JP6581798B2 - 光学積層体 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体に関する。

従来、被着体に偏光板を積層することにより防眩性に優れた光学積層体が得られることが知られている。
例えば、被着体であるレンズに偏光板を貼り合わせることにより、偏光レンズを構成することができる。偏光レンズは、例えば、サングラスやカメラのレンズとして使用することができる。偏光レンズをサングラスに用いた場合、偏光レンズの偏光機能により反射光が視界に入り難くなり、その結果、眩しさを和らげることができる。また、偏光レンズをカメラに用いた場合、反射光が映り込み難くなり、その結果、明瞭な映像を撮影することができる。
また、被着体である窓ガラスに偏光板を貼り合わせることにより、防眩機能を有する窓を構成することもできる。この窓ガラスを用いることにより、反射光が室内に入り難くなり、その結果、室内から窓ガラスを介して室外を鮮明に観察することができる。

偏光板は、一般的に、偏光性を有する偏光子と、偏光子を保護する保護フィルムと、を有している。偏光子の偏光性を阻害しないように、保護フィルムとして光学的等方性を有するフィルムを用いることが一般的である。
しかしながら、曲面を有する被着体の曲面に偏光板を積層することによって得られた光学積層体は、その防眩性が不十分になるという問題がある。この問題は、偏光板を被着体の曲面に合わせて曲面加工する過程において、偏光板に含まれる保護フィルムが光学的異方性を発現することが一因であることが知られている。

この問題を解決するため、特許文献１では、保護フィルムの形成材料として２種のポリカーボネート樹脂を含むブレンド樹脂を用いることが提案されている。このブレンド樹脂を用いて保護フィルムを形成した場合、曲面加工を行っても光学的異方性が発現し難い。そのため、曲面加工を行っても防眩性に優れた偏光板及び光学積層体を提供することができる。
しかし、特許文献１のブレンド樹脂を用いたとしても、偏光板及び光学積層体の防眩性は十分とは言えない。また、特許文献１で用いられるブレンド樹脂は比較的高価であるため、これを保護フィルムの形成材料として用いた場合、偏光板の生産性が悪くなる。従って、より安価で汎用的な樹脂を用いて保護フィルムを形成することが求められている。

特開２００５−２５１４９号公報

本発明の第１の目的は、曲面加工を施しても被着体に高い防眩性を付与できる偏光板を有する光学積層体を提供することであり、本発明の第２の目的は、生産性の高い偏光板を有する光学積層体を提供することである。

本発明の光学積層体は、偏光子と、前記偏光子に積層された保護フィルムと、を有し、前記保護フィルムが、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００８以上で且つ面内位相差値が１０００ｎｍ以下の位相差フィルムを有し、前記位相差フィルムが、その遅相軸と前記偏光子の吸収軸又は透過軸が２０°以下の角度を成すように偏光子に積層されている曲面用偏光板と、曲面を有する被着体と、を有し、前記曲面用偏光板が前記被着体の曲面に積層されている。

好ましくは、前記位相差フィルムが、ポリカーボネート系樹脂を主成分として含む。また、好ましくは、前記偏光子が、後述する一般式（１）で表される芳香族ジスアゾ化合物を含んでいる。

また、本発明の光学積層体は、凸曲面を有する透明な被着体と、前記被着体の凸曲面に積層された偏光板と、を有し、前記偏光板が、偏光子と、前記偏光子に積層された保護フィルムと、を有し、前記保護フィルムが、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００８以上で且つ面内位相差値が１０００ｎｍ以下の位相差フィルムを有し、前記位相差フィルムが、前記被着体の凸曲面の頂部に対応する部分において、その遅相軸が前記偏光子の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成すように、前記偏光子に積層されている。

本発明の曲面用偏光板は、保護フィルムが位相差フィルムを有する。位相差フィルムは、その遅相軸と前記偏光子の吸収軸又は透過軸が２０°以下の角度を成すように偏光子に積層されており、さらに、位相差フィルムの面内の複屈折率が０．００８以上で、面内位相差値が１０００ｎｍ以下である。そのため、本発明の曲面用偏光板と曲面を有する被着体とを有する光学積層体は、高い防眩性を発揮できる。
また、位相差フィルムの上記面内の複屈折率（０．００８以上）は、特定の樹脂を用いずとも、汎用的な樹脂によって実現できる。そのため、本発明の曲面用偏光板は、比較的安価に製造することができ、生産性に優れる。

図１（ａ）は、平面視円形の凸曲面を有する被着体の平面図であり、（ｂ）は、同Ｉ（ｂ）−Ｉ（ｂ）線断面図であり、図１（ｃ）は同側面図。 図２（ａ）は、図１の被着体に偏光板を載置した状態を表す平面図であり、図２（ｂ）は同ＩＩ（ｂ）−ＩＩ（ｂ）線断面図。 図３（ａ）は、偏光板を被着体の凸曲面に圧着する工程を表す断面図であり、図３（ｂ）は、圧着により曲面加工されている偏光板の平面図。 図４（ａ）は、凹曲面を有する被着体の平面図であり、図４（ｂ）は、同ＩＶ（ｂ）−ＩＶ（ｂ）線断面図であり、図４（ｃ）は同側面図。 図５（ａ）は、図４の被着体に偏光板を載置した状態を表す平面図であり、図５（ｂ）は同Ｖ（ｂ）−Ｖ（ｂ）線断面図。 図６（ａ）は、偏光板を被着体の凹曲面に圧着する工程を表す断面図であり、図６（ｂ）は、圧着により曲面加工されている偏光板の平面図。 本発明の偏光板を示す平面図。 図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線拡大断面図。 図９（ａ）は、平面視楕円形上の凸曲面を有する被着体の平面図であり、図９（ｂ）は、同ＩＸ（ｂ）−ＩＸ（ｂ）線断面図であり、図９（ｃ）は、ＩＸ（ｃ）−ＩＸ（ｃ）線断面図。 図１０（ａ）は、平面視楕円形上の凹曲面を有する被着体の平面図であり、図１０（ｂ）は、同Ｘ（ｂ）−Ｘ（ｂ）線断面図であり、図１０（ｃ）は、同Ｘ（ｃ）−Ｘ（ｃ）線断面図。 図１１（ａ）は、平面視円形の凸曲面を有する被着体の平面図であり、図１１（ｂ）は、同ＸＩ（ｂ）−ＸＩ（ｂ）線断面図であり、図１０（ｃ）は、同側面図。 本発明の光学積層体の層構成の一例を表す参考図。 本発明の光学積層体の層構成の他例を表す参考図。 図１４（ａ）は、２枚の偏光板をクロスニコルに配置した状態における層構成を表す参考図であり、図１４（ｂ）は、偏光板と光学積層体をクロスニコルに配置した状態における層構成を表す参考図。

以下、本発明について具体的に説明する。
なお、本明細書において、「直交」及び「平行」は、本発明の属する技術分野において許容される誤差範囲を含むものとする。例えば、「直交」及び「平行」は、厳密な角度±３°の範囲内であることを意味し、好ましくは、±２°の範囲内である。
さらに、「ＰＰＰ〜ＱＱＱ」という記載は、「ＰＰＰ以上ＱＱＱ以下」を意味する。

［曲面加工によって偏光板の防眩性が低下する原理］
本発明の曲面用偏光板の構成について説明する前に、曲面加工によって偏光板の防眩性が低下する原理について、光学積層体の製造方法と併せて説明する。なお、便宜上、偏光板を被着体の凸曲面に積層する場合と被着体の凹曲面に積層する場合を分けて説明する。また、本欄の説明において、偏光板２は、光学的等方性を有する保護フィルム２１と、偏光子２２と、を有する。

＜被着体の凸曲面に偏光板を積層する場合＞
図１は、凸曲面３１を有する被着体３の一例を表している。
図１（ａ）は、被着体３の平面図であり、図１（ｂ）は、凸曲面３１の頂部３１１を通る切断線Ｉ（ｂ）−Ｉ（ｂ）で被着体３を切断した断面図であり、図１（ｃ）は被着体３の側面図である。なお、本例において、被着体３は、どの側面から見ても図１（ｃ）で表される。
被着体３の凸曲面３１は、その面内に頂部３１１（最も隆起した部分）を有している。
凸曲面３１に沿った仮想線であって、凸曲面３１の頂部３１１からその周端縁３１２に至る無数の仮想線Ｘを想定した場合、仮想線Ｘは全て曲線となる。
本例では、図１（ａ）乃至図１（ｃ）に示すように、被着体３の凸曲面３１は、平面視円形であり、その円の中心が頂部３１１である。本例では、被着体３は、どの側面から見ても図１（ｃ）で表されるため、無数に想定される仮想線Ｘは全て同じ曲率を有する曲線である。
以下、図１で表される被着体３の凸曲面３１に偏光板２を積層する過程について図２及び図３を参照しつつ説明する。

まず、偏光板２を、その下面（偏光子２２の下面）と被着体３の凸曲面３１が接するように載置する。図２（ａ）は、本状態における偏光板２と被着体３の平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の断面図である。本例において、偏光板２の平面視形状は、被着体３の凸曲面３１の平面視形状と相似形で且つ小径の円形であり、偏光板２の下面の中心と凸曲面３１の頂部３１１が接するように載置されている。
続いて、このように載置した偏光板２を、適当な加熱手段により加熱する。偏光板２は加熱により軟化するため、続く図３の工程で曲面加工が可能となる。

次に、図３（ａ）に示すように、軟化した偏光板２を被着体３の凸曲面３１を密着させ、偏光板２と被着体３の凸曲面３１を接着する。即ち、偏光板２を凸曲面３１に圧着する。なお、被着体３の凸曲面３１には、予め感圧接着剤などを塗布することにより接着層が設けられている（図示せず）。軟化した偏光板２を凸曲面３１に密着させることにより、偏光板２が被着体３の凸曲面３１に追従した凸状に曲面加工されると共に被着体３の凸曲面３１に接着される。このようにして、偏光板２と被着体３を含む光学積層体が得られる。
なお、偏光板２を被着体３の凸曲面３１に密着させる手段については、一般的に、圧縮空気が用いられる。なお、図３（ａ）に示す白抜き矢印は、圧縮空気の吹きつけ方向を指している（図６（ａ）についても同様）。

偏光板２は、被着体３の凸曲面３１に圧着される際、上方から加圧されることで曲面加工が施されるが、この際、偏光板２が延伸される。
具体的には、偏光板２は、加圧により、被着体３の凸曲面３１の頂部３１１に対応する部分から面外に向かう全方位に延伸される。本例では、被着体３の凸曲面３１の頂部３１１に対応する部分は偏光板２の面内中心部であるため、偏光板２は、その面内中心部から面外に向かう全方位に延伸される（図３（ｂ）参照）。図３（ｂ）において、偏光板の延伸方向を黒塗り矢印で示している。
本例では、円形の偏光板２を用いているため、偏光板２は、延伸された結果、被着体３の凸曲面３１の平面視形状と同じ大きさ又はそれよりもやや大きな円形となる。そのため、凸曲面３１の全面が偏光板２によって覆われる。
なお、本明細書において、以後、「被着体の凸曲面の頂部に対応する部分」を単に「頂部対応部」と称する場合がある。

図３（ｂ）に示すように、曲面加工によって、偏光板２に含まれる保護フィルムは、その面内中心部から面外に向かう全方位に延伸される。
保護フィルム２１は、上述のように、偏光板２の曲面加工前において光学的等方性を有する。即ち、曲面加工前において、保護フィルム２１を構成する高分子化合物の大部分は、規則的に分子配向していないと考えられる。しかし、曲面加工により、保護フィルム２１を構成する高分子化合物は、延伸方向に分子配向すると考えられる。そのため、保護フィルム２１を構成する高分子化合物は、曲面加工後において、偏光子２２の吸収軸Ａ及び透過軸Ｔと４５°の角度を成す４つの方向Ｄ１乃至Ｄ４に分子配向すると考えられる。その結果、曲面加工後の保護フィルム２１は、偏光子２２の吸収軸Ａ及び透過軸Ｔと４５°の角度を成す方向に複屈折性を発現すると考えられる。そうなると、曲面加工前の偏光板２で吸収し得た直線偏光の一部が保護フィルム２１によって円偏光に変換される。変換された円偏光は偏光子２２を透過し、偏光子２２を透過した円偏光が光漏れとして知覚される。その結果、偏光板２の防眩性が低下すると考えられる。

＜被着体の凹曲面に偏光板を積層する場合＞
図４は、凹曲面３２を有する被着体３の一例を表している。
図４（ａ）は、被着体３の平面図であり、図４（ｂ）は、凹曲面３２の底部３２１を通る切断線ＩＶ（ｂ）−ＩＶ（ｂ）で被着体３を切断した断面図であり、図４（ｃ）は被着体３の側面図である。なお、本例において、被着体３は、切断線ＩＶ（ｂ）−ＩＶ（ｂ）に限らず、底部３２１を通るどの切断線で切断しても図４（ｂ）の断面を有する。
被着体３の凹曲面３２は、その面内に底部３２１（最も陥没した部分）を有している。凹曲面３２に沿った仮想線であって、凹曲面３２の底部３２１からその周端縁３２２に至る無数の仮想線Ｙを想定した場合、仮想線Ｙは全て曲線となる。
本例では、図４（ａ）乃至図４（ｃ）に示すように、被着体３の凹曲面３２は、平面視円形であり、その円の中心が底部３２１である。本例では、被着体３は、底部３２１を通るどの切断線で切断しても図４（ｂ）の断面を有するため、無数に想定される仮想線Ｙは全て同じ曲率を有する曲線である。
以下、図４で表される被着体３の凹曲面３２に偏光板２を積層する過程について図５及び図６を参照しつつ説明する。但し、凸曲面３１に偏光板２を積層する場合と同じ説明については適宜省略する。

まず、偏光板２を、被着体３の凹部（凹曲面３２と凹曲面３２の周端縁３２２を輪郭線とする円形の仮想平面によって囲われた空間）を塞ぐように被着体３上に載置する。図５（ａ）は、本状態における偏光板２と被着体３の平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）の断面図である。本例において、偏光板２の平面視形状は、被着体３の凹曲面３２の平面視形状と相似形で且つ大径の円形である。
続いて、偏光板２の周端部２３が被着体３の周端部３３（本例では、平面視環状の部分）に固定される。固定手段としては、特に限定されないが、接着剤が例示できる。この場合、接着剤は予め被着体３の周端部３３に部分的に設けられている。被着体３の周端部３３の全面に接着剤を用いた場合、曲面加工の過程で被着体３の凹部に存在する空気が除かれず、偏光板２の曲面加工ができなくなるためである。

続いて、偏光板２を加熱し、軟化した偏光板２を被着体３の凹曲面３２に圧着する（図６（ａ）参照）。
この際、偏光板２は、加圧により、凹曲面３２の周端縁３２２から凹曲面３２の底部３２１に向かう全方位に延伸される。本例では、偏光板２の面内中心部が凹曲面３２の底部３２１に対応しているため、偏光板２は、凹曲面３２の周端縁３２２に対応した部分２４から面内中心部に向かう全方位に延伸される（図６（ｂ）参照）。図６（ｂ）において、偏光板の延伸方向を黒塗り矢印で示している。
なお、本明細書において、以後、「被着体の凹曲面の底部に対応する部分」を単に「底部対応部」と称し、「被着体の凹曲面の周端縁に対応する部分」を単に「周端縁対応部」と称する場合がある。

図６（ｂ）に示すように、曲面加工によって、偏光板２に含まれる保護フィルム２１は、その周端縁対応部２４から面内中央部に向かう全方位に延伸される。その結果、保護フィルム２１を構成する高分子化合物は、曲面加工後において、偏光子２２の吸収軸Ａ及び透過軸Ｔと４５°の角度を成す４つの方向Ｄ５乃至Ｄ８に分子配向すると考えられる。そのため、保護フィルム２１は、偏光子２２の吸収軸Ａ及び透過軸Ｔと４５°の角度を成す方向に複屈折性を有することとなる。従って、曲面加工後において、偏光板２の防眩性が低下すると考えられる。

本発明者は、偏光板に含まれる光学的等方性を有する保護フィルムが曲面加工後において光学的異方性を発現する上記機序に着目し、本発明を創出した。
以下、本発明の曲面用偏光板の構成について説明する。なお、本明細書において、以後、「曲面用偏光板」を単に「偏光板」と称する場合がある。

［曲面用偏光板の構成］
本発明の偏光板は、被着体に積層されることを前提としている。被着体は、偏光板の光学補償の対象となる透明な部材である。被着体に偏光板を積層することにより、被着体に防眩性を付与することができる。

図７及び図８に示すように、偏光板２は、偏光子２２と、偏光子２２に積層された保護フィルム２１と、を有する。偏光子２２は、自然光（非偏光）から特定の振動方向を有する直線偏光を抽出する部材である。
具体的には、図７に示すように、偏光子２２は、その面内に吸収軸Ａと透過軸Ｔを有する。吸収軸Ａと透過軸Ｔは、互いに偏光子２２の面内で直交している。そして、吸収軸方向（吸収軸Ａの延びる方向）と平行な振動方向を有する直線偏光は偏光子２２に吸収され、透過軸方向（透過軸Ｔの延びる方向）と平行な振動方向を有する直線偏光は偏光子２２を透過する。このように、偏光子２２はその吸収軸方向と平行な振動方向を有する直線偏光を吸収するため、偏光板２を被着体に積層することにより、反視認側から偏光板２に入射した光の一部が視認側へ透過しなくなる（即ち、遮光される）。従って、光学積層体を介して視認側から反視認側を観察した場合、光学積層体を介さない場合に比して、眩しさを感じ難い。
なお、「反視認側」は、偏光板２を基準にして、偏光板２の遮光・透光対象となる光を発する光源が存在する側であり、「視認側」はその反対側である。視認側には観察者が位置する。

偏光子２２には、保護フィルム２１が積層されている。本発明で用いられる保護フィルム２１は、面内及び／又は厚み方向に複屈折性を有する位相差フィルムを有する。本発明では、保護フィルム２１は、少なくとも可視光（例えば、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の波長領域において、面内に複屈折性を有する位相差フィルムを有する。

本発明では、保護フィルム２１は、位相差フィルムのみから成っていてもよいし、位相差フィルムと他のフィルムを含む積層体であってもよいが、好ましくは位相差フィルムのみから成る。保護フィルム２１が、位相差フィルムと他のフィルムを含む積層体である場合、この他のフィルムが曲面加工により複屈折性を発現する虞があるためである。
以下、本明細書では、保護フィルム２１が位相差フィルムのみから成る（即ち、保護フィルム２１が位相差フィルムである）実施形態について説明し、位相差フィルムの符号として保護フィルムの符号「２１」を用いる。

本発明では、位相差フィルム２１は、その屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、又はｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの何れかの関係を満たす。
図７に示すように、位相差フィルム２１は、その面内に遅相軸Ｓを有する。遅相軸Ｓは、面内で屈折率が最大になる方向である。なお、位相差フィルム２１は遅相軸Ｓと直交する進相軸を有するが、便宜上、図７で進相軸は図示していない。
前記「ｎｘ」は、位相差フィルム２１の面内の屈折率が最大となる方向（遅相軸方向）の屈折率を表し、前記「ｎｙ」は、同面内で遅相軸方向に対して直交する方向（進相軸方向）の屈折率を表し、前記「ｎｚ」は、前記遅相軸方向及び進相軸方向に直交する方向（厚み方向）の屈折率を表す。

本発明の偏光板２では、位相差フィルム２１が、その遅相軸Ｓと偏光子２２の吸収軸Ａ又は透過軸Ｔが２０°以下の角度を成すように偏光子に積層されている。遅相軸Ｓと吸収軸Ａ又は透過軸Ｔの成す角度は、２０°以下であれば特に限定されないが、好ましくは、１０°以下であり、より好ましくは５°以下であり、さらに好ましくは３°以下であり、特に好ましくは０°である。遅相軸Ｓと吸収軸Ａ又は透過軸Ｔの成す角度が０°であるとは、遅相軸Ｓと吸収軸Ａ又は透過軸Ｔが平行であることを意味する。図７では、位相差フィルム２１の遅相軸Ｓと偏光子２２の吸収軸Ａが２０°を成している。
なお、遅相軸Ｓと吸収軸Ａ又は透過軸Ｔの成す角度は、２つ想定される。具体的には、角度αと、角度β（β＝１８０°−α）が想定される。本明細書では、遅相軸Ｓと吸収軸Ａ又は透過軸Ｔの成す角度は、角度α及び角度βのうち、角度が小さい方を指す。

本発明では、位相差フィルムは、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］）の下限値が０．００８であり、好ましくは０．００９であり、より好ましくは０．０１である。
前記「波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］）」は、２３℃、波長５９０ｎｍの光で測定した、位相差フィルムの面内における複屈折率である。前記Δｎｘｙ［５９０］は、式：Δｎｘｙ［５９０］＝ｎｘ−ｎｙによって求めることができる。
また、位相差フィルムの面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］）の上限値は、特に限定されないが、位相差フィルムの実用性を考慮すると、０．１である。
本発明では、面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］）が０．００８以上の位相差フィルムを偏光子の位相差フィルムとして用いるため、偏光板を曲面加工した際において、位相亜フィルムが偏光子の防眩性を阻害し難い。以下、本発明者が推測するその理由について説明する。

本発明では、保護フィルムが位相差フィルムを有する。上述のように、本発明では、位相差フィルムは、偏光子の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成す方向に遅相軸を有しており、その面内の複屈折率は０．００８以上である。即ち、位相差フィルムを構成する高分子化合物は、偏光子の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成す方向に強く配向していると考えられる。
本発明の偏光板を曲面加工した場合、偏光板に含まれる位相差フィルムは、偏光子の吸収軸又は透過軸と４５°を成す方向に延伸される（図３（ｂ）及び図６（ｂ）参照）。しかし、本発明では、位相差フィルムを構成する高分子化合物は、偏光子の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成す方向に強く配向しているため、曲面加工によって高分子化合物の配向が乱され難いと考えられる。即ち、曲面加工を施しても、位相差フィルムを構成する高分子化合物は、偏光子の吸収軸又は透過軸と４５°を成す方向に配向し難く、保護フィルムは、この方向に複屈折性を有し難いと考えられる。
そのため、本発明の偏光板は、曲面加工を施したとしても、保護フィルムによって直線偏光が円偏光に変換され難く、それ故、光漏れが生じ難いと考えられる。従って、本発明の偏光板は、曲面加工を施しても高い防眩性を被着体に付与することができる。

本発明で用いられる位相差フィルムの面内位相差値（Ｒｅ［５９０］）の上限値は特に限定されないが、好ましくは２０００ｎｍであり、より好ましくは１０００ｎｍであり、さらに好ましくは６００ｎｍである。前記「面内位相差値（Ｒｅ［５９０］）」は、２３℃、波長５９０ｎｍの光で測定した、位相差フィルムの面内の位相差値である。Ｒｅ［５９０］は、位相差フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ［５９０］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求めることができる。
また、本発明で用いられる位相差フィルムの面内位相差値（Ｒｅ［５９０］）の下限値は特に限定されないが、好ましくは４５０ｎｍであり、より好ましくは４９０ｎｍであり、さらに好ましくは５００ｎｍである。
上記面内位相差値（Ｒｅ［５９０］）は、例えば、例えば、位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、製品名「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」）を用いて測定できる。

位相差フィルムの厚みの上限値は特に限定されないが、好ましくは２５０μｍであり、より好ましくは１２５μｍであり、さらに好ましくは７５μｍであり、特に好ましくは５０μｍである。また、位相差フィルムの厚みの下限値は特に限定されないが、好ましくは４．５μｍであり、より好ましくは５．０μｍである。
位相差フィルムは、偏光子を保護する目的で設けられているため、その厚みが４．５μｍよりも薄い場合、偏光子を十分に保護できない虞がある。

本発明で用いられる位相差フィルムは、透明性に優れていることが好ましい。位相差フィルムの透過率（Ｔ［５５０］）は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９２％以上である。前記「透過率（Ｔ［５５０］）」は、２３℃、波長５５０ｎｍの光で測定した、位相差フィルムの光線透過率である。前記透過率は、例えば、分光光度計（株式会社日立製作所製、製品名「Ｕ−４１００」）を用いて測定できる。

以下、本発明の偏光板に含まれる位相差フィルム及び偏光子の形成材料などについて説明する。但し、位相差フィルム及び偏光子の形成材料は、下記に例示したものに限定されない。

＜位相差フィルム＞
本発明で用いられる位相差フィルムの形成材料は、高分子化合物（ポリマー）である。位相差フィルムを構成するポリマーとしては、例えば、ポリカーボネート系樹脂；スチレン系樹脂；ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ノルボルネン系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；ポリビニルブチラール系樹脂；ポリヒドロキシエチルアクリレートなどのアクリレート系樹脂；ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；これらの重合体；及びこれらの混合物などが挙げられる。

本発明で用いられる位相差フィルムは、好ましくは、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂から選択される少なくとも１種の樹脂を主成分として含んでおり、より好ましくは、ポリカーボネート系樹脂を主成分として含んでいる。
これらの樹脂は、位相差フィルムの形成材料として汎用的に用いられており、比較的安価である。従って、これらの樹脂を用いることにより偏光板の生産性を高めることができる。
なお、「主成分として含む」とは、例えば、位相差フィルムの総質量（１００質量％）のうち対象となる樹脂が５０質量％以上含まれていることを意味し、本発明の目的を損なわない範囲で他の樹脂や添加剤（例えば、重合促進剤や帯電防止剤など）などを含んでもよい。対象となる樹脂は、好ましくは７０質量％以上含まれており、特に好ましくは９０質量％以上含まれている。

本発明で用いられる位相差フィルムは、例えば、上記高分子化合物を含む無延伸フィルムを一軸延伸することによって形成することができる。
無延伸フィルムを延伸する倍率（延伸倍率）は、高分子化合物の種類に応じて、適宜、選択され得る。上記延伸倍率は、好ましくは１を超え３倍以下であり、さらに好ましくは１を超え２．５倍以下であり、特に好ましくは１．１倍〜２．０倍である。
また、延伸時におけるフィルムの送り速度は、特に制限はないが、機械精度、安定性などの観点から、好ましくは０．５ｍ／分〜３０ｍ／分であり、より好ましくは１ｍ／分〜２０ｍ／分である。
上記の延伸条件であれば、目的とする光学特性（即ち、面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］）が０．００８以上）が得られるだけでなく、光学均一性に優れた位相差フィルムを形成することができる。

＜偏光子＞
本発明で用いられる偏光子は、特に限定されない。偏光子は、一般的に、曲面加工により光学的性質が変化し難いためである。
偏光子としては、例えば、ヨウ素で染色された親水性ポリマーフィルムや、リオトロピック液晶性を有する有機色素を含む乾燥塗膜などが挙げられる。好ましくは、偏光子は、リオトロピック液晶性を有する有機色素を含む乾燥塗膜である。

前記リオトロピック液晶性を有する有機色素を含む偏光子は、その内部において前記有機色素が超分子会合体を形成している。ここで、「超分子会合体」とは、複数の有機色素が水素結合等によって結合して形成された１つの大きな複合体である。また、リオトロピック液晶性とは、有機色素と溶媒を含むコーティング液の温度や濃度を変化させることにより、有機色素が等方相−液晶相の相転移を生じる性質を意味する。
超分子会合体を形成した有機色素を含む偏光子は、例えば、適当な有機色素と溶媒を含むコーティング液を塗布し、それを乾燥させることによって形成することができる。

偏光子に含まれる有機色素としては、例えば、アゾ系化合物、アントラキノン系化合物、ペリレン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトキノン系化合物、メロシアニン系化合物などが挙げられる。良好なリオトロピック液晶性を示すことから、アゾ系化合物を用いることが好ましい。

アゾ系化合物の中では、分子中に芳香環を有するアゾ化合物が好ましく、ナフタレン環を有するジスアゾ化合物がより好ましい。また、アゾ系化合物は、その分子中に極性基を有するアゾ系化合物が好ましい。極性基を有するアゾ系化合物は、水系溶媒に可溶であり、水系溶媒に溶解して超分子会合体を形成し易い。このため、極性基を有するアゾ系化合物を含むコーティング液は、特に良好なリオトロピック液晶性を示す。
なお、極性基とは、極性を持つ官能基を意味する。極性基としては、ＯＨ基、ＣＯＯＨ基、ＮＨ_２基、ＮＯ_２基、ＣＮ基のような比較的電気陰性度の大きい酸素及び／又は窒素を含む官能基が挙げられる。

極性基を有するアゾ系化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される芳香族ジスアゾ化合物が好ましい。特に、下記一般式（１）で表される芳香族ジスアゾ化合物を含む偏光子は、曲面加工を施されても吸収軸が歪み難く、曲面加工前と同様の偏光性を有し得る。

一般式（１）において、Ｑ^１は、置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｑ^２は、置換若しくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ^１は、独立して、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアセチル基、置換若しくは無置換のベンゾイル基、置換若しくは無置換のフェニル基を表し、Ｍは、対イオンを表し、ｍは、０〜２の整数を表し、ｎは、０〜６の整数を表す。ただし、ｍ及びｎの少なくとも何れか一方は、０でなく、１≦ｍ＋ｎ≦６である。前記ｍが２である場合、各Ｒ^１は、同一又は異なる。
一般式（１）に示されたＯＨ、（ＮＨＲ^１）_ｍ、及び（ＳＯ_３Ｍ）_ｎは、それぞれナフチル環の７つの置換部位のいずれに結合していてもよい。
なお、本明細書において、「置換若しくは無置換」とは、「置換基で置換されている、又は、置換基で置換されていない」ことを意味する。

前記一般式（１）のナフチル基とアゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）の結合位置は、特に限定されない。前記ナフチル基は、式（１）において右側に表されているナフチル基を指す。好ましくは、前記ナフチル基とアゾ基は、前記ナフチル基の１位又は２位で結合されている。

前記一般式（１）のＲ^１のアルキル基、アセチル基、ベンゾイル基、又はフェニル基が置換基を有する場合、その置換基としては、下記アリール基又はアリーレン基において例示する、各置換基が挙げられる。
前記Ｒ^１は、好ましくは、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアセチル基であり、より好ましくは水素原子である。
前記置換若しくは無置換のアルキル基としては、置換若しくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。

前記一般式（１）のＭ（対イオン）は、好ましくは、水素イオン；Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓなどのアルカリ金属イオン；Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどのアルカリ土類金属イオン；その他の金属イオン；アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムイオン；有機アミンの塩などが挙げられる。前記金属イオンとしては、例えば、Ｎｉ^＋、Ｆｅ^３＋、Ｃｕ^２＋、Ａｇ^＋、Ｚｎ^２＋、Ａｌ^３＋、Ｐｄ^２＋、Ｃｄ^２＋、Ｓｎ^２＋、Ｃｏ^２＋、Ｍｎ^２＋、Ｃｅ^３＋などが挙げられる。有機アミンとしては、炭素数１〜６のアルキルアミン、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜６のアルキルアミン、カルボキシル基を有する炭素数１〜６のアルキルアミンなどが挙げられる。上記一般式（１）において、ＳＯ_３Ｍが２つ以上である場合、各Ｍは、同一又は異なっていてもよい。また、前記一般式（１）において、ＳＯ_３ＭのＭが２価以上の陽イオンである場合、そのＭは、他の陰イオンと静電的に結合して安定化しているか、或いは、そのＭは、隣接する他の一般式（１）のアゾ系化合物のＳＯ_３ ⁻と結合して超分子会合体を形成し得る。

前記一般式（１）のｍは、好ましくは１である。また、一般式（１）のｎは、好ましくは１又は２である。
一般式（１）のナフチル基の具体例としては、例えば、下記式（ａ）乃至式（ｌ）などが挙げられる。式（ａ）乃至式（ｌ）のＲ^１及びＭは、一般式（１）と同様である。

前記一般式（１）において、前記Ｑ^１で表されるアリール基は、フェニル基の他、ナフチル基などのようなベンゼン環が２以上縮合した縮合環基が挙げられる。
前記Ｑ^２で表されるアリーレン基は、フェニレン基の他、ナフチレン基などのようなベンゼン環が２以上縮合した縮合環基が挙げられる。

Ｑ^１のアリール基又はＱ^２のアリーレン基は、それぞれ置換基を有していてもよいし、又は、置換基を有していなくてもよい。前記アリール基又はアリーレン基が、置換若しくは無置換のいずれの場合でも、極性基を有する一般式（１）の芳香族ジスアゾ化合物は、水系溶媒に対する溶解性に優れている。

前記アリール基又はアリーレン基が置換基を有する場合、その置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、炭素数１〜６のアシルアミノ基、ジヒドロキシプロピル基等の炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基、ＣＯＯＭ基などのカルボキシル基、ＳＯ_３Ｍ基などのスルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲノ基などが挙げられる。好ましくは、前記置換基は、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、スルホン酸基、及びニトロ基から選ばれる１つである。このような置換基を有する芳香族ジスアゾ化合物は、特に水溶性に優れている。これらの置換基は、１種又は２種以上置換されていてもよい。また、前記置換基は、任意の比率で置換されていてもよい。

前記一般式（１）のＱ^１は、好ましくは置換若しくは無置換のフェニル基であり、より好ましくは前記置換基を有するフェニル基である。
前記Ｑ^２は、好ましくは置換若しくは無置換のナフチレン基であり、より好ましくは前記置換基を有するナフチレン基であり、特に好ましくは前記置換基を有する１，４−ナフチレン基である。

一般式（１）のＱ^１が置換若しくは無置換のフェニル基で、且つ、Ｑ^２が置換若しくは無置換の１，４−ナフチレン基である芳香族ジスアゾ系化合物は、下記一般式（２）で表される。

一般式（２）において、Ｒ^１、Ｍ、ｍ及びｎは、上記一般式（１）のそれらと同様である。
一般式（２）において、Ａ及びＢは、置換基を表し、ａ及びｂは、その置換数を表す。前記Ａ及びＢは、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、炭素数１〜６のアシルアミノ基、ジヒドロキシプロピル基等の炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基、ＣＯＯＭ基などのカルボキシル基、ＳＯ_３Ｍ基などのスルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲノ基を表す。前記ａは、０〜５の整数であり、前記ｂは、０〜４の整数を表す。ただし、ａ及びｂの少なくとも何れか一方は０でない。前記ａが２以上の場合、前記置換基Ａは、同じでもよいし、又は、異なっていてもよい。前記ｂが２以上の場合、前記置換基Ｂは、同じでもよいし、又は、異なっていてもよい。

一般式（２）に含まれる芳香族ジスアゾ化合物の中では、下記一般式（３）で表される芳香族ジスアゾ化合物を用いることが好ましい。一般式（３）の芳香族ジスアゾ化合物は、置換基Ａがアゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）を基準にしてパラ位に結合している。さらに、一般式（３）の芳香族ジスアゾ化合物は、そのナフチル基のＯＨ基がアゾ基に隣接した位置（オルト位）に結合している。

一般式（３）において、Ｒ^１、Ｍ、ｍ及びｎは、上記一般式（１）のそれらと同様であり、Ａは、一般式（２）のそれと同様である。
一般式（３）において、ｐは、０〜４の整数を表す。前記ｐは、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。

上記一般式（１）乃至（３）で表される芳香族ジスアゾ化合物は、例えば、細田豊著「理論製造 染料化学（５版）」（昭和４３年７月１５日技報堂発行、１３５頁乃至１５２頁）に従って合成できる。
例えば、一般式（３）の芳香族ジスアゾ化合物は、アニリン誘導体とナフタレンスルホン酸誘導体をジアゾ化及びカップリング反応させてモノアゾ化合物を得た後、このモノアゾ化合物をジアゾ化した後、さらに、１−アミノ−８−ナフトールスルホン酸誘導体とカップリング反応させることによって合成できる。

リオトロピック液晶性を有する有機色素を含む偏光子は、コーティング液の塗布・乾燥によって容易に形成することができる。また、該偏光子は、曲面加工によって収縮し難いため、偏光子が割れ難く且つその吸収軸が歪み難い。従って、リオトロピック液晶性を有する有機色素を偏光子の形成材料として用いることで、厚みが小さく防眩性の高い偏光板を得ることができる。

［偏光板の製造方法］
本発明の偏光板は、例えば、下記の工程Ｂ乃至工程Ｄによって製造することができ、必要に応じて工程Ｂの前に工程Ａを行ってもよい。また、工程Ｄで偏光子の表面に位相差フィルムを積層した場合、必要に応じて工程Ｄの後に工程Ｅを行ってもよい。
工程Ａ：基板の表面に、配向処理を施す工程。
工程Ｂ：基板の表面にリオトロピック液晶性を有する有機色素を含むコーティング液を塗布し、塗膜を形成する工程。
工程Ｃ：塗膜を乾燥し、乾燥塗膜である偏光子を形成する工程。
工程Ｄ：偏光子又は基板の表面に位相差フィルムを積層する工程。
工程Ｅ：偏光子及び位相差フィルムを含む積層体を基板から引きはがす工程。

＜工程Ａ＞
工程Ａは、基板の表面に配向処理を行うことで、基板の表面に配向規制力を付与する工程である。予め配向規制力を有する基板を用いる場合、工程Ａを実施する必要はない。
配向規制力の付与方法としては、例えば、基板の表面をラビング処理すること；フィルムの表面にポリイミドなどの膜を形成し、その膜の表面をラビング処理すること；フィルムの表面に光反応性化合物からなる膜を形成し、その膜に光照射して配向膜を形成することなどが挙げられる。基板は特に限定されず、例えば、ガラス基板、石英基板、樹脂フィルム基板、液晶フィルム基板、シリコン基板など任意の部材が用いられる。
なお、工程Ｅを行わない場合、実質的に光学的等方性を有する基板を用いる、即ち、実質的に光学的異方性を有さない基板を用いることが好ましい。基板が光学的異方性を有すると、偏光子によって吸収されるはずの直線偏光の位相が基板によって乱され、その結果、偏光板の防眩性が低下する虞がある。

ここで、「基板が実質的に光学的等方性を有する」とは、基板の屈折率楕円体が、ｎｘ＝ｎｚ＝ｎｙである場合だけでなく、ｎｘ≒ｎｚ≒ｎｙである場合を含む。
具体的には、基板の面内の複屈折率Δｎｘｙ（ｎｘ−ｎｙ）の絶対値、及び厚み方向の複屈折率Δｎｘｚ（ｎｘ−ｎｚ）の絶対値が、０．０００５以下である場合を含み、好ましくは０．０００１以下であり、より好ましくは０．００００５以下である。

＜工程Ｂ＞
工程Ｂは、コーティング液を用いて塗膜を形成する工程である。
コーティング液は、上記有機色素と、有機色素を溶解又は分散させる溶媒と、を含む。コーティング液は、溶媒に、有機色素を溶解又は分散させることによって得られる。有機色素としては、好ましくは、上述した一般式（１）で表される芳香族ジスアゾ化合物が用いられる。なお、必要に応じて、有機色素以外の他のポリマー、及び／又は添加剤などを前記溶媒に添加してもよい。

前記溶媒は、特に限定されず、従来公知の溶媒を用いることができるが、水系溶媒が好ましい。水系溶媒としては、水、親水性溶媒、水と親水性溶媒の混合溶媒などが挙げられる。前記親水性溶媒は、水に略均一に溶解する溶媒である。親水性溶媒としては、例えば、メタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールなどのグリコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；酢酸エチルなどのエステル類；などが挙げられる。上記水系溶媒は、好ましくは、水、又は、水と親水性溶媒の混合溶媒が用いられる。

コーティング液は、液温や有機色素の濃度などを変化させることにより、リオトロピック液晶相を示す。リオトロピック液晶相は、有機色素が液中で超分子会合体を形成することによって生じる。リオトロピック液晶相は、偏光顕微鏡で観察される光学模様によって、確認、識別できる。

コーティング液中における有機色素の濃度は、それが液晶相を示すように調製することが好ましい。コーティング液中における有機色素の濃度は、通常０．０５重量％〜５０重量％であり、好ましくは０．５重量％〜４０重量％であり、より好ましくは１重量％〜１０重量％である。
また、コーティング液は、適切なｐＨに調整される。コーティング液のｐＨは、好ましくはｐＨ２〜１０程度、より好ましくはｐＨ６〜８程度である。
さらに、コーティング液の温度は、好ましくは１０℃〜４０℃、より好ましくは１５℃〜３０℃に調整される。

コーティング液を基板上に塗布することにより、塗膜が形成される。塗膜内において、有機色素は基板の配向規制力によって所定の方向に配向する。
コーティング液の塗布方法は特に限定されず、例えば、従来公知のコータを用いた塗布方法を採用できる。前記コータとしては、バーコータ、ロールコータ、スピンコータ、コンマコータ、グラビアコータ、エアーナイフコータ、ダイコータなどが挙げられる。

＜工程Ｃ＞
工程Ｃは、乾燥塗膜である偏光子を形成する工程である。基板上に乾燥塗膜である偏光子を形成することで、基板と偏光子を有する積層体が得られる。
工程Ｂで得られた塗膜を乾燥することにより、塗膜に含まれる溶媒が揮発し、固形の有機色素を含む乾燥塗膜（偏光子）が形成される。偏光子内において、有機色素は超分子会合体を形成したままその配向が固定されている。
塗膜の乾燥方法は特に限定されず、自然乾燥や強制的な乾燥を実施できる。強制的な乾燥としては、例えば、減圧乾燥、加熱乾燥、減圧加熱乾燥などが挙げられる。好ましくは、自然乾燥が用いられる。
塗膜の乾燥時間は、乾燥温度や溶媒の種類によって、適宜、選択され得る。例えば、自然乾燥の場合には、乾燥時間は、好ましくは１秒〜１２０分であり、より好ましくは１０秒〜５分である。
また、乾燥温度は特に限定されないが、好ましくは１０℃〜１００℃であり、より好ましくは１０℃〜９０℃であり、特に好ましくは１０℃〜８０℃である。
なお、乾燥温度とは、塗膜の表面や内部の温度ではなく、塗膜を乾燥する雰囲気の温度を意味する。

＜工程Ｄ＞
工程Ｄは、偏光子の表面に位相差フィルムを積層する工程である。例えば、位相差フィルムは、接着剤又は粘着材を用いて偏光子の表面に貼付される。前記接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系ポリマー、シリコン系ポリマー、エステル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、ゴム系ポリマーなどのベースポリマーとする接着剤又は粘着剤が用いられる。
接着層の厚みは、特に制限されないが、通常１〜５００ｎｍ程度であり、好ましくは１０〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０〜１００ｎｍである。

＜工程Ｅ＞
工程Ｅは、偏光子及び位相差フィルムを含む積層体を基板から引きはがす工程である。工程Ｅを行うことにより、偏光子と位相差フィルムを含む偏光板が得られる。工程Ｅを行わない場合は、基板と偏光子と位相差フィルムを含む偏光板が得られる。工程Ｅを行う場合、コーティング液が塗布される基板の表面には易剥離処理が施されていることが好ましい。

なお、上記に例示した本発明の偏光板の製造方法では、基板と位相差フィルムが独立した別部材である。しかし、本発明の偏光板の製造方法では、位相差フィルムをコーティング液の塗布対象である基板として用いることもできる。
この場合、上記工程Ｄ及びＥを経ることなく、位相差フィルムと偏光子を有する偏光板を得ることができる。

［被着体］
本発明の偏光板が積層される被着体について説明する。被着体は、本発明の偏光板によって防眩性を付与される対象部材である。被着体は、曲面を有する。曲面は、凸曲面及び凹曲面から選ばれる少なくとも一方の曲面を有する。以下、凸曲面と凹曲面について説明する。

図１及び図９は、凸曲面３１を有する被着体３の一例を示している。図１の被着体３の凸曲面３１は平面視円形状であり、図９の被着体３の凸曲面３１は平面視楕円形状である。
被着体３の凸曲面３１は、三次元凸曲面である。具体的には、凸曲面３１は、頂部３１１（最も隆起した部分）を有している。凸曲面３１に沿った仮想線であって、凸曲面３１の頂部３１１から周端縁３１２に至る無数の仮想線Ｘを想定した場合、仮想線Ｘは全て曲線となる。
図１では、被着体３を平面視した際における円の中心が頂部３１１であり、図９では、被着体３を平面視した際における楕円の中心が頂部３１１である。
また、図１では、無数に想定される仮想線Ｘは全て同じ曲率を有する曲線である。他方、図９では、被着体３を平面視した際において、楕円の長軸半径を成す仮想線Ｘ１の曲率が最大であり、楕円の短軸半径を成す仮想線Ｘ２の曲率が最小である。即ち、仮想線Ｘ１と仮想線Ｘ２の曲率は相違する。
なお、図１及び図９では、凸曲面３１の頂部３１１は、被着体３を平面視した際における円又は楕円の中心に位置するが、頂部３１１は、必ずしも、円又は楕円の中心に位置していなくてもよく、円又は楕円の中心よりも周端縁３１２寄りに位置していてもよい（図示せず）。

図４及び図１０は、凹曲面３２を有する被着体３の一例を示している。図４の被着体３の凹曲面３２は平面視円形状であり、図１０の被着体３の凹曲面３２は平面視楕円形状である。
被着体３の凹曲面３２は、三次元凹曲面である。具体的には、凹曲面３２は、底部３２１（最も陥没した部分）を有している。凹曲面３２に沿った仮想線であって、凹曲面３２の底部３２１から周端縁３２２に至る無数の仮想線Ｙを想定した場合、仮想線Ｙは全て曲線となる。
図４では、被着体３を平面視した際における円の中心が底部３２１であり、図１０では、被着体３を平面視した際における楕円の中心が底部３２１である。
また、図４では、無数に想定される仮想線Ｙは全て同じ曲率を有する曲線である。他方、図１０では、被着体３を平面視した際において、楕円の長軸半径を成す仮想線Ｙ１の曲率が最大であり、楕円の短軸半径を成す仮想線Ｙ２の曲率が最小である。即ち、仮想線Ｙ１と仮想線Ｙ２の曲率は相違する。
なお、図４及び図１０では、凹曲面３２の底部３２１は、被着体３を平面視した際における円又は楕円の中心に位置するが、底部３２１は、必ずしも、円又は楕円の中心に位置していなくてもよく、円又は楕円の中心よりも周端縁３２２寄りに位置していてもよい（図示せず）。

ここで、図１及び図９に示す被着体３において、凸曲面３１の頂部３１１は、幾何学上、面積を有さない点である。しかし、図１１に示すように、頂部３１１は面積を有する平坦面であってもよい。なお、図１１において、頂部３１１の平面視形状は円形であるが、頂部３１１の平面視形状は円形に限定されない。
特に図示して説明しないが、図４及び図１０に示す被着体３の凹曲面３２の底部３２１についても同様のことが言える。即ち、底部３２１は、面積を有する平坦面であってもよい（図示せず）。
なお、図１及び図９では、上述のように、頂部３１１は、幾何学上、面積を有さない点であるが、現実的には、被着体（例えば、レンズ）をその頂部３１１が面積を有さないように成形することはほぼ不可能である。そのため、被着体の頂部３１１又は底部３２１は、現実的には、ある程度の面積を有すると考えられる。

また、被着体３の凸曲面３１及び凹曲面３２の平面視形状は、円形や楕円形に限定されず、例えば、矩形や、非定形であってもよい。もっとも、好ましくは被着体３の凸曲面３１及び凹曲面３２の平面視形状は、円形又は楕円形である。

被着体は、上記のような凸曲面及び／又は凹曲面を有する透明な部材であれば特に限定されず、光学積層体の用途に応じて適宜選択することができる。このような被着体としては、例えば、サングラス、カメラ、望遠鏡などに用いられるレンズ；車のフロントガラスなどのガラス窓；などが挙げられる。
なお、「透明」とは、可視光を透過する性質を有することを意味する。「透明」は、実質的に可視光を吸収せず、可視光域の全ての波長の光を透過する場合（以下、無色透明という）、及び、可視光域の一部の波長の光を吸収し、且つその波長以外の光を透過する場合（以下、有色透明という）を含む。
例えば、前記無色透明という場合の可視光線透過率は、８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは９５％以上である。また、前記有色透明という場合の可視光線透過率は、５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上である。なお、可視光透過率は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準じて測定できる。

［光学積層体］
本発明の光学積層体について図１２及び図１３を適宜参照しながら説明する。
光学積層体１は、本発明の偏光板２を上記被着体３の曲面に積層することにより形成される積層体である。なお、本発明の光学積層体１は、偏光板２と被着体３だけでなく、他の任意の機能層を有していてもよい。なお、図１２及び図１３では、便宜上、光学積層体１を平坦状に描写している。また、図１２及び図１３では、図面の上側が反視認側であり、図面の下側が視認側である。

図１２及び図１３に示すように、光学積層体１は、被着体３と被着体３の曲面に積層された偏光板２を少なくとも有する。偏光板２は、位相差フィルム２１が偏光子２２よりも反視認側に位置するように設けられる。偏光板２は、例えば、接着剤又は粘着剤を用いて被着体３の曲面に貼付される。前記接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系ポリマー、シリコン系ポリマー、エステル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、ゴム系ポリマーなどのベースポリマーとする接着剤又は粘着剤が用いられる。

図１２に示す光学積層体１は、視認側から反視認側にかけて、被着体３；偏光子２２、基板２３、及び位相差フィルム２１を含む偏光板２；を有する。なお、被着体３と偏光子２２の間、及び、基板２３の位相差フィルム２１の間に存在する接着層（接着剤又は粘着剤を含む層）については図示していない。図１２の光学積層体１で用いられる偏光板２は、例えば、上記偏光板２の製造方法の欄における工程Ａ乃至工程Ｄを行うことで得られる。
図１３に示す光学積層体１は、視認側から反視認側にかけて、被着体３；偏光子２２及び位相差フィルム２１を含む偏光板２；を有する。なお、被着体３と偏光子２２の間に存在する接着層については図示していない。図１３の光学積層体１で用いられる偏光板２は、例えば、上記偏光板２の製造方法の欄における工程Ａ乃至工程Ｃを行うことで得られる（但し、基板として位相差フィルムを用いる）。
なお、図示していないが、光学積層体１は、被着体３の視認側に、偏光板２を構成する位相差フィルム２１とは別の位相差フィルムを有することが好ましい。被着体３の視認側に別の位相差フィルムを積層することにより、被着体３の両面が保護されることとなり、光学積層体１の耐久性が向上するためである。

本発明の光学積層体は、例えば、（Ａ）被着体の曲面に偏光板を積層する、或いは、（Ｂ）被着体の平面に偏光板を設けた後、偏光板と被着体を含む積層体を曲面加工する、ことで得られる。本発明の光学積層体において、偏光板は、被着体の凸曲面に積層されていてもよいし、被着体の凹曲面に積層されていてもよい。
（Ａ）の場合、被着体は、偏光板が積層される前に予め曲面加工されており、被着体の曲面を鋳型として偏光板が曲面加工される（図３及び図６参照）。また、（Ｂ）の場合、被着体とは別の曲面を有する鋳型（例えば、金型）を用いて積層体が曲面加工される。
（Ａ）及び（Ｂ）の何れの方法で光学積層体を形成しても、本発明の偏光板に含まれる位相差フィルムは、偏光子の吸収軸又は透過軸と４５°を成す方向に配向に複屈折性を有し難いため、防眩性に優れた光学積層体を形成することができる。

以下、上記（Ａ）又は（Ｂ）の方法によって得られた光学積層体の性質について、偏光板が被着体の凸曲面に積層されている場合と、偏光板が被着体の凹曲面に積層されている場合に分けて説明する。

＜凸曲面に偏光板が積層された光学積層体＞
光学積層体１の形成過程において、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、偏光板２は、頂部対応部（本例では、偏光板の面内中心部）から面外に向かう全方位に延伸される。この際、偏光板２の頂部対応部は殆ど延伸されないため、曲面加工によって位相差フィルム２１の頂部対応部の光学的性質は殆ど変化しない。換言すれば、位相差フィルム２１の頂部対応部は、曲面加工を施された後であっても、曲面加工前の光学的性質を保持している。

上述のように、本発明の偏光板に含まれる位相差フィルムは、その遅相軸と偏光子の吸収軸又は透過軸が２０°以下の角度を成すように偏光子に積層されており、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００８以上である。この光学的性質は、曲面加工後の偏光板２に含まれる位相差フィルム２１の頂部対応部で保持されている。即ち、本発明の光学積層体１に含まれる位相差フィルム２１は、０．００８以上の面内の複屈折率を有しており、その頂部対応部において、偏光子２２の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成す遅相軸を有する。
なお、位相差フィルム２１の頂部対応部の光学的性質は、曲面加工前の位相差フィルム２１のそれと同じであるため、本欄ではその具体的な説明を省略する。

＜凹曲面に偏光板が積層された光学積層体＞
光学積層体１の形成過程において、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、偏光板２は、その周端縁対応部２４から底部対応部（本例では、偏光板の面内中央部）に向かう全方位に延伸される。この際、偏光板２の周端縁対応部２４は殆ど延伸されないため、曲面加工によって位相差フィルム２１の周端縁対応部２４の光学的性質は殆ど変化しない。換言すれば、位相差フィルム２１の周端縁対応部は、曲面加工を施された後であっても、曲面加工前の光学的性質を保持している。

上述のように、本発明の偏光板２に含まれる位相差フィルム２１は、その遅相軸と偏光子の吸収軸又は透過軸が２０°以下の角度を成すように偏光子に積層されており、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００８以上である。この光学的性質は、曲面加工後の偏光板２に含まれる位相差フィルム２１の周端部で保持されている。即ち、本発明の光学積層体１に含まれる位相差フィルムは、０．００８以上の面内の複屈折率を有しており、その周端部において、偏光子２２の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成す遅相軸を有する。
なお、位相差フィルム２１の周端部の光学的性質は、曲面加工前の位相差フィルム２１のそれと同じであるため、本欄ではその具体的な説明を省略する。

本発明について、実施例及び比較例を示して詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施例のみに限定されるものではない。実施例及び比較例で用いた面内の複屈折率の測定方法は、以下の通りである。

［面内の複屈折率の測定方法］
位相差フィルムの面内の複屈折率（Δｎｘｙ（５９０））は、位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、製品名「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」）を用いて、２３℃で測定波長５９０ｎｍで測定した。

［実施例１］
（保護フィルムの作製）
厚み６６μｍのポリカーボネートフィルム（（株）カネカ製：製品名「Ｒ−フィルム」）をテンター延伸機を用いて１５５℃にて１．５倍に一軸延伸することで位相差フィルム（保護フィルム）を作製した。得られた位相差フィルムの厚みは４６μｍであり、その面内の複屈折率（Δｎｘｙ（５９０））は、０．０１２２であった。

（偏光板の作製）
作製した位相差フィルムを、粘着材を用いて、偏光子（日東電工（株）製：製品名「ＳＥＧ１４２５ＤＵ」）の表面に貼り合わせることで偏光板を作製した。なお、位相差フィルムは、その遅相軸が偏光子の吸収軸と平行となるように貼り合わされた。

（偏光板の光漏れの評価）
作製した偏光板を２枚用意し、一方の偏光板をバックライト上に位相差フィルムが下側となるように載置し、さらにその上に、他方の偏光板を位相差フィルムが下側となるように載置した（図１４（ａ）参照）。なお、一方の偏光板に含まれる偏光子の吸収軸と他方の偏光板に含まれる偏光子の吸収軸が直交するよう（即ち、クロスニコル状態となるように）に載置した。
その後、バックライトを点灯させ、クロスニコル状態に載置された偏光板の上側からバックライトの光漏れを目視にて観察した。その結果を下記の表１に示す。なお、表１において「○」は、光漏れが観察されなかったことを意味し、「×」は、光漏れが観察されたことを意味する。

（光学積層体の作製）
凸曲面を有する被着体として、プラスチック製の８カーブレンズ（（株）イトーレンズ製：製品名「単焦点レンズ」）を用意した。このレンズの凸曲面に、粘着材を用いて、偏光板に含まれる偏光子の表面を貼り合わせた。なお、レンズの凸曲面と偏光板の貼り合わせには、曲面加工装置（布施真空（株）製：製品名「ＮＧＦ−０５１０−Ｒ型」）を用いた。レンズの凸曲面と偏光板を貼り合わせる過程で、偏光板はレンズの凸曲面に合わせて曲面加工された。

（光学積層体の光漏れの評価）
上記「偏光板の作製」の欄で作製した偏光板を用意し、位相差フィルムが下側となるように偏光板をバックライト上に載置した。さらにその上に、作製した光学積層体を位相差フィルムが下側となるように載置した。なお、偏光板に含まれる偏光子の吸収軸と光学積層体に含まれる偏光子の吸収軸が直交するよう（即ち、クロスニコル状態となるように）に載置した（図１４（ｂ）参照）。なお、図１４（ｂ）において、光学積層体は、便宜上、平坦状に図示している。
その後、バックライトを点灯させ、クロスニコル状態に載置された偏光板の上側からバックライトの光漏れを目視にて確認した。その結果を下記の表１に表す。

［実施例２］
ポリカーボネートフィルムの延伸倍率を１．４倍に変更したこと以外は実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。得られた位相差フィルムの厚みは４８μｍであり、その面内の複屈折率（Δｎｘｙ（５９０））は、０．０１０３であった。
この位相差フィルムを用いて偏光板を作製し、実施例１と同様に偏光板の光漏れの評価を行った。また、得られた偏光板を用いて光学積層体を作製し、実施例１と同様に光学積層体の光漏れの評価を行った。これらの結果を下記の表１に表す。

［比較例１］
ポリカーボネートフィルムの延伸倍率を１．３倍に変更したこと以外は実施例１と同様に位相差フィルム（保護フィルム）を作製した。得られた位相差フィルムの厚みは５３μｍであり、その面内の複屈折率（Δｎｘｙ（５９０））は、０．００７８であった。
この位相差フィルムを用いて偏光板を作製し、実施例１と同様に偏光板の光漏れの評価を行った。また、得られた偏光板を用いて光学積層体を作製し、実施例１と同様に光学積層体の光漏れの評価を行った。これらの結果を下記の表１に表す。

［比較例２］
ポリカーボネートフィルムの延伸倍率を１．２倍に変更したこと以外は実施例１と同様に位相差フィルム（保護フィルム）を作製した。得られた位相差フィルムの厚みは５６μｍであり、その面内の複屈折率（Δｎｘｙ（５９０））は、０．００５３であった。
この位相差フィルムを用いて偏光板を作製し、実施例１と同様に偏光板の光漏れの評価を行った。また、得られた偏光板を用いて光学積層体を作製し、実施例１と同様に光学積層体の光漏れの評価を行った。これらの結果を下記の表１に表す。

［評価］
実施例１及び２と比較例１及び２を比較すると、実施例１及び２では、偏光板を曲面加工した後であっても光学積層体の光漏れが観察されなかったのに対し、比較例１及び２では、偏光板の曲面加工によって光学積層体の光漏れが観察された。

１…光学積層体、２…偏光板、２１…保護フィルム（位相差フィルム）、２２…偏光子、３…被着体、３１…凸曲面、３２…凹曲面、Ａ…吸収軸、Ｔ…透過軸、Ｓ…遅相軸

Claims (4)

1. 偏光子と、前記偏光子に積層された保護フィルムと、を有し、
   前記保護フィルムが、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００８以上で且つ面内位相差値が１０００ｎｍ以下の位相差フィルムを有し、
   前記位相差フィルムが、その遅相軸と前記偏光子の吸収軸又は透過軸が２０°以下の角度を成すように偏光子に積層されている曲面用偏光板と、
   曲面を有する被着体と、を有し、
   前記曲面用偏光板が前記被着体の曲面に積層されている、光学積層体。
2. 前記位相差フィルムが、ポリカーボネート系樹脂を主成分として含む請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記偏光子が、下記一般式（１）で表される芳香族ジスアゾ化合物を含んでいる、請求項１又は２に記載の光学積層体。
   

   

   一般式（１）において、Ｑ^１は、置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｑ^２は、置換若しくは無置換のアリーレン基を表し、Ｒ^１は、独立して、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアセチル基、置換若しくは無置換のベンゾイル基、置換若しくは無置換のフェニル基を表し、Ｍは、対イオンを表し、ｍは、０〜２の整数を表し、ｎは、０〜６の整数を表す。ただし、ｍ及びｎの少なくとも何れか一方は、０でなく、１≦ｍ＋ｎ≦６である。前記ｍが２である場合、各Ｒ^１は、同一又は異なる。
4. 凸曲面を有する透明な被着体と、前記被着体の凸曲面に積層された偏光板と、を有し、
   前記偏光板が、偏光子と、前記偏光子に積層された保護フィルムと、を有し、
   前記保護フィルムが、波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率が０．００８以上で且つ面内位相差値が１０００ｎｍ以下の位相差フィルムを有し、
   前記位相差フィルムが、前記被着体の凸曲面の頂部に対応する部分において、その遅相軸が前記偏光子の吸収軸又は透過軸と２０°以下の角度を成すように、前記偏光子に積層されていることを特徴とする光学積層体。

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