TW201829423A - Ｊａｎｕｓ激酶抑制劑之結晶型 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關Janus激酶(JAK)抑制劑3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)之結晶型，及其組成物、其製備方法、其用途、及其定量方法。

Description

JANUS激酶抑制劑之結晶型
本發明係有關Janus激酶(JAK)抑制劑3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)之結晶型，及其組成物、其製備方法、其使用方法、與其定量方法。
當前已注意到Janus激酶(JAK)抑制劑可以治療各種不同疾病，包括自體免疫疾病、發炎疾病、與癌症。目前，美國食品藥物檢驗局(FDA)已核准兩種JAK抑制劑。魯索利替(Ruxolitinib)已核准用於治療原發性骨髓纖維化與真性紅血球增生症(PV)，及托法替尼(tofacitinib)已核准用於治療類風濕關節炎。其他JAK抑制劑出現在文獻中。化合物3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)(參見下文結構式)為美國專利公開案案號2011/0136778與國際專利公開案案號PCT/JP2016/070046報告之螺環JAK抑制劑實施例。
藥物化合物如，例如：化合物A，通常係與其他醫藥上可接受之成份組合形成適合投藥給患者之組成物。固體調配物經常要求藥物化合物具有可操作之固態特徵，如：對熱與濕度之安定性、容易操作、及其他協助製備固體劑型之特徵。因此，依然需要現有之藥物分子呈固體型式。本文所說明化合物A之結晶型即與此目的有關。
本發明特別有關結晶型β與γ之3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)。
本發明進一步有關一種組成物，其包含α型與β型或γ型或二者。
本發明進一步有關一種醫藥組成物，其包含一或多種本發明結晶型或組成物。
本發明進一步有關一種製備本發明結晶型之方法。
本發明進一步有關一種定量本發明結晶型之方法。
本發明進一步有關一種抑制Janus激酶之方法，其包 括使本發明結晶型與Janus激酶接觸。
本發明進一步有關一種為患者治療或預防疾病之方法，其包括對該患者投與醫療有效量之本發明之結晶型或組成物。
本發明進一步有關一種本發明之結晶型或組成物，其用於預防或治療。
本發明進一步有關一種以本發明之結晶型或組成物於製備用於治療或預防之醫藥上之用途。
[第1圖]
第1圖出示符合α型之XRPD圖型。
[第2圖]
第2圖出示符合β型之XRPD圖型。
[第3圖]
第3圖出示符合γ型之XRPD圖型。
[第4圖]
第4圖出示符合α型之DSC熱像圖。
[第5圖]
第5圖出示符合β型之DSC熱像圖。
[第6圖]
第6圖出示符合γ型之DSC熱像圖。
[第7圖]
第7圖出示符合α型之TG-DTA數據。
[第8圖]
第8圖出示符合β型之TG-DTA數據。
[第9圖]
第9圖出示符合γ型之TG-DTA數據。
[第10圖]
第10圖出示符合α型之固態13C NMR數據。
[第11圖]
第11圖出示符合β型之固態13C NMR數據。
[第12圖]
第12圖出示符合γ型之固態13C NMR數據。
[第13圖]
第13圖出示得自包含0、2、5、與10% β型之化合物A之標準樣本之重疊XRPD圖型(參見實施例4)。
[第14圖]
第14圖出示得自包含0、2、5、與10% γ型之化合物A之標準樣本之重疊XRPD圖型(參見實施例4)。
[第15圖]
第15圖中，從底部依序出示實施例6中，所使用之α型化合物A、所使用之β型化合物A、攪拌前之α與β型化合物A之1：1重量比混合物、及攪拌後所得結晶之XRPD圖型。
[第16圖]
第16圖從底部依序出示實施例7中，所使用之α型化合物A、所使用之γ型化合物A、攪拌前之α與γ型化 合物A之1：1重量比混合物、及攪拌後所得結晶之XRPD圖型。
[第17圖]
第17圖從底部依序出示實施例8中，所使用之γ型化合物A、所使用之β型化合物A、攪拌前之β與γ型化合物A之1：1重量比混合物、從甲醯胺中得到之結晶、從N,N-二甲基甲醯胺中得到之結晶、及從二甲亞碸中得到之結晶之XRPD圖型。
本發明除其他者外係特別提供一種結晶型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈，其係Janus激酶(JAK)之抑制劑，且適用於治療與Janus激酶上調或過度表現有關之各種不同疾病。有些具體例中，本發明結晶型抑制JAK3。有些具體例中，本發明結晶型抑制JAK2。
本發明一項態樣如下。
[第1項]一種3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之結晶型，其具有β型。
[第2項]第1項之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含一特徵峰，該特徵峰以2θ(°)表示時，為約11.8。
[第3項]第1項之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含二個或更多個特徵峰，該等特徵峰 以2θ(°)表示時係選自約10.5、約11.8、約19.3、與約22.0者。
[第4項]第1項之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約7.8、約10.5、約11.8、約13.4、約13.9、約17.8、約19.3、約22.0、約23.6、與約28.0者。
[第5項]如第1至4項中任一項之結晶型，其具有之DSC熱像圖之特徵在於在約186℃之吸熱峰。
[第6項]如第1至5項中任一項之結晶型，其具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少一個在約165.1ppm之峰。
[第7項]如第1至5項中任一項之結晶型，其具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少5個選自下列者之峰：約16.5、約25.8、約26.5、約33.1、約34.8、約36.7、約38.8、約48.2、約53.4、約77.7、約79.5、約101.2、約102.6、約117.5、約120.6、約151.1、約154.3、與約165.1ppm。
[第8項]如第1至7項中任一項之結晶型，其具有之空間群P1具有下列晶胞參數：
[第9項]如第1至8項中任一項之結晶型，其純度為至少約50%。
[第10項]如第1至8項中任一項之結晶型，其純度為至少約75%。
[第11項]如第1至8項中任一項之結晶型，其純度為至少約85%。
[第12項]如第1至8項中任一項之結晶型，其純度為至少約90%。
[第13項]如第1至8項中任一項之結晶型，其純度為至少約95%。
[第14項]一種3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之結晶型，其具有γ型。
[第15項]如第14項之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含一特徵峰，該特徵峰以2θ(°)表示時為約16.5。
[第16項]如第14項之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含二個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約16.5、約17.7、約21.4、約21.8、與約23.1者。
[第17項]如第14項之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約7.7、約10.6、約13.3、約13.9、約15.5、約16.5、約17.7、約17.9、約19.0、約21.4、約21.8、與約23.1、約23.7、與約28.1者。
[第18項]如第14至17項中任一項之結晶型，其具有之DSC熱像圖之特徵在於在約196℃之吸熱峰。
[第19項]如第14至18項中任一項之結晶型，其具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少一個在約162.9ppm之峰。
[第20項]如第14至19項中任一項之結晶型，其具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少5個選自下列者之峰：約16.9、約26.5、約32.9、約36.4、約48.1、約53.7、約78.6、約102.6、約116.4、約117.9、約121.5、約151.8、約154.6、與約162.9ppm。
[第21項]如第14至20項中任一項之結晶型，其具有空間群P21具有下列晶胞參數：
[第22項]如第14至21項中任一項之結晶型，其純度為至少約50%。
[第23項]如第14至21項中任一項之結晶型，其純度為至少約75%。
[第24項]如第14至21項中任一項之結晶型，其純度為至少約85%。
[第25項]如第14至21項中任一項之結晶型，其純度為至少約90%。
[第26項]如第14至21項中任一項之結晶型，其純度為至少約95%。
[第27項]一種製備如第1至13項中任一項之結晶型之方法，其包括將3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈從溶劑結晶。
[第28項]如第27項之方法，其中該溶劑包含1-丁醇與乙腈。
[第29項]如第28項之方法，其中1-丁醇與乙腈之比例為約1：3(v/v)。
[第30項]一種結晶型β，其係由如第27至29項中任一項之方法製備者。
[第31項]一種製備如第14至26項中任一項之結晶型之方法，其包括將3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之α型轉化成γ型。
[第32項]如第31項之方法，其包括將α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈於二甲基甲醯胺(DMF)中攪拌。
[第33項]如第31項之方法，其包括將α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈於甲醯胺中攪拌。
[第34項]一種結晶型γ，其係由如第31至33項中任一項之方法製備。
[第35項]一種包含α型與β型結晶3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之組成物。
[第36項]如第35項之組成物，其基本上由α型與β型組成。
[第37項]如第35或36項之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約50% w/w。
[第38項]如第35或36項之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約20% w/w。
[第39項]如第35或36項之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約10% w/w。
[第40項]如第35或36項之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約5% w/w。
[第41項]如第35至40項中任一項之組成物，其更包含γ型。
[第42項]一種包含β型與γ型結晶3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之組成物。
[第43項]如第42項之組成物，其基本上由β型與γ型組成。
[第44項]如第42或43項之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約50% w/w。
[第45項]如第42或43項之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約20% w/w。
[第46項]如第42或43項之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約10% w/w。
[第47項]如第42或43項之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約5% w/w。
[第48項]如第42至47項中任一項之組成物，其更包含α型。
[第49項]一種醫藥組成物，其包含如第1 至48項中任一項之結晶型或組成物，與醫藥上可接受之載劑。
[第50項]如第49項之醫藥組成物，其更包含第二醫療劑。
[第51項]如第49或50項之醫藥組成物，其適合經口、非經腸式、肺部、局部、或外用投藥。
[第52項]如第49或50項之醫藥組成物，其適合外用投藥。
[第53項]如第49或50項之醫藥組成物，其係呈錠劑、膠囊、丸劑、粉末、或油膏之型式。
[第54項]如第49或50項之醫藥組成物，其係呈粉末型式，該粉末型式適合於液體中再組成，供IV、IM、或SC投藥。
[第55項]如第49或50項之醫藥組成物，其包含白色軟石蠟、硬石蠟、角鯊烯、或其混合物。
[第56項]一種抑制Janus激酶之方法，其包括使Janus激酶與如第1至55項中任一項之結晶型或組成物接觸。
[第57項]如第56項之方法，其中該Janus激酶為Janus激酶3(JAK3)。
[第58項]如第56項之方法，其中該Janus激酶為Janus激酶2(JAK2)。
[第59項]一種治療或預防選自下列之疾病之方法：器官移植排斥、移植後移植物對抗宿主之反應、 自體免疫疾病、過敏性疾病、與慢性骨髓增生性疾病，該方法包括對哺乳動物投與醫療有效量之如第1至55項中任一項之結晶型或組成物。
[第60項]一種治療或預防類風濕關節炎、乾癬、圓禿、乾眼病、異位性皮膚炎、濕疹、或手部濕疹之方法，其包括對哺乳動物投與醫療有效量之如第1至55項中任一項之結晶型或組成物。
[第61項]如第1至55項中任一項之結晶型或組成物，其係用為醫藥活性成份。
[第62項]如第1至55項中任一項之結晶型或組成物，其係用於治療或預防器官移植排斥、移植後移植物對抗宿主之反應、自體免疫疾病、過敏性疾病、或慢性骨髓增生性疾病。
[第63項]如第1至55項中任一項之結晶型，其用於治療或預防類風濕關節炎、乾癬、圓禿、乾眼病、異位性皮膚炎、濕疹、或手部濕疹。
[第64項]一種在製備α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈時測定β型存在量之方法，其包括測定屬於β型特徵之XRPD峰之峰面積，並將該峰面積與標準物之比較。
[第65項]如第64項之方法，其中該β型之特徵峰出現在約10.6° 2-θ。
[第66項]一種在製備α型3-((3S,4R)-3- 甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈時測定γ型存在量之方法，其包括測定屬於γ型特徵之XRPD峰之峰面積，並將該峰面積與標準物比較。
[第67項]如第66項之方法，其中該γ型特徵峰出現在約16.6° 2-θ。
本文所採用「結晶型」意指結晶物質之某種晶格組態。相同物質之不同結晶型通常具有不同結晶晶格(例如：晶胞)及因其不同結晶晶格造成之不同物理性質，有些例子中，具有不同的水或溶劑含量。可採用固態特徵法，如X-射線粉末繞射(XRPD)，判別不同結晶晶格。其他特徵法，如差示掃描量熱法(DSC)、熱重力分析法(TGA)、動態蒸氣吸附法(DVS)、固態NMR，與類似方法可進一步協助判別結晶型並協助決定安定性及溶劑/水含量。
特定物質之不同結晶型可包括該物質之無水物型及該物質之溶劑合物/水合物型，其中各無水物型及溶劑合物/水合物型係以不同XRPD圖型彼此區分，藉以代表不同結晶晶格。有些例子中，單一結晶型(例如，由獨特XRPD圖型判別)可具有可變化之水或溶劑含量，其中儘管組成相關於水與/或溶劑變化，但晶格仍保持實質上不變(XRPD圖型亦然)。
反射(峰)之XRPD圖型通常視為特定結晶型之指紋。已知XRPD峰之相對強度特別可取決於樣本製 備技術、結晶大小分佈、樣本放置過程、及所採用之特定儀器而變化。有些例子中，可能觀察到新峰，或現有之峰可能消失，取決於機器型態或設定值而定(例如，是否使用Ni濾器)。此外，儀器變異與其他因素會影響2-θ值。因此，在本文中報告者，峰屬性可能變化±0.2°、±0.1°或±0.04°(2-θ)，且本文中XRPD之說明中所採用術語「實質上」意指包括上述變異。
依相同方式，與DSC、TGA、或其他熱實驗相關之溫度讀數會變化約±3℃，取決於儀器、特定設定、樣本製備等等而定。因此，溫度值，如本文所報告之彼等溫度值，會變化±3℃，且咸了解，本文所報告具有「實質上」如任一圖式所示DSC熱像圖或其他熱像圖之結晶型亦適用此等變化。
此外，13C NMR光譜中之化學位移會變化±0.2ppm，本文之NMR數據之說明中所採用術語「實質上」意指包括此變異。
β型
本發明提供一種具有β型之結晶型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)。由例如DSC與TG-DTA證實，咸信該對應於β型之結晶型為無水物(參見實施例2)。有些具體例中，β型具有之X-射線粉末繞射圖型係包含一特徵峰，該特徵峰以2θ(°)表示時為約11.8。另一項具 體例中，β型具有之X-射線粉末繞射圖型包含二個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約10.5、約11.8、約19.3、與約22.0者。再另一項具體例中，β型具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約7.8、約10.5、約11.8、約13.4、約13.9、約17.8、約19.3、約22.0、約23.6、與約28.0者。再另一項具體例中，β型具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自表2-1所列之任何峰(參見實施例2)者。再另一項具體例中，β型具有實質上如第2圖所示之XRPD圖型。
有些具體例中，β型具有之DSC熱像圖之特徵在於在約186℃之吸熱峰。有些具體例中，β型具有之DSC熱像圖之特徵在於外插得到起始溫度為約185℃。再另一項具體例中，β型具有實質上如第5圖所示之DSC熱像圖。
有些具體例中，β型具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少一個在約165.1ppm之峰。另一項具體例中，β型具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少5個選自下列者之峰：約16.5、約25.8、約26.5、約33.1、約34.8、約36.7、約38.8、約48.2、約53.4、約77.7、約79.5、約101.2、約102.6、約117.5、約120.6、約151.1、約154.3、與約165.1ppm。再另一項具體例中，β型具有實質上如第11圖所示之13C NMR光譜。
有些具體例中，β型具有之空間群P1具有 下列晶胞參數： 其係由單晶X-射線繞射測定(參見實施例5)。
β型可具有純度為至少約50%、至少約75%、至少約85%、至少約90%、或至少約95%。有些具體例中，β型係實質上純的。
β型可將3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)從溶劑中結晶製得。例如，化合物A(例如，α型)可與溶劑組合形成溶液或漿液，從其中得到β型結晶。有些具體例中，該溶劑包括腈類，如乙腈、或1-丁醇與乙腈之混合物。有些具體例中，該溶劑包含分別約1：3(v/v)之1-丁醇與乙腈。有些具體例中，化合物A可與溶劑組合，加熱溫度至約30至約50℃之間。有些具體例中，混合物可加熱至約35至約45℃之間，或至約40℃。加熱後，混合物可以冷卻，如至約室溫(例如：約23℃)，提供β型結晶產物。
本發明進一步提供一種由上述任一種方法製備之β型。
γ型
本發明亦提供一種具有γ型之結晶型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)。由例如：DSC與TG-DTA證實，咸信該對應於γ型之結晶型為無水物(參見實施例3)。有些具體例中，γ型具有之X-射線粉末繞射圖型包含一特徵峰，該特徵峰以2θ(°)表示時為約16.5。另一項具體例中，γ型具有之X-射線粉末繞射圖型包含二個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約16.5、約17.7、約21.4、約21.8、與約23.1者。再另一項具體例中，γ型具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約7.7、約10.6、約13.3、約13.9、約15.2、約16.5、約17.7、約17.9、約19.0、約21.4、約21.8、與約23.1、約23.7、與約28.1者。再另一項具體例中，γ型具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等以2θ(°)表示時係選自表3-1所列之任何峰(參見實施例3)者。再另一項具體例中，γ型具有實質上如第3圖所示之XRPD圖型。
有些具體例中，γ型具有之DSC熱像圖之特徵在於在約196℃之吸熱峰。有些具體例中，γ型具有之DSC熱像圖之特徵在於外插得到起始溫度為約196℃。再 另一項具體例中，γ型具有實質上如第6圖所示之DSC熱像圖。
有些具體例中，γ型具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少一個在約162.9ppm之峰。另一項具體例中，γ型具有之固態13C NMR光譜之特徵在於至少5個選自下列者之峰：約16.9、約26.5、約32.9、約36.4、約48.1、約53.7、約78.6、約102.6、約116.4、約117.9、約121.5、約151.8、約154.6、與約162.9ppm。再另一項具體例中，γ型具有實質上如第11圖所示之13C NMR光譜。
有些具體例中，γ型具有之空間群P21具有下列晶胞參數： 其係由單晶X-射線繞射測定(參見實施例5)。
γ型可具有純度為至少約50%、至少約75%、至少約85%、至少約90%、或至少約95%。有些具體例中，γ型係實質上純的。
γ型可由α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯 并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈轉化成γ型製得。進行該轉化可藉由例如，將α型於二甲基甲醯胺(DMF)中攪拌。該攪拌可在例如，室溫下進行。或者，γ型可藉由組合化合物A與甲醯胺，且添加γ型晶種而製備。該製備可於室溫下，及可視需要在惰性蒙氣如氮氣下進行。
本發明進一步提供一種由上述任一種方法製備之γ型。
組成物
除了β型與γ型外，化合物A可以製成及得到無水結晶型α，其說明於實施例1。因此，本發明提供化合物A之二種或更多種α型、β型、與γ型之混合物。
有些具體例中，本發明提供一種同時包含α型與β型結晶型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)之組成物。有些具體例中，β型之存在量相對於α型為約1至約50% w/w。另一項具體例中，β型之存在量相對於α型為約1至約20% w/w。再另一項具體例中，β型之存在量相對於α型為約1至約10% w/w。及再另一項具體例中，β型之存在量相對於α型為約1至約5% w/w。有些具體例中，該組成物包含α型與β型且實質上沒有化合物A之其他結晶型。另一項具體例中，該包含α型與β型之組成物更包含γ型。有些具體例中，該組成物基本上由 α型與β型組成。
此外，本發明提供一種同時包含β型與γ型兩種結晶型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)之組成物。有些具體例中，γ型之存在量相對於β型為約1至約50% w/w。另一項具體例中，γ型之存在量相對於β型為約1至約20% w/w。再另一項具體例中，γ型之存在量相對於β型為約1至約10% w/w。及再另一項具體例中，γ型之存在量相對於β型為約1至約5% w/w。有些具體例中，該組成物包含β型與γ型，且實質上沒有化合物A之其他結晶型。另一項具體例中，該包含β型與γ型之組成物更包含α型。有些具體例中，該組成物基本上由β型與γ型組成。
本發明進一步提供一種包含β型或γ型與一或多種其他物質之組成物。有些具體例中，該組成物包含以重量計至少約50%、至少約70%、至少約80%、至少約90%、至少約95%、至少約97%、至少約98%、或至少約99%之β型或γ型。
分析方法
本發明提供一種在製備α型時測定β型存在量之方法，其包括測定β型特徵之XRPD峰之峰面積，並將該峰面積與標準物比較。有些具體例中，β型之特徵峰出現在約10.6° 2-θ。標準物可為從α型中已知量β型之峰面積計 算之標準曲線。同樣地，本發明提供一種在製備α型時測定γ型存在量之方法，其包括測定γ型特徵之XRPD峰之峰面積，並將該峰面積與標準物比較。有些具體例中，γ型之特徵峰出現在約16.6° 2-θ。標準物可為從α型中已知量γ型之峰面積計算之標準曲線。
醫藥組成物與用途
本發明結晶型可製成包含本發明結晶型、或本發明組成物，及至少一種醫藥上可接受之載劑(或賦形劑)之醫藥組成物。一項具體例中，該醫藥組成物適合經口、非經腸式、肺部、局部、或外用投藥。有些具體例中，該醫藥組成物係呈口服製劑型式，如錠劑、膠囊、粒劑、粉末、口含錠、糖漿、乳液、懸浮液，或非經腸式製劑，如外用製劑、栓劑、注射劑、滴劑、鼻用藥、肺部用藥。有些具體例中，醫藥組成物適合外用施用，如油膏。
本發明醫藥組成物可依據製藥領域已知之方法，藉由混合適量之一種或更多種本發明結晶型、或本發明組成物、與至少一種或更多種醫藥上可接受之載劑而製備。醫藥組成物中之化合物A的量取決於其劑型、劑量等等而定，且可例如為以重量計為組成物之約0.1至100%。本發明之醫藥組成物可呈例如，錠劑、膠囊、丸劑、粉末、或油膏型式。有些具體例中，本發明之醫藥組成物可呈適合於液體中再組成供靜脈內(IV)、肌內(IM)、或皮下(SC)投藥之粉末型式。此外，本發明之醫藥組成物可更 包含第二醫療劑。
「醫藥上可接受之載劑」包括各種不同常用於醫藥材料之有機或無機載劑物質，例如，用於固體製劑之稀釋劑、崩解劑、結合劑、流化劑與潤滑劑，用於液體製劑之溶劑、溶解劑、懸浮劑、等滲劑、緩衝劑、與緩和劑，及用於半固體製劑之基質、乳化劑、保濕劑、安定劑(stabilizer)、穩定劑(stabilizing agent)、分散劑、塑化劑、pH調節劑、促進吸收劑、膠凝劑、抗菌劑、填料、消解劑(resolvent)、溶解劑、與懸浮劑。此外，若需要時可添加添加劑，包括防腐劑、抗氧化劑、著色劑、與甜味劑。
稀釋劑實施例包括乳糖、蔗糖、D-甘露糖醇、D-山梨糖醇、玉米澱粉、糊精、微晶纖維素、結晶纖維素、羧甲基纖維素、羧甲基纖維素鈣、羧甲基澱粉鈉、低取代之羥丙基纖維素、阿拉伯膠等等。
崩解劑實施例包括羧甲基纖維素、羧甲基纖維素鈣、羧甲基纖維素鈉、羧甲基澱粉鈉、交聯羧甲基纖維素鈉、交聚維酮(crospovidone)、低取代之羥丙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、結晶纖維素等等。
結合劑實施例包括羥丙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、聚維酮(povidone)、結晶纖維素、蔗糖、糊精、澱粉、明膠、羧甲基纖維素鈉、阿拉伯膠等等。
流化劑實施例包括輕無水矽酸、硬脂酸鎂等等。
潤滑劑實施例包括硬脂酸鎂、硬脂酸鈣、 滑石等等。
溶劑介質實施例包括純水、乙醇、丙二醇、聚乙二醇、芝麻油、玉米油、橄欖油等等。
溶解劑實施例包括丙二醇、D-甘露糖醇、苯甲酸苯甲基酯、乙醇、三乙醇胺、碳酸鈉、檸檬酸鈉等等。
懸浮劑實施例包括苯扎氯銨(benzalkonium chloride)、羧甲基纖維素、羥丙基纖維素、丙二醇、聚維酮、甲基纖維素、單硬脂酸甘油酯等等。
等滲劑實施例包括葡萄糖、D-山梨糖醇、氯化鈉、D-甘露糖醇等等。
緩衝劑實施例包括磷酸氫鈉、乙酸鈉、碳酸鈉、檸檬酸鈉等等。
緩和劑實施例包括苯甲基醇等等。
防腐劑實施例包括對氧苯甲酸乙酯、氯丁醇、苯甲基醇、脫氫乙酸鈉、山梨酸等等。
抗氧化劑實施例包括亞硫酸鈉、抗壞血酸等等。
著色劑實施例包括食用色素(例如，食用色素紅色2號或3號、食用色素黃色4號或5號等等)、β-胡蘿蔔素等等。
甜味劑實施例包括糖精鈉、甘草酸二鉀、阿斯巴甜(aspartame)等等。
本發明醫藥組成物可經口或非經腸式(例 如，局部、經直腸、經靜脈內等等)對患者，如非人類哺乳動物(例如，小鼠、大鼠、倉鼠、天竺鼠、兔、貓、狗、豬、牛、馬、羊、猴等等)或人類投與醫療有效量，供治療或預防疾病。術語「哺乳動物」意指包括人類與非人類哺乳動物個體。醫藥組成物之劑量取決於個體、疾病、病症、劑型、投藥途徑而定。經口投與罹患器官移植排斥、移植後移植物對抗宿主之反應、自體免疫疾病或過敏性疾病等等之成人患者(體重：約60kg)之劑量可為例如，每天約1mg至1g之範圍內。該劑量可以一次投與或分幾個小劑量投與。
外用醫藥組成物之載劑(或稀釋劑)可包含白色軟石蠟、硬石蠟、角鯊烯、或其組合。白色軟石蠟、硬石蠟、與角鯊烯可分別依70至90%重量比、5至10%重量比、與5至20%重量比之混合比例組合。一項實施例製劑包含化合物A、白色軟石蠟、5±2%重量比硬石蠟、與10±2%重量比角鯊烯。
外用藥劑可以採用例如，塗、擦或噴等等方式施用，取決於劑型而定。外用藥劑在患部之施用量可取決於活性成份含量等等來選擇，且外用藥劑可以例如，一天施用一次或分幾次施用。有些具體例中，一天施用一次或一天施用兩次。
醫藥組成物可依據可接受之醫藥程序製備，如，例如彼等說明於Remingtons Pharmaceutical Sciences，第17版，編輯：Alfonoso R.Gennaro,Mack Publishing Company,Easton,PA(1985)，其已以引用之方式完整併入本文中。
本發明結晶型可用於抑制Janus激酶之方法，如抑制JAK3、JAK2、或二者，其包括將本發明結晶型與Janus激酶抑制劑接觸。該接觸可為活體外或活體內。
本發明結晶型或組成物可作為活性成份，用於治療或預防患者之一種或多種下列疾病之方法中：(a)器官移植排斥、或移植後移植物對抗宿主之反應；(b)自體免疫疾病，包括類風濕關節炎、乾癬、乾癬性關節炎、多發性硬化、潰瘍性結腸炎、克隆恩氏症(Crohn’s disease)、全身性紅斑狼瘡、I型糖尿病、重症肌無力症、凱撒曼氏症(Castleman’s disease)、幼年特發性關節炎、乾眼病；及(c)過敏性疾病，包括氣喘、異位性皮膚炎、鼻炎。
有些具體例中，本發明結晶型可用為類風濕關節炎、乾癬、圓禿、乾眼病、異位性皮膚炎、濕疹、或手部濕疹之醫療劑或預防劑之活性成份。
本發明結晶型可用為慢性骨髓增生性疾病(包括真性紅血球增生症、原發性骨髓纖維化、本態性血小板數目過高等等)之醫療劑或預防劑之活性成份。
本文所採用術語化合物之「醫療有效量」意指足以治癒、減輕或部份遏止特定疾病與其併發症之臨床症狀時之用量。適合達成此目的之用量定義為「醫療有效量」。各目的之有效量取決於疾病或傷害之嚴重性及個體 之體重與一般狀況而定。
本文所採用術語「治療」包括緩解症狀、預防病情加重、維持消退、預防惡化、及預防復發。術語「治療」亦包括延緩疾病、病變、或病症之進展，緩解、減輕、或解除疾病、病變、或病症之症狀與併發症，及/或治癒或消除疾病、病變、或病症。
術語「治療」亦意指處理及照護患者，目的在於對抗疾病、病症或病變。
術語「預防」係指壓抑症狀發生。
組合療法
本發明結晶型可與醫療有效量之一種或多種其他醫療劑組合投與患者。本發明結晶型可與其他醫療劑同時(例如，共同)投與(例如，呈單一固定劑量型或呈分開劑型)。同樣地，本發明結晶型與其他醫療劑可以依序投與患者。例如，該其他醫療劑係在本發明結晶型發揮其醫療效力時投與，或反之亦然。
為了可以更有效了解本發明揭示內容，提供下列實施例。咸了解，此等實施例僅供說明之目的，不應以任何方式構成本發明之限制。
[實施例] 實施例1 3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二 氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈(化合物A)之製備與結晶型α之特徵分析 製備化合物A
採用如下合成法製備化合物A，其說明於PCT/JP2016/070046(實施例1-15)。在結晶步驟中，使用晶種促進結晶，但可能不使用晶種即根據所說明之製法製備各化合物之晶體。
本文所採用縮寫之定義如下：
S-BAPO：(S)-2-(苯甲基胺基)丙-1-醇
S-BBMO：(S)-N-苯甲基-N-(1-羥丙-2-基)甘胺酸第三丁基酯
R-BCAB：(R)-N-苯甲基-N-(2-氯丙基)甘胺酸第三丁基酯
S-MABB：(3S)-1-苯甲基-3-甲基氮雜環丁烷-2-羧酸第三丁基酯
S-MABB-HC：(3S)-1-苯甲基-3-甲基氮雜環丁烷-2-羧酸第三丁基酯鹽酸鹽
S-MACB-HC：(3S)-3-甲基氮雜環丁烷-2-羧酸第三丁基酯鹽酸鹽
S-ZMAB：(3S)-3-甲基氮雜環丁烷-1,2-二羧酸1-苯甲基酯2-(第三丁基)酯
RS-ZMBB：(2R,3S)-2-(2-(第三丁氧基)-2-側氧基乙基)-3-甲基氮雜環丁烷-1,2-二羧酸1-苯甲基酯2-(第三丁基)酯
RS-ZMAA：(2R,3S)-1-((苯甲基氧基)羰基)-2-(羧基甲基)-3-甲基氮雜環丁烷-2-羧酸
RS-ZMAA-DN．2H2O：(2R,3S)-1-((苯甲基氧基)羰基)-2-(羧基甲基)-3-甲基氮雜環丁烷-2-羧酸二鈉二水合物
RS-ZMOO：(2R,3S)-2-(2-羥乙基)-2-(羥甲基)-3-甲基氮雜環丁烷-1-羧酸苯甲基酯
RS-ZMSS：(2R,3S)-3-甲基-2-(2-((甲基磺醯基)氧基)乙基)-2-(((甲基磺醯基)氧基)甲基)氮雜環丁烷-1-羧酸苯甲基酯
SR-ZMDB：(3S,4R)-6-苯甲基-3-甲基-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-羧酸苯甲基酯
SR-MDOZ：(3S,4R)-3-甲基-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-羧酸苯甲基酯
SR-MDOZ-OX：(3S,4R)-3-甲基-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-羧酸苯甲基酯草酸鹽
SR-MDPZ：(3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-羧酸苯甲基酯
SR-MDOP：4-[(3S,4R)-3-甲基-1,6-二氮雜螺[3.4]-辛烷-6-基]-7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶
化合物A：3-[(3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基]-3-側氧基丙腈
CPPY：4-氯-7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶
DPCN：1-氰基乙醯基-3,5-二甲基-1H-吡唑
TBBA：溴乙酸第三丁基酯
THF：四氫呋喃。
所採用之測定儀器與測定條件如下。
1H-NMR光譜係於CDCl3或DMSO-d6中，使用四甲基矽烷為內標準物分析，及所有δ值均以ppm表示。除非另有說明，否則使用400MHz NMR儀器。
實施例中之代號意義如下。
s：單峰
d：雙峰
t：參峰
q：肆峰
dd：雙雙峰
ddd：雙雙雙峰
brs：寬單峰
m：多峰
J：偶合常數
樣本中之離子含量係三次觀察數據之平均值。
測定儀器：離子層析LC-20系統(SHIMADZU)
測定條件：電導檢測器SHIMADZU CDD-10A VP
陰離子分析管柱SHIMADZU SHIM-PAC IC-A3
陽離子分析管柱SHIMADZU SHIM-PAC IC-C1
樣本中水含量係採用卡爾-費雪法(Karl Fischer’s method)測定。
測定儀器：Karl Fischer Moisture Meter CA-06(MITSUBISHI CHEMICAL)
測定條件：
樣本量：約20mg
試劑：陽極溶液Aquamicron AX(API Corporation)Catholyte Aquamicron CXU(API Corporation)
藉由元素分析，分別測定樣本中碳、氫、與氮之重量%。
步驟A. 製備S-MABB-HC(化合物[5])
步驟1
室溫與氮蒙氣下添加S-BAPO[1](35.0g,212mmol)至水(175mL)。於室溫下，在所得懸浮液中添加甲苯(53mL)與碳酸鉀(32.2g,233mmol)。於室溫下，在所得溶液中滴加TBBA(434.4g,223mmol)，然後使用甲苯(17mL)洗滌用過的滴加漏斗，洗液加至反應混合物中。反應混合物於65℃下攪拌21小時，然後冷卻至室溫。添加甲苯(105mL)至反應混合物中後，攪拌混合物，分離有機層。有機層使用水(175mL)洗滌，排出水層後，真空排除有機層之溶劑。 添加甲苯(105mL)至殘質中，取甲苯溶液濃縮。再重複該操作兩次，產生S-BBMO[2](74.0g,212mmol理論值)之甲苯溶液。所得S-BBMO之甲苯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之S-BBMO粗產物蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：7.36-7.13(5H,m),4.26(1H,dd,J=6.8,3.9Hz),3.72(2H,dd,J=14.2,6.8Hz),3.47-3.38(1H,m),3.30-3.08(3H,m),2.79(1H,sext,J=6.8Hz),1.35(9H,s),0.96(3H,d,J=6.8Hz).
MS：m/z=280[M+H]+
步驟2
於室溫與氮蒙氣下，在S-BBMO[2](74.0g,212mmol)之甲苯溶液中添加甲苯(200mL)、四氫呋喃(35mL)，然後添加三乙基胺(25.7g,254mmol)。於0℃下，在混合物中滴加甲磺醯氯(26.7g,233mmol)，然後使用甲苯(10mL)洗滌用過的滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。反應混合物於室溫下攪拌2小時，再於65℃下攪拌22小時，然後冷卻至室溫。添加碳酸氫鈉水(105mL)至反應混合物中 後，攪拌混合物，分離有機層。有機層使用水(105mL)洗滌，排出水層，然後真空排除有機層之溶劑。添加甲苯(105mL)至殘質中，取甲苯溶液濃縮。再重複操作兩次，產生R-BCAB[3]之甲苯溶液(75.3g,212mmol理論值)。所得R-BCAB之甲苯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之R-BCAB粗產物蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：7.28-7.11(5H,m),4.24-4.11(1H,m),3.80(2H,d,J=3.6Hz),3.24(2H,d,J=3.6Hz),2.98-2.78(2H,m),1.46-1.37(12H,m).
MS：m/z=298[M+H]+
步驟3
於室溫與氮蒙氣下，在R-BCAB[3](75.3g,212mmol)之甲苯溶液中添加四氫呋喃(88.0mL)與1,3-二甲基-3,4,5,6-四氫-2(1H)-嘧啶酮(42.0mL)。於0℃下，在所得溶液中滴加雙(三甲基矽基)胺化鋰/四氫呋喃溶液(195mL,233mmol)後，使用四氫呋喃(17.0mL)洗滌用過之滴加漏 斗。添加洗液至反應混合物中。反應混合物於0℃下攪拌1小時後，回升至室溫。添加水(175mL)與甲苯(175mL)至反應混合物中後，攪拌混合物，分離有機層。所得有機層依序使用氯化銨水溶液(175mL)與水(175mL)洗滌，真空排除有機層之溶劑。添加乙酸乙酯(175mL)至殘質中，取乙酸乙酯溶液濃縮。再重複操作兩次，產生S-MABB[4](66.5g,212mmol理論值)之乙酸乙酯溶液。所得S-MABB之乙酸乙酯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之S-MABB粗產物蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：7.28-7.25(10H,m),3.75(1H,d,J=12.7Hz),3.68(1H,d,J=1.4Hz),3.66(1H,d,J=6.7Hz),3.46(2H,d,J=12.7Hz),3.30-3.17(2H,m),2.95(1H,dd,J=6.2,1.2Hz),2.77(1H,dd,J=6.1,2.2Hz),2.65-2.55(1H,m),2.48-2.40(2H,m),1.35(9H,s),1.35(9H,s),1.12(3H,d,J=7.2Hz),1.09(3H,d,J=6.2Hz).
MS：m/z=262[M+H]+
步驟4
於氮蒙氣下，在S-MABB[4](66.5g,212mmol理論值)之乙酸乙酯溶液中添加乙酸乙酯(175mL)與活性碳(3.5g)後，混合物於室溫下攪拌2小時。過濾排除活性碳，使用乙酸乙酯(175mL)洗滌濾器上之殘質。添加洗液至濾液中。於0℃下，在溶液中添加依據本文說明之方法製備之S-MABB-HC晶體(17.5mg)，然後於0℃下滴加4M鹽酸/乙酸乙酯(53.0mL,212mmol)。反應混合物於0℃下攪拌17小時後，於濾器上收集沉澱之固體，使用乙酸乙酯(70mL)洗滌。所得濕固體真空乾燥，產生S-MABB-HC[5](48.3g,162mmol，產率：76.4%)。
取依相同製程製備之S-MABB-HC測定NMR、MS、與Cl-含量。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：11.08(1H,br s),10.94(1H,br s),7.52-7.42(10H,m),5.34(1H,t,J=8.4Hz),4.90(1H,br s),4.45-4.10(5H,m),3.92-3.49(3H,br m),3.10-2.73(2H,br m),1.35(9H,s),1.29(9H,s),1.24(3H,d,J=6.7Hz),1.17(3H,d,J=7.4Hz).
MS：m/z=262[M+H-HCl]+
Cl含量(離子層析法)：11.9%(理論值：11.9%)。
步驟B. 製備S-MACB-HC(化合物[6])
[化學式7]
於室溫與氮蒙氣下，在S-MABB-HC[5](5.0g,16.8mmol)之甲醇(15.0mL)溶液中添加5%鈀/碳(製造商Kawaken Fine Chemicals Co.,Ltd.，PH型，54.1%水含量1.0g)。在反應容器中填充氫氣，反應混合物在0.4MPa氫氣壓與室溫下攪拌12小時，使用氮氣置換反應容器中之氫氣後，過濾排除5%鈀/碳。使用甲醇(10mL)洗滌反應容器與5%鈀/碳。添加洗液至濾液中，產生S-MACB-HC[6](24.8g,16.8mmol理論值)之甲醇溶液。所得S-MACB-HC之甲醇溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之S-MACB-HC粗產物蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：9.60(br s,1H),4.97(d,1H,J=9.2Hz),4.61(d,1H,J=8.4Hz),4.01(dd,1H,J=10.0,8.4Hz),3.78-3.74(m,1H),3.54(dd,1H,J=9.6,8.4Hz),3.35(dd,1H,J=10.0,6.0Hz),3.15-3.03(m,1H),3.00-2.88(m,1H),1.49(s,9H),1.47(s,9H),1.22(d,3H,J=6.8Hz),1.14(d,3H,J=7.2Hz).
MS：m/z=172[M+H]+(游離型)
步驟C. 製備S-ZMAB(化合物[7])
於室溫與氮蒙氣下，在S-MACB-HC[6](24.8g,16.8mmol理論值)之甲醇溶液中滴加N,N-二異丙基乙基胺(4.8g,36.9mmol)，然後使用四氫呋喃(2.5mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。於0℃下，在所得反應混合物中滴加氯甲酸苯甲基酯(3.0g,17.6mmol)，然後使用四氫呋喃(2.5mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。反應混合物於0℃下攪拌1小時後，真空排除溶劑。添加甲苯(25.0mL)與檸檬酸水溶液(25.0mL)至殘質中後，攪拌混合物，分離有機層。所得有機層依序使用碳酸氫鈉水(25.0mL)與水(25.0mL)洗滌，取有機層真空排除有機層之溶劑。添加甲苯(15.0mL)至殘質中，甲苯溶液濃縮。再重複操作一次，產生S-ZMAB[7](6.9g,16.8mmol理論值)之甲苯溶液。所得S-ZMAB之甲苯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之S-ZMAB粗產物蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(CDCl3)δ：7.38-7.28(m,10H),5.16-5.04(m,4H),4.60(d,1H,J=9.2Hz),4.18-4.12(m,2H),4.04(t,1H,J=8.6Hz),3.66(dd,1H,J=7.6,7.2Hz),3.50(dd,1H,J=8.0,5.2Hz),3.05-2.94(m,1H),2.60-2.50(m,1H),1.43(br s, 18H),1.33(d,3H,J=6.5Hz),1.15(d,3H,J=7.2Hz).
MS：m/z=328[M+Na]+.
步驟D. 製備RS-ZMBB(化合物[8])
於室溫與氮蒙氣下，在S-ZMAB[7](6.9g,16.8mmol)之甲苯溶液中添加四氫呋喃(15.0mL)。於-70℃，取含雙(三甲基矽基)胺化鋰/四氫呋喃(14.7mL,17.6mmol)溶液滴加至甲苯溶液中。使用四氫呋喃(2.5mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。反應混合物於-70℃下攪拌6小時，然後於-70℃滴加TBBA(3.4g,17.6mmol)之四氫呋喃(2.5mL)溶液至反應混合物中。使用四氫呋喃(2.5mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。反應混合物於-70℃下攪拌1小時後，回升至室溫。在反應混合物中添加氯化銨水溶液(25mL)與甲苯(25mL)後，攪拌混合物，分離有機層。所得有機層依序使用檸檬酸水溶液(25mL,x 2)、碳酸氫鈉水(25mL)、與水(25mL)洗滌後，真空排除有機層之溶劑。添加乙腈(15mL)至殘質中，取乙腈溶液濃縮。再重複操作兩次。添加乙腈(15mL)與活性碳(0.25g)至殘質中，混合物於室溫下攪拌2小時。過濾排除活性碳， 使用乙腈(10mL)洗滌反應容器與濾器上之殘質。添加洗液至濾液中後，濾液真空濃縮，產生RS-ZMBB[8](13.2g,16.8mmol理論值)之乙腈溶液。所得RS-ZMBB之乙腈溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之RS-ZMBB粗產物蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：7.38-7.29(m,5H),5.09-4.96(m,2H),3.91(t,0.4H,J=8.0Hz),3.79(t,0.6H,J=8.0Hz),3.55(t,0.4H,J=7.2Hz),3.46(t,0.6H,J=7.5Hz),3.14-3.04(m,1H),2.83-2.72(m,2H),1.38(br s,9H),1.37(br s,3.6H),1.34(br s,5.4H),1.12-1.09(m,3H).
MS：m/z=420[M+H]+.
步驟E. 製備RS-ZMAA-DN．2H 2O(化合物[9])
於室溫與氮蒙氣下，在RS-ZMBB[8](13.2g,16.8mmol理論值)之乙腈溶液中添加乙腈(15mL)。於室溫下添加對甲苯磺酸單水合物(6.4g,33.6mmol)至溶液中。反應混合物於50℃下攪拌12小時後，冷卻至室溫，滴加水(7.5mL)至反應混合物中。反應混合物冷卻至0℃後，滴加4mol/L 氫氧化鈉水溶液(17.6mL,70.5mmol)。於室溫下攪拌反應混合物1小時後，於室溫下滴加乙腈(75mL)，攪拌反應混合物3小時。過濾收集沉澱之固體，依序使用乙腈：水=4：1混合物(10mL)與乙腈(10mL)洗滌。所得濕固體真空乾燥，產生RS-ZMAA-DN．2H2O[9](5.2g,13.4mmol，產率：85.4%)。
取依相同製程製備之RS-ZMAA-DN．2H2O測定NMR、MS、Na-含量、與水含量。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：7.32-7.22(m,5H),4.97(d,1H,J=12.7Hz),4.84(d,1H,J=12.7Hz),3.79(t,1H,J=8.0Hz),3.29(d,1H,J=14.8Hz),3.16-3.12(m,1H),2.17-2.09(m,2H),1.07(d,3H,J=6.9Hz).
MS：m/z=352[M+H]+(無水物)
Na含量(離子層析法)：13.3%(經過水含量之校正)(13.1%理論值)
水含量(卡爾費雪氏方法(Karl Fischer’s method))：9.8%(9.3%理論值)
步驟F. 製備RS-ZMAA(化合物[10])
在1mol/L鹽酸(180mL)中添加RS-ZMAA-DN．2H2O[9] (30g,77.5mmol)與乙腈(60mL)，混合物於室溫下攪拌約15分鐘。添加乙酸乙酯(240mL)至反應混合物中後，攪拌混合物，分離有機層。有機層使用10%鹽水(60mL x 2)洗滌。有機層與硫酸鎂(6g)攪拌，過濾排除硫酸鎂，使用乙酸乙酯(60mL)洗滌濾器上之殘質。合併濾液與洗液，真空排除溶劑。添加四氫呋喃(240mL)至殘質中，四氫呋喃溶液濃縮。再重複操作兩次。添加四氫呋喃(60mL)至殘質中，產生RS-ZMAA[10]之四氫呋喃溶液。所得RS-ZMAA之四氫呋喃溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之RS-ZMAA，測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-D6)δ：7.35-7.28(m,5H),5.06-4.94(m,2H),3.86(dt,1H,J=48.4,7.9Hz),3.50(dt,1H,J=37.9,7.4Hz),3.16-3.02(br m,1H),2.91-2.77(br m,2H),1.08(d,3H,J=6.9Hz)
MS：m/z=308[M+H]+.
步驟G. 製備RS-ZMOO(化合物[11])
於氮蒙氣下，在RS-ZMAA[10](25.8mmol理論值)之四氫呋喃溶液中添加四氫呋喃(50mL)。於0℃至5℃下滴加三氟化硼乙醚合物複合物(4.40g)。使用四氫呋喃(5 mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。於0℃至5℃下，在反應混合物中滴加1.2mol/L甲硼烷-四氫呋喃複合物(43.0mL)，反應混合物於0℃至5℃下攪拌約30分鐘後，再於室溫下攪拌一夜。於0℃至5℃下，在反應混合物中滴加1.2mol/L甲硼烷-四氫呋喃複合物(21.1mL)後，反應混合物於室溫下攪拌一夜。攪拌後，於0℃至15℃滴加水(40mL)至反應混合物中。於0℃至15℃下，在反應混合物中添加碳酸氫鈉(5.42g)。使用水(10mL)洗滌留在容器中之碳酸氫鈉，添加洗液至反應混合物中。反應混合物於室溫下攪拌2小時後，添加甲苯(50mL)，再攪拌反應混合物。分離有機層。所得有機層依序使用10%鹽水(20mL x 1)、5%碳酸氫鈉水(20mL)與10%鹽水(20mL)之混合物(x 3)、5%硫酸氫鉀水溶液(10mL)與10%鹽水(10mL)之混合物(x 1)、及10%鹽水(20mL x 2)洗滌。有機層與硫酸鎂(8.9g)攪拌，過濾排除硫酸鎂，使用甲苯(20mL)洗滌留在濾器上之殘質。添加洗液至濾液中後，濾液真空濃縮。在濃縮殘質中添加甲苯(80mL)。溶液真空濃縮，添加甲苯(15mL)，產生RS-ZMOO[11]之甲苯溶液。所得RS-ZMOO之甲苯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之RS-ZMOO，測定NMR與MS。
1H-NMR(CDCl3)δ：7.39-7.30(m,5H),5.10(s,2H),4.15-4.01(br m,2H),3.83-3.73(br m,3H),3.48(dd,1H,J=8.3,6.4Hz),2.59-2.50(br m,1H),2.46-2.40(br m,1H),2.07-1.99(m,1H),1.14(d,3H,J=7.2Hz)
MS：m/z=280[M+H]+.
步驟H. 製備RS-ZMSS(化合物[12])
於氮蒙氣下，在RS-ZMOO[11](23.7mmol理論值)之甲苯溶液中添加甲苯(55mL)。在-10℃至10℃下滴加三乙基胺(5.27g)，使用甲苯(1.8mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。於-10℃至10℃下，在此反應混合物中滴加甲磺醯氯(5.69g)，然後使用甲苯(1.8mL)洗滌用過之滴加漏斗，及添加洗液至反應混合物中。反應混合物於0℃至10℃下攪拌約2小時後，於0℃至20℃下滴加水(28mL)。反應混合物於0℃至20℃下攪拌約30分鐘後，分離有機層。所得有機層使用10%鹽水(18mL)洗滌2次。有機層與硫酸鎂(2.75g)攪拌，過濾排除硫酸鎂，使用甲苯(18mL)洗滌濾器上之殘質。添加洗液至濾液中後，真空排除濾液中之溶劑。在濃縮殘質中添加甲苯到18mL，產生RS-ZMSS[12]之甲苯溶液。所得RS-ZMSS之甲苯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之RS-ZMSS，測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-D6)δ：7.37-7.27(br m,5H),5.10-4.98(m, 2H),4.58-4.22(br m,4H),3.84(dt,1H,J=45.6,8.1Hz),3.48-3.33(br m,1H),3.17-3.10(m,6H),2.81-2.74(br m,1H),2.22-2.12(m,2H)
MS：m/z=436[M+H]+.
步驟I. 製備SR-ZMDB(化合物[13])
於氮蒙氣下，在RS-ZMSS[12](23.7mmol理論值)之甲苯溶液中添加甲苯(55mL)。及於室溫下滴加苯甲基胺(17.8g)，使用甲苯(9.2mL)洗滌用過之滴加漏斗，及添加洗液至反應混合物中。反應混合物於室溫下攪拌約1小時，於55℃至65℃下攪拌約3小時，然後於70℃至80℃下攪拌6小時。反應混合物冷卻至室溫後，滴加10% NaCl(28mL)，反應混合物於室溫下攪拌約30分鐘。添加甲苯(37mL)至反應混合物中後，攪拌混合物，分離有機層。所得有機層使用10%鹽水(18mL)與乙酸(2.84g)之混合物洗滌(x 2)，然後使用10%鹽水(11mL,x 1)洗滌。真空排除有機層之溶劑至一半體積，於室溫添加乙酸酐(1.45g)至濃縮殘質中。攪拌混合物約3小時。於室溫下，在反應混合物中滴加硫酸氫鉀(3.87g)與水(92mL)之溶液。攪拌反應混 合物後，分離水層。所得水層使用甲苯(18mL)洗滌，於室溫下，依序添加甲苯(73mL)與碳酸氫鈉(6.56g)至水層中，及攪拌混合物。分離有機層，使用10%鹽水(11mL)洗滌。有機層與硫酸鎂(2.75g)攪拌，過濾排除硫酸鎂。使用甲苯(18mL)洗滌濾器上之殘質，添加洗液至濾液中後，濾液真空濃縮。添加甲苯(44mL)至濃縮殘質中，產生SR-ZMDB[13]之甲苯溶液。所得SR-ZMDB之甲苯溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
1H-NMR(CDCl3)δ：7.35-7.20(m,10H),5.08(d,2H,J=23.6Hz),3.94(q,1H,J=7.9Hz),3.73-3.42(br m,2H),3.30-3.23(m,1H),3.05(dd,1H,J=19.7,9.5Hz),2.79(dt,1H,J=69.6,6.1Hz),2.57-2.32(br m,4H),1.96-1.89(m,1H),1.09(d,3H,J=6.9Hz)
MS：m/z=351[M+H]+.
步驟J. 製備SR-MDOZ(化合物[14])
於0℃至10℃及氮蒙氣下，在氯甲酸1-氯乙酯(3.72g)之甲苯(28mL)溶液中滴加SR-ZMDB[13](23.7mmol理論值)之甲苯溶液後，使用甲苯(4.6mL)洗滌用過之滴加漏斗，及添加洗液至反應混合物中。於0℃至10℃下，在反 應混合物中添加三乙基胺(718mg)，反應混合物於15℃至25℃下攪拌約2小時。然後添加甲醇(46mL)至反應混合物中，混合物於50℃至60℃下再攪拌約2小時。真空排除反應混合物中之溶劑至約小於37mL之體積。於15℃至20℃下，在濃縮殘質中滴加2mol/L鹽酸(46mL)，攪拌混合物，分離水層。所得水層使用甲苯(28mL,x 2)洗滌。在水層中添加20%鹽水(46mL)與四氫呋喃(92mL)後，於0℃至10℃下滴加8mol/L氫氧化鈉水溶液(18mL)。從反應混合物中分離出有機層，使用20%鹽水(18mL,x 2)洗滌後，真空排除有機層之溶劑。在濃縮殘質中添加四氫呋喃(92mL)，溶液真空濃縮。再重複操作一次。取濃縮殘質溶於四氫呋喃(92mL)。溶液與硫酸鎂(2.75g)攪拌，過濾排除硫酸鎂。使用四氫呋喃(28mL)洗滌濾器上之殘質。添加洗液至濾液中，濾液真空濃縮。使用四氫呋喃調整濃縮殘質之體積至約20mL，產生SR-MDOZ[14]之四氫呋喃溶液(淨重：4.01g,15.4mol，產率：65.0%)。
取依相同製程製備之SR-MDOZ蒸發至乾，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(CDCl3)δ：7.37-7.28(m,5H),5.08(dd,2H,J=16.8,12.8Hz),4.00(dd,1H,J=17.1,8.3Hz),3.40-3.31(m,1H),3.24(d,1H,J=12.7Hz),3.00(dd,1H,J=54.9,12.4Hz),2.87-2.57(m,3H),2.47-2.27(m,1H),1.91-1.80(m,1H),1.14(d,3H,J=7.2Hz)
MS：m/z=261[M+H]+.
步驟K. 製備SR-MDOZ-OX(化合物[15])
於氮蒙氣下，取草酸(761mg)溶於四氫呋喃(40mL)，於室溫下取SR-MDOZ[14](3.84mmol理論值)之四氫呋喃溶液滴加至該草酸溶液中。於室溫下，在溶液中添加依據本發明方法製備之SR-MDOZ-OX晶體(1mg)，混合物於室溫下攪拌約3.5小時，使晶體沉澱。於室溫下，在漿狀溶液中滴加SR-MDOZ(3.84mmol)之四氫呋喃溶液，混合物於室溫下攪拌約1小時。漿狀溶液於50℃至60℃下加熱及攪拌約2小時後，於室溫下攪拌一夜。該漿狀溶液過濾，使用四氫呋喃(10mL)洗滌濾器上之濕結晶，真空乾燥，產生SR-MDOZ-OX[15](2.32g,6.62mol，產率：86.2%)。
取依相同製程製備之SR-MDOZ-OX，測定NMR、MS、與元素分析。
1H-NMR(DMSO-D6)δ：7.37-7.30(m,5H),5.15-5.01(m,2H),3.92(dt,1H,J=43.5,8.4Hz),3.48-3.12(br m,5H),2.67-2.56(m,1H),2.46-2.35(m,1H),2.12-2.05(m,1H),1.13(d,3H,J=6.9Hz)
MS：m/z=261[M+H]+
元素分析：C 58.4wt%,H 6.4wt%,N 7.9%wt%(理論值，C 58.3wt%,H 6.3wt%,N 8.0wt%)
步驟L. 製備SR-MDPZ(化合物[16])
於氮蒙氣下，在SR-MDOZ-OX[15](12.0g,34.2mmol)中依序添加乙醇(36mL)、水(72mL)、CPPY[20](5.36g,34.9mmol)、與K3PO4(21.8g,103mmol)。反應混合物於80℃下攪拌5小時後，冷卻至40℃。於40℃下添加甲苯(120mL)，及分離有機層。所得有機層使用20%碳酸鉀水溶液(48mL)洗滌後，使用水(48mL)洗滌兩次。真空排除有機層之溶劑。添加第三丁醇(60mL)至殘質中，取第三丁醇溶液濃縮。再重複操作兩次。添加第三丁醇(36mL)至濃縮殘質中，產生SR-MDPZ[16]之第三丁醇溶液(61.1g,34.2mmol理論值)。所得SR-MDPZ之第三丁醇溶液即用於下一個步驟，假設其產率為100%。
取依相同製程製備之SR-MDPZ，從乙酸乙酯與正庚烷之混合物中單離出固體，然後測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：11.59(br s,1H),8.08(s,1H),7.41-7.26(br m,3H),7.22-7.08(br m,3H),6.64-6.51(br m,1H),5.07-4.91(br m,2H),4.09-3.67(br m,5H),3.47-3.32 (br m,1H),2.67-2.55(br m,2H),2.21-2.15(br m,1H),1.11(d,3H,J=6.9Hz).
MS：m/z=378[M+H]+
步驟M. 製備SR-MDOP(化合物[17])
於氮蒙氣下，在SR-MDPZ[16]之第三丁醇溶液(34.2mmol理論值)中添加甲酸銨(10.8g,171mmol)、水(60mL)、與10%鈀/碳(製造商Kawaken Fine Chemicals Co.,Ltd.,M型，52.6%水含量，1.20g)。反應混合物於40℃下攪拌13小時後，冷卻至室溫，過濾排出所得沉澱。使用第三丁醇(24mL)洗滌反應容器與濾器上之殘質，添加洗液至濾液中，添加8M氫氧化鈉水溶液(25.7mL,205mmol)與氯化鈉(13.2g)至濾液中。反應混合物於50℃下攪拌2小時後，於室溫下添加甲苯(84mL)，及分離有機層。所得有機層使用20%鹽水(60mL)洗滌，與無水硫酸鈉攪拌後，過濾排除硫酸鈉。使用甲苯：第三丁醇=1：1(48mL)混合物洗滌濾器上之殘質，洗液加至濾液中，取濾液真空濃縮。在濃縮之殘質中添加甲苯(60mL)，溶液於50℃下攪拌2小時後，真空排除溶劑。再次在濃縮殘質中添加甲苯(60mL)，溶液濃縮。在濃縮殘質中添加甲苯(48mL)，溶液於 室溫下攪拌1小時後，於冰溫下1小時。於濾器上收集沉澱之固體，使用甲苯(24mL)洗滌。所得濕固體真空乾燥，產生SR-MDOP[17](7.07g,29.1mmol，產率：84.8%)。
取依相同製程製備之SR-MDOP，測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：11.57(br s,1H),8.07(s,1H),7.10(d,1H,J=3.2Hz),6.58(d,1H,J=3.2Hz),3.92-3.59(br m,4H),3.49(dd,1H,J=8.3,7.2Hz),2.93(dd,1H,J=7.2,6.1Hz),2.61-2.53(m,2H),2.12-2.01(br m,2H),1.10(d,3H,J=6.9Hz).
MS：m/z=244[M+H]+.
步驟N. 製備化合物A單乙醇合物(化合物[18])
於氮蒙氣下，添加乙腈(60mL)與三乙基胺(416mg,4.11mmol)至SR-MDOP[17](5.00g,20.5mmol)中，於45℃下，在溶液中滴加DPCN[21](3.69g,22.6mmol)之乙腈(35mL)溶液後，使用乙腈(5.0mL)洗滌用過之滴加漏斗，添加洗液至反應混合物中。反應混合物於45℃下攪拌3小時，然後冷卻至室溫。添加5%碳酸氫鈉水(25mL)、10%鹽水(25mL)、與乙酸乙酯(50mL)至反應混合物中後，攪 拌混合物，分離有機層。真空排除有機層之溶劑。添加四氫呋喃(50mL)至殘質中，取四氫呋喃溶液濃縮。再重複操作三次。在濃縮殘質中添加四氫呋喃(50mL)，加水至溶液中，調整水含量至5.5%。過濾排除所得沉澱。使用四氫呋喃(15mL)洗滌反應容器與濾器上之殘質，添加洗液至濾液中，真空排除濾液中之溶劑。在濃縮殘質中添加乙醇(50mL)及依據下列實施例15說明之方法製備之化合物A晶體(5.1mg)。混合物於室溫下攪拌1小時，真空濃縮。在殘質中添加乙醇(50mL)，再度濃縮溶液。在濃縮殘質中添加乙醇(15mL)，溶液於室溫下攪拌1小時。於濾器上收集沉澱之固體，使用乙醇(20mL)洗滌。所得固體真空乾燥，產生化合物A單乙醇合物[18](6.26g,17.6mmol，產率：85.5%)。
取依相同製程製備之化合物A單乙醇合物，測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：11.59(br s,1H),8.08(s,1H),7.11(dd,1H,J=3.5,2.3Hz),6.58(dd,1H,J=3.5,1.8Hz),4.34(t,1H,J=5.1Hz),4.16(t,1H,J=8.3Hz),4.09-3.92(m,3H),3.84-3.73(m,1H),3.71(d,1H,J=19.0Hz),3.65(d,1H,J=19.0Hz),3.58(dd,1H,J=8.2,5.9Hz),3.44(dq,2H,J=6.7,5.1Hz),2.69-2.60(m,2H),2.23-2.13(br m,1H),1.12(d,3H,J=7.1Hz),1.06(t,3H,J=6.7Hz).
MS：m/z=311[M+H]+
步驟O. 純化化合物A(化合物[19])
取化合物A單乙醇合物[18](4.00g,11.2mmol)與正丁醇(32mL)於氮蒙氣下混合，混合物於110℃下溶解。混合物冷卻至85℃，添加依據本文說明之方法製備之化合物A晶體(4.0mg)，混合物於85℃下攪拌2小時，於75℃下攪拌1小時後，於室溫下攪拌16小時。於濾器上收集沉澱之固體，依序使用正丁醇(8.0mL)與乙酸乙酯(8.0mL)洗滌。所得濕固體真空乾燥，產生化合物A[19](3.18g,10.2mmol,產率：91.3%)。
取依相同製程製備之化合物A，測定NMR與MS。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：11.59(br s,1H),8.08(s,1H),7.11(dd,1H,J=3.5,2.5Hz),6.58(dd,1H,J=3.5,1.8Hz),4.16(t,1H,J=8.3Hz),4.09-3.93(m,3H),3.84-3.73(m,1H),3.71(d,1H,J=19.0Hz),3.65(d,1H,J=19.0Hz),3.58(dd,1H,J=8.2,5.9Hz),2.69-2.59(m,2H),2.23-2.13(m,1H),1.12(d,3H,J=7.2Hz).
MS：m/z=311[M+H]+
採用依相同方法製備之化合物A，進行單晶X-射線分析法。
(1)製備單晶
在含10mg化合物A之LaPha ROBO Vial(R)2.0mL 寬口瓶中添加0.5mL氯仿。在瓶上加蓋，化合物A在其中完全溶解。為了使溶劑慢慢蒸發，使用TERUMO(R)針筒的針頭在附接瓶蓋之隔板上刺一個洞，瓶子置於室溫下。所得單晶用於結構分析。
(2)測定儀器
光束：SPring-8 BL32B2
檢測器：Rigaku R-AXIS V繞射儀
(3)測定方法
使用0.71068Å輻射光照射單晶，以測定X-射線繞射數據。
(4)分析方法
採用所得化合物A氯仿溶合物中氯離子之X-射線反常散射效應，判別化合物A之絕對組態為(3S,4R)。依據所得化合物A之絕對組態，判別各製程中間物之絕對組態。
α型之特徵分析 X-射線粉末繞射(XRPD)
採用用XRPD，使用Spectris Co.,Ltd.PANalytical儀器，機型編號：X’Pert Pro，於下列取得數據之參數下，分析α型之特徵。
α型之XRPD圖型示於第1圖，下表1-8提供對應數據。
差示掃描量熱計(DSC)
於TA Instruments機型Q2000儀器上，採用下列參數收集DSC數據：
樣本量：約3mg
盤：密封鋁盤
範圍：25-230℃
加熱速率：於氮氣流下，2℃/min。
α型之DSC熱像圖提供於第4圖，其顯示單一吸熱事件，具有188℃之峰，並於185℃開始。
熱重力差示熱分析法(TG-DTA)
於Mettler Toledo機型編號：TGA/SDTA851e/SF儀器上，採用下列參數收集TG-DTA數據：
樣本：約5mg
範圍：25-250℃
加熱速率：於氮氣流下，2℃/min。
外插得到起始溫度為186.29℃，且在25至220℃之範圍內未觀察到重量損失。α型之TG-DTA數據示於第7圖。
固態 13C NMR
於Bruker BioSpin Corporation AVANCE III 400儀器上，採用下列參數收集固態13C NMR數據：
探頭：4mm CP/MAS探頭
測定溫度：室溫
參考材料：甘胺酸(外標準物：下磁場之峰設定在176.03ppm)
測定核心：13C(100.6228303MHz)
旋轉速度：14.3kHz
脈衝重複時間：5秒
累積次數：3072次
脈衝模式：CP/MAS測定
α型之固態13C NMR數據示於第10圖，其峰出現在：14.8、17.0、24.5、27.2、35.0、35.9、38.6、48.8、49.5、53.6、78.3、101.4、103.0、116.2、118.0、122.0、122.7、151.2、154.8、162.4、與163.3ppm。
實施例2 β型化合物A之製備與特徵化 製備
取已通過500μm篩網之化合物A(3992.3g，結晶型α)使用噴射氣流磨粉機Spiral Jet Mill 100AS(製造商Hosokawa Micron Corporation)，依下列條件研磨，產生研磨產物(3473.6g)及黏附在噴嘴環部份上之化合物A(361.0g)。
研磨條件
使用之氣體：氮氣
研磨噴嘴：直徑1.5mm x 4
噴射器噴嘴：直徑1.3mm
研磨之空氣壓力：0.50至0.60MPa
噴射器之空氣壓力：0.50至0.60MPa
化合物A進料速率：8g/min
取黏附在噴嘴環部份上之化合物A(50.0g,161mmol)加至1-丁醇/乙腈(1：3v/v)(250mL)混合溶液中，混合物於40℃下攪拌10天。所得懸浮液冷卻至室溫，進一步於室溫下攪拌24小時。於濾器上收集沉澱之結晶材料。收集之結晶產物使用乙酸乙酯(50mL)洗滌兩次，於40℃下減壓乾燥，產生化合物A，結晶型β(35.5g，產率71%)。
特徵化 X-射線粉末繞射
β型之XRPD圖型示於第2圖，且對應之數據示於下表2-1。之儀器及取得數據之參數係如上述實施例1中α型特徵分析之說明。
差示掃描量熱計(DSC)
於TA Instruments Model Number Q2000儀器上，採用下列參數收集DSC數據：
樣本量：約3mg
盤：密封鋁盤
範圍：25-230℃
加熱速率：於氮氣流下，2℃/min。
β型之DSC熱像圖示於第5圖，其顯示單一吸熱事件，具有187℃之峰，及在185℃開始。
熱重力差示熱分析法(TG-DTA)
如上述實施例1收集TG-DTA數據，但β型之測定範圍在25至230℃之間。在188.59℃處檢測到吸熱峰，外插得到起始溫度為186.68℃，在25至220℃之範圍內未觀察到重量損失。β型之數據示於第8圖。
固態 13C NMR
如上述實施例1收集β型之固態13C NMR數據。該13C NMR光譜示於第11圖，其顯示峰出現在：16.5、25.8、26.5、33.1、34.8、36.7、38.8、48.2、53.4、77.7、79.5、101.2、102.6、117.5、120.6、151.1、154.3、與166.1ppm。
實施例3 γ型化合物A之製備與特徵化 製備1
取已通過500μm篩網之化合物A(2491.5g，結晶型α)使用噴射氣流磨粉機Spiral Jet Mill 100AS(製造商Hosokawa Micron Corporation)，依下列條件研磨，產生研磨產物(2106.5g)及黏附在噴嘴環部份上之化合物A(247.9g)。
研磨條件
使用之氣體：氮氣
研磨噴嘴：直徑1.5mm x 4
噴射器噴嘴：直徑1.3mm
研磨之空氣壓力：0.50至0.60MPa
噴射器之空氣壓力：0.50至0.60MPa
化合物A進料速率：4g/min
於氮蒙氣下，取黏附在噴嘴環部份上之化 合物A(100g,322mmol)加至甲醯胺(330mL)中，添加晶種(1.00g結晶型γ，其亦可能包含一些β型化合物A)至混合物中。混合物於室溫下攪拌30天。於濾器上收集結晶沉澱物，使用乙酸乙酯(150mL)洗滌兩次。於氮蒙氣下，添加所得濕晶體至乙酸乙酯(300mL)中，混合物於室溫下攪拌30分鐘。於濾器上收集結晶沉澱物，使用乙酸乙酯(150mL)洗滌兩次，於40℃下減壓乾燥，產生化合物A結晶型γ(74.1g，產率74%)。
製備2
取α型化合物A(包含少量但未定量之β型)(100mg,0.322mmol)至N,N-二甲基甲醯胺(0.2mL)中，混合物於室溫下攪拌6天。於濾器上收集結晶沉澱物。收集濕結晶材料於室溫下減壓乾燥18小時，產生化合物A，γ型(13.7mg，產率13.7%)。
特徵化 X-射線粉末繞射
γ型之XRPD圖型示於第3圖，且對應之數據示於下表3-1。之儀器及取得數據之參數均如上述實施例1中α型特徵化之說明。
差示掃描量熱計(DSC)
於TA Instruments Model Number Q2000儀器上，採用下列參數收集DSC數據：
樣本量：約3mg
盤：密封鋁盤
範圍：25-230℃
加熱速率：於氮氣流下，2℃/min。
γ型之DSC熱像圖示於第6圖，其顯示單一吸熱事件，具有196℃之峰及於196℃開始。
熱重力差示熱分析法(TG-DTA)
如上述實施例1收集TG-DTA數據。於198.68℃檢測到吸熱峰，外插得到起始溫度為197.38℃，在25至220℃之範圍內未觀察到重量損失。γ型之數據示於第9圖。
固態 13C NMR
依上述實施例1收集γ型之固態13C NMR數據。13C NMR光譜示於第12圖，其峰出現在：16.9、26.5、32.9、36.4、48.1、53.7、78.6、102.6、116.4、117.9、121.5、151.8、154.6、與162.9ppm。
實施例4 在α型樣本中定量β與γ型
測試所製造之α型化合物A批次及包含α型化合物A 之油膏調配物中β與γ型之存在量。採用XRPD方法，可檢測β與γ型低達1 w/w%之程度。用於本分析法之α型化合物A批次示於表4-1。
用於本分析法之包含α型化合物A(3%)之油膏批次示於表4-2。RH意指相對濕度。M指持續月數。
採用PANalytical X’Pert PRO粉末X-射線繞射儀，於下列參數下操作，定量上述批次與油膏中之β與γ型存在量：
β型之試驗 製備試驗樣本(化合物A，α型，藥物)
取一部份化合物A試驗樣本於瑪瑙研鉢中研磨成細粉。取約10mg置入樣本容器中。
製備試驗樣本(油膏)
取約1g油膏試驗樣本懸浮於80mL正己烷中。在燒瓶上加瓶塞，激烈振盪30秒。混合物使用定量濾紙(5B)抽吸過濾，每次使用5mL正己烷洗滌，共5次。取約10mg沉澱物置於樣本容器中。
製備標準樣本
在化合物A，批次U(α型)中添加批次P-3273-58(β型)，得到最終濃度2、5與10 w/w%，其等使用研缽混合。取約10mg置入樣本容器。
製程
X-射線粉末繞射測定法係於試驗樣本與標準樣本上，依據上述儀器設定及取得數據之參數進行(參見日本藥典，第17版，2016年4月1日，英文版pp 79-83，X-射線粉末繞射方法，一般試驗、製程、與裝置(X-ray Powder Diffraction Method,General Tests,Processes and Apparatus,The Japanese Pharmacopoeia,17th ed.,April 1,2016,English Edition,pp 79-83))。得自標準樣本與試驗樣本之繞射峰(出現在10.6°)之峰面積係採用自動積分或手動積分測定。採用由標準樣本之峰面積產生之校正曲線計算試驗樣本之β型之量(%)。
得自包含0%、2%、5%與10% w/wβ型之標準樣本之 X-射線粉末繞射圖型示於第13圖。
γ型之試驗 製備試驗樣本(化合物A，α型，藥物)
取一部份化合物A試驗樣本於瑪瑙研鉢中研磨成細粉。取約10mg置入樣本容器中。
製備試驗樣本(油膏)
取約1g油膏試驗樣本懸浮於80mL正己烷中。在燒瓶上加塞，激烈振盪30秒。混合物使用定量濾紙(5B)抽吸過濾，每次使用5mL正己烷洗滌，共5次。取約10mg沉澱物置於樣本容器中。
製備標準樣本
在批次U(α型)中添加化合物A化合物A批次YKF56-28G(γ型)，得到最終濃度1、2與5 w/w%，其等使用研缽混合。取約10mg置入樣本容器。
製程
X-射線粉末繞射測定法係於試驗樣本與標準樣本上，依據上述儀器設定及取得數據之參數進行(參見日本藥典，第17版，2016年4月1日，英文版pp 79-83，X-射線粉末繞射方法，一般試驗、製程、與裝置(X-ray Powder Diffraction Method,General Tests,Processes and Apparatus, The Japanese Pharmacopoeia,17th ed.,April 1,2016,English Edition,pp 79-83))。得自標準樣本與試驗樣本之繞射峰(出現在16.6°)之峰面積係採用自動積分或手動積分測定。若試驗樣本之峰面積不超過1%標準樣本之峰面積時，則以「不超過1%」表示。若試驗樣本之峰面積超過1%標準樣本之峰面積且不超過2%標準樣本之峰面積時，則以「不超過2%」表示。若試驗樣本之峰面積超過2%標準樣本之峰面積且不超過5%標準樣本之峰面積時，則以「不超過5%」表示。
從包含0%、1%、2%與5% w/w γ型之標準樣本得到之X-射線粉末繞射圖型示於第14圖。
結果
定量結果總結示於表4-3。化合物A藥物批次P與JTE-052油膏批號223-1A與批號239-1A，由藥物批次P製造，均包含可測定量之β型。
實施例5 單晶X-射線數據
依據下列參數得到α、β與γ型之單晶X-射線結構。結晶結構數據示於表5-1。
採用Rayonix MX225HE檢測器與SPring-8 BL41XU光束，使用輻射波長0.71068Å得到α型單晶數據。
採用DECTRIS PILATUS3 6M檢測器與SPring-8 BL41XU光束，使用輻射波長0.71068Å得到β與γ型單晶數據。
實施例6 化合物A之α與β型之間之競爭性實驗
取化合物A之α與β型依1：1重量比混合，添加1-丁醇(800μL)至混合物(80mg)中。所得懸浮液於室溫下攪拌12天。所得物質於相同溫度下過濾後，於室溫下減壓乾燥19小時。採用粉末X-射線繞射儀測定所使用之化合物A之α與β型、攪拌前之化合物A之α與β型1：1重量比混合物、及所得晶體之繞射角2θ與繞射強度。本例之儀器及取得數據之參數均與上述實施例1中α型之特徵分析時相同。所測定之光譜示於第15圖。該圖從下面依序出示所使用之α型化合物A、β型化合物A、攪拌前之化合物A之α與β型1：1重量比混合物、及攪拌後所得結晶之光譜。
比較攪拌前與攪拌後之間之α型繞射角2θ之10.2°峰與β型繞射角2θ之10.6°峰之間之繞射強度比值。如下表所示，β型峰與α型峰之繞射強度比值在攪拌後比攪拌前比值增加。
實施例7 化合物A之α與γ型之間之競爭性實驗
取化合物A之α與γ型依1：1重量比之比例混合，添加1-丁醇(1mL)至混合物(100mg)中。所得懸浮液於室溫下攪拌11天。所得物質於相同溫度下過濾。採用粉末X-射線繞射儀測定所使用之化合物A之α與γ型、攪拌前之化合物A之α與γ型1：1重量比混合物、與所得晶體之繞射角2θ與繞射強度。本例之儀器及取得數據之參數均與上述實施例1中α型之特徵分析時相同。所測得之光譜示於第16圖。該圖從下面依序出示所使用之α型化合物A、γ型化合物A、攪拌前之化合物A之α與γ型1：1重量比混合物、及攪拌後所得結晶之光譜。
比較攪拌前與攪拌後之間之α型繞射角2θ之10.2°峰與γ型繞射角2θ之10.7°峰之間之繞射強度比值。如下表所示，γ型峰與α型峰之繞射強度比值在攪拌後比攪拌前比值增加。
實施例8 化合物A之β與γ型之間之競爭性實驗
(1)取化合物A之β與γ型依1：1重量比混合，添加 甲醯胺(1mL)至混合物(150mg)中。所得懸浮液於室溫下攪拌1天。所得物質於相同溫度下過濾。
(2)取化合物A之β與γ型依1：1重量比混合，添加N,N-二甲基甲醯胺(1mL)至混合物(150mg)中。所得懸浮液於室溫下攪拌1天。所得物質於相同溫度下過濾。
(3)取化合物A之β與γ型依1：1重量比混合，添加二甲亞碸(1mL)至混合物(800mg)中。所得懸浮液於室溫下攪拌1天。所得物質於相同溫度下過濾。
採用粉末X-射線繞射儀測定所使用之化合物A之β與γ型、攪拌前之化合物A之β與γ型1：1重量比混合物、及上述(1)、(2)、與(3)所得之晶體之繞射角2θ與繞射強度。此時之儀器及取得數據之參數均與彼等上述實施例1中α型特徵分析時相同。所測定之光譜示於第17圖。圖中從下面依序出示所使用之γ型化合物A、所使用之β型化合物A、攪拌前之化合物A之β與γ型1：1重量比混合物、得自甲醯胺中之結晶、得自N,N-二甲基甲醯胺中之結晶、與得自二甲亞碸中之結晶之光譜。
依據上述(1)、(2)、與(3)之結果，混合晶體形成γ-單晶。
實施例9 溶解試驗
稱取各樣本(亦即化合物A之α、β與γ型)加至4-mL-體積之玻璃瓶中。添加試驗溶液(3mL)至瓶子中，混合物 懸浮。稱取約150mg樣本(用於日本藥典(Japanese Pharmacopoeia)之溶解試驗之第一流體之試驗溶液)與約15mg(用於日本藥典之溶解試驗之第二流體之試驗溶液)與水。各混合物在20℃之恆溫培養振盪器(製造商TAITEC)上振盪3小時。振盪後，上清液經過孔徑0.2-μm及直徑4-mm之聚四氟乙烯濾片(Millex-LG；製造商Millipore)過濾。進行高效液相層析法(HPLC)測定。結果示於下表。
用於溶解試驗之JP第一流體(日本藥典))：取2.0g氯化鈉溶於7.0mL鹽酸，加水製成1000mL。此溶液透明無色，其pH為約1.2.
用於溶解試驗之JP第二流體(日本藥典)：取一份體積水與一份體積磷酸鹽溶液pH6.8混合。
α型在所測定之各溶劑中顯示最高溶解度，而γ型在所測定之各溶劑中顯示最低溶解度。
實施例10 調配物
下列提供包含化合物A(例如：α型、β型、γ型、或上述任一者之混合物)之調配物，但未加以限制。
調配物1(膠囊製備)
混合1)、2)、3)與4)，填入明膠囊中。
調配物2(錠劑製備)
取全量之1)、2)與3)及30g 4)與水組合，真空乾燥後，造粒。所得顆粒與14g 4)及1g 5)混合，採用壓錠機壓成錠劑。然後得到1000片錠劑，其中每錠包含10mg化合物A。
本發明除了彼等本文之說明外，各種不同修飾將係習此相關技藝人士由上述說明即可了解者。此等 修飾亦計畫包括在附錄之申請專利範圍內。本申請案所摘錄之各參考文獻，包括所有專利案、專利申請案、與期刊文獻之完整揭示內容均已以引用方式併入本文中。

Claims (67)

  1. 一種3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之結晶型，其具有β型。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含一特徵峰，該特徵峰以2θ(°)表示時為約11.8。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含二個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時為選自約10.5、約11.8、約19.3、與約22.0者。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約7.8、約10.5、約11.8、約13.4、約13.9、約17.8、約19.3、約22.0、約23.6、與約28.0者。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之結晶型，其具有之DSC熱像圖之特徵在於在約186℃之吸熱峰。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之結晶型，其具有之固態 13C NMR光譜之特徵在於至少一個在約165.1ppm之峰。
  7. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之結晶型，其具有之固態 13C NMR光譜之特徵在於至少5個選自下列者之峰：約16.5、約25.8、約26.5、約33.1、約34.8、 約36.7、約38.8、約48.2、約53.4、約77.7、約79.5、約101.2、約102.6、約117.5、約120.6、約151.1、約154.3、與約165.1ppm。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之結晶型，其具有之空間群P1具有下列晶胞參數：
  9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約50%。
  10. 如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約75%。
  11. 如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約85%。
  12. 如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約90%。
  13. 如申請專利範圍第1至8項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約95%。
  14. 一種3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之結晶 型，其具有γ型。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含一特徵峰，該特徵峰以2θ(°)表示時為約16.5。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含二個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約16.5、約17.7、約21.4、約21.8、與約23.1者。
  17. 如申請專利範圍第14項所述之結晶型，其具有之X-射線粉末繞射圖型包含三個或更多個特徵峰，該等特徵峰以2θ(°)表示時係選自約7.7、約10.6、約13.3、約13.9、約15.5、約16.5、約17.7、約17.9、約19.0、約21.4、約21.8、與約23.1、約23.7、與約28.1者。
  18. 如申請專利範圍第14至17項中任一項所述之結晶型，其具有之DSC熱像圖之特徵在於在約196℃之吸熱峰。
  19. 如申請專利範圍第14至18項中任一項所述之結晶型，其具有之固態 13C NMR光譜之特徵在於至少一個在約162.9ppm之峰。
  20. 如申請專利範圍第14至19項中任一項所述之結晶型，其具有之固態 13C NMR光譜之特徵在於至少5個選自下列者之峰：約16.9、約26.5、約32.9、約36.4、約48.1、約53.7、約78.6、約102.6、約116.4、約117.9、約121.5、約151.8、約154.6、與約162.9ppm。
  21. 如申請專利範圍第14至20項中任一項所述之結晶型， 其具有之空間群P2 1具有下列晶胞參數：
  22. 如申請專利範圍第14至21項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約50%。
  23. 如申請專利範圍第14至21項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約75%。
  24. 如申請專利範圍第14至21項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約85%。
  25. 如申請專利範圍第14至21項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約90%。
  26. 如申請專利範圍第14至21項中任一項所述之結晶型，其純度為至少約95%。
  27. 一種製備如申請專利範圍第1至13項中任一項所述之結晶型之方法，其包括將3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈從溶劑中結晶。
  28. 如申請專利範圍第27項所述之方法，其中該溶劑包含1-丁醇與乙腈。
  29. 如申請專利範圍第28項所述之方法，其中該1-丁醇與乙腈之比例為約1：3(v/v)。
  30. 一種結晶型β，其係由如申請專利範圍第27至29項中任一項所述之方法製備者。
  31. 一種製備如申請專利範圍第14至26項中任一項所述之結晶型之方法，其包括將3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之α型轉化成γ型。
  32. 如申請專利範圍第31項所述之方法，其包括將α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈於二甲基甲醯胺(DMF)中攪拌。
  33. 如申請專利範圍第31項所述之方法，其包括將α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈於甲醯胺中攪拌。
  34. 一種結晶型γ，其係由如申請專利範圍第31至33項中任一項所述之方法製備。
  35. 一種包含α型與β型結晶3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之組成物。
  36. 如申請專利範圍第35項所述之組成物，其基本上係由α型與β型組成。
  37. 如申請專利範圍第35或36項所述之組成物，其中β 型之存在量相對於α型為約1至約50% w/w。
  38. 如申請專利範圍第35或36項所述之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約20% w/w。
  39. 如申請專利範圍第35或36項所述之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約10% w/w。
  40. 如申請專利範圍第35或36項所述之組成物，其中β型之存在量相對於α型為約1至約5% w/w。
  41. 如申請專利範圍第35至40項中任一項所述之組成物，其更包含γ型。
  42. 一種包含β型與γ型結晶3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈之組成物。
  43. 如申請專利範圍第42項所述之組成物，其基本上係由β型與γ型組成。
  44. 如申請專利範圍第42或43項所述之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約50% w/w。
  45. 如申請專利範圍第42或43項所述之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約20% w/w。
  46. 如申請專利範圍第42或43項所述之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約10% w/w。
  47. 如申請專利範圍第42或43項所述之組成物，其中γ型之存在量相對於β型為約1至約5% w/w。
  48. 如申請專利範圍第42至47項中任一項所述之組成物，其更包含α型。
  49. 一種醫藥組成物，其包含如申請專利範圍第1至48項中任一項所述之結晶型或組成物，與醫藥上可接受之載劑。
  50. 如申請專利範圍第49項所述之醫藥組成物，其更包含第二醫療劑。
  51. 如申請專利範圍第49或50項所述之醫藥組成物，其適合經口、非經腸式、肺部、局部、或外用投藥。
  52. 如申請專利範圍第49或50項所述之醫藥組成物，其適合外用投藥。
  53. 如申請專利範圍第49或50項所述之醫藥組成物，其係呈錠劑、膠囊、丸劑、粉末、或油膏之型式。
  54. 如申請專利範圍第49或50項所述之醫藥組成物，其係呈粉末型式，該粉末型式適合於液體中再組成，供IV、IM、或SC投藥。
  55. 如申請專利範圍第49或50項所述之醫藥組成物，其包含白色軟石蠟、硬石蠟、角鯊烯、或其混合物。
  56. 一種抑制Janus激酶之方法，其包括使Janus激酶與如申請專利範圍第1至55項中任一項所述之結晶型或組成物接觸。
  57. 如申請專利範圍第56項所述之方法，其中該Janus激酶為Janus激酶3(JAK3)。
  58. 如申請專利範圍第56項所述之方法，其中該Janus激酶為Janus激酶2(JAK2)。
  59. 一種用於治療或預防選自下列疾病之方法：器官移植排 斥、移植後移植物對抗宿主之反應、自體免疫疾病、過敏性疾病、與慢性骨髓增生性疾病，該方法包括對哺乳動物投與醫療有效量之如申請專利範圍第1至55項中任一項所述之結晶型或組成物。
  60. 一種用於治療或預防類風濕關節炎、乾癬、圓禿、乾眼病、異位性皮膚炎、濕疹、或手部濕疹之方法，其包括對哺乳動物投與醫療有效量之如申請專利範圍第1至55項中任一項所述之結晶型或組成物。
  61. 如申請專利範圍第1至55項中任一項所述之結晶型或組成物，其係使用作為醫藥活性成份。
  62. 如申請專利範圍第1至55項中任一項所述之結晶型或組成物，其係用於治療或預防器官移植排斥、移植後移植物對抗宿主之反應、自體免疫疾病、過敏性疾病、或慢性骨髓增生性疾病。
  63. 如申請專利範圍第1至55項中任一項所述之結晶型，其係用於治療或預防類風濕關節炎、乾癬、圓禿、乾眼病、異位性皮膚炎、濕疹、或手部濕疹。
  64. 一種在製備α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈時測定β型存在量之方法，其包括測定屬於β型特徵之XRPD峰之峰面積，並將該峰面積與標準物比較。
  65. 如申請專利範圍第64項所述之方法，其中該β型之特徵峰出現在約10.6° 2-θ。
  66. 一種在製備α型3-((3S,4R)-3-甲基-6-(7H-吡咯并[2,3-d] 嘧啶-4-基)-1,6-二氮雜螺[3.4]辛烷-1-基)-3-側氧基丙腈時測定γ型存在量之方法，其包括測定屬於γ型特徵之XRPD峰之峰面積，並將該峰面積與標準物比較。
  67. 如申請專利範圍第66項所述之方法，其中γ型之特徵峰出現在約16.6° 2-θ。
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