TW202001889A - 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術 - Google Patents

用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術 Download PDF

Info

Publication number
TW202001889A
TW202001889A TW108115652A TW108115652A TW202001889A TW 202001889 A TW202001889 A TW 202001889A TW 108115652 A TW108115652 A TW 108115652A TW 108115652 A TW108115652 A TW 108115652A TW 202001889 A TW202001889 A TW 202001889A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
pulse
self
memory cell
logic state
selecting
Prior art date
Application number
TW108115652A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI715975B (zh
Inventor
馬蒂亞 羅布斯特力
Original Assignee
美商美光科技公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商美光科技公司 filed Critical 美商美光科技公司
Publication of TW202001889A publication Critical patent/TW202001889A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI715975B publication Critical patent/TWI715975B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/402—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration individual to each memory cell, i.e. internal refresh
    • G11C11/4026—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration individual to each memory cell, i.e. internal refresh using bipolar transistors
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4074—Power supply or voltage generation circuits, e.g. bias voltage generators, substrate voltage generators, back-up power, power control circuits
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/54—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using elements simulating biological cells, e.g. neuron
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5678—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using amorphous/crystalline phase transition storage elements
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0007—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising metal oxide memory material, e.g. perovskites
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0023—Address circuits or decoders
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/003—Cell access
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C27/00—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0073—Write using bi-directional cell biasing
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0078—Write using current through the cell
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0092—Write characterized by the shape, e.g. form, length, amplitude of the write pulse
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/70—Resistive array aspects
    • G11C2213/71—Three dimensional array
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/70—Resistive array aspects
    • G11C2213/77—Array wherein the memory element being directly connected to the bit lines and word lines without any access device being used

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Neurology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

本發明提供用於程式化包含硫屬化物材料之一多位階自選擇記憶體單元之技術。為將一或多個中間記憶體狀態程式化至自選擇記憶體單元，可使用包含兩個脈衝之一程式化脈衝序列。該程式化脈衝序列之一第一脈衝可具有一第一極性及一第一量值且該程式化脈衝序列之第二脈衝可具有不同於該第一極性之一第二極性及不同於該第一量值之一第二量值。在將兩個脈衝施加於該程式化脈衝序列之後，該自選擇記憶體單元可儲存表示兩個資料位元(例如，一邏輯「01」或一邏輯「10」)之一中間狀態。

Description

用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術
本發明技術領域係關於用於程式化一多位階自選擇記憶體裝置之技術。
下文大體上係關於操作一記憶體陣列且更明確言之係關於程式化一多位階自選擇記憶體裝置。
記憶體裝置廣泛用於將資訊儲存於各種電子裝置中，諸如電腦、相機、數位顯示器及類似物。資訊係藉由程式化一記憶體裝置之不同狀態而予以儲存。例如，二進制裝置具有通常藉由一邏輯「1」或一邏輯「0」表示之兩個狀態。在其他系統中，可儲存兩個以上狀態。為存取該經儲存資訊，該電子裝置之一組件可讀取或感測該記憶體裝置中之經儲存狀態。為儲存資訊，該電子裝置之一組件可在該記憶體裝置中寫入或程式化狀態。
存在各種類型之記憶體裝置，包含磁性硬碟、隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)、動態RAM (DRAM)、同步動態RAM (SDRAM)、鐵電RAM (FeRAM)、磁性RAM (MRAM)、電阻性RAM (RRAM)、快閃記憶體、相變記憶體(PCM)及其他。記憶體裝置可係揮發性或非揮發性。非揮發性記憶體單元即使在不存在一外部電源之情況下亦可維持其等儲存之邏輯狀態達延長時間段。揮發性記憶體單元可隨時間丟失其等儲存之狀態，除非其等藉由一外部電源週期性再新。
改良記憶體裝置通常可包含增加記憶體單元密度、增加讀取/寫入速度、增加可靠性、增加資料保持、降低電力消耗或降低製造成本等等。將多位資訊儲存於一記憶體單元中可預期增加一資料儲存密度而不增加一實體記憶體單元密度。
本專利申請案主張由Robustelli等人於2018年6月6日申請之標題為「Techniques for Programming Multi-Level Self-Selecting Memory Cell」、讓渡給其受讓人且其全部以引用的方式併入本文中之美國專利申請案第16/001,798號之優先權。
包含硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元可為經組態以儲存三個或三個以上獨有狀態之一多位階單元之一實例。因而，一單一多位階自選擇記憶體單元可經組態以儲存超過一個資料位。在一些情況中，可藉由在一字線與一數位線之間施加一特定偏壓而選擇一自選擇記憶體單元。儲存於一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態可基於施加至自選擇記憶體單元之一程式化脈衝之一極性。例如，一自選擇記憶體可在施加具有一正極性之一程式化脈衝之後儲存一邏輯「0」且自選擇記憶體可在施加具有一負極性之一程式化脈衝之後儲存一邏輯「1」。
提供用於程式化包含硫屬化物材料之一多位階自選擇記憶體單元之技術。為將一或多個中間記憶體狀態程式化至自選擇記憶體單元，可使用包含兩個脈衝之一程式化脈衝序列。程式化脈衝序列之一第一脈衝可具有一第一極性及一第一量值且程式化脈衝序列之第二脈衝可具有不同於第一極性之一第二極性及不同於第一量值之一第二量值。在施加程式化脈衝序列中之兩個脈衝之後，自選擇記憶體單元可儲存表示兩個資料位元(例如，一邏輯「01」或一邏輯「10」)之一中間狀態。
在一些情況中，一記憶體控制器可識別經程式化至自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態。在一個實例中，第一邏輯狀態可為一中間邏輯狀態(諸如01或10)。在識別第一邏輯狀態之後，記憶體控制器可選擇用於程式化自選擇記憶體單元之一第一程式化脈衝。在一些情況中，記憶體控制器可判定與第一程式化脈衝相關聯之多個參數。在一個實例中，第一程式化脈衝可具有一第一極性及一第一量值。在一些情況中，第一極性可為一正極性或一負極性。記憶體控制器可接著施加第一程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用一第二邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。第二邏輯狀態不同於第一邏輯狀態。例如，第二邏輯狀態可為自選擇記憶體單元之一中間邏輯狀態。在施加第一程式化脈衝之後，記憶體控制器可施加具有一第二極性及一第二量值之一第二程式化脈衝至自選擇記憶體單元。第二極性可不同於第一極性。在一個實例中，若第一極性係一正極性，則第二極性係一負極性。第二程式化脈衝之施加可使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。記憶體控制器可接著將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。本發明之態樣可有利地使用兩個短脈衝而非一長脈衝，藉此節省電流且改良自選擇記憶體單元之效能。
在一項實施例中，記憶體控制器可用包含一驗證之一程式化脈衝序列替換程式化脈衝之至少一者。在一些情況中，驗證可為對應於至少一個位元之一所欲邏輯狀態之一讀取電壓。例如，所描述之狀態可為一中間邏輯狀態(諸如01或10)。在一些實例中，程式化脈衝序列中之各程式化脈衝可與一預定能量位準相關聯。在一些情況中，可反覆地增加與各程式化脈衝相關聯之能量位準。在一些實例中，記憶體控制器可判定經程式化至自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態。記憶體控制器可接著施加來自程式化脈衝序列之一第一程式化脈衝且可在施加第一程式化脈衝之後執行一讀取操作。若未達成所欲邏輯狀態，則記憶體控制器可施加來自程式化脈衝序列之一第二程式化脈衝。在一些情況中，第二程式化脈衝之一能量位準可大於第一程式化脈衝之一能量位準。在一些情況中，記憶體控制器可在施加第二程式化脈衝之後執行一讀取操作以判定是否達成所欲邏輯狀態。若達成所欲邏輯狀態，則記憶體控制器可停止操作。若位元電壓對脈衝能量具有一較高敏感度，則本發明之態樣可有利地導致一更精確之位元放置(即，一更緊密分佈)。
在一替代性實施例中，記憶體控制器可識別一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態。例如，所欲邏輯狀態可為一中間邏輯狀態。在一些情況中，記憶體控制器可識別自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。例如，記憶體控制器可執行一讀取操作以識別當前邏輯狀態。在一些情況中，記憶體控制器可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝。例如，記憶體控制器可判定程式化脈衝之一極性、程式化脈衝之一振幅、程式化脈衝之一能量、程式化脈衝之一持續時間、程式化脈衝之一形狀或其等之一組合。記憶體控制器可接著施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用所欲邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。在一些情況中，記憶體控制器可基於施加程式化脈衝將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
在此替代性實施例中，記憶體控制器可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態判定施加至自選擇記憶體單元之一程式化脈衝。在一些情況中，記憶體控制器可經組態以用包含一驗證之一程式化脈衝序列替換經判定之程式化脈衝。如先前論述，程式化脈衝序列中之各程式化脈衝可與可反覆地增加之一能量位準相關聯。在一些實例中，記憶體控制器可自程式化脈衝序列施加一第一程式化脈衝且可執行一讀取操作以判定自選擇記憶體單元是否已使用所欲邏輯狀態程式化。若未達成所欲邏輯狀態，則記憶體控制器可自程式化脈衝序列施加一第二程式化脈衝。在一些情況中，第二程式化脈衝可經組態以具有高於第一程式化脈衝之一能量位準。
下文在具有一交叉點架構之記憶體陣列之內容背景中進一步描述上文介紹之本發明之特徵。接著在一些實施例中描述用於操作與存取一自選擇記憶體裝置之技術相關之記憶體陣列之特定實例。本發明之此等及其他特徵係藉由與用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術有關之設備圖、系統圖及流程圖進一步繪示且參考其等進一步描述。
圖1繪示根據本發明之實施例之一例示性記憶體裝置100。記憶體裝置100亦可被稱為一電子記憶體設備。圖1係記憶體裝置100之各種組件及特徵之一闡釋性表示。因而，應瞭解，記憶體裝置100之組件及特徵經展示以繪示功能相互關係，而非其等在記憶體裝置100內之實際實體位置。在圖1之闡釋性實例中，記憶體裝置100包含一個三維(3D)記憶體陣列。3D記憶體陣列包含可程式化以儲存不同狀態之記憶體單元105。在一些實施例中，各記憶體單元105可程式化以儲存表示為一邏輯0及一邏輯1之兩個狀態。在一些實施例中，一記憶體單元105可經組態以儲存兩個以上邏輯狀態。在一些實施例中，一記憶體單元105可包含一自選擇記憶體單元。儘管圖1中所包含之一些元件係用一數字指示符標記，其他對應元件並未標記，然其等係相同的或將理解為相似的，以試圖增大所描繪特徵之可見性及清晰度。
3D記憶體陣列可包含形成於彼此頂部上之兩個或兩個以上二維(2D)記憶體陣列。如相較於2D陣列，此可增加可放置或產生在一單一晶粒或基板上之記憶體單元之數目，此繼而可降低生產成本或增大記憶體裝置之效能或兩者。基於圖1中所描繪之實例，記憶體陣列包含記憶體單元105之兩個層級且因此可被視為一3D記憶體陣列；然而，層級數並不限於兩個。各層級可經對準或定位使得記憶體單元105可跨各層級彼此對準(完全地、重疊，或近似地)，從而形成一記憶體單元堆疊145。在一些情況中，記憶體單元堆疊145可包含鋪置於彼此頂部上同時兩者共用一存取線之多個自選擇記憶體單元，如下文解釋。在一些情況中，自選擇記憶體單元可為經組態以使用多位階儲存技術儲存超過一個資料位之多位階自選擇記憶體單元。
在一些實施例中，記憶體單元105之各列經連接至一存取線110，且記憶體單元105之各行經連接至一位元線115。存取線110及位元線115可實質上彼此垂直且可產生一記憶體單元陣列。如圖1中所展示，一記憶體單元堆疊145中之兩個記憶體單元105可共用一共同導電線(諸如一位元線115)。即，一位元線115可與上記憶體單元105之底部電極及下記憶體單元105之頂部電極電子通信。其他組態係可行的，例如，一第三層可與一下層共用一存取線110。一般言之，一個記憶體單元105可定位於兩條導電線(諸如一存取線110及一位元線115)之相交點處。此相交點可稱為一記憶體單元之位址。一目標記憶體單元105可為定位於一通電存取線110與位元線115之相交點處之一記憶體單元105；即，存取線110及位元線115可經通電以便讀取或寫入在其等相交點處之一記憶體單元105。與相同存取線110或位元線115電子通信(例如，連接至相同存取線110或位元線115)之其他記憶體單元105可被稱為非目標記憶體單元105。
如上文所論述，電極可耦合至一記憶體單元105及一存取線110或一位元線115。術語電極可係指一電導體，且在一些情況中，可用作至一記憶體單元105之一電接觸件。一電極可包含在記憶體裝置100之元件或組件之間提供一導電路徑之一跡線、導線、導電線、導電層或類似者。在一些實施例中，一記憶體單元105可包含定位於一第一電極與一第二電極之間的硫屬化物材料。第一電極之一個側可耦合至一存取線110且第一電極之另一側可耦合至硫屬化物材料。另外，第二電極之一個側可耦合至一位元線115且第二電極之另一側可耦合至硫屬化物材料。第一電極及第二電極可為相同材料(例如，碳)或不同材料。
可藉由啟動或選擇存取線110及數位線115而對記憶體單元105執行操作(諸如讀取及寫入)。在一些實施例中，存取線110亦可被稱為字線110，且位元線115亦可被稱為數位線115。對字線及位元線或其等類似物之引用可在不損失理解或操作的情況下互換。啟動或選擇一字線110或一數位線115可包含施加一電壓至各自線。字線110及數位線115可由導電材料製成，諸如金屬(例如，銅(Cu)、鋁(Al)、金(Au)、鎢(W)、鈦(Ti))、金屬合金、碳、導電摻雜半導體，或其他導電材料、合金、化合物或類似者。
存取記憶體單元105可透過一列解碼器120及一行解碼器130加以控制。例如，一列解碼器120可自記憶體控制器140接收一列位址且基於所接收之列位址啟動適當字線110。類似地，一行解碼器130可自記憶體控制器140接收一行位址且啟動適當數位線115。因此，藉由啟動一字線110及一數位線115，可存取在其等相交點處之記憶體單元105。
在存取之後，可藉由感測組件125讀取或感測一記憶體單元105以判定記憶體單元105之經儲存狀態。例如，可施加一電壓至一記憶體單元105 (使用對應字線110及位元線115)且一所得電流之存在可取決於該所施加電壓及記憶體單元105之臨限電壓。在一些情況中，可施加一個以上電壓。此外，若一所施加電壓並未導致電流流動，則可施加其他電壓直至藉由感測組件125偵測一電流。藉由評估導致電流流動之電壓，可判定記憶體單元105之經儲存邏輯狀態。在一些情況中，電壓可在量值上斜升直至偵測一電流流動。在其他情況中，可循序地施加預定電壓直至偵測一電流。同樣地，可將一電流施加至一記憶體單元105且產生該電流之電壓之量值可取決於記憶體單元105之電阻或臨限電壓。
感測組件125可包含各種電晶體或放大器以便偵測且放大信號之差，此可被稱為鎖存。接著可透過行解碼器130輸出記憶體單元105之經偵測邏輯狀態作為輸出135。在一些情況中，感測組件125可為一行解碼器130或列解碼器120之部分。或者，感測組件125可連接至行解碼器130或列解碼器120或與行解碼器130或列解碼器120電子通信。一般技術者將瞭解，感測組件可在不失去其功能目的之情況下與行解碼器或列解碼器相關聯。
可藉由類似地啟動相關字線110及數位線115而設定或寫入一記憶體單元105且可將至少一邏輯值儲存於記憶體單元105中。行解碼器130或列解碼器120可接受待寫入至記憶體單元105之資料(例如，輸入/輸出135)。在包含硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元的情況中，一記憶體單元105可經寫入以藉由施加包含具有一第一極性之一第一脈衝及具有一第二極性之一第二脈衝之一程式化序列而儲存資料。程式化脈衝可具有各種形狀。在下文中參考圖3A、圖3B、圖4A、圖4B、圖5A及圖5B更詳細論述此程序。
記憶體控制器140可透過各種組件(例如，列解碼器120、行解碼器130及感測組件125)控制記憶體單元105之操作(例如，讀取、寫入、重寫、再新、放電)。在一些情況中，列解碼器120、行解碼器130及感測組件125之一或多者可與記憶體控制器140共置。記憶體控制器140可產生列及行位址信號以便啟動所欲字線110及數位線115。記憶體控制器140亦可產生及控制在記憶體裝置100之操作期間所使用之各種電壓或電流。
記憶體控制器140可經組態以執行可使用超過兩個狀態程式化一自選擇記憶體單元之一寫入操作。例如，記憶體控制器140可經組態以使用四個狀態(例如，一邏輯「00」、一邏輯「01」、一邏輯「10」或一邏輯「11」)程式化自選擇記憶體單元。在一些情況中，用於將一中間狀態儲存於自選擇記憶體單元中之一程式化脈衝序列可包含兩個脈衝。一第一脈衝可具有一第一極性且一第二脈衝可具有與第一極性相反之一第二極性。在一些情況中，第二脈衝之一量值可小於第一脈衝之一量值。
例如，記憶體控制器140可識別自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態。記憶體控制器140可接著施加具有一第一極性及一第一振幅之一第一程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。例如，記憶體控制器140可施加第一程式化脈衝以使用一中間邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。記憶體控制器140可接著施加具有不同於第一極性之一第二極性及一第二振幅之一第二脈衝至自選擇記憶體單元以使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。記憶體控制器140可接著將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
在一些實施例中，記憶體控制器140可識別一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態。如本文描述，自選擇記憶體單元經組態以儲存超過兩個邏輯狀態。記憶體控制器140可識別自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。例如，記憶體控制器140可執行一讀取操作以識別當前邏輯狀態。在一些情況中，記憶體控制器140可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝，且施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元。在一些情況中，記憶體控制器140可基於施加程式化脈衝將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
圖2繪示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一3D記憶體陣列200之一實例。記憶體陣列200可係參考圖1之記憶體陣列之部分之一實例。記憶體陣列200可包含定位於一基板204上方之記憶體單元之一第一陣列或層疊205及第一陣列或層疊205之頂部上之記憶體單元之第二陣列或層疊210。記憶體陣列200亦可包含字線110-a及字線110-b以及位元線115-a，其等可為如參考圖1描述之字線110及位元線115之實例。第一層疊205及第二層疊210之記憶體單元各可具有一或多個自選擇記憶體單元。儘管圖2中所包含之一些元件係用一數字指示符標記，其他對應元件並未標記，然其等係相同的或將理解為相似的，以試圖增大所描繪特徵之可見性及清晰度。
第一層疊205之自選擇記憶體單元可包含第一電極215-a、硫屬化物材料220-a及第二電極225-a。另外，第二層疊210之自選擇記憶體單元可包含一第一電極215-b、硫屬化物材料220-b及第二電極225-b。在一些實施例中，第一層疊205及第二層疊210之自選擇記憶體單元可具有共同導電線，使得各層疊205及210之對應自選擇記憶體單元可共用位元線115或字線110，如參考圖1描述。例如，第二層疊210之第一電極215-b及第一層疊205之第二電極225-a可耦合至位元線115-a，使得位元線115-a藉由垂直相鄰之自選擇記憶體單元共用。
記憶體陣列200之架構可稱為一交叉點架構，其中一記憶體單元形成於一字線與一位元線之間的一拓撲結構交叉點處，如在圖2中繪示。相較於其他記憶體架構，此一交叉點架構可提供相對高密度之資料儲存以及更低之生產成本。例如，相較於其他架構，交叉點架構可具有擁有一減小面積及因此一增大記憶體單元密度之記憶體單元。例如，相較於具有一6F2記憶體單元面積之其他架構(諸如具有一三端子選擇組件之架構)，該架構可具有一4F2記憶體單元面積，其中F係最小特徵大小。例如，DRAM可使用一電晶體(其係一三端子裝置)作為各記憶體單元之選擇組件且相較於交叉點架構可具有一更大之記憶體單元面積。
在一些架構(未展示)中，複數個字線可形成於平行於一基板之平行平面或階層上。複數個字線可經組態以包含複數個孔以容許複數個位元線正交於字線之平面形成，使得複數個位元線之各者穿透一組垂直對準孔(例如，相對於字線之平面及水平基板垂直安置之位元線)。包含儲存元件之記憶體單元(例如，包含硫屬化物材料之自選擇記憶體單元)可形成於字線與位元線之交叉處(例如，字線與位元線之間該組垂直對準孔中之空間)。以類似於上文參考圖1描述之一方式，可藉由選擇各自存取線(例如，一位元線及一字線)且施加電壓或電流脈衝而操作(例如，讀取及/或程式化)記憶體單元(例如，包含硫屬化物材料之自選擇記憶體單元)。
雖然圖2之實例展示兩個記憶體層疊，但其他組態係可能的。在一些實施例中，自選擇記憶體單元之一單一記憶體層疊可建構於一基板204上方，此可稱為一個二維記憶體。在一些實施例中，記憶體單元之三個或四個記憶體層疊可以一類似方式組態在一三維交叉點架構中。在一些實施例中，一或多個記憶體層疊可包含包含硫屬化物材料220之自選擇記憶體單元。硫屬化物材料220可(例如)包含硫屬化物玻璃，舉例而言諸如硒(Se)、碲(Te)、砷(As)、銻(Sb)、碳(C)、鍺(Ge)及矽(Si)之一合金。在一些實施例中，主要具有硒(Se)、砷(As)及鍺(Ge)之硫屬化物材料可稱為SAG合金。在一些實施例中，SAG合金可包含矽(Si)且此硫屬化物材料可稱為SiSAG合金。在一些實施例中，硫屬化物玻璃可包含額外元素，諸如氫(H)、氧(O)、氮(N)、氯(Cl)或氟(F)，其等各呈原子或分子形式。
在一些實施例中，包含硫屬化物材料220之一自選擇記憶體單元可藉由使用一位元線115及一字線110施加一程式化脈衝至自選擇記憶體單元而程式化至一邏輯狀態。在一個實例中，與一自選擇記憶體單元相關聯之一控制器可識別自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態。首先，可施加具有一第一極性及一第一振幅之一第一程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。接著，可施加具有不同於第一極性之一第二極性及一第二振幅之一第二脈衝至自選擇記憶體單元以使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。一旦施加第二脈衝，便可將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
圖3A繪示展示根據本發明之實施例之一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈之一圖300之一實例。一多位階自選擇記憶體單元可經組態以使用一多位階儲存技術儲存表示多個資料位元之一邏輯狀態。電壓分佈描繪可儲存於一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態。
自選擇記憶體單元可包含如參考圖1及圖2描述之硫屬化物材料。臨限電壓分佈可表示用於儲存每單元至少兩個位元之一多位階單元程式化方案。在圖3A之實例中，分佈305可表示一邏輯狀態00，分佈310可表示一邏輯狀態01，分佈315可表示一邏輯狀態10，且分佈320可表示一邏輯狀態11。在一些情況中，分佈305、310、315及320可展現對應於各邏輯狀態之一電壓分佈之一中值電壓值(諸如一正態分位數)。例如，分佈305可表示對應於邏輯狀態00之一分佈之一正態分位數。類似地，分佈310可表示對應於邏輯狀態01之一分佈之一正態分位數，分佈315可表示對應於邏輯狀態10之一分佈之一正態分位數，且分佈320可表示對應於邏輯狀態11之一分佈之一正態分位數。在一些實施例中，兩個分佈可具有一重疊部分，因此在兩個分佈之間可不具有清晰間隔。在一些實施例中，各分佈可不圍繞其中值對稱。在一些實施例中，各分佈可展現一不同電壓值範圍。
圖3B繪示根據本發明之各種實施例之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一寫入操作之一時序圖350之一實例。時序圖350展示用於程式化一邏輯狀態「11」之一第一脈衝序列355 (例如，分佈320)及用於程式化一中間邏輯狀態「01」之一第二脈衝序列360 (例如，分佈310)。脈衝序列355、360可用於程式化一多位階自選擇記憶體單元。特定言之，第二脈衝序列360可經組態以將一中間狀態儲存於自選擇記憶體裝置中。圖350描繪相對於時間(x軸)之施加至自選擇記憶體單元之一或多個脈衝之一電壓之一量值(y軸)。在一些情況中，在程式化一自選擇記憶體單元期間施加之電壓可不與相關聯於一程式化脈衝之一能量相互關聯。因此，可選擇電壓使得電壓足以選擇自選擇記憶體單元，而無關於自選擇記憶體單元之一當前狀態。在一些情況中，若一預設偏壓不足以選擇與一自選擇記憶體單元相關聯之一高電壓，則與一程式化脈衝相關聯之能量可增大。在一些實例中，一旦開啟一自選擇記憶體單元，則跨自選擇記憶體單元之活性材料之一偏壓可小於一外部偏壓。在此等情況中，偏壓可取決於活性材料之一或多個性質。因此，在一給定脈衝持續時間控制脈衝能量可藉由流動通過自選擇記憶體單元之一電流控制。可使用靜態組態或動態組態控制流動通過自選擇記憶體單元之電流。在一些情況中，可使用箝位裝置或電流鏡控制在自選擇記憶體單元中流動之電流。
具有硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元可在接收第一脈衝序列355之後使用一第一邏輯狀態程式化。第一脈衝序列355可包含具有對應於I1 之一振幅及一第一極性之一脈衝365-a。脈衝365-a可施加達一持續時間T1 ，在T1 期間，維持對應於I1 之一固定振幅。在一些實施例中，持續時間T1 之範圍可在幾奈秒(nsec)至一微秒(µsec)長之間(例如，10 nsec至1 µsec)。自選擇記憶體單元可在接收脈衝365-a之後使用一邏輯狀態11程式化。無關於記憶體單元之當前狀態，使用第一脈衝序列，記憶體單元之新狀態將為與分佈320相關聯之邏輯狀態。圖3A之箭頭325展示自選擇記憶體單元在一寫入操作期間基於接收第一脈衝365-a自分佈305變成分佈320。在其他實例中，脈衝365-a將引起自選擇記憶體單元自分佈310或分佈315變成分佈320。
第二脈衝序列360可經組態以使用具有位於兩個其他臨限電壓分佈之間的一臨限電壓分佈之一中間邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。第二脈衝序列360可包含第一脈衝365-b及一第二脈衝370。第一脈衝365-b可在振幅及極性上類似於脈衝365-a。第二脈衝370可經組態以將自選擇記憶體單元自分佈320移動至分佈310。第二脈衝370可為具有一第二極性及一持續時間T3 之一方形脈衝，在T3 期間，維持對應於I2 之一固定振幅。在一些情況中，第二脈衝370之第二極性不同於第一脈衝365-b之第一極性。此極性差可引起自選擇記憶體單元之臨限電壓分佈在不同於施加第一脈衝365-b時之方向之一方向上移動。
在一些情況中，多位階記憶體單元之寫入操作可展現較大延時，因為偵測記憶體單元之特性或精細調諧施加至記憶體單元之脈衝。第二脈衝序列360經組態以提供自選擇記憶體單元之一中間層級之一相對快速之寫入操作。在第二脈衝序列360中，第一脈衝365-b可經組態以將自選擇記憶體單元移動至一極限分佈(例如，分佈320)。一旦如此，記憶體控制器便可對自選擇記憶體單元之當前狀態具有置信度且施加第二脈衝370以將自選擇記憶體單元移動至所欲中間分佈(例如，分佈310)。此一脈衝序列可避免對自選擇記憶體單元之當前狀態及所欲狀態之每一組合具有複數個不同脈衝序列。
如在時序圖350中展示，第一脈衝365-b可施加達第一持續時間T1 ，且第二脈衝370可在第一脈衝365-b之後之某一時間施加達一持續時間T3 。圖3A之箭頭330展示自選擇記憶體單元在一寫入操作期間基於接收第一脈衝365-b自分佈305變成分佈320且接著在寫入操作期間基於接收第二脈衝370自分佈320變成分佈310。在其他實例中，脈衝365-b將引起自選擇記憶體單元自分佈310或分佈315變成分佈320。持續時間T3 可在持續時間T1 之後發生。在一些情況中，脈衝序列360可包含一間隙時間，其中自選擇記憶體單元可在一持續時間T2 偏壓至一零電壓位準或一接地電壓。間隙時間可發生於持續時間T1 與持續時間T3 之間。在一些實例中，施加第一脈衝365-b及第二脈衝370之間不存在間隙時間。在此等情況中，第二脈衝370可緊接在施加第一電壓脈衝之後施加。
雖然脈衝在圖350中描繪為方形脈衝，但應瞭解，程式化脈衝之各種形狀可施加至自選擇記憶體裝置，而不丟失功能性。例如，程式化脈衝可為方形脈衝、矩形脈衝、斜坡脈衝或其等之一組合。
在一些實例中，第二脈衝序列360可藉由包含一驗證之一程式化脈衝序列替換。如先前描述，驗證可為對應於至少一個位元之一所欲邏輯狀態之一讀取電壓。在圖3A及圖3B之實例中，所欲狀態可為一中間邏輯狀態01。在一些情況中，程式化脈衝序列可包含複數個程式化脈衝，其等之各者與一能量位準相關聯。為達成中間邏輯狀態01，可施加來自程式化脈衝序列一第一程式化脈衝。可執行一讀取操作以驗證自選擇記憶體單元之一當前狀態是否對應於中間邏輯狀態01。在一些情況中，讀取操作可為一非破壞性讀取操作。在此等情況中，為驗證自選擇記憶體單元之一當前狀態是否在中間邏輯狀態10與中間邏輯狀態01之間，讀取操作可非破壞性評估一臨限電壓高於各自邏輯狀態。在一些情況中，可至少部分基於一所欲邏輯狀態選擇讀取操作。若未達成所欲邏輯狀態(即，01)，則可施加來自程式化脈衝序列之一第二程式化脈衝。第二程式化脈衝可經組態以具有高於第一程式化脈衝之一能量位準。在施加第二程式化脈衝之後，可執行一第二讀取操作以驗證是否達成所欲邏輯狀態。在一些情況中，與第一讀取操作相關聯之一或多個參數可不同於與第二讀取操作相關聯之一或多個參數。若達成所欲邏輯狀態(即，中間邏輯狀態01)，則不施加進一步程式化脈衝。在一些情況中，使用一程式化驗證操作可增加精確位元放置之可能性，但其可減少其他參數(例如，延時及/或功率消耗)。
圖4A繪示展示根據本發明之實施例之一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈之一圖400之一實例。一多位階自選擇記憶體裝置單元經組態以使用一多位階儲存技術儲存表示多個資料位元之一邏輯狀態。電壓分佈描繪可儲存於一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態。
電壓分佈可表示用於儲存每單元至少兩個位元之一多位階單元程式化方案。例如，分佈405可表示一邏輯狀態00，分佈410可表示一邏輯狀態01，分佈415可表示一邏輯狀態10，且分佈420可表示一邏輯狀態11。類似於分佈305、310、315及320，如參考圖3A論述，分佈405、410、415及420可展現對應於各邏輯狀態之一電壓分佈之一中值電壓值(諸如一正態分位數)。更具體言之，分佈405可表示對應於邏輯狀態00之一分佈之一正態分位數。類似地，分佈410可表示對應於邏輯狀態01之一分佈之一正態分位數，分佈415可表示對應於邏輯狀態10之一分佈之一正態分位數，且分佈420可表示對應於邏輯狀態11之一分佈之一正態分位數。
圖4B繪示根據本發明之各種實施例之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一寫入操作之一時序圖450之一實例。時序圖450展示用於程式化一邏輯狀態「11」之一第一脈衝序列455 (例如，分佈420)及用於程式化一中間邏輯狀態「01」之一第二脈衝序列460 (例如，分佈410)。脈衝序列455、460可用於程式化一多位階自選擇記憶體單元。特定言之，第二脈衝序列460可經組態以將一中間狀態儲存於自選擇記憶體裝置中。圖450描繪相對於時間(x軸)之施加至自選擇記憶體單元之一或多個脈衝之一電壓之一量值(y軸)。
脈衝序列355、360、455及460可用於將四個狀態之任一者寫入至一多位階自選擇記憶體單元。各脈衝序列355、360、455或460可專用於將一特定狀態寫入至自選擇記憶體單元。脈衝序列455、460可類似地體現為脈衝序列355、360，惟脈衝序列455、460之脈衝可具有與脈衝序列355、360中之脈衝相反之極性除外。例如，第一脈衝465之極性可與第一脈衝365之極性相反。此可因為脈衝365、465經組態以將自選擇記憶體單元移動至不同極限臨限電壓分佈而發生。
具有硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元可在接收第一脈衝序列455之後使用一第一邏輯狀態程式化。第一脈衝序列455可包含具有對應於I1 之一振幅及一第一極性之一脈衝465-a。脈衝465-a可施加達一持續時間T1 ，在T1 期間，維持對應於I1 之一固定振幅。在一些實施例中，持續時間T1 之範圍可在幾奈秒(nsec)至一微秒(µsec)長之間(例如，10 nsec至1 µsec)。例如，自選擇記憶體單元可在接收在一第一極性中具有對應於I1 之一振幅之脈衝465-a之後使用一邏輯狀態00程式化。使用第一脈衝序列455，無關於記憶體單元之當前狀態，記憶體單元之新狀態將為與分佈405相關聯之邏輯狀態。圖4A之箭頭425展示自選擇記憶體單元在一寫入操作期間基於接收第一脈衝465-a自分佈420變成分佈405。在其他實例中，脈衝465-a將引起自選擇記憶體單元自分佈410或分佈415變成分佈405。
第二脈衝序列460可經組態以使用具有位於兩個其他臨限電壓分佈之間的一臨限電壓分佈之一中間邏輯狀態(諸如邏輯狀態10)程式化自選擇記憶體單元。第二脈衝序列360可包含第一脈衝465-b及一第二脈衝470。第一脈衝465-b可在振幅及極性上類似於脈衝465-a。在一些實例中，第二脈衝470可經組態以將自選擇記憶體單元自分佈320移動至分佈310。第二脈衝470可為具有一第二極性及一持續時間T3 之一方形脈衝，在T3 期間，維持對應於I2 之一固定振幅位準。在一些情況中，第二極性不同於第一脈衝465-b之第一極性。例如，第一脈衝465-b可具有一正極性且第二脈衝470可具有一負極性。
如在時序圖450中展示，第一脈衝465-b可施加達第一持續時間T1 ，且第二脈衝470可在第一脈衝465-b之後之某一時間施加達一持續時間T3 。圖4A之箭頭430展示自選擇記憶體單元在一寫入操作期間基於接收第一脈衝465-b自分佈420變成分佈405且接著在寫入操作期間基於接收第二脈衝470自分佈405變成分佈415。在其他實例中，脈衝465-b將引起自選擇記憶體單元自分佈410或分佈415變成分佈405。持續時間T3 可在持續時間T1 之後發生。在一些情況中，脈衝序列460可包含一間隙時間，其中自選擇記憶體單元可在一持續時間T2 偏壓至一零電壓位準或一接地電壓。間隙時間可發生於持續時間T1 與持續時間T3 之間。在一些實例中，施加第一脈衝465-b及第二脈衝470之間不存在間隙時間。在此等情況中，第二脈衝470可緊接在施加第一電壓脈衝之後施加。
在一些實施例中，自選擇記憶體單元可在接收第一脈衝465-b之後處於一邏輯狀態00，且在接收第二脈衝470之後，自選擇記憶體單元可使用一邏輯狀態10程式化。雖然脈衝在圖450中描繪為方形脈衝，但應瞭解，程式化脈衝之各種形狀可施加至自選擇記憶體裝置，而不丟失功能性。例如，程式化脈衝可為方形脈衝、矩形脈衝、斜坡脈衝或其等之一組合。
當對一多位階自選擇記憶體單元執行一多位階寫入操作時，一控制器(例如，記憶體控制器140)可識別寫入至記憶體單元之新邏輯狀態。控制器可基於識別邏輯狀態而選擇一程式化序列(例如，程式化脈衝序列355、360、455、460)。在一些情況中，控制器可識別待寫入至記憶體單元之新邏輯狀態係一中間狀態(例如，其他分佈在中間狀態之任一側上)。若新的邏輯狀態係一中間狀態，則控制器可選擇包含兩個脈衝(例如，程式化脈衝序列360或460)之一程式化序列。控制器可判定與選定程式化序列相關聯之一或多個參數。程式化序列之參數可包含脈衝之一數量、一或多個脈衝之一極性、一或多個脈衝之一振幅、一或多個脈衝之一能量、一或多個脈衝之一持續時間、一或多個脈衝之一形狀或其等之一組合。
在一些實例中，第二脈衝序列460可藉由包含一驗證(未展示)之一程式化脈衝序列替換以達成對應於10之所欲邏輯狀態。如先前參考圖3A及圖3B描述，程式化脈衝序列可包含複數個程式化脈衝，其等之各者與一不同能量位準相關聯。在一些情況中，可施加一系列程式化脈衝直至達成中間邏輯狀態，且在施加各程式化脈衝之後執行一讀取操作以驗證是否恰當儲存資料。在此等情況中，與一第一程式化脈衝相關聯之一能量位準可低於與一第二程式化脈衝相關聯之一能量位準。
圖5A及圖5B繪示展示根據本發明之實施例之一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈之例示性圖500及550。雖然未展示電脈衝，但可瞭解，可施加一系列電脈衝以程式化一多位階自選擇記憶體裝置。在圖5A之實例中，描述經組態以儲存多個邏輯狀態之一多位階自選擇記憶體裝置單元。
圖500及550描繪一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態。例如，分佈505-a可表示一邏輯狀態00，分佈510-a可表示一邏輯狀態01，分佈515-a可表示一邏輯狀態10，且分佈520-a可表示一邏輯狀態11。類似於分佈305、310、315及320以及分佈405、410、415及420，如參考圖3A及圖4A論述，分佈505-a、510-a、515-a及520-a可展現對應於各邏輯狀態之一電壓分佈之一中值電壓值(諸如一正態分位數)。
一自選擇記憶體裝置之一控制器(例如，記憶體控制器140)可判定自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態及自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。在識別當前邏輯狀態之後，自選擇記憶體單元可判定施加之一適當脈衝。在一個實例中，自選擇記憶體單元之當前邏輯狀態可為11且自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態可為10。在此一情況中，控制器可識別與一程式化序列相關之參數，其在經施加時將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。在一些實例中，程式化序列之參數可包含脈衝之一數量、一或多個脈衝之一極性、一或多個脈衝之一振幅、一或多個脈衝之一能量、一或多個脈衝之一持續時間、一或多個脈衝之一形狀或其等之一組合。在其中自選擇記憶體單元之當前邏輯狀態為11且自選擇記憶體單元之所欲邏輯狀態為10之實例中，脈衝可具有一正極性。另外或替代地，自選擇記憶體單元可經組態以識別其他所欲邏輯狀態(諸如01或00)且可判定與脈衝相關之參數。雖然未明確描述，但可理解，在一個實例中，自選擇記憶體單元之當前邏輯狀態可為00且自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態可為01、10或11。
在圖5B之實例中，圖550展示脈衝可如何將儲存於自選擇記憶體單元上之狀態自一中間狀態改變至某一其他狀態。在一些實施例中，一控制器可判定自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態及自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。在一些情況中，自選擇記憶體單元可執行一讀取操作以判定所欲邏輯狀態。在識別當前邏輯狀態之後，控制器可判定施加之一適當脈衝。在圖5B之實例中，自選擇記憶體單元之當前邏輯狀態為10且自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態為11或01。在自選擇記憶體單元之所欲邏輯狀態為11時之一情況中，自選擇記憶體單元可識別具有一負極性之一脈衝。另一方面，在自選擇記憶體單元之所欲邏輯狀態為01時，自選擇記憶體單元可識別具有一正極性之一脈衝。此外，記憶體控制器可基於自選擇記憶體單元之當前狀態及所欲狀態判定不同脈衝之振幅。另外或替代地，自選擇記憶體單元可經組態以識別其他當前邏輯狀態(諸如01)及其他對應所欲邏輯狀態(諸如10或00)。基於當前邏輯狀態及所欲邏輯狀態，自選擇記憶體單元可判定與施加至自選擇記憶體單元之一脈衝相關之參數。
在一些情況中，控制器可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態判定施加至自選擇記憶體單元之適當脈衝。在一些情況中，控制器可用一程式化脈衝序列替換經判定程式化脈衝，如參考圖3A、圖3B、圖4A及圖4B描述。控制器可反覆施加程式化脈衝序列直至達成所欲邏輯狀態(例如，一程式化驗證方案)。如先前描述，程式化脈衝序列中之各程式化脈衝可與一不同能量位準相關聯。
圖6展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一記憶體控制器605之一方塊圖600。記憶體控制器605可係本文描述之一記憶體控制器140之態樣之一實例。記憶體控制器605可包含一邏輯狀態組件610、一脈衝組件615、一儲存組件620、一程式化序列組件625、一偏壓組件630、一參數組件635、一所欲邏輯狀態組件640及一當前邏輯狀態組件645。此等模組之各者可彼此直接通信或間接通信(例如，經由一或多個匯流排)。
邏輯狀態組件610可識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態。在一些實例中，識別第一邏輯狀態包含該自選擇記憶體單元之一中間狀態，其中施加第二脈衝係基於識別第一邏輯狀態包含中間狀態。在一些情況中，第一邏輯狀態表示至少兩個數位資料位元。在一些情況中，自選擇記憶體單元之一記憶體組件包含一錐狀輪廓。
在一些情況中，自選擇記憶體單元之記憶體組件包含具有一第一表面積之一底部表面及定位成與底部表面相對之具有一第二表面積之一頂部表面，第一表面積不同於第二表面積。在一些情況中，自選擇記憶體單元包含硫屬化物材料。
脈衝組件615可施加具有一第一極性及一第一振幅之一第一脈衝至自選擇記憶體單元以使用不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。在一些實例中，脈衝組件615可施加具有不同於第一極性之一第二極性及一第二振幅之一第二脈衝至自選擇記憶體單元以使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。
在一些實例中，脈衝組件615可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝。在一些實例中，脈衝組件615可施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元。在一些實例中，脈衝組件615可基於識別第一邏輯狀態及第一脈衝之第一振幅選擇第二脈衝之第二振幅，其中施加具有第二極性之第二脈衝係基於選擇第二振幅。
在一些實例中，脈衝組件615可在一第一時間週期期間施加第一脈衝至自選擇記憶體單元。在一些實例中，脈衝組件615可在一第二時間週期期間施加第二脈衝至自選擇記憶體單元，其中第二時間週期之至少一部分發生於第一時間週期之後。在一些實例中，脈衝組件615可施加一整合脈衝至自選擇記憶體單元以使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元，其中整合脈衝包含第一脈衝及第二脈衝。
在一些實例中，脈衝組件615可基於識別第一邏輯狀態判定第一脈衝之一第一形狀及第二脈衝之一第二形狀，其中將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中係基於判定第一脈衝之第一形狀及第二脈衝之第二形狀。
在一些實例中，脈衝組件615可施加具有一選定極性及一選定振幅之程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用所欲邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。在一些情況中，第一振幅大於第二振幅。在一些情況中，第一脈衝或第二脈衝係一方形脈衝、一矩形脈衝、一斜坡脈衝或其等之一組合。
儲存組件620可基於施加具有第一極性之第一脈衝及具有第二極性之第二脈衝將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。在一些實例中，儲存組件620可基於施加程式化脈衝將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
所欲邏輯狀態組件640可識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態。在一些情況中，所欲邏輯狀態表示至少兩個數位資料位元。當前邏輯狀態組件645可識別自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。
程式化序列組件625可基於識別第一邏輯狀態選擇一程式化序列，其中程式化序列包含第一脈衝及第二脈衝，其中儲存第一邏輯狀態係基於選擇程式化序列。
偏壓組件630可在第一時間週期與第二時間週期之間的一第三時間週期期間將自選擇記憶體單元偏壓至一零電壓位準。在一些實例中，偏壓組件630可在施加第一脈衝之後且在施加第二脈衝之前將自選擇記憶體單元偏壓至不同於第一振幅及第二振幅之一電壓位準。在一些情況中，電壓位準係一零電壓位準。
參數組件635可基於識別儲存至自選擇記憶體單元之第一邏輯狀態判定與一程式化序列相關聯之一或多個參數，其中儲存第一邏輯狀態係基於判定與程式化序列相關聯之一或多個參數。在一些實例中，參數組件635可基於自選擇記憶體單元之所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇與程式化脈衝相關聯之一或多個參數，其中施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元係基於選擇與程式化脈衝相關聯之一或多個參數。
在一些情況中，一或多個參數包含第一脈衝之一極性、第一脈衝之一振幅、第一脈衝之一能量、第一脈衝之一持續時間、第一脈衝之一形狀、第二脈衝之一極性、第二脈衝之一振幅、第二脈衝之一能量、第二脈衝之一持續時間、第二脈衝之一形狀、施加第一脈衝與施加第二脈衝之間的一間隙持續時間、在間隙持續時間期間施加之一電壓之一振幅、在間隙持續時間期間施加之電壓之一極性或其等之一組合。
圖7展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一方法700之一流程圖。方法700之操作可藉由如本文中所描述之一記憶體控制器或其組件實施。例如，可藉由如參考圖6描述之一記憶體控制器605執行方法700之操作。在一些實例中，一記憶體控制器可執行一組指令以控制記憶體控制器之功能元件以執行下文所描述之功能。此外或替代性地，一記憶體控制器可使用專用硬體執行下文所描述之功能之態樣。
在705，記憶體控制器可識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態。705之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，705之操作之態樣可藉由如參考圖8所描述之一邏輯狀態組件610來執行。
在710，記憶體控制器可施加具有一第一極性及一第一振幅之一第一脈衝至自選擇記憶體單元以使用不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。710之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，710之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一脈衝組件615來執行。
在715，記憶體控制器可施加具有不同於第一極性之一第二極性及一第二振幅之一第二脈衝至自選擇記憶體單元以使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。715之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，715之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一脈衝組件615來執行。
在720，記憶體控制器可基於施加具有第一極性之第一脈衝及具有第二極性之第二脈衝將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。720之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，720之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一儲存組件620來執行。
描述一種用於執行方法700之設備。該設備可包含用於以下操作之構件：識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態；施加具有一第一極性及一第一振幅之一第一脈衝至自選擇記憶體單元以使用不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元；施加具有不同第一極性之一第二極性及一第二振幅之一第二脈衝至自選擇記憶體單元以使用第一邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元；及基於施加具有第一極性之第一脈衝及具有第二極性之第二脈衝將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於識別第一邏輯狀態包含自選擇記憶體單元之一中間狀態之操作、特徵、構件或指令，其中施加第二脈衝可基於識別第一邏輯狀態包含中間狀態。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於基於識別第一邏輯狀態選擇一程式化序列之操作、特徵、構件或指令，其中程式化序列包含第一脈衝及第二脈衝，其中儲存第一邏輯狀態可基於選擇程式化序列。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於基於識別第一邏輯狀態及第一脈衝之第一振幅選擇第二脈衝之第二振幅之操作、特徵、構件或指令，其中施加具有第二極性之第二脈衝可基於選擇第二振幅。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，施加第一脈衝可包含用於在一第一時間週期期間施加第一脈衝至自選擇記憶體單元之操作、特徵、構件或指令，且其中施加第二脈衝包含在一第二時間週期期間施加第二脈衝至自選擇記憶體單元，其中第二時間週期之至少一部分發生於第一時間週期之後。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於在第一時間週期與第二時間週期之間的一第三時間週期期間將自選擇記憶體單元偏壓至一零電壓位準之操作、特徵、構件或指令。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於在施加第一脈衝之後且在施加第二脈衝之前將自選擇記憶體單元偏壓至不同於第一振幅及第二振幅之一電壓位準之操作、特徵、構件或指令。在本文描述之方法及設備之一些實例中，電壓位準可為一零電壓位準。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於基於識別儲存至自選擇記憶體單元之第一邏輯狀態判定與一程式化序列相關聯之一或多個參數之操作、特徵、構件或指令，其中儲存第一邏輯狀態可基於判定與程式化序列相關聯之一或多個參數。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，一或多個參數包含第一脈衝之一極性、第一脈衝之一振幅、第一脈衝之一能量、第一脈衝之一持續時間、第一脈衝之一形狀、第二脈衝之一極性、第二脈衝之一振幅、第二脈衝之一能量、第二脈衝之一持續時間、第二脈衝之一形狀、施加第一脈衝與施加第二脈衝之間的一間隙持續時間、在間隙持續時間期間施加之一電壓之一振幅、在間隙持續時間期間施加之電壓之一極性或其等之一組合。在本文描述之方法及設備之一些實例中，第一振幅可大於第二振幅。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於基於識別第一邏輯狀態判定第一脈衝之一第一形狀及第二脈衝之一第二形狀之操作、特徵、構件或指令，其中將第一邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中可基於判定第一脈衝之第一形狀及第二脈衝之第二形狀。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，第一脈衝或第二脈衝可為一方形脈衝、一矩形脈衝、一斜坡脈衝或其等之一組合。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，第一邏輯狀態表示至少兩個數位資料位元。在本文描述之方法及設備之一些實例中，自選擇記憶體單元之一記憶體組件包含一錐狀輪廓。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，自選擇記憶體單元之記憶體組件包含具有一第一表面積之一底部表面及定位成與底部表面相對之具有一第二表面積之一頂部表面，第一表面積不同於第二表面積。在本文描述之方法及設備之一些實例中，自選擇記憶體單元包含硫屬化物材料。
圖8展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一方法800之一流程圖。方法800之操作可藉由如本文中所描述之一記憶體控制器或其組件實施。例如，可藉由如參考圖6描述之一記憶體控制器605執行方法800之操作。在一些實例中，一記憶體控制器可執行一組指令以控制記憶體控制器之功能元件執行下文所描述之功能。此外或替代性地，一記憶體控制器可使用專用硬體執行下文所描述之功能之態樣。
在805，記憶體控制器可識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態。805之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，805之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一所欲邏輯狀態組件640來執行。
在810，記憶體控制器可識別自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。810之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，810之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一當前邏輯狀態組件645來執行。
在815，記憶體控制器可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝。815之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，815之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一脈衝組件615來執行。
在820，記憶體控制器可施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元。820之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，820之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一脈衝組件615來執行。
在825，記憶體控制器可基於施加程式化脈衝將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。825之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，825之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一儲存組件620來執行。
描述一種用於執行方法800之設備。該設備可包含用於以下操作之構件：識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態；識別自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態；基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝；施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元；及基於施加程式化脈衝將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。
本文描述之方法及設備之一些實例可進一步包含用於基於自選擇記憶體單元之所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇與程式化脈衝相關聯之一或多個參數之操作、特徵、構件或指令，其中施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元可基於選擇與程式化脈衝相關聯之一或多個參數。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，一或多個參數包含程式化脈衝之一極性、程式化脈衝之一振幅、程式化脈衝之一能量、程式化脈衝之一持續時間、程式化脈衝之一形狀或其等之一組合。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元可包含用於施加具有一選定極性及一選定振幅之程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用所欲邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元之操作、特徵、構件或指令。
在本文描述之方法及設備之一些實例中，所欲邏輯狀態表示至少兩個數位資料位元。
圖9展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一方法900之一流程圖。方法900之操作可藉由如本文中所描述之一記憶體控制器或其組件實施。例如，可藉由如參考圖6描述之一記憶體控制器605執行方法900之操作。在一些實例中，一記憶體控制器可執行一組指令以控制記憶體控制器之功能元件執行下文所描述之功能。此外或替代性地，一記憶體控制器可使用專用硬體執行下文所描述之功能之態樣。
在905，記憶體控制器可識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態。905之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，905之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一所欲邏輯狀態組件640來執行。
在910，記憶體控制器可識別自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態。910之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，910之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一當前邏輯狀態組件645來執行。
在915，記憶體控制器可基於所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝。915之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，915之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一脈衝組件615來執行。
在920，記憶體控制器可基於自選擇記憶體單元之所欲邏輯狀態及當前邏輯狀態選擇與程式化脈衝相關聯之一或多個參數。在一些情況中，施加程式化脈衝至自選擇記憶體單元係基於選擇與程式化脈衝相關聯之一或多個參數。在一些情況中，一或多個參數包含程式化脈衝之一極性、程式化脈衝之一振幅、程式化脈衝之一能量、程式化脈衝之一持續時間、程式化脈衝之一形狀或其等之一組合。920之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，920之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一參數組件635來執行。
在925，記憶體控制器可施加具有一選定極性及一選定振幅之程式化脈衝至自選擇記憶體單元以使用所欲邏輯狀態程式化自選擇記憶體單元。925之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，930之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一脈衝組件615來執行。
在930，記憶體控制器可基於施加程式化脈衝將所欲邏輯狀態儲存於自選擇記憶體單元中。930之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，930之操作之態樣可藉由如參考圖6所描述之一儲存組件620來執行。
應注意，上文所描述之方法描述可能實施方案，且操作及步驟可經重新配置或以其他方式修改，且其他實施方案係可行的。此外，可組合來自兩個或兩個以上方法之態樣。
可使用各種不同科技及技術之任一者來表示本文描述之資訊及信號。例如，可藉由電壓、電流、電磁波、磁場或磁性粒子、光場或光學粒子或其等之任何組合表示可貫穿上文描述引用之資料、指令、命令、資訊、信號、位元、符號及晶片。一些圖式可將信號繪示為一單一信號；然而，一般技術者將理解，信號可表示信號之一匯流排，其中匯流排可具有各種位元寬度。
如本文使用，術語「虛擬接地」係指保持在約零伏特(0 V)之一電壓但不與接地直接連接之一電路之一節點。因此，一虛擬接地之電壓可暫時波動且在穩定狀態返回至約0 V。可使用各種電子電路元件來實施一虛擬接地，諸如由運算放大器及電阻器構成之一分壓器。其他實施方案亦係可能的。「虛擬接地」或「經虛擬接地」意謂連接至約0V。
術語「電子通信」及「耦合」係指支援組件之間的電子流之組件之間的一關係。此可包含組件之間的一直接連接或可包含中間組件。彼此電子通信或耦合之組件可主動交換電子或信號(例如，在一通電電路中)或可不主動地交換電子或信號(例如，在一斷電電路中)，但可經組態且可操作以在通電至一電路之後交換電子或信號。例如，經由一開關(例如，一電晶體)實體連接之兩個組件電子通信或可無關於開關之狀態(即，斷開或閉合)而耦合。
術語「隔離」係指其中電子目前無法在其等之間流動之組件之間的一關係；若組件之間存在一開路，則其等彼此隔離。例如，當一開關斷開時，藉由該開關實體連接之兩個組件可彼此隔離。
如本文使用，術語「短接」係指組件之間的一關係，其中經由啟動所討論的兩個組件之間的一單一中間組件建立組件之間的一導電路徑。例如，短接至一第二組件之一第一組件可在兩個組件之間的一開關閉合時與第二組件交換電子。因此，短接可為實現處於電子通信中之組件(或線)之間的電荷流動之一動態操作。
本文論述之裝置(包含記憶體陣列)可形成在一半導體基板(諸如矽、鍺、矽鍺合金、砷化鎵、氮化鎵等)上。在一些情況中，基板係一半導體基板。在其他情況中，基板可係一絕緣體上覆矽(SOI)基板(諸如玻璃上覆矽(SOG)或藍寶石上覆矽(SOP))或另一基板上之半導體材料之磊晶層。可透過使用各種化學物種(包含但不限於磷、硼或砷)摻雜而控制基板或基板之子區域之導電率。可藉由離子植入或藉由任何其他摻雜方法在基板之初始形成或生長期間執行半導體基板之摻雜。
硫屬化物材料可為包含元素硫(S)、硒(Se)及碲(Te)之至少一者之材料或合金。本文論述之相變材料可為硫屬化物材料。硫屬化物材料及合金可包含但不限於Ge-Te、In-Se、Sb-Te、Ga-Sb、In-Sb、As-Te、Al-Te、Ge-Sb-Te、Te-Ge-As、In-Sb-Te、Te-Sn-Se、Ge-Se-Ga、Bi-Se-Sb、Ga-Se-Te、Sn-Sb-Te、In-Sb-Ge、Te-Ge-Sb-S、Te-Ge-Sn-O、Te-Ge-Sn-Au、Pd-Te-Ge-Sn、In-Se-Ti-Co、Ge-Sb-Te-Pd、Ge-Sb-Te-Co、Sb-Te-Bi-Se、Ag-In-Sb-Te、Ge-Sb-Se-Te、Ge-Sn-Sb-Te、Ge-Te-Sn-Ni、Ge-Te-Sn-Pd或Ge-Te-Sn-Pt。如本文中所使用之帶連字符之化學組合物表示法指示一特定化合物或合金中所包含之元素且意欲表示涉及該等所指示元素之所有化學計量學。例如，Ge-Te可包含Gex Tey ，其中x及y可為任何正整數。可變電阻材料之其他實例可包含二元金屬氧化物材料或包含兩個或兩個以上金屬(例如，過渡金屬、鹼土金屬及/或稀土金屬)之混合價氧化物。實施例不限於與記憶體單元之記憶體元件相關聯之一(或若干)特定可變電阻材料。例如，可變電阻材料之其他實例可用於形成記憶體元件且可尤其包含硫屬化物材料、巨磁阻材料或基於聚合物之材料。
如本文描述，除了半導體基板之上述摻雜之外，一記憶體單元中之硫屬化物材料可使用在一後續蝕刻步驟期間影響記憶體單元之蝕刻速率之一摻雜劑摻雜。在一些實例中，一記憶體單元中之硫屬化物材料可使用一摻雜劑以實質上不更改記憶體單元之導電率之一方式摻雜。例如，硫屬化物材料可使用銦按實質上不影響硫屬化物材料內之離子遷移之一濃度摻雜。
本文中所論述之一或若干電晶體可表示一場效電晶體(FET)且包括一三端子裝置，包含一源極、汲極及閘極。該等端子可透過導電材料(例如，金屬)連接至其他電子元件。源極及汲極可為導電的且可包括一重度摻雜(例如，簡併)半導體區域。源極及汲極可藉由一輕度摻雜半導體區域或通道分離。若通道係n型(即，多數載子係電子)，則FET可被稱為一n型FET。若通道係p型(即，多數載子係電洞)，則FET可被稱為一p型FET。通道可由一絕緣閘極氧化物封蓋。可藉由將一電壓施加至閘極而控制通道導電性。例如，分別將一正電壓或負電壓施加至一n型FET或一p型FET可導致通道變為導電。當將大於或等於一電晶體之臨限電壓之一電壓施加至電晶體閘極時，該電晶體可「接通」或「啟動」。當將小於該電晶體之臨限電壓之一電壓施加至該電晶體閘極時，該電晶體可「關斷」或「撤銷啟動」。
本文中所闡述之描述結合隨附圖式描述實例性組態且不表示可實施或可在發明申請專利範圍之範疇內之所有實例。本文中所使用之術語「例示性」意謂「用作一實例、例項或圖解」，而非「較佳」或「優於其他實例」。詳細描述包含用於提供對所描述技術之理解之目的之具體細節。然而，此等技術可在無此等具體細節之情況下實踐。在一些例項中，以方塊圖形式展示熟知結構及裝置以避免模糊所描述實例之概念。
在附圖中，類似組件或特徵可具有相同參考標籤。此外，可藉由在參考標籤後加一破折號及區分類似組件之一第二標籤來區分相同類型之各種組件。當僅在說明書中使用第一參考標籤時，描述可適用於具有相同第一參考標籤之類似組件之任一者，而無關於第二參考標籤。
可使用各種不同科技及技術之任一者來表示本文中所描述之資訊及信號。例如，可藉由電壓、電流、電磁波、磁場或磁性粒子、光場或光學粒子或其等之任何組合來表示可貫穿上文描述引用之資料、指令、命令、資訊、信號、位元、符號及晶片。
可使用經設計以執行本文中所描述之功能之一通用處理器、一DSP、一ASIC、一FPGA或其他可程式化邏輯裝置、離散閘或電晶體邏輯、離散硬體組件或其等之任何組合來實施或執行結合本文中之揭示內容描述之各種闡釋性區塊及模組。一通用處理器可為一微處理器，但在替代例中，處理器可為任何習知處理器、控制器、微控制器或狀態機。一處理器亦可實施為運算裝置之一組合(例如，一數位信號處理器(DSP)及一微處理器之一組合、多個微處理器、結合一DSP核心之一或多個微處理器或任何其他此組態)。
可在硬體、藉由一處理器執行之軟體、韌體或其等之任何組合中實施本文中所描述之功能。若在由一處理器執行之軟體中實施，則可將功能作為一或多個指令或程式碼儲存於一電腦可讀媒體上或經由一電腦可讀媒體傳輸。其他實例及實施方案係在本發明及隨附發明申請專利範圍之範疇內。舉例而言，歸因於軟體之性質，可使用由一處理器執行之軟體、硬體、韌體、硬接線或此等之任意者之組合來實施上文所描述之功能。實施功能之特徵亦可實體定位於各種位置處，包含經分佈使得在不同實體位置處實施功能之部分。又，如本文中所使用，包含在發明申請專利範圍中，如一物項清單(舉例而言，以諸如「至少一者」或「一或多者」之一片語開始之一物項清單)中使用之「或」指示一包含清單，使得(舉例而言) A、B或C之至少一者之一清單意謂A或B或C或AB或AC或BC或ABC (即，A及B及C)。又，如本文中所使用，片語「基於」不應解釋為對一條件閉集之參考。例如，在不脫離本發明之範疇之情況下，描述為「基於條件A」之一例示性步驟可基於一條件A及一條件B兩者。換言之，如本文中所使用，片語「基於」應按相同於片語「至少部分基於」之方式來解釋。
提供本文中之描述以使熟習此項技術者能夠製成或使用本發明。熟習此項技術者將容易明白本發明之各種修改，且本文中所定義之通用原理可應用於其他變動而不脫離本發明之範疇。因此，本發明並不意欲限於本文中所描述之實例及設計，而應符合與本文中所揭示之原理及新穎特徵一致之最廣泛範疇。
100‧‧‧記憶體裝置 105‧‧‧記憶體單元 110‧‧‧存取線/字線 110-a‧‧‧字線 110-b‧‧‧字線 115‧‧‧位元線/數位線 115-a‧‧‧位元線 120‧‧‧列解碼器 125‧‧‧感測組件 130‧‧‧行解碼器 135‧‧‧輸入/輸出 140‧‧‧記憶體控制器 145‧‧‧記憶體單元堆疊 200‧‧‧三維(3D)記憶體陣列 204‧‧‧基板 205‧‧‧第一陣列或層疊 210‧‧‧第二陣列或層疊 215-a‧‧‧第一電極 215-b‧‧‧第一電極 220-a‧‧‧硫屬化物材料 220-b‧‧‧硫屬化物材料 225-a‧‧‧第二電極 225-b‧‧‧第二電極 300‧‧‧圖 305‧‧‧分佈 310‧‧‧分佈 315‧‧‧分佈 320‧‧‧分佈 325‧‧‧箭頭 330‧‧‧箭頭 350‧‧‧時序圖 355‧‧‧第一脈衝序列 360‧‧‧第二脈衝序列 365-a‧‧‧第一脈衝 365-b‧‧‧第一脈衝 370‧‧‧第二脈衝 400‧‧‧圖 405‧‧‧分佈 410‧‧‧分佈 415‧‧‧分佈 420‧‧‧分佈 425‧‧‧箭頭 430‧‧‧箭頭 450‧‧‧時序圖 455‧‧‧第一脈衝序列 460‧‧‧第二脈衝序列 465-a‧‧‧第一脈衝 465-b‧‧‧第一脈衝 470‧‧‧第二脈衝 500‧‧‧圖 505-a‧‧‧分佈 505-b‧‧‧分佈 510-a‧‧‧分佈 510-b‧‧‧分佈 515-a‧‧‧分佈 515-b‧‧‧分佈 520-a‧‧‧分佈 520-b‧‧‧分佈 550‧‧‧圖 600‧‧‧方塊圖 605‧‧‧記憶體控制器 610‧‧‧邏輯狀態組件 615‧‧‧脈衝組件 620‧‧‧儲存組件 625‧‧‧程式化序列組件 630‧‧‧偏壓組件 635‧‧‧參數組件 640‧‧‧所欲邏輯狀態組件 645‧‧‧當前邏輯狀態組件 700‧‧‧方法 705‧‧‧操作 710‧‧‧操作 715‧‧‧操作 720‧‧‧操作 800‧‧‧方法 805‧‧‧操作 810‧‧‧操作 815‧‧‧操作 820‧‧‧操作 825‧‧‧操作 900‧‧‧方法 905‧‧‧操作 910‧‧‧操作 915‧‧‧操作 920‧‧‧操作 925‧‧‧操作 930‧‧‧操作 T1‧‧‧持續時間 T2‧‧‧持續時間 T3‧‧‧持續時間 I1‧‧‧電流 I2‧‧‧電流
圖1繪示根據本發明之實施例之一例示性記憶體裝置。
圖2繪示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一記憶體陣列之一實例。
圖3A繪示展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一自選擇記憶體單元中之臨限電壓之分佈之一圖之實例。
圖3B繪示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一時序圖之一實例。
圖4A繪示展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一自選擇記憶體單元中之臨限電壓之分佈之一圖之實例。
圖4B繪示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一時序圖之一實例。
圖5A繪示展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一自選擇記憶體單元中之臨限電壓之分佈之一圖之實例。
圖5B繪示展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一自選擇記憶體單元中之臨限電壓之分佈之一圖之實例。
圖6展示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之一裝置之一方塊圖。
圖7至圖9繪示根據本發明之態樣之支援程式化一多位階自選擇記憶體裝置之方法之流程圖。
400‧‧‧圖
405‧‧‧分佈
410‧‧‧分佈
415‧‧‧分佈
420‧‧‧分佈
425‧‧‧箭頭
430‧‧‧箭頭

Claims (25)

  1. 一種方法，其包括： 識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態； 將具有一第一極性及一第一振幅之一第一脈衝施加至該自選擇記憶體單元以使用不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化該自選擇記憶體單元； 將具有不同於該第一極性之一第二極性及一第二振幅之一第二脈衝施加至該自選擇記憶體單元以使用該第一邏輯狀態程式化該自選擇記憶體單元；及 至少部分基於施加具有該第一極性之該第一脈衝及具有該第二極性之該第二脈衝將該第一邏輯狀態儲存於該自選擇記憶體單元中。
  2. 如請求項1之方法，其進一步包括： 識別該第一邏輯狀態包括該自選擇記憶體單元之一中間狀態，其中施加該第二脈衝至少部分基於識別該第一邏輯狀態包括該中間狀態。
  3. 如請求項1之方法，其進一步包括： 至少基於識別該第一邏輯狀態選擇一程式化序列，其中該程式化序列包含該第一脈衝及該第二脈衝，其中儲存該第一邏輯狀態至少部分基於選擇該程式化序列。
  4. 如請求項1之方法，其進一步包括： 至少部分基於識別該第一邏輯狀態及該第一脈衝之該第一振幅選擇該第二脈衝之該第二振幅，其中施加具有該第二極性之該第二脈衝至少部分基於選擇該第二振幅。
  5. 如請求項1之方法，其中施加該第一脈衝包括： 在一第一時間週期期間施加該第一脈衝至該自選擇記憶體單元，且其中施加該第二脈衝包括： 在一第二時間週期期間施加該第二脈衝至該自選擇記憶體單元，其中該第二時間週期之至少一部分發生於該第一時間週期之後。
  6. 如請求項1之方法，其中施加該第一脈衝及施加該第二脈衝包括： 施加一整合脈衝至該自選擇記憶體單元以使用該第一邏輯狀態程式化該自選擇記憶體單元，其中該整合脈衝包括該第一脈衝及該第二脈衝。
  7. 如請求項5之方法，其進一步包括： 在該第一時間週期與該第二時間週期之間的一第三時間週期期間將該自選擇記憶體單元偏壓至一零電壓位準。
  8. 如請求項1之方法，其進一步包括： 在施加該第一脈衝之後且在施加該第二脈衝之前將該自選擇記憶體單元偏壓至不同於該第一振幅及該第二振幅之一電壓位準。
  9. 如請求項8之方法，其中該電壓位準係一零電壓位準。
  10. 如請求項1之方法，其進一步包括： 至少部分基於識別儲存至該自選擇記憶體單元之該第一邏輯狀態判定與一程式化序列相關聯之一或多個參數，其中儲存該第一邏輯狀態至少部分基於判定與該程式化序列相關聯之該一或多個參數。
  11. 如請求項10之方法，其中該一或多個參數包括該第一脈衝之一極性、該第一脈衝之一振幅、該第一脈衝之一能量、該第一脈衝之一持續時間、該第一脈衝之一形狀、該第二脈衝之一極性、該第二脈衝之一振幅、該第二脈衝之一能量、該第二脈衝之一持續時間、該第二脈衝之一形狀、施加該第一脈衝與施加該第二脈衝之間的一間隙持續時間、在該間隙持續時間期間施加之一電壓之一振幅、在該間隙持續時間期間施加之該電壓之一極性或其等之一組合。
  12. 如請求項1之方法，其中該第一振幅大於該第二振幅。
  13. 如請求項1之方法，其進一步包括： 至少部分基於識別該第一邏輯狀態判定該第一脈衝之一第一形狀及該第二脈衝之一第二形狀，其中將該第一邏輯狀態儲存於該自選擇記憶體單元中至少部分基於判定該第一脈衝之該第一形狀及該第二脈衝之該第二形狀。
  14. 如請求項13之方法，其中該第一脈衝或該第二脈衝係一方形脈衝、一矩形脈衝、一斜坡脈衝或其等之一組合。
  15. 如請求項1之方法，其中該第一邏輯狀態表示至少兩個數位資料位元。
  16. 如請求項1之方法，其中該自選擇記憶體單元之一記憶體組件包括一錐狀輪廓。
  17. 如請求項16之方法，其中該自選擇記憶體單元之該記憶體組件包含具有一第一表面積之一底部表面及定位成與該底部表面相對之具有一第二表面積之一頂部表面，該第一表面積不同於該第二表面積。
  18. 如請求項1之方法，其中該自選擇記憶體單元包括硫屬化物材料。
  19. 一種方法，其包括： 識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之一所欲邏輯狀態； 識別該自選擇記憶體單元之一當前邏輯狀態； 至少部分基於該所欲邏輯狀態及該當前邏輯狀態選擇一程式化脈衝； 施加該程式化脈衝至該自選擇記憶體單元；及 至少部分基於施加該程式化脈衝將該所欲邏輯狀態儲存於該自選擇記憶體單元中。
  20. 如請求項19之方法，其進一步包括： 至少部分基於該自選擇記憶體單元之該所欲邏輯狀態及該當前邏輯狀態選擇與該程式化脈衝相關聯之一或多個參數，其中施加該程式化脈衝至該自選擇記憶體單元至少部分基於選擇與該程式化脈衝相關聯之該一或多個參數。
  21. 如請求項20之方法，其中該一或多個參數包括該程式化脈衝之一極性、該程式化脈衝之一振幅、該程式化脈衝之一能量、該程式化脈衝之一持續時間、該程式化脈衝之一形狀或其等之一組合。
  22. 如請求項21之方法，其中施加該程式化脈衝至該自選擇記憶體單元包括： 施加具有一選定極性及一選定振幅之該程式化脈衝至該自選擇記憶體單元以使用該所欲邏輯狀態程式化該自選擇記憶體單元。
  23. 如請求項19之方法，其中該所欲邏輯狀態表示至少兩個數位資料位元。
  24. 一種記憶體設備，其包括： 一字線； 一位元線； 一自選擇記憶體單元，其具有與該字線耦合之一底部表面且與該底部表面相對之一頂部表面，該頂部表面與該位元線耦合，該自選擇記憶體單元包括在該底部表面與該頂部表面之間的一錐狀輪廓；及 一控制器，其可操作以： 識別經組態以儲存超過兩個邏輯狀態之該自選擇記憶體單元之一第一邏輯狀態； 將具有一第一極性之一第一脈衝施加至該自選擇記憶體單元以使用不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態程式化該自選擇記憶體單元； 將具有一第二極性之一第二脈衝施加至該自選擇記憶體單元以使用該第一邏輯狀態程式化該自選擇記憶體單元，其中該第二極性不同於該第一極性；及 至少部分基於施加具有該第一極性之該第一脈衝及具有該第二極性之該第二脈衝將該第一邏輯狀態儲存於該自選擇記憶體單元中。
  25. 如請求項24之記憶體設備，其中該控制器進一步可操作以： 識別該第一邏輯狀態包括該自選擇記憶體單元之一中間狀態，其中施加該第二脈衝至少部分基於識別該第一邏輯狀態包括該中間狀態。
TW108115652A 2018-06-06 2019-05-07 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術 TWI715975B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/001,798 US10755781B2 (en) 2018-06-06 2018-06-06 Techniques for programming multi-level self-selecting memory cell
US16/001,798 2018-06-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202001889A true TW202001889A (zh) 2020-01-01
TWI715975B TWI715975B (zh) 2021-01-11

Family

ID=68764247

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108115652A TWI715975B (zh) 2018-06-06 2019-05-07 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術
TW109144996A TWI774162B (zh) 2018-06-06 2019-05-07 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109144996A TWI774162B (zh) 2018-06-06 2019-05-07 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術

Country Status (7)

Country Link
US (3) US10755781B2 (zh)
EP (1) EP3815087A4 (zh)
JP (1) JP2021527911A (zh)
KR (2) KR102464273B1 (zh)
CN (1) CN112219240B (zh)
TW (2) TWI715975B (zh)
WO (1) WO2019236256A1 (zh)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8314024B2 (en) * 2008-12-19 2012-11-20 Unity Semiconductor Corporation Device fabrication
US9123414B2 (en) * 2013-11-22 2015-09-01 Micron Technology, Inc. Memory systems and memory programming methods
US9336875B2 (en) 2013-12-16 2016-05-10 Micron Technology, Inc. Memory systems and memory programming methods
US10755781B2 (en) * 2018-06-06 2020-08-25 Micron Technology, Inc. Techniques for programming multi-level self-selecting memory cell
KR20220113451A (ko) * 2020-01-28 2022-08-12 마이크론 테크놀로지, 인크. 메모리 디바이스를 이용한 아날로그 저장
US11107523B1 (en) * 2020-03-24 2021-08-31 Intel Corporation Multi-level cell (MLC) cross-point memory
US11355209B2 (en) 2020-07-10 2022-06-07 Micron Technology, Inc. Accessing a multi-level memory cell
US11302390B2 (en) * 2020-07-10 2022-04-12 Micron Technology, Inc. Reading a multi-level memory cell
US11217308B1 (en) * 2020-08-14 2022-01-04 Micron Technology Programming memory cells using asymmetric current pulses
KR20220057375A (ko) * 2020-10-29 2022-05-09 에스케이하이닉스 주식회사 3차원 셀 구조를 가지는 반도체 장치 및 이의 제조 방법
US11367484B1 (en) 2021-01-21 2022-06-21 Micron Technology, Inc. Multi-step pre-read for write operations in memory devices
JP2022139919A (ja) * 2021-03-12 2022-09-26 キオクシア株式会社 メモリデバイス
US11664074B2 (en) 2021-06-02 2023-05-30 Micron Technology, Inc. Programming intermediate state to store data in self-selecting memory cells
US11694747B2 (en) 2021-06-03 2023-07-04 Micron Technology, Inc. Self-selecting memory cells configured to store more than one bit per memory cell
US11735276B2 (en) * 2021-06-28 2023-08-22 Micron Technology, Inc. Programming techniques for polarity-based memory cells
CA3150178A1 (en) * 2022-02-25 2023-08-25 Torxx Kinetic Pulverizer Limited Processing of mining feedstocks using kinetic pulverization and separation
US11984191B2 (en) * 2022-05-09 2024-05-14 Micron Technology, Inc. Pulse based multi-level cell programming
US12033695B2 (en) * 2022-05-09 2024-07-09 Micron Technology, Inc. Techniques for multi-level chalcogenide memory cell programming

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6836432B1 (en) 2002-02-11 2004-12-28 Advanced Micro Devices, Inc. Partial page programming of multi level flash
KR100794654B1 (ko) * 2005-07-06 2008-01-14 삼성전자주식회사 상 변화 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
US8243542B2 (en) * 2005-11-30 2012-08-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Resistance variable memory devices and read methods thereof
US7524722B2 (en) * 2006-10-12 2009-04-28 Macronix International Co., Ltd. Resistance type memory device and fabricating method and operating method thereof
US7577028B2 (en) 2007-03-23 2009-08-18 Intel Corporation Memory storage technique for a bi-directionally programmable memory device
US7960224B2 (en) * 2007-04-03 2011-06-14 Macronix International Co., Ltd. Operation method for multi-level switching of metal-oxide based RRAM
US7671353B2 (en) * 2007-06-04 2010-03-02 Qimonda North America Corp. Integrated circuit having contact including material between sidewalls
KR20090011249A (ko) 2007-07-25 2009-02-02 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 셀 프로그래밍 방법
JP5159270B2 (ja) * 2007-11-22 2013-03-06 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法
JP2009193626A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Toshiba Corp 半導体記憶装置
CN101952893B (zh) * 2008-02-25 2013-09-11 松下电器产业株式会社 电阻变化元件的驱动方法及使用它的电阻变化型存储装置
US8077505B2 (en) 2008-05-07 2011-12-13 Macronix International Co., Ltd. Bipolar switching of phase change device
US8031516B2 (en) 2008-12-12 2011-10-04 Stephen Tang Writing memory cells exhibiting threshold switch behavior
US8488362B2 (en) * 2009-04-29 2013-07-16 Macronix International Co., Ltd. Graded metal oxide resistance based semiconductor memory device
US8134871B2 (en) * 2009-08-05 2012-03-13 Sandisk Technologies Inc. Programming memory with reduced pass voltage disturb and floating gate-to-control gate leakage
US8274065B2 (en) * 2009-10-19 2012-09-25 Macronix International Co., Ltd. Memory and method of fabricating the same
JP5404683B2 (ja) * 2011-03-23 2014-02-05 株式会社東芝 抵抗変化メモリ
US8866121B2 (en) 2011-07-29 2014-10-21 Sandisk 3D Llc Current-limiting layer and a current-reducing layer in a memory device
US9030870B2 (en) 2011-08-26 2015-05-12 Micron Technology, Inc. Threshold voltage compensation in a multilevel memory
US9183929B2 (en) 2012-08-29 2015-11-10 Micron Technology, Inc. Systems, methods and devices for programming a multilevel resistive memory cell
US9117519B2 (en) 2012-08-29 2015-08-25 Micron Technology, Inc. Methods, devices and systems using over-reset state in a memory cell
TWI484490B (zh) * 2012-11-14 2015-05-11 Univ Nat Chiao Tung 電阻式記憶體裝置及其操作方法
KR102131324B1 (ko) * 2014-07-08 2020-07-07 삼성전자 주식회사 저항성 메모리 장치 및 저항성 메모리 장치의 동작방법
WO2016011638A1 (zh) 2014-07-24 2016-01-28 华为技术有限公司 相变存储器的数据存储方法及控制装置
US9990990B2 (en) 2014-11-06 2018-06-05 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for accessing variable resistance memory device
US9947399B2 (en) 2015-03-26 2018-04-17 Sandisk Technologies Llc Updating resistive memory
US10134470B2 (en) * 2015-11-04 2018-11-20 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods including memory and operation of same
US9697913B1 (en) 2016-06-10 2017-07-04 Micron Technology, Inc. Ferroelectric memory cell recovery
US10446226B2 (en) * 2016-08-08 2019-10-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses including multi-level memory cells and methods of operation of same
US9799381B1 (en) 2016-09-28 2017-10-24 Intel Corporation Double-polarity memory read
US10157670B2 (en) 2016-10-28 2018-12-18 Micron Technology, Inc. Apparatuses including memory cells and methods of operation of same
US10546632B2 (en) 2017-12-14 2020-01-28 Micron Technology, Inc. Multi-level self-selecting memory device
US10381075B2 (en) 2017-12-14 2019-08-13 Micron Technology, Inc. Techniques to access a self-selecting memory device
US10755781B2 (en) * 2018-06-06 2020-08-25 Micron Technology, Inc. Techniques for programming multi-level self-selecting memory cell

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021527911A (ja) 2021-10-14
US12073881B2 (en) 2024-08-27
US20220262437A1 (en) 2022-08-18
KR102464273B1 (ko) 2022-11-07
TW202249008A (zh) 2022-12-16
US20210020243A1 (en) 2021-01-21
KR20220153670A (ko) 2022-11-18
KR20210006475A (ko) 2021-01-18
US11335403B2 (en) 2022-05-17
US20190378568A1 (en) 2019-12-12
EP3815087A1 (en) 2021-05-05
TW202123231A (zh) 2021-06-16
WO2019236256A1 (en) 2019-12-12
EP3815087A4 (en) 2022-03-09
TWI774162B (zh) 2022-08-11
US10755781B2 (en) 2020-08-25
CN112219240A (zh) 2021-01-12
KR102592086B1 (ko) 2023-10-23
CN112219240B (zh) 2024-01-09
TWI715975B (zh) 2021-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI715975B (zh) 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術
US11817148B2 (en) Techniques for programming a memory cell
TWI779659B (zh) 讀取多位階記憶體單元
KR102656533B1 (ko) 메모리 셀 선택
WO2020131613A1 (en) Systems and techniques for accessing multiple memory cells concurrently
US11468930B2 (en) Vertical decoder
TWI847196B (zh) 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術