KR20190093509A - 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체 - Google Patents

표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체 Download PDF

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KR20190093509A
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겐지로 니이미
미에 나카타
소시 모리나가
나오야 다카야마
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 표면 보호 필름의 고속 박리성이 우수하고, 또한 기포가 현저히 억제되어 외관이 우수한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체를 제공하는 것.
(해결 수단) 본 발명의 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 광학 적층체와 표면 보호 필름을 갖는다. 표면 보호 필름은 기재 및 점착제층을 갖고, 점착제층을 개재하여 광학 적층체에 박리 가능하게 첩합되어 있다. 표면 보호 필름의 점착제층의 두께는 2 ㎛ 이하이고, 또한 점착제층의 표면 조도 Sa1 은 30 ㎚ 이하이다. 광학 적층체의 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 는 30 ㎚ 이하이다.

Description

표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체{OPTICAL LAMINATE WITH SURFACE PROTECTION FILM}
본 발명은, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체에 관한 것이다.
광학 적층체 (예를 들어, 편광판, 편광판을 포함하는 적층체) 에는, 당해 광학 적층체가 적용되는 화상 표시 장치가 실제로 사용될 때까지의 동안에, 당해 광학 적층체 (최종적으로는 화상 표시 장치) 를 보호하기 위해 표면 보호 필름이 박리 가능하게 첩합 (貼合) 되어 있다. 실용적으로는, 광학 적층체/표면 보호 필름의 적층체가 표시셀에 첩합되어 화상 표시 장치가 제작되고, 그 후의 적절한 시점에서 표면 보호 필름이 박리 제거된다. 표면 보호 필름은, 대표적으로는, 기재로서의 수지 필름과 점착제층을 갖는다. 최근, 목적에 따라 표면 보호 필름의 점착제층의 경박리화 및/또는 박형화가 요구되는 경우가 있다. 얇은 점착제층을 갖는 표면 보호 필름을 광학 적층체에 첩합하면, 첩합면 전체에 기포가 발생하는 경우가 있다. 이 경우, 광학 적층체가 첩합된 표시셀 자체에는 문제가 없더라도, 표면 보호 필름으로부터의 기포에서 기인하여, 화상 표시 장치가 출하 전의 검사에서 불량이라고 판단되어 버리는 경우가 있다. 이로 인해, 화상 표시 장치의 제조에서부터 출하까지의 효율이 저하되어 버린다고 하는 문제가 되고 있어, 개선책 또는 해결책이 강력하게 요망되고 있다. 또한, 표면 보호 필름의 기본적인 특성으로서, 광학 적층체로부터의 박리성에 대해서, 계속적인 개선이 요구되고 있다.
일본 공개특허공보 2006-088651호
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 그 주된 목적은, 표면 보호 필름의 고속 박리성이 우수하고, 또한 기포가 현저히 억제되어 외관이 우수한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 광학 적층체와 표면 보호 필름을 갖고 ; 그 표면 보호 필름이 기재 및 점착제층을 갖고, 그 점착제층을 개재하여 그 광학 적층체에 박리 가능하게 첩합되어 있고 ; 그 표면 보호 필름의 점착제층의 두께가 2 ㎛ 이하이고, 또한 그 점착제층의 표면 조도 Sa1 이 30 ㎚ 이하이고 ; 그 광학 적층체의 그 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 가 30 ㎚ 이하이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 점착제층의 두께는 1 ㎛ 이하이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 점착제층의 표면 조도 Sa1 은 10 ㎚ 이하이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 광학 적층체의 상기 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 는 10 ㎚ 이하이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 고속 박리력이 0.20 N/25 ㎜ 이하이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름의 두께는 15 ㎛ ∼ 60 ㎛ 이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름은, 상기 기재의 상기 점착제층과 반대측에 대전 방지층을 추가로 갖는다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 점착제층을 구성하는 점착제의 베이스 수지는, 실리콘계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 고무계 수지에서 선택된다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 광학 적층체는 편광자를 포함한다. 일 실시형태에 있어서는, 상기 편광자의 두께는 3 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이다.
본 발명에 의하면, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체에 있어서, 표면 보호 필름의 점착제층의 두께 및 표면 조도 Sa1 과 점착제층에 접하는 광학 적층체의 표면 조도 Sa2 를 최적화함으로써, 표면 보호 필름의 고속 박리성이 우수하고, 또한 기포가 현저히 억제되어 외관이 우수한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체를 실현할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 의한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체의 개략 단면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다.
A. 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체의 개략
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체의 개략 단면도이다. 본 실시형태의 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체 (100) 는, 광학 적층체 (10) 와 표면 보호 필름 (20) 을 갖는다. 표면 보호 필름 (20) 은, 기재 (21) 및 점착제층 (22) 을 갖는다. 표면 보호 필름 (20) 은, 점착제층 (22) 을 개재하여 광학 적층체 (10) 에 박리 가능하게 첩합되어 있다. 표면 보호 필름 (20) 에 있어서의 기재 (21) 의 점착제층 (22) 과 반대측에는, 필요에 따라 임의의 적절한 처리층 (도시 생략) 이 형성되어도 된다. 본 발명의 실시형태에 있어서는, 점착제층 (22) 의 두께는 2 ㎛ 이하이고, 또한 표면 조도 Sa1 은 30 ㎚ 이하이고 ; 광학 적층체 (10) 의 점착제층 (22) 과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 는 30 ㎚ 이하이다. 표면 보호 필름의 점착제층의 두께를 이와 같이 매우 얇게 설정하고, 표면 조도 Sa1 을 소정값 이하로 설정하고, 그리고, 광학 적층체의 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 를 소정값 이하로 설정함으로써, 표면 보호 필름의 고속 박리성이 우수하고, 또한 외관이 우수한 (기포가 현저히 억제된) 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체를 실현할 수 있다. 실용적으로는, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는 표시셀에 첩합되어 화상 표시 장치가 제작되고, 그 후의 적절한 시점에서 표면 보호 필름이 박리 제거되는 바, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체에 기포가 존재하면, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체가 첩합된 표시셀 자체에는 문제가 없더라도, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체의 기포에서 기인하여, 화상 표시 장치가 출하 전의 검사에서 불량이라고 판단되어 버리는 경우가 있다. 이로 인해, 화상 표시 장치의 제조에서부터 출하까지의 효율이 저하되어 버린다고 하는 문제가 있다. 본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 이와 같은 문제를 해소할 수 있기 때문에, 공업적 가치는 매우 크다. 또한, 본 발명의 실시형태에 의한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 상기와 같이, 표면 보호 필름의 고속 박리성이 우수하기 때문에, 취급성 및 조작성의 관점에서도 매우 유용하다.
표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 대표적으로는, 고속 박리력이 0.20 N/25 ㎜ 이하이다. 상기와 같이, 본 발명의 실시형태에 의하면, 이와 같은 매우 우수한 (즉, 매우 작고, 박리하기 쉬운) 고속 박리력을 실현할 수 있다. 고속 박리력은, 낮으면 낮을수록 바람직하다. 고속 박리력은, 바람직하게는 0.10 N/25 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.08 N/25 ㎜ 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.05 N/25 ㎜ 이하이다. 고속 박리력의 하한은, 예를 들어 0.01 N/25 ㎜ 일 수 있다. 또한, 고속 박리력이란, 인장 속도 30 m/분, 박리 각도 180°에 있어서의 박리력이다.
광학 적층체로는, 임의의 적절한 광학 기능을 갖는 층을 포함하는 적층체가 채용될 수 있다. 광학 적층체의 구체예로는, 편광판, 위상차판, 터치 패널용 도전성 필름, 표면 처리 필름, 및 편광판을 포함하여 목적에 따른 적절한 구성을 갖는 적층체 (예를 들어, 반사 방지용 원편광판, 터치 패널용 도전층이 형성된 편광판, 위상차층이 형성된 편광판, 프리즘 시트 일체형 편광판) 를 들 수 있다.
이하, 광학 적층체의 일례로서 편광판을 사용한 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체에 대하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 상기와 같은 임의의 적절한 광학 적층체에 적용될 수 있는 것은 당업자에게 자명하다.
B. 편광판
편광판은, 대표적으로는, 편광자와 편광자의 편측 또는 양측에 배치된 보호층을 갖는다. 보호층이 편광자의 편측에만 배치되는 경우, 보호층은 대표적으로는 편광자의 외측 (표시셀과 반대측) 에 배치될 수 있다. 본 발명의 실시형태에 있어서는, 상기와 같이, 광학 적층체 (편광판) 의 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 가 30 ㎚ 이하이다. 당해 면은, 실질적으로는, 편광자의 외측에 배치되는 보호층의 표면일 수 있다.
표면 조도 Sa2 는, 상기와 같이 30 ㎚ 이하이고, 바람직하게는 15 ㎚ 이하이고, 보다 바람직하게는 10 ㎚ 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 ㎚ 이하이고, 특히 바람직하게는 3 ㎚ 이하이며, 그 중에서도 바람직하게는 1 ㎚ 이하이다. 표면 조도 Sa2 의 하한은, 예를 들어 0.1 ㎚ 일 수 있다. 표면 조도 Sa2 가 이와 같은 범위이면, 표면 보호 필름의 점착제층의 두께 및 표면 조도 Sa1 의 상승적인 효과에 의해, 우수한 표면 보호 필름의 고속 박리성을 실현하고, 또한, 기포를 현저히 억제하여 우수한 외관을 실현할 수 있다. 또한, 표면 조도 Sa2 는, ISO25178-6 (2010) 또는 JIS B 0681-6 : 2014 에 준하여 측정될 수 있다 (후술하는 Sa1 에 대해서도 마찬가지이다).
B-1. 편광자
편광판의 편광자로는, 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예를 들어, 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2 층 이상의 적층체로 형성되어도 된다.
단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로는, 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름, 부분 포르말화 PVA 계 필름, 에틸렌ㆍ아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2 색성 염료 등의 2 색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA 의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 광학 특성이 우수한 점에서, PVA 계 필름을 요오드로 염색하고 1 축 연신하여 얻어진 편광자가 사용된다.
상기 요오드에 의한 염색은, 예를 들어, PVA 계 필름을 요오드 수용액에 침지시킴으로써 실시된다. 상기 1 축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3 ∼ 7 배이다. 연신은, 염색 처리 후에 실시해도 되고, 염색하면서 실시해도 된다. 또, 연신하고 나서 염색해도 된다. 필요에 따라, PVA 계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예를 들어, 염색 전에 PVA 계 필름을 물에 침지시켜 수세함으로써, PVA 계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA 계 필름을 팽윤시켜 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.
적층체를 사용하여 얻어지는 편광자의 구체예로는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA 계 수지층 (PVA 계 수지 필름) 의 적층체, 혹은, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA 계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA 계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자는, 예를 들어, PVA 계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA 계 수지층의 적층체를 얻는 것 ; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA 계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에 있어서는, 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은, 필요에 따라, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온 (예를 들어, 95 ℃ 이상) 에서 공중 연신하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 사용해도 되고 (즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 해도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 사용해도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세한 내용은, 예를 들어 일본 공개특허공보 2012-73580호에 기재되어 있다. 당해 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.
편광자의 두께는, 대표적으로는 3 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이다. 편광자의 두께는, 일 실시형태에 있어서는, 바람직하게는 15 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 12 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 3 ㎛ ∼ 12 ㎛ 이며, 특히 바람직하게는 3 ㎛ ∼ 8 ㎛ 이다. 편광자의 두께는, 다른 실시형태에 있어서는, 바람직하게는 15 ㎛ 를 초과하고 25 ㎛ 이하이다.
B-2. 보호층
보호층은, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 수지 필름의 형성 재료로는, 예를 들어, (메트)아크릴계 수지, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 노르보르넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는 (메트)아크릴계 수지이다. 또한, 「(메트)아크릴계 수지」란, 아크릴계 수지 및/또는 메타크릴계 수지를 말한다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 (메트)아크릴계 수지로서, 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지가 사용된다. 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지 (이하, 글루타르이미드 수지라고도 한다) 는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2006-309033호, 일본 공개특허공보 2006-317560호, 일본 공개특허공보 2006-328329호, 일본 공개특허공보 2006-328334호, 일본 공개특허공보 2006-337491호, 일본 공개특허공보 2006-337492호, 일본 공개특허공보 2006-337493호, 일본 공개특허공보 2006-337569호, 일본 공개특허공보 2007-009182호, 일본 공개특허공보 2009-161744호, 일본 공개특허공보 2010-284840호에 기재되어 있다. 이들 기재는, 본 명세서에 참고로서 원용된다.
표면 보호 필름이 첩합되는 측에 형성되는 보호층에는, 바람직하게는 접촉각을 작게 하기 위한 표면 처리가 실시될 수 있다. 그와 같은 표면 처리의 대표예로는, 코로나 처리를 들 수 있다. 코로나 처리의 조건은, 상기 액체에 대해 상기 원하는 접촉각이 얻어지도록 적절히 설정될 수 있다.
편광판이 화상 표시 장치의 시인측에 배치되는 경우, 편광판의 시인측에 배치되는 보호층에는, 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한/혹은, 당해 보호층에는, 필요에 따라 편광 선글라스를 통해 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 처리 (대표적으로는, (타)원 편광 기능을 부여하는 것, 초고위상차를 부여하는 것) 가 실시되어 있어도 된다.
편광자의 표시셀측에 배치되는 보호층 (내측 보호층) 은, 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 「광학적으로 등방성이다」란, 면내 위상차 Re(550) 이 0 ㎚ ∼ 10 ㎚ 이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550) 이 -10 ㎚ ∼ +10 ㎚ 인 것을 말한다. 내측 보호층은, 광학적으로 등방성인 한 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다. 당해 재료는, 상기의 재료에서 적절히 선택될 수 있다.
보호층의 두께는, 대표적으로는 5 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 1 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 500 ㎛, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ ∼ 150 ㎛ 이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함시킨 두께이다.
B-3. 처리층
편광판의 표면 보호 필름이 첩합되는 측에는, 바람직하게는 임의의 적절한 처리층이 형성될 수 있다. 처리층은, 바람직하게는 접촉각 저감 기능을 갖는다. 처리층의 구체예로는, 대전 방지층, 친수층, 하드 코트층을 들 수 있다.
대전 방지층은, 대표적으로는, 도전성 재료 및 바인더 수지를 포함한다. 도전성 재료로는, 임의의 적절한 도전성 재료가 사용될 수 있다. 바람직하게는 도전성 폴리머가 사용된다. 도전성 폴리머로는, 예를 들어, 폴리티오펜계 중합체, 폴리아세틸렌계 중합체, 폴리디아세틸렌계 중합체, 폴리인계 중합체, 폴리페닐렌계 중합체, 폴리나프탈렌계 중합체, 폴리플루오렌계 중합체, 폴리안트라센계 중합체, 폴리피렌계 중합체, 폴리아줄렌계 중합체, 폴리피롤계 중합체, 폴리푸란계 중합체, 폴리셀레노펜계 중합체, 폴리이소티아나프텐계 중합체, 폴리옥사디아졸계 중합체, 폴리아닐린계 중합체, 폴리티아질계 중합체, 폴리페닐렌비닐렌계 중합체, 폴리티에닐렌비닐렌계 중합체, 폴리아센계 중합체, 폴리페난트렌계 중합체, 폴리페리나프탈렌계 중합체 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용된다. 바인더 수지로는, 바람직하게는 폴리우레탄계 수지가 사용된다. 폴리우레탄계 수지를 사용함으로써, 유연성과 편광판 (실질적으로는 보호층) 에 대한 우수한 밀착성을 겸비하는 대전 방지층을 형성할 수 있다.
친수층 및 하드 코트층에 대해서는, 업계에서 주지된 구성이 채용될 수 있기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.
C. 표면 보호 필름
C-1. 기재
표면 보호 필름 (20) 의 기재 (21) 는, 임의의 적절한 수지 필름으로 구성될 수 있다. 수지 필름의 형성 재료로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 노르보르넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는 에스테르계 수지 (특히, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지) 이다. 이와 같은 재료이면, 탄성률이 충분히 높고, 반송 및/또는 첩합시에 장력을 가해도 변형이 잘 발생하지 않는다고 하는 이점이 있다.
기재의 두께는, 대표적으로는 10 ㎛ ∼ 100 ㎛ 이고, 바람직하게는 20 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이다. 이와 같은 두께이면, 반송 및/또는 첩합시에 장력을 가해도 변형이 잘 발생하지 않는다고 하는 이점을 갖는다. 본 발명의 실시형태에 있어서는, 점착제층의 두께가 매우 얇기 때문에, 표면 보호 필름의 두께에 관해서는 기재의 두께가 지배적이 된다. 일 실시형태에 있어서는, 표면 보호 필름의 두께는, 예를 들어 15 ㎛ ∼ 60 ㎛ 일 수 있다.
기재의 탄성률은, 대표적으로는, JIS K 7127 : 1999 에 준거하여 측정된다. 기재의 탄성률은, 바람직하게는 인장 속도 100 ㎜/min 에 있어서 100 ㎫ ∼ 350 ㎫ 이다. 기재의 탄성률이 이와 같은 범위이면, 반송 및/또는 첩합시에 장력을 가해도 변형이 잘 발생하지 않는다고 하는 이점을 갖는다.
C-2. 점착제층
점착제층의 두께는, 상기와 같이 2 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 1 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하이다. 점착제층의 두께를 이와 같이 매우 얇게 설정함으로써, 점착제층의 표면 조도 Sa1 및 광학 적층체의 표면 조도 Sa2 의 상승적인 효과에 의해, 우수한 표면 보호 필름의 고속 박리성을 실현하고, 또한, 기포를 현저히 억제하여 우수한 외관을 실현할 수 있다. 두께의 하한은, 예를 들어 0.1 ㎛ 이다. 두께가 하한을 하회하면, 예를 들어, 피착체 (광학 적층체) 에 대한 첩합 후의 가공이나 수송의 충격으로 단부 (端部) 의 들뜸이 발생하기 쉬워진다고 하는 문제가 발생하는 경우가 있다.
점착제층의 표면 조도 Sa1 은, 상기와 같이 30 ㎚ 이하이고, 바람직하게는 15 ㎚ 이하이고, 보다 바람직하게는 10 ㎚ 이하이며, 더욱 바람직하게는 5 ㎚ 이하이다. 표면 조도 Sa1 의 하한은, 예를 들어 0.1 ㎚ 일 수 있다. 표면 조도 Sa1 이 이와 같은 범위이면, 점착제층의 두께 및 광학 적층체의 표면 조도 Sa2 의 상승적인 효과에 의해, 우수한 표면 보호 필름의 고속 박리성을 실현하고, 또한, 기포를 현저히 억제하여 우수한 외관을 실현할 수 있다. 이와 같은 표면 조도는, 예를 들어, 기재의 표면 조도와 점착제층의 두께를 조합하여 조정함으로써 실현될 수 있다.
점착제층의 저장 탄성률은, 바람직하게는 1.0 × 104 ㎩ ∼ 1.0 × 107 ㎩ 이고, 보다 바람직하게는 2.0 × 104 ㎩ ∼ 5.0 × 106 ㎩ 이다. 점착제층의 저장 탄성률이 이와 같은 범위이면, 기포를 더욱 현저히 억제할 수 있다. 또한, 저장 탄성률은, 예를 들어, 온도 23 ℃ 및 각속도 0.1 rad/s 에서의 동적 점탄성 측정으로부터 구할 수 있다.
점착제층을 형성하는 점착제로는, 임의의 적절한 점착제가 채용될 수 있다. 점착제의 베이스 수지로는, 예를 들어, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 실리콘계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지를 들 수 있다. 이와 같은 베이스 수지는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2015-120337호 또는 일본 공개특허공보 2011-201983호에 기재되어 있다. 이들 공보의 기재는, 본 명세서에 참고로서 원용된다. 내약품성, 침지시에 있어서의 처리액의 침입을 방지하기 위한 밀착성, 피착체에 대한 자유도 등의 관점에서, 아크릴계 수지가 바람직하다. 점착제에 포함될 수 있는 가교제로는, 예를 들어, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물을 들 수 있다. 점착제는, 예를 들어 실란 커플링제를 포함하고 있어도 된다. 점착제의 배합 처방은, 목적에 따라 적절히 설정될 수 있다.
C-3. 처리층
상기와 같이, 기재의 점착제층과 반대측에는, 필요에 따라 임의의 적절한 처리층이 형성되어도 된다. 처리층의 구체예로는, 대전 방지층, 친수층, 하드 코트층을 들 수 있다. 대전 방지층은, 상기의 B-3 항에서 설명한 바와 같다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 실시예에 있어서의 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예에 있어서의 「부」 및 「％」는 중량 기준이다.
(1) 두께
점착제층의 두께에 대해서는, 이하와 같이 하여 측정하였다 : 점착제층이 형성된 필름의 단면을 잘라내고, 당해 단면을 주사형 전자 현미경 (SEM) 으로 관찰하고, 층의 두께를 측정하였다.
대전 방지층의 두께에 대해서는, 이하와 같이 하여 측정하였다 : 대전 방지층의 표면을 RuO4 로 염색하고, 에폭시 수지 중에 포매하였다. 그 후, 초박절편법에 의해 제조한 절편을 RuO4 로 염색하고, 도포층 단면을 TEM (주식회사 히타치 하이테크놀로지즈 제조 H-7650, 가속 전압 100 V) 을 사용하여 측정하였다.
(2) 표면 조도 Sa1 및 Sa2
JIS B 0681-6 : 2014 에 준하여 측정하였다. 측정 기기로서 3 차원 비접촉 표면 조도 측정계 (Zygo 사 제조, 제품명 : NewView7300) 를 사용하여, 대물 렌즈 50 배, 측정 면적 0.14 ㎜ × 0.11 ㎜ 의 조건에서, 산술 평균 조도로서 측정하였다.
(3) 고속 박리력
실시예 및 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체 (편광판) 에 대하여, 편광판으로부터 표면 보호 필름을 박리했을 때의 박리력을 측정하였다. 박리는 온도 23 ℃, 습도 50 ％RH 의 분위기하에서, 만능 인장 시험기 (미네베아 주식회사 제조, 제품명 : TCM-1kNB) 를 사용하여, 박리 각도 180°, 인장 속도 30 m/분으로 실시하였다.
(4) 외관
실시예 및 비교예에서 얻어진 표면 보호 필름이 부착된 편광판에 대하여, 전체면에 걸친 기포의 발생 상태를 육안으로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하였다.
○ : 기포는 인정되지 않음
△ : 장경 10 ㎜ 이하의 기포가 인정됨
× : 장경 10 ㎜ 이상의 기포가 인정됨
＜참고예 1-1＞ 편광판
1-1-1. 메타크릴 수지 필름의 제작
MS 수지 (MS-200 ; 메타크릴산메틸/스티렌 (몰비) ＝ 80/20 의 공중합체, 신닛테츠 화학 (주) 제조) 를 모노메틸아민으로 이미드화 (이미드화율 : 5 ％) 하였다. 얻어진 이미드화된 MS 수지는, 일반식 (1) 로 나타내는 글루타르이미드 단위 (식 중, R1 및 R3 은 메틸기, R2 는 수소 원자이다), 일반식 (2) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단위 (R4 는 수소 원자, R5 는 메틸기이다), 및 스티렌 단위를 갖고, 산가는 0.5 m㏖/g 이었다. 또한, 상기 이미드화에는, 구경 15 ㎜ 의 맞물림형 동방향 회전식 2 축 압출기를 사용하였다. 압출기의 각 온조존의 설정 온도를 230 ℃, 스크루 회전수 150 rpm, MS 수지를 2.0 ㎏/hr 로 공급하고, 모노메틸아민의 공급량은 MS 수지 100 중량부에 대해 2 중량부로 하였다. 호퍼로부터 MS 수지를 투입하고, 니딩 블록에 의해 수지를 용융, 충만시킨 후, 노즐로부터 모노메틸아민을 주입하였다. 반응존의 말단에는 시일 링을 넣어 수지를 충만시켰다. 반응 후의 부생성물 및 과잉된 메틸아민을 벤트구의 압력을 -0.08 ㎫ 로 감압하여 탈휘하였다. 압출기 출구에 형성된 다이스로부터 스트랜드로서 나온 수지는, 수조에서 냉각시킨 후, 펠리타이저로 펠릿화하였다. 상기 이미드화된 MS 수지를 용융 압출 제막하였다. 이 때, 자외선 흡수제 (ADEKA 사 제조, 「T-712」) 를 MS 수지 100 중량부에 대해 0.66 중량부 공급하였다. 이어서, 세로 2 배, 가로 2 배로 2 축 연신한 투명 보호 필름 (두께 40 ㎛, Re ＝ 2 ㎚, Rth ＝ 2 ㎚) 을 제작하였다.
[화학식 1]
Figure pat00001
[화학식 2]
Figure pat00002
1-1-2. 편광판의 제작
수지 기재로서, 장척상 (長尺狀) 이고, 흡수율 0.75 ％, Tg 75 ℃ 의 비정질의 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 (IPA 공중합 PET) 필름 (두께 : 100 ㎛) 을 사용하였다. 기재의 편면에, 코로나 처리를 실시하고, 이 코로나 처리면에, 폴리비닐알코올 (중합도 4200, 비누화도 99.2 몰％) 및 아세토아세틸 변성 PVA (중합도 1200, 아세토아세틸 변성도 4.6 ％, 비누화도 99.0 몰％ 이상, 닛폰 합성 화학 공업사 제조, 상품명 「고세파이머 Z200」) 를 9 : 1 의 비로 포함하는 수용액을 25 ℃ 에서 도포 및 건조시켜, 두께 11 ㎛ 의 PVA 계 수지층을 형성하고, 적층체를 제작하였다.
얻어진 적층체를, 120 ℃ 의 오븐 내에서 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향 (길이 방향) 으로 2.0 배로 자유단 1 축 연신하였다 (공중 보조 연신).
이어서, 적층체를, 액온 30 ℃ 의 불용화욕 (물 100 중량부에 대해, 붕산을 4 중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액) 에 30 초간 침지시켰다 (불용화 처리).
이어서, 액온 30 ℃ 의 염색욕에, 편광판이 소정 투과율이 되도록 요오드 농도, 침지 시간을 조정하면서 침지시켰다. 본 실시예에서는, 물 100 중량부에 대해, 요오드를 0.2 중량부 배합하고, 요오드화칼륨을 1.5 중량부 배합하여 얻어진 요오드 수용액에 60 초간 침지시켰다 (염색 처리).
이어서, 액온 30 ℃ 의 가교욕 (물 100 중량부에 대해, 요오드화칼륨을 3 중량부 배합하고, 붕산을 3 중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액) 에 30 초간 침지시켰다 (가교 처리).
그 후, 적층체를, 액온 70 ℃ 의 붕산 수용액 (물 100 중량부에 대해, 붕산을 4 중량부 배합하고, 요오드화칼륨을 5 중량부 배합하여 얻어진 수용액) 에 침지시키면서, 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향 (길이 방향) 으로 총 연신 배율이 5.5 배가 되도록 1 축 연신을 실시하였다 (수중 연신).
그 후, 적층체를 액온 30 ℃ 의 세정욕 (물 100 중량부에 대해, 요오드화칼륨을 4 중량부 배합하여 얻어진 수용액) 에 침지시켰다 (세정 처리).
계속해서, 적층체의 PVA 계 수지층 (편광자) 표면에, 자외선 경화형 접착제를 경화 후의 접착제층 두께가 1.0 ㎛ 가 되도록 도포하고, 보호층을 구성하는 상기 서술한 메타크릴 수지 필름 (두께 : 40 ㎛) 을 첩합하고, 당해 메타크릴계 수지 필름측으로부터 IR 히터를 사용하여 50 ℃ 로 가온하고, 자외선을 조사하여 접착제를 경화시켰다. 이와 같이 하여, 수지 기재 (보호층)/편광자/보호층의 구성을 갖는 편광판 1-1 을 얻었다. 또한, 편광자의 두께는 5 ㎛, 단체 (單體) 투과율은 42.3 ％ 였다. 또, 표면 보호 필름과 첩합되는 측의 보호층 (메타크릴 수지 필름) 의 표면 조도 Sa2 는 0.9 ㎚ 였다.
＜참고예 1-2＞ 편광판
참고예 1-1-1 의 「메타크릴 수지 필름의 제작」에 있어서, 자외선 흡수제를 첨가할 때에 코어셸형 탄성체를 가교 탄성체로서 아울러 첨가하여, 표면 조도 Sa2 가 4.9 ㎚ 인 메타크릴 수지 필름을 제작하였다. 이 필름을 표면 보호 필름과 첩합되는 측의 보호층으로서 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 편광판 1-2 를 제작하였다. 또한, 코어셸형 탄성체의 제작 방법은 이하와 같다.
(코어셸형 탄성체)
하기 조성의 혼합물을 유리제 반응기에 주입하고, 질소 기류 중에서 교반하면서 80 ℃ 로 승온한 후, 메타크릴산메틸 25 부, 메타크릴산알릴 1 부로 이루어지는 단량체 혼합물과 t-부틸하이드로퍼옥사이드 0.1 부의 혼합액 중 25 ％ 를 일괄로 주입하고, 45 분간의 중합을 실시하였다.
탈이온수 220 부
붕산 0.3 부
탄산나트륨 0.03 부
N-라우로일사르코신산나트륨 0.09 부
소듐포름알데히드술폭실레이트 0.09 부
에틸렌디아민사아세트산-2-나트륨 0.006 부
황산제1철 0.002 부
계속해서 이 혼합액의 나머지 75 ％ 를 1 시간에 걸쳐 연속 첨가하였다. 첨가 종료 후, 동일 온도에서 2 시간 유지하여 중합을 완결시켰다. 또, 이 동안에 0.2 부의 N-라우로일사르코신산나트륨을 추가하였다. 얻어진 최내층 가교 메타크릴계 중합체 라텍스의 중합 전화율 (중합 생성량/모노머 주입량) 은 98 ％ 였다.
얻어진 최내층 중합체 라텍스를 질소 기류 중에서 80 ℃ 로 유지하고, 과황산칼륨 0.1 부를 첨가한 후, 아크릴산n-부틸 41 부, 스티렌 9 부, 메타크릴산알릴 1 부로 이루어지는 단량체 혼합물을 5 시간에 걸쳐 연속 첨가하였다. 이 동안에 올레산칼륨 0.1 부를 3 회로 나누어 첨가하였다. 단량체 혼합물의 첨가 종료 후, 중합을 완결시키기 위해 추가로 과황산칼륨을 0.05 부를 첨가하고 2 시간 유지하여, 고무 입자를 얻었다. 얻어진 고무 입자의 중합 전화율은 99 ％, 입경은 225 ㎚ 였다. 얻어진 고무 입자 라텍스를 80 ℃ 로 유지하고, 과황산칼륨 0.02 부를 첨가한 후 메타크릴산메틸 14 부, 아크릴산n-부틸 1 부의 단량체 혼합물을 1 시간에 걸쳐 연속 첨가하였다. 단량체 혼합물의 추가 종료 후 1 시간 유지하여 그래프트 공중합체 라텍스를 얻었다. 중합 전화율은 99 ％ 였다. 얻어진 그래프트 공중합체 라텍스를 80 ℃ 로 유지하고, 메타크릴산메틸 5 부, 아크릴산n-부틸 5 부의 단량체 혼합물을 0.5 시간에 걸쳐 연속 첨가하였다. 단량체 혼합물의 추가 종료 후 1 시간 유지하여 고무 함유 그래프트 공중합체 라텍스를 얻었다. 중합 전화율은 99 ％ 였다. 얻어진 고무 함유 그래프트 공중합체 라텍스를 염화칼슘으로 염석 응고, 열 처리, 건조를 실시하여, 백색 분말상의 가교 탄성체를 얻었다.
＜참고예 1-3＞ 편광판
메타크릴 수지 필름의 표면에 안티글레어층을 형성한 것 이외에는 참고예 1-1 과 동일하게 하여 편광판 1-3 을 제작하였다. 여기에서, 안티글레어층이 표면 보호 필름과 첩합되는 측이 된다. 안티글레어층의 표면 조도 Sa2 는 50 ㎚ 였다.
＜참고예 2-1＞ 표면 보호 필름
2-1-1. 대전 방지층 형성용 조성물 (도포액) 의 조제
바인더로서의 포화 공중합 폴리에스테르 수지를 25 ％ 포함하는 수 분산액 (토요보 주식회사 제조, 상품명 「바이나롤 MD-1480」) (바인더 분산액) 을 준비하였다. 또한, 활제로서의 카르나우바 왁스 (왁스 에스테르) 의 수 분산액 (활제 분산액) 을 준비하였다. 이에 더하여, 도전성 폴리머로서의 폴리(3,4-디옥시티오펜) (PEDOT) 0.5 ％ 및 폴리스티렌술포네이트 (수 평균 분자량 15 만) (PSS) 0.8 ％ 를 포함하는 수용액 (상품명 「Baytron P」, H. C. Stark 사 제품) (도전성 폴리머 수용액) 을 준비하였다. 물과 에탄올의 혼합 용매에, 상기 바인더 분산액 100 부 (고형분), 상기 활제 분산액 30 부 (고형분) 및 상기 도전성 폴리머 수용액 50 부 (고형분) 와, 멜라민계 가교제를 첨가하고, 약 20 분간 교반하여 충분히 혼합하였다. 이와 같이 하여, NV 약 0.15 ％ 의 대전 방지층 형성용 도포액을 조제하였다.
2-1-2. 대전 방지층의 형성
두께 50 ㎛, 폭 30 ㎝, 길이 40 ㎝ 의 투명한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (미츠비시 케미컬사 제조 상품명 「다이아호일 T600」) 을 준비하였다. 이 PET 필름의 일방의 면에 코로나 처리를 실시하였다. 이 PET 필름의 코로나 처리면에 상기 도포액을 바 코터로 도포하고, 130 ℃ 에서 2 분간 가열하여 건조시켰다. 이와 같이 하여, 대전 방지층 (10 ㎚)/PET 필름의 적층체를 제작하였다.
2-1-3. 점착제의 조제
(아크릴계 폴리머)
교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA) 100 부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 (4HBA) 10 부, 아크릴산 (AA) 0.02 부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 부, 아세트산에틸 157 부를 주입하고, 서서히 교반하면서 질소 가스를 도입하고, 플라스크 내의 액온을 65 ℃ 부근으로 유지하며 6 시간 중합 반응을 실시하여, 아크릴계 폴리머 (Ⅰ) 용액 (40 ％) 을 조제하였다. 상기 아크릴계 폴리머 (Ⅰ) 의 중량 평균 분자량은 54 만, 유리 전이 온도 (Tg) 는 -67 ℃ 였다.
(아크릴계 올리고머)
교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기, 적하 깔때기를 구비한 4 구 플라스크에, 톨루엔 100 부, 디시클로펜타닐메타크릴레이트 (DCPMA) (상품명 : FA-513M, 히타치 화성 공업사 제조) 60 부, 메틸메타크릴레이트 (MMA) 40 부 및 연쇄 이동제로서 티오글리콜산메틸 3.5 부를 투입하였다. 이어서, 70 ℃ 에서 질소 분위기하에서 1 시간 교반한 후, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 부를 투입하고, 70 ℃ 에서 2 시간 반응시키고, 계속해서 80 ℃ 에서 4 시간 반응시킨 후에, 90 ℃ 에서 1 시간 반응시켜, 아크릴 올리고머 용액 (51 ％) 을 얻었다. 상기 아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은 4000 이고, 유리 전이 온도 (Tg) 는 144 ℃ 였다.
(아크릴계 점착제 A)
상기 아크릴계 폴리머 (Ⅰ) 용액 (40 ％) 을 아세트산에틸로 4 ％ 로 희석시키고, 이 용액 2500 부 (고형분 100 부) 에, 상기 아크릴계 올리고머 용액 0.59 부 (고형분 0.3 부) 를 첨가하고, 가교제로서 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (닛폰 폴리우레탄 공업사 제조, 콜로네이트 HX) 1.0 부 (고형분 1.0 부), 가교 촉매로서 디라우르산디부틸주석 (1 ％ 아세트산에틸 용액) 3 부 (고형분 0.03 부) 를 첨가하고, 오르가노폴리실록산 (KF-353, 신에츠 화학 공업사 제조) 을 아세트산에틸로 10 ％ 로 희석시킨 용액 2 부 (고형분 0.2 부), 대전 방지제인 알칼리 금속염으로서, 리튬비스(트리플루오로메탄술폰)이미드 (LiN(CF3SO2)2 : LiTFSI, 토쿄 화성 공업사 제조) 를 아세트산에틸로 1 ％ 로 희석시킨 용액 15 부 (고형분 0.15 부), 혼합 교반을 실시하여, 아크릴계 점착제 용액 A 를 조제하였다.
2-1-4. 표면 보호 필름의 제작
상기에서 얻어진 점착제 A 를, 상기 적층체의 PET 필름 표면에, 메이어 바를 사용하여, 건조 후의 두께가 0.3 ㎛ 가 되도록 도포하고, 그 후, 열풍 순환식 오븐에 있어서 130 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 표면 보호 필름 2-1 을 얻었다.
＜참고예 2-2＞ 표면 보호 필름
하기의 점착제 M 을 사용한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-2 를 얻었다.
(우레탄계 점착제 M)
폴리올로서, 하이드록실기를 3 개 갖는 폴리올인 프레미놀 S3011 (아사히 가라스사 제조, Mn ＝ 10000) 85 부, 하이드록실기를 3 개 갖는 폴리올인 산닉스 GP3000 (산요 화성사 제조, Mn ＝ 3000) 13 부, 하이드록실기를 3 개 갖는 폴리올인 산닉스 GP1000 (산요 화성사 제조, Mn ＝ 1000) 2 부, 가교제로서 이소시아네이트 화합물 콜로네이트 HX (닛폰 폴리우레탄사 제조) 10 부, 촉매로서 철(Ⅲ)아세틸아세토네이트 (토쿄 화성 공업사 제조) 0.04 부, 희석 용제로서 아세트산에틸 1000 부를 배합하여, 우레탄계 점착제 용액 M 을 얻었다. 또한, 우레탄계 점착제 용액의 원료로는, 용제 이외는 모두 농도 100 ％ 의 원료이다.
＜참고예 2-3＞ 표면 보호 필름
하기의 점착제 C 를 사용한 것, 및 도포 후의 점착제를 150 ℃ 에서 2 분간 건조시킨 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-3 을 얻었다.
(실리콘계 점착제 C)
실리콘계 점착제로서, 「X-40-3229」(고형분 60 ％, 신에츠 화학 공업사 제조) 를 고형분으로 100 부, 백금 촉매로서 「CAT-PL-50T」(신에츠 화학 공업사 제조) 0.3 부, 용제로서 톨루엔 1200 부를 배합하여, 실리콘계 점착제 용액 C 를 얻었다.
＜참고예 2-4＞ 표면 보호 필름
하기의 점착제 D 를 사용한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-4 를 얻었다.
(고무계 점착제 D)
스티렌ㆍ이소부틸렌ㆍ스티렌 블록 공중합체 (가네카사 제조, 시브스타 072T) 를 톨루엔에 용해시켜, 고무계 점착제 용액 D 를 조제하였다.
＜참고예 2-5＞ 표면 보호 필름
점착제층의 두께를 1.0 ㎛ 로 한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-5 를 얻었다.
＜참고예 2-6＞ 표면 보호 필름
점착제층의 두께를 5.0 ㎛ 로 한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-6 을 얻었다.
＜참고예 2-7＞ 표면 보호 필름
PET 필름을 두께 50 ㎛ 의 미츠비시 케미컬사 제조 상품명 「다이아호일 T100」으로 변경한 것, 및 점착제층의 두께를 15 ㎛ 로 한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-7 을 얻었다.
＜참고예 2-8＞ 표면 보호 필름
PET 필름을 미츠비시 화학사 제조 T100 으로 변경한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-8 을 얻었다.
＜참고예 2-9＞ 표면 보호 필름
점착제층의 두께를 0.15 ㎛ 로 한 것 이외에는 참고예 2-8 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-9 를 얻었다.
＜참고예 2-10＞ 표면 보호 필름
점착제층의 두께를 0.15 ㎛ 로 한 것 이외에는 참고예 2-1 과 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2-10 을 얻었다.
＜실시예 1＞
참고예 1-1 에서 얻어진 편광판 및 참고예 2-1 에서 얻어진 표면 보호 필름을, 각각 A4 사이즈로 타발 (打拔) 하였다. 첩합롤을 사용하여, 타발한 편광판과 표면 보호 필름을 표면 보호 필름의 점착제층을 개재하여 첩합하여, 표면 보호 필름이 부착된 편광판을 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름이 부착된 편광판을 상기 (3) ∼ (4) 의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
＜실시예 2 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 5＞
표 1 에 나타내는 조합으로 편광판과 표면 보호 필름을 첩합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 표면 보호 필름이 부착된 편광판을 얻었다. 얻어진 표면 보호 필름이 부착된 편광판을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 또한, 표 1 에 있어서의 「SPV」는 표면 보호 필름을 나타내고, 「1-2」, 「2-5」등은 참고예 번호를 나타낸다.
Figure pat00003
＜평가＞
표 1 로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 실시예의 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 표면 보호 필름의 매우 양호한 고속 박리가 실현되고, 또한, 기포가 현저히 억제되어 외관이 우수하다.
본 발명의 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체는, 각종 화상 표시 장치에 바람직하게 사용된다.
10 : 광학 적층체
20 : 표면 보호 필름
21 : 기재
22 : 점착제층
100 : 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체

Claims (10)

  1. 광학 적층체와 표면 보호 필름을 갖고,
    그 표면 보호 필름이 기재 및 점착제층을 갖고, 그 점착제층을 개재하여 그 광학 적층체에 박리 가능하게 첩합되어 있고,
    그 표면 보호 필름의 점착제층의 두께가 2 ㎛ 이하이고, 또한 그 점착제층의 표면 조도 Sa1 이 30 ㎚ 이하이고,
    그 광학 적층체의 그 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 가 30 ㎚ 이하인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 점착제층의 두께가 1 ㎛ 이하인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 점착제층의 표면 조도 Sa1 이 10 ㎚ 이하인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 적층체의 상기 점착제층과 접하는 면의 표면 조도 Sa2 가 10 ㎚ 이하인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  5. 제 1 항에 있어서,
    고속 박리력이 0.20 N/25 ㎜ 이하인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면 보호 필름의 두께가 15 ㎛ ∼ 60 ㎛ 인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면 보호 필름이, 상기 기재의 상기 점착제층과 반대측에 대전 방지층을 추가로 갖는, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 점착제층을 구성하는 점착제의 베이스 수지가, 실리콘계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 고무계 수지에서 선택되는, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 적층체가 편광자를 포함하는, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 편광자의 두께가 3 ㎛ ∼ 30 ㎛ 인, 표면 보호 필름이 부착된 광학 적층체.
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