TW201945771A - 偏光板 - Google Patents

Abstract

本發明提供具有至少一個彎曲部的偏光板。該偏光板係包含具有第一面和第二面的偏光片，以及設置在前述偏光片的前述第一面上的第一基材。前述偏光片的厚度為15μm以下，前述第一基材為熱塑性樹脂基材，並且前述偏光板具有至少一個彎曲部。

Description

偏光板

本發明係關於一種偏光板。

偏光板係具有特定配向結構的光學元件。例如，專利文獻1揭示了一種偏光膜，其為在以由聚乙烯醇(PVA)或其衍生物構成的膜所代表的聚合膜上吸附碘或二色性色素，並且使該膜被單軸地拉伸且配向而形成者。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]特開2007-047498號公報

偏光板有時會因應其用途而加熱成型。例如，在將偏光板貼合到如太陽鏡等具有彎曲表面的透鏡之情形，偏光板在沿著透鏡貼合的同時加熱成型，使得偏光板具有順應曲面的形狀。然而，將偏光板加熱成型時，可能發生如下的問題。

使用以往的拉伸PVA的偏光板的偏光片的厚度為20μm至30μm。當這種偏光板於加熱成型時，拉伸PVA的收縮力大且在拉伸方向上熱收縮，並且有沿著拉伸方向撕裂的情形。為了抑制這種現象，在使用拉伸PVA的偏光板中，需要將偏光板貼合到諸如樹脂等的基板上或者用硬化性樹脂固定偏光板的周邊。

本發明係有鑑於上述情形而完成者，其目的在於提供一種因熱成型所導致之收縮被抑制，且經薄膜化的偏光板。

本發明包含以下之態樣。

[1]一種偏光板，該偏光板包含具有第一面和第二面之偏光片，以及設置於前述偏光片的前述第一面上之第一基材，其中，前述偏光片的厚度為15μm以下，前述第一基材為熱塑性樹脂基材，並且前述偏光板為具有至少一個彎曲部。

[2]如[1]所述之偏光板，其中，前述彎曲部的曲率半徑為30mm至150mm。

[3]如[1]或[2]所述之偏光板，其中，前述第一基材含有丙烯酸類樹脂和環烯類樹脂中的至少一種樹脂。

[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片包括偏光層，前述偏光層含有液晶化合物之固化物以及二色性色素，並且該二色性色素分散且配向於前述偏光層中。

[5]如[1]至[4]中任一項所述之偏光板，其中前述第一基材的厚度為40μm至120μm。

[6]如[1]至[5]中任一項所述之偏光板，更具有在前述偏光片的第二面上的第二基材。

[7]如[6]前述之偏光板，其中，前述第二基材含有選自丙烯酸類樹脂、環烯類樹脂以及三醋酸纖維素樹脂中的至少一種樹脂。

[8]如[1]至[7]中任一項所述之偏光板，該前述偏光板的用以貼合至顯示面上具有彎曲表面的顯示裝置之前述顯示面上，且前述彎曲部與前述彎曲表面一致。

根據本發明，可以提供一種因熱成型所導致之收縮被抑制，且經薄膜化之偏光板。

1、1’‧‧‧偏光板

2、2’‧‧‧圓偏光板

11‧‧‧偏光片

12‧‧‧第一基材

13‧‧‧彎曲部

14‧‧‧第二基材

15‧‧‧相位差膜

21‧‧‧偏光層

22‧‧‧配向層

31‧‧‧第一面

32‧‧‧第二面

101‧‧‧液晶化合物之固化物

102‧‧‧二色性色素

第1圖係於本發明之一個實施例中偏光板之示意性剖面圖。

第2圖係於本發明之一個實施例中偏光板之示意性剖面圖。

第3圖係於本發明之一個實施例中圓偏光板之示意性剖面圖。

第4圖係於本發明之一個實施例中圓偏光板之示意性剖面圖。

本實施例中的偏光板係包含具有第一面以及第二面的偏光片，以及設置在前述偏光片的前述第一面上的第一基材，其中，前述偏光片的厚度為15μm以下，第一基材為熱固性樹脂基材，並且前述偏光板具有至少一個彎曲部。

以下，作為本發明的一個態樣，將分別說明關於偏光層含有液晶化合物之固化物的情形以及含有PVA的情形。

<第1實施形態>

第1圖係關於本實施型態的偏光板1之示意性剖面圖。偏光板1含有偏光片11和第一基材12。偏光片11具有第一面31和第二面32。第一基材12位於第一面31上。偏光片11含有偏光層21和配向層22。偏光層21包含液晶化合物的固化物101和二色性色素102。二色性色素102分散在液晶化合物的固化物101中。配向層22具有配向控制力。透過將未固化的液晶化合物置於配向層22上，並使未固化的液晶化合物排列為同一個方向。之後，藉由使液晶化合物固化，獲得在同一個方向上排列的液晶化合物之固化物101。二色性色素102由於固化之前的液晶化合物中呈分散狀態並且位於配向層22之上，順應著液晶化合物的固化物101的配向，二色性色素102也沿液晶化合物的固化物101的排列方向而配向。

偏光板1具有至少一個的彎曲部13。彎曲部13的形狀取決於與偏光板1貼合的物體的形狀。在本實施例中，彎曲部13也可以是具有複數個曲率半徑的彎曲部。本實施例中的曲率半徑，係依據在彎曲部13中最靠近虛擬中心的面來定義。例如，第1圖的偏光板1的曲率半徑係定義為第二面32的曲率半徑。曲率半徑是使用以下等式從彎曲部13的弧長、弦長和矢高獲得的值。

弧長(L)=半徑(r)*中心角(θ)(1)

弦長(d)=2 * r * sin(θ/2)(2)

矢高(h)=r * {1-cos(θ/2)}(3)

彎曲部13的曲率半徑也可以為例如30mm至150mm。另外，偏光板1也可以具有兩個以上的彎曲部13。彎曲部13的形狀並沒有特別限制，例如也可以是具有在含有拉伸PVA的偏光板中無法跟隨的小曲率半徑的彎曲部。

在使用厚度為20μm至30μm的拉伸PVA作為偏光層的偏光板時，在加熱成型時有在拉伸PVA的拉伸方向上熱收縮或者沿拉伸PVA的拉伸方向撕 裂的情況。為了抑制這種現象，需要藉由用以維持形狀的第二基材以支持偏光板。

對偏光板1的偏光片而言，在使用液晶化合物之固化物101和使用讓二色性色素102配向的材料的情形時不需要拉伸。因此，與含有具有20μm至30μm的厚度的拉伸PVA的常規偏光板相比，由熱所導致的收縮小。因此，當使用具有20μm至30μm的常規厚度的拉伸PVA對偏光板進行加熱成型時，可以減薄或省略為了維持形狀所用的第二基材。偏光板1可以貼合到具有更複雜形狀的物體上，因此有助於改善物體的設計性。

對偏光板1的偏光片而言，在使用液晶化合物之固化物101和使用讓二色性色素102配向的材料的情形時，彎曲強度不會根據加熱成型時的彎曲方向而變化。因此，可以貼合到具有更複雜形狀的物體上，因而有助於改善物體的設計。

偏光板1的厚度為25μm至200μm，較佳為50μm至180μm，再佳為60μm至170μm。透過將偏光板1的厚度設定為60μm至170μm，偏光板1對與接合的物體的形狀的跟隨性變得較佳。本實施例中係將偏光板1的厚度定義為藉由接觸式膜厚計測量偏光板1上的任意五個點，並計算其平均後所得到的值。

偏光片11的厚度為1μm以上15μm以下，較佳為1μm以上10μm以下，再佳為1μm以上5μm以下，更佳為1μm以上3μm以下。本實施例中的偏光片11的厚度可透過將偏光片11的任意五個點用接觸式膜厚計、干涉膜厚度計、雷射顯微鏡或觸針膜厚度計測量後，將其平均值算出而求得。

本實施例的偏光板1由於具有配向有液晶化合物的固化物101和二色性色素102的偏光層21，使得即使加熱偏光板1，偏光特性也幾乎不變化。例 如，加熱前後的偏光板1的偏光特性的保持率為90%至100%，較佳為95%至100%。在本實施例中，加熱前後的偏光板1的偏光特性的保持率可以當作為二色性色素102的配向方向(也稱為吸收軸方向)的吸光度保持率(%)來算出。

具體而言定義如下。首先，測量偏光板1在23℃時的吸收軸方向上的吸光度A1(A1(23℃))。使用分光光度計(島津製作所股份有限公司製，UV-3150(商品名))中組裝附有偏光板1的折疊器的裝置，透過雙光束法以2nm步階在380至680nm的波長範圍內測量A1(23℃)。並且，為了消除由於偏光板1的表面反射所導致的光損失部分之影響，設置測量樣本之後，在沒有光吸收的情況下於800nm處校正零點之後進行測量。接著，將其放入85℃的烘箱中500小時，取出後，依據上述方法再次進行吸光度測定。透過下式(I)計算吸光度保持率(%)。

吸光度保持率(%)=A1(85℃)/A1(23℃)×100(I)

在式中，A1(85℃)係指於85℃的烘箱中將偏光板放置500小時後在吸收軸方向的吸光度，A1(23℃)係表示在耐熱性試驗之前於23℃下測量時吸收軸方向的吸光度。

偏光板1由於偏光片薄至15μm以下，因此與含有厚度20μm至30μm的拉伸PVA作為偏光片的偏光板相比，因加熱導致的收縮小。此外，在使用配向有液晶化合物的固化物101和二向色性色素102的偏光層21的情形，由於加熱導致的收縮更小。因此，即使在熱成型後的彎曲部13中的多個任意點處，偏光特性的變化也很小。

第2圖是本發明的一個實施例中偏光板的示意性剖面圖。偏光板1'如第2圖所示，位於偏光片11的第二面32上置放有第二基材14。偏光片11可以藉由第二基材14保護之。具體而言，例如在用手直接接觸偏光片11的情形下，可能 會產生刮痕等，使得偏光特性僅在該部分處劣化。第二基材14可以防止這種偏光特性的劣化。

以下，詳細說明關於偏光板1所包含的各要素。

1.偏光片

根據本實施例的偏光片具有配向有二色性色素和液晶化合物的固化物的偏光層。該偏光層可以使用由含有二色性色素的組成物(以下依據情況有時稱為「偏光片形成用組成物」)而形成。在該實施例中，液晶化合物也可以發揮二色性色素的作用，亦即，液晶化合物也可以呈現二色性。作為呈現二色性的液晶化合物，可以例示如，於WO2011/024891和日本特開2018-220229號公報中所揭示的化合物。

1-1.二色性色素

作為二色性色素，可以使用在380nm至800nm的波長範圍內有吸收的色素，並且較佳為使用有機色素。作為二色性色素，可列舉例如偶氮化合物。

偶氮化合物的實例包括在380nm至550nm的波長範圍內具有最大吸收的二色性色素(1)。可列舉例如由下式(1)所表示的化合物(以下，有時稱之為「化合物(1)」)作為二色性色素(1)。化合物(1)於偶氮苯位點的幾何異構物較佳者為反式。

式(1)中之Y係指由下述式(Y1)或式(Y2)所表示的基團，較佳者為由式(Y1)所表示的基團。

在式(Y1)和式(Y2)中，兩端的直線表示鍵結，左側的鍵與具有偶氮基的伸苯基鍵合，右側的鍵是具有R²的伸苯基。L係氧原子或為-NR-，R係氫原子或係具有1至4個碳原子的烷基。作為烷基，可列舉例如，甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基和第三丁基。其中，L較佳者為氧原子或-NH-，再佳者為氧原子。

R¹係由下式(R¹-1)、式(R¹-2)或由式(R¹-3)所表示的基團，較佳者為由式(R¹-2)和式(R¹-3)所表示的基團。在式中*表示為鍵結。

由式(R¹-2)所表示的基團中之ma，較佳為分別獨立地為0至10的整數，更佳為0至5的整數。兩種ma值可以相同或分別不同，但相同者較佳。

R²係指由式(R²-1)、式(R²-2)、式(R²-3)、式(R²-4)、式(R²-5)或式(R²-6)所表示的基團，並且較佳者為由式(R²-2)、式(R²-5)或式(R²-6)所表示的基團，更佳為由式(R²-6)表示的基團。

當R²是由式(R²-1)、式(R²-2)、式(R²-3)、式(R²-5)或式(R²-6)所表示的基團時，於該基團中所包括的mb，較佳者為0至10的整數，更佳為0至5的整數。

作為化合物(1)，例如可列舉由下式(1-1)至(1-8)所表示之化合物。

其中，較佳者為由式(1-1)、式(1-2)、式(1-3)、式(1-5)、式(1-7)以及式(1-8)所表示之化合物。更佳者係由式(1-1)、式(1-2)、式(1-3)以及式(1-7)所表示之化合物。

在此，針對化合物(1)的製造方法進行說明。例如，化合物(1)能藉由由式(1X)所表示之化合物[化合物(1X)]與由式(1Y)表示的化合物[化合物(1Y)]，透過下圖所表示之反應而製造。

在上述圖示中，R¹、R²和Y與上述的含義相同，Re¹和Re²係指彼此反應後成為Y基團的兩基團。Re¹和Re²的組合的實例包括羧基以及羥基的組合、羧基以及氨基(其中、此氨基以R置換亦可)的組合、碳醯鹵基以及羥基的組合、碳醯鹵基以及氨基(其中，此氨基以R置換亦可)的組合、羰氧基烷基以及羥基的組合、羰氧烷基和氨基(其中，此氨基以R置換亦可)的組合。此外，雖然在此說明了具有R¹的化合物(1X)和具有R²之化合物(1Y)，然而也可以使R¹經適當的保護基保護之化合物和R²經適當的保護基保護之化合物兩者彼此反應後，再透過進行適當的去保護反應來製備化合物(1)。

化合物(1X)以及化合物(1Y)反應時之反應條件，可以根據所使用的化合物(1X)以及化合物(1Y)的類型選擇適當或最佳的已知條件。

例如，Re¹為羧基，Re²為羥基，Y為-C(=O)-O-之情形時，縮合的反應條件可列舉例如，在酯化縮合劑的存在下，於溶劑中進行縮合。溶劑的實例包括例如氯仿等的化合物(1X)以及化合物(1Y)均可溶的溶劑。作為酯化縮合劑的 實力可列舉例如二異丙基碳二亞胺(IPC)。在此，較佳者為更進一步組合使用二甲基氨基吡啶(DMAP)等鹼。反應溫度根據化合物(1X)和化合物(1Y)的類型選擇，可列舉例如在-15至70℃的範圍內，較佳為在0至40℃的範圍內。反應時間可列舉例如在15分鐘至48小時的範圍內。

反應時間也可以透過已知的分析手段，如液相色譜法或氣相色譜法，於反應過程中適當地取樣出反應混合物，再根據化合物(1X)和化合物(1Y)的消失程度或根據化合物(1)的形成程度來確認與決定。

從反應後的反應混合物，能夠藉由再結晶、沉澱、萃取以及各種色譜法等已知的方法，或者藉由組合使用這幾種方法，將化合物(1)萃取出。

偶氮化合物可以使用在波長550nm至700nm的範圍內具有最大吸收值的二色性色素(2)者。

二色性色素(2)也可以為含有在波長550nm至600nm的範圍內具有最大吸收值的二色性色素(2-1)，以及/或者含有在波長600nm至700nm的範圍內具有最大吸收值的二色性色素(2-2)。二色性色素(2-1)再佳者為在波長570nm至600nm的範圍內具有最大吸收值者，而二色性色素(2-2)再佳者為在波長600nm至680nm的範圍內具有最大吸收者。

二色性色素(2)的實例包括由下式(2)所表示之化合物(以下，根據情況有時稱之為「化合物(2)」)。化合物(2)的偶氮苯位點的幾何異構較佳者為反式。在式(2)中，n為1或2。

Ar¹以及Ar³係各自獨立為由式(AR-1)、式(AR-2)、式(AR-3)或式(AR-4)所表示的基團。*代表鍵結。

Ar²是由式(AR2-1)、式(AR2-2)或式(AR2-3)所表示的基團。

A¹以及A²分別獨立地為由式(A-1)至式(A-9)中的任一個所表示的基團。在式(A-2)、式(A-3)、式(A-5)和(A-6)中，mc為0至10的整數，且當同一個基團中存在有兩個mc的情形時，此兩個mc彼此相同或互異。

藉由以使得化合物(2)在波長550nm至600nm的範圍內具有最大吸收值的方式組合Ar¹、Ar²以及Ar³，決定有可以用作為二色性色素(2-1)的化合物 (2)。同樣地，藉由以使得化合物(2)在波長600nm至700nm的範圍內有吸收，組合Ar¹、Ar²以及Ar³，決定有可以用作為二色性色素(2-2)的化合物(2)。

化合物(2)的具體實例，可列舉例如由式(2-11)至(2-37)所分別表示之化合物。

在上述化合物(2)的具體實例中，由式(2-12)、式(2-13)、式(2-18)、式(2-20)、式(2-21)、式(2-22)、式(2-23)、式(2-24)、式(2-26)、式(2-27)、式(2-28)、 式(2-29)、式(2-30)以及式(2-37)分別表示的化合物係符合二色性色素(2-1)；由式(2-31)、式(2-32)、式(2-33)、式(2-34)、式(2-35)以及式(2-36)分別表示的化合物係符合二色性色素(2-2)。另外，雖然式(2-11)、式(2-15)以及式(2-16)中分別所代表的不是吸收在波長550nm至700nm之間的色素，但是其可以與其他二色性色素組合使用。

在化合物(2)的具體實例中，較佳者為由式(2-15)、式(2-16)、式(2-18)、式(2-20)、式(2-21)、式(2-22)、式(2-23)、式(2-27)、式(2-29)、式(2-31)、式(2-32)、式(2-33)、式(2-34)、式(2-35)以及式(2-37)所分別表示表示的化合物作為二色性色素(2)。

二色性色素(2)係藉由例如日本特開昭58-38756號公報、日本特開昭63-301850號公報等中所記載的已知方法製備。

上述二色性色素可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。當偏光片形成用組成物含有兩種以上的二色性色素時，以相對於下述的聚合性液晶化合物100質量份的含量計算時，每種二色性色素的含量較佳為3質量份以下，再佳為0.1質量份以上2.5質量份以下，更佳者為1質量份以上且1.5質量份以下。如果二色性色素的各含量在上述範圍內，則用於形成偏光片的組合物中的二色性色素在溶劑中表現出足夠的溶解性，因此使用用於形成偏光片的組合物製造偏光片時，即不容易製得有缺陷的偏光片。這使得即使用薄膜也能夠更容易地製造具有高度光吸收選擇性並且耐熱性優異的偏光板。相對於下述的聚合性液晶化合物100質量份中的含量，用於形成偏光片的組合物中所包含的二色性色素的總量較佳為9質量份以下，並且再佳為0.1質量份以上7.5質量份以下，更佳為1質量份以上且4.5質量份以下。

1-2.液晶化合物

本實施例中的偏光片11係具有包含液晶化合物的固化物101以及二色性色素102的偏光層21。亦即，上述偏光片形成用組成物包含液晶化合物和二色性色素。

本實施例中的液晶化合物可舉聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物是可以在配向的狀態聚合的液晶化合物，並且在分子中具有聚合性基團。包含聚合性液晶化合物的偏光片形成用組成物，藉由在使聚合性液晶化合物配向的狀態聚合形成固化膜。固化膜，亦即液晶化合物的固化物101不必需要具有液晶性。聚合性基團再佳者為自由基聚合性基團。自由基聚合性基團係指參與自由基聚合反應的基團之意。

聚合性液晶化合物無論是顯示為向列相的液晶相(以下，根據情形有時稱之為「向列型液晶相」)者，或者是顯示為層列相的液晶相(以下，根據情形有時稱之為「層列型液晶相」)者，或者即使顯示為向列型液晶相與層列型液晶相兩者都可以，但較佳為至少顯示向列型液晶相的聚合性向列型液晶化合物。在含有聚合性向列型液晶相的偏光片形成組成物中，透過其與二色性色素的相互作用抑制著色，並且可以獲得具有更優異的偏光性能的偏光片。

作為聚合性層列型的液晶相所顯示的層列型液晶相，再佳者為高階層列型液晶相。這裡所謂的高階層列型液晶相係指層列型B相、層列型D相、層列型E相，層列型F相、層列型G相、層列型H相、層列型I相、層列型J相、層列型K相以及層列型L相。其中，更佳者為層列型B相、層列型F相以及層列型I相。

當聚合性液晶化合物的層列型液晶相為該等高階層列型液晶相時，可以製備具有更高程度的配向有序度的偏光片。另外，使用此種配向有序度 高的高階層列型液晶相之聚合性液晶化合物所製造的偏光片，在X射線繞射測量中可以獲得具有衍生自諸如六角相和晶相等高階結構而來的布拉格峰。此布拉格峰係源自分子配向面的週期構造的峰。根據用於本實施型態中的偏光片形成用組成物，可以得到具有3.0至5.0□的周期間隔的偏光片。

聚合性液晶化合物例如可以以如下之方法確認是否呈現向列型液晶相或層列型液晶相。準備合適的基材，並將偏光片形成用組成物塗佈至基材上以形成塗佈膜。然後，在聚合性液晶化合物不聚合的條件，透過加熱處理或減壓處理除去塗佈膜中含有的溶劑。接著，將形成在基材上的塗佈膜加熱至等相溫度，並藉由用偏光顯微鏡進行紋理觀察來檢查透過逐漸冷卻而顯影的液晶相。在該試驗中，再佳者係例如，透過冷卻顯示向列型液晶相並且透過進一步冷卻顯示層列型液晶相的聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物和二色性色素在向列型液晶相與層列型液晶相中不發生相分離，可以透過例如各種顯微鏡的表面觀察或用霧度計測量散射程度來確認。

聚合性液晶化合物的實例包括由式(4)所表示之化合物(以下，根據情形有時稱之為「化合物(4)」)。

U¹-V¹-W¹-X¹-Y¹-X²-Y²-X³-W²-V²-U²(4)

在式(4)中，X¹、X²以及X³各自獨立表示為可以具有取代基之1,4-伸苯基或者為可以具有取代基之環己烷-1,4-二基。較佳為X¹、X²以及X³之中的至少一個為可以具有取代基的環己烷-1,4-二基，並且X¹或X³再佳者為可以具有取代基之環己烷-1,4-二基。構成可以具有取代基之環己烷-1,4-二基的-CH₂-亦可以被-O-、-S-或者-NR-代替。R係指具有1至6個碳原子的烷基或苯基。

可以具有取代基之環己烷-1,4-二基較佳者為可以具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基，再佳者為不具有取代基的之反式-環己烷-1,4-二基。在式(4)中，X¹，X²和X³中的至少兩個可為可以具有取代基的1,4-伸苯基，再佳者為沒有取代基之1,4-伸苯基。

可以具有取代基之1,4-伸苯基或者可以具有取代基之環己烷-1,4-二基之中，可以作為其任意的取代基者可列舉為例如：甲基、乙基以及丁基等的具有1至4個碳原子的烷基、氰基以及鹵素原子等。

在式(4)中，Y¹和Y²各自獨立代表為-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CR^a=CR^b-、-C≡C-Or-或者為CRa=N-。R^a和R^b各自獨立代表為氫原子或為具有1至4個碳原子的烷基。Y¹較佳為-CH₂CH₂-、-COO-或單鍵；Y²較佳為-CH₂CH₂-、-COO-或-CH₂O-。

在式(4)中，U¹為氫原子或聚合性基團，較佳為聚合性基團。U²為聚合性基團。U¹和U²較佳者均為聚合性基團，再佳為光聚合性基團。光聚合性基團是指能夠藉由下述的光聚合起始劑產生的活性自由基、酸等參與聚合反應的基團。具有光聚合性基團的聚合性液晶化合物之優點在於它可以在較低溫度條件下聚合。

U¹和U²之聚合性基團可以彼此不同，但較佳者為相同類型的基團。聚合性基團的實例包括例如：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基和氧雜環丁烷基。其中，作為聚合性基團，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基環氧乙烷基和氧雜環丁烷基，再佳為丙烯醯氧基。

在式(4)中，V¹和V²各自獨立代表為可以具有取代基的具有1至20個碳原子的烷二基，並且構成該烷二基的-CH₂-被取代為-O-、-S-或者-NH-亦可。作為具有1至20個碳原子的烷二基，可列舉例如：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁-1,3-二基、丁-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二烷基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基和二十烷-1,20-二基。V¹和V²較佳為具有2至12個碳原子的烷二基，再佳為具有6至12個碳原子的烷二基。作為具有1至20個碳原子的烷二基的任意的取代基，可以列舉例如：氰基以及鹵素原子。烷二基較佳者為無取代基者，再佳為無取代基且呈直鏈狀者。

在式(4)中，W¹和W²彼此獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或者-OCOO-，較佳為單鍵或者-O-。

化合物(4)的實例包括由式(4-1)至(4-43)所表示之化合物。當化合物(4)的具體實例係具有環己烷-1,4-二基的情形時，環己烷-1,4-二基較佳者為反式。

聚合性液晶化合物可單獨或以混合兩種以上而使用於偏光片形成用組成物中。當混合兩種以上的聚合性液晶化合物時，較佳者為至少一種為化合物(4)。通常，混合兩種聚合性液晶化合物時的混合比例，化合物(4)以外的聚合性液晶化合物：化合物(4)為1：99至50：50，較佳為5：95至50：50，再佳者為10：90至50：50。

在化合物(4)中，較佳者為由式(4-5)、式(4-6)、式(4-7)、式(4-8)、式(4-9)、式(4-10)、式(4-10)、式(4-11)、式(4-12)、式(4-13)、式(4-14)、式(4-15)、式(4-22)、式(4-24)、式(4-25)、式(4-26)、式(4-27)、式(4-28)以及式(4-29)所表示的化合物。這些化合物藉由與其它聚合性液晶化合物的相互作用，可以在處於低於晶相轉變溫度的溫度條件下，亦即，於同時充分保持在高階的層列型液晶相的液晶狀態下容易地聚合。具體而言，這些化合物可以在70℃以下，較佳為60℃以下的溫度條件下，同時充分保持在高階的層列型液晶相的液晶狀態下聚合。

偏光片形成用組成物中聚合性液晶化合物的含量比例，相對於偏光片形成用組成物中的固形分，較佳為50質量%至99.9質量%，再佳為80質量%至99.9質量%。若聚合性液晶化合物的含量比在上述範圍內，則聚合性液晶化合物的配向性有變高的傾向。固形分係指透過從用於形成偏光片的組成物中除去諸如溶劑等的揮發性成分後獲得的成分的總量。

聚合性液晶化合物可以使用由例如：Lub等，RECL.Trav.Chim.Pays-Bas，115頁，321-328(1996年)、日本專利第4719156號等文獻中所記載的眾所周知的方法製造。

1-3.溶劑

偏光片形成用組成物較佳為含有溶劑者。作為溶劑較佳者為能夠完全溶解二色性色素以及聚合性液晶化合物的溶劑。又，對於包含在偏光片形成用組成物中的聚合性液晶化合物之聚合反應呈惰性反應的溶劑較佳。

溶劑可舉例如：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚和丙二醇一甲基醚等的醇類溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯和乳酸乙酯等的酯類溶劑；丙酮、 甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮和甲基異丁基酮等的酮溶劑；戊烷、己烷和庚烷等的脂肪烴溶劑如；甲苯和二甲苯等的芳烴溶劑；乙腈等的腈溶劑；四氫呋喃和二甲氧基乙烷等的乙醚溶劑；以及氯仿和氯苯等的含氯溶劑等。這些溶劑可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。

相對於偏光片形成用組成物的總量，溶劑的含量較佳為50質量%至98質量%。換句話說，偏光片形成用組成物之中固形分較佳為2質量%至50質量%。當固形分為2質量%以上時，可以容易地獲得作為本實施例的目的之一的薄型偏光板。另外，當固形分為50質量%以下時，由於偏光片形成用組成物的黏度變低，使得偏光片的厚度變得約略均勻，因而偏光片中難以產生不均勻性。固體的含量可以考量偏光片的厚度來決定。

1-4.添加劑

本實施例中的偏光片形成用組成物可任選地含有添加劑。作為添加劑的實例可列舉例如：聚合起始劑、光敏化劑、聚合抑制劑、調平劑等。

1-4-1.聚合起始劑

偏光片形成用組成物較佳為含有聚合起始劑。聚合起始劑是能夠起始聚合性液晶化合物之聚合反應的化合物。較佳為使用光聚合起始劑作為聚合起始劑，因為聚合反應可以在低溫條件下引發。具體而言，係藉由光的作用以產生活性自由基或產生酸的化合物來用作光聚合起始劑。在該光聚合起始劑中，再佳者係藉由光的作用產生活性自由基的化合物者。

聚合起始劑包括：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三

化合物、碘鹽和鋶鹽等。

安息香化合物可列舉例如：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚以及安息香異丁醚等。

二苯甲酮化合物的實例包括：二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫醚、3,3'，4,4'-四(第三丁基過氧羰基)、二苯甲酮以及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。

烷基苯酮化合物可列舉例如：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲硫基苯基)丙-1-酮、2-芐基-2-二甲氨基-1-(4-嗎啉基苯基)丁-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙-1-酮、1-羥基環己基苯基酮以及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙-1-酮的寡聚物等。

醯基氧化膦化合物可列舉例如：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦和雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。

三

化合物包括：2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三

、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三

、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三

、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三

、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三

、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙氨基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三

以及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三

等。

聚合起始劑也可以使用市售品。市售的聚合起始劑可列舉例如：「Irgacure907」、「Irgacure184」、「Irgacure651」、「Irgacure819」、「Irgacure250」、「Irgacure369」(BASF日本股份有限公司)；「SeikoolBZ」、「SeikoolZ」、「SeikoolBEE」「(精工化學股份有限公司製)；「kayacureBP100」、(日本化藥股 份有限公司)；「UVI-6992」、(陶氏化學日本股份有限公司製)；「AdekaOptomerSP-152」、「AdekaOptomerSP-170」(ADEKA股份有限公司製)；「TAZ-A」、「TAZ-PP」(DKSH日本股份有限公司製)和「TAZ-104」(三和化學股份有限公司製)等。

當偏光片形成用組成物含有聚合起始劑的情形，其含量可以根據偏光片形成用組成物中包含的聚合性液晶化合物的種類和含有量來適當地調節，通常相對於聚合性液晶化合物總計100質量份，聚合起始劑的含量為0.1至30質量份，較佳為0.5至10質量份，再佳為0.5至8質量份。如果聚合起始劑的含量在該範圍內較佳，由於可以在不干擾聚合性液晶化合物的配向的情況下進行聚合。

1-4-2.光敏化劑

當偏光片形成用組成物含有光聚合起始劑的情形時，還可以進一步含有光敏化劑。光敏化劑可列舉例如：如黄嘌呤酮、9-氧硫氧雜蒽酮等的黄嘌呤酮化合物(例如，2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等)；蒽和含烷氧基的蒽(例如二丁氧基蒽等)等的蒽化合物；酚噻

以及紅螢烯等。

當偏光片形成用組成物含有光聚合起始劑和光敏化劑的情形時，進一步促進了偏光片形成用組成物中包含的聚合性液晶化合物的聚合反應。光敏化劑的含量可以根據組合使用的聚合起始劑和聚合性液晶化合物的種類和含量做適當的調整。通常，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，光敏化劑的含量為0.1至30質量份，較佳為0.5至10質量份，再佳為0.5質量份至8質量份。

1-4-3.聚合抑制劑

偏光片形成用組成物可包含聚合抑制劑，以穩定地促進聚合性液晶化合物的聚合反應。聚合性液晶化合物的聚合反應的進展程度可以藉由抑制劑來控制。

聚合抑制劑可列舉例如：氫醌、含烷氧基的氫醌、含烷氧基的兒茶酚(例如，丁基兒茶酚等)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基等的自由基捕捉劑；硫酚；β-萘胺類以及β-萘酚類等。

當偏光片形成用組成物含有聚合抑制劑時，其含量可根據所用聚合性液晶化合物的類型和含量以及光敏化劑的含量等做適當的調節。通常相對於聚合性液晶化合物100質量份，該聚合抑制劑的含量為0.1至30質量份，較佳為0.5至10質量份，再佳為0.5至8質量份。這是一個大眾的部分。

如果聚合抑制劑的含量在上述範圍內較佳，因其可以在不干擾偏光片形成用組成物中含有的聚合性液晶化合物的配向的情況下進行聚合。

1-4-4.調平劑

偏光片形成用組成物較佳為含有調平劑者。調平劑具有調節偏光片形成用組成物的流動性的功能，以及使得經偏光片形成用組成物塗佈後所得到的塗佈膜更平坦的功效，可以列舉如表面活性劑等。調平劑可列舉例如：以聚丙烯酸酯化合物為主要成分的調平劑，以及以含氟原子化合物為主要成分的調平劑等。

以聚丙烯酸酯化合物為主要成分的調平劑可列舉例如：「BYK-350」、「BYK-352」、「BYK-353」、「BYK-354」、「BYK-355」、「BYK-358N」、「BYK-361N」、「BYK-380」、「BYK-381」以及「BYK-392」(畢克化學公司製，商品名)等。

以含氟原子化合物為主要成分的調平劑可列舉例如：Megaface「R-08」、「R-30」、「R-90」、「F-410」、「F-411」、「F-443」、「F-445」、「F-470」、「F-471」、「F-477」、「F-479」、「F-482」以及「F-483」(DIC股份有限公司)；Surflon「S-381」、「S-382」、「S-383」、「S-393」、「SC-101」、 「SC-105」、「KH-40」以及「SA-100」(AGC清美化學股份有限公司)；「E1830」、「E5844」(大金工業股份有限公司製，商品名)；EFTOP「EF301」、「EF303」、「EF351」、以及「EF352」(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司)等。

當偏光片形成用組成物含有調平劑的情形時，通常相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，調平劑的含量為0.3質量份以上且5質量份以下，較佳為0.5質量份以上且3質量份以下。當調平劑的含量在上述範圍內時，易於使聚合性液晶化合物水平配向，並且所獲得的偏光片更趨於光滑。當相對於可聚合液晶化合物該調平劑的含量超過上述範圍時，在所獲得的偏光片中容易出現不均勻性。偏光片形成用組成物亦可包含兩種以上的調平劑。

2.第一基材以及第二基材

可以使用熱塑性樹脂基材用作第一基材12和第二基材14。第一基材12和第二基材14較佳者為透明的熱塑性樹脂基材。透明熱塑性樹脂基材係指具有透明度的熱塑性樹脂基材，其可透過光，特別是可見光。所謂「透明度」係指具有對波長為380nm至780nm範圍內的光線的透射率為80%以上的特性。第一基材和第二基材可以由相同的熱塑性樹脂形成，亦可以由不同的熱塑性樹脂形成。

具體而言第一基材12和第二基14材可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯和降莰烯聚合物等的聚烯烴；環烯類樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯以及聚丙烯酸酯等的丙烯酸類樹脂；聚萘二甲酸乙二醇酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚以及聚苯醚等。其中，從易於由市場上取得並且具有優異的透明性的觀點來看，較佳者為環烯類樹脂，聚對苯二甲酸乙二酯以及丙烯酸類樹脂，再佳者為環烯類樹脂或聚甲基丙烯酸酯。在偏光板1的製 造過程中，第一基材12和第二基材14不會在運輸或存儲時發生破損等的毀損的情形，由這樣容易處理與運用的觀點而言，支撐基材等也可以黏附到第一基材12和第二基材14。

若第一基材12以及第二基材14的其中的任何一個為熱塑性樹脂基材，則另一個可以不是熱塑性樹脂基材。如果第一基材12和第二基材14中的一個為熱塑性樹脂基材，即可保持偏光片1的曲面成型性。例如，也可以使用含有如三乙醯纖維素、二乙醯纖維素和乙酸丙酸纖維素等的纖維素酯樹脂的基材作為第一基材。另一例中，可以使用含有三乙醯纖維素作為第一基材的基材，含有丙烯酸類樹脂的基材可以用作第二基材。

在第一基材12具有相位差性的情況下，以易於控制相位差值的觀點而言，較佳的為纖維素酯樹脂或環烯類樹脂所製成的塑料基材。

在纖維素酯中，纖維素所含有的至少一部分羥基被乙酸酯化。由這種纖維素酯所構成的纖維素酯薄膜易於從市場上獲得。市售的三乙醯纖維素薄膜可列舉例如：「Fujitac Film」(富士軟片股份有限公司)；「KC8UX2M」、「KC8UY」和「KC4UY」(柯尼卡美能達股份有限公司)等。這樣的市售三乙醯纖維素膜可以直接或者在根據需要賦予相位差性後用作第一基材12。另外，製備的第一基材12的表面在經過表面處理如防眩處理、硬塗處理、抗靜電處理或抗反射處理後可用作第一基材12使用。

環烯類樹脂係由例如降莰烯或多環降莰烯單體等的環烯聚合物或共聚物所組成。環烯類樹脂可以是部分含有開環部分者，或者亦可為將含有開環部分的環烯類樹脂通過氫化所得到的環烯類樹脂。從透明度不會顯著受損，並且其吸濕性不會顯著增加之觀點，環烯類樹脂也可以是例如環烯和直鏈烯或乙 烯基芳香族化合物(如苯乙烯)的共聚物。另外，也可以將極性基團引入到環烯類樹脂的分子中。

當環烯類樹脂是環烯和具有直鏈烯或具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物時，直鏈烯的實例包括例如：乙烯和丙烯；乙烯基的芳族化合物的實例包括例如：苯乙烯、α-甲基苯乙烯和烷基取代的苯乙烯。在這種共聚物中，衍生自環烯的構造單位的含量比率，相對於環烯類樹脂的總構造單位為50莫耳%以下，例如約15莫耳%至約50莫耳%的範圍。當環烯類樹脂是由環烯、直鏈烯和乙烯基芳族化合物等所得到的三元共聚物時，例如，衍生自直鏈烯的構造單位的含量比，相對於環烯類樹脂的總構造單位為約5莫耳%至約80莫耳%，而衍生自乙烯基的芳香族化合物的構造單位的含量比為約5莫耳%至約80莫耳%。這種三元共聚物環烯類樹脂的優點在於，當製備此環烯類樹脂時，可以相對減少所用昂貴的環烯的使用量。

環烯類樹脂可容易地從市場上買到。可列舉例如：「Topas」(Ticona公司(德國))；「Arton」(JSR股份公司)；「ZEONOR」以及「ZEONEX」(ZEON股份有限公司製)；「APEL」(三井化學股份有限公司製)。這種環烯類樹脂可以透過例如溶劑鑄造法或熔融擠出法等已知的製膜方法製成膜後，作為薄膜(環烯類樹脂膜)使用。另外，也可以使用已經為薄膜形式的市販的環烯類樹脂膜。這種市售的環烯類樹脂膜的實例包括：「Esushina」和「SCA40」(積水化學工業股份有限公司製)；「Zeonor Film」(Optes股份有限公司製)；和「Arton Film」(JSR股份公司製)，等等。

第一基材12和第二基材14的厚度，以能夠實用地運用的程度的重量，以及可以確保足夠的透明度的觀點來衡量，以薄的基材較佳，但是如果過薄 則強度降低在加工性方面趨於劣勢。第一基材12和第二基材14個別的適當厚度為例如約20μm至200μm，較佳為約20μm至160μm。將本實施例中的偏光板1作為下述的圓偏光板的情形使用時，特別是作為移動設備用偏光板時，其透明基材的厚度較佳為約20μm至80μm左右，也可以是20μm至50μm。

3.配向層

配向層22較佳為形成在第一基材12或第二基材14上。在這種情況下，偏光片形成用組成物塗佈在配向層22上。因此，配向層22較佳為具有耐溶劑性，使其不會因塗佈偏光片形成用組成物而溶解。另外，在進行除去溶劑的目的和使液晶配向的熱處理過程中具有耐熱性較佳。配向層22可以由配向聚合物形成。

配向聚合物可以列舉例如：聚醯胺、明膠類、聚醯亞胺、聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改質聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚噁唑、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸以及聚丙烯酸酯。其中，較佳為聚乙烯醇。這些配向聚合物可以單獨使用，也可以兩種以上混合使用。

可以將配向聚合物作為溶解在溶劑中的配向聚合物組合物(含有配向聚合物的溶液)塗佈到第一基材12或第二基材14上，藉此在第一基材12或第二基材14上形成配向層22。溶劑可列舉例如：水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑以及丙二醇單甲醚等的醇類溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯以及乳酸乙酯等的酯類溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮以及甲基異丁基酮等的酮類溶劑；戊烷、己烷和庚烷等的脂族烴溶劑；甲苯和二甲苯等的芳香烴溶劑；四氫呋喃和二甲氧基乙烷等的醚溶劑；氯仿和氯苯等的氯化烴溶劑。這些溶劑可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。

市售的配向膜材料可以原樣用作配向聚合組成物。市售的配向膜材料的實例包括：SUNEVER(註冊商標，日產化學工業股份有限公司製)和Optomer(註冊商標，JSR股分有限公司製)。

配向層22可以是光配向層。在光配向層中，將包含具有光反應性基團的聚合物或單體和包含有溶劑的組合物(以下，根據情況有時稱之為「光配向層形成用組成物」)塗佈到第一基材12上並進行偏光(較佳為偏光UV)照射，意即透過照射賦予配向層配向調節力。光反應性基團是指透過照射光而產生液晶配向能力的基團。具體而言，光反應性基團能誘發因光照射所致分子的配向、或是產生如異構化反應、二聚反應、光交聯反應，光降解反應般作為液晶配向能力來源的光反應。引發二聚反應或光交聯反應的光反應性基團較佳為在配向方面優異、並且其特點為在偏光片形成時保持層列型液晶狀態者。光反應性基團較佳為具有不飽和鍵，特別是具有雙鍵者，再佳者為選自由具有碳-碳雙鍵(C=C鍵結)、碳-氮雙鍵(C=N鍵結)、氮-氮雙鍵(N=N鍵結)以及碳-氧雙鍵(C=O鍵結)所組成群組中的至少一種的基團。

作為具有C=C鍵結的光反應性基團的實例包括：乙烯基、多烯基、芪基(Stilbenyl)、芪唑基(stilbazole group)、芪唑鎓基(stilbazolium group)、查耳酮基(chalcone group)以及桂皮醯基(cinnamoyl group)。具有C=N鍵結的光反應性基團的實例包括：具有諸如芳香族希夫鹼和芳香族腙的結構的基團。作為具有N=N鍵的光反應性基團例如：偶氮苯基、亞氮基萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基以及甲

基等等提出了使氧化偶氮苯為基本結構的基團。具有C=O鍵的光反應性基團的實例包括：二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基和馬來醯亞胺基等。這些基團可具有例如：烷基、烷氧基、丙烯基、丙烯氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、 磺酸基或者鹵代烷基等。其中，較佳為能夠引起光二聚反應的光反應性基團。因其具有相對小的光配向所需的偏光照射量，以及易於取得熱穩定性和歷時安定性優異的光配向層，較佳者為桂皮醯基和查耳酮基。此外，作為具有光反應性基團的聚合物，再佳者為聚合物側鏈的末端部分具有成為肉桂酸結構的桂皮醯基的聚合物。

作為光配向層形成用組成物的溶劑的實例，較佳者為溶解具有光反應性基團的聚合物和單體的溶劑，可列舉例如：用於上述配向聚合組成物的溶劑。

相對於光配向層形成用組成物，具有光反應性基團的聚合物或單體的濃度可以根據具有光反應性基團的聚合物或單體的類型或根據欲製備的光配向層的厚度來適當調節。濃度較佳為至少0.2質量%，再佳的範圍為0.3質量%至10質量%。在配向層22的性質不會受到顯著損害的範圍內，光配向層形成用組成物之中可以含有如聚乙烯醇或聚醯亞胺等的聚合物材料以及光敏化劑。

配向層22的厚度為10nm以上10000nm以下，較佳為10nm以上1000nm以下。本實施例中的配向層22的厚度，係透過用干涉厚度計測量配向層22的任意的五個點並計算出其平均值而求得者。

本實施例中的偏光片11中，在波長380nm至760nm的吸收軸方向上的吸光度(A1)為0.3以上1.5以下，較佳為0.3以上1.0以下。再佳為0.33以上0.9以下，更佳為0.36以上0.85以下。透射軸方向的吸光度(A2)為0.001以上0.15以下，較佳為0.001以上0.10以下，再佳為0.002以上0.05以下，更佳為0.005以上0.040以下。

上述之吸光度係藉由控制偏光片的厚度等而做適當的調整。其中，偏光片的厚度係依據偏振器11中含有的二色性色素102的類型、二色性色素102的量、以及偏光片形成用組成物的固形分濃度或塗佈量等而調整。

4.偏光板的製造方法

說明關於使用偏光片形成用組成物製造偏光板1的方法。在此方法中，透過將偏光片形成用組成物塗佈於第一基材12上，較佳為塗佈於透明的熱塑性樹脂基材的第一基材12上以形成偏光板1。並且，在本實施例中，將說明液晶化合物的固化物101為聚合性液晶化合物的實例。

在第一基材12上形成配向層22的方法可列舉例如：在第一基材12上塗佈配向層形成用組成物或市售的配向膜材料後並加熱。配向層形成用組成物的塗佈膜的厚度係考量欲獲得的配向層22的厚度而決定。

為了使配向層22具有配向控制力，較佳為根據需要進行摩擦(rubbing，刷磨法)。透過賦予其配向控制力，使得液晶化合物的固化物101可以在所需方向上配向。

作為透過刷磨法賦予配向控制力的方法，可舉例如：捲繞刷磨布，製備旋轉中的刷磨滾筒，在第一基材12上形成配向層形成用的塗佈膜。透過將積層體放置在台上並將其朝向旋轉中的刷磨滾筒輸送，使形成配向層的塗佈膜和旋轉中的刷磨滾筒彼此接觸的方法。

作為在第一基材12上塗佈配向層形用組成物或光配向層形用組成物的方法，可以採用諸如旋塗法、擠出法、凹版塗佈法、模塗法、棒塗法以及塗抹器方法等的塗佈法，或者採用柔版印刷法等的印刷方法等等已知的方法。並 且，在透過卷至卷(Roll to Roll)型的連續製造方法製造偏光片時，通常採用凹版塗佈法、模塗法、柔版印刷法等印刷法作為塗佈方法。

並且，當進行刷磨或偏光照射時，若使用光罩法亦可以形成具有不同配向方向的多個區域(圖案)。

將偏光片形成用組成物塗佈到第一基材12或塗佈到在第一基材12形成的配向層22上，以獲得塗佈膜。作為偏光片形成用組成物的塗佈方法，例如與在基材上塗佈偏光片形成用組成物或光偏光片形成用組成物的方法所例示的方法相同。

接下來，在塗佈膜中所含的液晶化合物未聚合的條件下，藉由乾燥除去偏光片形成用組成物的中所含的溶劑以形成乾燥膜。乾燥方法可列舉例如：自然乾燥方法、通風乾燥方法、加熱乾燥方法以及減壓乾燥方法。

作為較佳的方式為，一時間乾燥膜中包含的液晶化合物的液晶狀態變為向列型液晶後，使向列型液晶相轉移到層列型液晶相。為了藉由這種經由向列型液晶相形成層列型液晶相的方式，因此採用例如，將乾燥膜中含有的液晶化合物加熱到高於呈現向列液晶相的溫度，接著再將液晶化合物冷卻至呈現層列型液晶相的溫度之方法。

使乾燥膜中的液晶化合物呈現層列型液晶相，或者是將聚合性液晶化合物經由向列型液晶相製成層列型液晶相時，透過測量聚合性液晶化合物的相轉移溫度，可以求得控制液晶狀態的條件(加熱條件)。

接下來，將說明液晶化合物的聚合過程。在此，關於偏光片形成用組成物中含有光聚合起始劑，並且使乾燥膜中的液晶化合物的液晶狀態成為 層列型液晶相後，就保持在層列型液晶相的液晶狀態使液晶化合物進行光聚合的方法，以下將詳細說明。

在光聚合中，根據乾燥膜中含有的光聚合起始劑的種類、液晶化合物的種類(特別是液晶化合物中含有的聚合性基團的種類)及其含量，而對乾燥膜照射的光由選自可見光、紫外光和雷射光所組成群組中的光或活性電子束進行適當的選擇。其中，較佳者為紫外線，因為可以容易地控制聚合反應的進程，並且可以使用在本領域中廣泛用作光聚合設備的裝置。因此，較佳預先選擇包含在偏光片形成用組成物中的液晶化合物和光聚合起始劑的類型，以便可以藉由紫外光進行光聚合。

另外，當進行聚合時，也可以在紫外線照射時透過適當的冷卻裝置冷卻乾燥的薄膜來控制聚合溫度。透過採用這種冷卻裝置，優點是，可以在較低的溫度下聚合液晶化合物，因此即使使用相對於第一基材12具有較低耐熱性的基材，也可以獲得適當地形成偏光片11。另外，在進行光聚合時，也可以透過進行掩蔽和顯影來取得圖案化的偏光片11。

透過進行如上前述的光聚合，向列型液晶相或層列型液晶相液晶化合物，較佳者為保持在如上所例示的高階層列型液晶相的同時聚合，以形成偏光片11。液晶化合物保持在層列型液晶相的同時聚合所得到的偏光片11，與保持在向列型液晶相液晶狀態下的聚合性液晶化合物聚合所得的偏光片相比，前者偏光片11具有較高的偏光性能這樣的優點。此外，與僅只塗佈溶致性二色性色素者相比，前者偏光片11具有強度優越的優點。

偏光層21的厚度較佳為1μm以上15μm以下，再佳為1μm以上10μm以下的範圍，更佳為1μm以上5μm以下，特佳為1μm以上3μm以下。因此，偏光片 形成用的塗佈膜的厚度考量欲取得的偏振層21的厚度而決定。本實施例中，偏光層21的厚度係藉由使用接觸式膜厚計、干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計測量偏光層21的任意五個點，再計算出其平均值後得到。

並且，除了如上前述在第一基材12上形成偏光片11的方法之外，也可以藉由在透過上述方法於其他基材上形成偏光片11之後，再將偏光片11轉印和貼合在第一基材12上來製造偏光板。

儘管在上述示例中已經說明了在第一基材12上形成配向層22以及偏光層21的實例，然而也可以在第二基材14上形成配向層22以及偏光層21。在這種情況下，藉由透過接著劑層或黏著劑層將第一基材12積層在偏光層21上的方式，得到具有第二基材14、配向層22、偏光層21以及第一基材的偏光板。

形成的偏光片11較佳者為在X射線繞射量測中得到布拉格峰者。作為能取得布拉格峰的偏光片可列舉例如：顯示衍生自六角相或晶相的繞射峰之偏光片。

商業上在製造偏光片時，需要的是能夠連續形成偏光片的方法。這種連續製造方法係藉由卷至卷(Roll to Roll)的方式，以下根據情況有時稱之為「本製造方法」。尚且，本製造方法將以第一基材12為透明的情況下為主要的說明。當第一基材12呈現透明的情形時，最終獲得者為具有透明的第一基材12與偏光片11的偏光板1。

本製造方法包括例如以下的步驟。製備第一基材12纏繞第一軸芯的第一卷。將第一基材12從第一卷連續送出，再於此第一基材12上連續形成配向層22。在此配向層22上連續塗佈偏光片形成用組成物，將塗佈後的偏光片形成用組成物藉由在液晶化合物未聚合的條件下乾燥，使得配向層22上連續形成乾燥 膜。此乾燥膜中含有的液晶化合物製成向列型液晶相，較佳為製成層列型液晶相。之後，保持這樣的層列型液晶相狀態下使液晶化合物聚合，藉此連續獲得偏光層21作為偏光片11。將連續取得的偏光片11纏繞在第二軸芯上以獲得第二卷。

透過本製造方法所得到的偏光板1，該形狀為膜狀並且為長形狀的偏光膜。當該偏光板1用作下述的太陽眼鏡等鏡片時，根據太陽眼鏡等鏡片的尺寸進行切割和使用。

偏光板1可以採用第一基材12/配向層22/偏光層21的積層體的形式。此外，偏光板1在第一基材12/配向層22/偏光層21之外可以為具有進一步積層的層或膜的形式。也可以在偏光板1中進一步設置相位差膜作為這些層和膜，或者也可以更進一步設置抗反射層或增亮膜。

例如，本實施例中的偏光板1透過進一步具備1/4波長板而成為圓偏光2。第3圖係本發明之一個實施例中圓偏光板的示意性剖面圖。圓偏光板2包含有在一個表面上設置配向層22的第一基材12，設置在配向層22上的偏光層21，和在第一基材12的另一個表面上設置有1/4波長板的相位差膜15。而且，相位差膜15亦可以位於偏光片11的第二面32上。在這種情況下，如第4圖所示，圓偏光板2'可以為依照第一基材12/配向層22/偏光層21以及相位差膜15這樣順序排列的形式。

在製造圓偏光板時，也可以使用適當的黏著劑，透過黏著劑形成的黏著層將第一基材12或偏光片11貼合到相位差膜15。

可以透過使用預先給予相位差的第一基材12，使得第一基材12本身可以兼具有作為相位差層的功能。透過使第一基材12本身作為相位差膜，還可以形成第一基材12/配向層22/偏光層21這樣形式的圓偏光板或橢圓偏光板。因 此，在製造這種圓偏光板時使用的1/4波長板較佳為具有隨著波長變短其相對於可見光的面內相位差值而減小的特性者。

使用1/2波長板作為相位差膜15，透過將該慢軸設定偏離於偏光片11的吸收軸的角度來製備直線偏光板卷，在偏光片11形成面的另一側進一步形成1/4波長板，也可以用以製成寬帶圓偏光板。

被使用作為相位差膜15之1/4波長板相位差之對於波長為450nm的光的雙折射率、對於波長550nm的光的雙折射率，以及對於波長650nm的光的雙折射率，以滿足下式(II)以及下式(III)所表示的關係具有反向波長色散性者較佳，下式中，△n(λ)表示對於波長λnm的光的雙折射率。

△n(450)/△n(550)≦1.00 (II)

1.00≦△n(650)/△n(550) (III)

顯示具有這種反向波長色散特性的相位差膜可以依照日本專利第5463666號公報中所說明的方法製備。

藉由加熱本實施例之偏光板1形成彎曲部的方法，其實例包括：嵌件成型、注射成型、壓力成型、真空成型、模壓機等。

本實施例中的偏光板1可以具有因為熱收縮而小並且因為薄而曲率半徑小的彎曲部。

本發明的另一方面而言，第一基材12較佳者為丙烯酸類樹脂膜或者為環烯類樹脂膜。當使用這些熱塑性樹脂基材時，由於易於在低溫下加工並且熱成型性良好，因此可以實現具有小曲率半徑的彎曲部的偏光板1。

本發明的另一方面而言，液晶化合物較佳者為由下面式(4-6)所表示的化合物或由式(4-7)所表示的化合物。

本發明的另一方面而言，二色性色素102較佳為含有選自由式(2-15)所表示的化合物，由式(2-18)所表示的化合物和式(2-37)所表示的化合物所組成群組中的至少一種。由式(2-15)所表示的化合物在380nm處具有最大吸收波長。由式(2-18)所表示的化合物在490nm處具有最大吸收波長。由式(2-37)所表示的化合物在590nm處具有最大吸收波長。透過使用這些二色性色素，可以製成具有高度偏光特性的偏光板。二色性色素102再佳者為含有由式(2-15)所表示的化合物和由式(2-18)以及由式(2-37)所表示的化合物。

本發明的另一方面而言，偏光片1含有作為第一熱塑性樹脂基材(第一基材12)的丙烯酸類樹脂膜，和含有作為液晶化合物之由式(4-6)所表示的化合物以及由(4-7)表示的化合物，二色性色素102較佳者為含有由式(2-15)所表示的化合物、由式(2-18)所表示的化合物以及含有由式(2-37)所表示的化合物。在這樣的偏光板1中，並非必要設置第二基材，並且由於可以製作出更薄的偏光板，因此可以得到具有曲率半徑小的彎曲部的偏光板。

本發明的另一方面而言，偏光板1中，第一熱塑性樹脂基材(第一基材12)的厚度較佳為20μm至200μm，偏光層21的厚度為1μm至5μm，並且配向層22的厚度為10nm至1000nm。在這樣的偏光板1中，由於可以製作出更薄的偏光板，因此可以得到具有曲率半徑小的彎曲部的偏光板。

<實施例2>

在本發明實施例2中的偏光板與實施例1的不同之處在於，偏光片具有其中碘或二色性色素在PVA膜中配向的偏光層。此外，本實施例中的偏光片由於偏光層不含有液晶化合物因此可以不具有配向層。也就是說，本實施例的偏光片可以僅具有偏光層。關於本實施例中偏光片以外的配置與實施例1中的配置相同。

本實施例的偏光層的具體實例可列舉包括：在PVA膜中吸附有碘的偏光層、在PVA膜中二色性色素被吸附和配向的偏光層、以及在分子中含有陽離子基團的改質PVA膜其表面或內部的其中至少一個中具有二色性色素的偏光層等。並且，可以使用上述的二色性色素作為二色性色素。

由於使具有其中碘或二色性色素在PVA膜中配向的偏光層的偏光片的厚度不大於15μm，因此即使在曲面成型之後將其置於高溫環境下，也可以減小形狀變化。

在其中碘在PVA膜中配向的偏光層的情形時，PVA膜的含水量通常為5至20重量%，較佳為8至15重量%。如果水分含量小於5%(重量)，偏光層有喪失其可撓性，並且有偏光層在乾燥後損壞或破裂的情形。如果含水量超過20重量%，則偏光層的熱穩定性有變差的情形。

作為在本實施例中的偏光片以及積層的基材，可以使用實施例1中所用的第1基材和第2基材。由於本實施例中的偏光片的厚度為15μm以下，因此即使曲面成型後將其置於高溫環境中，形狀的變化亦小。

本實施例的偏光板與實施例1中相同，可以僅在偏光片上積層第一基材。與實施例1中一樣，偏光板也可以含有偏光片、位於偏光片的第一面上的第一基材，和位於偏光片的第二面上的第二基材。

製備這種偏光層的方法並沒有特別限制，可以使用例如，在拉伸PVA膜之後碘離子被吸附到PVA膜上的方法、其中PVA膜藉由二色性色素染色然後拉伸的方法、拉伸PVA膜後用二色性色素染色的方法、在PVA膜上印刷二色性色素後拉伸的方法、以及在拉伸PVA膜後印刷上二色性色素的方法等已知的方法。為了使偏光層的厚度為15μm以下，較佳為使用拉伸前的PVA膜的厚度為30μm以下者。

可列舉偏光層的製造方法例如，將碘溶解在碘化鉀溶液中以製備高階的碘離子，將此碘離子吸附在PVA膜上並拉伸之後，在1至4重量%的硼酸水溶液中浴溫為30至40℃之下浸漬以製造偏光層。或者為，將PVA膜同樣的用硼酸處理後單軸方向拉伸約3至7倍，接著浸入0.05至5重量%的二色性色素水溶液中在30至40℃的浴溫下使其吸附色素，然後在80至100℃下乾燥並熱定形以產生偏光層的製備方法。

此外，同樣在本實施例的偏光片的情形，亦可以藉由進一步具備1/4波長板作為圓偏光板使用。

作為具有本實施例之偏光片的偏光板透過加熱形成彎曲部的方法，與上述方法相同可列舉如：嵌入成型、注射成型、壓力成型、真空成型、模壓等方法。

本實施例中的偏光板由於偏光片的厚度為15μm以下，因此，將其與以往的含有具有20μm至30μm厚度的拉伸PVA偏光片的偏光板相比，熱收縮更小。另外，本實施例中的偏光板可以具有曲率半徑小的彎曲部。

<偏光板的用途>

本實施例中的偏光板或圓偏光板可用於具有彎曲部的各種製品，例如可用於太陽眼鏡的鏡片、用於三維圖像顯示裝置的護目鏡的鏡片等。本實施例中所述的偏光板或圓偏光板，係由於可以將該偏光板或圓偏光板貼合在曲率半徑小的曲面上，從而有助於設計的改進。

本實施例中的偏光板可用於在顯示面上具有曲面的各種顯示裝置。顯示裝置係具有顯示元件之裝置，並且含有作為發光源之發光元件或發光裝置。顯示裝置可列舉例如：液晶顯示裝置、有機電激發光(EL)顯示裝置、無機電激發光(EL)顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如，電場發射顯示裝置(FED))、表面電場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子墨水或電泳元件的顯示裝置)、等離子顯示裝置、投影顯示裝置(例如，光柵光閥(GLV)顯示裝置、具有數字微鏡裝置(Digital micromirror device，DMD)的顯示器)、壓電陶瓷顯示裝置等。

液晶顯示裝置可列舉例如：透射型液晶顯示裝置、半透射型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置。這些顯示裝置可以是顯示二次元圖像的顯示裝置，或者可以是顯示三維圖像的立體顯示裝置。

本實施例之偏光板係能夠特別有效地用於有機EL顯示裝置或無機EL顯示裝置之顯示裝置。本實施例中的偏光板或圓偏光板，由於為可以貼合到具有小曲率半徑的曲面上之偏光板或圓偏光板，因此，即使在顯示裝置的端部或角部具有彎曲部的情況下，也仍可以將偏光板或圓偏光板貼合並覆蓋其上，並且有助於改善設計。

電子紙可舉：由如光學異向性和色素分子配向般的分子所顯示的電子紙；由電泳粒子遷移、粒子旋轉、相變等粒子所顯示的電子紙；膜的一端移動藉此顯示的電子紙，透過分子的顯色/相變顯示的電子紙；透過分子的光吸收顯示的電子紙；電子和孔洞組合並透過自發光顯示的電子紙等。

更具體而言，可以列舉例如：微膠囊電泳、水平移動型電泳、垂直移動型電泳、球形扭轉球、磁力扭轉球、圓柱形扭轉球方式、帶電調色劑、電子粉末流體、磁電泳、磁感熱式、電潤濕、光散射(透明/白色濁度變化)、膽固醇相液晶/光電導層、膽固醇相液晶、雙穩定性向列型液晶、鐵電液晶、二色性色素/液晶分散型、可移動膜、無色色素變色、光致變色、電致變色、電沉積和柔性有機EL等。電子紙不僅可以用於文本和圖像等的個人使用，而且可以用於廣告顯示(標牌)等。若使用本實施例中的偏光板或圓偏光板，可以減小電子紙的厚度。

作為三維顯示裝置，曾提出例如如微型磁極系統那樣交替排列不同相位差膜的方法(日本專利特開2002-185983號公報)，然而若是使用本實施例 中的偏光版時，由於易於藉由印刷、噴墨，光蝕刻法等方式進行圖案化，因此能夠縮短顯示裝置的製造流程並且變得不需要相位差膜。

本實施例中的偏光板以及圓偏光板能夠特別用於具有小曲率半徑的彎曲部的顯示。具體而言，偏光板可以貼合到面板的邊緣或角落區域具有彎曲部的智慧型手機上。另外，本實施例中的偏光板以及圓偏光板可以用於VR(虛擬實境)的頭戴式顯示裝置。

(實施例)

在下文中，將使用實施例更具體地說明本發明，但是本發明不限於這些實施例。

[曲面成形性評估]

偏光板的曲面成型如下進行。將偏光板夾在兩個金屬板之間，其中，金屬板在中心處具有10cm直徑的孔。使用熱風槍將偏光板加熱至100℃至140℃，再將具有任意曲率半徑的圓柱形玻璃壓在加熱後的偏光板上以製成曲面。根據彎曲部的直徑以及矢高計算偏光板的曲率半徑。

藉由目視對曲面成型性進行評估，若在形成曲面時基材或偏光片中沒有諸如裂縫等缺陷產生的情形，則判斷曲面成型性良好；若是並非如此情形則評估為不良。

[偏光片厚度的測量]

藉由使用接觸式膜厚計(數位測微器MH-15M，尼康股份有限公司製)測量偏光片的任意五個點並計算其平均值來求得偏光片的厚度。

[處於高溫環境下形狀變化的評估]

將透過上述方法形成的具有彎曲表面的偏光板置於60℃或80℃的烘箱中24小時。此後，使用尺評估其形狀變化。諸如曲率半徑或高度之類的尺寸若是維持在放入烤箱之前的狀態則判斷為良好；若是並非如此情形則評估為不良。

[實施例1]

[偏光片形成用組成物的製備]

將下列聚合性液晶化合物、二色性色素、聚合起始劑、調平劑以及溶劑依下列比例混合，再將所得到的混合物在80℃下攪拌1小時，由此得到偏光片形成用組成物。並且，二色性色素以與日本專利特開2013-101328號公報中所記載之化合物相同的合成方式合成。

(聚合性液晶化合物)

本實施例中係使用由式(4-6)所表示的化合物75質量份和由式(4-7)所表示的化合物25質量份作為聚合性液晶化合物。

(二色性色素)

本實施例中係使用由式(2-15)所表示的化合物2.6質量份(在380nm處具有最大吸收波長)，和由式(2-18)所表示的化合物2.6質量份(最大吸收波長在490nm 處)，以及由式(2-37)所表示的化合物2.2質量份(最大吸收波長為590nm)作為二色性色素。

(其他成分)

本實施例中係使用2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁-1-酮(Irgacure 369；汽巴精化股份有限公司製)6質量份作為聚合起始劑。

本實施例中係使用聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N，商品名；畢克化學股份有限公司製)1.2質量份作為調平劑。

本實施例中係使用鄰二甲苯250質量份作為溶劑。

[偏光板的製造方法]

將第二基材之三乙醯纖維素(TAC)膜(KC4UY-TAC，厚度40μm；商品名，柯尼卡美能達股份有限公司製)之卷以10m/min的速度連續展開，並藉由精密狹縫式塗佈機輸出光配向層形成用組成物以形成第一塗佈膜。接著，透過在設定為120℃的通風乾燥爐中輸送2分鐘來除去溶劑，以形成第1乾燥膜。

之後，在相對於膜的傳送方向為0°的方向，用偏光後的偏光UV光以具有50mJ/cm²(313nm為基準)的強度照射至第一乾燥膜，以賦予其光配向的配向調節力並製備出含有光配向層的基材膜，再用精密狹縫式塗佈機將偏光片形成用組成物塗佈在光配向層表面上，以形成第二塗佈膜。接著，在設定為120℃的通風乾燥爐中輸送2分鐘除去溶劑，以形成第2乾燥膜。

之後，用UV光以50mJ/cm²(365nm基準)的強度照射使聚合性液晶化合物聚合及固化以形成偏光片。再者，透過紫外線固化接著劑將第一基材、丙烯酸類樹脂膜(S001G，商品名，住友化學股份有限公司製)貼合至偏光片上，並且將膜以連續捲繞成卷狀的方式製備出具有0°方向吸收軸的偏光膜卷。

使用以這種方式製造的長尺度偏光膜卷切成10cm見方用作偏光板進行各種評估。製得的偏光板的配向層的厚度為100nm，偏光層的厚度為2μm。透過用干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計測量配向層和偏光層上的任意五個點的厚度，並計算其平均值來確定配向層和偏光層的厚度。表1顯示了偏光板的曲面成型性的評估結果以及在高溫環境下的形狀變化的評估結果。

(實施例2至5、比較例1)

實施例2至5以及比較例1中的偏光板，係將第一基材和第二基材、曲面成型性等做如表1所示的變更，除此之外均以與實施例1相同的程序製造。並且，在實施例4和5以及比較例1中，偏光板上並未設置第二基材。另外，表1中的COP表示環烯類樹脂膜(日本Zeon股份有限公司製)。

(實施例6)

實施例6中的偏光板以下述的方法製備。將透過用碘染色拉伸的PVA而得到的偏光片(住友化學股份有限公司製)貼合到作為第一基材的丙烯酸樹脂(鐘淵化 學工業股份有限公司製)上。接著藉由貼合劑將TAC膜貼合至偏光片的另一側上。此偏光片的含水量為10重量%。

(實施例7至10、比較例2)

實施例7至10和比較例2的偏光板，除了將第一基材和第二基材做如表1所示的改變之外，以與實施例6相同的程序製造。並且，在實施例9和10以及比較例2中，偏光板上未設置第二基材。

實施例1至5的偏光板的曲面成型性優異，即使在60℃和80℃的環境下也未觀察到形狀變化。實施例6至10的偏光板的曲面成形性優異，並且在60℃的環境下沒有觀察到形狀的變化，然而，在80℃的環境下發生形狀變化，認為這是因為拉伸的PVA在拉伸方向上於80℃下收縮。另外，在使用三乙醯纖維素膜 作為第一基材而未設置第二基材的比較例1和2中，曲面形成性差，因此，無法評估高溫環境下的形狀變化。

[產業上的利用可能性]

本發明之偏光板，由於抑制了熱成型導致的收縮，並且偏光板可以貼合到具有小曲率半徑的彎曲部的物體上。

Claims (8)

1. 一種偏光板，包含具有第一面和第二面的偏光片以及設置在前述偏光片的前述第一面上的第一基材，其中，前述偏光片的厚度為15μm以下，前述第一基材為熱塑性樹脂基材，前述偏光板具有至少一個彎曲部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述彎曲部的曲率半徑為30mm至150mm。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中，前述第一基材含有丙烯酸類樹脂和環烯類樹脂中的至少一種樹脂。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片含有偏光層，前述偏光層含有液晶化合物之固化物以及二色性色素，前述二色性色素分散且配向在前述偏光層中。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之偏光板，其中，前述第一基材的厚度為40μm至120μm。
6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之偏光板，更具有在前述偏光片的前述第二面上的第二基材。
7. 如申請專利範圍第6項所述之偏光板，其中，前述第二基材含有選自丙烯酸類樹脂、環烯類樹脂以及三醋酸纖維素樹脂中的至少一種樹脂。
8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之偏光板，其中， 前述偏光板係用以貼合至顯示面上具有彎曲表面的顯示裝置之前述顯示面上，且前述彎曲部與前述彎曲表面一致。