TW202016577A - 附蓋玻璃之光學積層體及附蓋玻璃之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種裂痕經抑制之附蓋玻璃之光學積層體及包含所述附蓋玻璃之光學積層體的附蓋玻璃之影像顯示裝置。本發明之附蓋玻璃之光學積層體依序具有蓋玻璃、第1黏著劑層、光學薄膜與第2黏著劑層,且第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’與第2黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’的比G1 ’/G2 ’為1以上。本發明之附蓋玻璃之影像顯示裝置具有顯示單元與本發明附蓋玻璃之光學積層體,且該附蓋玻璃之光學積層配置於顯示單元之視辨側。

Description

附蓋玻璃之光學積層體及附蓋玻璃之影像顯示裝置
本發明涉及附蓋玻璃之光學積層體及附蓋玻璃之影像顯示裝置。
發明背景 手機、筆記型個人電腦等影像顯示裝置為了實現影像顯示及/或提高該影像顯示性能,係使用各種光學積層體(例如偏光板)。光學積層體在裁切成預定形狀後,有時會供於進行藉由切削裁切面所行之精加工。並且,近年有時會期望將光學積層體進行加工(異形加工)成矩形外之形狀。所述切削加工中,有時會利用端銑刀進行切削。然而,利用端銑刀進行切削加工之光學積層體會有產生裂痕之情形。並且,光學積層體有時會在已積層蓋玻璃之狀態(附蓋玻璃之光學積層體)下提供,因此附蓋玻璃之光學積層體亦會有產生裂痕之情形。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本特開2007-187781號公報 專利文獻2:日本特開2018-022140號公報
發明概要 發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往課題而成者,其主要目的在於提供裂痕經抑制之附蓋玻璃之光學積層體及包含所述附蓋玻璃之光學積層體的附蓋玻璃之影像顯示裝置。
用以解決課題之方法 本發明之附蓋玻璃之光學積層體依序具有蓋玻璃、第1黏著劑層、光學薄膜與第2黏著劑層,且該第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’與該第2黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’的比G1 ’/G2 ’為1以上。 在一實施形態中,上述第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’在5.0×106 (Pa)以上。 在一實施形態中,上述附蓋玻璃之光學積層體包含切削端面且該切削端面係至少上述光學薄膜及上述第2黏著劑層具有切削痕者。 在一實施形態中,上述經切削加工之部分在俯視時包含凹部。 在一實施形態中,上述光學薄膜包含偏光件。在一實施形態中,上述光學薄膜於上述偏光件的上述第1黏著劑層側更具有保護薄膜。 在一實施形態中,上述保護薄膜上形成有硬塗層。 在一實施形態中,上述保護薄膜在25℃下之斷裂延伸率為2mm以上。 根據本發明之另一面向,可提供一種附蓋玻璃之影像顯示裝置。該附蓋玻璃之影像顯示裝置具有顯示單元與上述附蓋玻璃之光學積層體,且該附蓋玻璃之光學積層配置於該顯示單元之視辨側。
發明效果 根據本發明之實施形態,係針對附蓋玻璃之光學積層體,令用來貼合蓋玻璃與光學薄膜之黏著劑層的儲存彈性模數為用來將光學積層體貼合至顯示單元之黏著劑層的儲存彈性模數以上,藉此可抑制裂痕(實質上為光學薄膜之裂痕:尤其是熱循環試驗後之裂痕)。
用以實施發明之形態 以下參照圖就本發明具體實施形態進行說明,惟本發明不受該等實施形態限定。此外,為了便於觀看而示意顯示圖式,並且圖式中之長度、寬度、厚度等比率以及角度等與實際有所差異。
A.光學積層體 圖1係用以說明本發明之一實施形態的附蓋玻璃之光學積層體的概略截面圖。圖式例之附蓋玻璃之光學積層體100依序具有蓋玻璃110、第1黏著劑層120、光學薄膜130與第2黏著劑層140。在實際應用上,於第2黏著劑層140之表面係以可剝離之方式暫時黏附有分離件150。本發明附蓋玻璃之光學積層體可適宜應用於附蓋玻璃之影像顯示裝置。
本發明實施形態之附蓋玻璃之光學積層體在代表上係經切削加工,因此包含切削端面,而可具有切削痕。附蓋玻璃之光學積層體可整體經切削加工,亦可為構成要素之一部分經切削加工。若為構成要素之一部分經切削加工,則舉例而言為光學薄膜130與第2黏著劑層140(在實際應用上與分離件150)的積層體經切削加工後,該經切削加工之積層體可透過第1黏著劑層120貼合至蓋玻璃110。在一實施形態中,附蓋玻璃之光學積層體係如圖2所示,經切削加工之部分在俯視時具有凹部160。在如所述之凹部會顯著產生裂痕,但根據本發明之實施形態,即使在如所述之凹部仍可良好抑制裂痕。
光學薄膜130可舉可用於需進行切削加工之用途上之任意適當的光學薄膜。光學薄膜可為單層構成之薄膜亦可為積層體。光學薄膜之具體例可舉偏光件、相位差薄膜、偏光板(代表上為偏光件與保護薄膜之積層體)、觸控面板用導電性薄膜、表面處理薄膜、以及將該等因應目的適當積層而成之積層體(例如抗反射用圓偏光板、附觸控面板用導電層之偏光板)。根據本發明之實施形態,尤其在含有偏光件這般容易收縮之光學薄膜的附蓋玻璃之光學積層體上更可顯著抑制裂痕。
舉例而言在光學薄膜130為偏光板時,該偏光板可僅於偏光件的第1黏著劑層120側具有保護薄膜,亦可僅於偏光件的第2黏著劑層140側具有保護薄膜,而亦可於兩側具有保護薄膜。根據本發明之實施形態,是設於第1黏著劑層側之保護薄膜的防止裂痕效果尤為顯著。設於第1黏著劑層側的保護薄膜亦可視需要施有硬塗佈處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。尤其是在對設於第1黏著劑層側的保護薄膜施行過硬塗佈處理的構成會有相對較容易產生裂痕之傾向,但根據本發明之實施形態,即使在所述構成中仍可良好防止裂痕。在一實施形態中,設於第2黏著劑層側的保護薄膜宜於光學上宜為各向同性。本說明書中「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm,且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。該保護薄膜在另一實施形態中亦可兼為相位差層。作為相位差層之保護薄膜的構成可因應目的採用任意適當之構成。譬如,保護薄膜可為λ/2板,可為λ/4板,亦可為該等之積層體。λ/2板及λ/4板代表上具有nx>ny≧nz之折射率特性。λ/2板之面內相位差Re(550)宜為180nm~320nm,λ/4板之面內相位差Re(550)宜為100nm~200nm。又譬如,保護薄膜亦可為negative B plate(nx>ny>nz)與positive C plate(nz>nx=ny)之積層體。此外,本說明書中「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之面內相位差。譬如,「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時,藉由式:Re(λ)=(nx-ny)×d求得。「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之厚度方向的相位差。譬如,「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時,藉由式:Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率,「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率,而「nz」為厚度方向之折射率。
保護薄膜係由可作為偏光件之保護薄膜使用的任意適當之薄膜形成。作為該薄膜之主成分的材料之具體例,可舉出三乙醯纖維素(TAC)等之纖維素樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又,亦可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他亦可舉出例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且,亦可使用日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料,例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂之樹脂組成物,例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
在一實施形態中,設於第1黏著劑層側之保護薄膜在25℃下之斷裂延伸率宜為2mm以上,更宜為50mm以上。該斷裂延伸率可為例如70mm以下。只要設於第1黏著劑層側之保護薄膜的斷裂伸長度在所述範圍內,即可藉由與將第1黏著劑層及第2黏著劑層之儲存彈性模數的關係最佳化所得效果之加乘效果來顯著防止該保護薄膜之裂痕。另,斷裂延伸率可準照JIS K7113進行測定。
第1黏著劑層120在代表上係用於將蓋玻璃與光學薄膜貼合。第1黏著劑層120在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’只要成為後述所期望之範圍,即可以任意且適當之黏著劑構成。第1黏著劑層120代表上可以橡膠系黏著劑(橡膠系黏著劑組成物)構成。橡膠系黏著劑組成物在代表上可含丁二烯聚合物及/或聚異戊二烯聚合物(或其改質物)與光聚合起始劑。橡膠系黏著劑組成物亦可更含有聚苯乙烯、聚胺甲酸酯(例如以異佛酮二異氰酸酯為原料者)、聚胺甲酸酯丙烯酸酯、聚異戊二烯系丙烯酸酯或其酯化物、萜系加氫樹脂、反應性丙烯酸系單體(例如甲基丙烯酸2-羥丁酯、丙烯酸4-羥乙酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸十二酯、丙烯酸異莰酯)、反應性甲基丙烯酸系單體(例如甲基丙烯酸二環戊基氧乙酯)等。橡膠系黏著劑組成物宜可更含有矽烷耦合劑。矽烷耦合劑可舉例如含環氧基之矽烷耦合劑。又,橡膠系黏著劑組成物宜不含烴成分(例如庚烷)。第1黏著劑層之厚度可為例如10μm~50μm。
第2黏著劑層140代表上可用於將最後製得之附蓋玻璃之光學積層體貼合至顯示單元。第2黏著劑層140代表上可以丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組成物)構成。丙烯酸系黏著劑組成物代表上含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為主成分。(甲基)丙烯酸系聚合物可以在黏著劑組成物之固體成分中例如為50重量%以上、較佳為70重量%以上、更佳為90重量%以上之比率含於黏著劑組成物中。(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。此外,(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基可舉例如具有1個~18個碳原子之直鏈狀或支鏈狀烷基。該烷基的平均碳數宜為3個~9個。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體除了(甲基)丙烯酸烷基酯之外還可舉含羧基之單體、含羥基之單體、含醯胺基之單體、含芳香環(甲基)丙烯酸酯等。丙烯酸系黏著劑組成物宜含有矽烷耦合劑及/或交聯劑。矽烷耦合劑可舉例如含環氧基之矽烷耦合劑。交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。第2黏著劑層之厚度可為例如10μm~50μm。第2黏著劑層或丙烯酸系黏著劑組成物之細項例如已記載於日本特開2016-190996號公報中,而本說明書即援用該公報之記載作為參考。
在本發明之實施形態中,第1黏著劑層120在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’與第2黏著劑層140在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’之比G1 ’/G2 ’為1以上,且宜為3以上,更宜為20以上。只要比G1 ’/G2 ’為1以上,即可良好抑制附蓋玻璃之偏光板上的裂痕(實質上為光學薄膜之裂痕:尤其是熱循環試驗後之裂痕)。另一方面,比G1 ’/G2 ’可為例如300以下。更詳細如下述。若第1黏著劑層之儲存彈性模數低(柔軟),則無法抑制偏光件之收縮行為,而有於第1黏著劑層側之保護薄膜(偏光件之視辨側的保護薄膜)產生裂痕之情形(有關第1黏著劑層之儲存彈性模數係於後述)。根據本發明之實施形態,令第1黏著劑層之儲存彈性模數較高(較硬,結果為G1 ’/G2 ’>1),藉此可抑制偏光件之尺寸變化,而可抑制第1黏著劑層側之保護薄膜產生裂痕。在另一實施形態中,比G1 ’/G2 ’可為1~2左右。藉由縮小第1黏著劑層及第2黏著劑層的儲存彈性模數之差,可對偏光件之收縮在上下進行相同行為,而可抑制應變產生。
第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’宜為5.0×106 (Pa)以上,且宜為1.0×107 (Pa)以上,更宜為1.0×108 (Pa)以上,尤宜為1.5×108 (Pa)以上。儲存彈性模數G1 ’可為例如5.0×109 (Pa)以下。令儲存彈性模數G1 ’如所述般為大(令第1黏著劑層較硬)並令比G1 ’/G2 ’滿足如上述之關係,藉此可更良好抑制附蓋玻璃之偏光板上的裂痕。
第2黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’宜為1.0×105 (Pa)以上,且宜為1.0×107 (Pa)以上,更宜為1.0×108 (Pa)以上,尤宜為1.0×108 (Pa)以上。儲存彈性模數G2 ’可為例如1.0×109 (Pa)以下。儲存彈性模數G2 ’只要為所述範圍,即可易令比G1 ’/G2 ’為所期望之值。
蓋玻璃110可採用業界周知之構成,故而省略詳細說明。
B.附蓋玻璃之光學積層體之製造方法 以下舉一例說明如圖2所示平面形狀之附蓋玻璃之光學積層體之製造方法中的各步驟。在圖式例中係說明將光學薄膜與第2黏著劑層(在實際應用上與分離件)的積層體(以下稱為光學積層體)供於切削加工之實施形態。
B-1.形成工件 圖3係用以說明切削加工的概略立體圖,於本圖係顯示工件1。如圖3所示,係形成疊合有多片光學積層體而成之工件1。光學積層體在形成工件時,代表上係裁切成任意適當之形狀。具體而言,光學積層體可裁切成矩形形狀,可裁切成類似矩形形狀之形狀,亦可裁切成因應目的之適當形狀(例如圓形)。圖式例中,光學積層體係裁切成矩形形狀,且工件1具有彼此相對向的外周面(切削面)1a、1b及與該等正交的外周面(切削面)1c、1d。工件1宜被鉗夾機構(未圖示)從上下鉗著。工件的總厚度宜為8mm~20mm,且宜為9mm~15mm,更宜為約10mm。只要為所述厚度,即可防止鉗夾機構之擠壓或切削加工時之衝撃造成損傷。光學積層體係將工件疊合成所述之總厚度。構成工件之光學積層體的片數例如可為10片~50片。鉗夾機構(例如夾具)可以軟質材料構成亦可以硬質材料構成。以軟質材料構成時,其硬度(JIS A)宜為60°~80°。若硬度過高,則會有鉗夾機構所造成之壓痕殘留的情形。若硬度過低,則夾具之變形會造成位置偏移,而有切削精度不足之情形。
B-2.切削加工 接著,利用切削機構20切削工件1的外周面。切削係藉由使切削機構之切削刃抵接工件1之外周面來進行。切削可涵蓋工件之外周面的全周進行,而亦可僅於預定之位置進行。在要製作如圖2所示的平面形狀之光學積層體時,切削在代表上係涵蓋工件之外周面的全周進行。舉例而言,在涵蓋工件之外周面的全周進行切削後,可更進行用以形成凹部之切削。切削加工代表上如圖3~圖5所示,即所謂端銑刀加工。亦即,使用切削機構(端銑刀)20之側面切削工件1的外周面。切削機構(端銑刀)20代表上可使用直刃端銑刀。
端銑刀20如圖4及圖5所示,具有:旋轉軸21,係沿工件1之積層方向(鉛直方向)延伸;及切削刃22,係構成以旋轉軸21為中心旋轉的本體之最外徑。切削刃22可如圖4所示構成沿旋轉軸21扭轉之最外徑(可具有預定之扭轉角),亦可如圖5所示沿實質上平行於旋轉軸21之方向延伸而構成(扭轉角可為0°)。另外,「0°」意指在實質上為0°,亦包含因加工誤差等而有些微角度扭轉時之情形。切削刃具有預定扭轉角時,扭轉角宜為70°以下,且宜為65°以下,更宜為45°以下。切削刃22包含刀鋒22a、前刀面22b與後刀面22c。切削刃22的刃數只要可獲得後述所期望之接觸次數即可適當設定。圖4中的刃數為3片且圖5中的刃數為2片,但刃數可為1片,可為4片,亦可為5片以上。刃數宜為2片。只要為所述構成,即可確保刃之剛性,且可確保容屑槽而可良好地排出切屑。
在一實施形態中,切削刃22的HV硬度代表上為1500以上,宜為1700以上,更宜為2000以上。HV硬度的上限可為例如2350。此時,切削刃代表上係以超硬合金構成。超硬合金代表上可燒結金屬碳化物之粉末而得。超硬合金的具體例可舉WC-Co系合金、WC-TiC-Co系合金、WC-TaC-Co系合金、WC-TiC-TaC-Co系合金。此外,HV硬度亦稱維氏硬度,可依循JIS Z 2244測得。
在另一實施形態中,切削刃22的HV硬度代表上為7000以上,宜為8000以上,且宜為9000以上,10000以上更佳。HV硬度的上限可為例如15000。此時,切削刃代表上包含燒結鑽石。更詳細而言,切削刃係於超硬合金構成之基部上形成有燒結鑽石層。燒結鑽石(PCD:Polycrystalline diamond)係指將鑽石的小粒與金屬及/或陶瓷粉一同在高溫、高壓下燒結而成之多晶鑽石。
切削加工的條件可因應目的適當設定。例如藉由適當調整端銑刀的送給速度、旋轉數、刃數等,即便為包含黏著劑層之光學積層體亦可良好地進行切削。本說明書中,「進給速度」係指切削機構(端銑刀)與工件之相對速度。因此,切削加工中,可僅使端銑刀移動,可僅使工件移動,亦可使端銑刀與工件兩者移動。切削次數可削1次、削2次、削3次或其以上。在一實施形態中,端銑刀20的直徑宜為3mm~20mm。
依上述方式,可製得經切削加工之光學積層體。另外,經切削加工之光學積層體(實質上為光學薄膜及黏著劑層)在代表上可具有切削痕。
藉由將所製得之光學積層體透過第1黏著劑層貼合至蓋玻璃,可製得附蓋玻璃之光學積層體。
在圖式例中係說明將光學積層體供於切削加工之實施形態,而附蓋玻璃之光學積層體亦可供於切削加工一事不言自明。
C.附蓋玻璃之影像顯示裝置 本發明實施形態的附蓋玻璃之光學積層體(例如上述A項~B項記載之附蓋玻璃之光學積層體)如上述可適用於附蓋玻璃之影像顯示裝置。因此,附蓋玻璃之影像顯示裝置亦包含於本發明之實施形態。附蓋玻璃之影像顯示裝置具有顯示單元與本發明之實施形態之附蓋玻璃之光學積層體,且該附蓋玻璃之光學積層體配置於顯示單元之視辨側。
像顯示裝置可舉如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。 實施例
以下,以實施例來具體說明本發明,惟本發明不受該等實施例限定。實施例之評估項目如下。
(1)裂痕 對在實施例及比較例製得之附蓋玻璃之偏光板進行在-40℃~85℃下200循環之熱循環(熱衝擊)試驗。針對試驗後之裂痕產生狀況,將偏光鏡配置成與上述偏光板之偏光件的吸收軸呈正交偏光之狀態後進行透射光檢查,並依以下基準進行評估。 有:可確認到漏光 無:無確認到漏光 對實施例及比較例中所製得之附蓋玻璃之偏光板的每例各3試料進行上述評估。將3試料中有產生裂痕之試料數定為裂痕產生頻率(F/3pcs)。並使用光學顯微鏡以倍率50倍之透射觀察測定裂痕大小,並將最大裂痕之大小定為裂痕尺寸(μm)。
>實施例1> 依常規方法,製出從視辨側起依序具有表面保護薄膜(48μm)/硬塗層(5μm)/環烯烴系保護薄膜(47μm)/偏光件(5μm)/環烯烴系保護薄膜(24μm)/第2黏著劑層(20μm)/分離件之構成的附黏著劑層之偏光板。第2黏著劑層係依循日本特開2016-190996號公報之[0121]及[0124]而製作。第2黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’得5.0×106 (Pa)。將所製得之附黏著劑層之偏光板沖裁成類似圖2之形狀(概略尺寸142.0mm×66.8mm之矩形形狀,不具有凹部之形狀),並疊合多片經沖裁的附黏著劑層之偏光板而製成工件(總厚度約10mm)。在將所製得之工件以鉗夾(夾具)夾住之狀態下,藉由端銑刀加工來切削周緣部並形成凹部,而製得如圖2所示之經切削加工之附黏著劑層之偏光板。端銑刀的切削刃係使用燒結鑽石之物,且HV硬度為10000。又,端銑刀的刃數為2片,扭轉角為0°。又,端銑刀之進給速度(切削直線部時之進給速度)為1000mm/分鐘,旋轉數為25000rpm,且切削次數為2次(第1次0.1mm、第2次0.2mm之切削餘量0.3mm)。
將上述附黏著劑層之偏光板的表面保護薄膜剝離,並於剝離面形成第1黏著劑層。第1黏著劑層係依循日本特開2016-103030號公報之[0053]而製作。第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’得1.7×108 (Pa)。透過所形成之第1黏著劑層將附黏著劑層之偏光板貼合至松浪硝子工業製蓋玻璃,而製得附蓋玻璃之偏光板(附蓋玻璃之光學積層體)。並將暫時黏附於第2黏著劑層上的分離件剝離,於第2黏著劑層貼合玻璃板後,供於進行上述裂痕評估。將結果列於表1。
>實施例2~8及比較例1~5> 變更構成第1黏著劑層之黏著劑組成物的處方而將-40℃下之儲存彈性模數G1 ’改為如表1所示,並變更構成第2黏著劑層之黏著劑組成物的處方而將-40℃下之儲存彈性模數G2 ’改為如表1所示,並且在實施例7~8及比較例2~5中設端銑刀之切削刃的扭轉角為30°,除上述以外依與實施例1相同方式製得如圖2所示的經切削加工之附蓋玻璃之偏光板。針對經切削加工之附蓋玻璃之偏光板依與實施例1相同方式進行裂痕之評估。將結果列於表1。此外,各實施例及比較例之第1黏著劑層係依下述公報之記載而製作。 實施例2:日本特開2011-175247號公報之[0100]及[0110] 實施例3:日本特開2017-075998號公報之[0085]的(E) 實施例4:日本特開2014-156552號公報之[0103] 實施例5:日本特開2016-190996號公報之[0121]及[0124] 實施例6:日本特開2016-066074號公報之[0065] 實施例7:與實施例1相同 實施例8:與實施例5相同 比較例1:日本特開2012-046658號公報之[0048]的表1(實施例1) 比較例2:日本專利第5038224號之[0149]、[0150]及[0153](實施例1) 比較例3:與實施例1相同 比較例4:與比較例1相同 比較例5:與比較例1相同 各實施例及比較例之第2黏著劑層係依下述公報之記載而製作。 實施例2:與實施例1相同 實施例3:與實施例1相同 實施例4:與實施例1相同 實施例5:與實施例1相同 實施例6:與實施例1相同 實施例7:與實施例1相同 實施例8:日本專利第5038224號之[0149]、[0150]及[0153](實施例1) 比較例1:與實施例1相同 比較例2:與實施例1相同 比較例3:日本專利第4820443號之[0135]及[0136](實施例1) 比較例4:與實施例8相同 比較例5:與實施例1相同
[表1]
Figure 02_image001
產業上之可利用性 本發明之附蓋玻璃之光學積層體適宜在要於影像顯示部設置蓋玻璃時使用,尤其可適宜用於以個人電腦(PC)及平板電腦終端為代表的矩形影像顯示部及/或以汽車之儀表面板及智慧型手錶為代表的異形影像顯示部。
1:工件 1a、1b、1c、1d:外周面(切削面) 20:切削機構 21:旋轉軸 22:切削刃 22a:刀鋒 22b:前刀面 22c:後刀面 100:附蓋玻璃之光學積層體 110:蓋玻璃 120:第1黏著劑層 130:光學薄膜 140:第2黏著劑層 150:分離件 160:凹部
圖1係用以說明本發明之一實施形態的附蓋玻璃之光學積層體的概略截面圖。 圖2係顯示本發明經切削加工之附蓋玻璃之光學積層體的形狀之一例的概略俯視圖。 圖3係用以說明本發明附蓋玻璃之光學積層體之切削加工之一例的概略立體圖。 圖4係用以說明本發明附蓋玻璃之光學積層體之製造方法中切削加工所用切削機構之一例的概略立體圖。 圖5中,圖5(a)係用以說明本發明附蓋玻璃之光學積層體之製造方法中切削加工所用切削機構之另一例從軸方向觀看之概略截面圖;圖5(b)係圖5(a)之切削機構的概略立體圖。
100:附蓋玻璃之光學積層體
110:蓋玻璃
120:第1黏著劑層
130:光學薄膜
140:第2黏著劑層
150:分離件

Claims (9)

  1. 一種附蓋玻璃之光學積層體,依序具有蓋玻璃、第1黏著劑層、光學薄膜與第2黏著劑層,且 該第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’與該第2黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’的比G1 ’/G2 ’為1以上。
  2. 如請求項1之附蓋玻璃之光學積層體,其中前述第1黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G1 ’在5.0×106 (Pa)以上。
  3. 如請求項1或2之附蓋玻璃之光學積層體,其包含切削端面且該切削端面係至少前述光學薄膜及前述第2黏著劑層具有切削痕者。
  4. 如請求項3之附蓋玻璃之光學積層體,其中前述經切削加工之部分在俯視時包含凹部。
  5. 如請求項1至4中任一項之附蓋玻璃之光學積層體,其中前述光學薄膜包含偏光件。
  6. 如請求項5之附蓋玻璃之光學積層體,其中前述光學薄膜於前述偏光件的前述第1黏著劑層側更具有保護薄膜。
  7. 如請求項6之附蓋玻璃之光學積層體,其中於前述保護薄膜上形成有硬塗層。
  8. 如請求項6或7之附蓋玻璃之光學積層體,其中前述保護薄膜在25℃下之斷裂延伸率在2mm以上。
  9. 一種附蓋玻璃之影像顯示裝置,具有顯示單元與如請求項1至8中任一項之附蓋玻璃之光學積層體,且該附蓋玻璃之光學積層配置於該顯示單元之視辨側。
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