TW201838911A - 氫生成裝置及氫生成方法 - Google Patents

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Abstract

提供能夠長時間的連續運轉的氫生成裝置等。氫生成裝置(10)包括噴淋頭(23),於反應容器(21)的內部散佈水;第1管(661),將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至前述反應容器(21)的內部;以及第3管(663),連接於前述反應容器(21)的上部,使藉由前述噴淋頭(23)供給而貯留於前述反應容器(21)內的水與藉由前述第1管(661)供給的前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。

Description

氫生成裝置及氫生成方法
本發明是有關於一種氫生成裝置及氫生成方法。
氫作為燃料而發電的燃料電池,使用於廣範圍的技術領域。供給至燃料電池的氫,提案有藉由氫化鎂粒子的水解而生成的氫生成裝置(專利文獻1)。
【先前技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】 日本專利公開2009-99534號公報
但是,專利文獻1所記載的氫生成裝置,具有不適合長時間的連續運轉的問題。
本發明的一個方面,其目的為提供能夠長時間的連續運轉的氫生成裝置。
氫生成裝置包括:噴淋頭,於反應容器的內部散佈水;第1管,將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至前述反應容器的內部;以及第3管,連接於前述反應容器的上部,使藉由前述噴淋頭供給而貯留於前述反應容器內的水 與藉由前述第1管供給的前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
氫生成裝置包括設置在前述反應容器和前述第3管的連接部、與前述噴淋頭之間的干擾板。
氫生成裝置的前述第1管使用由前述第3管流出的氫作為載氣。
氫生成裝置的前述第1管沿著前述反應容器的內壁噴射前述氫產生材料。
氫生成裝置包括氫產生材料容器,前述氫產生材料容器收容前述氫產生材料,並具有可裝卸的連接於前述第1管的連接口。
前述氫產生材料容器具有藉由旋轉而將前述氫產生材料送至前述第1管內的螺桿。
氫生成裝置包括分離槽,前述分離槽將設置於前述反應容器的下部的排水口所排出的水與反應生成物分離,前述噴淋頭散佈以前述分離槽分離的水。
氫產生材料為氫化鎂。
氫生成裝置包括第5管,前述第5管使藉由消耗前述第3管所流出的氫之燃料電池所生成的水流入,由前述第5管流入的水供給至前述噴淋頭。
氫生成方法在反應容器的內部散佈水,並經由與前述反應容器連接的第1管,將粉狀的氫產生材料與氫供給至前述反應容器內,藉由連接於前述反應容器的上部的第3管,使藉由前述反應容器內貯留的水與前述氫產生材料的反應所 生成的氫流出。
氫生成裝置包括:噴淋頭,於反應容器的內部散佈氫產生材料於水中懸浮的懸浮液;以及第3管,連接於前述反應容器的上部,使藉由前述噴淋頭供給而貯留於前述反應容器的前述水與前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
氫生成裝置包括第1管,將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至前述反應容器的內部。
氫生成裝置包括:第1管,將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至反應容器的內部;第2管,供給水至前述反應容器的內部;以及第3管,連接於前述反應容器的上部,使藉由前述第2管供給而貯留於前述反應容器內的水與藉由前述第1管供給的前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
氫生成方法在反應容器的內部散佈粉狀的氫產生材料於水中懸浮的懸浮液,藉由連接於前述反應容器的上部的第3管,使藉由經散佈的前述反應容器內貯留的前述水與前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
於一個方面,能夠提供能夠長時間連續運轉的氫生成裝置。
10‧‧‧氫生成裝置
21‧‧‧反應容器
22‧‧‧干擾板
23‧‧‧噴淋頭
24‧‧‧噴射口
25‧‧‧排水口
26‧‧‧間隙
31‧‧‧氫產生材料容器
32‧‧‧螺桿
33‧‧‧馬達
34‧‧‧軸
36‧‧‧噴射泵
38‧‧‧連接口
40‧‧‧控制裝置
41‧‧‧CPU
42‧‧‧主記憶裝置
43‧‧‧輔助記憶裝置
44‧‧‧輸入部
45‧‧‧輸出部
46‧‧‧通信部
47‧‧‧輸入I/F
48‧‧‧輸出I/F
51‧‧‧壓力計
52‧‧‧溫度計
53‧‧‧流量計
54‧‧‧冷卻裝置
542‧‧‧第2冷卻裝置
56‧‧‧閥
561‧‧‧第1閥
562‧‧‧第2閥
563‧‧‧第3閥
564‧‧‧第4閥
565‧‧‧第5閥
566‧‧‧第6閥
567‧‧‧第7閥
568‧‧‧第8閥
569‧‧‧第9閥
57‧‧‧泵
58‧‧‧加熱器
59‧‧‧壓縮機
61‧‧‧水儲槽
63‧‧‧分離槽
65‧‧‧冷卻槽
661‧‧‧第1管
662‧‧‧第2管
663‧‧‧第3管
664‧‧‧第4管
665‧‧‧第5管
666‧‧‧第6管
67‧‧‧溢流管
681‧‧‧第1支管
682‧‧‧第2支管
683‧‧‧第3支管
71‧‧‧氫儲槽
73‧‧‧第1儲存槽
74‧‧‧第2儲存槽
75‧‧‧氫放出管
80‧‧‧燃料電池
81‧‧‧懸浮容器
82‧‧‧攪拌器
823‧‧‧馬達
824‧‧‧旋轉軸
825‧‧‧葉輪
83‧‧‧供給閥
84‧‧‧供給管
85‧‧‧第2氫產生材料容器
P0、P1、P2、P3、P4‧‧‧壓力
S501~S514‧‧‧步驟
第1圖所示為氫生成裝置的模式圖。
第2圖所示為氫生成裝置的控制系統的方塊圖。
第3圖所示為氫產生材料容器的模式圖。
第4圖所示為1個的氫產生材料容器的模式斷面圖。
第5圖所示為第1圖的V-V線的反應容器的模式斷面圖。
第6圖所示為程式處理的流程之流程圖。
第7圖所示為實施型態2的氫產生材料容器的模式斷面圖。
第8圖所示為實施型態3的氫產生材料容器的模式斷面圖。
第9圖所示為實施型態4的氫產生材料容器的模式斷面圖。
第10圖所示為實施型態5的氫產生材料容器的模式斷面圖。
第11圖所示為實施型態6的氫生成裝置的模式圖。
第12圖所示為實施型態7的氫生成裝置的模式圖。
第13圖所示為實施型態8的氫生成裝置的模式圖。
[實施型態1]
第1圖所示為氫生成裝置10的模式圖。氫生成裝置10包括反應容器21、氫產生材料容器31、水儲槽61、分離槽63、冷卻槽65、氫儲槽71、第1儲存槽73以及第2儲存槽74。使用第1圖對本實施型態的氫生成裝置10的概要進行說明。
反應容器21為圓形斷面的中空容器。尚且,反應容器21的斷面形狀亦可以為圓形以外的形狀。反應容器21的外側裝設有加熱器58以及冷卻裝置54。冷卻裝置54為藉由水冷或空冷而冷卻反應容器21的裝置。
於反應容器21的內側,在上部固定有干擾板22。干擾板22為具有比反應容器21的內徑稍微小的直徑之無孔的圓板。在干擾板22的端緣與反應容器21的內面之間,設有可 使氣體通過的間隙26。尚且,干擾板22亦可為網狀或包括多數孔的沖壓板狀。
干擾板22的下方設置噴淋頭23。噴淋頭23經由途中包括第1閥561以及未圖示的加壓泵之第2管662連接至水儲槽61。水儲槽61經由第2管662供給水至噴淋頭23。噴淋頭23於反應容器21內散佈水。散佈的水量藉由第1閥561控制。
尚且,於本實施型態中,噴淋頭23設為2段,以不妨礙上側的噴淋頭23所散佈的水落下的方式配置下側的噴淋頭23。噴淋頭23亦可為1段,亦可為3段以上。
設置在反應容器21的頂面的中央附近之連接部,經由第3管663連接至冷卻槽65。冷卻槽65經由送氣管連接至氫儲槽71。進而冷卻槽65經由送水管連接至水儲槽61。
反應容器21的底部具有向下而直徑縮小的錐部。錐部的最下部設置有排水口25,排出包含藉由後述的化學反應生成的反應生成物、例如是氫氧化鎂以及氧化鎂等的水。排水口25經由途中包括有第6閥566的第4管664連接至分離槽63。分離槽63經由流動上澄液的溢流管67複數串聯連接。最後的分離槽63經由途中包括泵57的回送管而連接水儲槽61。
氫儲槽71經由途中包括壓縮機59、第5閥565以及第2閥562的連通管連接第1儲存槽73。壓縮機59將氫儲槽71內的氫壓縮為比反應容器21內部的壓力P3高的壓力並供給連通管。連通管在第5閥565與第2閥562之間的兩個位 置分歧。
由接近第5閥565側分歧的第1分歧管在途中包括第3閥563,連接至氫產生材料容器31的上部。由接近第2閥562側分歧的第2分歧管在途中包括第4閥564,經由第1管661連接至反應容器21的中央部。第1管661連接至後述的氫產生材料容器31。
氫儲槽71連接氫放出管75。第2儲存槽74經由途中具有第8閥568的補給管,連接至氫放出管75。
氫產生材料容器31收容有與水反應產生氫的氫產生材料的粉。氫產生材料容器31內的空間填充有氫。氫產生材料例如是氫化鎂。於氫產生材料使用氫化鎂的情形,藉由下述的反應式產生氫。
【化1】MgH2+2H2O→Mg(OH)2+2H2......(1) MgH2+H2O→MgO+2H2......(2)
式(1)為氫化鎂與溫水反應的情形的反應式,式(2)為氫化鎂與高溫的水蒸氣反應的情形的反應式。
氫產生材料亦可為鎂粉、鋁粉、鐵粉、或是鈣粉。於使用此些的氫產生材料的情形,個別藉由下述的反應式產生氫。
【化2】Mg+2H2O→Mg(OH)2+H2......(3) 2Al+6H2O→2Al(OH)3+3H2......(4) Fe+2H2O→Fe(OH)2+2H2......(5) Ca+2H2O→Ca(OH)2+H2......(6)
以下的說明是以氫產生材料使用氫化鎂,主要是藉由式(1)產生氫的情形為例進行說明。尚且,依照溫度以及壓力等的反應條件,亦具有與式(1)的反應平行的產生式(2)的反應的可能性。
氫化鎂的平均粒徑為1毫米以下,較佳為平均粒徑100微米以下的粉體。氫化鎂的平均粒徑例如較佳是50微米、15微米、5微米或1微米。氫化鎂的平均粒徑以及粒度分布,因應必要的反應速度、成本以及氫產生材料容器31的構成而適當選擇。關於氫產生材料容器31的詳細後面描述。
於反應容器21,至與第1管661的連接部之上為止貯留水。反應容器21的內部調整為溫度95℃至200℃,壓力為0.2百萬帕司卡以上且未滿1百萬帕司卡。
尚且經由第1管661對反應容器21內的水噴射氫化鎂的粉。此時載氣使用氫。藉由式(1)的反應產生氫以及氫氧化鎂。藉由式(2)的反應產生氫以及氧化鎂。藉由此些的反應產生泡沫,但藉由從噴淋頭23向水面幾乎一致的散佈水,抑制了泡沫的上漲。即使是泡沫的產生量多,泡沫上漲至反應容器21的上部的情形,藉由干擾板22的作用泡沫不會進入第3管663的內部。
尚且,干擾板22以及噴淋頭23的形狀以及配置,以有效抑制泡沫上昇的方式而適當選擇。例如是,干擾板22亦可以設置在上側的噴淋頭23與下側的噴淋頭23之間。干擾板22亦可以配置在下側的噴淋頭23的下側。此些的情形,干 擾板22配置為不妨礙噴淋頭23的放水的形狀以及位置。
產生的氫與水受熱產生的水蒸氣混合。氫與水蒸氣通過間隙26以及第3管663進入冷卻槽65,使水與氫分離。分離的水通過送水管而進入水儲槽61。
分離的氫通過送氣管進入氫儲槽71。由氫儲槽71經由氫放出管75對未圖示的燃料電池等的供給處供給氫。
由設置於反應容器21的下部之排水口25流出包含作為反應生成物的氫氧化鎂以及氧化鎂的水,經由第4管664流入分離槽63。於分離槽63內氫氧化鎂以及氧化鎂沈澱,由分離槽63經由溢流管67,使上澄液流入相鄰的分離槽63。
藉由經過複數的分離槽63而精製的水,藉由泵57加壓,並經由回送管返回水儲槽61。由水儲槽61經由第2管662供給水至噴淋頭23。貯留於分離槽63的底部的沈澱物,適當的取出而利用於氫化鎂的製造。
在因氫產生之際的化學反應而消耗的水,以及因分離槽63的生成處理的時間延遲等而供給噴淋頭23的水不足的情形,由外部適當的補給。
對第1儲存槽73進行說明。於第1儲存槽73的內部以高壓力P0填充有氫。壓力P0例如是1百萬帕司卡程度。於反應容器21內的氫生成量不足的情形,關閉第5閥565,開啟第2閥562,由第1儲存槽73供給載氣。
而且,亦可以於第2閥562與第1儲存槽73之間設置壓縮機。於反應容器21生成充分量的氫的情形,能夠經 由連結管加壓由氫儲槽71供給的氫,對第1儲存槽73補給氫。
對第2儲存槽74進行說明。第2儲存槽74的內部以壓力P4填充有氫。壓力P4例如是小於1百萬帕司卡。燃料電池需要氫,但於反應容器21內的氫生成量不足的情形,打開第8閥568,由第2儲存槽74供給燃料電池氫。
而且,亦可以於第8閥568與第2儲存槽74之間設置壓縮機。於反應容器21生成充分的量的氫的情形,能夠經由連結管加壓由氫儲槽71供給的氫,對第2儲存槽74補給氫。
第2儲存槽74的內部藉由為未滿1百萬帕司卡的高壓,能夠收容儘可能多的氫。依此,能夠對燃料電池等穩定的供給氫。
反應容器21、干擾板22、噴淋頭23、氫產生材料容器31、冷卻槽65、氫儲存槽71、第1儲存槽73、第2儲存槽74、第1管661、第3管663以及各部的配管等的暴露於氫的部分,較佳為不鏽鋼製或鋁製。
第2圖所示為氫生成裝置10的控制系統的方塊圖。控制裝置40包括中央處理單元(CPU,Central Processing Unit)41、主記憶裝置42、輔助記憶裝置43、輸入部44、輸出部45、通信部46、輸入界面(I/F,Interface)47、輸出I/F48以及匯流排。本實施裝置的控制裝置40,可以利用氫生成裝置10專用的裝置,亦可以利用泛用的個人電腦等。
CPU41為實行本實施型態的程式的演算控制裝 置。CPU41使用一個或複數的CPU或是多核的CPU等。CPU41經由匯流排連接構成控制裝置40的硬體各部。
主記憶體42為靜態隨機存取記憶體(SRAM,Static Random Access Memory)、動態隨機存取記憶體(DRAM,Dynamic Random Access Memory)、快閃記憶體等的記憶裝置。於主記憶體42暫時保存CPU41進行的處理的途中需要的資訊以及以CPU41實行中的程式。
輔助記憶裝置43為SRAM、快閃記憶體、硬碟或磁帶等的記憶裝置。於輔助記憶裝置43保存在CPU41實行的程式以及程式的實行必要的各種資訊。
輸入部44例如是鍵盤、觸控板、滑鼠等。輸出部45例如是液晶顯示裝置或有機電致發光(EL)顯示裝置等。輸出部45亦可以進而包括警示燈或擴音器。通信部46為與網路進行通信的界面。
輸入I/F47為CPU41由裝設於氫生成裝置10各處的壓力計51、溫度計52、流量計53以及水位計等的各種感測器取得資料的界面。輸出I/F48為CPU41對裝設於氫生成裝置10各處的閥56、泵57、加熱器58、以及冷卻裝置54等送出控制信號的界面。
第3圖所示為氫產生材料容器31的模式圖。於本實施型態中,圓筒形的氫產生材料容器31以4個並聯連接。於本實施型態中,氫產生材料容器31逐個依序使用,於使用中的氫產生材料容器31變空的情形,開始下一個氫產生材料容器31的使用。
氫生成裝置10的使用者,定期的或是在最後1個氫產生材料容器31的使用開始的情形,將空的氫產生材料容器31以新的氫產生材料容器31交換。尚且,氫產生材料容器31藉由再填充氫產生材料,能夠再使用。
關於氫產生材料31的容量,以供給氫到1kW的燃料電池的情形為例進行說明。1kW的燃料電池,於1分鐘以標準狀態消耗10公升的氫。藉由式(1)所示的化學反應生成氫的情形,以標準狀態生成10公升的氫,使用5.88公克的氫化鎂。
因此,於氫產生材料容器31填充1kg的氫化鎂的情形,可連續使用2.7小時。於第3圖所示4個氫產生材料容器31並聯連接的情形,氫生成裝置10可連續使用10小時以上。藉由將變空的氫產生容器31適當交換,能夠更長時間的連續使用氫生成裝置10。
第4圖所示為1個的氫產生材料容器31的模式斷面圖。使用3圖以及第4圖,說明氫產生材料容器31的構成。
氫產生材料容器31為圓形斷面的中空容器。尚且,氫產生材料容器31的斷面形狀亦可為圓形以外的形狀。氫產生材料容器31於上側包括平板狀的頂板。氫產生材料容器31於向下直徑變小而成的錐部的端部包括連接口38。連接口38連接第1管661。
氫產生材料容器31的內側的下部,與錐部同軸的配置有螺桿32。螺桿32為相同直徑的螺旋狀。螺桿的外徑與連接口38的內徑略相同。
氫產生材料容器31之上固定有馬達33。馬達33的旋轉軸經由貫通氫產生材料容器31的頂板的軸34連接螺桿32。藉由馬達33的旋轉,軸34與螺桿32一體的旋轉。
藉由連接於個別的氫產生材料容器31的上側之第3閥563的開度,控制氫產生材料容器31內部的壓力P1。藉由連接於第1管661的第4閥564的開度,第1管661內部的壓力P2控制為比氫產生材料容器31內部的壓力P1低,比反應容器21內部的壓力P3高。
依照上述,由使用的氫產生材料容器31的上側向下側藉由氫施加壓力,防止氫產生材料容器31中的氫產生材料的向第3閥563側的逆流。
藉由螺桿32的旋轉,螺桿32的螺旋狀的溝與氫產生容器31的內面之間的氫產生材料押出至第1管661。藉由控制馬達33的旋轉,可以控制氫產生材料的押出量。
押出至第1管661的氫產生材料,乘著氫的流動噴射至反應容器21的內部。由於載氣為氫,反應容器21的上部的氣體由氫以及水蒸氣構成。
第5圖所示為沿第1圖的V-V線的反應容器21的模式斷面圖。沿著反應容器21的內壁的切線方向設置的噴射口24連接第1管661。如第1圖以及第5圖的箭頭所示,由噴射口24沿著反應容器21的內壁傾斜向下的與載氣共同噴射氫產生材料。
氫產生材料沿著反應容器21的內壁傾斜向下流動,並與水反應。藉由載氣的流動而攪拌反應容器21內的水, 氫產生材料在水中沒有不均的擴散。尚且,反應容器21亦可以包括複數的噴射口24。
關於以上說明的氫生成裝置10內的物質流動,簡單的進行彙整。水在由水儲槽61經第2管662、噴淋頭23、反應容器21、第4管664、分離槽63以及回送管而返回水儲槽61的通路,以及由水儲槽61經第2管662、噴淋頭23、反應容器21、第3管663、冷卻槽65以及送水管而返回水儲槽61的通路進行循環。
因產生氫之際的化學反應消耗的水以及分離槽63的生成處理的時間延遲等而導致供給噴淋頭23的水不足的情形,由外部適當補給,將反應容器21內的水位維持規定的範圍。
於氫生成裝置10長時間連續運轉之際,將分離槽63的底部沈澱的反應生成物適當的取出並補充水。取出的反應生成物之氫氧化鎂以及氧化鎂,利用於氫化鎂的製造。
反應容器21內運送氫化鎂的載氣,在反應容器21內藉由化學反應產生,經由第2管662、冷卻槽65、送氣管、氫儲槽71、插通管、第2分歧管以及第1管661返回反應容器21。因此,在定常運轉中不需要持續由第1儲存槽73供給載氣,能夠使第1儲存槽73的容量變小。
氫產生材料容器31內的氫產生材料,藉由式(1)或是式(2)的化學反應被消耗。於氫生成裝置10長時間連續運轉的情形,藉由適當的交換內部的氫產生材料變空的氫產生材料容器31,補充氫產生材料。
如同上述說明,本實施型態的氫產生裝置10,藉由進行填充有氫產生材料的氫產生材料容器31的交換,分離槽63內沈澱的反應生成物的去除以及水的補充,能夠長時間連續運轉的生成氫。
氫生成裝置10的各部的壓力,藉由控制裝置40以具有式(7)所示關係的方式進行控制。
P0>P1>P2>P3......(7)
P0為第1儲存槽73內部的壓力。
P1為氫產生材料容器31內部的壓力。
P2為第1管661內部的壓力。
P3為反應容器21內部的壓力。
第6圖所示為程式的處理之流程的流程圖。使用第6圖說明氫生成裝置10的動作。尚且,第6圖所示的程式的開始時點,第1閥561至第6閥566為關閉。而且,氫生成裝置10的內部空間充滿氫,或是成為真空狀態。
CPU41對第1閥561的驅動電路傳送開信號。第1閥561的驅動電路依照接收的開信號開啟第1閥561。藉由第1閥561的開啟,於反應容器21的內部注入水(步驟S501)。
尚且,於下述的說明中,省略第1閥561的驅動電路之動作的記載,而以「CPU41開啟第1閥561並於反應容器21的內部注入水。」此種方式記載,關於第1閥561以外的各閥的驅動電路亦相同。
CPU41基於裝設於反應容器21的水位計等的感測器、或是裝設於第2管662的流量計53的感測器的輸出,判 定為到達比噴射口24高的規定位置為止貯留水。
CPU41對加熱器58的驅動電路發出啟動信號。加熱器58的驅動電路依照接收的啟動信號,啟動加熱器58。藉由加熱器58產生的熱,加熱反應容器21內的水(步驟S502)。
尚且,於下述的說明中,省略加熱器58的驅動電路之動作的記載,而以「CPU41啟動加熱器58,加熱反應容器21內的水。」此種方式記載。
CPU41基於裝設於反應容器21的溫度計52等的感測器的輸出,判定反應容器21內所貯留的水的溫度到達規定溫度。CPU41開啟第2閥562與第3閥563,使用第1儲存槽73內的氫的壓力,將氫產生材料容器31的內部加壓至壓力P1(步驟S503)。
CPU41打開第4閥564,於第1管661使載氣流動。CPU41對馬達33的驅動電路發出驅動信號。馬達33的驅動電路依照接收的驅動信號,使馬達33旋轉。尚且,於以下的說明中,省略馬達33的驅動電路的動作之記載,記載為「CPU41使馬達33旋轉」的方式。
伴隨著馬達33的旋轉,螺桿32旋轉,氫產生材料容器31內的氫產生材料押出至第1管661內,藉由載氣搬送,噴射至反應容器21內。亦即是,CPU41控制馬達33以及各閥56,對反應容器21內噴射氫產生材料(步驟S504)。
CPU41基於反應容器21內部的壓力感測器等取得 的資料,確定生成有規定量的氫(步驟S505)。CPU41藉由關閉第2閥562,開啟第5閥565,切換載氣的管路(步驟S506)。此後,反應容器21所生成的氫的一部份使用於氫產生材料的載氣。
CPU41基於由各感測器取得的資料使氫生成裝置10正常運轉(步驟S507)。對正常運轉時CPU41實行的處理的例子進行說明。
CPU41控制加熱器58的輸出以及第1閥561,將反應容器21保持為規定的溫度。尚且,氫產生材料與水的化學反應為放熱反應。於放熱量充足的情形,CPU41停止加熱器58。進而放熱量多的情形,CPU41打開第1閥561,增加反應容器21內散佈的水量。
化學反應激烈,放熱量非常多的情形,CPU41使冷卻裝置54動作,將反應容器21冷卻至規定的溫度。因藉由噴淋頭23之水的散佈以及冷卻裝置54的動作,反應容器21的溫度充分降低的情形,使用式(1)等所說明的化學反應的速度降低,放熱量變少。
因化學反應所產生的泡沫多的情形,CPU41控制第1閥561並增加由噴淋頭23散佈的水的量以抑制泡沫。
CPU41控制第6閥566,將反應容器21內部的水的量維持規定的量,並將含反應生成物的水取出至分離槽63。由燃料電池等要求增加氫供應量的情形,CPU41控制馬達33增加噴射至反應容器21的氫產生材料的量。由燃料電池等要求減少氫供應量的情形,CPU41控制馬達33減少噴射至反應 容器21的氫產生材料的量。
CPU41於上述正常運轉中週期的確認氫產生材料容器31是否變空(步驟S508)。於判定變空的情形(於步驟508為YES),CPU41將連接於變空的氫產生材料容器31的第3閥563關閉,將連接於新的氫產生材料容器31的第3閥563打開。藉由以上的CPU41的處理,切換氫產生材料容器31(步驟S509)。
CPU41將切換氫產生材料容器31相關的通知輸出至輸出部45(步驟S510)。輸出部45為液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置的情形,顯示表示氫產生材料容器31經交換的畫面。於輸出部45包括警示燈的情形,對應於變空的氫產生材料容器31的警示燈點亮。
CPU41亦可以經由通信部46以及未圖示的網路對管理用的電腦等傳送通知。接收通知的管理用的電腦等,以氫生成裝置10的使用者能夠理解的態樣,輸出所接收的通知的內容。CPU41亦可以在未使用的氫產生材料容器31低於規定數量的情形輸出通知。
在判定為未變空的情形(於步驟S508為NO)或是步驟S510結束後,CPU41基於由各感測器所取得的資料判定氫生成裝置10是否產生異常(步驟S511)。尚且,步驟S511的判定基準預先記憶於主記憶裝置42或輔助記憶裝置43。
在判定產生異常的情形(於步驟S511為YES),CPU41於輸出部45輸出維護要求(步驟S512)。於輸出部45為液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置的情形,顯示表示氫生成 裝置10產生異常的畫面。輸出部45包括警示燈的情形,對應於氫生成裝置10的異常發生的警示燈點亮。
CPU41亦可以經由通信部46以及未圖示的網路對管理用的電腦等傳送通知。接收通知的管理用的電腦等,以氫生成裝置10的使用者能夠理解的態樣,輸出所接收的通知的內容。
CPU41基於各感測器所取得的資料判定氫生成裝置10是否能夠繼續安全的運轉(步驟S513)。在判定能夠繼續的情形(於步驟S513為YES)以及判定未產生異常的情形(於步驟S511為NO),CPU41返回步驟S507。
在判定不可能繼續的情形(於步驟S513為NO),CPU41停止氫生成裝置10的動作(步驟S514)。具體而言,CPU41例如是能夠藉由馬達33的停止、加熱器58的停止、關閉第2閥562、第3閥563、第4閥564以及第5閥565所致的載氣的停止,停止反應容器21內部的化學反應。
化學反應停止後,CPU41關閉第1閥561以及第6閥566,水的循環亦停止。冷卻裝置54運作中的情形,CPU41亦停止冷卻裝置54。藉由上述處理,氫生成裝置10停止運作。其後,CPU41結束處理。
尚且,於流程圖省略說明,但泵57、壓縮機59、冷卻槽65等主動的動作的氫生成裝置10的各構成要素,亦個別的經由驅動電路而藉由CPU41控制。
依照本實施型態,能夠提供能夠長時間連續運轉的氫生成裝置10。依照本實施型態,由於載氣使用氫,能夠提 供生成純度高的氫之氫生成裝置10。
依照本實施型態,由於使水與載氣循環使用,不連接外部的自來水管,能夠提供能夠獨立運轉的氫生成裝置10。依照本實施型態,能夠提供能夠自動運轉的氫生成裝置10。
依照本實施型態,能夠提供藉由交換氫產生材料容器31,而能夠長時間運轉的氫生成裝置10。依照本實施型態,由於反應生成物的再處理以及氫產生材料容器31的再使用為可能,能夠提供環境負荷少的氫生成裝置10。
[實施型態2]
本實施型態是關於使用錐狀螺桿32的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第7圖所示為實施型態2的氫產生材料容器31的模式斷面圖。螺桿32為沿著氫產生材料容器31下部的內面尖端漸細的錐形之螺桿。
依照本實施型態,由於螺桿32與氫產生材料容器31的內面接觸的部分長,由兩者的間隙漏出氫產生材料的情形少。因此,CPU41能夠正確的控制氫產生材料的供給量。
[實施型態3]
本實施型態是關於使用具有階梯形狀的氫產生材料容器31的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第8圖所示為實施型態3的氫產生材料容器31的模式斷面圖。螺桿32與使用第4圖所說明的實施型態1的螺桿32相同,為具有相同直徑的螺旋狀,氫產生材料容器31為 階梯的略圓筒狀,下部的內徑與螺桿32的外形略相同。
依照本實施型態,由於螺桿32與氫產生材料容器31的內面接觸的部分長,由兩者的間隙漏出氫產生材料的情形少。因此,CPU41能夠正確的控制氫產生材料的供給量。進而,由於螺桿32的直徑相同,製造容易。
[實施型態4]
本實施型態是關於使用噴射泵36而由氫產生材料容器31取出氫產生材料的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第9圖所示為實施型態4的氫產生材料容器31的模式斷面圖。氫產生材料容器31的底部設置有底圓筒狀或溝狀的連接口38。由第1管661分歧的第1支管681連接於噴射泵36。由噴射泵36至連接口38連接有第2支管682。由連接口38的相反側至第1管661的下游側連接有第3支管683。
第2支管682以及第3支管683藉由未圖示的接合部件,與連接口38可裝卸。因此,連接口38經由第1支管681、噴射泵36、第2支管682以及第3支管683而於第1管661可裝卸。
連接口38與第2支管682的邊界,覆蓋有具有不使氫產生材料通過的尺寸之開口的網。連接口38與第3支管683的邊界,覆蓋有施加強壓力的情形氫產生材料通過的網、亦即是具有與氫產生材料的粒徑同程度之開口的網。
噴射泵36經由第1支管681送入氫,間歇的將高 壓的氫送出至第2支管682。因壓力通過網的氫產生材料經由第3支管683進入第1管661,藉由載氣搬送而噴射至反應容器21內。
依照本實施型態,由於氫產生材料容器31的結構單純,能夠輕量化。
[實施型態5]
本實施型態是關於藉由重力以及壓力差而由氫產生材料容器31取出氫產生材料的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第10圖所示為實施型態5的氫產生材料容器31的模式斷面圖。氫產生材料容器31的底部與第1管661藉由圓筒狀的連接口38連接。連接口38具有第7閥567。第7閥567藉由CPU41控制。
CPU41藉由打開第7閥567,藉由重力以及經由第3閥563供給的氫的壓力,將氫產生材料送入至第1管661,藉由載氣搬送而噴射至反應容器21內。
依照本實施型態,由於氫產生材料容器31的結構單純,能夠輕量化。進而依照本實施型態,由於不需要噴射泵36,能夠提供構造簡單而維護容易的氫生成裝置10。
[實施型態6]
本實施型態是關於再利用氫供給處生成的水的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第11圖所示為實施型態6的氫生成裝置10的模式圖。氫儲槽71經由氫放出管75連接燃料電池80。燃料電池 80經由第5管665以及未圖示的泵連接水儲槽61。
燃料電池的內部藉由下式的化學反應以氫作為燃料而進行發電,於正極生成水。
【化3】負極側:2H2→4H++4e-......(8) 正極側:O2+4H++4e-→2H2O......(9)
e-表示電子。
正極生成的水經由第5管665流入水儲槽61,並經由第2管662供給噴淋頭23。
依照本實施型態,能夠提供將燃料電池80生成的水回收,使用於使用式(1)等而說明的氫產生材料的水解之氫生成裝置10。因此,能夠節約由外部補充的水的量,能夠提供環境負荷低的氫生成裝置10。
[實施型態7]
本實施型態是關於噴淋頭23亦供給氫產生材料的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第12圖所示為實施型態7的氫生成裝置10的模式圖。噴淋頭23於途中經由第1閥561以及包括未圖示的加壓泵的第2管662,連接懸浮容器81。
懸浮容器81經由途中包括第9閥569之第6管666,連接水儲槽61。進而懸浮容器81經由途中具有供給閥83的供給管84連接第2氫產生材料容器85。
懸浮容器81的上部固定有馬達823,固定於馬達823的旋轉軸824突出至懸浮容器81的內部,前端固定有葉輪 825。藉由馬達823的旋轉,葉輪825旋轉並攪拌懸浮容器81的內部。馬達823、旋轉軸824以及葉輪825為攪拌懸浮容器81內的液體之攪拌器82的一例。
於懸浮容器81的外側裝設有第2冷卻裝置542。第2冷卻裝置542為藉由水冷或空冷而冷卻懸浮裝置81的裝置。懸浮容器81的溫度高於規定溫度的情形,第2冷卻裝置54動作並冷卻懸浮容器81。
規定的溫度例如是懸浮容器81內的懸浮液的溫度成為0℃以上且20℃以下的範圍之溫度。懸浮液的溫度更佳成為0℃以上且15℃以下的範圍。懸浮液的溫度更佳成為攝氏5℃以上且10℃以下的範圍。藉由將懸浮容器81保持為低溫,能夠防止於懸浮容器81的內部氫產生材料與水反應而產生氫。
例如是,氫儲槽71、第1儲存槽73或是第2儲存槽74的壓力降低的情形,打開供給閥83,將氫產生材料供給至懸浮容器81內。藉由攪拌器82於懸浮容器81內攪拌,氫產生材料成為於水中分散的懸浮液。噴淋頭23於反應容器21內散佈懸浮液。
懸浮容器81內的懸浮液的濃度藉由供給閥83以及第9閥569控制。供給閥83為關閉狀態持續一定期間之後,懸浮容器81內的液體成為水。於反應容器21散佈的懸浮液或水的量,藉由第1閥561控制。
尚且,氫生成裝置10亦可以由水儲槽61不經由懸浮容器81而供給水至反應容器21,亦即是亦可以具有分路(bypass)管路。
依照本實施型態,由於除了由第1管661的噴射之外亦能夠由噴淋頭23對反應容器21內供給氫產生材料,因此能夠提供因應需要而大幅增加氫產生量的氫生成裝置10。
尚且,本實施型態的氫生成裝置10亦可以不包括第1儲存槽73。在氫生成裝置10的啟動時,由噴淋頭23供給反應容器21的懸浮液中的氫產生材料所產生的氫貯留於氫儲槽71。氫儲槽71的壓力變得充分高之後,能夠經由第1管661將氫產生材料噴射至反應容器21內。
[實施型態8]
本實施型態是有關於在反應容器21的上部直接連接第2管672的氫生成裝置10。與實施型態1共通的部分省略說明。
第13圖所示為實施型態8的氫生成裝置10的模式圖。反應容器21在途中經由包括第1閥561的第2管662而連接水儲槽61。干擾板22在第2管662的開口部的正下方的位置具有孔。
經由第2管662供給水至反應容器21內。反應容器21內所貯留的水藉由從第2管662的開口部所落下的水勢而攪拌。尚且第1閥561藉由重複開狀態與閉狀態,效率良好的攪拌反應容器21的內部。
第2管662亦可以分支為複數的管而連接反應容器21。藉由從複數的開口部將水落下至反應容器21內,能夠防止反應容器21內的水以及氫產生材料的濃度的不均。
如依本實施型態,能夠提供構成簡單而容易維護的氫生成裝置10。
各實施例所記載的技術特徵(構成要件)能夠互相組合,並藉由組合而能夠形成新的技術特徵。
本次所揭示的實施型態的所有事項為例示,應被認為不造成限制。本發明的範圍的意圖為不是上述的含意,而是包含申請專利範圍所揭示、與申請專利範圍均等的含意以及範圍內的所有的變更。

Claims (14)

  1. 一種氫生成裝置,包括:噴淋頭,於反應容器的內部散佈水;第1管,將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至前述反應容器的內部;以及第3管,連接於前述反應容器的上部,使藉由前述噴淋頭供給而貯留於前述反應容器內的水與藉由前述第1管供給的前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的氫生成裝置,其中包括設置在前述反應容器和前述第3管的連接部、與前述噴淋頭之間的干擾板。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的氫生成裝置,其中前述第1管使用由前述第3管流出的氫作為載氣。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的氫生成裝置,其中前述第1管沿著前述反應容器的內壁噴射前述氫產生材料。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的氫生成裝置,其中包括氫產生材料容器,前述氫產生材料容器收容前述氫產生材料,並具有可裝卸的連接於前述第1管的連接口。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的氫生成裝置,其中前述氫產生材料容器具有藉由旋轉而將前述氫產生材料送至前述第1管內的螺桿。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的氫生成裝置,其中包括分離槽,前述分離槽將設置於前述反應容器的下部的排水口所排出的水與反應生成物分離, 前述噴淋頭散佈以前述分離槽分離的水。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的氫生成裝置,其中前述氫產生材料為氫化鎂。
  9. 如申請專利範圍第1至8項的其中一項所述的氫生成裝置,其中包括第5管,前述第5管使藉由消耗前述第3管所流出的氫之燃料電池所生成的水流入,由前述第5管流入的水供給至前述噴淋頭。
  10. 一種氫生成方法,包括:在反應容器的內部散佈水;經由與前述反應容器連接的第1管,將粉狀的氫產生材料與氫供給至前述反應容器內;以及藉由連接於前述反應容器的上部的第3管,使藉由前述反應容器內貯留的水與前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
  11. 一種氫生成裝置,包括:噴淋頭,於反應容器的內部散佈氫產生材料於水中懸浮的懸浮液;以及第3管,連接於前述反應容器的上部,使藉由前述噴淋頭供給而貯留於前述反應容器的前述水與前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的氫生成裝置,其中包括第1管,將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至前述反應容器的內部。
  13. 一種氫生成裝置,包括: 第1管,將氫用於載氣並將粉狀的氫產生材料供給至反應容器的內部;第2管,供給水至前述反應容器的內部;以及第3管,連接於前述反應容器的上部,使藉由前述第2管供給而貯留於前述反應容器內的水與藉由前述第1管供給的前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
  14. 一種氫生成方法,包括:在反應容器的內部散佈粉狀的氫產生材料於水中懸浮的懸浮液;以及藉由連接於前述反應容器的上部的第3管,使藉由經散佈的前述反應容器內貯留的前述水與前述氫產生材料的反應所生成的氫流出。
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