TW202032760A - 磁穿隧接面讀取電路、磁穿隧接面讀取裝置以及磁穿隧接面讀取電路之操作方法 - Google Patents

磁穿隧接面讀取電路、磁穿隧接面讀取裝置以及磁穿隧接面讀取電路之操作方法 Download PDF

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Abstract

一種磁穿隧接面讀取電路包括耦接至讀取路徑的電流引導單元。在電流引導元件的第一節點中，保持成比例地較大的電流以滿足可靠的電壓或電流感測的要求。在電流引導元件的第二節點中，保持成比例地較小的電流，其電流通過磁穿隧接面結構。在第一節點的電流與在第二節點的電流成正比，使得感測在第一節點的電流推斷了在第二節點的電流，其受到磁穿隧接面電阻值的影響。

Description

磁穿隧接面讀取電路、磁穿隧接面讀取裝置以及磁穿隧接面讀取電路之操作方法
本揭露係關於一種磁穿隧接面讀取電路，特別是可以消除優化磁穿隧接面的負擔的磁穿隧接面讀取電路。
磁阻式隨機存取記憶體(magnetoresistive random-access memory；MRAM)是有潛力的非揮發性資料儲存技術。MRAM儲存單元(或“位元”)的核心是磁穿隧接面(magnetic tunnel junction；MTJ)，其中介電層夾設在磁性固定層(magnetic fixed layer)(參考層)和磁性自由層(自由層)之間 ，磁性自由層的磁化極性可以改變。由於磁阻效應，參考層和自由層之間的電阻值隨著自由層中的磁化極性切換而變化。平行磁化(P狀態)導致較低的電阻，而反平行磁化(AP狀態)導致較高的電阻。電阻值的兩個狀態被認為是儲存在MRAM單元中的兩個邏輯狀態“1”或“0”。
在自旋轉移磁矩(spin transfer torque；STT)MRAM(STT-MRAM)單元中，施加寫入電流通過整個MTJ(即參考層、介電層以及自由層)，這透過自旋轉移磁矩效應來設定自由層的磁化極性。意即寫入電流通過與MRAM的讀取路徑相同的路徑。在自旋軌道轉矩(spin-orbit torque；SOT)MRAM(SOT-MRAM)單元中，MTJ結構位在具有較大自旋軌道相互作用的重金屬層上。自由層與重金屬層直接接觸。在自旋軌道耦合效應(spin-orbit coupling effect)下，藉由注入通過重金屬層的平面電流(in-plane current)感應出自旋轉矩，其通常包括Rashba效應或自旋霍爾效應(SHE(spin Hall effect)效應)中的一或多種。
讀取MTJ電阻是檢測MTJ的狀態(即P狀態或AP狀態)並由此推斷儲存在MRAM單元中的資訊的基本方法。但是，在讀取MTJ時，讀取電流可能會引起MTJ的自由層的磁化的切換，從而破壞儲存的資訊，這種現象稱為“讀取干擾”。讀取電流越大，覆寫儲存的資訊的可能性就越大(讀取干擾率)。由於纏結了MTJ的讀取、寫入和保持特性，因此優化MTJ以遏制讀取干擾問題通常會犧牲MTJ的寫入效能。
本揭露提供一種磁穿隧接面讀取電路。磁穿隧接面讀取電路包括磁穿隧接面(MTJ)結構和第一電流引導元件。第一電流引導元件具有第一節點和第二節點，並且第一電流引導元件被配置具有成比例地大於在第二節點的第二電流的在第一節點的第一電流，第一節點透過感測路徑耦接至感測元件，並且第二節點耦接至包括磁穿隧接面結構的讀取路徑。
本揭露提供一種磁穿隧接面讀取裝置。磁穿隧接面讀取裝置包括記憶體單元、電流引導裝置以及感測放大器。記憶體單元包括磁穿隧接面單元，磁穿隧接面單元具有參考層、自由層以及夾設在參考層和自由層之間的穿隧阻障層，記憶體單元儲存邏輯狀態作為自由層的磁化方向。電流引導裝置被配置以使第一電流流過磁穿隧接面單元，並且使第二電流被引導遠離磁穿隧接面單元，第二電流與第一電流成正比。感測放大器被配置以基於第二電流來確定儲存在記憶體單元中的邏輯狀態。
本揭露提供一種磁穿隧接面讀取電路操作方法。磁穿隧接面讀取電路操作方法包括使第一電流通過電流引導單元的第一節點流過磁穿隧接面裝置；以及基於在電流引導單元的第二節點的第二電流來確定磁穿隧接面裝置的磁化狀態，第二節點具有在第一節點之上的大於1的電流增益。
MTJ電阻取決於自由層相對於參考層的相對磁化方向。MTJ在平行狀態(P狀態)下具有最低的電阻，並且在反平行狀態(AP狀態)下具有最大的電阻。在讀取MTJ電阻時，電流垂直地通過整個MTJ，並且感測到跨越MTJ的一或多個電流值或電壓降以檢測MTJ的狀態。因為低電流使得難以感測低電流和參考值之間的差異，為了可靠地檢測電壓降(例如透過基於電容充電的方法或基於電容器電的方法)，不能任意減小讀取電流。同時，較大的讀取電流可能會增加讀取干擾率。
所揭露的MTJ讀取電路包括耦接至讀取路徑的電流引導元件(current steering element)。電流引導元件將較大的電流分成流過至少兩個分開的電流路徑的至少兩個較小的電流。較小的電流中的至少一個與較大的電流成正比，使得較小的電流和較大的電流以相互依存的方式彼此反映。在一個實施例中，在電流引導元件的第一節點中，保持成比例地較大的電流以滿足感測電流的要求。在電流感測中，將感測電流與參考值進行比較，以確定電流相對於參考值的相對值。通常不考慮感測電流的實際值。在電流引導元件的第二節點中，保持成比例地較小的電流，其通過MTJ結構。在電流引導元件的第二節點的電流與在電流引導元件的第一節點的電流成正比。在一個實施例中，在電流引導元件的第二節點的電流是在第一節點的電流的分配份額，並且剩餘的分配電流被路由遠離MTJ讀取路徑(例如：路由至地面)。在第二節點的電流足夠小以避免干擾MTJ自由層的磁化方向。因為它與通過MTJ的電流成正比，所以可以有效地感測在第一節點的電流，以確定/推斷MTJ的磁化狀態(即P狀態或AP狀態)。
在示例實施例中，一或多個在共集極模式下的PNP雙極性接面型電晶體(bipolar junction transistor；BJT)或在共源極模式下的n型場效電晶體(field effect transistor；FET)用於實現電流引導元件。舉例來說，在共集極模式下的PNP BJT的射極節點被配置作為電流引導元件的第一節點。PNP BJT的基極節點被配置作為電流引導元件的第二節點。在BJT的正向和反向主動偏壓中，射極電流成比例地大於基極電流，其中基極電流=發射極電流/(β+1)並且β>0。成比例地較小的基極電流(相對於射極電流的1/(β+1))通過MTJ結構，並且成比例地較大的射極電流(相對於基極電流的(β+1))用於電流/電壓感測以推斷MTJ的電壓降。就電流引導而言，具有二極體類型配置的在共源極模式下的n-MOS在功能上類似於共集極模式下的BJT。電流引導元件的其他實施例也是可能的，並且包括在本揭露中。
本揭露提供許多不同的實施例或範例以實施本案的不同特徵。以下的揭露內容敘述各個構件及其排列方式的特定實施例，以簡化說明。當然，這些特定的範例並非用以限定。舉例來說，若是本揭露敘述了一第一特徵形成於一第二特徵之上或上方，即表示其可能包含上述第一特徵與上述第二特徵是直接接觸的實施例，亦可能包含了有附加特徵形成於上述第一特徵與上述第二特徵之間，而使上述第一特徵與第二特徵可能未直接接觸的實施例。另外，以下本揭露不同實施例可能重複使用相同的參考符號及/或標記。這些重複係為了簡化與清晰的目的，並非用以限定所討論的不同實施例及/或結構之間有特定的關係。
此外，其與空間相關用詞。例如“在…下方”、“下方”、“較低的”、“上方”、“較高的” 及類似的用詞，係為了便於描述圖示中一個元件或特徵與另一個(些)元件或特徵之間的關係。除了在圖式中繪示的方位外，這些空間相關用詞意欲包含使用中或操作中的裝置之不同方位。除此之外，設備可能被轉向不同方位(旋轉90度或其他方位)，則在此使用的空間相關詞也可依此相同解釋。
在以下描述中，闡述了某些具體細節，以便提供對本揭露各種實施例的透徹理解。然而，本技術領域中具有通常知識者將理解可以在沒有這些具體細節的情況下實踐本揭露。在其他情況下，與電子部件和製造技術相關的公知結構未被詳細描述，以避免不必要地使本揭露實施例的描述不清楚。
除非上下文另外要求，否則在整個說明書和後續的請求項中，術語“包括”及其變體，例如“包括有”和“包含”，應以開放、包容性的含義來解釋，即表示為“包括但不限於”。
使用序數，例如第一、第二和第三，不一定暗示順序的排名，而可僅區分動作或結構的多個實施例。
在整個說明書中，對“一個實施例”或“一實施例”的引用是指結合該實施例所描述的特定特徵、結構或特性被包括在至少一個實施例中。因此，在整個說明書中，各處出現的術語“在一個實施例中”或“在一實施例中”不一定都指的是同一實施例。此外，在一或多個實施例中，可以以任何合適的方式組合特定的特徵、結構或特性。
如在本說明書和請求項中所用的，單數形式“一個”、“一種”和“該”包括複數指示物，除非內容另外明確指出。還應注意，除非內容清楚地另外指出，否則術語“或”通常以包括“及/或”的意義使用。
第1圖顯示了MTJ讀取電路100的示意圖。MTJ讀取電路包括電流引導單元110、讀取路徑120、讀取參考路徑130、感測路徑140、感測參考路徑150意及感測放大器160。電流引導單元110包括至少兩個電流引導元件112、114。電流引導元件112耦接至讀取路徑120和感測路徑140。電流引導元件114耦接至讀取參考路徑130和感測參考路徑150。具體來說，電流引導元件112包括耦接至感測路徑140的節點(第一節點)116和耦接至讀取路徑120的節點(第二節點)122。在節點122的電流與在節點116的電流成正比，並且小於在節點116的電流。電流引導元件114包括耦接至感測參考路徑150的節點(第三節點)124和耦接至讀取參考路徑130的節點(第四節點)126。在節點126的電流與在節點124的電流成正比，並且小於在節點124的電流。在一個實施例中，電流引導元件112和電流引導元件114在其結構和參數上大抵彼此是鏡像的。舉例來說，電流引導元件112的節點116的電流對節點122的電流的電流增益(例如：比率)與電流引導元件114的節點124的電流和節點126的電流之間的電流增益(例如：比率)大抵相同。
讀取路徑120包括MTJ結構128， MTJ結構128對於兩種不同的磁化(AP狀態或P狀態)表現出兩種不同的電阻值，指示了MTJ結構128的自由層的磁化方向。值得注意的是，MTJ結構128包括參考層、自由層以及夾設在參考層和自由層之間的穿隧阻障層。讀取參考路徑130包括參考電阻132。參考電阻132可以是具有已知電阻值或已知電阻值規模/範圍的任何電阻元件。在一些實施例中，參考電阻132是與MTJ結構128相同的MTJ結構，並且參考MTJ 132被設定為AP狀態或P狀態中之一者以提供參考。除了MTJ結構128或參考電阻132之外，讀取路徑120和讀取參考路徑130被配置為大抵上彼此是鏡像的。意即，除了MTJ結構128或參考電阻132之外，讀取路徑120和讀取參考路徑130包括參數大抵相同的相同電路單元。舉例來說，讀取路徑120的MTJ結構128和讀取參考路徑130的參考電阻132個別耦接至電阻值大抵相同的相應的下拉電阻134。
相似地，感測路徑140和感測參考路徑150在其感測電路154中彼此是鏡像的。意即，感測參考路徑150包括感測電路154，其部件的參數大抵相同於感測路徑140中感測電路之部件的參數。在藉由MTJ結構122檢測電壓降的電流感測方法中，感測路徑140和感測參考路徑150各自包括電流鏡電路，其將節點122的電流和節點126的電流作鏡像以個別流入個別的電阻分壓器電路。電阻分壓器電路的個別電壓輸出被饋送到感測放大器160的差分(differential)輸入節點162、164。
感測放大器160可以是電流比較器或電壓比較器之一者，或者是其他能夠檢測差分輸入節點162、164的輸入之間的差異，並且輸出指示差分輸入節點162、164的輸入之間的相對值的邏輯/數位輸出的其他電路元件。
在操作中，讀取致能訊號/時脈(read enable signal/clock；RE)(為簡單起見未顯示)在讀取路徑120、讀取參考路徑130、感測路徑140以及感測參考路徑150上切換。節點122的電流受到MTJ結構128的電阻值的影響。節點126的電流受到參考電阻132的影響。假設除了MTJ結構128和參考電阻132，讀取參考路徑130鏡像了讀取路徑120，節點122的電流和節點126的電流之間的差異或相似性反映了MTJ結構128的電阻和參考電阻132的電阻之間的差異或相似性。當電流引導元件112和114彼此鏡像時，節點122的電流和節點126的電流之間的差異或相似性可以成比例地顯示為節點116的電流和節點124的電流之間的差異。
透過電流引導元件112、114的功能，節點116的電流和節點124的電流個別地與節點122的電流和節點126的電流成正比，並且個別地大於節點122的電流和節點126的電流。
感測路徑140和感測參考路徑150的感測電路直接或間接地透過電流鏡電路來感測節點124的電流和節點126的電流之間的差異。在一個實施例中，感測路徑140和感測參考路徑150的電流鏡電路個別地將節點116的電流和節點124的電流鏡像為鏡像電流，其透過電流感測將它們感測為電壓輸入到感測放大器160的差分輸入節點162、164。鏡像電流以大於1的放大係數反映節點122的電流或節點126的電流。在差分輸入節點162的輸入最終反映在節點122上的MTJ的讀取路徑120的電流。在差分輸入節點164的輸入最終反映了在節點126上的讀取參考電流。節點162的輸入和節點164的輸入之間的比較反映了節點122的電流和節點126的電流之間的比較。節點162的輸入和節點164的輸入之間的差異或相似性推斷出MTJ結構128的電阻值與參考電阻132的電阻值的比較。在已知或確定參考電阻132的電阻值的情況下，MTJ結構128的電阻值或電阻狀態或儲存在MTJ結構128的邏輯資訊因此被確定或“讀取”。
第2A圖顯示了MTJ讀取電路100的讀取電路200。在讀取電路200中，電流引導元件112、114透過配置在共集極模式的BJT(PNP BJT裝置)212、214來實現。電流IMTJ 120流過讀取路徑120，電流IREF 130流過讀取參考路徑130。具體來說，BJT 212的基極節點222耦接至讀取路徑120中之MTJ結構128。BJT 214的基極節點226耦接至讀取參考路徑130中之參考電阻132。BJT 212的射極216耦接至電流鏡元件240，電流鏡元件240包括兩個電晶體246、252(例如被配置以飽和模式或主動模式操作的金屬氧化物半導體場效電晶體(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor；MOSFET)。BJT 214的射極224耦接至電流鏡元件242，電流鏡元件242包括兩個電晶體244、248(例如被配置以飽和模式或主動模式操作的MOSFET電晶體。
在一個實施例中，BJT 212、214彼此匹配，意即它們具有大抵相同的參數(例如：大抵相同的電流增益β)。如此一來，射極(射極節點)216的電流等於(β+1)乘以基極節點222的電流。射極(射極節點)224的電流等於(β+1)乘以基極節點226的電流。在一個實施例中，在同一個電流鏡元件中的電晶體(電晶體246、252或電晶體244、248)的參數彼此匹配。如此一來，射極216的電流以大抵1：1的比率被鏡像成鏡像電流254，意即(β+1)乘以讀取路徑(MTJ讀取路徑)120的電流。相似地，射極224的電流以大抵1：1的比率被鏡像成鏡像電流256，意即(β+1)乘以讀取參考路徑130的電流。
在一個實施例中，參考電阻132被設定為具有大抵等於MTJ結構128的AP狀態電阻值的電阻值，意即MTJ結構128的最高電阻值。
當MTJ結構128在AP狀態時，MTJ結構128的電阻大抵等於參考電阻132的電阻，基極節點222的電流和基極節點226的電流大抵相等。射極216的電流是基極節點222的電流的(β+1)倍。射極224的電流是基極節點226的電流的(β+1)倍。射極224的電流大抵等於射極216的電流，射極224的電流和射極216的電流個別被鏡像成鏡像電流256、254，而電晶體266、268由均等化訊號(equalization signal)EQ導通(switched on)。鏡像電流256通過由電晶體266和270所形成的電阻分壓器電路265。鏡像電流254通過由電晶體268和272所形成的電阻分壓器電路267。電晶體266和268彼此是鏡像的。電晶體270和272彼此是鏡像的。在鏡像電流256、254彼此相等並且個別通過匹配的電阻分壓器電路265、267的情況下，讀取電壓280和參考電壓282(分別作為電阻分壓器電路265、267的輸出)大抵彼此相等。
讀取電壓280和參考電壓282被饋送到基於電壓的感測放大器290中，作為到輸入節點292、294的差分輸入。在讀取電壓280大抵等於參考電壓282的情況下，基於電壓的感測放大器290產生零電壓的輸出，其信號發出了“AP”的MTJ讀數或“0”的邏輯狀態。
第2B圖顯示了基於電壓的感測，其可以用於實現感測放大器290。然而，本揭露包括任何感測放大器，並且不受任何感測放大器結構的限制。
在本揭露中，附圖標記120、130、140、150個別用於表示各自的路徑和路徑中的電流，以用於描述目的。
如果MTJ結構128在P狀態，則MTJ結構128的電阻小於參考電阻132的電阻。通過MTJ結構128的基極節點222的電流120大於通過較大電阻的參考電阻132的基極節點226的電流。因此最終鏡像電流254大於鏡像電流256。如此一來，讀取電壓280大於參考電壓282。基於電壓的感測放大器290(第2圖)產生VDD的輸出，其信號發出了“P”的MTJ讀數或“1”的邏輯狀態。
可選地，讀取電路200還包括個別在讀取路徑120和讀取參考路徑130中的箝制開關(clamping switch)258、250。箝制開關258、250由箝位電壓Vclamp 控制，箝位電壓Vclamp 防止施加在MTJ結構128上的電位下降得太低而不能穿透MTJ結構128的穿隧阻障層。基於裝置/電路設計來確定或選擇箝位電壓Vclamp 的電壓值，其全部包括在本揭露中。在一個實施例中，箝位電壓Vclamp 在約0.2至約0.5V的範圍內。在一個實施例中，箝位電壓Vclamp 由與讀取致能訊號RE相同的電壓源提供，其提供了MTJ讀取操作的時序控制(timing control)。
第3圖顯示了實現第2圖的讀取電路200中的電路部件和參數的示意圖。應理解第3圖的實施例是出於說明性目的和對揭露技術的透徹理解。讀取電路300的特定參數並不意味是限制性的。
第2A圖和第3圖的電路表示正向讀取方法(例如；讀取電流從MTJ結構128的參考層流向自由層)。其他MTJ讀取方法也是可能的，並且包括在本揭露中。舉例來說，相似的電流引導單元/元件也可應用於反向讀取方法的讀取電路，其中讀取電流從MTJ結構128的自由層流到參考層來通過MTJ結構128。第4圖顯示了反向MTJ讀取電路400的示意圖，反向MTJ讀取電路400與第3圖的讀取電路300相似，除了第2A圖的讀取電路200的電流是流到電流引導單元。
在第2圖、第3圖、第4圖的讀取電路200、讀取電路300、反向MTJ讀取電路400中，使用在共集極模式的BJT來實現電流引導元件。此實施例不限制本揭露的範圍。其他電流引導方法也是可能的，並且包括在本揭露中。
第5圖顯示了MTJ讀取電路500。如第5圖中所示，MTJ讀取電路500與第3圖的讀取電路(MTJ讀取電路)300非常相似，除了BJT元件212、214被配置在共源極模式的NMOS元件512、514代替。NMOS元件512的閘極節點耦接至讀取路徑(MTJ讀取路徑)120，而NMOS元件512的汲極節點耦接至感測路徑140。NMOS元件514的閘極節點耦接至讀取參考路徑130，而NMOS元件514的漏極節點耦接至感測參考路徑150。
共源極模式的NMOS元件512、514通常被認為是在閘極節點輸入和汲極節點輸出之間具有電壓增益的電壓放大器。汲極節點的電流不受閘極節點的電流直接控制。然而，在讀取路徑120和讀取參考路徑130的所有部件已知並鏡像的情況下，NMOS 512、514中之每一者的閘極節點電流和汲極節點電流之間的比例比(proportional ratio)是固定的。如此一來，MTJ讀取電路500的操作與讀取電路300的操作非常相似，為了簡單起見省略其描述。
第2圖、第3圖、第4圖、第5圖所示的讀取電路200、讀取電路300、反向MTJ讀取電路400、MTJ讀取電路500均在感測路徑140或感測參考路徑150中包括電流鏡元件，其不限制本揭露的範圍。在其他實施例中，透過電壓感測或電流感測直接感測電流引導元件的較大電流。舉例來說，第6圖顯示了另一個MTJ讀取電路600，其直接使用電流感測電路來感測感測路徑140的電流和感測參考路徑150的電流。具體來說，電阻分壓器電路665耦接在電壓源VDD與電流引導元件212的射極216之間。電阻分壓器電路667耦接在電壓源VDD與電流引導元件214的射極224之間。電阻分壓器電路665透過串聯耦接的電阻666和670形成。電阻分壓器電路667透過串聯耦接的電阻668和672形成。電阻(電晶體)666和668彼此是鏡像的。電阻(電晶體)670和672彼此是鏡像的。射極216的電流等於(β+1)乘以在基極節點222的讀取路徑120的電流。射極224的電流等於(β+1)乘以在基極節點226的讀取參考路徑130的電流。在MTJ結構128的電阻等於參考電阻132的電阻(例如被設定為等於MTJ結構128的AP狀態電阻)的情況下，射極216的電流等於射極224的電流。如此一來，跨越電阻(電阻元件)670、672的電壓降是相同的。在節點680識別的MTJ讀取電壓(作為電阻分壓器電路665的輸出)等於在節點682識別的參考電壓(作為電阻分壓器電路667的輸出)。在感測放大器690比較MTJ讀取電壓680和參考電壓682產生第一邏輯輸出(例如：“0”)。在MTJ結構128的電阻(例如：P狀態電阻)小於參考電阻132的電阻(例如：設定為等於MTJ結構128的AP狀態電阻)的情況下。射極216的電流大於射極224的電流。如此一來，跨越電阻(電阻元件)670的電壓降大於跨越電阻(電阻元件)672的電壓降。如此一來，MTJ讀取電壓680小於參考電壓682。在感測放大器690比較MTJ讀取電壓680和參考電壓682產生第二邏輯輸出(例如：“1”)。
第7圖顯示了MTJ讀取電路700，其直接使用電壓感測電路來感測感測路徑140的電流和感測參考路徑150的電流。具體來說，電阻元件770耦接在電壓源VDD與電流引導元件212的射極216之間。電阻元件772耦接在電壓源VDD和電流引導元件214的射極224之間。電阻元件770、772彼此是鏡像的。直接獲得MTJ讀取電壓780和參考電壓782個別地作為在射極節點216和224的電壓，它們反映了通過電阻元件770、772的電壓降。除了所識別的差異之外，MTJ讀取電路700的操作與第6圖的MTJ讀取電路600的操作相似，為了簡單起見省略其描述。
第1圖至第7圖顯示了感測路徑140的電流的電壓/電流感測的實施例，但不限於此。其他感測方法也是可能的，並且包括在本揭露中。第8圖顯示了MTJ讀取電路800，其包括用於感測MTJ讀取的充電或放電元件。參照第8圖，MTJ讀取電路800包括電流引導元件212(例如PNP BJT)，電流引導元件212具有通過電阻元件810耦接至電壓源VDD的射極216和耦合至MTJ結構128的基極節點222。電容820通過電阻元件818耦接至在射極216和電阻元件810之間的節點824。電容820還耦接至比較器830，比較器830被配置以比較儲存在電容820中的電壓位(voltage potential)和參考電壓632，並且基於該比較產生輸出讀數(Readout)。
MTJ讀取電路800可被配置以基於在射極216的電流來對電容820充電或使電容820放電，其反映了通過MTJ結構128的讀取電流。如此一來，在電容820和電流引導元件212的射極216之間建立了感測路徑828。具體來說，在充電設置中，開關822和826被控制為導通，使基極節點222的電流流過MTJ結構128。基極節點222的電流受到MTJ結構128的電阻(即AP狀態電阻或P狀態電阻)的影響。射極216的電流是基極節點222的電流的(β+1)倍，並因此反映了MTJ結構128的電阻。通過電阻810的電壓降受到發射極216的電流的影響，並因此節點824的電壓受到MTJ結構128的電阻的影響。當MTJ結構128在AP狀態(即較高的電阻)時，射極216的電流較小，並且節點824的電壓較高。當MTJ結構128在P狀態(即較低的電阻)時，射極216的電流較高，並且節點824的電壓較低。電容820由節點824的電壓充電。在適當調整充電時間之後，將開關822關斷(switched off)，並且將儲存在電容820中的電荷與參考電壓832進行比較，以確定MTJ結構128的電阻準位(resistance level)或磁化狀態。
在放電設置中，電容820在MTJ讀取之前被預充電。開關822被導通並且開關826被關斷，使得電容820以適當調整的時間段被充電。在MTJ讀取操作中，開關822被關閉(turned off)並且開關826被開啟(turned on)。電容820放電通過電流引導元件212和MTJ結構128。再一次地，射極216的電流是基極節點222的電流的(β+1)倍。較高的射極216的電流用於可靠地使電容820放電的目的，而較小的基極節點222的電流用於讀取MTJ結構128的狀態而不會改變MTJ狀態。當MTJ結構128在AP狀態時(即較高的電阻)時，基極節點222的電流和射極216的電流均較小。結果，電容820較慢地放電。在適當地調整了放電時間之後，較高的殘留電荷保留在電容820內。當MTJ結構128在P狀態(即較低的電阻)時，基極節點222的電流和射極216的電流均較大。結果，電容820較快地放電。在適當地調整了放電時間之後，較低的殘留電荷保留在電容820內。藉由將電容820的殘留電荷與參考電壓832(通常與充電模式的參考電壓不同的參考電壓值)進行比較，讀取MTJ結構128狀態。
提供了具有電流引導元件/單元的MTJ讀取電路的實施例，以促進對技術的理解。提供的實施例的變化是可能的，並且包括在本揭露的原理中。舉例來說，具有電流引導元件以提供較小的讀取電流以讀取MTJ結構並且具有較大的感測電流以感測MTJ讀取的技術可用於所有類型的MTJ讀取操作，例如快速或慢速讀取、正向或反向讀取、電流感測或電壓感測。所揭露的技術消除了經常針對讀取和寫入操作優化MTJ的負擔，其常常彼此牴觸。利用所揭露的技術，MTJ優化可集中於寫入操作，其使得電路/系統的計和配置容易得多。
第9圖是方法900，其與第1圖至第8圖的MTJ讀取電路或其他MTJ讀取電路一起使用。參照第9圖，在操作910中，使讀取電流能夠流過磁穿隧接面裝置(例如：磁穿隧接面結構128)通過電流引導元件(例如：電流引導元件112)的第一節點(例如：節點122)。
在操作920中，基於在電流引導元件112的節點(第二節點)116的分離電流來確定儲存在磁穿隧接面裝置中的邏輯狀態。節點116對節點122的電流增益大於1。舉例來說，在透過雙極性接面型電晶體212實現電流引導元件112的情況下，射極216與基極節點222之間的電流增益為(β+1)，其中β>0。可透過電壓感測、電流感測或電容充電/放電方法或其他合適感測方法直接感測在第二節點的電流。還可以透過電流鏡單元間接地感測在第二節點的電流，電流鏡單元將在第二節點的電流鏡像為具有與在第二節點的電流相同大小的鏡像電流或具有與在第二節點的電流成正比的大小的鏡像電流。
透過以下實施例的描述，可以進一步理解本揭露。
在一種磁穿隧接面讀取電路實施例中，磁穿隧接面讀取電路包括磁穿隧接面(MTJ)結構和第一電流引導元件。第一電流引導元件具有第一節點和第二節點。第一電流引導元件被配置在第一節點具有成比例地大於在第二節點的第二電流的第一電流。第一節點透過感測路徑耦接至感測元件。第二節點耦接至包括磁穿隧接面結構的讀取路徑。
在一些實施例中，電流引導元件是被配置在共集極模式的雙極性接面型電晶體，雙極性接面型電晶體的射極節點是第一節點，並且雙極性接面型電晶體的基極節點是第二節點。
在一些實施例中，電流引導元件是被配置在共源極配置的場效電晶體，場效電晶體的汲極節點是第一節點，並且場效電晶體的閘極節點是第二節點。
在一些實施例中，磁穿隧接面讀取電路更包括在讀取路徑中的電壓箝制元件。
在一些實施例中，磁穿隧接面讀取電路更包括第二電流引導元件，具有第三節點和第四節點，並且第二電流引導元件被配置具有成比例地大於在第四節點的第四電流的在第三節點的第三電流，第三節點耦接至感測參考路徑，並且第四節點耦接至包括參考電阻元件的讀取參考路徑。
在一些實施例中，第一電流引導元件和第二電流引導元件大抵上彼此是鏡像的。
在一些實施例中，磁穿隧接面讀取電路更包括感測放大器，並且感測路徑耦接至感測放大器的第一輸入，並且感測參考路徑耦接至感測放大器的第二輸入。
在一些實施例中，感測路徑和感測參考路徑大抵上彼此是鏡像的。
在一些實施例中，除了參考電阻元件和磁穿隧接面結構之外，讀取路徑和讀取參考路徑大抵上彼此是鏡像的。
在一些實施例中，參考電阻元件具有電阻值，電阻值等於磁穿隧接面結構的平行狀態電阻或磁穿隧接面結構的反平行狀態電阻。
在一些實施例中，感測路徑包括電流鏡元件。
在一些實施例中，感測路徑包括電阻分壓器元件。
在一些實施例中，感測路徑包括電荷儲存元件，電荷儲存元件被配置放電通過感測路徑和第一電流引導元件，或由感測路徑中的電壓節點充電。
在一些實施例中，磁穿隧接面讀取電路更包括預充電電路，被配置以在電荷儲存元件放電通過感測路徑之前，對電荷儲存元件充電。
在一些實施例中，感測元件被配置以基於在第一節點的第一電流來確定磁穿隧接面結構的磁化狀態。
在一種磁穿隧接面讀取裝置實施例中，磁穿隧接面讀取裝置包括記憶體單元、電流引導裝置以及感測放大器。記憶體單元包括磁穿隧接面單元，磁穿隧接面單元具有參考層、自由層以及夾設在參考層和自由層之間的穿隧阻障層。記憶體單元儲存邏輯狀態作為自由層的磁化方向。電流引導裝置被配置以使第一電流流過磁穿隧接面單元，並且使第二電流被引導遠離磁穿隧接面單元。第二電流與第一電流成正比。感測放大器被配置以基於第二電流來確定儲存在記憶體單元中的邏輯狀態。
在一些實施例中，磁穿隧接面讀取裝置更包括電流鏡單元，電流鏡單元將第二電流鏡射成第三電流，其中感測放大器感測第三電流。
在一些實施例中，感測放大器感測通過電阻分壓器單元的第二電流。
在一種磁穿隧接面讀取電路操作方法的實施例中，磁穿隧接面讀取電路操作方法包括使第一電流通過電流引導單元的第一節點流過磁穿隧接面裝置，以及基於在電流引導單元的第二節點的第二電流來確定磁穿隧接面裝置的磁化狀態。第二節點對第一節點具有大於1的電流增益。
在一些實施例中，電流引導單元是配置在共集極模式的雙極性接面型電晶體，或配置在共源極模式的金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET)。
100:磁穿隧接面讀取電路 110:電流引導單元 112,114:電流引導元件 116,122,124,126:節點 120:讀取路徑/電流IMTJ 128:磁穿隧接面結構 130:讀取參考路徑/電流IREF 132:參考電阻 134:下拉電阻 140:感測路徑 150:感測參考路徑 154:感測電路 160:感測放大器 162,164:差分輸入節點 200:讀取電路 212,214:雙極性接面型電晶體 216,224:射極 222,226:基極節點 240,242:電流鏡元件 244,246,248,252:電晶體 250,258:箝制開關 254,256:鏡像電流 265,267:電阻分壓器電路 266,268,270,272:電晶體 280:讀取電壓 282:參考電壓 290:感測放大器 292、294:輸入節點 VDD:電壓源 Vclamp:箝位電壓 RE:讀取致能訊號/時脈 EQ:均等化訊號 300:讀取電路 400:反向磁穿隧接面讀取電路 500:磁穿隧接面讀取電路 512,514:NMOS元件 600:磁穿隧接面讀取電路 665,667:電阻分壓器電路 666,670,668,672:電阻 680:磁穿隧接面讀取電壓/節點 682:參考電壓/節點 690:感測放大器 700:磁穿隧接面讀取電路 770,772:電阻元件 780:磁穿隧接面讀取電壓 782:參考電壓 800:磁穿隧接面讀取電 810,818:電阻元件 820:電容 822,826:開關 824:節點 828:感測路徑 830:比較器 632:參考電壓 900:方法 910,920:操作
本揭露從後續實施例以及附圖可以更佳理解。在附圖中，除非上下文另外指出，否則相同的附圖標記表示相似的元件或動作。附圖中元件的尺寸和相對位置不必按比例繪製。不同特徵之尺寸可能任意增加或減少以清楚論述。 第1圖、第2A圖、第2B圖、第3圖、第4圖、第5圖、第6圖、第7圖、第8圖是MTJ讀取電路的實施例。 第9圖是操作方法的實施例。
無
100:磁穿隧接面讀取電路
110:電流引導單元
112,114:電流引導元件
116,122,124,126:節點
120:讀取路徑/電流IMTJ
128:磁穿隧接面結構
130:讀取參考路徑/電流IREF
132:參考電阻
134:下拉電阻
140:感測路徑
150:感測參考路徑
154:感測電路
160:感測放大器
162,164:差分輸入節點

Claims (20)

  1. 一種磁穿隧接面讀取電路，包括： 一磁穿隧接面(MTJ)結構；以及 一第一電流引導元件，具有一第一節點和一第二節點，並且上述第一電流引導元件被配置在上述第一節點具有成比例地大於在上述第二節點的一第二電流的一第一電流，上述第一節點透過一感測路徑耦接至一感測元件，並且上述第二節點耦接至包括上述磁穿隧接面結構的一讀取路徑。
  2. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，其中上述電流引導元件是被配置在一共集極模式的一雙極性接面型電晶體，上述雙極性接面型電晶體的一射極節點是上述第一節點，並且上述雙極性接面型電晶體的一基極節點是上述第二節點。
  3. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，其中上述電流引導元件是被配置在一共源極配置的一場效電晶體，上述場效電晶體的一汲極節點是上述第一節點，並且上述場效電晶體的一閘極節點是上述第二節點。
  4. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，更包括在上述讀取路徑中的一電壓箝制元件。
  5. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，更包括一第二電流引導元件，具有一第三節點和一第四節點，並且上述第二電流引導元件被配置具有成比例地大於在上述第四節點的一第四電流的在上述第三節點的一第三電流，上述第三節點耦接至一感測參考路徑，並且上述第四節點耦接至包括一參考電阻元件的一讀取參考路徑。
  6. 如請求項5之磁穿隧接面讀取電路，其中上述第一電流引導元件和上述第二電流引導元件大抵上彼此是鏡像的。
  7. 如請求項5之磁穿隧接面讀取電路，更包括一感測放大器，並且上述感測路徑耦接至上述感測放大器的一第一輸入，並且上述感測參考路徑耦接至上述感測放大器的一第二輸入。
  8. 如請求項5之磁穿隧接面讀取電路，其中上述感測路徑和上述感測參考路徑大抵上彼此是鏡像的。
  9. 如請求項5之磁穿隧接面讀取電路，其中除了上述參考電阻元件和上述磁穿隧接面結構之外，上述讀取路徑和上述讀取參考路徑大抵上彼此是鏡像的。
  10. 如請求項5之磁穿隧接面讀取電路，其中上述參考電阻元件具有一電阻值，上述電阻值等於上述磁穿隧接面結構的一平行狀態電阻或上述磁穿隧接面結構的一反平行狀態電阻。
  11. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，其中上述感測路徑包括一電流鏡元件。
  12. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，其中上述感測路徑包括一電阻分壓器元件。
  13. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，其中上述感測路徑包括一電荷儲存元件，上述電荷儲存元件被配置放電通過上述感測路徑和上述第一電流引導元件，或由上述感測路徑中的一電壓節點充電。
  14. 如請求項13之磁穿隧接面讀取電路，更包括一預充電電路，被配置以在上述電荷儲存元件放電通過上述感測路徑之前，對上述電荷儲存元件充電。
  15. 如請求項1之磁穿隧接面讀取電路，其中上述感測元件被配置以基於在上述第一節點的上述第一電流來確定上述磁穿隧接面結構的一磁化狀態。
  16. 一種磁穿隧接面讀取裝置，包括： 一記憶體單元，包括一磁穿隧接面單元，上述磁穿隧接面單元具有一參考層、一自由層以及夾設在上述參考層和上述自由層之間的一穿隧阻障層，上述記憶體單元儲存一邏輯狀態作為上述自由層的一磁化方向； 一電流引導裝置，被配置以使一第一電流流過上述磁穿隧接面單元，並且使一第二電流被引導遠離上述磁穿隧接面單元，上述第二電流與上述第一電流成正比；以及 一感測放大器，被配置以基於上述第二電流來確定儲存在上述記憶體單元中的上述邏輯狀態。
  17. 如請求項16之磁穿隧接面讀取裝置，更包括一電流鏡單元，上述電流鏡單元將上述第二電流鏡射成一第三電流，其中上述感測放大器感測上述第三電流。
  18. 如請求項16之磁穿隧接面讀取裝置，其中上述感測放大器感測通過一電阻分壓器單元的上述第二電流。
  19. 一種磁穿隧接面讀取電路之操作方法，包括： 使一第一電流通過一電流引導單元的一第一節點流過一磁穿隧接面裝置；以及 基於在上述電流引導單元的一第二節點的一第二電流來確定上述磁穿隧接面裝置的一磁化狀態，上述第二節點對上述第一節點具有大於1的一電流增益。
  20. 如請求項19之磁穿隧接面讀取電路之操作方法，其中上述電流引導單元是配置在一共集極模式的一雙極性接面型電晶體，或配置在一共源極模式的一金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET)。
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