TW201934318A - 帶表面保護薄膜的光學層疊體 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供一種帶表面保護薄膜的光學層疊體，其表面保護薄膜的高速剝離性優異，並且可顯著地抑制氣泡從而外觀優異。
解決手段為本發明的帶表面保護薄膜的光學層疊體，其具有光學層疊體和表面保護薄膜。表面保護薄膜具有基材及黏著劑層，且透過黏著劑層以可剝離的方式貼合於光學層疊體。表面保護薄膜的黏著劑層的厚度為2μm以下，且黏著劑層的表面粗糙度Sa1 為30nm以下。光學層疊體之與黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 為30nm以下。

Description

帶表面保護薄膜的光學層疊體
本發明涉及帶表面保護薄膜的光學層疊體。
發明背景
對於光學層疊體(例如，偏光板、包含偏光板的層疊體)而言，在實際使用應用該光學層疊體的影像顯示裝置為止的期間，為了保護該光學層疊體(最終為影像顯示裝置)，係以可剝離的方式貼合有表面保護薄膜。在實際使用時，係將光學層疊體/表面保護薄膜的層疊體貼合於顯示單元而製作影像顯示裝置，並在隨後的適當時刻將表面保護薄膜剝離並除去。代表性的表面保護薄膜具有作為基材的樹脂薄膜和黏著劑層。近年來，根據目的，有時要求表面保護薄膜的黏著劑層的輕剝離化和/或薄型化。將具有薄黏著劑層的表面保護薄膜貼合於光學層疊體時，有時會在整個貼合面產生氣泡。在該情況下，即使貼合有光學層疊體的顯示單元本身沒有問題，有時也會因來自表面保護薄膜的氣泡而導致影像顯示裝置在發貨前的檢查中被判斷為不良。由此，存在影像顯示裝置從製造至發貨的效率降低的問題，而強烈期望有改善策略或解決策略。並且，作為表面保護薄膜的基本特性，要求對於從光學層疊體上的剝離性繼續進行改進。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開2006-088651號公報
發明概要
發明欲解決之課題
本發明是為了解決上述現有問題而完成的，主要目的在於提供一種帶表面保護薄膜的光學層疊體，其表面保護薄膜的高速剝離性優異，且可顯著地抑制氣泡而外觀優異。
用於解決課題的手段
本發明實施形態的帶表面保護薄膜的光學層疊體具有光學層疊體和表面保護薄膜；該表面保護薄膜具有基材及黏著劑層，且透過該黏著劑層以可剝離的方式貼合於該光學層疊體；該表面保護薄膜的黏著劑層的厚度為2μm以下，且該黏著劑層的表面粗糙度Sa1 為30nm以下；該光學層疊體之與該黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 為30nm以下。
在一個實施形態中，上述黏著劑層的厚度為1μm以下。
在一個實施形態中，上述黏著劑層的表面粗糙度Sa1 為10nm以下。
在一個實施形態中，上述光學層疊體之與上述黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 為10nm以下。
在一個實施形態中，上述帶表面保護薄膜的光學層疊體的高速剝離力為0.20N/25mm以下。
在一個實施形態中，上述表面保護薄膜的厚度為15μm~60μm。
在一個實施形態中，上述表面保護薄膜在上述基材之與上述黏著劑層相反之側更具有抗靜電層。
在一個實施形態中，構成上述黏著劑層的黏著劑的基底樹脂係選自聚矽氧系樹脂、丙烯酸樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂及橡膠系樹脂。
在一個實施形態中，上述光學層疊體包含偏光件。
在一個實施形態中，上述偏光件的厚度為3μm~30μm。
發明效果
根據本發明，透過在帶表面保護薄膜的光學層疊體中對表面保護薄膜的黏著劑層的厚度及表面粗糙度Sa1 和與黏著劑層相接的光學層疊體的表面粗糙度Sa2 進行最佳化，可以實現一種帶表面保護薄膜的光學層疊體，其表面保護薄膜的高速剝離性優異，且顯著地抑制氣泡而外觀優異。
用以實施發明之形態
以下，對本發明的較佳實施形態進行說明，但本發明並不限定於這些實施形態。
A.帶表面保護薄膜的光學層疊體的概要
圖1是本發明的一個實施形態的帶表面保護薄膜的光學層疊體的示意剖面圖。本實施形態的帶表面保護薄膜的光學層疊體100具有光學層疊體10和表面保護薄膜20。表面保護薄膜20具有基材21及黏著劑層22。表面保護薄膜20透過黏著劑層22以可剝離的方式貼合於光學層疊體10。在表面保護薄膜20中的基材21之與黏著劑層22相反之側可以根據需要設置任意適當的處理層(未圖示)。在本發明的實施形態中，黏著劑層22的厚度為2μm以下，且表面粗糙度Sa1 為30nm以下；光學層疊體10之與黏著劑層22相接之面的表面粗糙度Sa2 為30nm以下。如上述地將表面保護薄膜的黏著劑層的厚度設定為非常薄、將表面粗糙度Sa1 設定為預定值以下、並且將光學層疊體之與黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 設定為預定值以下，藉此可以實現一種表面保護薄膜的高速剝離性優異、且外觀優異的(氣泡經顯著抑制的)帶表面保護薄膜的光學層疊體。在實際使用中，將帶表面保護薄膜的光學層疊體貼合於顯示單元而製作影像顯示裝置，並在隨後的適當時刻將表面保護薄膜剝離除去時，如果帶表面保護薄膜的光學層疊體存在氣泡，則即使貼合有帶表面保護薄膜的光學層疊體的顯示單元本身沒有問題，有時也會因帶表面保護薄膜的光學層疊體的氣泡而導致影像顯示裝置在發貨前的檢查中被判斷為不良。由此，而存在影像顯示裝置從製造至發貨的效率降低的問題。本發明實施形態的帶表面保護薄膜的光學層疊體可以消除這樣的問題，因此工業上的價值非常大。並且，如上上述，本發明實施形態的帶表面保護薄膜的光學層疊體在表面保護薄膜的高速剝離性方面優異，因此，從處理性及操作性的觀點出發，也是非常有用的。
代表性的帶表面保護薄膜的光學層疊體的高速剝離力為0.20N/25mm以下。如上述，根據本發明的實施形態，可以實現所述非常優異的(即非常小、容易剝離的)高速剝離力。高速剝離力越低越佳。高速剝離力宜為0.10N/25mm以下、更宜為0.08N/25mm以下、進一步宜為0.05N/25mm以下。高速剝離力的下限可以為例如0.01N/25mm。此外，高速剝離力是指在延伸速度30m/分鐘且剝離角度180°下的剝離力。
作為光學層疊體，可以採用包含具有任意適當的光學功能的層的層疊體。作為光學層疊體的具體例子，可以列舉：偏光板、相位差板、觸控面板用導電性薄膜、表面處理薄膜、及包含偏光板且具有與目的相應之適當構成的層疊體(例如，抗反射用圓偏光板、帶觸控面板用導電層的偏光板、帶相位差層的偏光板、稜鏡片一體型偏光板)。
以下，作為光學層疊體的一例，係就使用了偏光板的帶表面保護薄膜的光學層疊體具體地進行說明，但本領域技術人員應當明瞭本發明可適用於如上述之任意適當的光學層疊體。
B.偏光板
代表性的偏光板具有偏光件和配置於偏光件的單側或兩側的保護層。在保護層僅配置於偏光件的單側的情況下，代表性的保護層可配置於偏光件的外側(與顯示單元相反之側)。在本發明的實施形態中，如上述，光學層疊體(偏光板)之與黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 為30nm以下。該面實質上可為配置於偏光件外側之保護層的表面。
表面粗糙度Sa2 如上述為30nm以下、宜為15nm以下、更宜為10nm以下、進一步宜為5nm以下、特別宜為3nm以下、尤宜為1nm以下。表面粗糙度Sa2 的下限可以為例如0.1nm。在表面粗糙度Sa2 為所述範圍時，可以透過表面保護薄膜的黏著劑層的厚度與表面粗糙度Sa1 的相乘效果，實現優異的表面保護薄膜的高速剝離性，並以顯著地抑制氣泡而可實現優異的外觀。此外，表面粗糙度Sa2 可以按照ISO25178-6(2010)或JIS B 0681-6: 2014進行測定(關於後述的Sa1 也同樣處理)。
B-1.偏光件
作為偏光板的偏光件，可採用任意適當的偏光件。例如，形成偏光件的樹脂薄膜可以是單層的樹脂薄膜，也可由二層以上的層疊體形成。
作為由單層的樹脂薄膜構成的偏光件的具體例子，可以列舉對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜實施了利用碘或二色性染料等二色性物質進行的染色處理及延伸處理而得到的薄膜、PVA的脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。由於光學特性優異，因此宜使用經用碘對PVA系薄膜進行染色並單軸延伸而得到的偏光件。
上述利用碘進行的染色例如係透過將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液而進行。上述單軸延伸的延伸倍率宜為3~7倍。延伸可以在染色處理後進行，也可以一邊染色一邊進行。另外，也可以在延伸後染色。可以根據需要對PVA系薄膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，透過在染色前將PVA系薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可以洗淨PVA系薄膜表面的污垢、抗黏結劑，而且可以使PVA系薄膜膨潤，防止染色不均等。
作為使用層疊體得到的偏光件的具體例子，可以列舉：使用樹脂基材與層疊於該樹脂基材的PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的層疊體、或者使用樹脂基材與在該樹脂基材上塗佈形成的PVA系樹脂層的層疊體而得到的偏光件。使用樹脂基材與在該樹脂基材上塗佈形成的PVA系樹脂層的層疊體而得到的偏光件可以透過以下方式製作：例如，將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材後，使其乾燥而在樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而得到樹脂基材與PVA系樹脂層的層疊體；對該層疊體進行延伸及染色，將PVA系樹脂層製成偏光件。在本實施形態中，代表性的延伸包括將層疊體浸漬於硼酸水溶液中並進行延伸。並且，延伸可以根據需要進一步包含在硼酸水溶液中的延伸前將層疊體在高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。得到的樹脂基材/偏光件的層疊體可以直接使用(即，可以將樹脂基材作為偏光件的保護層)，也可以將樹脂基材從樹脂基材/偏光件的層疊體上剝離，並在該剝離面上層疊與目的相應之任意適當的保護層而使用。所述偏光件的製造方法的詳細情況記載於例如日本特開2012-73580號公報。該公報的全部記載以參考的形式援引至本說明書中。
代表性的偏光件的厚度為3μm~30μm。在一個實施形態中，偏光件的厚度宜為15μm以下、更宜為1μm~12μm、進一步宜為3μm~12μm、特別宜為3μm~8μm。在另一個實施形態中，偏光件的厚度宜為大於15μm且在25μm以下。
B-2.保護層
保護層係由能夠用作偏光件的保護層之任意適當的薄膜來形成。作為樹脂薄膜的形成材料，可以列舉例如：(甲基)丙烯酸系樹脂、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等的共聚物樹脂等。宜為(甲基)丙烯酸系樹脂。此外，「(甲基)丙烯酸系樹脂」是指丙烯酸系樹脂和/或甲基丙烯酸系樹脂。
在一個實施形態中，作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有戊二醯亞胺結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構的(甲基)丙烯酸系樹脂(以下也稱為戊二醯亞胺樹脂)記載於例如：日本特開2006-309033號公報、日本特開2006-317560號公報、日本特開2006-328329號公報、日本特開2006-328334號公報、日本特開2006-337491號公報、日本特開2006-337492號公報、日本特開2006-337493號公報、日本特開2006-337569號公報、日本特開2007-009182號公報、日本特開2009-161744號公報、日本特開2010-284840號公報。這些記載以參考的形式援引至本說明書中。
設置於貼合表面保護薄膜之側的保護層宜可進行用於減小接觸角的表面處理。作為所述表面處理的代表例可列舉電暈處理。電暈處理的條件可以適當設定，以便對於上述液體可得到上述希望的接觸角。
在將偏光板配置於影像顯示裝置的視辨側的情況下，可以根據需要對配置於偏光板的視辨側的保護層實施硬塗處理、抗反射處理、抗黏附處理等表面處理。進一步/或者可以根據需要對該保護層實施改善隔著偏光太陽鏡進行視辨時的視辨性的處理(代表性地為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。
配置於偏光件的顯示單元側的保護層(內側保護層)宜為光學各向同性。本說明書中「光學各向同性」是指，面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向的相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。內側保護層只要是光學各向同性，就可以由任意適當的材料構成。該材料可以从上述的材料中適當選擇。
代表性的保護層的厚度為5mm以下、宜為1mm以下、更宜為1μm~500μm、進一步宜為5μm~150μm。此外，在實施了表面處理的情況下，保護層的厚度是包括表面處理層厚度的厚度。
B-3.處理層
可宜在偏光板之貼合表面保護薄膜之側形成任意適當的處理層。處理層宜具有接觸角降低功能。作為處理層的具體例子，可列舉抗靜電層、親水層、硬塗層。
代表性的抗靜電層包含導電性材料及黏結劑樹脂。作為導電性材料，可使用任意適當的導電性材料，可宜使用導電性聚合物。作為導電性聚合物，可列舉例如：聚噻吩系聚合物、聚乙炔系聚合物、聚二乙炔系聚合物、多炔系聚合物、聚伸苯基系聚合物、聚萘系聚合物、聚茀系聚合物、聚蒽系聚合物、聚芘系聚合物、聚薁系聚合物、聚吡咯系聚合物、聚呋喃系聚合物、聚硒吩系聚合物、聚異苯并噻吩系聚合物、聚二唑系聚合物、聚苯胺系聚合物、聚氮化硫(polythiazyl)系聚合物、聚伸苯乙烯系聚合物、聚噻吩乙烯系聚合物、多並苯(polyacene)系聚合物、聚菲系聚合物、聚迫萘(polyperinaphthalene)系聚合物等。這些導電性聚合物可以單獨使用，或者組合使用2種以上。作為黏結劑樹脂宜使用聚胺甲酸乙酯系樹脂。透過使用聚胺甲酸乙酯系樹脂，可以設置兼具柔軟性和對偏光板(實質上為保護層)的優異密著性的抗靜電層。
對於親水層及硬塗層而言，可採用本領域中眾所皆知的構成，因此省略詳細的說明。
C.表面保護薄膜
C-1.基材
表面保護薄膜20的基材21可由任意適當的樹脂薄膜構成。作為樹脂薄膜的形成材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等的共聚物樹脂等。宜為酯系樹脂(特別是聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)。若為所述材料，彈性模數即足夠高，而具有即使在運送和/或貼合時施加張力也不易發生變形的優點。
代表性的基材的厚度為10μm~100μm、宜為20μm~50μm。若為所述厚度時，即具有即使在運送和/或貼合時施加張力也不易發生變形的優點。在本發明的實施形態中，黏著劑層的厚度非常薄，因此以表面保護薄膜的厚度來說係由基材的厚度主導。在一個實施形態中，表面保護薄膜的厚度可以為例如15μm~60μm。
基材的彈性模數代表性地係按照JIS K 7127:1999測定。基材的彈性模數宜在拉伸速度100mm/分鐘下為100MPa~350MPa。基材的彈性模數若為上述範圍時，即具有即使在運送和/或貼合時施加張力也不易發生變形的優點。
C-2.黏著劑層
黏著劑層的厚度如上述為2μm以下、宜為1μm以下、更宜為0.5μm以下。透過如上述地將黏著劑層的厚度設定為非常薄，可以利用黏著劑層的表面粗糙度Sa1 與光學層疊體的表面粗糙度Sa2 的相乘效果來實現優異的表面保護薄膜的高速剝離性，並且能夠顯著地抑制氣泡，實現優異的外觀。厚度的下限為例如0.1μm。厚度低於下限時，有時會產生例如在貼合於被黏物(光學層疊體)後的加工或輸送的撞擊中容易發生端部翹起的問題。
黏著劑層的表面粗糙度Sa1 如上述為30nm以下、宜為15nm以下、更宜為10nm以下、進一步宜為5nm以下。表面粗糙度Sa1 的下限可以為例如0.1nm。表面粗糙度Sa1 為所述範圍時，即可以利用黏著劑層的厚度與光學層疊體的表面粗糙度Sa2 的相乘效果來實現優異的表面保護薄膜的高速剝離性，並且可以顯著地抑制氣泡，實現優異的外觀。所述表面粗糙度可以透過例如組合調整基材的表面粗糙度和黏著劑層的厚度而實現。
黏著劑層的儲存彈性模數宜為1.0×104 Pa~ 1.0×107 Pa、更宜為2.0×104 Pa~5.0×106 Pa。黏著劑層的儲存彈性模數為所述範圍時，即可以進一步顯著地抑制氣泡。此外，儲存彈性模數可以透過例如在溫度23℃及角速度0.1rad/s下的動態黏彈性測定來求出。
作為形成黏著劑層的黏著劑，可採用任意適當的黏著劑。作為黏著劑的基底樹脂，可列舉例如：丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、橡膠系樹脂。所述基底樹脂記載於例如日本特開2015-120337號公報或日本特開2011-201983號公報。這些公報的記載以參考的形式援引至本說明書中。從耐化學藥品性、用於防止浸漬時處理液滲入的密合性、對被黏物的自由度等的觀點出發，宜為丙烯酸系樹脂。作為可在黏著劑中包含的交聯劑，可列舉例如：異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖丙啶化合物。黏著劑也可以含有例如矽烷偶聯劑。黏著劑的摻合處方可以根據目的而適當設定。
C-3.處理層
如上述，可以根據需要在基材之與黏著劑層相反之側設置任意適當的處理層。作為處理層的具體例子，可列舉抗靜電層、親水層、硬塗層。抗靜電層如上述的B-3項中所述。
實施例
以下，透過實施例具體說明本發明，但本發明不限定於這些實施例。實施例中的各特性的測定方法如下所述。此外，在沒有特別說明的情況下，實施例中的「份」及「%」為重量基準。
(1)厚度
對於黏著劑層的厚度，如下所述地進行了測定：切出形成有黏著劑層的薄膜的截面，用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察該截面，測定了層的厚度。
對於抗靜電層的厚度，如下所述地進行了測定：用RuO4 將抗靜電層的表面染色，並包埋於環氧樹脂中。然後，用RuO4 將透過超薄切片法製成的切片染色，並使用TEM(股份有限公司日立高新技術製造的H-7650，加速電壓100V)測定塗佈層截面。
(2)表面粗糙度Sa1 及Sa2
按照JIS B 0681-6: 2014進行了測定。作為測定設備，使用了三維非接觸表面粗糙度測定儀(Zygo公司製造，產品名：NewView7300)，在物鏡50倍、測定面積0.14mm×0.11mm的條件下測定了算術平均粗糙度。
(3)高速剝離力
對於實施例及比較例中得到的帶表面保護薄膜的光學層疊體(偏光板)，測定了將表面保護薄膜從偏光板剝離時的剝離力。剝離係在溫度23℃、濕度50%RH的氣體環境下，使用萬能拉伸試驗機(Minebea股份有限公司製造，產品名：TCM-1kNB)以剝離角度180°、拉伸速度30m/分鐘進行。
(4)外觀
對於實施例及比較例中得到的帶表面保護薄膜的偏光板，透過肉眼觀察整個面的氣泡的產生狀態，並按照以下的基準進行了評估。
○：未確認到氣泡
△：確認到長徑10mm以下的氣泡
×：確認到長徑10mm以上的氣泡
＜參考例1-1＞偏光板
1-1-1.甲基丙烯酸樹脂薄膜的製作
用單甲胺對MS樹脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(莫耳比)＝80/20的共聚物，新日鐵化學(股)製造)進行醯亞胺化(醯亞胺化率：5%)。得到的醯亞胺化後的MS樹脂具有通式(1)表示的戊二醯亞胺單元(式中，R1 及R3 為甲基，R2 為氫原子)、通式(2)表示的(甲基)丙烯酸酯單元(R4 為氫原子，R5 為甲基)、及苯乙烯單元，且酸值為0.5mmol/g。此外，在前述醯亞胺化中，使用了孔徑15mm的嚙合型同向旋轉式雙螺桿擠製機。將擠製機的各調溫區域的設定溫度設為230℃、螺桿轉速設為150rpm、以2.0kg/小時供給MS樹脂，並令單甲胺的供給量相對於MS樹脂100重量份為2重量份。從料斗投入MS樹脂，透過捏合塊使樹脂熔融並充滿後，從噴嘴注入了單甲胺。在反應區域的末端放入密封環，使樹脂充滿。將排氣口的壓力減壓至-0.08MPa，使反應後的副產物及過量的甲胺揮發。將從設置於擠製機出口的模頭排出成束狀的樹脂在水槽中進行冷卻，然後用製粒機進行顆粒化。將前述醯亞胺化後的MS樹脂進行熔融擠製成薄膜。此時，相對於MS樹脂100重量份，供給紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，「T-712」)0.66重量份。接著，製作了雙軸延伸至縱2倍、橫2倍的透明保護薄膜(厚度40μm，Re＝2nm，Rth＝2nm)。

[化學式1]

[化學式2]
1-1-2.偏光板的製作
作為樹脂基材，使用了長條狀且吸水率0.75%、Tg75℃的非晶質的間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)。對基材的單面實施電暈處理，並對該電暈處理面在25℃下塗佈以9:1的比例包含聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業股份有限公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z200」)的水溶液並進行乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，製作了層疊體。
在120℃的烘箱內將得到的層疊體在圓周速度不同的輥間沿縱向(長邊方向)自由端單軸延伸至2.0倍(空中輔助延伸)。
接著，將層疊體在液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻合硼酸4重量份而得到的硼酸水溶液)中浸漬了30秒鐘(不溶解處理)。
接著，在液溫30℃的染色浴中，以使偏光板達到預定透射率的方式調整碘濃度、浸漬時間，同時進行了浸漬。本實施例中，相對於水100重量份摻合碘0.2重量份且摻合碘化鉀1.5重量份而得到碘水溶液，並在該碘水溶液中浸漬了60秒鐘(染色處理)。
接著，在液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份摻合碘化鉀3重量份、並摻合硼酸3重量份而得到的硼酸水溶液)中浸漬了30秒鐘(交聯處理)。
然後，將層疊體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於水100重量份摻合硼酸4重量份、並摻合碘化鉀5重量份而得到的水溶液)中，並且在圓周速度不同的輥間沿著縱向(長邊方向)進行了單軸延伸，使總延伸倍率達到5.5倍(水中延伸)。
然後，將層疊體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻合碘化鉀4重量份而得到的水溶液)中(洗淨處理)。
接下來，在層疊體的PVA系樹脂層(偏光件)表面塗佈紫外線硬化型黏接劑，使得硬化後的黏接劑層厚度為1.0μm，並貼合構成保護層的上述甲基丙烯酸樹脂薄膜(厚度：40μm)，然後從該甲基丙烯酸系樹脂薄膜側使用IR加熱器加熱至50℃並照射紫外線，使黏接劑硬化。由此，得到了具有樹脂基材(保護層)/偏光件/保護層的構成的偏光板1-1。此外，偏光件的厚度為5μm，單體透射率為42.3%。另外，與表面保護薄膜貼合之側的保護層(甲基丙烯酸樹脂薄膜)的表面粗糙度Sa2 為0.9nm。
＜參考例1-2＞偏光板
在參考例1-1-1的「甲基丙烯酸樹脂薄膜的製作」中，添加紫外線吸收劑時將作為交聯彈性體的內核外殼型彈性體一起添加，製作了表面粗糙度Sa2 為4.9nm的甲基丙烯酸樹脂薄膜。使用了該薄膜作為與表面保護薄膜貼合之側的保護層，除此以外與實施例1同樣地製作了偏光板1-2。此外，內核外殼型彈性體的製作方法如下所述。
(內核外殼型彈性體)
將下述組成的混合物饋入玻璃製反應器，在氮氣流中一邊攪拌一邊升溫至80℃，然後將由甲基丙烯酸甲酯25份、甲基丙烯酸烯丙酯1份構成的單體混合物與三級丁基過氧化氫0.1份的混合液中的25%一起饋入，進行了45分鐘的聚合。
去離子水 220份
硼酸 0.3份
碳酸鈉 0.03份
N-月桂醯肌胺酸鈉 0.09份
甲醛次硫酸氫鈉 0.09份
乙二胺四乙酸-2-鈉 0.006份
硫酸亞鐵 0.002份
接下來，用1小時連續添加了該混合液的剩餘75%。在添加結束後，在同一溫度下保持2小時，完成聚合。並且，在此期間追加了0.2份的N-月桂醯肌胺酸鈉。得到的最內層交聯甲基丙烯酸系聚合物乳膠的聚合轉化率(聚合產量/單體饋入量)為98%。
在氮氣流中將得到的最內層聚合物乳膠保持為80℃，並添加了過硫酸鉀0.1份，然後用5小時連續添加了由丙烯酸正丁酯41份、苯乙烯9份、甲基丙烯酸烯丙酯1份構成的單體混合物。在此期間分成3次添加了油酸鉀0.1份。單體混合物的添加結束後，為了使聚合完成，進一步添加過硫酸鉀0.05份並保持2小時，得到了橡膠粒子。得到的橡膠粒子的聚合轉化率為99%，粒徑為225nm。將得到的橡膠粒子乳膠保持為80℃，並添加了過硫酸鉀0.02份，然後用1小時連續添加了甲基丙烯酸甲酯14份、丙烯酸正丁酯1份的單體混合物。在單體混合物的追加結束後保持1小時，得到了接枝共聚物乳膠。聚合轉化率為99%。將得到的接枝共聚物乳膠保持為80℃，用0.5小時連續添加了甲基丙烯酸甲酯5份、丙烯酸正丁酯5份的單體混合物。在單體混合物的追加結束後保持1小時，得到了含有橡膠的接枝共聚物乳膠。聚合轉化率為99%。用氯化鈣將得到的含有橡膠的接枝共聚物乳膠進行鹽析凝固、熱處理、乾燥，得到了白色粉末狀的交聯彈性體。
＜參考例1-3＞偏光板
在甲基丙烯酸樹脂薄膜的表面形成了防眩層，除此以外與參考例1-1同樣地製作了偏光板1-3。於此，防眩層會成為與表面保護薄膜貼合之側。防眩層的表面粗糙度Sa2 為50nm。
＜參考例2-1＞表面保護薄膜
2-1-1.抗靜電層形成用組合物(塗佈液)的調製
準備了包含作為黏結劑的飽和共聚聚酯樹脂25%的水分散液(東洋紡股份有限公司製造，商品名「VYLONAL MD-1480」)(黏結劑分散液)。進一步準備了作為潤滑劑的棕櫚蠟(蠟酯)的水分散液(潤滑劑分散液)。並準備了包含作為導電性聚合物的聚(3,4-伸乙二氧噻吩)(PEDOT)0.5%及聚苯乙烯磺酸鹽(數量平均分子量15萬)(PSS)0.8%的水溶液(商品名「Baytron P」，H.C.Stark公司產品)(導電性聚合物水溶液)。在水與乙醇的混合溶劑中添加上述黏結劑分散液100份(固體成分)、上述潤滑劑分散液30份(固體成分)及上述導電性聚合物水溶液50份(固體成分)及三聚氰胺系交聯劑，攪拌約20分鐘，充分地進行了混合。由此，製備了NV約0.15%的抗靜電層形成用塗佈液。
2-1-2.抗靜電層的形成
準備了厚度50μm、寬度30cm、長度40cm的透明聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(三菱化學股份有限公司製造的商品名「Diafoil T600」)。對該PET薄膜的一面實施了電暈處理。用棒塗機將上述塗佈液塗敷於該PET薄膜的電暈處理面，並在130℃下加熱2分鐘使其乾燥。由此，製作了抗靜電層(10nm)/PET薄膜的層疊體。
2-1-3.黏著劑的調製
(丙烯酸系聚合物)
在具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4頸燒瓶中饋入丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)100份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)10份、丙烯酸(AA)0.02份、作為聚合引發劑的2,2’-偶氮雙異丁腈0.2份、乙酸乙酯157份，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣，將燒瓶內的液溫保持為65℃左右，進行6小時的聚合反應，而調製了丙烯酸系聚合物(I)溶液(40%)。前述丙烯酸系聚合物(I)的重量平均分子量為54萬，玻璃轉變溫度(Tg)為-67℃。
(丙烯酸系寡聚物)
在具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴液漏斗的4頸燒瓶中投入甲苯100份、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)(商品名：FA-513M，日立化成工業公司製造)60份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)40份及作為鏈轉移劑的氫硫乙酸甲酯3.5份。接著，在70℃、氮氣環境下攪拌1小時後，投入作為聚合引發劑的2,2’-偶氮雙異丁腈0.2份，在70℃下反應2小時，接著在80℃下反應4小時，然後在90℃下反應1小時，得到了丙烯酸寡聚物溶液(51%)。前述丙烯酸寡聚物的重量平均分子量為4000，玻璃轉變溫度(Tg)為144℃。
(丙烯酸系黏著劑A)
用乙酸乙酯將上述丙烯酸系聚合物(I)溶液(40%)稀釋至4%，並在該溶液2500份(固體成分100份)中添加前述丙烯酸系寡聚物溶液0.59份(固體成分0.3份)後，加入作為交聯劑的六亞甲基二異氰酸酯的三聚異氰酸酯物(日本胺甲酸乙酯工業公司製造，CORONATE HX)1.0份(固體成分1.0份)、作為交聯催化劑的二月桂酸二丁基錫(1%乙酸乙酯溶液)3份(固體成分0.03份)，用乙酸乙酯將有機聚矽氧烷(KF-353，信越化學工業公司製造)稀釋至10%而得到的溶液2份(固體成分0.2份)、用乙酸乙酯將作為抗靜電劑的鹼金屬鹽的雙(三氟甲磺醯基)亞胺鋰(LiN(CF3 SO2 )2 ∶LiTFSI，東京化成工業公司製造)稀釋至1%而得到的溶液15份(固體成分0.15份)，進行混合攪拌，調製了丙烯酸系黏著劑溶液A。
2-1-4.表面保護薄膜的製作
使用麥勒棒(Meyer bar)將上述得到的黏著劑A塗佈在上述層疊體的PET薄膜表面，使乾燥後的厚度為0.3μm，然後在熱風循環式烘箱中以130℃乾燥1分鐘，得到了表面保護薄膜2-1。
＜參考例2-2＞表面保護薄膜
使用了下述的黏著劑M，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-2。
(胺甲酸乙酯系黏著劑M)
摻合作為多元醇之具有3個羥基的多元醇PREMINOL S3011(旭硝子公司製造，Mn＝10000)85份、具有3個羥基的多元醇SANNIX GP3000(三洋化成公司製造，Mn＝3000)13份、具有3個羥基的多元醇SANNIX GP1000(三洋化成公司製造，Mn＝1000)2份、作為交聯劑的異氰酸酯化合物CORONATE HX(日本聚胺甲酸乙酯公司製造)10份、作為催化劑的乙醯丙酮鐵(III)(東京化成工業公司製造)0.04份、作為稀釋溶劑的乙酸乙酯1000份，得到了胺甲酸乙酯系黏著劑溶液M。此外，作為胺甲酸乙酯系黏著劑溶液的原料，除了溶劑以外，均為濃度100%的原料。
＜參考例2-3＞表面保護薄膜
使用了下述的黏著劑C，並將塗佈後的黏著劑在150℃下乾燥了2分鐘，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-3。
(聚矽氧系黏著劑C)
以固體成分計摻合作為聚矽氧系黏著劑的「X-40-3229」(固體成分60%，信越化學工業公司製造)100份，並摻合作為鉑催化劑的「CAT-PL-50T」(信越化學工業公司製造)0.3份、作為溶劑的甲苯1200份，得到了聚矽氧系黏著劑溶液C。
＜參考例2-4＞表面保護薄膜
使用了下述的黏著劑D，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-4。
(橡膠系黏著劑D)
將苯乙烯-異丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(KANEKA公司製造，SIBSTAR 072T)溶解於甲苯，調製了橡膠系黏著劑溶液D。
＜參考例2-5＞表面保護薄膜
將黏著劑層的厚度設為1.0μm，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-5。
＜參考例2-6＞表面保護薄膜
將黏著劑層的厚度設為5.0μm，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-6。
＜參考例2-7＞表面保護薄膜
將PET薄膜變更為厚度50μm的三菱化學公司製造的商品名「Diafoil T100」，並將黏著劑層的厚度設為15μm，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-7。
＜參考例2-8＞表面保護薄膜
將PET薄膜變更為三菱化學公司製造的T100，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-8。
＜參考例2-9＞表面保護薄膜
將黏著劑層的厚度設為0.15μm，除此以外與參考例2-8同樣地得到了表面保護薄膜2-9。
＜參考例2-10＞表面保護薄膜
將黏著劑層的厚度設為0.15μm，除此以外與參考例2-1同樣地得到了表面保護薄膜2-10。
＜實施例1＞
將參考例1-1中得到的偏光板及參考例2-1中得到的表面保護薄膜分別沖裁成A4尺寸。使用貼合輥，將沖裁後的偏光板和表面保護薄膜透過表面保護薄膜的黏著劑層進行貼合，得到了帶表面保護薄膜的偏光板。將得到的帶表面保護薄膜的偏光板供於上述(3)~(4)的評估。將結果示於表1。
＜實施例2~8及比較例1~5＞
按照表1所示的組合貼合了偏光板和表面保護薄膜，除此以外與實施例1同樣地得到了帶表面保護薄膜的偏光板。將得到的帶表面保護薄膜的偏光板供於與實施例1相同的評估。將結果示於表1。此外，表1中的「SPV」表示表面保護薄膜，「1-2」、「2-5」等表示參考例編號。
[表1]
＜評估＞
根據表1可知，本發明實施例的帶表面保護薄膜的光學層疊體實現了表面保護薄膜的非常良好的高速剝離，並且顯著抑制了氣泡，而外觀優異。
產業上之可利用性
本發明的帶表面保護薄膜的光學層疊體適用於各種影像顯示裝置。
10‧‧‧光學層疊體
20‧‧‧表面保護薄膜
21‧‧‧基材
22‧‧‧黏著劑層
100‧‧‧帶表面保護薄膜的光學層疊體
圖1是本發明的一個實施形態的帶表面保護薄膜的光學層疊體的示意剖面圖。

Claims (10)

  1. 一種帶表面保護薄膜的光學層疊體，具有光學層疊體和表面保護薄膜； 該表面保護薄膜具有基材及黏著劑層，且透過該黏著劑層以可剝離的方式貼合於該光學層疊體； 該表面保護薄膜的黏著劑層的厚度為2μm以下，且該黏著劑層的表面粗糙度Sa1 為30nm以下；且 該光學層疊體之與該黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 為30nm以下。
  2. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述黏著劑層的厚度為1μm以下。
  3. 如請求項2之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述黏著劑層的表面粗糙度Sa1 為10nm以下。
  4. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述光學層疊體之與前述黏著劑層相接之面的表面粗糙度Sa2 為10nm以下。
  5. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其高速剝離力為0.20N/25mm以下。
  6. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述表面保護薄膜的厚度為15μm~60μm。
  7. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述表面保護薄膜在前述基材之與前述黏著劑層相反之側更具有抗靜電層。
  8. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中構成前述黏著劑層的黏著劑的基底樹脂係選自聚矽氧系樹脂、丙烯酸樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂及橡膠系樹脂。
  9. 如請求項1之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述光學層疊體包含偏光件。
  10. 如請求項9之帶表面保護薄膜的光學層疊體，其中前述偏光件的厚度為3μm~30μm。
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