TW201704167A - 玻璃板 - Google Patents
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Abstract
本發明係一種玻璃板,其係具有第1及第2主表面且於熔融錫上成形而成者;且第1主表面係與上述熔融錫接觸之側,且具有含錫層;於樣品A,即藉由於與第1主表面垂直之方向進行切斷而自該玻璃板之中心部分截取到之尺寸為縱50mm×橫50mm且相互對向之第1及第2切斷面成為算術平均粗糙度Ra≦0.03μm者中,自上述第1切斷面起算在法線方向的50mm長度上、在波長400~700nm之範圍內之內部透過率之平均值為85%以上;上述含錫層之吸光度Ap於波長400~700nm之範圍內之最大值與最小值之差為0.0007以下;上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值為0.0010以下。
Description
本發明係關於一種玻璃板。
先前,已知有使用LED(Light Emitting Diode,發光二極體)等低耗電光源之邊緣照明方式之顯示裝置。邊緣照明方式之顯示裝置中使用有具有相互對向之2個主表面之導光板、及與該導光板之一端面對向而配置之光源。此處,導光板之所謂「端面」係指將導光板之2個主表面相互連接之4個側面。又,將4個側面中之面向光源之端面特別稱為「入射端面」。
邊緣照明方式中,來自光源之光入射至導光板之入射端面。其後,入射至導光板之光自一主表面(稱為「出射主表面」)出射。因此,邊緣照明方式具有如下特徵:導光板中之光之入射方向與出射方向具有相互垂直之關係。
一般而言,作為此種邊緣照明方式之顯示裝置之導光板,使用丙烯酸系樹脂板。然而,就耐擦傷性、剛性、耐熱性、及耐水性之觀點而言,丙烯酸系樹脂板存在問題。因此,業界要求使用不易產生此種問題之玻璃板作為導光板。關於數位標牌或照明等所利用之導光板,亦具有相同之要求。
所上所述,作為邊緣照明方式之顯示裝置等之導光板,要求使
用玻璃板。
然而,一般而言,利用浮式法所製造之玻璃板於一主表面具有較薄之著色層。其原因在於:於自熔融玻璃成形玻璃板時,於與熔融錫接觸之表面,熔融錫中之雜質(例如鐵)與熔融玻璃中之成分(例如硫)反應,會產生著色成分。
並且,於將此種具有著色層之玻璃板應用於導光板之情形時,入射光中相應之量會於傳播中被吸收之可能性變高。又,若處於光之傳播中之特定波長之部分被選擇性地吸收,則出射顏色與入射光之顏色不同之光,產生所謂之色偏差之可能性變高。
於各種顯示器、或數位標牌、照明等中,色偏差成為問題。尤其是最近之顯示裝置之領域中,如於液晶電視等所見到般,相對較大之尺寸者正成為主流。因此,預計隨著顯示裝置進而導光板之大型化,光之傳播距離變長,故而此種問題今後會變得更明顯。
本發明係鑒於此種背景而成者,本發明之目的在於提供一種入射光與出射光之色偏差被顯著地抑制之玻璃板。
本發明提供一種玻璃板,其係具有第1及第2主表面且於熔融錫上成形而成者。且上述第1主表面為與上述熔融錫接觸之側,且具有含錫層,於樣品A,即藉由於與上述第1主表面垂直之方向進行切斷而自該玻璃板之中心部分截取到之尺寸為縱50mm×橫50mm且相互對向之第1及第2切斷面成為算術平均粗糙度Ra≦0.03μm者中,自上述第1切斷面起算在法線方向的50mm長度上、在波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值為85%以上,上述含錫層之吸光度Ap於波長400~700nm之範圍內之最大值與最小值之差為0.0007以下,
上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值為0.0010以下。
本發明能夠提供一種入射光與出射光之色偏差被顯著地抑制之玻璃板。
10‧‧‧顯示裝置
20‧‧‧光源群
21‧‧‧光源
30‧‧‧導光板
32A‧‧‧第1主表面
32B‧‧‧第2主表面
34A~34D‧‧‧端面
40‧‧‧顯示元件
100‧‧‧第1玻璃板
110-1‧‧‧第1樣品
110-2‧‧‧第2樣品
110A‧‧‧第1研磨樣品
110B‧‧‧第2研磨樣品
120‧‧‧第1主表面
120A‧‧‧第1主表面
120B‧‧‧第3主表面
122‧‧‧第2主表面
122A‧‧‧第2主表面
122B‧‧‧第4主表面
123A‧‧‧第1研磨表面
124A‧‧‧第2研磨表面
127B‧‧‧第4研磨表面
132‧‧‧第1端面
134‧‧‧第2端面
136‧‧‧第3端面
138‧‧‧第4端面
150‧‧‧含錫層
S110‧‧‧步驟
S120‧‧‧步驟
S130‧‧‧步驟
圖1係概略性地表示普通之邊緣照明方式之顯示裝置之構成之圖。
圖2係本發明之一實施形態之玻璃板之模式性之立體圖。
圖3係用以對吸光度測定用之第1研磨樣品之製備方法進行說明之圖。
圖4係用以對吸光度測定用之第2研磨樣品之製備方法進行說明之圖。
圖5係表示本發明之一實施形態之玻璃板的製造方法之一例之概略性之流程的圖。
圖6係表示於玻璃板1及玻璃板2中所獲得之50mm長度之內部透過率Tin之一例的曲線圖。
圖7係表示於玻璃板3中所獲得之50mm長度之內部透過率Tin之一例的曲線圖。
圖8係表示於玻璃板1之各主表面中所獲得之反射率Ra及Rb之測定結果之一例的曲線圖。
圖9係表示於玻璃板2之各主表面中所獲得之反射率Ra及Rb之測定結果之一例的曲線圖。
圖10係表示於玻璃板3之各主表面中所獲得之反射率Ra及Rb之測定結果之一例的曲線圖。
圖11係表示自玻璃板1採取之第1及第2研磨樣品之內部透過率T1i
及T2i之波長依存性的曲線圖。
圖12係表示自玻璃板1採取之第1及第2研磨樣品之第1參照反射率Rr及第2參照反射率Rt之波長依存性的曲線圖。
圖13係表示玻璃板1之含錫層之吸光度Ap之波長依存性的曲線圖。
圖14係表示自玻璃板2採取之第1及第2研磨樣品之內部透過率T1i及T2i之波長依存性的曲線圖。
圖15係表示自玻璃板2採取之第1及第2研磨樣品之第1參照反射率Rr及第2參照反射率Rt之波長依存性的曲線圖。
圖16係表示玻璃板2之含錫層之吸光度Ap之波長依存性的曲線圖。
圖17係表示自玻璃板3採取之第1及第2研磨樣品之內部透過率T1i及T2i之波長依存性的曲線圖。
圖18係表示自玻璃板3採取之第1及第2研磨樣品之第1參照反射率Rr及第2參照反射率Rt之波長依存性的曲線圖。
圖19係表示玻璃板3之含錫層之吸光度Ap之波長依存性的曲線圖。
以下,參照圖式對本發明之一實施形態進行說明。
圖1中表示普通之邊緣照明方式之顯示裝置之概略性之分解立體圖。
如圖1所示,通常,邊緣照明方式之顯示裝置10具有光源群20、導光板30、及顯示元件40。
光源群20具有配置成一行之1個以上光源21。各光源21可為如發光二極體(LED)或雷射二極體之指向性光源。
導光板30具有第1及第2主表面32A及32B、及將該主表面彼此連
接之4個端面34A~34D。關於導光板30之第1主表面32A,可於該主表面上賦予含有散射粒子之複數個點、不含有散射粒子之複數個點、複數個凸透鏡、凹凸形狀等任一散射構造(未圖示),亦稱為「散射主表面」。導光板30之第2主表面32B成為出射側,亦稱為「出射主表面」。導光板30之第1主表面32A成為顯示裝置10之背面側,第2主表面32B成為顯示裝置10之前表面側。導光板30之端面34A面向光源群20,成為顯示裝置10之入射表面。因此,導光板30之端面34A亦稱為「入射端面」。
顯示元件40例如係由內包液晶、或黑色或者白色之粒子之微膠囊等構成,能夠形成圖像。顯示元件40以面嚮導光板30之第2主表面32B之方式而配置。
此種構成之顯示裝置10如以下般進行作動。首先,自構成光源群20之各光源21朝導光板30之入射端面34A照射光,該光入射至導光板30。所入射之光(入射光)一面被導光板30之各內表面反射一面於導光板30之內部進行傳播,藉由形成於導光板30之第1主表面32A上之任一散射構造而改變傳播方向,結果自導光板30之第2主表面32B出射。自導光板30所出射之光其後照射至顯示元件40。其結果為,由顯示元件40形成之圖像顯示於外部,顯示裝置10之視認者能夠辨識由顯示元件40形成之圖像。
圖2中表示本發明之一實施形態之玻璃板之概略性之立體圖。
如圖2所示,本發明之一實施形態之玻璃板(以下,稱為「第1玻璃板」)100具有第1主表面120及第2主表面122、及第1~第4端面132~138。
第1主表面120於成形第1玻璃板100時為與熔融錫接觸之側,故而具有較薄之含錫層(未圖示)。
此處,如上所述,作為顯示裝置10之導光板30,要求應用玻璃
板代替丙烯酸系樹脂板。
然而,一般而言,利用浮式法所製造之玻璃板於一主表面具有較薄之著色層。於將此種具有著色層之玻璃板應用於顯示裝置10之導光板30之情形時,光之相當之量於傳播中被吸收之可能性變高。又,若處於光之傳播中之特定波長之部分被選擇性地吸收,則出射顏色與入射光之顏色不同之光,產生所謂之色偏差之可能性變高。尤其是隨著顯示裝置10進而導光板30之大型化,光之傳播距離變長,因而有此種問題今後會更明顯之虞。
相對於此,第1玻璃板100具有如下特徵:於樣品A,即藉由於與第1主表面120垂直之方向進行切斷而自第1玻璃板100之中心部分截取到之尺寸為縱50mm×橫50mm且相互對向之第1及第2切斷面成為算術平均粗糙度Ra≦0.03μm者中,自上述第1切斷面起算在法線方向的50mm長度上、在波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率Tin之平均值Tave(以下,稱為「平均內部透過率Tave」)為85%以上。
又,第1玻璃板100具有如下特徵:含錫層之吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值與最小值之差為0.0007以下,且上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值為0.0010以下。
此種第1玻璃板100遍及與上述第1切斷面垂直之相對較長之光程長度而具有充分高之透明性。
又,於第1玻璃板100之具有含錫層之第1主表面120中,著色受到充分抑制。因此,第1玻璃板100儘管於第1主表面120具有含錫層,亦能夠顯著地抑制光之吸收、及吸收之波長依存性。
藉由此種特徵,於將第1玻璃板100例如使用於顯示裝置10之導光板30之情形時,能夠使光於不太衰減之情況下自入射端面遍及光程長度而傳播。又,能夠顯著地抑制自入射端面(例如,第1端面132)入射之入射光與自第2主表面122出射之出射光之間產生色偏差之問題。
第1主表面120之反射率因錫滲入而變高。因此,於將第1玻璃板100使用於顯示裝置10之導光板30之情形時,藉由將第1主表面120作為顯示裝置10之背面側(即,作為主要散射面)而使用,能夠自對向之第2主表面122更多地提取光,從而較佳。
又,因成形環境之影響而使鹼性成分減少,由此第2主表面122之反射率變低。因此,於將第1玻璃板100使用於顯示裝置10之導光板30之情形時,藉由將第2主表面122作為顯示裝置10之前表面側(即,作為出射主要面)而使用,能夠減少光之反射成分,自第2主表面122更多地提取,從而較佳。
(玻璃板之內部透過率Tin及平均內部透過率Tave)
此處,針對本申請案之玻璃板之內部透過率Tin及平均內部透過率Tave之評價方法進行說明。
首先,自成為對象之玻璃板之大致中央部分,於與玻璃板之第1主表面垂直之方向進行切斷,藉此採取縱50mm×橫50mm之尺寸之樣品。
繼而,確認該樣品之相互對向之第1及第2切斷面之算術平均粗糙度Ra成為0.03μm以下。若於算術平均粗糙度Ra大於0.03μm之情形時,則利用膠體二氧化矽或氧化鈰之游離研磨粒對第1及第2切斷面進行研磨。
繼而,於該樣品A中,對第1切斷面於該第1切斷面之法線方向測定50mm長度之在波長400nm~700nm之範圍內之透過率TA。於透過率TA之測定中,使用能夠測定50mm長度之分光測定裝置(例如UH4150:日立高新技術公司製造),並藉由狹縫等,使入射光之束寬窄於板厚而進行測定。
繼而,藉由V形塊法對樣品A之g射線(435.8nm)、F射線(486.1nm)、e射線(546.1nm)、d射線(587.6nm)、C射線(656.3nm)於各波長
之折射率藉由精密折射計於室溫下進行測定。以適配於其等之值之方式藉由最小平方法決定Sellmeler之分散式(以下之(1)式)之各係數B1、B2、B3、C1、C2、C3,由此獲得樣品A之折射率nA:nA=[1+{B1λ2/(λ2-C1)}+{B2λ2/(λ2-C2)}+{B3λ2/(λ2-C3)}]0.5 (1)式
再者,於(1)式中,λ為波長。
藉由以下理論式((2)式)求出樣品A之該第1及該第2切斷面之反射率RA:RA=(1-nA)2/(1+nA)2 (2)式
繼而,使用(3)式,根據樣品A之50mm長度之透過率TA,排除反射之影響,藉此獲得樣品A之自該第1切斷面於法線方向上50mm長度之內部透過率Tin:Tin=[-(1-RA)2+{(1-RA)4+4TA 2RA 2}0.5]/(2TARA 2) (3)式
藉由將於各波長所獲得之內部透過率Tin遍及測定波長區域進行平均化,而計算玻璃板之平均內部透過率Tave。
於第1玻璃板100中,平均內部透過率Tave為85%以上。於此情形時,於將第1玻璃板100作為導光板而使用時,能夠自導光板提取更多光。平均內部透過率Tave較佳為90%以上,更佳為92%以上,進而較佳為95%以上,更進而較佳為96%以上,進一步較佳為97%以上,最佳為98%以上。
(含錫層之吸光度Ap)
此處,參照圖3及圖4,針對本案之含錫層之吸光度AP之測定方法進行說明,圖3係用以對吸光度測定用之第1研磨樣品之製備方法進行說明之圖。又,圖4係用以對吸光度測定用之第2研磨樣品之製備方法進行說明之圖。
首先,自被評價對象之玻璃板之大致中央部分採取第1及第2之兩個樣品。
於圖3中模式性地表示第1樣品110-1之剖面。又,於圖4中模式性地表示第2樣品110-2之剖面。
如圖3所示,第1樣品110-1具有第1主表面120A、及第2主表面122A。第1主表面120A及第2主表面122A分別相當於本來之玻璃板之第1主表面及第2主表面。再者,第1主表面120A為成形玻璃板時之錫接觸面,具有含錫層150。
於該第1樣品110-1中,將第1主表面120A之側研磨100μm左右,將第2主表面122A之側研磨100μm左右。藉此,於第1主表面120A之側新形成第1研磨表面123A,於第2主表面122A之側新形成第2研磨表面124A。
第1研磨表面123A及第2研磨表面124A均設為算術平均粗糙度Ra為0.04mm以下之鏡面狀態。將所獲得之樣品110-1稱為第1研磨樣品110A。再者,由於第1主表面120A已被研磨,故而於第1研磨表面123A不存在含錫層150。
另一方面,如圖4所示,第2樣品110-2具有第3主表面120B、及第4主表面122B。第3主表面120B及第4主表面122B分別相當於本來之玻璃板之第1主表面及第2主表面。再者,第3主表面120B為成形玻璃板時之錫接觸面,具有含錫層150。
於該第2樣品110-2中,僅將第4主表面122B之側研磨200μm左右。此處,樣品110-2以該樣品110-2之板厚與樣品110-1之板厚一致之方式接受研磨。藉此,於第4主表面122B之側新形成第4研磨表面127B。第4研磨表面127B設為算術平均粗糙度Ra為0.04μm以下之鏡面狀態。將所獲得之樣品110-2稱為第2研磨樣品110B。繼而,使用以此方式所獲得之第1研磨樣品110A,自第2研磨表面124A之側,於波長400nm~700nm之範圍內對第1透過率T1進行測定。
繼而,利用粒度#80之研磨粒將第1研磨表面123A粗面化並進而
均勻地塗佈黑體塗料之後,自第2研磨表面124A之側於波長400nm~700nm之範圍對第2研磨表面124A之反射率(稱為第1參照反射率)進行測定。於反射率之測定中,使用能夠進行絕對反射率測定之分光測定裝置。再者,第1研磨表面123A之反射率能以Rr代表。
繼而,使用第2研磨樣品110B,自第4研磨表面127B之側,於波長400nm~700nm之範圍內,對第2透過率T2進行測定。
繼而,利用粒度#80之研磨粒將第4研磨表面127B進行粗面化並進而均勻地塗佈黑體塗料之後,自第3主表面120B之側,於波長400nm~700nm之範圍內,對第3主表面120B之反射率(稱為第2參照反射率)Rt進行測定。於反射率之測定中,使用能夠進行絕對反射率測定之分光測定裝置。再者,第4研磨表面127B之反射率能以Rr代表。繼而,藉由以下(4)式算出第1研磨樣品110A之內部透過率T1i:T1i=[-(1-Rr)2+{(1-Rr)4+4T1 2Rr 2}0.5]/(2T1Rr 2) (4)式
同樣地,藉由以下(5)式算出第2研磨樣品110B之內部透過率T2i:T2i=[-(1-Rr)(1-Rt)+{(1-Rr)2(1-Rt)2+4T2 2RrRt}0.5]/(2T2RrRt) (5)式
繼而,藉由以下(6)式計算第1研磨樣品110A之吸光度A1:A1=-log10T1i (6)式
又,藉由以下(7)式計算第2研磨樣品110B之吸光度A2:A2=-log10T2i (7)式
最後,藉由(8)式導出含錫層150之吸光度Ap。
Ap=A2-A1 (8)式
於第1玻璃板100中,含錫層之吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值與最小值之差為0.0007以下。藉此,於將第1玻璃板100作為導光板而使用之情形時,特定之波長之吸收較小,且能夠顯著地抑制入射光與出射光之色偏差。上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值與最小值之差較佳為0.0006以下,更佳為
0.0005以下,尤佳為0.0003以下。
又,於第1玻璃板100中,上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值為0.0010以下。藉此,於將第1玻璃板100作為導光板而使用之情形時,吸收較小,能夠提取更多光,並且能夠顯著地抑制入射光與出射光之色偏差。上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值較佳為0.0008以下,更佳為0.0006以下,尤佳為0.0003以下。
(玻璃板100之反射率)
此處,若再次參照圖2,則於將第1玻璃板100之第1主表面120之波長400nm~700nm之範圍內之反射率Ra(%)之平均值設為Ra.ave(以下,稱為「第1平均反射率Ra.ave」)(%),且將第2主表面122之波長400nm~700nm之範圍內之反射率Rb(%)之平均值設為Rb.ave(以下,稱為「第2平均反射率Rb.ave」)(%)時,較佳為第1平均反射率Ra.ave(%)大於第2平均反射率Rb.ave(%),且第1平均反射率Ra.ave(%)與第2平均反射率Rb.ave(%)之差△R大於0.25%。
於差△R大於0.25%之情形時,於將第1玻璃板100例如應用於如圖1所示之導光板30時,較佳為將第1主表面120作為顯示裝置10之背面側(即,作為主要散射面)而使用,能夠使碰撞於第1主表面120之光反射至內部,從而提高自第2主表面122之側出射之光之量。因此,光之提取效率變高。
尤其是差△R更佳為大於0.27%,尤佳為大於0.30%。
此處,於對第1主表面120之反射率Ra(%)進行測定時,為了防止自與被測定面對向之第2主表面122之反射,需要利用粒度#80之研磨粒將第2主表面122進行粗面化,並進而預先均勻地塗佈黑體塗料。於該狀態下使用能夠進行絕對反射率測定之分光測定裝置,對第1主表面120之反射率Ra(%)進行測定。
同樣地,於對第2主表面122之反射率Rb(%)進行測定時,為了防止自與被測定面對向之第1主表面120之反射,需要利用粒度#80之研磨粒將第1主表面120進行粗面化,並進而預先均勻地塗佈黑體塗料。於該狀態下使用能夠進行絕對反射率測定之分光測定裝置,對第2主表面122之反射率Rb(%)進行測定。
因此,於實際之玻璃板100之反射率之測定中,使用由被測定對象製備之2個測定樣品。
(關於本發明之一實施形態之玻璃板之其他特徵)
繼而,針對本發明之一實施形態之玻璃板之其他特徵進行說明。再者,此處,以第1玻璃板100為例對各種特徵進行說明。又,此處,為了進行明確,於表示各構件時,使用圖2~圖4所示之參照符號。
(玻璃板100之形狀)
第1玻璃板100之尺寸只要具有上述特徵,則並無特別限定。玻璃板100例如可具有至少一邊之長度為20cm以上之較大之尺寸。
玻璃板100之厚度不會對導光板之亮度產生影響,但於厚度未達0.2mm之情形時,剛性變得不充分,從而欠佳,且於大於5mm之情形時,由於玻璃變重,故而欠佳。又,玻璃板100之形狀並無特別限定,玻璃板100例如可為矩形狀或圓盤狀等形狀。
再者,需要注意的是:矩形狀之玻璃板100存在4個端面,相對於此,於圓盤狀之玻璃板100之情形時,端面變為一個。
(關於含錫層150)
第1玻璃板100之第1主表面120具有含錫層150。該含錫層150係於成形第1玻璃板100時藉由與熔融錫接觸而形成者。含錫層150之厚度可藉由利用二次離子質量分析法對滲入有錫成分之層之深度進行測定而決定。含錫層150之厚度通常為10μm以下,多為5μm~9μm左
右。
於包含該含錫層150之區域之距第1主表面120之表面10μm之深度區域中,換算為Fe2O3之氧化鐵之濃度之最大值較佳為0.2質量%以下。於此情形時,由於含錫層150中導致著色之鐵較少,故而能夠將著色抑制得較小。再者,於距第1主表面120之表面10μm之深度區域中,換算為Fe2O3之氧化鐵之濃度多為距表面越近值越高。換算為Fe2O3之氧化鐵之濃度分佈可藉由二次離子質量分析法進行測定。
又,於距第1主表面120之表面10μm之深度區域中,換算為SnO2之氧化錫之濃度之最大值較佳為大於1.0質量%。於此情形時,能夠提高主表面120之反射率,從而容易使第1平均反射率Ra.ave(%)大於第2平均反射率Rb.ave(%),且使第1平均反射率Ra.ave(%)與第2平均反射率Rb.ave(%)之差△R大於0.25%。因此,於將第1玻璃板100作為導光板而使用時,光之提取效率變高。於距第1主表面120之表面10μm之深度區域中,換算為SnO2之氧化錫之濃度之最大值較佳為1.1質量%以上,更佳為1.2質量%以上,尤佳為1.5質量%以上。
(玻璃板100之組成)
第1玻璃板100之組成(除含錫層150之部分以外)只要具有上述特徵,則並無特別限定,可列舉下述3種(具有玻璃組成A、玻璃組成B、玻璃組成C之玻璃)作為代表性之例。
作為具有玻璃組成A之玻璃板,較佳為以氧化物基準之質量百分率表示包含60~80%之SiO2、0.5~7%之Al2O3、0~10%之MgO、0~20%之CaO、0~15%之SrO、0~15%之BaO、3~20%之Na2O、0~10%之K2O、5~100質量ppm之Fe2O3、及0~0.5%之SO3者。又,以換算為Fe2O3之2價鐵離子之含量相對於換算為Fe2O3之全鐵之含量而表示之鐵之氧化還原較佳為40%以下。該情形之玻璃之氦於d射線(波長587.6nm)中之室溫下之折射率為1.45~1.60。作為具體例,例如可列
舉表6之組成1~5。
又,作為具有玻璃組成B之玻璃板,較佳為以氧化物基準之質量百分率表示包含45~80%之SiO2、超過7%且為30%以下之Al2O3、0~15%之B2O3、0~15%之MgO、0~6%之CaO、0~5%之SrO、0~5%之BaO、7~20%之Na2O、0~10%之K2O、0~10%之ZrO2、及5~100質量ppm之Fe2O3者。又,以換算為Fe2O3之2價鐵離子之含量相對於換算為Fe2O3之全鐵之含量而表示之鐵之氧化還原較佳為40%以下。該情形之玻璃之氦於d射線(波長587.6nm)中之室溫下之折射率例如為1.45~1.60。該情形之玻璃組成容易進行離子交換,且容易進行化學強化。作為具體例,例如可列舉表6之組成6~12。
又,作為具有玻璃組成C之玻璃板,較佳為包含以氧化物基準之質量百分率表示為45~70%之SiO2、10~30%之Al2O3、0~15%之B2O3、合計為5~30%之MgO、CaO、SrO及BaO、合計為0%以上且未達3%之Li2O、Na2O及K2O、及5~100質量ppm之Fe2O3者。又,以換算為Fe2O3之2價鐵離子之含量相對於換算為Fe2O3之全鐵之含量而表示之鐵之氧化還原較佳為40%以下。該情形之玻璃之氦於d射線(波長587.6nm)中之室溫下之折射率例如為1.45~1.60。作為具體例,例如可列舉表6之組成13~15。
關於具有上述成分之本發明之玻璃板之玻璃之組成之各成分之組成範圍,於以下進行說明。
SiO2係玻璃之主成分。
為了保持玻璃之耐候性、失透特性,SiO2之含量以氧化物基準之質量百分率表示於玻璃組成A中較佳為60%以上,更佳為63%以上,於玻璃組成B中較佳為45%以上,更佳為50%以上,於玻璃組成C中較佳為45%以上,更佳為50%以上。
另一方面,為了使溶解容易且使泡質良好,且為了將玻璃中之
鐵之含量抑制得較低,且使光學特性良好,SiO2之含量於玻璃組成A中較佳為80%以下,更佳為75%以下,於玻璃組成B中較佳為80%以下,更佳為70%以下,於玻璃組成C中較佳為70%以下,更佳為65%以下。
Al2O3係能夠減少錫之滲入量而將含錫層之著色抑制得較小之必需成分。於本發明之玻璃中,較佳為儘可能地將著色減小,Al2O3之含量於玻璃組成A中較佳為0.5%以上,更佳為2%以上,尤佳為3%以上,於玻璃組成B中較佳為超過7%,更佳為8%以上,尤佳為10%以上,於玻璃組成C中較佳為10%以上,更佳為11%以上,尤佳為13%以上。
但,若Al2O3之含量過量,則溶解時之黏度上升,脫泡變差。Al2O3之含量於玻璃組成A中較佳為7%以下,更佳為6%以下,於玻璃組成B中較佳為30%以下,更佳為23%以下,於玻璃組成C中較佳為30%以下,更佳為20%以下。
B2O3係促進玻璃原料之熔融使機械特性或耐候性提昇之成分,但為了不產生因揮發而引起之條紋(ream)之產生、爐壁之侵蝕等不良情況,B2O3之含量於玻璃A中較佳為5%以下,更佳為3%以下,於玻璃組成B及C中較佳為15%以下,更佳為12%以下。
Li2O、Na2O及、K2O等鹼金屬氧化物係對於促進玻璃原料之熔融、調整熱膨脹、黏性等有用之成分。因此,Na2O之含量於玻璃組成A中較佳為3%以上,更佳為8%以上。Na2O之含量於玻璃組成B中較佳為7%以上,更佳為10%以上。但為了保持溶解時之澄清性,維持所製造之玻璃之泡質,Na2O之含量於玻璃組成A及B中較佳為設為20%以下,進而較佳為設為15%以下,於玻璃組成C中,較佳為設為3%以下,更佳為設為1%以下。
又,K2O之含量於玻璃組成A及B中較佳為10%以下,更佳為7%
以下,於玻璃組成C中較佳為2%以下,更佳為1%以下。
又,Li2O為任意成分,但為了容易進行玻璃化,將源自原料之以雜質之形式而包含之鐵含量抑制得較低,且將批次成本抑制得較低,於玻璃組成A、B及C中,可含有2%以下之Li2O。
又,為了保持溶解時之澄清性,維持所製造之玻璃之泡質,該等鹼金屬氧化物之合計含量(Li2O+Na2O+K2O)於玻璃組成A及B中較佳為5%~20%,更佳為8%~15%,於玻璃組成C中較佳為0%~2%,更佳為0%~1%。
MgO、CaO、SrO、及BaO等鹼土金屬氧化物係對於促進玻璃原料之熔融、調整熱膨脹、黏性等有用之成分。
MgO具有降低玻璃溶解時之黏性、促進溶解之作用。又,由於該MgO具有使比重降低、使玻璃板不易受損之作用,故而於玻璃組成A、B及C中可含有該MgO。又,為了降低玻璃之熱膨脹係數、使失透特性良好,MgO之含量於玻璃組成A中較佳為10%以下,更佳為8%以下,於玻璃組成B中較佳為15%以下,更佳為12%以下,於玻璃組成C中較佳為10%以下,更佳為5%以下。
CaO係促進玻璃原料之熔融且調整黏性、熱膨脹等之成分,故而可於玻璃組成A、B及C中含有該CaO。為了獲得上述作用,於玻璃組成A中,CaO之含量較佳為3%以上,更佳為5%以上。又,為了使失透良好,於玻璃組成A中,較佳為20%以下,更佳為10%以下,於玻璃組成B中,較佳為6%以下,更佳為4%以下。
SrO具有增大熱膨脹係數及降低玻璃之高溫黏度之效果。為了獲得該效果,可使玻璃組成A、B及C中含有SrO。但,為了將玻璃之熱膨脹係數抑制得較低,SrO之含量於玻璃組成A及C中較佳為設為15%以下,更佳為設為10%以下,於玻璃組成B中較佳為設為5%以下,更佳為設為3%以下。
BaO與SrO同樣具有增大熱膨脹係數及降低玻璃之高溫黏度之效果。為了獲得上述效果,可含有BaO。但,為了將玻璃之熱膨脹係數抑制得較低,於玻璃組成A及C中,較佳為設為15%以下,更佳為設為10%以下,於玻璃組成B中,較佳為設為5%以下,更佳為設為3%以下。
又,為了將熱膨脹係數抑制得較低,使失透特性良好,並維持強度,該等鹼土金屬氧化物之合計含量(MgO+CaO+SrO+BaO)於玻璃組成A中較佳為10%~30%,更佳為13%~27%,於玻璃組成B中較佳為1%~15%,更佳為3%~10%,於玻璃組成C中較佳為5%~30%,更佳為10%~20%。
於本發明之玻璃板之玻璃之玻璃組成中,為了提昇玻璃之耐熱性及表面硬度,可使玻璃組成A、B及C中含有10%以下、較佳為5%以下之ZrO2作為任意成分。但,若超過10%,則玻璃變得容易失透,故而欠佳。
於本發明之玻璃板之玻璃之玻璃組成中,為了提昇玻璃之熔解性,可使玻璃組成A、B及C中含有5~100質量ppm之Fe2O3。再者,此處Fe2O3量係指換算為Fe2O3之全氧化鐵量。全氧化鐵量較佳為5~50質量ppm,更佳為5~30質量ppm。於上述全氧化鐵量未達5質量ppm之情形時,玻璃對紅外線之吸收變得極差,難以使熔解性提昇,又,原料之精製會耗費巨大成本,故而欠佳。又,於全氧化鐵量超過100質量ppm之情形時,由於含錫層中之玻璃之著色會變大,並且會使波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值降低,故而欠佳。
為了使波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值提昇,並且使含錫層之吸光度Ap減小,重要的是減少2價鐵離子之含量。以換算為Fe2O3之2價鐵離子之含量相對於換算為Fe2O3之全鐵之含量所表示之鐵之氧化還原較佳為40%以下,更佳為35%以下,進而
較佳為30%以下,更進而較佳為20%以下,進一步較佳為15%以下,最佳為10%以下。
又,本發明之玻璃板之玻璃亦可含有作為澄清劑之SO3,但SO3有可能於含錫層中與鐵鍵結而成為著色源。為了減小含錫層之吸光度Ap,SO3含量較佳為以質量百分率表示為0.50%以下。更佳為0.40%以下,進而較佳為0.30%以下,更進而較佳為0.25%以下,進一步較佳為0.20%以下。再者,所謂SO3含量係將玻璃中存在之S4+或S2-等所有硫離子之量換算為SO3之量。又,為了減小含錫層之吸光度Ap,含錫層之以S2-含量占所有硫離子含量之比率而表示之硫之氧化還原較低者較佳。對與錫接觸所成形之面照射X射線,自作為螢光X射線發射之S-Ka射線之波峰位置所求出之含錫層之硫之氧化還原較佳為99%以下,更佳為98%以下,進而較佳為97%以下,更進而較佳為95%以下,進一步較佳為90%以下。
又,本發明之玻璃板之玻璃亦可含有Sb2O3、SnO2及As2O3中之一者以上作為氧化劑及澄清劑。於此情形時,Sb2O3、SnO2或As2O3之含量較佳為以質量百分率表示為0~0.5%,更佳為0.2%以下,進而較佳為0.1%以下,進而較佳為實質上不包含。
Sb2O3、SnO2及As2O3由於係作為玻璃之氧化劑而發揮作用,故而可於上述範圍內進行添加以調節玻璃之Fe2+之量。但,As2O3就環境方面而言並非積極地含有者。
又,本發明之玻璃板之玻璃亦可含有NiO。於含有NiO之情形時,由於NiO亦作為著色成分而發揮功能,故而NiO之含量較佳為相對於上述玻璃組成之總量設為10質量ppm以下。尤其是就不使波長400~700nm下之玻璃板之內部透過率降低之觀點而言,NiO較佳為設為1.0質量ppm以下,更佳為設為0.5質量ppm以下。
本發明之玻璃板之玻璃亦可含有Cr2O3。於含有Cr2O3之情形時,
Cr2O3由於亦作為著色成分而發揮功能,故而Cr2O3之含量較佳為相對於上述玻璃組成之總量設為10質量ppm以下。尤其是就不使波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值降低之觀點而言,Cr2O3較佳為設為1.0質量ppm以下,更佳為設為0.5質量ppm以下。
本發明之玻璃板之玻璃亦可含有MnO2。於含有MnO2之情形時,由於MnO2亦作為吸收可見光之成分而發揮功能,故而MnO2之含量較佳為相對於上述玻璃組成之總量設為50質量ppm以下。尤其是就不使波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值降低之觀點而言,MnO2較佳為設為10質量ppm以下,更佳為設為5質量ppm以下,進而較佳為設為2質量ppm以下,進一步較佳為設為1質量ppm以下。
本發明之玻璃板之玻璃亦可包含TiO2。於含有TiO2之情形時,由於TiO2亦作為吸收可見光之成分而發揮功能,故而TiO2之含量較佳為相對於上述玻璃組成之總量設為1000質量ppm以下。就不使波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值降低之觀點而言,TiO2更佳為將含量設為500質量ppm以下,尤佳為設為100質量ppm以下。
本發明之玻璃板之玻璃亦可包含CeO2。CeO2具有降低鐵之氧化還原之效果,且能夠減小波長400~700nm下之玻璃之吸收。然而,於大量地含有CeO2之情形時,CeO2亦作為吸收可見光之成分而發揮功能,且有可能使鐵之氧化還原過度下降至未達3%,故而欠佳。因此,CeO2之含量較佳為相對於上述玻璃組成之總量設為1000質量ppm以下。又,CeO2之含量更佳為設為500質量ppm以下,進而較佳為設為400質量ppm以下,尤佳為設為300質量ppm以下,最佳為設為250質量ppm以下。
本發明之玻璃板之玻璃亦可包含選自由CoO、V2O5及CuO所組成之群中之至少1種成分。於含有該等成分之情形時,由於亦作為吸收可見光之成分而發揮功能,故而上述成分之含量較佳為相對於上述玻
璃組成之總量設為10質量ppm以下。尤其是為了不使波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值降低,該等成分較佳為實質上不包含。
(關於本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法)
繼而,針對具有如上特徵之本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法(以下,稱為「第1製造方法」)之一例,簡單地進行說明。
圖5中表示第1製造方法之概略性流程。
如圖5所示,第1製造方法具有:(1)將玻璃原料溶解而製造熔融玻璃之步驟(步驟S110);(2)使熔融玻璃於浮拋窯上搬送,而形成玻璃帶之步驟(步驟S120);及(3)將玻璃帶冷卻之步驟(步驟S130)。
以下,針對各步驟進行說明。
(步驟S110)
首先,藉由將特定之原料成分進行混合,調製玻璃原料。又,將該玻璃原料進行加熱,而製造熔融玻璃。
熔融玻璃係以儘可能地不包含作為雜質之鐵成分(尤其是Fe2+)之方式進行製備。因此,玻璃原料使用高純度者。又,混合處理及溶解處理係於潔淨度較高之環境下而實施。
(步驟S120)
繼而,使於上述步驟中所獲得之熔融玻璃流入浮拋窯。於浮拋窯中預先收容有熔融錫。因此,熔融玻璃懸浮於熔融錫上,形成玻璃帶。
玻璃帶於在熔融錫上移動之間變成均勻之厚度。
藉由將下述方法之任一者以上進行組合,能夠有效地抑制玻璃之含錫層之著色。
由於熔融錫內存在之金屬雜質(尤其是鐵)可能會導致玻璃之熔融錫面之著色,故而可藉由利用水管冷卻熔融錫,使鐵或錫與鐵之合金或其他金屬雜質析出至水管之周邊,從而自熔融錫去除鐵等金屬雜質。
或者,藉由於熔融錫中插入電極使其還原,而使鐵或錫與鐵之合金或其他金屬雜質析出,從而自熔融錫去除鐵等金屬雜質。
或者,局部地產生感應磁場,於施加有磁場之周邊收集包含大量鐵等金屬雜質之錫。
或者,亦可於製造所需玻璃之前,使以各種金屬雜質之添加量與熔融錫中之金屬雜質量相比成為同等或更低濃度之方式進行調整後之不同之玻璃流入浮拋窯,使該低雜質玻璃吸收熔融錫中之金屬雜質,藉此自熔融錫去除金屬雜質。
又,亦可將熔融錫之一部分或全部更換為金屬雜質之含量較低之錫。但,為了大量準備金屬雜質之含量較低之錫要耗費巨大成本。
又,為了控制窯氛圍之還原度,可對氫氣或氮氣等氣體之流量、濃度或濃度分佈進行調節。增加氫氣流量及濃度具有減小含錫層之吸光度Ap之效果,從而較佳。
又,亦可以使玻璃帶在熔融錫上於短時間內通過之方式將帶之移動速度提高至每小時200m以上。藉此,可將錫於玻璃中之滲入量抑制得較小,從而能夠抑制著色。
再者,熔融錫中之鐵等雜質量較佳為儘量少。關於錫中之鐵之含量,具體而言,較佳為設為200質量ppm以下,較佳為設為150質量ppm以下,進而較佳為設為100質量ppm以下,尤佳為設為50質量ppm以下。
(步驟S130)
其後,玻璃帶緩冷至特定之溫度。又,藉由將玻璃帶切斷,可獲得玻璃板。藉由以上步驟,能夠製造本發明之一實施形態之玻璃板。
以上,對本發明之一實施形態之玻璃之製造方法之一例進行了說明。但,本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法並不受以上記載所限定。
又,上述記載係以本發明之一實施形態之玻璃板作為顯示裝置之導光板而應用之情形為例對本發明之一實施形態之玻璃板之特徵進行說明。
然而,本發明之玻璃板亦能夠應用於顯示裝置之導光板以外之各種用途。尤其是本發明之玻璃板具有污染物質之含量較少、透過率較高之特徵,故而能夠應用於各種照明用面發光裝置及太陽電池用覆蓋玻璃等。又,亦能夠應用於要求較高之設計性之建築用外裝材料、內飾材料、及傢俱等。
實施例
以下,針對本發明之實施例進行說明。再者,於以下說明中,例1~例2為實施例,例3為比較例。
(例1)
利用如上述圖5所示之方法製造厚度為2.3mm之玻璃板(稱為「玻璃板1」)。
(例2)
利用與例1相同之方法製造厚度為2.5mm之玻璃板。但,該例2係使原料玻璃之組成相對於例1之情形產生變化而製造玻璃板。其他製造條件與例1之情形相同。將所獲得之玻璃板稱為玻璃板2。
(例3)
利用與例1相同之方法製造厚度為2.0mm之玻璃板。但,該例3係使玻璃之組成相對於例1之情形產生變化而製造玻璃板。其他製造條件與例1之情形相同。將所獲得之玻璃板稱為玻璃板3。
再者,以下說明中,於各玻璃板中,於成形玻璃時,將與錫浴相接之側之表面稱為第1主表面,將與該第1主表面相反之側之表面稱為第2主表面。
於以下表2中,彙總表示玻璃板1~玻璃板3之組成及鐵氧化還原(Fe-Redox)。再者,該等組成係藉由對製造後之玻璃板進行分析所獲得者。
(評價)
使用上述玻璃板1~玻璃板3進行以下評價。
(內部透過率Tin及平均內部透過率Tave之評價)
利用如上述(玻璃板之內部透過率Tin及平均內部透過率Tave)之項所示之方法,於玻璃板1~玻璃板3中,對透過率TA、及g射線(435.8nm)、F射線(486.1nm)、e射線(546.1nm)、d射線(587.6nm)、C射線(656.3nm)之各波長下之折射率進行測定,算出內部透過率Tin。又,根據所獲得之結果計算平均內部透過率Tave。於透過率之測定中,使用分光測定裝置(UH4150:日立高新技術公司製造),於折射率之測定中,使用精密折射計(KPR-2000:島津製作所公司製造)。
於圖6中,表示於玻璃板1及玻璃板2中所獲得之50mm長度之內部透過率Tin之一例。又,於圖7中,表示於玻璃板3中所獲得之50mm長度之內部透過率Tin之一例。
又,於以下表3中,彙總表示於各玻璃板1~3中所計算出之50mm長度之在波長400nm~700nm之範圍內之平均內部透過率Tave。
根據該結果可知,玻璃板1~3中,由於換算為Fe2O3之全鐵之含量均為100質量ppm以下,故而50mm長度之平均內部透過率Tave為85%以上,可獲得良好之透過性。再者,玻璃板3中,由於鐵氧化還
原較高,故而平均內部透過率Tave不足92%。
(反射率之評價)
繼而,於玻璃板1~玻璃板3中,對第1主表面及第2主表面分別測定反射率Ra及Rb。又,根據所獲得之結果,計算第1平均反射率Ra.ave及第2平均反射率Rb.ave。
於圖8中,表示於玻璃板1之各主表面中所獲得之反射率Ra及Rb之測定結果之一例。於圖9中,表示玻璃板2之各主表面中所獲得之反射率Ra及Rb之測定結果之一例。又,於圖10中,表示於玻璃板3之各主表面中所獲得之反射率Ra及Rb之測定結果之一例。
又,於以下表4中,彙總表示於各玻璃板1~玻璃板3中所計算出之第1平均反射率Ra.ave、第2平均反射率Rb.ave、及兩者之差△R。
根據該結果可確認出,玻璃板1及玻璃板2中,第1平均反射率Ra.ave(%)大於第2平均反射率Rb.ave(%),且第1平均反射率Ra.ave(%)與第2平均反射率Rb.ave(%)之差△R大於0.25%,適合於如圖1所示之顯示裝置10之導光板30之用途。
(含錫層之吸光度評價)
藉由上述(關於含錫層之吸光度Ap之評價方法)之項所示之方法,對玻璃板1~玻璃板3之含錫層之吸光度Ap進行評價。
更具體而言,首先,自各玻璃板之大致中央部分採取第1及第2兩個樣品(縱30mm×橫30mm)。
繼而,於第1樣品中,將第1主表面(相當於玻璃板之第1主表面)
之側研磨100μm左右,將第2主表面122A之側研磨100μm左右。藉此,去除第1主表面之含錫層。又,於第1主表面之側新形成第1研磨表面,且於第2主表面之側新形成第2研磨表面。第1研磨表面及第2研磨表面均研磨至成為算術平均粗糙度Ra為0.04μm以下之鏡面狀態。
將該第1樣品稱為第1研磨樣品。
繼而,於第2樣品中,將第4主表面(相當於玻璃板之第2主表面)之側研磨200μm左右,使板厚與第1樣品一致。第4主表面之任一者均研磨至成為算術平均粗糙度Ra為0.04μm以下之鏡面狀態。藉此,於第4主表面之側新形成第4研磨表面。
將該第2樣品稱為第2研磨樣品。
玻璃板1之第1樣品及第2樣品之厚度均為2.071mm。玻璃板2之第1樣品及第2樣品之厚度均為2.304mm。玻璃板3之第1樣品及第2樣品之厚度均為1.773mm。
繼而,使用第1研磨樣品,自第2研磨表面之側,於波長400nm~700nm之範圍內,對第1透過率T1進行測定。同樣地,使用第2研磨樣品,自第4研磨表面之側,於波長400nm~700nm之範圍內,對第2透過率T2進行測定。
繼而,使用第1研磨樣品,利用粒度#80之研磨粒將第1研磨表面進行粗面化,進而均勻地塗佈黑體塗料之後,自第2研磨表面之側,於波長400nm~700nm之範圍內,對第2研磨表面之反射率(第1參照反射率Rr)進行測定。同樣地,使用第2研磨樣品,利用粒度#80之研磨粒將第4研磨表面進行粗面化,進而均勻地塗佈黑體塗料之後,自第3主表面之側,於波長400nm~700nm之範圍內,對第3主表面之反射率(第2參照反射率Rt)進行測定。
於反射率之測定中,使用具備絕對反射率測定用附件之分光測定裝置(LAMBDA 950:PerkinElmer公司製造)。又,於透過率之測定
中,使用分光測定裝置(U-4100:日立高新技術公司製造)。
所獲得之透過率T1及T2藉由上述(4)式及(5)式轉換為內部透過率T1i及T2i。
進而,使用該等參數,並藉由上述(6)式~(8)式,計算含錫層之吸光度Ap。
於圖11中,表示玻璃板1之內部透過率T1i及T2i之波長依存性。於圖12中,表示玻璃板1之第1參照反射率Rr及第2參照反射率Rt之波長依存性。又,於圖13中,表示玻璃板1之含錫層之吸光度Ap之波長依存性。
同樣,於圖14中,表示玻璃板2之內部透過率T1i及T2i之波長依存性。於圖15中,表示玻璃板2之第1參照反射率Rr及第2參照反射率Rt之波長依存性。又,於圖16中,表示玻璃板2之含錫層之吸光度Ap之波長依存性。
同樣,於圖17中,表示玻璃板3之內部透過率T1i及T2i之波長依存性。於圖18中,表示玻璃板3之第1參照反射率Rr及第2參照反射率Rt之波長依存性。又,於圖19中,表示玻璃板3之含錫層之吸光度Ap之波長依存性。
進而,於表5中,彙總表示於各玻璃板中所獲得之於波長400nm~700nm之範圍內之含錫層之吸光度Ap之最大值(Ap Max)、最小值(Ap Min)、最大值-最小值之值(Ap Max-Ap Min)、及吸光度Ap之平均值。
根據該等結果可知,玻璃板1及玻璃板2中,含錫層之吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值與最小值之差充分小,分別為0.00048及0.00024。另一方面,可知於玻璃板3之情形時,含錫層之吸光度Ap之最大值與最小值之差較大,為0.00085。玻璃板3之鐵氧化還原較高,為50.0%,因此,吸光度Ap之最大值與最小值之差變大。
又,玻璃板1及玻璃板2中,波長400nm~700nm之範圍之含錫層之吸光度Ap之最大值分別為0.00055及0.00028。另一方面,玻璃板3中,波長400nm~700nm之範圍內之含錫層之吸光度Ap之最大值為0.00120。玻璃板3由於鐵氧化還原高為50.0%,故而吸光度Ap之最大值變大。
根據該情況可確認:玻璃板1及玻璃板2中因存在於第1主表面之含錫層而吸收特定波長之入射光之程度較小。因此,玻璃板1及玻璃板2中,能夠顯著地抑制於入射光與出射光之間產生色偏差之問題。
進而,於表6中,表示各玻璃板之距第1主表面10μm之深度區域之換算為Fe2O3之氧化鐵之濃度之最大值(Fe2O3 Max)、及距第1主表面10μm之深度區域之換算為SnO2之氧化錫之濃度之最大值(SnO2 Max)。該等藉由二次離子質量分析法進行測定。
根據該等結果可知:玻璃板1及玻璃板2中,自表面至10μm之深度之換算為Fe2O3之氧化鐵之濃度之最大值為0.2質量%以下,且自表面至10μm之深度之氧化錫之濃度之最大值多於1.0質量%。玻璃板1及玻璃板2中,由於換算為Fe2O3之全鐵之含量為100質量ppm以下,
鐵之氧化還原為40%以下,SO3含量為0.50質量%以下,Al2O3含量為0.5質量%以上,又,自表面至10μm之深度之換算為Fe2O3之氧化鐵之濃度之最大值為0.2質量%以下,故而含錫層之著色被抑制得較小。又,玻璃板1及玻璃板2中,自表面至10μm之深度之SnO2換算之氧化錫之濃度之最大值大於1.0質量%,且Ra.ave(%)與Rb.ave(%)之差大於0.25%。因此,確認出玻璃板1及玻璃板2適合於如圖1所示之顯示裝置10之導光板30之用途。
本案係主張基於2015年5月13日提出申請之日本專利申請2015-098557號之優先權者,藉由參照將該日本申請案之所有內容引用於本案中。
100‧‧‧第1玻璃板
120‧‧‧第1主表面
122‧‧‧第2主表面
132‧‧‧第1端面
134‧‧‧第2端面
136‧‧‧第3端面
138‧‧‧第4端面
Claims (8)
- 一種玻璃板,其係具有第1及第2主表面且於熔融錫上成形而成者;且上述第1主表面係與上述熔融錫接觸之側,且具有含錫層,於樣品A,即藉由於與上述第1主表面垂直之方向進行切斷而自該玻璃板之中心部分截取到之尺寸為縱50mm×橫50mm且相互對向之第1及第2切斷面成為算術平均粗糙度Ra≦0.03μm者中,自上述第1切斷面起算在法線方向的50mm長度上、在波長400nm~700nm之範圍內之內部透過率之平均值為85%以上,上述含錫層之吸光度Ap於波長400~700nm之範圍內之最大值與最小值之差為0.0007以下,上述吸光度Ap於波長400nm~700nm之範圍內之最大值為0.0010以下。
- 如請求項1之玻璃板,其中換算為Fe2O3之全鐵之含量為100質量ppm以下,且以換算為Fe2O3之2價鐵離子之含量相對於上述全鐵之含量而表示之鐵之氧化還原為40%以下,SO3含量為0.50質量%以下。
- 如請求項1或2之玻璃板,其中於上述第1主表面中,自表面至10μm之深度之Fe2O3換算之氧化鐵之濃度之最大值為0.2質量%以下。
- 如請求項1至3中任一項之玻璃板,其中Al2O3含量為0.5質量%以上。
- 如請求項1至4中任一項之玻璃板,其中於上述第1主表面中,自表面至10μm之深度之SnO2換算之氧化錫之濃度之最大值大於1.0 質量%。
- 如請求項1至5中任一項之玻璃板,其中在上述第1主表面於波長400nm~700nm之範圍所測得之平均反射率Ra.ave(%),大於在上述第2主表面於波長400nm~700nm之範圍所測得之平均反射率Rb.ave(%),且兩者之差大於0.25%。
- 如請求項1至6中任一項之玻璃板,其中該玻璃板係導光板。
- 如請求項7之玻璃板,其中該玻璃板之上述第2主表面係光出射側。
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