TW201816426A

TW201816426A - 防眩構件之製造方法

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Publication number: TW201816426A
Application number: TW106132902A
Authority: TW
Inventors: 池上耕司
Original assignee: 日商日本電氣硝子股份有限公司
Priority date: 2016-09-28
Filing date: 2017-09-26
Publication date: 2018-05-01
Also published as: JPWO2018062027A1; WO2018062027A1

Abstract

本發明提供一種可有效率地製造之防眩構件之製造方法。本發明之製造方法之特徵在於：其係製造具有基板2、設置於基板2之上且具有包含無機材料之凹凸構造之抗眩層3、及設置於抗眩層3之上且包含中空二氧化矽粒子之抗反射層4的防眩構件1之方法，該方法包括：將用以形成抗眩層3之第1塗佈劑塗佈於基板2之上而形成第1塗膜之步驟、於第1塗膜之上塗佈用以形成抗反射層4之第2塗佈劑而形成第2塗膜之步驟、及將第1塗膜及第2塗膜同時加熱而形成抗眩層3及抗反射層4之步驟。

Description

防眩構件之製造方法

本發明係關於一種防眩構件之製造方法。

於各種設備(電視、個人電腦、智慧型手機、行動電話、導航系統等)所具備之圖像顯示裝置(液晶顯示器、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器、電漿顯示器等)中，由於室內照明(螢光燈等)、太陽光等外界光而反射圖像映入顯示面，由此導致視認性降低。又，每次操作各種設備時，由於手指會觸碰圖像顯示裝置之表面，故而污垢會附著於圖像顯示裝置之表面。作為抑制由外界光引起之映入之處理，已知有抗眩處理或抗反射處理。於專利文獻1~3中揭示有如下抗眩處理，其藉由於顯示面形成凹凸以使外界光漫反射，而使反射圖像變得不清晰。於專利文獻4中揭示有如下抗反射處理，其係於顯示面形成中空二氧化矽粒子層而抑制外界光之反射本身。作為抑制污垢附著於圖像顯示裝置之表面之處理，已知有如專利文獻5所示般於顯示面形成包含氟化合物之防污層之防污處理。而且，已知有為了抑制外界光之映入，並抑制污垢附著於圖像顯示裝置之表面，而如專利文獻6所示般進行過抗眩處理、抗反射處理及防污處理之防眩構件。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2001-281405號公報 [專利文獻2]日本專利特開2001-305314號公報 [專利文獻3]日本專利特開2007-047722號公報 [專利文獻4]日本專利特開2001-233611號公報 [專利文獻5]國際公開第2014/199991號 [專利文獻6]國際公開第2014/034720號

[發明所欲解決之問題] 一般而言，抗眩處理、抗反射處理及防污處理係分別進行。即，於抗眩處理完成之後進行抗反射處理，最後進行防污處理。並且，各處理步驟包含加熱處理。因此，於製造防眩構件之前至少需要3次加熱處理。所以，防眩構件之製造需要大量之時間。本發明之目的在於提供一種可有效率地製造之防眩構件之製造方法。 [解決問題之技術手段] 本發明之第1態樣之防眩構件之製造方法之特徵在於：其係製造具有基板、設置於基板之上且具有包含無機材料之凹凸構造之抗眩層、及設置於抗眩層之上且包含中空二氧化矽粒子之抗反射層的防眩構件之方法，該方法包括：將用以形成抗眩層之第1塗佈劑塗佈於基板之上而形成第1塗膜之步驟、於第1塗膜之上塗佈用以形成抗反射層之第2塗佈劑而形成第2塗膜之步驟、及將第1塗膜及第2塗膜同時加熱而形成抗眩層及抗反射層之步驟。本發明之第1態樣之防眩構件之製造方法亦可為製造進而具有設置於抗反射層之上之防污層的防眩構件之方法。於該情形時，較佳為進而包括於第2塗膜之上塗佈用以形成防污層之第3塗佈劑而形成第3塗膜之步驟，且於將第1塗膜及第2塗膜同時加熱之步驟中，進而將第3塗膜亦同時加熱而形成抗眩層、抗反射層及防污層。本發明之第2態樣之防眩構件之製造方法之特徵在於：其係製造具有防眩基板、設置於防眩基板之上且包含中空二氧化矽粒子之抗反射層、及設置於抗反射層之上之防污層的防眩構件之方法，該方法包括：於防眩基板之上塗佈用以形成抗反射層之第2塗佈劑而形成第2塗膜之步驟、於第2塗膜之上塗佈用以形成防污層之第3塗佈劑而形成第3塗膜之步驟、及將第2塗膜及第3塗膜同時加熱而形成抗反射層及防污層之步驟。本發明之第3態樣之防眩構件之製造方法之特徵在於：其係製造具有基板、設置於基板之上且具有包含無機材料之凹凸構造之抗眩層、及設置於抗眩層之上之防污層的防眩構件之方法，該方法包括：將用以形成抗眩層之第1塗佈劑塗佈於基板之上而形成第1塗膜之步驟、於第1塗膜之上塗佈用以形成防污層之第3塗佈劑而形成第3塗膜之步驟、及將第1塗膜及第3塗膜同時地加熱而形成抗眩層及防污層之步驟。 [發明之效果] 根據本發明，可有效率地製造防眩構件。

以下，對較佳之實施形態進行說明。但是，以下之實施形態僅為例示，本發明並不限定於以下之實施形態。又，於各圖式中，實質上具有相同功能之構件有以相同符號進行參照之情形。 (第1實施形態) 圖1係表示本發明之第1實施形態之防眩構件之模式性剖視圖。如圖1所示般，本實施形態之防眩構件1具有基板2、設置於基板2之上之抗眩層3、設置於抗眩層3之上之抗反射層4、及設置於抗反射層4之上之防污層5。抗眩層3具有包含無機材料之凹凸構造。抗反射層4包含中空二氧化矽粒子。因此，抗反射層4具有抗反射功能。基板2具有相互對向之第1主面2a及第2主面2b，抗眩層3係設置於第1主面2a之上。作為基板2之材料，可列舉玻璃、樹脂等透明材料，就下述加熱步驟時之耐熱性之方面而言，較佳為玻璃。作為玻璃，可列舉：鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、無鹼玻璃等。由於強化處理而容易產生較大之應力，就作為配置於圖像顯示裝置之視認側之物品適合之方面而言，較佳為鋁矽酸鹽玻璃。又，基板2較佳為已實施過風冷強化、化學強化等強化處理。基材2尤佳為藉由將鋁矽酸鹽玻璃進行化學強化而獲得之化學強化鋁矽酸鹽玻璃。作為樹脂，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、三乙醯纖維素、聚甲基丙烯酸甲酯等。作為基板2之形狀，可列舉：板狀、膜狀等。近年來，關於各種設備(電視、個人電腦、智慧型手機、汽車導航系統等)，已知有將圖像顯示裝置之顯示面製成曲面者。因此，基板2亦可為與圖像顯示裝置之形狀匹配之彎曲形狀。又，基板2亦可為於基板本體之表面具有功能層者。作為功能層，可列舉：底漆塗佈層、密接改善層、保護層、著色層等。圖2係用以說明製造圖1所示之第1實施形態之防眩構件之方法之一例的模式性剖視圖。參照圖2進行說明之製造方法係依據本發明之第1態樣之製造方法，該製造方法包括：形成第1塗膜之步驟、形成第2塗膜之步驟、及形成第3塗膜之步驟。以下，對各步驟進行說明。＜第1塗膜之形成步驟＞第1塗膜係藉由塗佈用以形成抗眩層3之第1塗佈劑而形成。第1塗佈劑例如包含基質前驅物、及使基質前驅物溶解之第1液狀介質。 (基質前驅物) 作為基質前驅物，可列舉：二氧化矽前驅物、氧化鋁前驅物、氧化鋯前驅物、二氧化鈦前驅物等無機前驅物。就容易控制反應性之方面而言，較佳為二氧化矽前驅物。作為二氧化矽前驅物，可列舉：具有與矽原子鍵結之烴基及水解性基之矽烷化合物、矽烷化合物之水解縮合物、矽氮烷化合物等。就即便膜厚較厚，亦可充分地抑制防眩膜之龜裂之方面而言，較佳為至少包含矽烷化合物及其水解縮合物之任一者或兩者。矽烷化合物具有與矽原子鍵結之烴基及水解性基。烴基亦可於碳原子間具有將選自-O-、-S-、-CO-及-NR'-(R'為氫原子或一價烴基)中之1個或2個以上組合而成之基。烴基可為與1個矽原子鍵結之一價烴基，亦可為與2個矽原子鍵結之二價烴基。作為一價烴基，可列舉：烷基、烯基、芳基等。作為二價烴基，可列舉伸烷基、伸烯基、伸芳基等。作為水解性基，可列舉：烷氧基、醯氧基、酮肟基、烯氧基、胺基、胺氧基、醯胺基、異氰酸基、鹵素原子等，就矽烷化合物之穩定性與水解之容易性之平衡之方面而言，較佳為烷氧基、異氰酸基及鹵素原子(尤其是氯原子)。作為烷氧基，較佳為碳數1~3之烷氧基，更佳為甲氧基或乙氧基。作為矽烷化合物，可列舉：烷氧基矽烷(四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷等)、具有烷基之烷氧基矽烷(甲基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷等)、具有乙烯基之烷氧基矽烷(乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷等)、具有環氧基之烷氧基矽烷(2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷等)、具有丙烯醯氧基之烷氧基矽烷(3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等)等。就防眩膜之各特性之方面而言，較佳為烷氧基矽烷及烷氧基矽烷之水解縮合物之任一者或兩者，更佳為烷氧基矽烷之水解縮合物。矽氮烷化合物係於其結構內具有矽與氮之鍵(-SiN-)之化合物。作為矽氮烷化合物，可為低分子化合物亦可為高分子化合物(具有特定之重複單元之聚合物)。作為低分子系之矽氮烷化合物，可列舉六甲基二矽氮烷、六苯基二矽氮烷、二甲胺基三甲基矽烷、三矽氮烷、環三矽氮烷、1,1,3,3,5,5-六甲基環三矽氮烷等。作為氧化鋁前驅物，可列舉鋁烷氧化物、鋁烷氧化物之水解縮合物、水溶性鋁鹽、鋁螯合物等。作為氧化鋯前驅物，可列舉鋯烷氧化物、鋯烷氧化物之水解縮合物等。作為二氧化鈦前驅物，可列舉鈦烷氧化物、鈦烷氧化物之水解縮合物等。 (第1液狀介質) 第1液狀介質係使基質前驅物溶解之溶劑。作為第1液狀介質，例如可列舉：水、醇類、酮類、醚類、溶纖劑類、酯類、二醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。作為醇類，可列舉甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、二丙酮醇等。作為酮類，可列舉丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等。作為醚類，可列舉四氫呋喃、1,4-二㗁烷等。作為溶纖劑類，可列舉甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等。作為酯類，可列舉乙酸甲酯、乙酸乙酯等。作為二醇醚類，可列舉乙二醇單烷基醚等。作為含氮化合物，可列舉N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。作為含硫化合物，可列舉二甲基亞碸等。第1液狀介質可單獨地使用1種，亦可將2種以上組合而使用。由於基質前驅物中之矽烷化合物等之水解需要水，故而只要於矽烷化合物之水解後不進行液狀介質之置換，則於第1液狀介質中至少包含水。第1液狀介質亦可為水與其他液體之混合液。作為其他液體，例如可列舉：醇類、酮類、醚類、溶纖劑類、酯類、二醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。其他液體之中，作為基質前驅物之溶劑，較佳為醇類，尤佳為甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇。第1液狀介質亦可包含促進基質前驅物之水解及縮合之酸觸媒。酸觸媒係促進基質前驅物之水解及縮合而以短時間形成塗膜之成分。酸觸媒可為於製備基質前驅物之溶液時為了原料(烷氧基矽烷等)之水解、縮合而添加者，亦可為於製備包含必須成分之塗佈液之後進而添加者。作為酸觸媒，可列舉：無機酸(硝酸、硫酸、鹽酸等)、有機酸(甲酸、草酸、乙酸、氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸等)。 (第1塗佈劑之塗佈方法) 作為第1塗佈劑之塗佈方法，可列舉：公知之濕式塗佈法(噴塗法、旋轉塗佈法、浸漬塗佈法、模嘴塗佈法、淋幕式塗佈法、網版塗佈法、噴墨法、流塗法、凹版塗佈法、棒式塗佈法、軟版塗佈法、狹縫式塗佈法、輥塗法等)等。作為塗佈方法，就容易形成凹凸之方面而言，較佳為噴塗法。作為噴塗法所使用之噴嘴，可列舉2流體噴嘴、1流體噴嘴等。自噴嘴噴出之第1塗佈劑之液滴之粒徑通常為0.1~100 μm，較佳為1~50 μm。若液滴之粒徑為1 μm以上，則可以短時間形成充分地發揮出防眩效果之凹凸。若液滴之粒徑為100 μm以下，則容易形成充分地發揮出防眩效果之適當之凹凸。第1塗佈劑之液滴之粒徑可根據噴嘴之種類、噴霧壓力、液量等而適當進行調整。例如，若為2流體噴嘴，則噴霧壓力變得越高，液滴變得越小，又，液量變得越多，液滴變得越大。液滴之粒徑係藉由雷射測定器所測定之索特平均粒徑(Sauter mean diameter)。關於抗眩層3之表面粗糙度，若於一定之塗佈條件下，則可根據塗佈時間、即基於噴霧法之塗佈面數(重疊塗佈次數)進行調整。塗佈面數變得越多，抗眩層3之表面粗糙度變得越大，其結果為，光澤度下降而反射圖像變得不清晰(防眩效果變高)，霧度變大(解析度降低)。＜第2塗膜之形成步驟＞第2塗膜係藉由塗佈用以形成抗反射層4之第2塗佈劑而形成。第2塗佈劑例如包含中空二氧化矽粒子、及使中空二氧化矽粒子分散之第2液狀介質。 (中空二氧化矽粒子) 中空二氧化矽粒子係於包含二氧化矽之外殼之內部具有空隙之粒子。作為中空二氧化矽粒子，可列舉球狀中空二氧化矽粒子、纖維狀中空二氧化矽粒子、管狀中空二氧化矽粒子、片狀中空二氧化矽粒子等。纖維狀中空二氧化矽粒子係伸長方向之長度大於垂直於伸長方向之方向之長度的中空二氧化矽粒子。纖維狀中空二氧化矽粒子可為一次粒子，亦可為複數個中空粒子凝集而成之二次粒子。中空二氧化矽粒子亦可包含其他金屬。作為其他金屬，可列舉Al、Cu、Ce、Sn、Ti、Cr、Co、Fe、Mn、Ni、Zn等。其他金屬亦可與Si一起形成複合氧化物。中空二氧化矽粒子之平均凝集粒徑較佳為5~300 nm，更佳為10~100 nm。中空二氧化矽粒子之平均凝集粒徑係分散介質中之中空二氧化矽粒子之平均凝集粒徑，且藉由動態光散射法而測定。球狀中空二氧化矽粒子係藉由例如將核殼粒子之核心去除而製造。具體而言，經由下述之步驟進行製造。 (a)如下步驟：於分散介質中，於核心微粒子之存在下使二氧化矽前驅物水解，使SiO₂ 於核心微粒子表面析出，而獲得核殼粒子之分散液。 (b)如下步驟：使核殼粒子之核心微粒子溶解或分解而獲得球狀中空二氧化矽粒子之分散液。步驟(a)：作為核心微粒子，可列舉：熱分解性有機微粒子(界面活性劑微胞、水溶性有機聚合物、苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂等)、酸溶解性無機微粒子(ZnO、NaAlO₂ 、CaCO₃ 、鹼性ZnCO₃ 等)、光溶解性無機微粒子(ZnS、CdS、ZnO等)等。作為二氧化矽前驅物，可列舉於基質前驅物中所說明之二氧化矽前驅物。作為分散介質，可列舉：水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇等)、酮類(丙酮、甲基乙基酮等)、醚類(四氫呋喃、1,4-二㗁烷等)、酯類(乙酸乙酯、乙酸甲酯等)、二醇醚類(乙二醇單烷基醚等)、含氮化合物類(N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等)、含硫化合物類(二甲基亞碸等)等。分散介質由於二氧化矽前驅物之水解需要水，故而於分散介質100質量%中包含5~100質量%之水。就二氧化矽前驅物容易三維地聚合而形成殼之方面而言，分散介質之pH值較佳為7以上，較佳為8以上，尤佳為9~10。於使用酸溶解性無機微粒子作為核心微粒子之情形時，較佳為該微粒子不會溶解之pH值、即8以上。步驟(b)：於核心微粒子為酸溶解性無機微粒子之情形時，可藉由添加酸使核心微粒子溶解而將之去除。作為酸，可列舉：無機酸(鹽酸、硫酸、硝酸等)、有機酸(甲酸、乙酸等)、酸性陽離子交換樹脂等。於核微粒子為熱分解性有機微粒子之情形時，可藉由進行加熱使核心微粒子熱分解而將之去除。於核心微粒子為光溶解性無機微粒子之情形時，可藉由照射光使核心微粒子溶解而將之去除。 (第2液狀介質) 第2液狀介質係使中空二氧化矽粒子分散之液體。第2液狀介質只要為可使中空二氧化矽粒子分散而進行塗佈者，則並無特別限定。例如，亦可將於上述球狀中空二氧化矽粒子製造步驟中所使用之分散介質直接用作第2液狀介質。再者，第2塗佈劑中亦可包含黏合劑成分。作為此種黏合劑成分，可列舉第1塗佈劑中之基質前驅物等。 (第2塗佈劑之塗佈方法) 作為第2塗佈劑之塗佈方法，可列舉與第1塗佈劑之塗佈方法相同之方法。作為塗佈方法，就容易均勻地進行塗佈之方面而言，較佳為噴塗法。＜第3塗膜之形成步驟＞第3塗膜係藉由塗佈用以形成防污層5之第3塗佈劑而形成。第3塗佈劑包含例如防污劑、及使防污劑溶解或分散之第3液狀介質。 (防污劑) 作為防污劑，可使用含氟化合物、光觸媒化合物等一般之防污劑。 (含氟化合物) 作為含氟化合物，可列舉包含烷氧基等之含氟有機矽化合物。例如可列舉：CF₃ (CF₂ )₂ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₄ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₁₀ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₁₂ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₁₄ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₁₆ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₁₈ C₂ H₄ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₂ H₄ Si(OC₂ H₅ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₂ H₄ Si(OC₂ H₅ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₂ H₄ SiCl₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₂ H₄ SiCl₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₃ H₆ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₃ H₆ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₃ H₆ Si(OC₂ H₅ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₃ H₆ Si(OC₂ H₅ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₃ H₆ SiCl₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₃ H₆ SiCl₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₄ H₈ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₄ H₈ Si(OCH₃ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₄ H₈ Si(OC₂ H₅ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₄ H₈ Si(OC₂ H₅ )₃ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₂ H₄ Si(CH₃ )(OCH₃ )₂ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₂ H₄ Si(CH₃ )(OCH₃ )₂ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₂ H₄ Si(CH₃ )Cl₂ 、CF₃ (CF₂ )₈ C₂ H₄ Si(CH₃ )Cl₂ 、CF₃ (CF₂ )₆ C₂ H₄ Si(C₂ H₅ )(OC₂ H₅ )₂ 、及CF₃ (CF₂ )₈ C₂ H₄ Si(C₂ H₅ )(OC₂ H₅ )₂ 等。作為含氟有機矽化合物，含有胺基之化合物亦較佳。例如可列舉：C₉ F₁₉ CONH(CH₂ )₃ Si(OC₂ H₅ )₃ 、C₉ F₁₉ CONH(CH₂ )₃ SiCl₃ 、C₉ F₁₉ CONH(CH₂ )₃ Si(CH₃ )Cl₂ 、C₉ F₁₉ CONH(CH₂ )NH(CH₂ )Si(OC₂ H₅ )₃ 、C₉ F₁₉ CONH(CH₂ )₅ CONH(CH₂ )Si(OC₂ H₅ )₃ 、C₈ F₁₇ SO₂ NH(CH₂ )₅ CONH(CH₂ )Si(OC₂ H₅ )₃ 、C₃ F₇ O(CF(CF₃ )CF₂ O)₂ -CF(CF₃ )-CONH(CH₂ )Si(OC₂ H₅ )₃ 、及C₃ F₇ O(CF(CF₃ )CF₂ O)_m' -CF(CF₃ )-CONH(CH₂ )Si(OCH₃ )₃ [此處，m'係1以上之整數]等。作為上述含氟有機矽化合物之具體例，可列舉：GE TOSHIBA SILICONE股份有限公司製造之TSL8233、TSL8257；大金工業股份有限公司製造之OPTOOL DSX；信越化學工業股份有限公司製造之KY-130、KP-801等。 (光觸媒化合物) 光觸媒化合物不易附著污垢，且具有自清潔作用。作為光觸媒，並無特別限定，例如可使用包含以下之第1成分之觸媒。 (第1成分) 第1成分具有藉由光照射將防污層親水化而使有機物分解之性質。作為第1成分，例如可使用於波長350~500 nm之光下發揮作用之觸媒。作為第1成分之具體例，可列舉：氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、或氧化鎢等。作為氧化鈦，可列舉：銳鈦礦型氧化鈦、金紅石型氧化鈦或板鈦礦型氧化鈦等。作為氧化鎢，可使用結晶性氧化鎢，亦可使用非晶質氧化鎢。該等作為第1成分所例示之成分可單獨地使用，亦可併用複數種。作為第1成分，可較佳地使用銳鈦礦型氧化鈦、金紅石型氧化鈦或板鈦礦型氧化鈦。該等氧化鈦無毒，且化學穩定性亦進一步優異。 (第2成分) 除第1成分以外，亦可包含第2成分。第2成分對防污層賦予親水性。於未充分地獲得用以發揮第1成分之光觸媒作用之光時，第2成分具有輔助親水性之功能。又，藉由使用第2成分，而可更進一步提高與第1塗膜或第2塗膜之密接性、或強度、耐久性、耐候性。作為第2成分，例如可列舉：二氧化矽、鹼性矽酸鹽、或無定形氧化鈦等。作為鹼性矽酸鹽，例如可列舉：矽酸鈉、矽酸鉀、矽酸鋰等。該等作為第2成分所例示之成分可單獨地使用，亦可併用複數種。 (第3成分) 除第1成分以外，亦可包含第3成分。第3成分係親水性低於第1成分，且不會被第1成分分解之金屬化合物。再者，亦可不包含第3成分。不過，於包含第3成分之情形時，可更進一步提高自清潔作用。作為第3成分，例如可使用選自由Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In及Hf所組成之群中之至少1種金屬之氧化物、無機鹽或有機鹽等化合物。該等化合物可單獨地使用，亦可併用複數種。作為上述氧化物，例如，可列舉Cr₂ O₃ 、MnO₂ 、Fe₂ O₃ 、CoO、NiO、CuO、Ga₂ O₃ 、ZrO₂ 、Y₂ O₃ 、In₂ O₃ 、或HfO₂ 等。該等可單獨地使用，亦可併用複數種。作為上述無機鹽，可列舉上述金屬之氧氯化物、羥基氯化物、硝酸鹽、硫酸鹽、乙酸鹽、含氧硝酸鹽(oxynitrate)、碳酸鹽、碳酸銨鹽、碳酸鈉鹽、碳酸鉀鹽、或磷酸鈉鹽等。作為上述有機鹽，可列舉：上述金屬之草酸鹽、丙酸鹽、金屬烷氧化物類、金屬烷氧化物類之水解物、或螯合化合物等。作為金屬烷氧化物類，可列舉於金屬原子上鍵結有碳數1~8左右之烷氧基之化合物。例如於上述金屬為Zr之情形時，可列舉：鋯四甲氧化物、鋯四乙氧化物、鋯四正丙氧化物、鋯四異丙氧化物、鋯四正丁氧化物、或鋯四第三丁氧化物等。又，作為螯合化合物，例如可列舉：β-酮酯錯合物、β-二酮錯合物、乙醇胺類錯合物、或二伸烷基二醇錯合物等。 (第3液狀介質) 於包含含氟化合物作為防污劑之情形時，作為第3液狀介質，可列舉有機溶劑。作為有機溶劑，較佳為含氟有機矽化合物之溶解性優異之具有全氟基且碳數為4以上之有機化合物，例如可列舉：全氟己烷、全氟環丁烷、全氟辛烷、全氟癸烷、全氟甲基環己烷、全氟-1,3-二甲基環己烷、全氟-4-甲氧基丁烷、全氟-4-乙氧基丁烷、間二甲苯六氟化物。又，可使用全氟醚油、三氟氯乙烯低聚物油。除此以外，可列舉氟氯碳化物225。可單獨地使用該等有機溶劑之1種或將2種以上混合而使用。於包含光觸媒化合物作為防污劑之情形時，作為第3液狀介質，可使用可使上述光觸媒化合物溶解或分散之溶劑。作為此種溶劑，例如可列舉：水、乙二醇、丁基溶纖劑、異丙醇、正丁醇、乙醇、甲醇等醇類；甲苯或二甲苯等芳香族烴類；己烷、環己烷、庚烷等脂肪族烴類；乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類；四氫呋喃、二㗁烷等醚類；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺等醯胺類；氯仿、二氯甲烷、四氯化碳等鹵素化合物類；二甲基亞碸、或硝基苯。該等溶劑可單獨地使用，亦可併用複數種。 (第3塗佈劑之塗佈方法) 作為第3塗佈劑之塗佈方法，可列舉與第1塗佈劑之塗佈方法相同之方法。作為塗佈方法，就容易均勻地進行塗佈之方面而言，較佳為噴塗法。如圖2所示般，藉由於基板2之第1主面2a之上塗佈第1塗佈劑，而形成第1塗膜11。繼而，藉由於第1塗膜11之上塗佈第2塗佈劑，而形成第2塗膜12。繼而，藉由於第2塗膜12之上塗佈第3塗佈劑，而形成第3塗膜13。繼而，將第1塗膜11、第2塗膜12及第3塗膜13同時加熱而形成圖1所示之抗眩層3、抗反射層4及防污層5。加熱溫度較佳為80~250℃之範圍內，更佳為100~230℃之範圍內。藉由於該範圍內進行加熱，而可促進殘留於第1塗膜11、第之塗膜12、及第3塗膜13內之水解性基之縮聚，從而可使膜緻密化。根據本實施形態之上述製造方法，可將第1塗膜11、第2塗膜12及第3塗膜13同時加熱而形成抗眩層3、抗反射層4及防污層5，因此可有效率地製造防眩構件1。圖3及圖4係用以說明製造圖1所示之第1實施形態之防眩構件之方法之另一例的模式性剖視圖。於該製造方法中，如圖3所示般，於基板2之第1主面2a之上形成第1塗膜11及第2塗膜12之後，將第1塗膜11及第2塗膜12同時加熱，如圖4所示般，於基板2之第1主面2a之上形成抗眩層3及抗反射層4。加熱溫度係與上述同樣地，較佳為80~250℃之範圍內，更佳為100~230℃之範圍內。其次，藉由於抗反射層4之上塗佈第3塗佈劑而形成第3塗膜13，藉由將第3塗膜13進行加熱而形成防污層5。再者，於使用上述光觸媒化合物作為第3塗佈劑之情形時，較理想為藉由將第3塗膜13於300℃以下之溫度下加熱而形成防污層5。於該情形時，可更進一步提高防污層5之自清潔作用。以上述方式可製造圖1所示之防眩構件1。亦可藉由上述製造方法，將第1塗膜11及第2塗膜12同時地加熱而形成抗眩層3及抗反射層4，因此，可有效率地製造防眩構件1。再者，於製造不具有防污層5之防眩構件之情形時，可藉由圖3及圖4所示之製造方法進行製造。 (第2實施形態) 圖5係用以說明製造本發明之第2實施形態之防眩構件之方法之一例的模式性剖視圖。於圖5所示之實施形態中，使用防眩基板20作為基板。防眩基板20具有相互對向之第1主面20a及第2主面20b。藉由於防眩基板20之第1主面20a形成凹凸構造而賦予抗眩功能。凹凸構造例如可藉由蝕刻處理等而物理性地形成。又，亦可藉由利用其他方法實施抗眩處理而形成凹凸構造。如圖5所示般，於防眩基板20之第1主面20a之上塗佈第2塗佈劑而形成第2塗膜12，於第2塗膜12之上塗佈第3塗佈劑而形成第3塗膜13。第2塗佈劑及第3塗佈劑可使用與第1實施形態相同者。其次，將第2塗膜12及第3塗膜13同時加熱，而形成抗反射層及防污層。此時之加熱溫度較佳為80~250℃之範圍內，更佳為100~230℃之範圍內。作為加熱方法，較佳為於70~95℃下預加熱之後，歷時20~60分鐘升溫至100~230℃之範圍內之特定溫度，將特定溫度保持20~60分鐘，歷時30~90分鐘降溫至70℃以下。藉此，可形成不易剝離之抗反射層及防污層。圖6係用以說明製造本發明之第2實施形態之防眩構件之方法之另一例的模式性剖視圖。於圖6所示之實施形態中，將形成有抗眩層3之基板2用作防眩基板20。抗眩層3可藉由塗佈與第1實施形態相同之第1塗佈劑形成第1塗膜，並將第1塗膜於與第1實施形態相同之溫度下進行加熱而形成。如圖6所示般，於防眩基板20之上塗佈第2塗佈劑而形成第2塗膜12，於第2塗膜12之上塗佈第3塗佈劑而形成第3塗膜13。其次，將第2塗膜12及第3塗膜13同時加熱，而如圖7所示般形成抗反射層4及防污層5。於本實施形態之製造方法中，可將第2塗膜12及第3塗膜13同時加熱而形成抗反射層4及防污層5，因此，可有效率地製造防眩構件21。 (第3實施形態) 圖8係表示本發明之第3實施形態之防眩構件之模式性剖視圖。如圖8所示般，本實施形態之防眩構件31係於基板2之第1主面2a之上設置有抗眩層3，且於抗眩層3之上設置有防污層5。圖9係用以說明製造圖8所示之第3實施形態之防眩構件之方法之一例的模式性剖視圖。如圖9所示般，於基板2之上塗佈第1塗佈劑而形成第1塗膜11，於第1塗膜11之上塗佈第3塗佈劑而形成第3塗膜13。第1塗佈劑及第3塗佈劑可使用與第1實施形態相同者。其次，將第1塗膜11及第3塗膜13同時加熱，而如圖8所示般形成抗眩層3及防污層5。此時之加熱溫度係可於與第1實施形態相同之溫度下進行加熱。於本實施形態之製造方法中，可將第1塗膜11及第3塗膜13同時加熱而形成抗眩層3及防污層5，因此，可有效率地製造防眩構件31。根據本實施形態之製造方法，將第1塗膜11及第3塗膜13同時加熱，因此於第1塗膜11及第3塗膜13分別含有具有羥基之化合物之情形時，於塗膜之界面各塗膜之羥基相互縮合，因此可提高抗眩層3與防污層5之結合強度。 [實施例] 以下，藉由實施例而進一步詳細地說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。＜實施例1＞ (第1塗佈劑) 使用包含原矽酸四乙酯(TEOS，Tetraethyl orthosilicate)之二氧化矽前驅物作為基質前驅物，且使用包含硝酸水溶液、乙醇、異丙醇及甲基乙基酮之混合物作為第1液狀介質。然後，對基質前驅物與第1液狀介質進行攪拌直至變得均勻，藉此獲得第1塗佈劑。 (第2塗佈劑) 使用包含乙醇、異丙醇及甲基乙基酮之混合醇作為第2液狀介質。對中空二氧化矽粒子與第2液狀介質進行攪拌直至變得均勻，藉此獲得第2塗佈劑。 (第3塗佈劑) 使用含氟有機矽化合物溶液(大金工業公司製造之UF503：0.1質量%，3M公司製造之Novec7200：99.9質量%)作為第3塗佈劑。 (第1塗膜之形成步驟) 於作為基板之玻璃板(日本電氣硝子公司製造，強化玻璃 Dinorex(註冊商標)，100 mm×100 mm)上，於下述條件下藉由噴霧法塗佈第1塗佈劑而形成第1塗膜。噴嘴：2流體方式噴出量：4.6 g/分鐘噴嘴移動速度：19 m/分鐘噴嘴數：4個噴嘴配置間隔：3 mm (第2塗膜之形成步驟) 於第1塗膜之上，於下述條件下藉由噴霧法塗佈第2塗佈劑而形成第2塗膜。噴嘴：2流體方式噴出量：5.4 g/分鐘噴嘴移動速度：40 m/分鐘噴嘴數：4個噴嘴配置間隔：10 mm (第3塗膜之形成步驟) 於第2塗膜之上，於下述條件下藉由噴霧法塗佈第3塗佈劑而形成第3塗膜。噴嘴：2流體方式噴出量：3 g/分鐘噴嘴移動速度：40 m/分鐘噴嘴數：4個噴嘴配置間隔：5 mm 將第1塗膜、第2塗膜、及第3塗膜於150℃之烘箱中焙燒30分鐘，分別形成抗眩層、抗反射層、及防污層而獲得防眩構件。 (霧度之測定) 基於JIS K7136-2000，使用NDH-5000(日本電色公司製造)測定防眩構件之霧度。其結果為，霧度為3.0。 (光澤值之測定) 基於JIS Z8741-1997，並使用Micro gloss(60°)(BYK製造)測定防眩構件之入射角60°之光澤值。其結果為，光澤值為109.9。 (反射率之測定) 自形成有抗眩層、抗反射層、及防污層之側，測定垂直於主面之光(波長380~780 nm)之反射率(正反射)。其結果為，上述波長範圍內之最低反射率成為0.04~4.0%之範圍。 (水之接觸角之測定) 對防污層之表面之與水之接觸角進行測定。其結果為，接觸角為110°。

1‧‧‧防眩構件

2‧‧‧基板

2a‧‧‧第1主面

2b‧‧‧第2主面

3‧‧‧抗眩層

4‧‧‧抗反射層

5‧‧‧防污層

11‧‧‧第1塗膜

12‧‧‧第2塗膜

13‧‧‧第3塗膜

20‧‧‧防眩基板

20a‧‧‧第1主面

20b‧‧‧第2主面

21‧‧‧防眩構件

31‧‧‧防眩構件

圖1係表示本發明之第1實施形態之防眩構件之模式性剖視圖。圖2係用以說明製造圖1所示之第1實施形態之防眩構件之方法之一例的模式性剖視圖。圖3係用以說明製造圖1所示之第1實施形態之防眩構件之方法之另一例的模式性剖視圖。圖4係用以說明製造圖1所示之第1實施形態之防眩構件之方法之又一例的模式性剖視圖。圖5係用以說明製造本發明之第2實施形態之防眩構件之方法之一例的模式性剖視圖。圖6係用以說明製造本發明之第2實施形態之防眩構件之方法之另一例的模式性剖視圖。圖7係表示藉由圖6所示之製造方法所獲得之第2實施形態之防眩構件的模式性剖視圖。圖8係表示本發明之第3實施形態之防眩構件之模式性剖視圖。圖9係用以說明製造圖8所示之第3實施形態之防眩構件之方法之一例的模式性剖視圖。

Claims

一種防眩構件之製造方法，其係製造具有基板、設置於上述基板之上且具有包含無機材料之凹凸構造之抗眩層、及設置於上述抗眩層之上且包含中空二氧化矽粒子之抗反射層的防眩構件之方法，該方法包括：將用以形成上述抗眩層之第1塗佈劑塗佈於上述基板之上而形成第1塗膜之步驟；於上述第1塗膜之上塗佈用以形成上述抗反射層之第2塗佈劑而形成第2塗膜之步驟；及將上述第1塗膜及上述第2塗膜同時加熱而形成上述抗眩層及上述抗反射層之步驟。
如請求項1之防眩構件之製造方法，其係製造進而具有設置於上述抗反射層之上之防污層的防眩構件之方法，該方法進而包括於上述第2塗膜之上塗佈用以形成上述防污層之第3塗佈劑而形成第3塗膜之步驟，且於將上述第1塗膜及上述第2塗膜同時加熱之步驟中，進而將上述第3塗膜亦同時加熱而形成上述抗眩層、上述抗反射層及上述防污層。
一種防眩構件之製造方法，其係製造具有防眩基板、設置於上述防眩基板之上且包含中空二氧化矽粒子之抗反射層、及設置於上述抗反射層之上之防污層的防眩構件之方法，該方法包括：於上述防眩基板之上塗佈用以形成上述抗反射層之第2塗佈劑而形成第2塗膜之步驟；於上述第2塗膜之上塗佈用以形成上述防污層之第3塗佈劑而形成第3塗膜之步驟；及將上述第2塗膜及上述第3塗膜同時加熱而形成上述抗反射層及上述防污層之步驟。
一種防眩構件之製造方法，其係製造具有基板、設置於上述基板之上且具有包含無機材料之凹凸構造之抗眩層、及設置於上述抗眩層之上之防污層的防眩構件之方法，該方法包括：將用以形成上述抗眩層之第1塗佈劑塗佈於上述基板之上而形成第1塗膜之步驟；於上述第1塗膜之上塗佈用以形成上述防污層之第3塗佈劑而形成第3塗膜之步驟；及將上述第1塗膜及上述第3塗膜同時加熱而形成上述抗眩層及上述防污層之步驟。