TW201733561A - 藥劑供給裝置 - Google Patents

Abstract

提供一種藥劑供給裝置，其容易清掃供藥劑通過的通路。複數個藥劑收容部(11)，係各自收容藥劑且於鉛直方向並排配置。從複數個藥劑收容部(11)的各個所排出的藥劑，係通過枝通路部(37)。可動構件(90)，係具有第1表面(38)。可動構件(90)，係可在以下位置移動：使第1表面(38)在枝通路部(37)內相對於鉛直方向傾斜的傾斜位置、以及使第1表面(38)於鉛直方向延伸的擦拭位置。位在傾斜位置之可動構件(90)的第1表面(38)，係構成枝通路部(37)的底面。

Description

藥劑供給裝置

本發明，係關於藥劑供給裝置，特別是關於供給錠劑的藥劑供給裝置。

以往，在將收納藥劑之藥劑供料器予以垂直重疊而成的供料器列予以配設成環狀的構造中，係提案有將各供料器列之上側的支點予以樞轉支撐，使該等的供料器列往外側打開，露出供藥劑通過的藥劑導引通路之裝置(例如參照日本特開平9-201399號公報)。

日本特開平9-201399號公報所記載的裝置中，藉由露出藥劑導引通路，可進行藥劑導引通路之內壁的清掃。但是，供料器列係以上側的支點為中心來旋轉而往外側打開，故打開狀態的供料器列係往斜方向延伸。因此，在清掃供料器列側之內壁的情況，有必要從斜下方進入內壁來進行清掃，清掃作業為困難。且，由於可繞支點來使供料器列轉動的角度受到限定，故在支點附近的作業 空間為狹窄，在支點附近進行清掃作業特別困難。

本發明的目的，係提供一種藥劑供給裝置，其容易清掃供藥劑通過的通路。

關於本發明的藥劑供給裝置，係具備：複數個藥劑收容部、複數個枝通路部、主通路部、可動構件。複數個藥劑收容部，係各自收容藥劑且於鉛直方向並排配置。從複數個藥劑收容部的各個所排出的藥劑，係通過枝通路部。主通路部，係沿著鉛直方向延伸，並與複數個枝通路部連通。通過複數個枝通路部的藥劑，係在主通路部落下。可動構件，係具有一表面。可動構件，係可在以下位置移動：使一表面在枝通路部內相對於鉛直方向傾斜的傾斜位置、以及使一表面於鉛直方向延伸的擦拭位置。位在傾斜位置之可動構件的一表面，係構成枝通路部的底面。

上述的藥劑供給裝置中，在主通路部的表面上滑動來擦拭的擦拭構件，係在位於擦拭位置之可動構件的一表面上滑動來擦拭。

上述的藥劑供給裝置，係進一步具備：擦拭構件、驅動部。擦拭構件，係在主通路部的表面上滑動來擦拭，並在位於擦拭位置之可動構件的一表面上滑動來擦拭。驅動部，係使擦拭構件往鉛直方向移動。

上述的藥劑供給裝置，進一步具備移動抑制部，係抑制位在擦拭位置之可動構件往從擦拭構件分離之方向的移動。

上述的藥劑供給裝置中，移動抑制部，係具有：設在可動構件與擦拭構件之中一方的磁鐵、設在可動構件與擦拭構件之中另一方且受到磁鐵吸引的被吸引構件。

上述的藥劑供給裝置中，可動構件，係具有於主通路部內突出的突出部。可動構件，係藉由使擦拭構件抵接於突出部，而從傾斜位置朝向擦拭位置移動。

上述的藥劑供給裝置中，可動構件，係以設在主通路部之表面附近的轉動軸為中心而可轉動。

該發明之上述及其他的目的、特徵、局面及優點，應可由與附加的圖式關連並理解之關於本發明的下述詳細說明而明瞭。

1‧‧‧藥劑供給裝置

2‧‧‧筐體

20‧‧‧滾筒

30‧‧‧弧狀分割體

31‧‧‧藥劑收容部

37‧‧‧枝通路部

38‧‧‧第1表面

38a‧‧‧傾斜面

39‧‧‧內周面

51‧‧‧主通路部

52‧‧‧對向面

60‧‧‧清掃部

61‧‧‧擦拭構件

61a‧‧‧抵接部

62‧‧‧驅動部

63‧‧‧索狀部

66‧‧‧磁鐵

90‧‧‧可動構件

91‧‧‧基底部

92‧‧‧轉動軸

93‧‧‧突出部

94‧‧‧板狀部

95‧‧‧第2表面

96‧‧‧磁性體

M‧‧‧藥劑

圖1為表示藥劑供給裝置之全體構造的立體圖。

圖2為表示弧狀分割體之構造的立體圖。

圖3為從與圖2相異的角度來觀看弧狀分割體的立體圖。

圖4為藥劑供給裝置的部分剖面圖。

圖5為表示藥劑所通過之經路之構造的部分剖面圖。

圖6為表示通過經路之藥劑的部分剖面圖。

圖7為表示使弧狀分割體旋轉之狀態的立體圖。

圖8為表示使弧狀分割體旋轉之狀態的部分剖面圖。

圖9為表示在實施形態1中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第1部分剖面圖。

圖10為表示在實施形態1中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第2部分剖面圖。

圖11為表示在實施形態1中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第3部分剖面圖。

圖12為表示實施形態2中清掃部之構造的示意圖。

圖13為表示實施形態2中可動構件的立體圖。

圖14為實施形態2中可動構件的側視圖。

圖15為表示在實施形態2中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第1部分剖面圖。

圖16為表示在實施形態2中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第2部分剖面圖。

以下，根據圖式來說明本發明的實施形態。又，以下的圖式中，對於相同或相當的部分附上相同的參考符號，並不重複該說明。

(實施形態1)

圖1為表示藥劑供給裝置1之全體構造的立體圖。如圖1所示般，本實施形態的藥劑供給裝置1，係具備成為裝置之外形的筐體2。筐體2，係具有上部筐體3與下部筐體4。上部筐體3，係相對於下部筐體4配置在上方。 下部筐體4，係相對於上部筐體3配置在下方。

於筐體2的最上部，設有天花板部5。天花板部5，係具有俯視時為矩形狀的形狀。在俯視時之上部筐體3的四角，設有：左前柱部11、右前柱部12、於圖1未圖示的左後柱部13、及右後柱部14。左前柱部11、右前柱部12、左後柱部13、及右後柱部14的上端，係分別連結於天花板部5。天花板部5，係藉由左前柱部11、右前柱部12、左後柱部13及右後柱部14而被支撐。

於上部筐體3的內部，配置有：具有大致圓筒狀之外形的滾筒20。關於滾筒20的詳細構造暫留後述。又，於上部筐體3，實際上係設有覆蓋四方側面的罩蓋，但在圖1及後述的圖中，為了以更明確圖示出滾筒20為目的，罩蓋係被省略圖示。上部筐體3之前側的罩蓋，係構成為可開閉。

於下部筐體4的正面，設有開閉門6、7。開閉門6、7，係構成為可開閉。使用藥劑供給裝置1的作業者，係將開閉門6、7打開，並可將供給至包裝紙或藥瓶之後的藥劑，從下部筐體4的內部取出。於開閉門6、7設有開口亦可，可從該開口將供給至包裝紙或藥瓶之後的藥劑予以取出亦可。

圖2為表示弧狀分割體30之構造的立體圖。圖2所示的弧狀分割體30，係將圖1所示之大致圓筒狀的滾筒20，於周方向分割者。弧狀分割體30的概略外形，係將中空圓筒於周方向切成等分割的形狀。組裝複數 個弧狀分割體30，而形成有圖1所示的滾筒20。圖1所示的滾筒20，係組合弧狀分割體30而構成，為中空筒狀體。

圖2所示的弧狀分割體30，係具有：複數個藥劑收容部31、與藥劑收容部31同數量的支撐體32。藥劑收容部31，係中空的容器。藥劑收容部31，係具有可開閉的蓋部。於複數個藥劑收容部31之各個的內部空間，收容有藥劑。藥劑，係藉由將蓋部開放，來收容於藥劑收容部31。本實施形態的藥劑收容部31所收容之藥劑的劑形，為錠劑。本實施形態的藥劑供給裝置1，係將單一種類或複數種類的錠劑予以包裝來供給的裝置。

各個支撐體32，係形成為板狀。支撐體32，係彼此空出間隔來並排。藥劑收容部31，係在上下的支撐體32間，安裝成裝卸自如。各個藥劑收容部31，係作為卡匣來設置，其可對藥劑供給裝置1安裝及可從藥劑供給裝置1拆下。

於弧狀分割體30的上端部分，設有將圓環板於周方向分割之形狀的天花板部34。於弧狀分割體30的下端部分，設有將薄壁圓筒於周方向分割之形狀的外裝板35。在外裝板35的一部分有切口，形成孔部36。孔部36，係形成為：讓使用藥劑供給裝置1之作業者的手指可插入。

圖3為從與圖2相異的角度來觀看弧狀分割體30的立體圖。如圖3所示般，弧狀分割體30，係具有 內周面39。內周面39，係在將中空圓筒於周方向分割之弧狀分割體30的外表面之中，朝向該中空圓筒之中心線的表面。內周面39，係具有將圓筒面於周方向分割的形狀。內周面39，係具有圓筒面之一部分的形狀。內周面39，係部分圓筒面狀。

圖3及其他圖中所示的軸方向Z，係表示形成內周面39之部分圓筒面的軸方向。圖3及其他圖中所示的徑方向R，係表示形成內周面39之部分圓筒面的徑方向。圖3及其他圖中所示的周方向θ，係表示形成內周面39之部分圓筒面的周方向。

於弧狀分割體30，形成有於徑方向R延伸的複數個枝通路部37。於各個枝通路部37內，設有第1表面38。圖3所示的第1表面38，係相對於軸方向Z傾斜，而構成枝通路部37內的底面。各個枝通路部37，係開口於弧狀分割體30的內周面39。且，枝通路部37，係連接於圖1所示之藥劑收容部31的內部空間。枝通路部37，係將藥劑收容部31的各個與內周面39連通。

如圖3所示般，枝通路部37，係於軸方向Z並排，且於周方向θ並排。如圖2所示般，藥劑收容部31，係於軸方向Z並排，且於周方向θ並排。藥劑收容部31及枝通路部37，係於軸方向Z及周方向θ並排配置。弧狀分割體30，係複數具備：於軸方向Z並排配置的藥劑收容部31。複數列的藥劑收容部31，係於周方向θ並排。藥劑收容部31，係面對弧狀分割體30的外周面來配 置。藥劑收容部31，係設置成可於徑方向R移動。支撐體32，係往徑方向R延伸。

弧狀分割體30，係具有第1側面40、第2側面43。第1側面40與第2側面43，係具有平面狀的形狀。第1側面40與第2側面43，係從弧狀分割體30的下端直到上端於軸方向Z延伸，且從弧狀分割體30的內周面39直到外周面於徑方向R延伸。

於弧狀分割體30的第1側面40，固定有上方軸支撐部41。於上方軸支撐部41，形成有2處的貫通孔部。該等2個貫通孔部，係在軸方向Z分開形成。2個貫通孔部，係形成圓形，且在俯視時中心為共通。上方軸支撐部41，係設置成接受未圖示的上方轉動軸部，而可對於上方轉動軸部相對旋轉。該上方轉動軸部，係安裝於滾筒20的軀體。

於弧狀分割體30的第1側面40，還安裝有下方轉動軸部42。於第1側面40，固定有下方軸支撐部，於下方軸支撐部形成有與上方軸支撐部41相同的2個貫通孔部。下方轉動軸部42，係將形成於下方軸支撐部的貫通孔部予以貫通。下方轉動軸部42，係比第1側面40的下端部還往下方延伸。下方轉動軸部42，係卡合於滾筒20的軀體。

圖3中以一點鏈線表示的旋轉軸A，係往軸方向Z延伸之虛擬的直線。旋轉軸A，係通過形成於上方軸支撐部41之2個貫通孔部的中心且通過下方轉動軸部 42的軸線。旋轉軸A，係成為弧狀分割體30的旋轉中心。弧狀分割體(30)，係以旋轉軸(A)為中心而可轉動。

圖4為藥劑供給裝置1的部分剖面圖。圖4所示的部分剖面圖，係將圖1所示的藥劑供給裝置1，沿著與軸方向Z正交的方向延伸且通過滾筒20的平面來切斷之下側的切斷面。如圖4所示般，在俯視上部筐體3時的四角，設有：左前柱部11、右前柱部12、左後柱部13、及右後柱部14。

滾筒20，係具有4個弧狀分割體30。圖2、3所示的弧狀分割體30，係使內周面39沿著圓筒狀並排配置4個，而形成有圖4所示之大致圓筒形狀的滾筒20。弧狀分割體30，係將大致圓筒形狀的滾筒20，於周方向進行4分割者。各個弧狀分割體30，係具有於周方向θ並排成4列的複數個藥劑收容部31。

圖4所示的中心線O，係表示如圖4所示般並排配置之弧狀分割體30之部分圓筒面狀之內周面39的中心線。中心線O，係表示大致圓筒形狀之滾筒20的中心線。中心線O，係於圖4的圖面垂直方向延伸。圖3、4所示的旋轉軸A，係設在從中心線O分開的位置，且與中心線O平行地延伸。旋轉軸A，係設在滾筒20之外周緣的附近。旋轉軸A，係於圖4的圖面垂直方向延伸。圖2、3所示的軸方向Z，係相當於圖4的圖面垂直方向。

對於藥劑收容部31在接近滾筒20的中心線 O處，形成有上述的枝通路部37。

複數個弧狀分割體30，係以中心線O為中心在周方向並排，且形成中空圓筒狀的形狀。複數個弧狀分割體30，係如圖4中以雙箭頭表示的轉動方向DR1般，以中心線O為中心而可一體地轉動。複數個弧狀分割體30，係構成為：設置成可對上部筐體3相對旋轉，且可將各個弧狀分割體30依序移動至藥劑供給裝置1的正面。又，圖4中的下側相當於藥劑供給裝置1的正面。

對於弧狀分割體30在接近中心線O處，配置有構成滾筒20之軀體之一部分的支柱50。支柱50，係沿著中心線O，於圖4的圖面垂直方向延伸。支柱50，係形成中空。於支柱50的內部，形成有中空空間53。於支柱50之面對中空空間53的內周面，設有4根構造柱54。構造柱54，係具有於圖4之圖面垂直方向延伸之實心圓柱狀的形狀。

於支柱50的外周面，形成有於圖4之圖面垂直方向延伸的複數個溝形狀。該溝形狀，係構成：於軸方向Z延伸的主通路部51。複數個溝形狀，係形成複數個主通路部51。複數個主通路部51，係互相平行地延伸。弧狀分割體30的內周面39，係面對主通路部51。弧狀分割體30的內周面39，係構成主通路部51之壁面的一部分。內周面39，係構成主通路部51之徑方向R之外側的壁面。

主通路部51，係相對於弧狀分割體30形成在 徑方向R的內方。藥劑收容部31係對面藥劑供給裝置1的前面來配置，主通路部51，係對於藥劑收容部31形成在藥劑供給裝置1的內側。

如圖4所示般，本實施形態中，於支柱50的外周面，在周方向形成有8處的主通路部51。8處的主通路部51，係於周方向θ並排。相對於1個弧狀分割體30，形成有2個主通路部51。相對於在周方向θ並排之2列的藥劑收容部31，設有1個主通路部51。相對於2個枝通路部37，形成有1個主通路部51。枝通路部37，係連通於主通路部51。藥劑收容部31與主通路部51，係透過枝通路部37而互相連通。

對於各個下方轉動軸部42之接近中心線O處，配置有補強支柱49。本實施形態中，滾筒20係具有4個弧狀分割體30，且具有4個下方轉動軸部42，故亦將補強支柱49設在4處。補強支柱49，係於圖4的圖面垂直方向延伸。補強支柱49，係從上部筐體3的下端部附近到上端部附近為止，於上下方向延伸存在。滾筒20，係具有：圓環平板狀的底板21、與底板21同形狀之未圖示的天花板。補強支柱49的下端，係被固定於底板21。補強支柱49的上端，係被固定於天花板。

圖5為表示藥劑所通過之經路之構造的部分剖面圖。如上述般，藥劑收容部31，係在軸方向Z並排配置，且被夾在上下的支撐體32間來配置。枝通路部37，係連通於藥劑收容部31。枝通路部37，係具有第1 表面38。枝通路部37，係連通於主通路部51。弧狀分割體30的內周面39，係面對主通路部51，且構成主通路部51之壁面的一部分。如圖5所示般，與內周面39對向的對向面52，係構成主通路部51之壁面的一部分。內周面39與對向面52，係沿著軸方向Z而延伸，且形成為大致平行。

如圖5所示般，藥劑供給裝置1，係具備可動構件90。可動構件90，係具有：基底部91、板狀部94。基底部91，係具有大致圓筒狀的形狀。基底部91的軸方向，係圖5中的圖面垂直方向。於基底部91的中心部分，設有轉動軸92。轉動軸92，係於圖5中的圖面垂直方向延伸。轉動軸92，係設在構成主通路部51之表面的內周面39附近。詳細如後述，可動構件90，係以轉動軸92為中心而可轉動。

基底部91，係面對主通路部51來配置。大致圓筒狀之基底部91之外表面的一部分，係相對於內周面39突出，而突出於主通路部51內。突出於該主通路部51內的部分，係構成突出部93。

板狀部94，係與基底部91連結，而與大致圓筒狀之基底部91的外表面相連。板狀部94，係具有平板狀的形狀。板狀部94之主表面的一方，係構成第1表面38。板狀部94之主表面的另一方，係面對弧狀分割體30的軀體。第1表面38，係成為相對於大致圓筒狀之基底部91之外周面的切線平面。圖5所示之可動構件90的配 置中，第1表面38，係配置在枝通路部37內，且相對於軸方向Z斜向傾斜。將圖5所示之可動構件90的配置，稱之為傾斜位置。位在傾斜位置之可動構件90的第1表面38，係構成枝通路部37的底面。

枝通路部37與主通路部51，係構成：使從藥劑收容部31排出的藥劑通過的經路亦即藥劑通路部。圖6為表示通過枝通路部37及主通路部51之藥劑M時的部分剖面圖。如圖6所示般，從複數個藥劑收容部31之各個所排出的藥劑M，係依序經過枝通路部37、主通路部51而落下來供給。

從藥劑收容部31排出的藥劑M，首先，係通過枝通路部37。通過枝通路部37的藥劑M，係沿著構成枝通路部37之底面的第1表面38來移動。通過枝通路部37的藥劑M，係從第1表面38上滑落，或是沿著第1表面38滾落來移動。

通過枝通路部37的藥劑M，係進入主通路部51。從枝通路部37往主通路部51移動的藥劑M，係藉由在枝通路部37內落下的動能，而具有從內周面39朝向對向面52的速度成分。如圖6所示般，會有藥劑M到達對向面52。到達對向面52的藥劑M，會撞到對向面52而彈回，且一邊從對向面52遠離並接近內周面39來移動，一邊在主通路部51內掉落。

本實施形態的藥劑供給裝置1中，軸方向Z，亦可為鉛直方向。或是，軸方向Z，亦可為相對於鉛直方 向傾斜的方向。主通路部51的上端與下端係無歧異地被定義，來規定藥劑供給裝置1對鉛直方向及水平方向的配置，使進入主通路部51的藥劑M藉由重力的作用而朝向下端移動。

圖7為表示使弧狀分割體30旋轉之狀態的立體圖。圖8為表示使弧狀分割體30旋轉之狀態的部分剖面圖。如圖7、8所示般，弧狀分割體30，係以於軸方向Z延伸的旋轉軸A為中心而可轉動。弧狀分割體30，係如圖8中以雙箭頭表示的轉動方向DR2般，可以旋轉軸A為中心來轉動。參照圖2如說明般，弧狀分割體30，係具有於周方向θ並排之複數列的藥劑收容部31。於周方向θ並排之複數列的藥劑收容部31，係以旋轉軸A為中心而可一體地轉動。

滾筒20的底板21，固定有承受構件71。在滾筒20之外裝板35(圖2)之形成有孔部36之位置的上方，安裝有鉤爪構件75。承受構件71與鉤爪構件75，係相對於滾筒20的軀體將弧狀分割體30鎖定成無法移動，而構成鎖定裝置。

圖7、8中，弧狀分割體30，係朝向滾筒20之大致圓筒形狀的徑方向外側來轉動。弧狀分割體30的內周面39，係伴隨著弧狀分割體30的轉動，以旋轉軸A為中心來移動。內周面39，係構成主通路部51的壁面。圖8所示，在將弧狀分割體30以旋轉軸A為中心於順時針方向移動的狀態，內周面39移動的結果，主通路部51 之壁面的一部分會移動。圖7、8所示，在將弧狀分割體30以旋轉軸A為中心往遠離中心線O的方向轉動的狀態，使主通路部51露出。在此狀態下，使用藥劑供給裝置1的作業者，可容易接觸到對向面52等之主通路部51的壁面、及弧狀分割體30的內周面39。

圖9為表示在實施形態1中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第1部分剖面圖。在實施形態1，在清掃供藥劑通過的通路時，使用藥劑供給裝置1的作業者係用手拿著圖9~11所示的擦拭構件61，而沿著弧狀分割體30的內周面39移動擦拭構件61。藉此，擦拭構件61係在內周面39上滑動，而擦拭內周面39。如圖7、8所示般，藉由轉動弧狀分割體30，作業者可容易接觸到內周面39。

擦拭構件61，係形成為可在主通路部51的表面上平順地滑動。擦拭構件61，亦可由可容易彈性變形的素材來形成。擦拭構件61，例如為含有由刷、氈、海綿、橡膠、及由不織布所成的群之中所選出之任1種構造的來構成亦可。

擦拭構件61，係在內周面39上一邊滑動，一邊如圖9中的箭頭所示般往下方移動，來接近可動構件90。圖9所示的可動構件90，係配置在傾斜位置。

圖10為表示在實施形態1中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第2部分剖面圖。從圖9所示的配置使擦拭構件61進一步移動，藉此使擦拭構件61抵接於可動構 件90的突出部93。在擦拭構件61抵接於突出部93的狀態下如圖10中的箭頭所示般往下方移動，藉此對可動構件90作用有繞轉動軸92的力量。藉此，可動構件90係以轉動軸92為中心，於圖10中的順時針方向轉動。可動構件90，係以轉動軸92為支點而往上彈起，從圖9所示的傾斜位置開始移動。

可動構件90的板狀部94，係具有：第1表面38、與第1表面38相反側的第2表面95。弧狀分割體30，係如圖10所示般，具有相對於軸方向Z傾斜的傾斜面38a。在可動構件90位於傾斜位置時，如圖9所示般，可動構件90的第2表面95係接觸於傾斜面38a。藉由使可動構件90於圖10中所示的曲線箭頭方向移動，而使可動構件90的第2表面95從傾斜面38a離開。圖10所示的配置中，可動構件90的第1表面38相對於軸方向Z傾斜的角度，係比圖9所示之傾斜位置的配置還小。

圖11為表示在實施形態1中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第3部分剖面圖。從圖10所示的配置使擦拭構件61進一步移動，藉此可動構件90亦會以轉動軸92為中心而往圖11中的順時針方向進一步轉動。可動構件90的第1表面38，係沿著軸方向Z延伸。藉此，可動構件90的第1表面38，會與擦拭構件61面接觸。將圖11所示之可動構件90的配置，稱之為擦拭位置。

在擦拭構件61與可動構件90之第1表面38接觸的狀態下，使擦拭構件61如圖11中的箭頭所示般往 下方移動，藉此使擦拭構件61在位於擦拭位置之可動構件90的第1表面38上滑動，來擦拭第1表面38。使擦拭構件61沿著內周面39向下移動，藉此依序清掃複數個可動構件90。使擦拭構件61從內周面39的上端緣移動至下端緣，藉此清掃複數個可動構件90之全部。

(實施形態2)

圖12為表示實施形態2中清掃部60之構造的示意圖。如圖12所示般，實施形態2的藥劑供給裝置1，係具備用來自動清掃主通路部51與枝通路部37之底面的清掃部60。清掃部60，係具有：擦拭構件61、驅動部62、索狀部63。

圖12所示的擦拭構件61，並未清掃主通路部51，為待機狀態。在待機狀態的擦拭構件61，係配置在主通路部51之上方的外部。驅動部62，係配置在主通路部51之上方的外部。擦拭構件61與驅動部62，係相對於主通路部51配置在上方。擦拭構件61與驅動部62，係比主通路部51的上端還配置在上方。索狀部63，係連結擦拭構件61與驅動部62。索狀部63，係從驅動部62往下方懸吊。在索狀部63的下端，連結有擦拭構件61。索狀部63，係配置在主通路部51之上方的外部。

驅動部62，係產生使擦拭構件61往軸方向Z移動的驅動力。驅動部62，係變更索狀部63於軸方向Z延伸的長度。圖12所示的索狀部63，係在軸方向Z延伸 的長度為最小的狀態。從圖12所示的狀態，隨著索狀部63於軸方向Z延伸的長度增大，而使連結在索狀部63之下端的擦拭構件61往下方移動。當索狀部63於軸方向Z延伸的長度減少時，會使連結在索狀部63之下端的擦拭構件61往上方移動。

擦拭構件61，係設置成可在主通路部51內於軸方向Z移動。擦拭構件61，可從主通路部51之上方的外部，經由主通路部51的上端而往主通路部51內移動。擦拭構件61，可從主通路部51的內部，經由主通路部51的上端而往主通路部51之上方的外部移動。

作為索狀部63，亦可使用鎖鍊、柔性齒條等之可調節在主通路部51內之軸方向Z之延伸長度的任意構件。驅動部62，亦可構成為含有馬達。

擦拭構件61，係與主通路部51的內表面接觸。擦拭構件61，係與構成主通路部51的表面之對向面52與內周面39的雙方進行面接觸。在軸方向Z移動的擦拭構件61，係在包含對向面52及內周面39之主通路部51的表面上滑動，而擦拭主通路部51的表面。

擦拭構件61，係具有抵接部61a。抵接部61a，係從擦拭構件61的本體部突出於下方。抵接部61a，係在擦拭構件61的下面之中，設在弧狀分割體30之內周面39側的緣部。又，於擦拭構件61，亦可不一定要設置從本體部突出於下方的抵接部。擦拭構件61在擦拭主通路部51的表面時，擦拭構件61之本體部的一部 分，構成為抵接於可動構件90的突出部93亦可。

實施形態2中，在清掃供藥劑通過的通路時，藉由使清掃部60動作，而自動進行清掃。驅動部62，係將擦拭構件61從圖12所示之主通路部51之上方的外部，於軸方向Z移動至主通路部51的下端部分為止。使擦拭構件61在主通路部51內往下方移動時，相對於含有對向面52及內周面39之主通路部51的內表面全體，使擦拭構件61滑動。藉此，主通路部51的內表面全體被擦拭構件61所擦拭，將附著於主通路部51之表面的藥劑M粉塵予以清掃。在擦拭構件61移動至主通路部51的下端部分之後，驅動部62，係使擦拭構件61往上方移動，使擦拭構件61回到圖12所示之主通路部51之上方的外部。

圖13為表示實施形態2中可動構件90的立體圖。圖14為實施形態2中可動構件90的側視圖。如圖13、14所示般，可動構件90係具有磁性體96。磁性體96，係具有薄平板狀的形狀。磁性體96，例如為鋼製。磁性體96，係被安裝於可動構件90之板狀部94的第2表面95。磁性體96，係如圖13所示般設置成露出於板狀部94的第2表面95，且不露出於板狀部94的第1表面38。

圖13、14所示的磁性體96，係埋入至可動構件90的板狀部94來配置。除此例之外，磁性體96，亦可黏貼在平面狀的第2表面95上。取代磁性體96，亦可 於可動構件90安裝有永久磁鐵。

圖15為表示在實施形態2中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第1部分剖面圖。擦拭構件61，係一邊在內周面39上滑動，一邊如圖15中的箭頭所示般在主通路部51內往下方移動，而抵接於可動構件90的突出部93。擦拭構件61的抵接部61a，係抵接於可動構件90的突出部93。在擦拭構件61抵接於突出部93的狀態下如圖15中的箭頭所示般往下方移動，藉此對可動構件90作用有繞轉動軸92的力量。藉此，可動構件90係以轉動軸92為中心來轉動，而從傾斜位置移動。

藉由使可動構件90於圖15中所示的曲線箭頭方向移動，而使可動構件90的第2表面95從傾斜面38a離開。圖15所示的配置中，可動構件90的第1表面38相對於軸方向Z傾斜的角度，係比傾斜位置的配置還小。

圖16為表示在實施形態2中使藥劑通過之通路之清掃狀況的第2部分剖面圖。從圖15所示的配置使擦拭構件61進一步移動，藉此可動構件90亦會以轉動軸92為中心進一步轉動，而移動至擦拭位置。位在擦拭位置之可動構件90的第1表面38，係沿著軸方向Z延伸。藉此，可動構件90的第1表面38，會與擦拭構件61面接觸。

如圖15、16所示般，於擦拭構件61安裝有磁鐵66。磁鐵66，係埋入至擦拭構件61的內部。磁鐵 66，係在擦拭構件61的內部，配置在：靠近滑動於內周面39上之面且遠離滑動於對向面52上之面的位置。

擦拭構件61具有磁鐵66，可動構件90具有圖13、14所示的磁性體96，藉此而藉由磁力的作用，使可動構件90被擦拭構件61吸引。磁性體96，係具有被磁鐵66吸引之作為被吸引構件的功能。藉此，可實現出使可動構件90的第1表面38確實與擦拭構件61面接觸的構造。

在擦拭構件61與可動構件90之第1表面38接觸的狀態下，如圖16中的箭頭所示般往下方移動，藉此使擦拭構件61在位於擦拭位置之可動構件90的第1表面38上滑動，來擦拭第1表面38。使擦拭構件61沿著內周面39向下移動，藉此依序清掃複數個可動構件90。使擦拭構件61從內周面39的上端緣移動至下端緣，藉此清掃複數個可動構件90之全部。

可動構件90位在擦拭位置，使擦拭構件61擦拭可動構件90的第1表面38時，磁性體96係以磁力作用而被磁鐵66吸引，藉此抑制可動構件90往從擦拭構件61分離之方向的移動。磁鐵66與磁性體96，係具有：抑制位在擦拭位置之可動構件90往從擦拭構件61分離之方向的移動之作為移動抑制部的功能。

實施形態2的擦拭構件61，亦可相對於藥劑供給裝置1裝卸。由於擦拭構件61可從藥劑供給裝置1拆下，故在從藥劑供給裝置1拆下擦拭構件61的狀態， 可容易整備擦拭構件61。在擦拭構件61擦拭藥劑通路部之表面上的能力降低的情況，可容易交換新的擦拭構件61。

實施形態2的清掃部60，亦可相對於複數個主通路部51設置1個。使複數個主通路部51，在圖4中之雙箭頭所示的轉動方向DR1轉動，而使清掃部與主通路部51相對地移動，可將各個主通路部51依序配合清掃部60來配置。構成為使用1個清掃部60來依序清掃複數個主通路部51，藉此可刪減藥劑供給裝置1的零件數量。

將構成實施形態2中所說明之移動抑制部的磁鐵66與磁性體96，適用於實施形態1的藥劑供給裝置1亦可。移動抑制部，並不限於磁鐵與磁性體的組合，亦可在可動構件90與擦拭構件61之雙方設有磁鐵。且，移動抑制部，除了使用磁鐵的構造之外，只要可以抑制可動構件往從擦拭構件分離之方向的移動的話，可以為任意構造。例如，亦可另外設置用來將可動構件保持於擦拭位置的構造，亦可設置將位在擦拭位置的擦拭構件與可動構件予以機械性卡合的構造，亦可設置藉由空氣吸引來將可動構件吸附於擦拭構件的構造。

針對以上所說明之本實施形態之藥劑供給裝置1的構造及作用效果進行統整說明時，係如以下所述。又，實施形態的構造雖有附上參照編號，但此為一例。

關於上述實施形態的藥劑供給裝置1，係如圖 5所示般，具備：主通路部51、複數個枝通路部37。主通路部51，係沿著鉛直方向延伸，並與複數個枝通路部37連通。如圖6所示般，從複數個藥劑收容部31的各個所排出的藥劑，係通過枝通路部37。通過枝通路部37的藥劑，係在主通路部51落下。

藥劑供給裝置1，係具備可動構件90。可動構件90，係具有第1表面38。可動構件90，係可在以下位置移動：使第1表面38在枝通路部37內相對於鉛直方向傾斜之圖5、9所示的傾斜位置、以及使第1表面38於鉛直方向延伸之圖11、16所示的擦拭位置。位在傾斜位置之可動構件90的第1表面38，係構成枝通路部37的底面。

從藥劑收容部31所排出的藥劑M，係沿著構成枝通路部37之底面的第1表面38，而通過枝通路部37。在枝通路部37移動的藥劑M係與第1表面38接觸，藉此使藥劑M的表面產生消磨或缺損，使藥劑M粉塵附著於第1表面38。因此，有必要定期清掃第1表面38。根據本實施形態，將可動構件90移動至擦拭位置，藉此在進行清掃主通路部51之表面的作業之際，可同時清掃第1表面38。因此，可容易清掃枝通路部37的底面，可減輕枝通路部37之清掃作業所需的作業。

且，如圖11所示般，在主通路部51的表面上滑動來擦拭的擦拭構件61，係在位於擦拭位置之可動構件90的第1表面38上滑動來擦拭。藉由成為以擦拭構 件61來擦拭主通路部51的表面與第1表面38之雙方的構造，在進行清掃主通路部51之表面的作業之際，可確實清掃第1表面38。

且，如圖10、15所示般，可動構件90，係具有突出於主通路部51內的突出部93。可動構件90，係藉由使擦拭構件61抵接於突出部93，而從傾斜位置朝向擦拭位置移動。如此一來，就沒有必要設置使可動構件90從傾斜位置往擦拭位置位移用的驅動源，可以簡單的構造來使可動構件90往擦拭位置移動，可減少藥劑供給裝置1的零件個數。

且如圖12所示般，藥劑供給裝置1，係進一步具備：擦拭構件61、使擦拭構件61於鉛直方向移動的驅動部62。擦拭構件61，係具有：在主通路部51內往鉛直方向的下方移動時抵接於突出部93的抵接部61a。如圖16所示般，擦拭構件61，係在主通路部51的表面上滑動來擦拭，並在位於擦拭位置之可動構件90的第1表面38上滑動來擦拭。

以驅動部62使擦拭構件61在鉛直方向移動，藉此使擦拭構件61在主通路部51的表面上及枝通路部37的底面上滑動來擦拭。藉此，可自動地清掃主通路部51的表面與枝通路部37的底面。使抵接部61a抵接於突出部93而使可動構件90往擦拭位置移動，藉此可確實以擦拭構件61來擦拭可動構件90的第1表面38。因此，可將枝通路部37的底面保持清潔的狀態，可減輕枝 通路部37之清掃作業所需的作業。

且如圖15、16所示般，擦拭構件61，係具有磁鐵66。如圖13、14所示般，可動構件90係具有磁性體96。磁性體96，係具有被磁鐵66吸引之作為被吸引構件的功能。磁鐵66與磁性體96，係構成：抑制位在擦拭位置之可動構件90往從擦拭構件61分離之方向之移動的移動抑制部。

如此一來，使可動構件90藉由磁力而被擦拭構件61吸引，來促進可動構件90往擦拭位置的移動。移動至擦拭位置的可動構件90，係藉由磁力而被吸附於擦拭構件61，故可將可動構件90的第1表面38密貼於擦拭構件61。位在擦拭位置的可動構件90，係藉由磁鐵66與磁性體96的吸引，而抑制往從擦拭構件61分離之方向的移動。因此，可確實擦拭構成枝通路部37之底面的第1表面38。

且，如圖9~11所示般，可動構件90，係以轉動軸92為中心而可轉動。轉動軸92，係設在構成主通路部51之表面的內周面39附近。如此一來，可以簡單的構造來使可動構件90在傾斜位置與擦拭位置位移。

又，至此為止的說明中，係以複數個藥劑收容部31在軸方向Z及周方向θ並排配置而形成大致圓筒狀的滾筒20為例子進行了說明。並不限於此例，亦可為在大致鉛直方向並排之複數個藥劑收容部的背後形成有供藥劑通過的藥劑通路部之任意的構造。例如，使複數個藥 劑收容部在鉛直面上縱橫並排，並在該等藥劑收容部的背後形成有藥劑通路部的構造亦可。即使是此種情況，只要使用上述實施形態中所說明的清掃部60來清掃藥劑通路部的話，亦可同樣地得到可減輕藥劑通路部之清掃作業之所需作業的效果。

可動構件90，並不限定於以轉動軸92為中心來轉動的例子，亦可構成為，伴隨著擦拭構件61在主通路部51內的移動而從傾斜位置滑動移動，使第1表面38移動至面對主通路部51的位置。藥劑供給裝置1，亦可具備用來將可動構件90從傾斜位置移動至擦拭位置的驅動源。

雖針對本發明的實施形態進行了說明，但應認為在此所揭示的實施形態就所有觀點來看均為例示，而並非用來限制本案發明者。本發明的範圍係由申請專利範圍來揭示，且意旨包含與申請專利範圍均等的意義及範圍內之所有的變更。

31‧‧‧藥劑收容部

32‧‧‧支撐體

37‧‧‧枝通路部

38‧‧‧第1表面

38a‧‧‧傾斜面

39‧‧‧內周面

61‧‧‧擦拭構件

90‧‧‧可動構件

91‧‧‧基底部

92‧‧‧轉動軸

93‧‧‧突出部

94‧‧‧板狀部

95‧‧‧第2表面

Claims (7)

1. 一種藥劑供給裝置，係具備：各自收容藥劑且於鉛直方向並排配置的複數個藥劑收容部、使從前述複數個藥劑收容部的各個所排出的前述藥劑通過的複數個枝通路部、沿著前述鉛直方向延伸，與前述複數個枝通路部連通，使通過前述複數個枝通路部的前述藥劑落下的主通路部、以及可動構件，其具有一表面，且為可移動至以下位置：使前述一表面在前述枝通路部內相對於前述鉛直方向傾斜的傾斜位置、以及使前述一表面於鉛直方向延伸的擦拭位置，在前述傾斜位置時，前述一表面係構成前述枝通路部的底面。
2. 如請求項1所述之藥劑供給裝置，其中，在前述主通路部的表面上滑動來擦拭的擦拭構件，係在位於前述擦拭位置之前述可動構件的前述一表面上滑動來擦拭。
3. 如請求項1所述之藥劑供給裝置，其進一步具備：擦拭構件，係在前述主通路部的表面上滑動來擦拭，並在位於前述擦拭位置之前述可動構件的前述一表面上滑動來擦拭、驅動部，係使前述擦拭構件於鉛直方向移動。
4. 如請求項2所述之藥劑供給裝置，其進一步具備：移動抑制部，係抑制位在前述擦拭位置之前述可動構件往從前述擦拭構件分離之方向移動。
5. 如請求項4所述之藥劑供給裝置，其中，前述移動抑制部，係具有：設在前述可動構件與前述擦拭構件之中一方的磁鐵、設在前述可動構件與前述擦拭構件之中另一方且受到前述磁鐵吸引的被吸引構件。
6. 如請求項2所述之藥劑供給裝置，其中，前述可動構件，係具有突出至前述主通路部內的突出部，前述可動構件，係藉由使前述擦拭構件抵接於前述突出部，而從前述傾斜位置朝向前述擦拭位置移動。
7. 如請求項1所述之藥劑供給裝置，其中，前述可動構件，係以設在前述主通路部之表面附近的轉動軸為中心而可轉動。