射光束朝該拍攝單元入射， 並依據以該拍攝單元所拍攝到的該雷射光束在該平行平板內的內部反射之像來檢測該雷射光束的光軸的傾斜度。
  2. 如請求項1之光軸調整治具，其更具備有顯示單元，前述顯示單元是顯示被該拍攝單元所拍攝到的圖像。
  3. 一種雷射加工裝置之光軸確認方法，是確認雷射加工裝置的光軸，且前述雷射加工裝置具備有： 工作夾台，保持被加工物； 雷射光束照射單元，對已保持在該工作夾台之被加工物照射雷射光束來施行加工；及 移動單元，使該工作夾台與該雷射光束照射單元在X軸方向及和該X軸方向正交的Y軸方向上相對地移動， 前述光軸確認方法具備有以下步驟： 準備步驟，準備光軸調整治具，前述光軸調整治具包含平行平板與拍攝單元，前述平行平板是由對該雷射光束之波長具有穿透性之素材所構成，且於上表面及下表面形成有反射膜，前述拍攝單元配設在比該平行平板更下方，且可拍攝雷射光束； 光軸調整治具定位步驟，將該光軸調整治具定位成該雷射光束隔著該平行平板來朝該拍攝單元入射； 拍攝步驟，在該光軸調整治具定位步驟之後，讓從雷射振盪器所射出的雷射光束入射到該拍攝單元，並拍攝該雷射光束；及 傾斜度檢測步驟，依據在該拍攝步驟所拍攝到的該雷射光束在該平行平板內的內部反射之像來檢測該雷射光束的光軸的傾斜度。
  4. 如請求項3之雷射加工裝置之光軸確認方法，其中該雷射加工裝置更包含顯示單元，前述顯示單元是顯示以該拍攝單元所拍攝到的圖像。
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