TW201825628A - 液晶面板及影像顯示裝置 - Google Patents

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外山雄祐
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之課題其目的在於提供一種液晶面板及包含前述液晶面板之影像顯示裝置；該液晶面板是即使在利用含導電劑即離子性化合物之黏著劑層來積層包含具有特定透濕度之透明保護薄膜的偏光薄膜、及附含金屬之透明導電層之液晶單元的情況下，仍可抑制黏著劑層因加濕(濕熱)而產生的白濁現象，且提升黏著劑層之耐久性(抑制發泡、剝離)，並更進一步地抑制透明導電層之腐蝕、及透明導電層之表面電阻的上升。 本發明之解決手段為本發明液晶面板之特徵在於具有具偏光薄膜及在前述偏光薄膜之至少單面具有由黏著劑組成物形成之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，且前述偏光薄膜係藉由前述黏著劑層貼合於附含金屬之透明導電層之液晶元件上，其中前述偏光薄膜具有偏光件及在前述偏光件之至少單面具有透明保護薄膜；其中，前述透明保護薄膜在40℃×92%RH下之透濕度為1000g/(m2.24h)以下；前述黏著劑組成物含有離子性化合物；前述黏著劑層以下述式所示之霧度值的差為5.0%以下。 式=[(貼附於玻璃，並在60℃×95%RH下投入500小時後，在室溫下取出經過30分鐘後之霧度值(%))-(初始之霧度值(%))]

Description

液晶面板及影像顯示裝置
本發明是有關於利用附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層貼合有附含金屬之透明導電層之液晶單元的液晶面板、及包含前述液晶面板之影像顯示裝置。
發明背景 以往，使用於影像顯示裝置之液晶面板是在附透明導電層之液晶單元利用黏著劑層積層有偏光薄膜。且對所述液晶面板等之光學用途的黏著劑層會要求高透明性。
另外，在影像顯示裝置中，作為觸控感測器之電極等大多是使用在透明樹脂薄膜上形成ITO(銦-錫複合氧化物)等之金屬氧化物層而得的透明導電層。
影像顯示裝置中所使用之黏著劑組成物係廣泛使用含有(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑，譬如周知有一種黏著劑層，其係附黏著劑層之透明導電層的黏著劑層，且含有丙烯酸系聚合物，該丙烯酸系聚合物系含有具有碳數2~14之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元(例如參照專利文獻1)。並且，亦周知有一種光學薄膜用黏著劑組成物等，其含有(甲基)丙烯酸系聚合物及磷酸酯系化合物，該(甲基)丙烯酸系聚合物係將包含以具有碳數4~18之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分之單體成分聚合而得者(例如參照專利文獻2)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2011-016908號公報 專利文獻2：日本專利特開2015-028138號公報
發明概要 發明欲解決之課題 在如此的情況下，當利用附有抗靜電機能之黏著劑層來積層偏光薄膜及透明導電層時，會有透明導電層受到腐蝕的情況，尤其是在濕熱環境下特別明顯。另外得知了前述透明導電層會因為接觸之黏著劑層所含之水分與用以賦予抗靜電機能的導電劑而受到腐蝕。而且，因透明導電層受到腐蝕，而在黏著劑層與透明導電層之接觸界面也會出現產生剝離或表面電阻惡化等之問題。
此外，由於在用作透明導電層之金屬氧化物層的ITO等中，幾乎沒有發現到因水分或導電劑所造成之腐蝕的問題，因此認為會特別容易因水分或導電劑而產生腐蝕之問題的透明導電層為金屬(單種)或合金等。
推測這是因為為了賦予抗靜電機能而添加之導電劑導致黏著劑層之吸水率變高，而黏著劑層所含的水分使得含金屬之透明導電層的腐蝕進展。又，吾人認為導電劑偏析(局部存在)於黏著劑層與透明導電層之界面附近，會使透明導電層之腐蝕的進展加速。
專利文獻1所記載之黏著劑層，係設置於不具有透明塑膠基材的透明導電層之面，黏著劑層與透明導電層並不接觸，且針對黏著劑層所造成的腐蝕並無任何討論。又，專利文獻2中雖然針對透明導電層之腐蝕有進行討論，然其係藉由在黏著劑層中添加磷酸酯系化合物來抑制腐蝕，而針對特定之導電劑並無任何記載。
此外，使用了藉由前述黏著劑層而貼附有偏光薄膜之附透明導電層之液晶單元的液晶面板，在處於濕熱環境下後再恢復到室溫時，會有前述黏著劑層產生白濁(白化)的情況。該白濁現象是因為在濕熱環境下吸濕至黏著劑層中的水分在恢復到室溫時凝聚而產生。
因此，本發明的目的在於提供一種液晶面板及包含前述液晶面板之影像顯示裝置；前述液晶面板是即使 在利用含導電劑即離子性化合物之黏著劑層來積層包含具有特定透濕度之透明保護薄膜的偏光薄膜、及附透明導電層之液晶單元的情況下，仍可抑制黏著劑層因加濕(濕熱)而產生的白濁現象，且提升黏著劑層之耐久性(抑制發泡、剝離)，並抑制黏著劑層表面之表面電阻的上升，更進一步地抑制含金屬之透明導電層之表面電阻的上升，進而抑制透明導電層之腐蝕。
用以解決課題之手段 本發明人等為了解決上述課題反覆精闢研討的結果發現下述液晶面板，乃至完成本發明。
亦即，本發明之液晶面板之特徵在於具有具偏光薄膜及在前述偏光薄膜之至少單面具有由黏著劑組成物形成之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，且前述偏光薄膜係藉由前述黏著劑層貼合於附含金屬之透明導電層之液晶單元上，前述偏光薄膜具有偏光件及在前述偏光件之至少單面具有透明保護薄膜；其中，前述透明保護薄膜在40℃×92%RH下之透濕度為1000g/(m2. 24h)以下；前述黏著劑組成物含有離子性化合物；前述黏著劑層以下述式所示之霧度值的差為5.0%以下。 式=[(貼附於玻璃，並在60℃×95%RH下投入120小時後，在室溫下取出經過30分鐘後之霧度值(%))-(初始之霧度值(%))]
本發明之液晶面板中，前述含金屬之透明導電層為含金屬網之透明導電層較佳。
本發明之液晶面板中，前述離子性化合物之分子量為290以上較佳。
本發明之液晶面板中，前述黏著劑組成物含有宜含有選自於由含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體所構成群組中的1種以上之單體作為單體單元、以及含有(甲基)丙烯酸烷基酯。
本發明之影像顯示裝置包含前述液晶面板較佳。 發明效果
本發明可以提供一種液晶面板及包含前述液晶面板的影像顯示裝置，本發明之液晶面板是使用具有具特定透濕度之透明保護薄膜的偏光薄膜、及含導電劑即離子性化合物之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，且該黏著劑層在特定條件下之霧度值即使處於濕熱環境下也不會大幅變化，藉由將使用前述黏著劑層之附黏著劑層之偏光薄膜透過前述黏著劑層貼合於附含金屬之透明導電層之液晶單元上，則即便在濕熱環境下也可以抑制黏著劑層因加濕(濕熱)而產生的白濁現象，並提升黏著劑層之耐久性(抑制發泡、剝離)，且抑制黏著劑層表面之表面電阻的上升，進而抑制含金屬(特別是金屬(單種)或合金所構成之金屬網)的透明導電層之表面電阻的上升，且更進一步地抑制透明導電層的腐蝕，非常有用。
用以實施發明之形態 1.黏著劑組成物 本發明所使用之黏著劑組成物之特徵在於其係用以形成附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層的黏著劑組成物，前述附黏著劑層之偏光薄膜是貼合於附含金屬之透明導電層之液晶單元而使用，且該黏著劑組成物含有離子性化合物作為導電劑。
本發明所使用之黏著劑層由含有基礎聚合物及交聯劑之黏著劑組成物形成較佳。前述黏著劑組成物可作成丙烯酸系、合成橡膠系、橡膠系、聚矽氧系等黏著劑等等，惟從透明性、耐熱性等的觀點來看，宜為以(甲基)丙烯酸系聚合物為基礎聚合物的丙烯酸系黏著劑。
(1)(甲基)丙烯酸系聚合物 前述黏著劑組成物宜含有(甲基)丙烯酸系聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物通常含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。此外，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之「(甲基)」亦為相同意義。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示如具有碳數1~18之直鏈狀或支鏈狀的烷基者。例如，作為前述烷基可例示如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異肉豆蔻基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。該等可單獨使用或可組合使用。特別是具有碳數1~4的直鏈狀或支鏈狀之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，由於更具親水性，因此具有可使在濕熱環境下侵入黏著劑(層)中之水分分散至黏著劑(層)中的作用，而對抑制腐蝕及抑制白濁，甚至耐久性都很有效。另一方面，若為具有碳數5以上的直鏈狀或支鏈狀之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，由於其更具疏水性，因此在濕熱環境下侵入黏著劑(層)中的水分會容易偏析於黏著劑層與被附體的界面，而腐蝕、白濁、及耐久性容易惡化。
前述(甲基)丙烯酸烷基酯係作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體中的主成分。此處，所謂主成分意指在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體中，(甲基)丙烯酸烷基酯為70重量%以上，較佳為80~99.9重量%，更佳為90~99.8重量%。
又，本發明中，由抑制透明導電層之腐蝕的觀點來看，前述(甲基)丙烯酸系聚合物宜含有選自於由含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體所構成群組中的1種以上之單體作為單體單元。前述含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體，可使用該等中之任一個，亦可將該等併用來使用，但由耐腐蝕性的觀點來看，含有含醯胺基單體最佳，含有含羥基單體次佳，再來宜含有含羧基單體。特別是由於在含醯胺基單體中藉由添加含N-乙烯基內醯胺系單體，抑制黏著劑中之導電劑偏析的效果高，故在抑制黏著劑之表面電阻值的上升性之外，耐腐蝕性亦良好。
就含羧基單體而言，可無特別限制地使用具有聚合性官能基且具有羧基之物，該聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵。含羧基單體可舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸及異巴豆酸等，其等可單獨使用或組合使用。伊康酸、馬來酸則可使用其等之酸酐。於此等當中以丙烯酸、甲基丙烯酸為佳，且尤以丙烯酸為佳。一般而言，將含有含含羧基單體作為單體單元之聚合物的黏著劑層使用於含金屬(特別是由金屬(單種)或合金所構成之金屬網)之透明導電層等含金屬之層時，會有使由羧基引起之金屬層腐蝕發生的情況。因此，通常含羧基單體不會使用於以耐腐蝕性為目的之黏著劑。本發明中，藉由在黏著劑組成物中含有含羧基單體、後述之含羥基單體及/或含醯胺基單體，可以提升導電劑之分散性。由已提升導電劑之分散性的黏著劑組成物所形成之黏著劑層，由於導電劑不會偏析(局部存在)，而可獲得更高之抑制透明導電層的腐蝕效果，故較佳。
前述含羧基單體的比率，在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體中以5重量%以下為佳，0.1~3重量%較佳，0.1~1重量%更佳。若含羧基單體之比率超過5重量%，由於會促進黏著劑之交聯使黏著物性明顯變硬(儲存彈性模數變高)，而在耐久性試驗時引起剝離等之不良情況，故不佳。又，本發明中，由於藉由微量含有5重量%以下左右之前述含羧基單體，可以獲得更高之抑制腐蝕效果，因此較佳。
前述含羥基單體是在其結構中含有羥基並含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。具體而言，可舉例如(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥月桂酯等之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、或丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯等。在前述含羥基單體中，由耐久性及導電劑即離子性化合物之均勻的分散性、抑制腐蝕之效果的觀點看來，也是(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯較佳，並且(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯尤佳。
前述含羥基單體的比率，在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體中，以0.01~10重量%為佳，0.03~5重量%較佳，0.05~3重量%更佳。
前述含醯胺基單體是其構造中含有醯胺基，且含有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。含醯胺基單體之具體例，可舉例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等之丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基啉、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶等之N-丙烯醯基雜環單體；N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等之含N-乙烯基內醯胺系單體等。該等之中，也是含N-乙烯基內醯胺系單體較佳。
前述含醯胺基單體之比率，在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體中，以0.01~10重量%為佳，0.03~7重量%更佳，0.05~5重量%尤佳。本發明中，由於藉由含有10重量%以下左右之前述含醯胺基單體，而可以與添加了含羥基單體或含羧基單體時同樣地獲得較高之抑制腐蝕的效果，故較佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，除了前述(甲基)丙烯酸烷基酯、含羧基單體、含醯胺基單體、含羥基單體以外，在不損及本發明效果之範圍內，可導入上述單體以外之共聚單體。其混合比率並無特別限定，但在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體中10重量%以下左右為佳。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物通常是使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。此外，若考慮所製得黏著劑層之耐久性、尤其是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬之物。更以80萬~250萬為宜。若重量平均分子量較50萬小，會需要增加交聯劑量而失去交聯之柔軟性，因此無法緩和偏光薄膜之收縮所帶來之應力，並且在耐久性方面會產生剝離，故不佳。又，重量平均分子量若變得大於300萬，就需要大量的稀釋溶劑以調整成塗佈所需黏度而會拉高成本故並不適宜。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且利用聚苯乙烯換算所算出之值。
所述(甲基)丙烯酸系聚合物的製造，可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
在前述溶液聚合中，作為聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。作為具體的溶液聚合例，是在氮等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑，且通常以50~70℃左右、5~30小時左右的反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等可無特別限定地適當選擇並使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑和鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
作為聚合引發劑可舉例如2, 2’-偶氮雙異丁腈、2, 2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2, 2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2, 2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2, 2’-偶氮雙(N, N’-二亞甲基異丁基脒)、2, 2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057，和光純藥工業(股)製)等之偶氮系引發劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯、二-二級丁基過氧二碳酸酯、三級丁基過氧新癸酸酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1, 1, 3, 3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、過異丁酸三級丁酯、1, 1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等之過氧化物系引發劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等過氧化物與還原劑組合而得之氧化還原系起始劑等；但不受限於此。
前述聚合引發劑可單獨使用，亦可混合2種以上使用，但整體含量相對於100重量份之構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體宜為0.005~1重量份左右，更宜為0.02~0.5重量份左右。
另舉例來說，使用諸如2，2´-偶氮雙異丁腈作為聚合引發劑來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，聚合引發劑之使用量相對於100重量份之構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全單體宜設為0.06~0.2重量份左右，更宜設為0.08~0.175重量份左右。
又，當在使用鏈轉移劑、乳化聚合時所使用之乳化劑或反應性乳化劑時，可以適當地使用此等以往公知者。且該等之使用量，可在不損及本發明效果之範圍內適當決定。
(2)離子性化合物(導電劑) 前述黏著劑組成物之特徵在於含有離子性化合物(導電劑)。藉由使用前述離子性化合物，可以確保黏著劑層之抗靜電機能。此外，由於黏著劑層中含有離子性化合物，則接觸前述黏著劑層之含金屬(特別是金屬(單種)或合金構成之金屬網)的透明導電層會有腐蝕之虞，尤其是在濕熱環境下，黏著劑層中之離子性化合物會偏析(局部存在)於與含金屬之透明導電層接觸側，而有被腐蝕之虞。因此，作為離子性化合物，宜使用分子量(莫耳分子量)為290以上者，380以上者為佳，400以上較佳，500以上更佳，600以上尤佳。藉由使用分子量為290以上之離子性化合物，可以抑制透明導電層之腐蝕，並且，抑制黏著劑層表面之表面電阻的上升，進而可抑制含金屬之透明導電層的表面電阻上升等。離子性化合物之分子量愈大，含離子性化合物之黏著劑層的吸水率會愈低，且因不易致使前述離子性化合物偏析在黏著劑層與透明導電層接觸之界面，故可抑制透明導電層的腐蝕。又，離子性化合物之分子量的上限值並無特別限定，但其為2000以下可確保黏著劑層之抗靜電機能、謀求兼顧耐久性，因而較佳。
又，若離子性化合物(導電劑)之分子量低於290，黏著劑層之吸水率會變高，所以推測黏著劑層所含之水分會使透明導電層之腐蝕進展。且，若離子性化合物之分子量低於290，由於分子量小，離子性化合物在黏著劑層中容易移動至與透明導電層的界面附近，因此會產生偏析(局部存在)，故推測會因前述界面附近之離子性化合物而引起腐蝕。離子性化合物在黏著劑層中有大多偏析於與透明導電層之界面附近的傾向，因此推測前述界面附近之離子性化合物會加速腐蝕之進行。而該等現象在透明導電層中相當顯著。並且，在濕熱環境下也特別顯著。本發明中，由於使用分子量為290以上之離子性化合物，因其分子量大，所以在濕熱環境下離子性化合物也難以移動至黏著劑層中，不易偏析，故離子性化合物容易保持均勻分散的狀態，結果推測可抑制透明導電層之腐蝕。
前述離子性化合物(導電劑)宜為具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物。針對前述陰離子成分、陽離子成分進行說明。
(離子性化合物之陰離子成分) 本發明中雖未特別限定，但陰離子成分之總碳數宜為6以上，8以上更佳。又，陰離子成分之總碳數的上限值並無特別限定，但宜為16以下，10以下更佳。若陰離子成分之總碳數為6以上，由於離子性化合物本身的疏水性會變高，因此在黏著劑層中不易包含水分，結果可抑制透明導電層之腐蝕。
又，前述陰離子成分宜具有有機基，且前述有機基宜為碳數3以上之有機基，碳數4以上之有機基更佳。
前述陰離子成分之分子量並無特別限定，宜為以離子性化合物來說之分子量為290以上，但100以上為佳，200以上較佳，300以上更佳。由於陰離子成分之分子量成為前述範圍，離子性化合物本身之疏水性會變高，因此在黏著劑層中難以包含水分，結果可抑制透明導電層之腐蝕而較佳。又，陰離子成分之分子量的上限值並無特別限定，但因其為1000以下可確保黏著劑層之抗靜電機能、及謀求兼顧耐久性，因而較佳。
作為陰離子成分，由抑制腐蝕之觀點來看，以下述通式所示之至少1種陰離子成分較佳： 通式(1)： (Cn F2n ＋1 SO2 )2 N－ (1) (通式(1)中，n為1~10的整數(n為3~10的整數較佳))、 通式(2)： CF2 (Cm F2m SO2 )2 N－ (2) (通式(2)中，m為1~10的整數(m為2~10的整數較佳))、及 通式(3)：－ O3 S(CF2 )l SO3 － (3) (通式(3)中，l為1~10的整數(l為3~10的整數較佳))。
以上述通式(1)所示之陰離子成分，具體而言可舉出如雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十一氟戊烷磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十三氟己磺醯基)醯亞胺陰離子及雙(十五氟庚磺醯基)醯亞胺陰離子等。在該等中，又以雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子及雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子為佳，且以雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子特別理想。
以上述通式(2)所示之陰離子成分，具體而言可舉出如環六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞胺陰離子，且可適當使用。
以上述通式(3)所示之陰離子成分，具體而言可舉出如六氟丙烷-1,3-二磺酸陰離子，且可適當使用。
(離子性化合物之陽離子成分) 本發明中，陽離子成分宜為有機陽離子。陽離子之總碳數宜為6以上，8以上較佳，10以上更佳。又，陽離子之總碳數的上限值並無特別限定，但宜為40以下，30以下更佳。由於陽離子成分之總碳數為6以上，離子性化合物本身的疏水性會變高，故黏著劑層中不易包含水分，結果可抑制透明導電層之腐蝕，故較佳。
又，前述陽離子成分宜具有有機基，且前述有機基宜為碳數3以上之有機基，碳數7以上之有機基更佳。
本發明中宜使用前述有機陽離子，且宜為以離子性化合物來說之分子量為290以上者，並且當使用鋰、鈉、鉀之鹼金屬離子等作為陽離子成分時，僅以少量的添加量來降低表面電阻值的效果就很高，因而較佳。
當離子性化合物之陽離子成分為有機陽離子時，其會與上述陰離子成分一同構成有機陽離子-陰離子鹽作為離子性化合物。有機陽離子-陰離子鹽亦稱為離子性液體、離子性固體。作為有機陽離子，具體而言可舉出如吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具二氫吡咯骨架的陽離子、具吡咯骨架的陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，可以適當選擇由組合上述陽離子成分與陰離子成分所構成之化合物來使用，可舉出例如丁基甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、N-丁基-甲基吡啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、甲基丙基吡咯啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺、雙(1-丁基-3-甲基吡啶鎓)六氟丙烷-1,3-二磺酸、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓環-環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺、雙(1-乙基-3-甲基吡啶鎓)六氟丙烷-1,3-二磺酸、甲基三辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、甲基三辛基銨雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、己基甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、甲基丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、丁基甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、甲基三辛基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-癸基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
又，含有鹼金屬離子作為陽離子成分鹼金屬鹽，具體而言可舉出如雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鋰、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鈉、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鉀、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鋰、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鈉、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鉀等。
本發明黏著劑組成物中之離子性化合物的使用量宜相對於100重量份之(甲基)丙烯酸系聚合物為0.001~10重量份，0.1~5重量份較佳，0.3~3重量份更佳。若前述離子性化合物低於0.001重量份，降低表面電阻值的效果會變得匱乏。另一方面，前述離子性化合物若多於10重量份，會有耐腐蝕性及耐久性惡化的情況。
(3)交聯劑 本發明之黏著劑組成物中，除前述以外亦可含有交聯劑。藉由使用交聯劑可賦予與黏著劑之耐久性相關的凝聚力因此較佳。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉出如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉出如氧原子等，有機化合物則可舉如烷基酯類、醇類化合物、羧酸化合物、醚類化合物、酮類化合物等。
本發明黏著劑組成物中之交聯劑的使用量宜相對於100重量份之(甲基)丙烯酸系聚合物為0.01~5重量份，並以0.03~2重量份較佳。
(4)其他 並且在本發明之黏著劑組成物中亦可含有其他的公知添加劑，例如可視使用用途適當添加各種矽烷耦合劑、聚丙二醇等聚伸烷基二醇的聚醚化合物、著色劑、顔料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。
2.黏著劑層 本發明之黏著劑層的特徵在於其由前述黏著劑組成物所形成。
就形成黏著劑層之方法而言，例如可舉出將前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理之分離件等後，將聚合溶劑等乾燥除去以形成黏著劑層的方法。又，亦可藉由將前述黏著劑組成物塗佈於後述之偏光薄膜後，將聚合溶劑等乾燥除去而於偏光薄膜形成黏著劑層的方法等來製作。此外，黏著劑組成物之塗佈可適度地另外添加聚合溶劑以外之一種以上的溶劑。
經剝離處理之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。在此種襯材上塗佈本發明之黏著劑組成物，使其乾燥而形成黏著劑層時，可視目的採用適當適切的方法以作為使黏著劑乾燥的方法。理想的是採用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定在上述範圍內，可獲得具有優異的黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用適宜的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，5秒~10分鐘更佳，10秒~5分鐘尤佳。
前述黏著劑組成物之塗佈方法可採用各種方法。具體而言，可舉出例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、空氣刮刀塗佈、簾式塗佈、唇塗佈、利用模塗佈機等的擠壓式塗佈法等方法。
黏著劑層之厚度(乾燥後)並無特別限制，例如為1~100μm左右，但以2~50μm較佳，2~40μm更佳，5~35μm尤佳。若黏著劑層之厚度低於1μm，對被附體之密著性會變得不夠，導致濕熱環境下的耐久性有不充分的傾向。另一方面，若黏著劑層的厚度超過100μm，形成黏著劑層時黏著劑組成物在塗佈、在乾燥時將無法充分地完全乾燥，而殘存有氣泡，或在黏著劑層產生厚度參差，而有外觀上的問題變得容易明顯化的傾向。
本發明中所使用之黏著劑層的特徵在於以下述式所示之霧度值的差為5.0%以下。由於前述黏著劑層之霧度值的差(霧度差)為5.0%較小，因此即使長時間處於濕熱環境下，霧度值之變化仍小，亦即，黏著劑層中之水分少，而能夠抑制接觸前述黏著劑層之含金屬(特別是由金屬(單種)或合金所構成之金屬網)的透明導電層之腐蝕，進而抑制黏著劑層因加溫而造成的白濁現象，而為較佳的態樣。此外，霧度差宜為4.0%以下，3.0%以下較佳。由於霧度差變小，更能夠抑制透明導電層的腐蝕，十分有用。此外，若霧度差超過5.0%，會有視辨性(白濁現象的抑制)差，而變得難以抑制腐蝕的情況，因而不佳。 式=[(貼附於玻璃，並在60℃×95%RH下投入500小時後，在室溫下取出經過30分鐘後之霧度值(%))-(初始之霧度值(%))]
又，就本發明中所使用之黏著劑層(含有離子性化合物)而言，在不含導電劑即離子性化合物狀態下之黏著劑層的水分率(飽和水分率)在23℃×55%RH下靜置5小時後、及在60℃×90%RH下靜置5小時後，宜為3重量%以下，其組成並無特別限定。不含離子性化合物狀態之黏著劑層的水分率宜為2重量%以下，1.3重量%以下更佳。一旦不含離子性化合物狀態之黏著劑層的水分率超過3重量%，以含離子性化合物的狀態來說，黏著劑層中的水分量會變多，而有耐腐蝕性惡化，或在濕熱環境下發泡的情況，而有耐久性惡化的傾向。
3.附黏著劑層之偏光薄膜 本發明所使用之附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於具有具偏光薄膜及在前述偏光薄膜之至少單面具有由黏著劑組成物形成之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述偏光薄膜具有偏光件及在前述偏光件之至少單面具有透明保護薄膜。例如，如圖1所示，本發明所使用之附黏著劑層之偏光薄膜3是偏光薄膜1及黏著劑層2積層而成者。又，如圖2~4所示，本發明所使用之附黏著劑層之偏光薄膜3是貼合於附含金屬之透明導電層之液晶單元(玻璃基板5+液晶層6+玻璃基板5)的透明導電層4而使用。
黏著劑層之形成方法如上述。
本發明所使用之附黏著劑層之偏光薄膜在黏著劑層形成於經剝離處理之分離件上時，可以將前述分離件上之黏著劑層轉印至偏光薄膜之透明保護薄膜面而形成附黏著劑層之偏光薄膜。另外，亦可直接在偏光薄膜塗佈前述黏著劑組成物後，將聚合溶劑等乾燥除去而形成附黏著劑層之偏光薄膜。
又，可在前述偏光薄膜之塗佈黏著劑組成物的表面形成錨定層，或施予電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層表面施行易接著處理。
又，當附黏著劑層之偏光薄膜中黏著劑層露出時，亦可用經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層直到要貼合於含金屬之透明導電層前。
作為分離件的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜，紙、布、不織布等多孔質材料、網、發泡片材、金屬箔及其等之積層體等適當的薄片體等等，但從表面平滑性優良此點來看，適於使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要為可保護前述黏著劑層之薄膜即可，並未特別受限，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對酞酸乙二酯薄膜、聚對酞酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度通常為5~200μm，並宜為5~100μm左右。在前述分離件上，亦可視需要利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或者脂肪酸醯胺系之脫模劑、矽石粉等作脫模及防污處理，或進行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自前述黏著劑層剝離之剝離性。
此外，在上述附黏著劑層之偏光薄膜的製作中所使用之經剝離處理的片材，可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜的分離件使用，而可在製程方面簡略化。
偏光薄膜使用的是具有偏光件及在前述偏光件的至少單面具有透明保護薄膜者。
偏光件並無特別限定，可使用各種物質。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中尤其以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為佳，含有碘及/或碘離子之碘系偏光件更佳。又，該等偏光件之厚度無特別限制，一般為5~80μm左右。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可視需要浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸及碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
又，在本發明中亦可使用厚度10μm以下之薄型偏光件。從薄型化觀點來說，厚度在1~7μm為宜。這種薄型偏光件，厚度參差較少且視辨性優異，且尺寸變化較少故耐久性優異，而且作成偏光薄膜的厚度亦能力求薄型化，就此等觀點來看係為優選。
作為薄型之偏光件，代表性而言可舉如日本專利特開昭51-069644號公報及日本專利特開2000-338329號公報、國際公開案第2010/100917號公報手冊、國際公開案第2010/100917號公報手冊、或日本專利4751481號說明書及日本專利特開2012-073563號公報所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜，可藉由包含下述步驟之製法來獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟。若為此種製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可在不因延伸造成斷裂等不良狀況下延伸。
作為前述薄型偏光膜，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色之步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如國際公開案第2010/100917號公報手冊、國際公開案第2010/100917號公報手冊、或日本專利4751481號說明書及日本專利特開2012-073563號公報所記載之一種由包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為利用日本專利4751481號說明書及日本專利特開2012-073563號公報所記載之一種包含在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。
本發明中所使用之透明保護薄膜之特徵在於其在40℃×92%RH下的透濕度為1000g/(m2. 24h)以下。前述透明保護薄膜只要是具有前述範圍之透濕度者即可不特別受限地使用。藉由將前述透明保護薄膜的透濕度調整於前述範圍內，可以防止水分往與前述透明保護薄膜接觸之前述黏著劑層浸入，而更能抑制白濁現象，進而防止與前述黏著劑層接觸之含金屬(特別是由金屬(單種)或合金所構成之金屬網)的透明導電層之腐蝕，十分有用。透明保護薄膜之透濕度宜為600g/(m2. 24h)以下，300g/(m2. 24h)以下較佳，200g/(m2. 24h)以下更佳，100g/(m2. 24h)以下尤佳。若透明保護薄膜之透濕度超過1000g/(m2. 24h)，侵入黏著劑層之水分量會變多，而有透明導電層腐蝕的情況，並且會有液晶面板本身之耐久性惡化的情況，故不佳。透明保護薄膜之透濕度變高，會使透明保護薄膜本身在濕熱環境下的尺寸變化率變大，從加濕耐久性的觀點來看也不理想。又，透明保護薄膜之透濕度愈低，就愈能抑制與透明保護薄膜接觸之黏著劑層表面的表面電阻值之上升。例如，在加濕(濕熱)環境下，推測侵入至黏著劑層中之水在循環之際，水分會由含透明保護薄膜之偏光薄膜側揮發，且此時黏著劑層中之部分導電劑成分(離子性化合物)會朝偏光薄膜側移動，因此與偏光薄膜接觸之黏著劑層表面的導電劑成分會減少，使黏著劑層表面的表面電阻值上升。另一方面，吾人推測由於構成偏光薄膜之透明保護薄膜的透濕度愈低，愈能夠防止水侵入黏著劑層，因此可以抑制黏著劑層表面之表面電阻值的上升，進而可抑制與黏著劑層表面接觸之含金屬(特別是由金屬(單種)或合金所構成之金屬網)的透明導電層表面之表面電阻值。再者，金屬氧化物層之ITO等，雖然有不易受到黏著劑層中所含之離子性化合物所造成之影響(腐蝕)的傾向，但由細線化或形成圖案之容易性的觀點來看，以不使用ITO等，而使用前述含金屬之透明導電層為較佳態樣。
作為構成透明保護薄膜的材料，除前述透濕度以外，還可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、抗濕性、等向同性等優異之熱可塑性樹脂。作為該種熱可塑性樹脂之具體例，可舉如三醋酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳香酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及其等之混合物。透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意的適當添加劑。作為添加劑，可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顔料、著色劑等。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，熱可塑性樹脂恐有無法充分展現其原本具有的高透明性等之虞。
在前述偏光件之至少單側以接著劑層貼合有透明保護薄膜。偏光件與透明保護薄膜的接著處理可使用接著劑。就接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等。前述接著劑通常係以由水溶液構成之接著劑來使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分而成。上述之外，作為偏光件與透明保護薄膜的接著劑可舉出如紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用接著劑對上述各種透明保護薄膜展現適宜的接著性。又本發明所用接著劑中可使其含有金屬化合物填料。
本發明所使用之附黏著劑層之偏光薄膜，例如為在附含金屬(特別是由金屬(單種)或合金所構成之金屬網)之透明導電層之液晶單元的透明導電層貼合前述黏著劑層而使用者。透明導電層所使用之金屬的形狀，可舉出如無空隙之平面板狀、有空隙之圖案狀、利用細線而圖案化之金屬網等，並無特別限定。例如，所謂含金屬網之透明導電層，是形成金屬細線形成為格子狀圖案而成之金屬網所得者，尤其是對使用容易腐蝕之金屬細線的金屬網，本發明所帶來之耐腐蝕性的效果十分顯著。
構成前述金屬網的金屬只要是導電性高的金屬即可使用任意的適當金屬。構成上述金屬網的金屬，宜為選自於由金、白金、銀、鋁及銅所構成群組中之1種以上的金屬，從導電性的觀點來看，鋁、銀、銅或金較佳。尤其，在以含鋁作為金屬的構成中，耐腐蝕性的效果顯著，因而較佳。
含金屬網之透明導電層可以利用任意之適當的方法來形成。該透明導電層，例如可將含銀鹽之感光性組成物(透明導電層形成用組成物)塗佈於脫模薄膜等之被附體上，然後，再進行曝光處理及顯影處理而將金屬細線形成為預定之圖案而得。金屬細線之線寬及形狀並無特別限定，線寬以10μm以下者較佳。又，該透明導電層可藉由將含金屬微粒子之糊體(透明導電層形成用組成物)印刷成預定之圖案而得。所述透明導電層及其形成方法的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-18634號公報中，且本說明書中援用該記載作為參考。此外，作為含金屬網(由金屬網構成)之透明導電層及其形成方法的另一例，可舉出日本專利特開2003-331654號公報所記載之透明導電層及其形成方法。金屬網可利用濺鍍法或噴墨法等來形成，尤其是以使用濺鍍法為佳。
透明導電層的厚度以0.01~10μm左右為佳，0.05~3μm較佳，0.1~1μm更佳。
又，前述透明導電層上亦可具有保護(OC)層(未圖示)。
作為保護層，可無特別限制地使用本領域中通常使用者，例如可舉出由醇酸樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、異氰酸酯樹脂等形成之層。保護層的厚度並無特別限定，譬如宜為0.1~10μm。
4.液晶面板 本發明之液晶面板之特徵在於具有具偏光薄膜及在前述偏光薄膜之至少單面具有由黏著劑組成物形成之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，且前述偏光薄膜係透過前述黏著劑層貼合於附含金屬(特別是由金屬(單種)或合金所構成之金屬網)之透明導電層之液晶單元上，其中該偏光薄膜具有偏光件及在前述偏光件之至少單面具有透明保護薄膜。此外，對其他之構成並無特別限定。本發明中，藉由將構成偏光薄膜之透明保護薄膜的透濕度、黏著劑層之霧度差等設在適當的範圍內，可抑制液晶面板整體的白濁現象，並謀求耐久性之提升等。
5.影像顯示裝置 本發明之影像顯示裝置包含前述液晶面板較佳。以下，以液晶顯示裝置作為一例進行說明，惟本發明可適用於需要液晶面板之所有顯示裝置。
本發明之液晶面板可適用之影像顯示裝置的具體例可舉出如液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示器、電漿顯示器(PD)、場發射顯示器(FED：FieldEmission Display)等。
本發明之影像顯示裝置為含有本發明之液晶面板之物即可，其他結構與習知影像顯示裝置相同。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。以下沒有特別規定的室溫放置條件皆為23℃×55%RH。
製造例1(丙烯酸系聚合物(A-1)的調製) 在配有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中饋入含有95.5份丙烯酸丁酯、4份N-乙烯基吡咯啶酮、0.4份丙烯酸4-羥丁酯及0.1份丙烯酸的單體混合物。然後，相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將0.2份之作為聚合起始劑的2,2´-偶氮雙異丁腈與乙酸乙酯一起饋入，一邊慢慢攪拌一邊導入氮氣進行氮置換後，將燒瓶內的液溫維持在55℃左右，進行8小時聚合反應。之後，於所得反應液中加入乙酸乙酯，調製出固體成分已調整成濃度16%且重量平均分子量180萬之丙烯酸系聚合物(A-1)溶液。
製造例2(丙烯酸系聚合物(A-2)的調製) 除了將製造例1中作為單體混合物使用了含有96.9份丙烯酸丁酯、3份丙烯酸及0.1份丙烯酸羥乙酯的單體混合物以外，與製造例1同樣地，調製了重量平均分子量200萬之丙烯酸系聚合物(A-2)溶液。
製造例3(丙烯酸系聚合物(A-3)的調製) 除了將製造例1中作為單體混合物使用了含有98份丙烯酸丁酯及2份丙烯酸4-羥丁酯的單體混合物以外，與製造例1同樣地，調製了重量平均分子量170萬之丙烯酸系聚合物(A-3)溶液。
製造例4(丙烯酸系聚合物(A-4)的調製) 除了將製造例1中作為單體混合物使用了含有99.8份丙烯酸-2-乙基己酯、及0.2份丙烯酸羥乙酯的單體混合物以外，與製造例1同樣地，調製了重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A-4)溶液。
所得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量是利用以下之方法來測定。 ＜(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量的測定＞ (甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。 ・分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC ・管柱：Tosoh(東曹)公司製、G7000HXL ＋GMHXL ＋GMHXL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm　計90cm ・管柱溫度：40℃ ・流量：0.8ml/min ・注入量：100μl ・溶析液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯
製造例5(偏光薄膜的製作) 使厚度80μm之聚乙烯醇薄膜在速度比相異之輥件間一邊在30℃且0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘一邊延伸至3倍。之後，一邊於60℃且含4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一邊延伸成總延伸倍率達6倍。接著，於30℃且含有1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒，藉此洗淨後，在50℃下進行4分鐘乾燥，而獲得厚度20μm之偏光件。將實施例、及比較例所使用之表1中記載的各透明保護薄膜分別利用聚乙烯醇系接著劑貼合於該偏光件之兩面，而製作了偏光薄膜。
製造例6(調製使用了丙烯酸系聚合物(A-1)之黏著劑組成物) 相對於製造例1所得之丙烯酸系聚合物(A-1)溶液的固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(商品：Takenate D160N，三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯，三井化學(股)製)0.15份、苯甲醯基過氧化物(商品名：NYPER BMT，日本油脂(股)製)0.3份、及γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製)0.2份，而調製黏著劑組成物。
製造例7(調製使用了丙烯酸系聚合物(A-2)之黏著劑組成物) 由製造例2所得之丙烯酸系聚合物(A-2)溶液所調製的黏著劑組成物，除了變更為異氰酸酯交聯劑(商品：CORONATE L，三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯，日本聚胺酯工業(股)製)0.5份、且變更為苯甲醯基過氧化物(NYPER BMT，日本油脂(股)製)0.2份以外，與製造例6同樣地調製了黏著劑組成物。
製造例8(調製使用了丙烯酸系聚合物(A-3)之黏著劑組成物) 由製造例3所得之丙烯酸系聚合物(A-3)溶液所調製的黏著劑組成物，除了變更為0.1份異氰酸酯交聯劑(商品：Takenate D110N，三羥甲基丙烷伸茬基二異氰酸酯，三井化學(股)製)以外，與製造例6同樣地調製了黏著劑組成物。
製造例9(調製使用了丙烯酸系聚合物(A-4)之黏著劑組成物) 由製造例4所得之丙烯酸系聚合物(A-4)溶液所調製的黏著劑組成物，除了變更為0.15份異氰酸酯交聯劑(商品：Takenate D110N，三羥甲基丙烷伸茬基二異氰酸酯，三井化學(股)製)以外，與製造例6同樣地調製了黏著劑組成物。
＜實施例1＞ (調製黏著劑組成物) 在上述製造例6之黏著劑組成物中，更進一步地摻混鋰雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺(商品名：EF-N445，三菱Material(股)製)1份作為離子性化合物(導電劑)，而調製了丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之偏光薄膜的製作) 接著，在經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜)的表面上，以噴注式塗佈機均勻塗覆上述丙烯酸系黏著劑溶液，並在155℃的空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而於分離薄膜的表面上形成厚度20μm的黏著劑層。接著，使用表1所記載之透明保護薄膜，並將形成在分離薄膜上的黏著劑層轉印至依製造例5而製作之偏光薄膜上，而製成附黏著劑層之偏光薄膜。
＜實施例2~13、比較例1~5＞ 實施例2~13及比較例1~5中，以成為與實施例1相同之莫耳濃度的量將表1所記載之離子性化合物摻混於上述製造例6~9所得之黏著劑組成物中，而調製了丙烯酸系黏著劑溶液。又，偏光薄膜及附黏著劑層之偏光薄膜，除變更成如表1所示外，以與實施例1相同方式製作。
針對上述實施例及比較例所使用之透明保護薄膜、黏著劑層(不含離子性化合物之狀態)、附黏著劑層之偏光薄膜進行以下之評估，並將評估結果顯示於表2。又，針對在相當於附透明導電層之液晶單元的導電性玻璃上貼合附黏著劑層之偏光薄膜的試樣，亦將其評估顯示於表2。
＜透明保護薄膜之透濕度的測定＞ 使用水蒸氣穿透率測定裝置(PERMATRAN-W、MOCON公司製)，在40℃×92%RH氣體環境下測定24小時，並測定構成偏光薄膜之透明保護薄膜的水蒸氣穿透度(透濕度)(g/(m2. 24h)。測定是依據JIS K7129B而進行。
＜不含離子性化合物狀態之黏著劑層的水分率(飽和水分率)之測定方法＞ 相對於實施例及比較例中所製作之附黏著劑之偏光薄膜的黏著劑層，將未添加導電劑即離子性化合物之狀態的黏著劑層使用以製造例6~9調製的黏著劑組成物，在與上述附黏著劑層之偏光薄膜的製作方法相同的條件下調製黏著劑層，並從前述黏著劑層採取約50mg的試樣。對該試樣，使用水分吸附脫附測定裝置(IGA-Sorp、Hiden公司製)，在以100℃進行1小時的條件下測定完全除去水分後之狀態的重量(W1)，然後，在23℃且55%RH下靜置5小時，並在60℃且90%RH下靜置5小時後觀察重量的變化。在試樣之重量變化消失的時間點(飽和的狀態)下測定其重量(W2)。並由以下式測定了水分率(飽和水分率)(重量%)。
＜霧度差(加濕白濁試驗)＞ 將以實施例、比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切為50mm×50mm的尺寸，在剝離分離薄膜之後，將黏著劑層表面貼合於鹼玻璃(松浪玻璃公司製，厚度為1.1mm)後，以在50℃且5atm下進行15分鐘高壓釜處理過之物作為白濁試驗用的測定試樣，在室溫放置條件下靜置30分鐘後，測定了初始值之霧度值(測定結果：0.7%)。接著，將前述測定用試樣投入至60℃×95%RH之環境500小時後，在室溫下取出並測定10分鐘後之霧度值(%)(加熱白濁後)。霧度值是使用村上色彩技術研究所公司製之霧度計HM150來測定。此外，表2中之霧度差(%)是由下述式所示之霧度值的差來求得。 式=[(貼附於玻璃，並在60℃×95%RH下投入500小時後，在室溫下取出經過30分鐘後之霧度值(%))-(初始之霧度值(%))]
＜表面電阻值＞ 將實施例、比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜的分離薄膜剝離，並在室溫放置條件下靜置1分鐘後，測定黏著劑層表面的表面電阻值，且以此為初始值之表面電阻值(Ω/□)，接著在60℃×95%RH的加濕環境下投入500小時，並在40℃下乾燥1小時後，利用(股)三菱化學ANALYTECH製之MCP-HT450測定了該黏著劑層表面的表面電阻值。並以該測定結果作為濕熱後之表面電阻值(Ω/□)。此外，表面電阻值低於3.0×1012 Ω/□(低於3.0E＋12Ω/□)較佳，低於1.0×1012 Ω/□更佳。
＜耐久性試驗＞ 將實施例、比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜裁切成15吋大小作為試樣。從該試樣剝離分離薄膜後，使用貼合機貼附於厚度0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製，EG-XG)上。接著在50℃且0.5MPa下進行15分鐘高壓釜處理，使上述試樣完全密著於無鹼玻璃上。對經施予所述處理的試樣在60℃×95%RH的各氣體環境下施以500小時處理後(加濕試驗)，依下述基準利用目視評估偏光薄膜與玻璃之間的外觀。 (評估基準) ◎：毫無剝離等外觀上的變化。 ○：端部上有些許剝離但實用上不成問題。 △：端部上有剝離，但只要不作特別用途，實用上不成問題。 ×：端部上有顯著剝離，實用上有問題。
＜腐蝕試驗＞ 在玻璃(無鹼玻璃)表面上形成有以濺鍍法所形成之厚度0.1μm的鋁系金屬層的導電性玻璃上，將以實施例及比較例所得之附黏著劑層之偏光薄膜截斷為15mm×15mm，並在剝離分離薄膜而進行貼合後，在50℃且5atm下進行15分鐘高壓釜處理，並將其作為耐腐蝕性之測定試樣(將附黏著劑層之偏光薄膜貼合於相當於附透明導電層之液晶單元的導電性玻璃的試樣)。將所得之測定用試樣在60℃×95%RH的環境下投入500小時後(濕熱後)，以目視及光學顯微鏡評估了鋁系金屬層之外觀。並且，缺陷之大小是測定缺陷最長的部分。 又，實施例13中，是使用非晶性ITO(在無鹼玻璃之另一面，以濺鍍法形成ITO膜(吉奧馬科技(GEOMATEC)公司製，厚度50nm，非晶性ITO薄膜之Sn比率為3重量%))取代上述導電性玻璃，來評估耐腐蝕性。 (評估基準) 5：無缺陷。 4：周邊之一部分有些許缺陷(缺陷之大小低於0.5mm)，但內部無缺陷，實用上不成問題。 3：周邊部有斷續的缺陷(缺陷之大小為0.5mm以上且低於1mm)，但內部無缺陷，實用上不成問題。 2：周邊部有斷續的缺陷(缺陷之大小為1mm以上且低於2mm)，但內部無缺陷，實用上不成問題。 1：周邊部有連續的缺陷(缺陷之大小在2mm以上)，或內部有缺陷，實用上有問題。
[表1]
表1中之簡稱顯示如下。 ＜離子性化合物(導電劑)＞ MTOA-NFSI：甲基三辛基銨雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺 MTOA-FSI：甲基三辛基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺 Li-NFSI：鋰雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺 Li-TFSI：鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺 Dcpy-TFSI：1-癸基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺 EMI-FSI：乙基甲基咪唑鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺 EMI-TFSI：乙基甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺 ＜透明保護薄膜＞ COP：在厚度25μm之環狀聚烯烴(環烯烴聚合物)薄膜(日本ZEON公司製，ZEONOR，透濕度6.5g/m2 /24h)施以電暈處理而使用。 丙烯酸(40)：在厚度40μm之具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂(透濕度110g/m2 /24h)施以電暈處理而使用。 丙烯酸(25)：在厚度25μm之具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂(透濕度240g/m2 /24h)施以電暈處理而使用。 TAC(40)：在厚度40μm之三醋酸纖維素薄膜(富士軟片公司製，透濕度1100g/m2 /24h)施以皂化處理而使用。
[表2]
根據表2之評估結果，所有的實施例中，可確認到在透明性(白濁現象之抑制)、抗靜電性、耐腐蝕性、耐久性的評估中皆為良好。另一方面，所有的比較例中，可以確認到耐腐蝕性較差，比較例1~3及5之霧度值的差超過5.0%，不僅耐腐蝕性，視辨性(白濁現象之抑制)亦差，尤其是比較例4，由於使用了透明保護薄膜之透濕度為1100g/m2 /24h的TAC薄膜，因此耐腐蝕性比實施例差。
1‧‧‧偏光薄膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
4‧‧‧含金屬之透明導電層
5‧‧‧玻璃基板
6‧‧‧液晶層
7‧‧‧驅動電極
8‧‧‧黏著劑層
9‧‧‧偏光薄膜
10‧‧‧驅動電極兼感應層
11‧‧‧感應層
圖1係示意顯示本發明附黏著劑層之偏光薄膜之一實施形態的截面圖。 圖2係示意顯示本發明之影像顯示裝置之一實施形態的截面圖。 圖3係示意顯示本發明之影像顯示裝置之一實施形態的截面圖。 圖4係示意顯示本發明之影像顯示裝置之一實施形態的截面圖。

Claims (5)

  1. 一種液晶面板，特徵在於具有具偏光薄膜及在前述偏光薄膜之至少單面具有由黏著劑組成物形成之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，且前述偏光薄膜係藉由前述黏著劑層貼合於附含金屬之透明導電層之液晶元件上，其中前述偏光薄膜具有偏光件及在前述偏光件之至少單面具有透明保護薄膜； 其中，前述透明保護薄膜在40℃×92%RH下之透濕度為1000g/(m2. 24h)以下； 前述黏著劑組成物含有離子性化合物； 前述黏著劑層以下述式所示之霧度值的差為5.0%以下， 式=[(貼附於玻璃，並在60℃×95%RH下投入500小時後，在室溫下取出經過30分鐘後之霧度值(%))-(初始之霧度值(%))]
  2. 如請求項1之液晶面板，其中前述含金屬之透明導電層為含金屬網之透明導電層。
  3. 如請求項1或2之液晶面板，其中前述離子性化合物之分子量為290以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之液晶面板，其中前述黏著劑組成物含有(甲基)丙烯酸系聚合物，且 前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有選自於由含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體所構成群組中的1種以上之單體作為單體單元、以及含有(甲基)丙烯酸烷基酯。
  5. 一種影像顯示裝置，特徵在於包含如請求項1至4中任一項之液晶面板。
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