TW202022454A - 顯示裝置及偏光結構的製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種顯示裝置包括液晶顯示模組、蓋板以及偏光結構。液晶顯示模組具有顯示區以及連接顯示區的非顯示區。液晶顯示模組包括背框、背光模組以及顯示面板。顯示面板包括第一基板、下偏光片、第二基板、液晶層以及濾光元件。偏光結構位於蓋板以及第二基板之間。偏光結構包括多條柵線以及反射層。多條柵線覆蓋顯示區。反射層環繞柵線，且於垂直蓋板的方向上覆蓋顯示面板的側壁以及背框的側壁。本發明還提供一種偏光結構的造方法。

Description

顯示裝置及偏光結構的製造方法
本發明是有關於一種顯示裝置及偏光結構的製造方法，且特別是有關於一種偏光結構包括柵線以及反射層的顯示裝置及所述偏光結構的製造方法。
現行的電子後視鏡（e-mirror）是於後視鏡中設置液晶顯示模組，使後視鏡除了有鏡子的功能以外，還能藉由液晶顯示模組顯示畫面。電子後視鏡相較於傳統不具液晶顯示模組的後視鏡有更廣的視野，可以大幅提升使用者的行車安全。
然而，在現有的電子後視鏡中，通常會於液晶顯示模組上方的半穿反鏡蓋板的非顯示區上設置遮蔽油墨層，以避免非顯示區下方的元件透視裸露。此外，現有的電子後視鏡用來反射光線的半穿反鍍膜層會大幅減少液晶顯示模組的畫面穿透率。
本發明提供一種顯示裝置，具有低的製造成本以及亮度提高的顯示畫面。
本發明提供一種偏光結構的製造方法，具有低的製造成本。
本發明的至少一實施例提供一種顯示裝置，包括液晶顯示模組、蓋板以及偏光結構。液晶顯示模組具有顯示區以及連接顯示區的非顯示區。液晶顯示模組包括背框、背光模組以及顯示面板。背光模組位於背框中。顯示面板位於背光模組上。顯示面板包括第一基板、下偏光片、第二基板、液晶層以及濾光元件。下偏光片位於第一基板上。第二基板面對第一基板。液晶層位於第一基板與第二基板之間。濾光元件位於第一基板與第二基板之間。蓋板位於液晶顯示模組之上。偏光結構位於蓋板以及第二基板之間。偏光結構包括多條柵線以及反射層。多條柵線覆蓋顯示區。反射層環繞柵線，且於垂直蓋板的方向上覆蓋顯示面板的側壁以及背框的側壁。
本發明的至少一實施例提供一種偏光結構的製造方法，包括：形成第一模具材料層於基板上；形成硬罩幕層於第一模具材料層上，硬罩幕層具有第一區以及環繞第一區的第二區，第二區的厚度大於第一區的厚度；形成圖案化的第一光阻材料層於硬罩幕層上；蝕刻硬罩幕層以及第一模具材料層，以形成第一模具；以第一模具為母模，形成第二模具；於蓋板上形成反射材料層；於反射材料層上形成第二光阻材料層；將第二模具的圖案轉印於第二光阻材料層上，以形成圖案化的第二光阻材料層；以及蝕刻反射材料層，以形成多條柵線以及環繞柵線的反射層。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A~圖1I是依照本發明的一實施例的一種顯示裝置的製造方法的上視示意圖。圖2A~圖2I分別是沿著圖1A~圖1I剖線aa’的剖面示意圖。
請參考圖1A與圖2A，形成第一模具材料層110於基板100上。在一些實施例中，第一模具材料層110的材料包括二氧化矽或其他可被蝕刻的材料。
形成硬罩幕層120於第一模具材料層110上，硬罩幕層120具有第一區A1以及環繞第一區A1的第二區A2，第二區A2的厚度T2大於第一區A1的厚度T1。硬罩幕層120包括第一罩幕層122以及第二罩幕層124。第一罩幕層122位於第二區A2中，且具有對應第一區A1的開口H。第二罩幕層124覆蓋第一罩幕層122，且位於開口H中。在本實施例中，第一區A1的厚度T1等於第二罩幕層124的厚度，第二區A2的厚度T2等於第一罩幕層122加上第二罩幕層124的厚度。在一些實施例中，第一罩幕層122與第二罩幕層124的材料包括鋁、鈦、鉬或其他合適的材料或上述材料的組合。形成第一光阻材料層130於硬罩幕層120上。
請參考圖1B與圖2B，圖案化第一光阻材料層130以形成圖案化的第一光阻材料層130a於硬罩幕層120上。在一些實施例中，圖案化的第一光阻材料層130a之塗佈厚度小於第一模具材料層110之厚度，舉例來說，圖案化的第一光阻材料層130a之塗佈厚度為第一模具材料層110之厚度的一半。換句話說，第一光阻材料層130之塗佈厚度為第一模具材料層110之厚度的一半，但本發明不以此為限。在本實施例中，圖案化第一光阻材料層130a的圖案化成形方法例如為奈米壓印（Nanoimprint Lithography,NIL）。在一些實施例中，第一罩幕層122的厚度與圖案化的第一光阻材料層130a的厚度之間的差值小於50奈米（例如介於10奈米~50奈米之間），且第二罩幕層124的厚度與圖案化的第一光阻材料層130a的厚度之間的差值小於50奈米（例如介於10奈米~50奈米之間），有助於執行後續形成偏光結構所需的蝕刻製程。
請參考圖1C與圖2C，蝕刻硬罩幕層120以及第一模具材料層110，以形成第一模具110a。在本實施例中，以硬罩幕層120以及圖案化的第一光阻材料層130a為罩幕，蝕刻第一模具材料層110以形成第一模具110a後，仍有部分硬罩幕層120（例如部分第一罩幕層122）殘留於第一模具110a上，但本發明不以此為限。在本實施例中，由於硬罩幕層120之第二區A2的厚度T2大於硬罩幕層120之第一區A1的厚度T1，第一模具110b會具有圖案不同的第一區B1以及第二區B2。對應第一區A1的第一區B1中有多個溝槽G1，而對應第二區A2的第二區B2中沒有溝槽。
請參考圖1D、圖1E、圖2D與圖2E，移除殘留於第一模具110a上的部分硬罩幕層120（例如部分第一罩幕層122）。以第一模具110a為母模，形成第二模具200。
在本實施例中，第二模具200包括基板210以及位於基板上的凸起結構220。第二模具200中凸起結構220的圖案是由第一模具110a翻印而來。舉例來說，第一模具110a具有圖案不同的第一區B1以及第二區B2，其中第一區B1中有多個溝槽G1。因此，第二模具200也會形成有圖案不同的第一區C1以及第二區C2，其中對應第一區B1的第一區C1中有多個溝槽G2，而對應第二區B2的第二區C2中沒有溝槽。
在一些實施例中，第二模具200包括軟性材料，但本發明不以此為限。在一些實施例中，基板210的材料包括聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate，PET）、玻璃、聚二甲基矽氧烷（Polydimethylsiloxane，PDMS）或其他合適的材質。在一些實施例中，凸起結構220的材料包括光阻、聚二甲基矽氧烷（Polydimethylsiloxane，PDMS）或其他合適的材質。
請參考圖1E~1G與圖2E~2G，於蓋板300上形成反射材料層310。於反射材料層310上形成第二光阻材料層320。將第二模具200的圖案轉印於第二光阻材料層320上，以形成圖案化的第二光阻材料層320a。在一些實施例中，圖案化的第二光阻材料層320a之塗佈厚度小於反射材料層310之厚度，舉例來說，圖案化的第二光阻材料層320a之塗佈厚度為反射材料層310之厚度的一半。換句話說，第二光阻材料層320之塗佈厚度為反射材料層310之厚度的一半，但本發明不以此為限。由於第二模具200具有圖案不同的第一區C1以及第二區C2，因此，圖案化的第二光阻材料層320a也會有圖案不同的第一區D1以及第二區D2，其中對應第一區C1的第一區D1中有多個溝槽G3，而對應第二區C2的第二區D2中沒有溝槽。
請參考圖1H與圖2H，以圖案化的第二光阻材料層320a為罩幕，蝕刻反射材料層310，以形成偏光結構310a。偏光結構310a包括多條柵線312以及環繞多條柵線312的反射層314。柵線312與反射層314例如一體成形。由於第二模具200具有圖案不同的第一區D1以及第二區D2，因此，偏光結構310a包括圖案不同的第一區E1以及第二區E2，其中對應第一區D1的第一區E1中有多條柵線312，而對應第二區D2的第二區E2中有反射層314。在一些實施例中，偏光結構310a的材料包括鋁、銀或其他可反光的材料。
在本實施例中，第一區E1的範圍約等於第一罩幕層122之開口H（繪於圖1A）的範圍。
為了方便說明，圖1I省略繪示了蓋板300，請參考圖1I與圖2I，將蓋板300以及偏光結構310a切割成預設的形狀，並將其貼於液晶顯示模組400上。將液晶顯示模組400、蓋板300以及偏光結構310a設置於該外殼500中。至此，顯示裝置10大致完成。
液晶顯示模組400具有顯示區AA以及連接顯示區AA的非顯示區BA。液晶顯示模組400包括背框410、背光模組420以及顯示面板430。背光模組420位於背框410中。顯示面板430位於背光模組420上。顯示面板430包括第一基板431、下偏光片432、第二基板436、液晶層437以及濾光元件438。下偏光片432位於第一基板431上。第二基板436面對第一基板431。液晶層437位於第一基板431與第二基板436之間。濾光元件438位於第一基板431與第二基板436之間。在本實施例中，第一基板431為畫素陣列基板，其包括了多個畫素結構。在一些實施例中，下偏光片432包括金屬線柵偏光片（Wire Grid Polarizer，WGP）或偏光膜。
蓋板300位於液晶顯示模組400上。偏光結構310a位於蓋板300以及第二基板436之間。偏光結構310a的柵線312覆蓋顯示區AA。反射層314環繞柵線312，且於垂直蓋板300的方向d1上覆蓋顯示面板430的側壁SW1以及背框410的側壁SW2。換句話說，至少從顯示面板430的側壁SW1至背框410的側壁SW2之間的區域會被反射層314所覆蓋，藉此能遮蔽液晶顯示模組400與反射層314之間的電路（未繪出）。在本實施例中，反射層314延伸超過背框410的側壁SW2，能更完整的遮蔽液晶顯示模組400與反射層314之間的電路（未繪出）。
在本實施例中，由於偏光結構310a包括反射層314，因此，不需要額外形成油墨層來遮蔽液晶顯示模組400與反射層314之間的電路，藉此降低液晶顯示模組400的製造成本。
在本實施例中，光學膠330連接偏光結構310a以及第二基板436。光學膠330位於顯示區AA與偏光結構310a的柵線312之間。藉由光學膠330的設置，顯示裝置10可以有較好的對比值。
在本實施例中，由於偏光結構310a的柵線312具有偏光片的功能，顯示面板430中不需要額外設置上偏光片，藉此能降低顯示面板430的製造成本。此外，由於節省了上偏光片，顯示裝置10可以有較高的穿透率。
在本實施例中，由於偏光結構310a的柵線312以及反射層314皆可以反射光線。因此，偏光結構310a可以作為鏡面鍍膜使用，用以反射外界的光線。在一些實施例中，顯示裝置10為電子後視鏡。
綜上所述，本發明顯示裝置的偏光結構可以作為偏光片以及鏡面鍍膜使用，除了能節省顯示裝置的製造成本外，還能使顯示裝置具有較高的穿透率。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10:顯示裝置100:基板110:第一模具材料層110a:第一模具120:硬罩幕層122:第一罩幕層124:第二罩幕層130:第一光阻材料層130a:圖案化的第一光阻材料層200:第二模具210:基板220:凸起結構300:蓋板310:反射材料層310a:偏光結構312:柵線314:反射層320:第二光阻材料層320a:圖案化的第二光阻材料層330:光學膠400:液晶顯示模組410:背框420:背光模組430:顯示面板431:第一基板432:下偏光片436:第二基板437:液晶層438:濾光元件500:外殼A1、B1、C1、D1、E1:第一區A2、B2、C2、D2、E2:第二區AA:顯示區BA:非顯示區d1:方向G1、G2、G3:溝槽H:開口SW1、SW2:側壁T1、T2:厚度
圖1A~圖1I是依照本發明的一實施例的一種顯示裝置的製造方法的上視示意圖。 圖2A~圖2I分別是沿著圖1A~圖1I剖線aa’的剖面示意圖。
10:顯示裝置
310a:偏光結構
312:柵線
314:反射層
330:光學膠
500:外殼
AA:顯示區

Claims (13)

  1. 一種顯示裝置，包括： 一液晶顯示模組，其中該液晶顯示模組具有一顯示區以及連接該顯示區的一非顯示區，且該液晶顯示模組包括： 一背框； 一背光模組，位於該背框中；以及 一顯示面板，位於該背光模組上，且該顯示面板包括： 一第一基板； 一下偏光片，位於該第一基板上； 一第二基板，面對該第一基板； 一液晶層，位於該第一基板與該第二基板之間；以及 一濾光元件，位於該第一基板與該第二基板之間； 一蓋板，位於該液晶顯示模組上；以及 一偏光結構，位於該蓋板以及該第二基板之間，其中該偏光結構包括： 多條柵線，覆蓋該顯示區；以及 一反射層，環繞該些柵線，且於垂直該蓋板的方向上覆蓋該顯示面板的側壁以及該背框的側壁。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，更包括一外殼，其中該液晶顯示模組設置於該外殼中。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該偏光結構的材料包括鋁或銀。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中更包括一光學膠，連接該偏光結構以及該第二基板，且該光學膠位於該顯示區以及該些柵線之間。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該顯示面板不具有上偏光片。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中該反射層延伸超過該背框的側壁。
  7. 一種偏光結構的製造方法，包括： 形成一第一模具材料層於一基板上； 形成一硬罩幕層於該第一模具材料層上，該硬罩幕層具有一第一區以及環繞該第一區的一第二區，該第二區的厚度大於該第一區的厚度； 形成一圖案化的第一光阻材料層於該硬罩幕層上； 蝕刻該硬罩幕層以及該第一模具材料層，以形成一第一模具； 以該第一模具為母模，形成一第二模具； 於一蓋板上形成一反射材料層； 於該反射材料層上形成一第二光阻材料層； 將該第二模具的圖案轉印於該第二光阻材料層上，以形成一圖案化的第二光阻材料層；以及 蝕刻該反射材料層，以形成多條柵線以及環繞該些柵線的一反射層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的製造方法，其中該硬罩幕層的材料包括鋁、鈦、鉬或上述材料之組合。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的製造方法，其中該第一模具材料層的材料包括二氧化矽。
  10. 如申請專利範圍第7項所述的製造方法，其中該硬罩幕層包括： 一第一罩幕層，位於該第二區中，且具有對應該第一區的一開口；以及 一第二罩幕層，覆蓋該第一罩幕層，且位於該開口中。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的製造方法，其中該第一罩幕層的厚度與該圖案化的第一光阻材料層的厚度之間的差值小於50奈米，且該第二罩幕層的厚度與該圖案化的第一光阻材料層的厚度之間的差值小於50奈米。
  12. 如申請專利範圍第7項所述的製造方法，其中該圖案化的第一光阻材料層之塗佈厚度為該第一模具材料層之厚度的一半。
  13. 如申請專利範圍第7項所述的製造方法，其中該圖案化的第二光阻材料層之塗佈厚度為該反射材料層之厚度的一半。
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