TW202017208A - 顯示裝置的製造方法 - Google Patents

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尹正勳
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Abstract

一種顯示裝置的製造方法包括：將多個無機發光二極體安裝於基板上；形成黑色模製層，所述黑色模製層具有低的折射率且被配置成環繞所述多個無機發光二極體，使得所述多個無機發光二極體的朝向所述顯示裝置的前側的前發光表面被暴露出；以及將各自包括所述基板、所述多個無機發光二極體及所述黑色模製層的多個單元模組彼此相鄰地組裝。

Description

顯示裝置以及其製造方法
本揭露是有關於一種顯示裝置以及其製造方法，且更具體而言，是有關於一種其中無機發光二極體直接安裝於基板上的顯示裝置以及其製造方法。 [相關申請案的交叉參考]
本申請案是基於在2018年9月10日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2018-0107686號且根據35 U.S.C. §119主張所述韓國專利申請案的優先權，所述韓國專利申請案的揭露內容全文併入本案供參考。
顯示裝置是一種可視地顯示資料資訊（例如字符及圖以及影像）的輸出元件，且對高亮度、高解析度、大的尺寸（size）、高效率及低功率顯示裝置的需求不斷增加。因此，有機發光二極體（Organic Light Emitting Diode，OLED）面板已作為取代液晶顯示器（Liquid Crystal Display，LCD）的新顯示裝置而受到歡迎，但OLED具有一些欲解決的困難，例如由低生產良率引起的高的價格、確保尺寸大的面板的可靠性以及確保受外部環境（例如濕度）影響的耐久性。
作為取代或補充LCD面板及OLED面板的新產品，已經進行了藉由在基板上直接安裝發射紅（red，R）光、綠（green，G）光及藍（blue，B）光的無機發光二極體來製造面板的新技術的研究。無機發光顯示技術在將具有數微米至數百微米的尺寸的無機發光二極體自晶圓轉移至基板的過程中具有諸多困難。然而，即使在將無機發光二極體安裝於基板上之後，在沒有光學畸變（optical distortion）及光學損耗的情況下在實體地保護無機發光二極體方面仍然存在困難。此外，除了用於簡單地保護無機發光二極體的技術之外，亦需要可改善影像品質的技術。
本揭露的一個態樣是提供一種顯示裝置以及其製造方法，所述顯示裝置包括能夠提高無機發光二極體的結合可靠性並能夠降低由以傾斜狀態安裝於基板上的無機發光二極體引起的散斑雜訊（speckle noise）的改善結構。
本揭露的另一態樣是提供一種顯示裝置以及其製造方法，所述顯示裝置包括能夠減小右視角及左視角並且能夠防止彼此相鄰的單元模組之間的接縫被看到的改善結構。
本揭露的附加態樣將部分地在以下說明中闡述，且將自所述說明中部分地顯而易見，或者可藉由本揭露的實踐來習得。
根據本揭露的一個態樣，一種顯示裝置的製造方法包括：將多個無機發光二極體安裝於基板上；形成黑色模製層，所述黑色模製層具有低的折射率且被配置成環繞所述多個無機發光二極體，使得所述多個無機發光二極體的朝向所述顯示裝置的前側的前發光表面被暴露出；以及將各自包括所述基板、所述多個無機發光二極體及所述黑色模製層的多個單元模組彼此相鄰地組裝。
所述多個無機發光二極體的側表面可被所述黑色模製層覆蓋。
所述黑色模製層可具有為1.40或以上且1.58或以下的折射率。
所述黑色模製層可包含熱固性材料及感光性材料中的至少一者。
所述熱固性材料可包括矽、環氧樹脂、乙烯-醋酸乙烯共聚物（ethylene-vinyl acetate copolymer，EVA）、聚乙烯醇縮丁醛（polyvinyl butyral，PVB）及胺基甲酸乙酯中的至少一者。
所述多個無機發光二極體的寬度及長度各自可具有數微米至數百微米的尺寸。
所述多個無機發光二極體的第一接觸電極及第二接觸電極可藉由焊接連接至所述基板的電極。
所述形成所述黑色模製層可包括：藉由將黑色模製液體供應至所述基板上而形成所述黑色模製層；以及將所述黑色模製層固化。
所述形成所述黑色模製層可包括：藉由在所述基板上佈置黑色膜以覆蓋所述多個無機發光二極體來形成所述黑色模製層；以及使所述黑色模製層暴露至光，使得所述多個無機發光二極體的所述前發光表面暴露在外。
所述製造方法可更包括：在所述黑色模製層上佈置透明模製層，以保護所述多個無機發光二極體。
所述製造方法可更包括：在所述透明模製層上佈置黑色光學膜，以改善所述多個無機發光二極體的光學特性。
所述製造方法可更包括：形成所述黑色模製層以覆蓋所述基板；藉由切割所述黑色模製層的置於所述基板之外的多餘部分而形成所述多個單元模組的組裝表面；以及組裝所述多個單元模組，使得所述組裝表面面對彼此。
所述製造方法可更包括：與所述基板相鄰地佈置擋壩（dam）；以及在由所述基板與所述擋壩界定的空間中形成所述黑色模製層。
所述製造方法可更包括：將所述黑色模製層固化；移除所述擋壩；以及組裝所述多個單元模組，使得由所述擋壩形成的所述多個單元模組的組裝表面面對彼此。
所述將所述多個單元模組彼此相鄰地組裝可包括將所述多個單元模組佈置成矩陣形式。
根據本揭露的另一態樣，一種顯示裝置包括多個單元模組及被配置成支撐所述多個單元模組的框架，且所述多個單元模組中的每一者包括基板、安裝於所述基板上的多個無機發光二極體以及黑色模製層，所述黑色模製層具有低的折射率且被配置成環繞所述多個無機發光二極體的側表面，使得由所述多個無機發光二極體產生的光藉由所述多個無機發光二極體的朝向所述顯示裝置的前側的前發光表面發射。
所述黑色模製層可具有為1.40或以上且1.58或以下的折射率。
所述黑色模製層可包含熱固性材料及感光性材料中的至少一者。
所述多個無機發光二極體的寬度及長度各自可具有數微米至數百微米的尺寸。
所述多個單元模組可組裝至彼此且可佈置成矩陣形式。
在下文中，將參照圖式闡述本揭露的實施例。在以下詳細說明中，用語「前端」、「後端」、「上部部分」、「下部部分」、「上端」、「下端」等可由圖式界定，但組件的形狀及位置不受所述用語的限制。
圖1是根據本揭露實施例的顯示裝置的立體圖。在圖1中，「X」代表前後方向，「Y」代表左右方向，且「Z」代表上下方向。
參照圖1，顯示裝置1是用於將資訊、材料及資料顯示為字符、特徵、圖形及影像的形式的元件，且電視（television，TV）、個人電腦（personal computer，PC）、行動裝置（mobile）及數位標牌（digital signage）可由顯示裝置1實施。顯示裝置1可藉由支架（未示出）裝設於地面上，或者可裝設於壁上。
根據實施例，顯示裝置1可包括機櫃10、裝設於機櫃10中的多個單元模組30A至30L以及將機櫃10連接至所述多個單元模組30A至30L的框架21及22。機櫃10可支撐所述多個單元模組30A至30L並形成顯示裝置1的外觀的一部分。機櫃10可設置有用於行動的手柄12。
所述多個單元模組30A至30L可在上、下、左、右方向上佈置成M * N矩陣，以彼此相鄰。根據實施例，所述多個單元模組30A至30L可以12個單元模組以4 * 3矩陣的形式耦合至機櫃10的方式形成，但多個單元模組的數目及佈置方式並非僅限於此。所述多個單元模組30A至30L中的一些單元模組30A至30F可經由框架21裝設於機櫃10中，且剩餘的單元模組30G至30L可經由另一框架22裝設於機櫃10中。
機櫃10以及框架21及22可分別設置有機櫃耦合部分11及框架耦合部分23，以使單元模組30A至30L裝設於機櫃10中。機櫃耦合部分11及框架耦合部分23可藉由各種已知方法（例如，使用磁體的磁力或機械適配結構）彼此耦合。
顯示裝置1可更包括用於驅動所述多個單元模組30A至30L的控制板（未示出）及用於向所述多個單元模組30A至30L供電的電源元件（未示出）。
單元模組30A至30L可為平面的或彎曲的。此外，單元模組30A至30L的曲率可變化。
圖2是示出根據本揭露實施例的多個單元模組佈置成矩陣的狀態的正視圖。圖3是根據本揭露實施例的單個單元模組的正視圖。
如圖2及圖3所示，單元模組30A至30L各自可包括基板40及安裝於基板40的安裝表面41（參見圖5A）上的多個無機發光二極體50。所述多個無機發光二極體50中的每一者可包括p-n二極體、第一接觸電極58（參見圖5A）及第二接觸電極59（參見圖5A）。
基板40可由例如聚醯亞胺（polyimide，PI）、FR4及玻璃等材料形成。在基板40的安裝表面41上，可形成用於形成驅動電路的圖案及電極42（參見圖5A）。所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59可焊接至形成於基板40上的電極42。
無機發光二極體50可由無機材料形成。因此，無機發光二極體50可具有較基於有機材料的有機發光二極體（OLED）高的耐久性及長的壽命，且無機發光二極體50可具有較OLED的功率效率高數倍的功率效率。無機發光二極體50可包括發光二極體。
所述多個無機發光二極體50可包括紅色無機發光二極體51、綠色無機發光二極體52及藍色無機發光二極體53。所述多個無機發光二極體50可藉由將一系列紅色無機發光二極體51、綠色無機發光二極體52及藍色無機發光二極體53作為一個單元安裝於基板40上來形成。紅色無機發光二極體51、綠色無機發光二極體52及藍色無機發光二極體53可形成單個畫素。
如圖式中所示，紅色無機發光二極體51、綠色無機發光二極體52及藍色無機發光二極體53可以預定間隔佈置成列，但亦可以其他形式佈置。
所述多個無機發光二極體50可自晶圓拾取並直接轉移至基板40上。所述多個無機發光二極體50可藉由使用靜電頭的靜電方法或者使用彈性聚合物（例如聚二甲基矽氧烷（polydimethylsiloxane，PDMS）或矽）作為頭的結合方法來拾取並轉移。所述多個無機發光二極體50的寬度、長度及高度各自可具有數微米至數百微米的尺寸。
所述多個無機發光二極體50可以倒裝晶片形式形成，其中第一接觸電極58與第二接觸電極59佈置於同一方向上。所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59可藉由焊接連接至基板40的電極42。
圖4是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第一製造方法的流程圖。在下文中，將參照圖5A至圖5E闡述第一製造方法。
如圖4所示，顯示裝置1的製造方法可包括將所述多個無機發光二極體50安裝於基板40上（S1）。在此種情形中，可藉由焊接將所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59連接至基板40的電極42。
顯示裝置1的製造方法可更包括藉由將黑色模製液體120供應至基板40上以環繞所述多個無機發光二極體50的側表面50b來形成黑色模製層100（S2）。
顯示裝置1的製造方法可更包括將黑色模製層100固化（S3）。
顯示裝置1的製造方法可更包括在黑色模製層100上佈置透明模製層200（S4）。
顯示裝置1的製造方法可更包括在透明模製層200上佈置黑色光學膜300（S5）。
顯示裝置1的製造方法可更包括將各自包括基板40、所述多個無機發光二極體50、黑色模製層100、透明模製層200及黑色光學膜300的所述多個單元模組30A至30L彼此相鄰地組裝（S6）。
在下文中，將詳細闡述顯示裝置1的第一製造方法。
圖5A至圖5E是示出根據圖4所示第一製造方法的製造製程的視圖。在下文中，為便於說明，將主要闡述紅色無機發光二極體51、綠色無機發光二極體52及藍色無機發光二極體53安裝於基板40上的狀態。在下文中，將省略示出將所述多個單元模組30A至30L組裝至彼此的圖式。
如圖5A所示，所述多個無機發光二極體50可安裝於基板40上。所述多個無機發光二極體50可在基板40的安裝表面41上被安裝成以預定距離彼此間隔開。所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59可藉由焊料60連接至形成於基板40上的電極42。
如圖5B及圖5C所示，黑色模製層100可被形成為環繞基板40上的所述多個無機發光二極體50。黑色模製層100可形成於基板40上，以環繞所述多個無機發光二極體50的側表面50b。換言之，可在基板40上形成黑色模製層100，以使得所述多個無機發光二極體50的朝向顯示裝置1的前側的前發光表面50a被暴露出。亦即，黑色模製層100可被形成為環繞所述多個無機發光二極體50的除了所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a之外的側表面50b。
如圖5B所示，黑色模製液體120可被供應至基板40以形成黑色模製層100。黑色模製液體120可藉由模製液體供應器130施加、塗佈或噴射至基板40上。黑色模製液體120可藉由模製液體供應器130印刷於基板40上。將黑色模製液體120供應至基板40的方法並非僅限於以上實例，且因此所述方法可發生變化。
如圖5C所示，黑色模製層100可形成於基板40上，以使得黑色模製層100覆蓋所述多個無機發光二極體50的除了所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a之外的其他表面，且接著可將黑色模製層100固化。舉例而言，黑色模製層100可藉由熱固化及紫外線固化中的至少一者來固化。
如圖5D所示，透明模製層200可佈置於黑色模製層100上以保護所述多個無機發光二極體50。透明模製層200可設置於黑色模製層100上以在實體上保護所述多個無機發光二極體50而不發生光學畸變。作為實例，透明模製層200可由透明材料（例如環氧樹脂或矽酮）形成。
如圖5E所示，黑色光學膜300可設置於透明模製層200上以改善所述多個無機發光二極體50的光學特性。黑色光學膜300可被佈置成當顯示裝置1關閉時維持黑色模印（impression）並降低反射率。作為實例，黑色光學膜300可包括中性密度（neutral density，ND）膜、圓偏振膜（circularly polarizing film）及能夠使用液體塗層呈現黑色模印的膜。
黑色模製層100可具有低的折射率。黑色模製層100可具有為1.40或以上且1.58或以下的折射率。舉例而言，當黑色模製層100由環氧樹脂材料形成時，黑色模製層100可具有為1.50或以上且1.58或以下的折射率。當黑色模製層100由環氧樹脂材料形成時，黑色模製層100可具有為1.50或以上且1.51或以下的折射率。作為另一實例，當黑色模製層100由矽材料形成時，黑色模製層100可具有為1.40或以上且1.58或以下的折射率。當黑色模製層100由矽材料形成時，黑色模製層100具有為1.40或以上且1.51或以下的折射率。
黑色模製層100可包含基材及黑色顏料。基材可包括熱固性材料及感光性材料中的至少一者。作為實例，熱固性材料可包括矽、環氧樹脂、乙烯-醋酸乙烯共聚物（EVA）、聚乙烯醇縮丁醛（PVB）、或胺基甲酸乙酯中的至少一者。作為實例，感光性材料可包括能夠利用微影製程的感光性材料。
黑色模製層100可由液體材料或固體材料實施。圖5A至圖5E所述黑色模製液體120示出用於形成黑色模製層100的液體材料的實例。作為另一選擇，黑色模製層100可由呈膜形式的材料實施。然而，黑色模製層100的材料並非僅限於此，且因此黑色模製層100的材料可發生變化。
如上所述，當所述多個無機發光二極體50的側表面50b被具有低的折射率的黑色模製層100覆蓋時，可高效地降低由所述多個無機發光二極體50的傾斜引起的散斑雜訊。散斑雜訊是顯示裝置的螢幕根據角度看起來發亮的現象。舉例而言，在所述多個無機發光二極體50的側表面50b被折射率為1.48的黑色模製層環繞的狀態下，光可發射至顯示裝置的外部，且因此當所述多個無機發光二極體50傾斜時可能出現散斑雜訊。另一方面，在所述多個無機發光二極體50的側表面50b被折射率為1.58的黑色模製層環繞的狀態下，光可能不會發射至顯示裝置的外部，且因此儘管所述多個無機發光二極體50傾斜，可能亦不會出現散斑雜訊。
當所述多個無機發光二極體50的側表面50b被黑色模製層100覆蓋時，所述多個無機發光二極體50的發光區可自所述多個無機發光二極體50的後端部分改變至所述多個無機發光二極體50的前端部分。亦即，當所述多個無機發光二極體50的側表面50b被黑色模製層100覆蓋時，自所述多個無機發光二極體50產生的光可能被黑色模製層100阻擋，且因此光可能不會藉由所述多個無機發光二極體50的側表面50b發射至顯示裝置1的外部。因此，光可藉由所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a發射至顯示裝置1的外部。因此，左右視角可減小，且可防止相鄰單元模組之間的接縫被看到。
當焊料60亦形成為具有如同黑色模製層100一樣的黑色時，可在顯示裝置1的關斷狀態下維持黑色模印，且期望在顯示裝置1的接通狀態下影像品質對比度（quality contrast ratio）提高。
圖6是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第二製造方法的流程圖。在下文中，將參照圖7A至圖7E闡述第二製造方法。
如圖6所示，顯示裝置1的製造方法可包括將所述多個無機發光二極體50安裝於基板40上（P1）。在此種情形中，可藉由焊接將所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59連接至基板40的電極42。
顯示裝置1的製造方法可更包括藉由在基板40上佈置黑色膜140以覆蓋所述多個無機發光二極體50來形成黑色模製層100（P2）。在此種情形中，可將黑色膜140層疊於基板40上以覆蓋所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a及側表面50b二者。
顯示裝置1的製造方法可更包括使黑色模製層100暴露至光，使得所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a暴露在外（P3）。顯示裝置1的製造方法可更包括對黑色模製層100進行曝光及顯影，以使所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a被暴露出。
顯示裝置1的製造方法可更包括在黑色模製層100上佈置透明模製層200（P4）。
顯示裝置1的製造方法可更包括在透明模製層200上佈置黑色光學膜300（P5）。
顯示裝置1的製造方法可更包括將各自包括基板40、所述多個無機發光二極體50、黑色模製層100、透明模製層200及黑色光學膜300的所述多個單元模組30A至30L彼此相鄰地組裝（P6）。
在下文中，將詳細闡述顯示裝置1的第二製造方法。
圖7A至圖7E是示出根據圖6所示第二製造方法的製造製程的視圖。在下文中，將省略與顯示裝置1的第一製造方法相同的說明。在下文中，將省略將所述多個單元模組30A至30L組裝於一起的圖式。
如圖7A所示，所述多個無機發光二極體50可安裝於基板40上。其說明與圖5A所示說明相同，且因此將其省略。
如圖7B及圖7C所示，黑色模製層100可形成於基板40上以覆蓋所述多個無機發光二極體50。黑色模製層100可形成於基板40上以完全覆蓋所述多個無機發光二極體50，即，黑色模製層100可形成於基板40上以環繞所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a及側表面50b二者。
如圖7B所示，黑色模製層100可以黑色膜140的形式實施。黑色膜140可設置於基板40上以覆蓋所述多個無機發光二極體50。此時，自所述多個無機發光二極體50產生的光被覆蓋所述多個無機發光二極體50的四個側面的黑色膜140阻擋，且因此光可能不會發射至顯示裝置1的外部。
如圖7C所示，可對黑色膜140進行曝光，以使所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a被曝光，且因此黑色模製層100可藉由曝光操作及顯影操作形成。此時，自所述多個無機發光二極體50產生的光可藉由所述多個無機發光二極體50的前發光表面50a發射至顯示裝置1的外部。
如圖7D所示，透明模製層200可佈置於黑色模製層100上以保護所述多個無機發光二極體50。其說明與圖5D所示說明相同，且因此將省略。
如圖7E所示，黑色光學膜300可設置於透明模製層200上以改善所述多個無機發光二極體50的光學特性。其說明與圖5E所示說明相同，且因此將其省略。
圖8是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第三製造方法的流程圖，且圖9A至圖9D是示出根據圖8所示第三製造方法的製造製程的視圖。顯示裝置1的第三製造方法是藉由組裝由顯示裝置1的第一製造方法製造的多個單元模組30A至30L來製造顯示裝置1的方法。在下文中，為便於說明，將主要闡述藉由顯示裝置1的第一製造方法製造的所述多個單元模組30A至30L，但作為另一選擇，所述多個單元模組30A至30L亦可藉由顯示裝置1的第二製造方法製造。在下文中，對於圖9A至圖9D未示出的參考編號，可參照圖1至圖5E。在下文中，將闡述組裝單元模組30A與單元模組30D的情形作為實例。
如圖8所示，顯示裝置1的製造方法可包括將所述多個無機發光二極體50安裝於基板40上（K1）。在此種情形中，可藉由焊接將所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59連接至基板40的電極42。
如圖8及圖9A所示，顯示裝置1的製造方法可更包括藉由將黑色模製液體120供應至基板40上以環繞所述多個無機發光二極體50的側表面50b來形成黑色模製層100（K2）。黑色模製液體120可被供應於基板40上直至溢出。亦即，黑色模製液體120可被充分供應於基板40上直至自基板40溢出。
顯示裝置1的製造方法可更包括將黑色模製層100固化（K3）。
如圖8及圖9B所示，顯示裝置1的製造方法可更包括藉由切割黑色模製層100的置於基板40之外的多餘部分102而形成所述多個單元模組30A至30L的組裝表面110（K4）。所述多個單元模組30A至30L的組裝表面110可為平坦的。
如圖8及圖9C所示，顯示裝置1的製造方法可更包括在黑色模製層100上佈置透明模製層200（K5）。
如圖8及圖9C所示，顯示裝置1的製造方法可更包括在透明模製層200上佈置黑色光學膜300（K6）。
如圖8及圖9D所示，顯示裝置1的製造方法可更包括組裝所述多個單元模組30A至30L，使得各個組裝表面110面對彼此（K7）。將所述多個單元模組30A至30L彼此相鄰地組裝可包括將多個單元模組30A至30L佈置成矩陣形式。在彼此組裝的所述多個單元模組30A至30L之間可形成接縫G，但自所述多個無機發光二極體50產生的光可被覆蓋無機發光二極體50的側表面50b的黑色模製層100阻擋，且因此自顯示裝置1的外部可看不到接縫G。亦即，在不進行用於移除所述多個單元模組30A至30L之間的接縫G的單獨製程的情形中，可防止接縫G被使用者注意到。
圖10是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第四製造方法的流程圖，且圖11A至圖11D是示出根據圖10所示第四製造方法的製造製程的視圖。顯示裝置1的第四製造方法是藉由組裝由顯示裝置1的第一製造方法製造的多個單元模組30A至30L來製造顯示裝置1的方法。在下文中，為便於說明，將主要闡述藉由顯示裝置1的第一製造方法製造的所述多個單元模組30A至30L，但作為另一選擇，所述多個單元模組30A至30L亦可藉由顯示裝置1的第二製造方法製造。在下文中，對於圖11A至圖11D未示出的參考編號，可參照圖1至圖5E。在下文中，將闡述組裝單元模組30A與單元模組30D的情形作為實例。
如圖10所示，顯示裝置1的製造方法可包括將所述多個無機發光二極體50安裝於基板40上（M1）。在此種情形中，可藉由焊接將所述多個無機發光二極體50的第一接觸電極58及第二接觸電極59連接至基板40的電極42。
如圖10及圖11A所示，顯示裝置1的製造方法可更包括與基板40相鄰地佈置擋壩400（M2）。擋壩400可被佈置成與基板40的相對端緊密接觸。
如圖10及圖11A所示，顯示裝置1的製造方法可更包括藉由將黑色模製液體120供應至由基板40與擋壩400界定的空間來形成黑色模製層100（M3）。黑色模製液體120可供應於基板40上，以使黑色模製液體120環繞所述多個無機發光二極體50的側表面50b且前發光表面50a被暴露出。
如圖10及圖11B所示，顯示裝置1的製造方法可更包括將黑色模製層100固化及移除擋壩400（M4）。所述多個單元模組30A至30L的組裝表面110可被界定為固化的黑色模製層100的與擋壩400接觸的一個表面。因此，所述多個單元模組30A至30L的組裝表面110可具有與擋壩400對應的形狀。所述多個單元模組30A至30L的組裝表面110可具有平坦的形狀。
如圖10及圖11C所示，顯示裝置1的製造方法可更包括在黑色模製層100上佈置透明模製層200（M5）。
如圖10及圖11C所示，顯示裝置1的製造方法可更包括在透明模製層200上佈置黑色光學膜300（M6）。
如圖10及圖11D所示，顯示裝置1的製造方法可更包括組裝所述多個單元模組30A至30L，使得各個組裝表面110面對彼此（M7）。其說明與圖5D所示說明相同，且因此將其省略。
如自以上說明中顯而易見，藉由在基板上佈置具有低的折射率的黑色模製層以環繞無機發光二極體，可提高無機發光二極體的結合可靠性並高效地降低散斑雜訊。
當黑色模製層被形成為環繞無機發光二極體的側表面時，自無機發光二極體產生的光可被黑色模製層阻擋，且因此光難以藉由無機發光二極體的側表面發射至顯示裝置的外部。因此，可預期減小顯示裝置的左右視角的效果，且可高效地防止彼此相鄰的單元模組之間的接縫被看到。
儘管已示出及闡述了本揭露的若干實施例，但此項技術中具有通常知識者應理解，在不背離本揭露的原理及精神的條件下，可對該些實施例作出改變，本揭露的範圍由申請專利範圍及其等效範圍界定。
1:顯示裝置 10:機櫃 11:機櫃耦合部分 12:手柄 21、22:框架 23:框架耦合部分 30A、30B、30C、30D、30E、30F、30G、30H、30I、30J、30K、30L:單元模組 40:基板 41:安裝表面 42:電極 50:無機發光二極體 50a:前發光表面 50b:側表面 51:紅色無機發光二極體 52:綠色無機發光二極體 53:藍色無機發光二極體 58:第一接觸電極 59:第二接觸電極 60:焊料 100:黑色模製層 102:多餘部分 110:組裝表面 120:黑色模製液體 130:模製液體供應器 140:黑色膜 200:透明模製層 300:黑色光學膜 400:擋壩 G:接縫 K1、K2、K3、K4、K5、K6、K7、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、P1、P2、P3、P4、P5、P6、S1、S2、S3、S4、S5、S6:步驟 X:前後方向 Y:左右方向 Z:上下方向
結合所附圖式閱讀以下實施例的說明，本揭露的該些及/或其他態樣將變得顯而易見且更容易理解，在所附圖式中： 圖1是根據本揭露實施例的顯示裝置的立體圖。 圖2是示出根據本揭露實施例的多個單元模組佈置成矩陣的狀態的正視圖。 圖3是根據本揭露實施例的單個單元模組的正視圖。 圖4是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第一製造方法的流程圖。 圖5A至圖5E是示出根據圖4所示第一製造方法的製造製程的視圖。 圖6是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第二製造方法的流程圖。 圖7A至圖7E是示出根據圖6所示第二製造方法的製造製程的視圖。 圖8是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第三製造方法的流程圖。 圖9A至圖9D是示出根據圖8所示第三製造方法的製造製程的視圖。 圖10是示出根據本揭露實施例的顯示裝置的第四製造方法的流程圖。 圖11A至圖11D是示出根據圖10所示第四製造方法的製造製程的視圖。
40:基板
41:安裝表面
42:電極
50a:前發光表面
50b:側表面
51:紅色無機發光二極體
52:綠色無機發光二極體
53:藍色無機發光二極體
58:第一接觸電極
59:第二接觸電極
60:焊料
100:黑色模製層
120:黑色模製液體
200:透明模製層
300:黑色光學膜

Claims (15)

  1. 一種顯示裝置的製造方法，包括： 將多個無機發光二極體安裝於基板上； 形成黑色模製層，所述黑色模製層具有低的折射率且被配置成環繞所述多個無機發光二極體，使得所述多個無機發光二極體的朝向所述顯示裝置的前側的前發光表面被暴露出來；以及 將各自包括所述基板、所述多個無機發光二極體及所述黑色模製層的多個單元模組彼此相鄰地組裝。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中 所述多個無機發光二極體的側表面被所述黑色模製層覆蓋。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中 所述黑色模製層具有1.40或以上且1.58或以下的折射率。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中 所述黑色模製層包含熱固性材料及感光性材料中的至少一者。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的製造方法，其中 所述熱固性材料包括矽、環氧樹脂、乙烯-醋酸乙烯共聚物（EVA）、聚乙烯醇縮丁醛（PVB）及胺基甲酸乙酯中的至少一者。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中 所述多個無機發光二極體的寬度及長度各自具有數微米至數百微米的尺寸。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中 所述多個無機發光二極體的第一接觸電極及第二接觸電極藉由焊接連接至所述基板的電極。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中形成所述黑色模製層包括： 藉由將黑色模製液體供應至所述基板上而形成所述黑色模製層；以及 將所述黑色模製層固化。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中形成所述黑色模製層包括： 藉由在所述基板上佈置黑色膜以覆蓋所述多個無機發光二極體來形成所述黑色模製層；以及 使所述黑色模製層暴露至光，使得所述多個無機發光二極體的所述前發光表面暴露在外。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，更包括： 在所述黑色模製層上佈置透明模製層，以保護所述多個無機發光二極體。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的製造方法，更包括： 在所述透明模製層上佈置黑色光學膜，以改善所述多個無機發光二極體的光學特性。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，更包括： 形成所述黑色模製層以覆蓋所述基板； 藉由切割所述黑色模製層的置於所述基板之外的多餘部分而形成所述多個單元模組的組裝表面；以及 組裝所述多個單元模組，使得所述組裝表面面對彼此。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，更包括： 與所述基板相鄰地佈置擋壩；以及 在由所述基板與所述擋壩界定的空間中形成所述黑色模製層。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的製造方法，更包括： 將所述黑色模製層固化； 移除所述擋壩；以及 組裝所述多個單元模組，使得由所述擋壩形成的所述多個單元模組的組裝表面面對彼此。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中將所述多個單元模組彼此相鄰地組裝包括將所述多個單元模組佈置成矩陣形式。
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