TW202106646A - 玻璃板之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明係一種玻璃板之製造方法，其中具備：僅於經由磷酸鹽系玻璃所構成之玻璃板1之端面(3a~3d)，賦予蝕刻劑E的蝕刻工程。

Description

玻璃板之製造方法

本發明係有關玻璃板之製造方法。

在數位相機等中，使用CCD或CMOS等之固體攝像元件裝置。此等固體攝像元件裝置係因具有廣範圍之受光感度之故，為了配合人的視覺而有必要除去紅外光域的光。對於固體攝像裝置係作為為了除去紅外光域的光之近紅外線截止濾光器，而使用磷酸鹽系的玻璃板。

在玻璃板的製造工程中，實施由切斷母材而形成特定尺寸的玻璃板之切斷工程。母材的切斷係例如，經由切割刀而進行。此情況，在玻璃板的端面(切斷面)中，產生有沿著面方向之微裂紋。微裂紋係成為玻璃板之破損的原因之故，必須經由研磨或蝕刻處理等而去除。

對於專利文獻1係揭示有：對於玻璃板而言實施蝕刻處理之裝置及方法。蝕刻處理裝置係具備：儲存蝕刻劑的蝕刻槽，和配置於蝕刻槽的內部，支持直立的玻璃板之下端的支持體，和配置於蝕刻槽的內部，導引直立的玻璃板兩側邊的導引器。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2013-237579號公報

[發明欲解決之課題]

在以往的蝕刻方法中，在經由蝕刻處理裝置之支持體及導引器而保持玻璃板之狀態，由浸漬於儲存在蝕刻槽之蝕刻液者，可除去含於玻璃板的端面之微裂紋。

但當將玻璃板全體浸漬於蝕刻液時，需要多量的蝕刻液，而有招致製造成本的高升化之虞。另外，磷酸鹽系玻璃係比較於其他一般的玻璃，機械性強度為弱之故，由蝕刻端面以外的主表面者，亦有著損壞玻璃板之強度之虞。

本發明係有鑑於上述情事所作為之構成，而技術性課題係未浸漬玻璃板於蝕刻劑，而對於該玻璃板進行蝕刻處理者。 [為了解決課題之手段]

有關本發明之玻璃板之製造方法，其特徵為具備：僅於經由磷酸鹽系玻璃所構成之玻璃板的端面，賦予蝕刻劑之蝕刻工程。經由此，可未浸漬玻璃板於蝕刻劑，而經由賦予在端面的蝕刻劑，適當除去該端面之微裂紋。

在前述蝕刻工程中，經由塗佈滾筒而僅於前述玻璃板的前述端面，塗佈前述蝕刻劑亦可。此情況，前述塗佈滾筒係可經由烯烴系樹脂或含鹵素樹脂而構成。

僅於前述玻璃板的前述端面，賦予自噴出裝置所噴霧的蝕刻劑亦可。經由此，未使噴出裝置接觸於玻璃板而可附著於玻璃板的端面，可確實防止該端面的破損。

前述蝕刻劑係亦可構成為液狀，糊狀或凝膠狀。

前述玻璃板係構成為四角形狀，而在前述蝕刻工程中，僅於有關前述玻璃板之四邊的端面，賦予蝕刻劑亦可。由賦予蝕刻劑於玻璃板所有的端面者，可製造不易破損之玻璃板。

前述玻璃板係含有所層積之複數的玻璃板，在前述蝕刻工程中，可僅於所有前述玻璃板之前述端面，賦予前述蝕刻劑。經由此，可效率佳而製造玻璃板。 [發明效果]

如根據本發明，成為可未將玻璃板浸漬於蝕刻劑，而對於該玻璃板施以蝕刻處理者。

以下，對於為了實施本發明之形態，參照圖式之同時進行說明。圖1乃至圖4係顯示有關本發明之玻璃板的製造方法之第一實施形態。

經由本實施形態而製造之玻璃板1係經由對於紅外線吸收機能優越之磷酸鹽系玻璃而構成。磷酸鹽系玻璃係實質上未含有F(氟)者為佳。在此，「實質上未含有」係指：意味以質量%含有0.1%以下的氟亦可者。

作為如此之磷酸鹽系玻璃，係例如，可使用以質量%，含有P₂ O₅ 25~60%、Al₂ O₃ 2~19%、RO(但R選自Mg、Ca、Sr及Ba之至少一種)5~45%、ZnO 0~13%、K₂ O 8~20%、Na₂ O 0~12%、及CuO 0.3~20%，而實質上未含有氟之玻璃者。

P₂ O₅ 係形成玻璃骨架之成分。P₂ O₅ 之含有量係以質量%，理想為25~60%、而更理想為30~55%、又更理想為40~50%。當P₂ O₅ 之含有量過少時，而有玻璃化成為不安定之情況。另一方面，P₂ O₅ 之含有量過多時，有著耐候性容易下降之情況。

Al₂ O₃ 係更一層提升耐候性的成分。Al₂ O₃ 之含有量係以質量%，理想為2~19%、更理想為2~15%、又更理想為2.8~14.5%、特別理想為3.5~14.0%。Al₂ O₃ 之含有量過少時，有著耐候性不充分之情況。另一方面，Al₂ O₃ 之含有量過多時，而有熔融性降低而熔融溫度上升之情況。然而，當熔融溫度上升時，還原Cu離子而成為容易自Cu²⁺ 位移至Cu⁺ 之故，而有不易得到所期望的光學特性之情況。具體而言，有著在近紫外線~可視域之光透過率降低，以及紅外線吸收特性容易下降之情況。

RO(但R選自Mg、Ca、Sr及Ba之至少一種)係改善耐候性之同時，提升熔融性之成分。RO之含有量係以質量%，理想為5~45%、而更理想為7~40%、又更理想為10~35%。當RO之含有量過少時，有著耐候性及熔融性不充分之情況。另一方面，RO之含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降，而RO成分引起之結晶容易析出之情況。

然而，RO之各成分的含有量之理想範圍係如以下。

MgO係改善耐候性的成分。MgO之含有量係以質量%，理想為0~15%、更理想為0~7%。當MgO之含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降之情況。

CaO係與MgO同樣地使耐候性改善的成分。CaO之含有量係以質量%，理想為0~15%、更理想為0~7%。當CaO之含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降之情況。

SrO係與MgO同樣，使耐候性改善的成分。SrO之含有量係以質量%，理想為0~12%、更理想為0~5%。當SrO含有量過多時，有著玻璃的安定性容易下降之情況。

BaO係安定化玻璃之同時，使耐候性提升的成分。BaO之含有量係以質量%，理想為1~30%、而更理想為2~27%、又更理想為3~25%。BaO之含有量過少時，有著無法充分安定化玻璃，以及無法充分提升耐候性之情況。另一方面，BaO之含有量過多時，在成形中有著BaO引起之結晶容易析出之情況。

ZnO係改善玻璃之安定性及耐候性的成分。ZnO之含有量係以質量%，理想為0~13%、而更理想為0~12%、又更理想為0~10%。ZnO之含有量過多時，有著熔融性下降而熔融溫度變高，以及作為結果不易得到所期望之光學特性的情況。另外，有著玻璃之安定性下降，而ZnO成分引起的結晶容易析出之情況。

如以上，RO及ZnO係有著改善玻璃之安定化的效果，特別是在P₂ O₅ 少的情況，容易享受其效果。

然而，對於RO而言之P₂ O₅ 之含有量的比(P₂ O₅ /RO)係理想為1.0~1.9、而更理想為1.2~1.8。當比(P₂ O₅ /RO)過小時，有著液相溫度變高而RO引起之失透容易析出之情況。另一方面，P₂ O₅ /RO過大時，有著耐候性容易下降之情況。

K₂ O係使熔融溫度下降之成分。K₂ O之含有量係以質量%，理想為8~20%、更理想為12.5~19.5%。當K₂ O之含有量過少時，有著熔融溫度變高而不易得到所期望的光學特性之情況。另一方面，K₂ O之含有量過多時，有著K₂ O引起的結晶則容易在成形中析出，而玻璃化則成為不安定之情況。

Na₂ O亦與K₂ O同樣地，使熔融溫度下降的成分。Na₂ O含有量係以質量%，理想為0~12%、更理想為0~7%。Na₂ O之含有量過多時，有著玻璃化成為不安定之情況。

CuO係為了吸收近紅外線的成分。CuO之含有量係以質量%，理想為0.3~20%、而更理想為0.3~15%、又更理想為0.4~13%。當CuO之含有量過少時，有著無法得到所期望之近紅外線吸收特性的情況。另一方面，CuO之含有量過多時，有著紫外線~可視域之光透過性容易下降之情況。另外，有著玻璃化成為不安定之情況。然而，為了得到所期望的光學特性之CuO的含有量係經由板厚而做適宜調整者為佳。

另外，除了上述成分以外，在未損及本發明之效果的範圍而含有B₂ O₃ 、Nb₂ O₅ 、Y₂ O₃ 、La₂ O₃ 、Ta₂ O₅ 、CeO₂ 或Sb₂ O₃ 等亦可。具體而言，此等成分之含有量係各以質量%，理想為0~3%、更理想為0~2%。

另外，玻璃板係就組成而言以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 5~50%、Al³⁺ 2~30%、R’⁺ (R’係選自Li、Na及K之至少1種) 10~50%、及R²⁺ (R²⁺ 係選自Mg²⁺ 、Ca²⁺ 、Sr²⁺ 、Ba²⁺ 及Zn²⁺ 之至少1種)20~50%、Cu²⁺ 0.5~15%且以陰離子%顯示、含有F^- 5~80%、及O^2- 20~95%。

加上於上述組成，作為更以陰離子%顯示，含有F^- 5~80%之組成亦可。

更理想係作為組成，可使用以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 40~50%、Al³⁺ 7~12%、K⁺ 15~25%、Mg²⁺ 3~12%、Ca²⁺ 3~6%、Ba²⁺ 7~12%、Cu²⁺ 1~15%，且以陰離子%顯示、含有F^- 5~80%、及O^2- 20~95%之磷酸鹽玻璃者。

作為理想之其他組成的玻璃係可使用以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 20~35%、Al³⁺ 10~20%、Li⁺ 20~30%、Na⁺ 0~10%、Mg²⁺ 1~8%、Ca²⁺ 3~13%、Sr²⁺ 2~12%、Ba²⁺ 2~8%、Zn²⁺ 0~5%、Cu²⁺ 0.5~5%，且以陰離子%顯示、含有F^- 30~65%、及O^2- 35~75%之氟磷酸玻璃者。

作為理想之其他組成的玻璃係可使用以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 35~45%、Al³⁺ 8~12%、Li⁺ 20~30%、Mg²⁺ 1~5%、Ca²⁺ 3~6%、Ba²⁺ 4~8%、Cu²⁺ 1~6%，且以陰離子%顯示、含有F^- 10~20%、及O^2- 75~95%之氟磷酸玻璃者。

作為理想之其他組成的玻璃係可使用以陽離子%顯示，含有P⁵⁺ 30~45%、Al³⁺ 15~25%、Li⁺ 1~5%、Na⁺ 7~13%、K⁺ 0.1~5%、Mg²⁺ 1~8%、Ca²⁺ 3~13%、Ba²⁺ 6~12%、Zn²⁺ 0~7%、Cu²⁺ 1~5%，且以陰離子%顯示、含有F^- 30~45%、及O^2- 50~70%之氟磷酸玻璃者。

經由將玻璃板1作為上述組成之時，成為可達成在可視域更一層之高光透過率與在紅外線域更一層優越之光吸收特性的兩者。具體而言，在波長400nm之光透過率係理想為78%以上，而更理想為80%以上，而在波長500nm之光透過率係理想為83%以上，而更理想為85%以上。另一方面，在波長700nm之光透過率係理想為40%以下，而更理想為30%以下，而在波長800nm之光透過率係理想為20%以下，而更理想為15%以下。

如圖1所示，玻璃板1係構成為四角形狀，但並未限定於此形狀。玻璃板1係具有成為表背兩面之主表面2，和連結主表面2彼此之端面3a~3d。端面3a~3d係對應於玻璃板1之四邊，而包含：第一端面3a，和與第一端面3a平行之第二端面3b，和正交於第一端面3a及第二端面3b之第三端面3c及第四端面3d。在本實施形態中，例示在層積複數之玻璃板1所成之玻璃層積體L的狀態，對於各玻璃板1之各端面3a~3d(以下，有著總稱複數之玻璃板的端面而稱為「玻璃層積體的端面」情況，施以蝕刻處理之情況。

如圖1所示，蝕刻處理裝置4係具備：支持玻璃層積體L之支持台5，和對於玻璃層積體L之端面3a~3d，塗佈蝕刻劑E的塗佈裝置6。

支持台5係可經由未圖示之驅動機構而執行上下移動，水平移動，旋轉等之動作。玻璃板1係以主表面2面向於上下方向的橫姿勢而載置於支持台5。

塗佈裝置6係具備：可接觸於玻璃層積體L之端面3a~3d的第一塗佈滾筒7a及第二塗佈滾筒7b。在本實施形態中係例示二支的塗佈滾筒7a，7b，但其數係未限定於本實施形態。

各塗佈滾筒7a，7b係具備：滾筒主體8，和支持該滾筒主體8之軸部9，和蝕刻劑供給部10。

滾筒主體8係具備：可浸漬液狀的蝕刻劑E之構造。滾筒主體8係例如，經由烯烴系樹脂，含鹵素樹脂而構成為圓柱狀或圓筒狀，但該滾筒主體8之材質及形狀係未限定於本實施形態。滾筒主體8係其軸心則呈沿著上下方向(在圖1中的Z軸方向)而配置。另外，滾筒主體8係經由未圖示之移動機構，可移動於上下方向及水平方向(在圖1中之X軸方向，Y軸方向)而構成。

軸部9係與滾筒主體8配置成同心狀，連結於電動馬達等之驅動手段。軸部9係經由驅動手段之驅動，使滾筒主體8旋轉於其軸心周圍。

蝕刻劑供給部10係固定於各塗佈滾筒7a，7b之一部分，可與該塗佈滾筒7a，7b同時移動而構成。蝕刻劑供給部10係具備：吐出液狀的蝕刻劑E之噴嘴11。噴嘴11係配置於滾筒主體8之上方位置，而由吐出蝕刻劑E於下方者，將該蝕刻劑E供給至滾筒主體8。供給至滾筒主體8之蝕刻劑E係在浸漬於該滾筒主體8之狀態所保持。

蝕刻劑E係對於玻璃板1則為如上述之磷酸鹽系玻璃之情況，例如經由鹼性洗滌劑而構成。作為鹼性洗滌劑係無特別限定，但例如，可使用Na、K等之鹼性成分，或三乙醇胺，苯甲醇或乙二醇等之界面活性劑，或含有水或醇等之洗滌劑。

作為含於鹼性洗滌劑之鹼性成分，包含有胺基聚羧酸等之螯合劑的鹼金屬鹽者為佳。作為胺基聚羧酸之鹼金屬鹽係可舉出：二乙基三胺五乙酸，乙二胺四乙酸，三乙四胺六乙酸，氮基三乙酸等之鈉鹽及鉀鹽。其中，理想使用二乙基三胺五乙酸五鈉，乙二胺四乙酸四鈉，三乙四胺六乙酸六鈉，氮基三乙酸三鈉，而特別理想使用二乙基三胺五乙酸五鈉。

以下，對於使用上述構成之蝕刻處理裝置4而製造玻璃板1之方法進行說明。在本方法中，例如，經由澆鑄法，滑出法，垂伸法，或重拉拔法等之成形方法，將成為母材之母玻璃板成形(成形工程)，再經由切割刀等切斷該母玻璃板，形成四角形狀之玻璃板1(切斷工程)。之後，將經由切斷工程而產生於玻璃板1之端面3a~3d的微裂紋，經由蝕刻處理裝置4而除去(蝕刻工程)。

蝕刻工程係包含：載置玻璃層積體L於支持台5之工程(載置工程)，和於載置於支持台5之玻璃層積體L的端面3a~3d，塗佈蝕刻劑E之工程(賦予工程)。

在載置工程中，將在切斷工程而構成為四角形狀之玻璃板1依序積載於支持台5。在載置工程中，蝕刻處理裝置4之各塗佈滾筒7a，7b係在自玻璃板1遠離之位置進行待機。當特定片數之玻璃板1積載於支持台5時，構成玻璃層積體L。位置於玻璃層積體L之最上部的玻璃板1之上側的主表面2係經由虛擬玻璃板等之被覆構件而被覆。

在賦予工程中，經由第一塗佈滾筒7a而塗佈蝕刻劑E於玻璃板1之第一端面3a及第三端面3c，而經由第二塗佈滾筒7b而塗佈蝕刻劑E於玻璃板1之第二端面3b及第四端面3d。然而，在賦予工程中，蝕刻劑供給部10係持續供給蝕刻劑E於各塗佈滾筒7a，7b之滾筒主體8。

如圖2所示，塗佈裝置6係使第一塗佈滾筒7a的滾筒主體8接觸於第一端面3a的端部，而使第二塗佈滾筒7b的滾筒主體8接觸於第二端面3b的端部。

塗佈裝置6係使第一塗佈滾筒7a旋轉的同時，沿著第一端面3a而直線移動於箭頭A的方向。第一塗佈滾筒7a係需塗佈蝕刻劑E於第一端面3a之全面，在圖2中，自第一端面3a之一方的端部(以實線所示之位置)移動至另一方的端部(以二點虛線所示之位置)。

塗佈裝置6係與使第一塗佈滾筒7a移動同時，使第二塗佈滾筒7b旋轉之同時，沿著第二端面3b，直線移動於與第一塗佈滾筒7a之移動方向A相反之箭頭B的方向。第二塗佈滾筒7b係需塗佈蝕刻劑E於第二端面3b之全面，在圖2中，自第二端面3b之一方的端部(以實線所示置之位置)移動至另一方的端部(以二點虛線所示之位置)。

第一塗佈滾筒7a係在塗佈蝕刻劑E於第一端面3a之全面之後，變更移動方向，塗佈蝕刻劑E於第三端面3c。第二塗佈滾筒7b係在塗佈蝕刻劑E於第二端面3b之全面之後，變更移動方向，塗佈蝕刻劑E於第四端面3d。

即，第一塗佈滾筒7a係在使滾筒主體8接觸於第三端面3c之狀態而使其旋轉同時，自在圖2中以二點虛線所示之位置，對於箭頭A而言，沿著直角的箭頭C的方向而直線移動。第一塗佈滾筒7a係需塗佈蝕刻劑E於第三端面3c之全面，而自該第三端面3c之一方的端部(與第一端面3a連結之端部)移動至另一方的端部(與第二端面3b連結的端部)。

另一方面，第二塗佈滾筒7b係在使滾筒主體8接觸於第四端面3d之狀態而使其旋轉同時，自在圖2中以二點虛線所示之位置，對於箭頭B而言，沿著直角的箭頭D的方向(與箭頭C相反的方向)而直線移動。第二塗佈滾筒7b係需塗佈蝕刻劑E於第四端面3d之全面，而自該第四端面3d之一方的端部(與第二端面3b連結之端部)移動至另一方的端部(與第一端面3a連結的端部)。

經由以上，塗佈蝕刻劑E於所有的端面3a~3d全面。經由時間的經過，除去含於各玻璃板1之端面3a~3d的微裂紋。

圖3及圖4係顯示賦予工程之其他的例。在本例中，經由支持台5而變更玻璃層積體L之位置，由使各塗佈滾筒7a，7b往返移動者，塗佈蝕刻劑E於玻璃板1之各端面3a~3d。

如圖3所示，第一塗佈滾筒7a係使滾筒主體8旋轉的同時，使滾筒主體8接觸於第一端面3a，沿著該第一端面3a而直線移動至箭頭A1之方向。第二塗佈滾筒7b係使滾筒主體8旋轉的同時，使其接觸於第二端面3b，直線移動至箭頭B1(與箭頭A1相同的方向)之方向。經由此，塗佈蝕刻劑E於第一端面3a的全面及第二端面3b的全面。

塗佈蝕刻劑E於第一端面3a全面之第一塗佈滾筒7a係自第一端面3a遠離，在特定位置進行待機。塗佈蝕刻劑E第二端面3b全面之第二塗佈滾筒7b係自第二端面3b遠離，在特定位置進行待機。

之後，蝕刻處理裝置4係在平面視中，使支持台5，90˚旋轉於逆時鐘方向。經由此，載置於支持台5之玻璃層積體L亦90˚旋轉(在圖3中以二點虛線而示旋轉後之玻璃層積體L)。

如圖4所示，第一塗佈滾筒7a係使滾筒主體8旋轉之同時，使其接觸於第三端面3c，沿著該第三端面3c而直線移動至箭頭A2之方向(與箭頭A1相反方向)。第二塗佈滾筒7b係使滾筒主體8旋轉之同時，使其接觸於第四端面3d，沿著該第四端面3d而直線移動至箭頭B2之方向(與箭頭B1相反方向)。經由此，塗佈蝕刻劑E於第三端面3c的全面及第四端面3d的全面。

如根據有關以上說明之本實施形態的玻璃板1之製造方法，經由蝕刻劑供給部10而浸漬蝕刻劑E於塗佈滾筒7a，7b之滾筒主體8，由僅於玻璃板1之端面3a~3d接觸該滾筒主體8者，可未使玻璃板1浸漬於蝕刻劑而確實除去各端面3a~3d的微裂紋。另外，在本方法中，與浸漬玻璃板1於填滿於蝕刻槽之蝕刻劑的蝕刻工程做比較，可盡量降低蝕刻劑E之使用量。另外，如根據本方法，未浸漬玻璃板1於蝕刻劑之故，而在例如，再次蝕刻蝕刻不良部分之情況，或於端面3a~3d之一部分，塗佈蝕刻劑E之情況，可容易實行蝕刻工程。

圖5係顯示本發明之第二實施形態。在本實施形態中，蝕刻處理裝置4之構成則與第一實施形態不同。蝕刻處理裝置4係取代為在第一實施形態之塗佈裝置6，具備：可將液狀的蝕刻劑E進行噴霧之第一噴射裝置12a及第二噴射裝置12b。各噴射裝置12a，12b係具備可將蝕刻劑E進行噴霧之複數的噴嘴13。各噴射裝置12a，12b係構成為可移動至上下方向及水平方向。另外，各噴射裝置12a，12b係需變更噴嘴13的方向，作為可旋轉構成。

在有關本實施形態之玻璃板1之製造方法中，在蝕刻工程，使噴射裝置12a，12b移動的同時，可使自噴嘴13噴射成霧狀的蝕刻劑E附著於有關玻璃板1之所有的端面3a~3d全面。而不限於此，而亦可不使噴射裝置12a，12b移動，由移動及旋轉支持台5者，對於玻璃板1之各端面3a~3d施以蝕刻處理亦可。

圖6及圖7係顯示本發明之第三實施形態。在本實施形態中，蝕刻處理裝置4之構成則與第一實施形態不同。蝕刻處理裝置4係具備：塗佈裝置6，和搬送玻璃板1(玻璃層積體L)之裝置(搬送裝置)14。

塗佈裝置6係具備：收容液狀之蝕刻劑E的槽(收容槽)15，和浸漬於收容槽15內之蝕刻劑E的塗佈滾筒7。塗佈滾筒7係與第一實施形態同樣，具備滾筒主體8及軸部9。塗佈滾筒7係其軸心呈沿著水平方向(Y軸方向)而配置。

滾筒主體8係其一部分(下部)浸漬於收容槽15內的蝕刻劑E。塗佈滾筒7係由旋轉滾筒主體8者，使蝕刻劑E浸漬於該滾筒主體8之外周面全體。然而，在本實施形態中，塗佈裝置6係具備一支之塗佈滾筒7，但具備複數支塗佈滾筒7亦可。

收容於收容槽15之蝕刻劑E係不限於液狀，而構成為糊狀或凝膠狀亦可。在此，「漿狀」係指：稱為對於其本身未具有流動性，而經由特定的黏度而構成之同時，經由外壓可變形，分離之狀態。「凝膠狀」係指：稱為含有水分而採取一樣的分散狀態之凝膠狀態。糊狀或凝膠狀之蝕刻劑E係經由滾筒主體8的旋轉，再經由該滾筒主體8之外周面而刮擦。刮擦後之蝕刻劑E係停留於滾筒主體8之外周面，由接觸於在玻璃層積體L的各玻璃板1之端面3a~3d者，附著於該端面3a~3d。

搬送裝置14係具備保持玻璃層積體L之箝位部16。箝位部16係由藉由虛擬玻璃板等之被覆構件而夾持玻璃層積體L者，可移送該玻璃層積體L而保持。玻璃板1係以主表面2面向於水平方向(Y軸方向)的縱姿勢而保持於箝位部16。箝位部16係經由未圖示之移送機構，可移動於上下方向及水平方向而構成。另外，箝位部16係需變更玻璃層積體L之方向，可旋轉於沿著水平方向(Y軸方向)的軸心周圍而構成。

以下，對於有關本實施形態之玻璃板1之製造方法(蝕刻工程)進行說明。

如圖6所示，玻璃層積體L係在第一端面3a面向於下方的狀態，保持於箝位部16。箝位部16係在自塗佈裝置6遠離之位置保持玻璃層積體L。從此狀態，箝位部16係朝向塗佈裝置6移動，將玻璃層積體L搬送至水平方向(X軸方向)。

塗佈裝置6係旋轉塗佈滾筒7之同時進行待機。當箝位部16到達至塗佈裝置6時，如在圖6以二點虛線所示，玻璃層積體L之第一端面3a則接觸於塗佈滾筒7之滾筒主體8。箝位部16則由通過塗佈滾筒7者，塗佈浸漬於滾筒主體8之液狀的蝕刻劑E於第一端面3a全面。

如圖7所示，通過塗佈裝置6之箝位部16係停止在特定位置，變更玻璃層積體L之姿勢。經由箝位部16之動作，玻璃層積體L係在圖7中，90˚旋轉於逆時鐘方向。經由此，玻璃層積體L係如以二點虛線所示，第三端面3c則成為面向於下方的狀態。

當玻璃層積體L之姿勢變更結束時，箝位部16係再次朝向於塗佈裝置6移動，將玻璃層積體L搬送至水平方向(與圖6之搬送方向相反的方向)。當箝位部16通過塗佈裝置6時，經由塗佈滾筒7而塗佈蝕刻劑E於玻璃層積體L之第三端面3c全面。之後，蝕刻處理裝置4係與上述同樣，經由反覆玻璃層積體L之姿勢變更及對於塗佈裝置6之搬送(往返搬送)之時，塗佈蝕刻劑E於在玻璃層積體L之所有的端面3a~3d全面。

然而，本發明係不限定於上述實施形態之構成者，而未限定於上述之作用效果者。本發明係可在不脫離其主旨之範圍做種種變更。

在上述之實施形態中，顯示製造四角形狀的玻璃板1之方法，本發明係未限定於此構成。在有關本發明之蝕刻工程中，可對於具有圓形狀，異形形狀之其他形狀的玻璃板1之端面3a~3d，賦予蝕刻劑E。

在上述之實施形態中，例示具備僅於玻璃板1之端面3a~3d，賦予蝕刻劑E之蝕刻工程的製造方法，但本發明係並不限定於此構成者。本發明係在上述之實施形態的蝕刻工程之前後，具備僅於玻璃板1之主表面2賦予蝕刻劑E之工程亦可。實施此工程之情況，可使用有關上述之實施形態的蝕刻處理裝置4。

在上述之實施形態中，對於所層積之複數的玻璃板1之端面3a~3d，實施蝕刻工程的例，但並不限於此，而在對於一片的玻璃板1之端面3a~3d實施蝕刻處理之情況，亦可適用本發明。

在上述之第三實施形態中，例示對於一台的塗佈裝置6而言，變更玻璃層積體L之姿勢同時，使其往返移動之蝕刻工程，但本發明係未限定於此形態者。例如，經由將與玻璃層積體L之端面同數(例如，四台)的塗佈裝置6配置成直線狀，變更玻璃層積體L之方向同時，使所有的塗佈裝置6通過之時，可於玻璃層積體L之所有的端面，實施蝕刻處理。

1:玻璃板 3a:第一端面 3b:第二端面 3c:第三端面 3d:第四端面 7:塗佈滾筒 7a:第一塗佈滾筒 7b:第二塗佈滾筒 E:蝕刻劑

[圖1]係顯示有關第一實施形態之玻璃板之製造方法的斜視圖。 [圖2]係顯示在玻璃板之製造方法的蝕刻工程之平面圖。 [圖3]係顯示在玻璃板之製造方法的蝕刻工程之平面圖。 [圖4]係顯示在玻璃板之製造方法的蝕刻工程之平面圖。 [圖5]係顯示有關第二實施形態之玻璃板之製造方法的斜視圖。 [圖6]係顯示在有關第三實施形態之玻璃板之製造方法的蝕刻工程之側面圖。 [圖7]係顯示在玻璃板之製造方法的蝕刻工程之側面圖。

1:玻璃板

2:主表面

3a:第一端面

3b:第二端面

3c:第三端面

3d:第四端面

4:蝕刻處理裝置

5:支持台

6:塗佈裝置

7a:第一塗佈滾筒

7b:第二塗佈滾筒

8:滾筒主體

9:軸部

10:蝕刻劑供給部

11:噴嘴

A,B,C,D:箭頭

L:玻璃層積體

Claims (7)

1. 一種玻璃板之製造方法，其中具備：僅於經由磷酸鹽系玻璃所構成之玻璃板的端面，賦予蝕刻劑之蝕刻工程。
2. 如請求項1之玻璃板之製造方法，其中在前述蝕刻工程中，經由塗佈滾筒，僅於前述玻璃板之前述端面塗佈前述蝕刻劑。
3. 如請求項2之玻璃板之製造方法，其中前述塗佈滾筒係經由烯烴系樹脂或含鹵素樹脂所構成。
4. 如請求項1之玻璃板之製造方法，其中在前述蝕刻工程中，僅於前述玻璃板之前述端面，賦予自噴射裝置所噴霧之蝕刻劑。
5. 如請求項1至請求項3之任一項之玻璃板之製造方法，其中前述蝕刻劑係構成為液狀，糊狀或凝膠狀。
6. 如請求項1至請求項5之任一項之玻璃板之製造方法，其中前述玻璃板係構成為四角形狀； 在前述蝕刻工程中，僅於有關前述玻璃板的四邊之端面，賦予蝕刻劑。
7. 如請求項1至請求項6之任一項之玻璃板之製造方法，其中前述玻璃板係包含：所層積之複數的玻璃板； 在前述蝕刻工程中，僅於所有之前述玻璃板的前述端面，賦予前述蝕刻劑。

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