TW201700689A - 黏著劑組合物、黏著劑層、附黏著劑層之偏光膜、及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種黏著劑組合物，其可形成即便於經由黏著劑層而積層偏光膜與透明導電層之情形時亦可抑制透明導電層之腐蝕、且可抑制透明導電層之表面電阻上升或外觀變差的黏著劑層。又，本發明之目的亦在於提供一種由上述黏著劑組合物形成之黏著劑層、附黏著劑層之偏光膜、及使用該附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置。本發明係一種黏著劑組合物，其特徵在於：其係用以形成貼合於透明導電層而使用之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層者，且含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及分子量為380以上之導電劑(B)。

Description

黏著劑組合物、黏著劑層、附黏著劑層之偏光膜、及圖像顯示裝置
本發明係關於一種用以形成貼合於透明導電層而使用之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層的黏著劑組合物、及由該黏著劑組合物形成之黏著劑層。又，本發明係關於一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於具有偏光膜及上述黏著劑層，且係貼合於透明導電層而使用。進而，本發明係關於一種使用上述附黏著劑層之偏光膜之液晶顯示裝置、有機EL(Electro Luminescence，電致發光)顯示裝置、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)等圖像顯示裝置。
自先前以來，於圖像顯示裝置中，多使用於透明樹脂膜上形成ITO(銦-錫複合氧化物)等金屬氧化物層而獲得之透明導電性膜作為觸控感測器之電極等。又，作為上述形成金屬氧化物層而獲得之透明導電性膜之替代品，已知有包含金屬網之透明導電性膜。
上述透明導電性膜存在用於圖像顯示裝置等中，於該透明導電性膜上經由黏著劑層而積層偏光膜之情況。
又，作為用於圖像顯示裝置中之黏著劑組合物，廣泛使用含有(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑，例如已知有如下黏著劑層：其係附黏著劑層之透明導電性膜之黏著劑層，且含有丙烯酸系聚合物，該丙烯酸系聚合物包含具有碳數2~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元(例如參照專利文獻1)。又，亦已知有如下光學 膜用黏著劑組合物等，其包含(甲基)丙烯酸系聚合物及磷酸酯系化合物，該(甲基)丙烯酸系聚合物係使包含具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分之單體成分聚合而獲得(例如參照專利文獻2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-016908號公報
[專利文獻2]日本專利特開2015-028138號公報
專利文獻1之黏著劑層係設置於透明塑膠基材之不具有透明導電層一面，黏著劑層與透明導電層不接觸，對於因黏著劑層引起之腐蝕未有任何研究。又，於專利文獻2中，雖對透明導電層之腐蝕有所研究，但係藉由於黏著劑層中添加磷酸酯系化合物而抑制腐蝕，對於特定之導電劑未有任何記載。
若經由已被賦予防靜電功能之黏著劑層而積層偏光膜與透明導電層，則存在透明導電層自端部發生腐蝕之情況。此種腐蝕現象於上述透明導電層為包含金屬網之透明導電層之情形時更加明顯，進而，於加濕環境下尤其明顯。新發現上述透明導電層係因水分與用以賦予防靜電功能之導電劑而發生腐蝕。
認為其原因在於：根據為了賦予防靜電功能而添加之導電劑之種類，黏著劑層之吸水率變高，該黏著劑層所含之水分導致透明導電層發生腐蝕。又，本次亦新發現根據導電劑之種類而存在導電劑偏集於黏著劑層與透明導電層之界面附近之情況，偏集於界面附近之導電劑導致腐蝕加速進行。
因此，本發明之目的在於提供一種黏著劑組合物，該黏著劑組 合物可形成即便於經由黏著劑層而積層偏光膜與透明導電層之情形時，亦可抑制透明導電層之腐蝕、且可抑制透明導電層之表面電阻上升或外觀變差的黏著劑層。又，此種腐蝕現象於上述透明導電層為包含金屬網之透明導電層之情形時較為明顯，因此本發明之目的在於提供一種黏著劑組合物，該黏著劑組合物可形成即便透明導電層為包含金屬網之導電層，亦可抑制該包含金屬網之導電層之腐蝕、且可抑制包含金屬網之導電層之表面電阻上升或外觀變差的黏著劑層。又，本發明之目的亦在於提供一種由上述黏著劑組合物形成之黏著劑層、附黏著劑層之偏光膜、及使用該附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置。
本發明者等人為了解決上述問題而反覆進行銳意研究，結果發現下述黏著劑組合物，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種黏著劑組合物，其特徵在於：其係用以形成貼合於透明導電層而使用之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層者，且含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及分子量為380以上之導電劑(B)。
較佳為上述導電劑(B)為具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物，且上述陰離子成分之總碳數為6以上。
較佳為上述導電劑(B)之陽離子成分之總碳數為6以上。
較佳為上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有選自由含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體所組成之群中之1種以上之單體、以及(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元。
較佳為上述導電劑(B)之分子量為600以上。
於上述透明導電層為包含金屬網之透明導電層之情形時，本發明之效果顯著。
又，本發明係關於一種黏著劑層，其特徵在於：其係由上述黏 著劑組合物所形成。
又，本發明係關於一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：其具有偏光膜及上述黏著劑層，且係貼合於透明導電層而使用。
進而，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其包含上述附黏著劑層之偏光膜、及透明導電層，且上述附黏著劑層之偏光膜與上述透明導電層經貼合。
由於本發明之黏著劑組合物含有分子量為380以上之導電劑(B)，故而於經由利用該黏著劑組合物所形成之黏著劑層而積層偏光膜與透明導電層之情形時，可抑制該透明導電層之腐蝕，且可抑制透明導電層之表面電阻上升或外觀變差。又，該效果於透明導電層為包含金屬網之透明導電層之情形時較為顯著。認為其原因在於：於本發明中，由於使用分子量較大之導電劑(B)，故而即便於加濕環境下亦可降低黏著劑層之吸水率，進而，上述分子量較大之導電劑(B)於加濕環境下不易移動，從而導電劑不易偏集存在於黏著劑層與透明導電層之界面附近，因此即便於加濕環境下，上述導電劑亦容易保持均勻分散於黏著劑層中之狀態，結果可抑制透明導電層之腐蝕。
又，本發明之附黏著劑層之偏光膜由於包含上述黏著劑層，故而即便於積層於透明導電層之情形時，亦可抑制該透明導電層之腐蝕。又，即便上述透明導電層為包含金屬網之導電層，亦可抑制該包含金屬網之導電層之腐蝕。又，包含本發明之附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置由於透明導電層之腐蝕得到抑制，故而可靠性較高。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧附黏著劑層之偏光膜
4‧‧‧透明導電層
5‧‧‧玻璃基板
6‧‧‧液晶層
7‧‧‧驅動電極
8‧‧‧黏著劑層
9‧‧‧偏光膜
10‧‧‧驅動電極兼感測器層
11‧‧‧感測器層
圖1係模式性地表示本發明之附黏著劑層之偏光膜之一實施形態之剖視圖。
圖2係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之剖視 圖。
圖3係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之剖視圖。
圖4係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之剖視圖。
1.黏著劑組合物
本發明之黏著劑組合物之特徵在於：其係用以形成貼合於透明導電層而使用之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層者，且含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及分子量為380以上之導電劑(B)。
使用圖式對由本發明之黏著劑組合物形成之黏著劑層進行說明。但本發明並不限定於圖式之實施形態。如圖1所示，本發明之黏著劑組合物係用以形成由偏光膜1與黏著劑層2積層而成之附黏著劑層之偏光膜3之上述黏著劑層2的黏著劑組合物。如圖2~4所示，本發明之附黏著劑層之偏光膜3係貼合於透明導電層4而使用。以下，對本發明之黏著劑組合物之組成進行說明。
(1)(甲基)丙烯酸系聚合物(A)
本發明之黏著劑組合物包含(甲基)丙烯酸系聚合物(A)。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常含有作為單體單元之(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之所謂(甲基)與之同義。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架之(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示具有碳數1~18之直鏈狀或支鏈狀烷基者。例如作為上述烷基，可例示：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二烷基、異肉豆蔻基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷基、 十七烷基、十八烷基等。該等可單獨或組合使用。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯係構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體中之作為主成分者。此處，所謂主成分係指於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體中，(甲基)丙烯酸烷基酯為70~100重量%左右，較佳為80~99.9重量%左右，更佳為90~99.9重量%左右。
又，於本發明中，就抑制透明導電層之腐蝕之觀點而言，尤其就抑制包含金屬網之透明導電層之腐蝕之觀點而言，較佳為上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有選自由含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體所組成之群中之1種以上之單體作為單體單元。關於上述含羧基單體、含羥基單體、含醯胺基單體，可使用該等中之任一者，亦可併用該等，就耐腐蝕性之觀點而言，最佳為含有含醯胺基單體，其次較佳為含有含羥基單體，再其次較佳為含有含羧基單體。
作為含羧基單體，可無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基、且具有羧基者。作為含羧基單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、異丁烯酸等，該等可單獨或組合使用。伊康酸、順丁烯二酸可使用該等之酸酐。該等中，較佳為丙烯酸、甲基丙烯酸，尤佳為丙烯酸。通常，於將包含含有含羧基單體作為單體單元之聚合物的黏著劑層用於透明導電層等包含金屬之層之情形時，存在發生因羧基引起之金屬層腐蝕之情況。因此，以耐腐蝕性為目的之黏著劑中通常不使用含羧基單體。於本發明中，藉由使黏著劑組合物中含有含羧基單體、下述含羥基單體及/或含醯胺基單體而可提昇導電劑之分散性。於由導電劑之分散性得以提昇之黏著劑組合物形成之黏著劑層中，導電劑不會偏集存在，其結果可獲得更高之透明導電層之腐蝕抑制效果，因此較佳。
上述含羧基單體於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體中 之比率較佳為5重量%以下，更佳為0.1~3重量%，進而較佳為0.1~1重量%。若含羧基單體之比率超過5重量%，則透明導電層之腐蝕抑制效果降低，因此欠佳。又，於本發明中，藉由含有分子量為380以上之導電劑(B)而可抑制透明導電層(尤其包含金屬網之透明導電層)之腐蝕，但藉由使(甲基)丙烯酸系聚合物(A)包含5重量%以下左右之微量之上述含羧基單體作為單體單元，可獲得更高之腐蝕抑制效果，因此較佳。
上述含羥基單體係於其結構中包含羥基、且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。具體而言，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)-甲酯等。上述含羥基單體中，就耐久性之方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯，尤佳為(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯。
上述含羥基單體於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體中之比率較佳為0.01~15重量%，更佳為0.03~10重量%，進而較佳為0.05~7重量%。
上述含醯胺基單體係於其結構中包含醯胺基、且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。作為含醯胺基單體之具體例，可列舉：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯啉、N-(甲 基)丙烯醯哌啶、N-(甲基)丙烯醯吡咯啶等N-丙烯醯基雜環單體；N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基之內醯胺系單體等。該等中，較佳為含N-乙烯基之內醯胺系單體。
上述含醯胺基單體於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體中之比率較佳為10重量%以下，更佳為0.01~10重量%，進而較佳為0.03~7重量%，尤佳為0.05~5重量%。於本發明中，藉由含有分子量為380以上之導電劑(B)而可抑制透明導電層之腐蝕，藉由使(甲基)丙烯酸系聚合物(A)包含10重量%以下左右之上述含醯胺基單體作為單體單元，而與添加含羥基單體或含羧基單體之情形時同樣地獲得更高之腐蝕抑制效果，因此較佳。
於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，除了包含上述(甲基)丙烯酸烷基酯、或含羧基單體、含醯胺基單體、含羥基單體，亦可於無損本發明之效果之範圍內導入上述單體以外之共聚單體。其調配比率並無特別限定，較佳為構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體中10重量%以下左右。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。考慮到耐久性、尤其耐熱性，較佳為使用重量平均分子量為70萬~270萬者。更佳為80萬~250萬。若重量平均分子量小於50萬，則於耐熱性之方面欠佳。又，若重量平均分子量大於300萬，則需要大量稀釋溶劑以調整成適於塗佈之黏度，成本上升，因此欠佳。再者，重量平均分子量係指藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定並經聚苯乙烯換算而算出之值。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
於上述溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，於氮氣等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑，通常於50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
用於自由基聚合之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而控制，根據該等之種類而適當調整其使用量。
作為聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057，和光純藥工業(股)製造)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化(2-乙基己酸)1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化第三丁基-2-乙基己酸酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等由過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系起始劑等，但不限定於該等。
上述聚合起始劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，整體上相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體100重量份之含量較佳為0.005~1重量份左右，更佳為0.02~0.5重量份左右。
再者，例如於使用2,2'-偶氮二異丁腈作為聚合起始劑而製造上述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，聚合起始劑相對於構 成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部單體100重量份之使用量較佳為設為0.06~0.2重量份左右，更佳為設為0.08~0.175重量份左右。
又，於使用鏈轉移劑、及用於乳化聚合之乳化劑或反應性乳化劑的情形時，該等可適當使用先前公知者。又，作為該等之添加量，可於無損本發明之效果之範圍內適當決定。
(2)導電劑(B)
本發明之黏著劑組合物由於含有分子量為380以上之導電劑(B)，故而可抑制透明導電層(尤其包含金屬網之透明導電層)之腐蝕，從而可抑制透明導電層之表面電阻上升或外觀變差。上述導電劑(B)之分子量為380以上，更佳為400以上，進而較佳為500以上，尤佳為600以上。導電劑(B)之分子量越大，則包含該導電劑(B)之黏著劑層之吸水率越低，且上述導電劑(B)越不易偏集存在於黏著劑層與透明導電層之界面，因此可抑制透明導電層(尤其包含金屬網之透明導電層)之腐蝕。又，作為導電劑(B)之分子量之上限值，並無特別限定，就確保黏著劑層之防靜電功能之方面而言較佳為2000以下。
認為若導電劑(B)之分子量未達380，則黏著劑層之吸水率變高，黏著劑層所含之水分導致透明導電層發生腐蝕。又，認為若導電劑(B)之分子量未達380，則該導電劑由於分子量較小，故而於黏著劑層中容易移動至與透明導電層之界面附近，因此發生偏析，因該界面附近之導電劑而引起腐蝕。認為存在該導電劑於黏著劑層中較多地偏集存在於與透明導電層之界面附近之傾向，該界面附近之導電劑導致腐蝕加速進行。該等現象於包含金屬網之透明導電層中尤其明顯。又，於加濕環境下亦尤其明顯。於本發明中，認為藉由使用分子量為380以上之導電劑(B)，而由於分子量較大，故而即便於加濕環境下，該導電劑於黏著劑層中亦不易移動，從而不易發生偏析，因此容易保持導電劑均勻分散之狀態，結果可抑制透明導電層(尤其包含金屬網之 透明導電層)之腐蝕。
上述導電劑(B)較佳為具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物。對上述陽離子成分、陰離子成分進行說明。
(離子性化合物之陰離子成分)
於本發明中，陰離子成分之總碳數較佳為6以上，更佳為8以上。又，陰離子成分之總碳數之上限值並無特別限定，較佳為16以下，更佳為10以下。藉由使陰離子成分之總碳數為6以上，而導電劑(B)本身之疏水性變高，因此黏著劑層中不易包含水分，其結果可抑制透明導電層之腐蝕，因此較佳。
又，上述陰離子成分較佳為包含有機基，上述有機基較佳為碳數3以上之有機基，更佳為碳數4以上之有機基。
作為上述陰離子成分之分子量，並無特別限定，只要作為導電劑(B)之分子量為380以上即可，較佳為100以上，更佳為200以上，進而較佳為300以上。藉由使陰離子成分之分子量成為上述範圍，而導電劑(B)本身之疏水性變高，因此黏著劑層中不易包含水分，其結果可抑制透明導電層(尤其包含金屬網之透明導電層)之腐蝕，因此較佳。又，作為陰離子成分之分子量之上限值，並無特別限定，就確保黏著劑層之防靜電功能之方面而言，較佳為1000以下。
作為陰離子成分，就抑制腐蝕之觀點而言，較佳為下述通式(1)：(CnF2n+1SO2)2N- (1)
(通式(1)中，n為1~10之整數(較佳為n為3~10之整數))、下述通式(2)：CF2(CmF2mSO2)2N- (2)
(通式(2)中，m為1~10之整數(較佳為m為2~10之整數))、及下述通式(3)： -O3S(CF2)lSO3 - (3)
(通式(3)中，l為1~10之整數(較佳為l為3~10之整數))所表示之至少1種陰離子成分。
作為上述通式(1)所表示之陰離子成分，具體而言，可列舉：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十一氟戊磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十三氟己磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十五氟庚磺醯基)醯亞胺陰離子等。該等中，較佳為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子，尤佳為雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子。
作為上述通式(2)所示之陰離子成分，具體而言，可列舉(可較佳使用)環六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子。
作為上述通式(3)所示之陰離子成分，具體而言，可列舉(可較佳使用)六氟丙烷-1,3-二磺酸根陰離子。
(離子性化合物之陽離子成分)
作為離子性化合物之陽離子成分，較佳為有機陽離子。陽離子之總碳數較佳為6以上，更佳為8以上，進而較佳為10以上。又，陽離子之總碳數之上限值並無特別限定，較佳為40以下，更佳為30以下。藉由使陽離子成分之總碳數為6以上，而導電劑(B)本身之疏水性變高，因此黏著劑層中不易包含水分，其結果可抑制透明導電層(尤其包含金屬網之透明導電層)之腐蝕，因此較佳。
又，上述陽離子成分較佳為包含有機基，上述有機基較佳為碳數3以上之有機基，更佳為碳數7以上之有機基。
於本發明中，較佳為使用上述有機陽離子，但只要作為導電劑(B)之分子量為380以上，則可使用鋰、鈉、鉀之鹼金屬離子等作為陽離子成分。
於離子性化合物之陽離子成分為有機陽離子之情形時，與上述 陰離子成分共同構成作為離子性化合物之有機陽離子-陰離子鹽。有機陽離子-陰離子鹽亦稱為離子性液體、離子性固體。作為有機陽離子，具體而言，可列舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，適當選擇使用包含上述陽離子成分與陰離子成分之組合之化合物，例如可列舉：丁基甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、N-丁基-甲基吡啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、甲基丙基吡咯啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓環六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺、雙(1-丁基-3-甲基吡啶鎓)六氟丙烷-1,3-二磺酸、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓環六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺、雙(1-乙基-3-甲基吡啶鎓)六氟丙烷-1,3-二磺酸、甲基三辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、甲基三辛基銨雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、己基甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、甲基丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、丁基甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、甲基三辛基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-癸基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
又，作為鹼金屬鹽，具體而言，可列舉：雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鋰、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鈉、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鉀、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鋰、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鈉、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鉀等。
本發明之黏著劑組合物中之導電劑(B)相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份之比率較佳為0.001~10重量份，更佳為0.1~5重量份，進而較佳為0.3~3重量份。若上述導電劑(B)未達0.001重量份，則存在腐蝕抑制效果不充分之情況。另一方面，若上述導電劑(B)多於10重量份，則存在耐久性不充分之情況。
(3)交聯劑(C)
本發明之黏著劑組合物中除上述以外亦可含有交聯劑(C)。作為交聯劑(C)，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物進行共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子，可列舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為進行共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
交聯劑(C)相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份之使用量較佳為0.01~20重量份，更佳為0.03~10重量份。
(4)其他
進而，本發明之黏著劑組合物中亦可含有其他公知之添加劑，可根據使用之用途適當添加例如各種矽烷偶合劑、聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機之填充劑、金屬粉、粒子狀物、箔狀物等。又，亦可於可控制之範圍內採用添加還原劑之氧化還原系。
2.黏著劑層
本發明之黏著劑層之特徵在於其係由上述黏著劑組合物形成。
作為形成黏著劑層之方法，例如可列舉如下方法：於經剝離處理之分隔膜等塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層。又，亦可藉由於下述偏光膜塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光膜形成黏著劑層之方法等製作。再者，於塗佈黏著劑組合物時，亦可適當新添加聚合溶劑以外之一種以上之溶劑。
作為經剝離處理之分隔膜，較佳為使用聚矽氧剝離襯墊。於此種襯墊上塗佈本發明之黏著劑組合物並使之乾燥而形成黏著劑層之情形時，作為黏著劑之乾燥方法，可根據目的而適當採用適宜方法。較佳為使用對上述塗佈膜進行加熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度較佳為40℃~200℃，更佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。藉由將加熱溫度設為上述範圍，可獲得具有優異之黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用合適時間。上述乾燥時間較佳為5秒~20分鐘，更佳為5秒~10分鐘，尤佳為10秒~5分鐘。
作為上述黏著劑組合物之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、利用模嘴塗佈機等之擠出塗佈法等方法。
黏著劑層之厚度並無特別限制，例如為1~100μm左右。較佳為2~50μm，更佳為2~40μm，進而較佳為5~35μm。
3.附黏著劑層之偏光膜
本發明之附黏著劑層之偏光膜之特徵在於：其具有偏光膜及上述黏著劑層，且係貼合於透明導電層而使用。
形成黏著劑層之方法如上所述。
關於本發明之附黏著劑層之偏光膜，於經剝離處理之分隔膜等 上形成有黏著劑層之情形時，可將該分隔膜上之黏著劑層轉印至偏光膜之透明保護膜面而形成附黏著劑層之偏光膜。又，亦可於偏光膜直接塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑等乾燥去除而形成附黏著劑層之偏光膜。
又，可於上述偏光膜之待塗佈黏著劑組合物之表面形成增黏層，或實施電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層之表面進行易接著處理。
又，於附黏著劑層之偏光膜中黏著劑層露出之情形時，亦可於貼合於透明導電層之前由經剝離處理之片材(分隔膜)保護黏著劑層。
作為分隔膜之構成材料，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等塑膠膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片材、金屬箔、及該等之層壓體等適當之薄片體等，就表面平滑性優異之方面而言，較佳使用塑膠膜。
作為該塑膠膜，只要為能夠保護上述黏著劑層之膜則並無特別限定，例如可列舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述分隔膜之厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm左右。視需要亦可對上述分隔膜進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、氧化矽粉等之脫模及防污處理、或塗佈型、混練型、蒸鍍型等之防靜電處理。尤其，藉由對上述分隔膜之表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，而可進一步提昇自上述黏著劑層之剝離性。
再者，製作上述附黏著劑層之偏光膜時使用之經剝離處理之片材可直接用作附黏著劑層之偏光膜之分隔膜，從而可實現步驟上之簡 化。
偏光膜係使用於偏光元件之至少單側具有透明保護膜者。
偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並經單軸延伸而成者、及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等之中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件，更佳為含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件。又，該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。
利用碘對聚乙烯醇系膜進行染色並經單軸延伸而成之偏光元件例如可以如下方式製作：藉由將聚乙烯醇系膜浸漬於碘之水溶液中而進行染色，並延伸至原本長度之3~7倍。亦可視需要浸漬於可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液中。進而，亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗而可洗淨聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗黏連劑，並且藉由使聚乙烯醇系膜膨潤而亦具有防止染色不均等不均勻之效果。延伸可於經碘染色後進行，亦可一面染色一面延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。
又，於本發明中，亦可使用厚度為10μm以下之薄型偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1~7μm。此種薄型偏光元件厚度不均較少，視認性優異，且尺寸變化較少故耐久性優異，進而亦可實現偏光膜厚度之薄型化，因此較佳。
作為薄型偏光元件，代表而言，可列舉日本專利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號公報、國際公開第2010/100917號公報、或日本專利 4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括對聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材於積層體狀態下進行延伸之步驟、及染色步驟之製法而獲得。若為該製法，則即便PVA系樹脂層較薄，藉由延伸用樹脂基材之支持而亦可於無因延伸引起之破斷等問題之情況下進行延伸。
作為上述薄型偏光膜，於包括於積層體狀態下進行延伸之步驟及染色步驟之製法中，就能夠延伸至高倍率而可提昇偏光性能之方面而言，較佳為如國際公開第2010/100917號公報、國際公開第2010/100917號公報、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報所記載之藉由包括於硼酸水溶液中進行延伸之步驟之製法所獲得者，尤佳為日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報所記載之藉由包括於硼酸水溶液中進行延伸之前輔助性地進行空中延伸之步驟之製法所獲得者。
作為構成透明保護膜之材料，例如使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及該等之混合物。透明保護膜中亦可包含任1種以上之適當添加劑。作為添加劑，例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、防靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較佳為50~100重量%，更佳為50~99重量%，進而較佳為60~98重量%，尤佳為70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有熱塑性 樹脂原本具有之高透明性等無法得到充分體現之虞。
於上述偏光元件之至少單側藉由接著劑層而貼合透明保護膜。於偏光元件與透明保護膜之接著處理中使用接著劑。作為接著劑，可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系、乳膠系、水系聚酯等。上述接著劑通常係以包含水溶液之接著劑之形式使用，通常含有0.5~60重量%之固形物成分。除上述以外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，可列舉紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對於上述各種透明保護膜表現出較佳之接著性。又，本發明所使用之接著劑中亦可含有金屬化合物填料。
本發明之附黏著劑層之偏光膜係貼合於透明導電層而使用者，作為透明導電層，可列舉形成格子狀圖案之金屬細線而成之金屬網或形成ITO(銦-錫複合氧化物)等金屬氧化物層而獲得者，尤其對於金屬網耐腐蝕性之效果顯著。
作為構成上述金屬網之金屬，只要為導電性較高之金屬，則可使用任意適當之金屬。作為構成上述金屬網之金屬，較佳為選自由金、鉑、銀、鋁及銅所組成之群中之1種以上之金屬，就導電性之觀點而言，較佳為鋁、銀、銅或金。
包含金屬網之透明導電層可藉由任意適當之方法形成。該透明導電層例如可藉由如下方式獲得：將包含銀鹽之感光性組合物(透明導電層形成用組合物)塗佈於脫模膜等被接著體上，其後，進行曝光處理及顯影處理而形成特定圖案之金屬細線。又，該透明導電層亦可藉由將包含金屬微粒子之漿料(透明導電層形成用組合物)印刷成特定圖案而獲得。此種透明導電層及其形成方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-18634號公報中，本說明書中以參考之形式引用該記載。又，作為由金屬網構成之透明導電層及其形成方法之另一例，可 列舉日本專利特開2003-331654號公報所記載之透明導電層及其形成方法。
(包含金屬網之)透明導電層之厚度較佳為0.01~10μm左右，更佳為0.05~3μm左右，進而較佳為0.1~1μm。
又，於上述(包含金屬網之)透明導電層上亦可具有保護(OC)層(未圖示)。
作為保護層，可並無特別限制地使用本領域中通常使用者，例如可列舉由醇酸樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、異氰酸酯樹脂等形成之層。作為保護層之厚度，並無特別限定，例如較佳為0.1~10μm。
4.圖像顯示裝置
本發明之圖像顯示裝置之特徵在於：其包含上述附黏著劑層之偏光膜、及透明導電層，且上述附黏著劑層之偏光膜與上述透明導電層經貼合。此處，上述「附黏著劑層之偏光膜與上述透明導電層經貼合」狀態可為以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與上述透明導電層接觸之方式貼合，於透明導電層上具有上述保護層之情形時，亦可為以上述附黏著劑之偏光膜之黏著劑層與上述保護層接觸之方式貼合。
如上所述，本發明之附黏著劑層之偏光膜由於具有本發明之黏著劑層，故而即便於貼合於(包含金屬網之)透明導電層時，亦可抑制(包含金屬網之)透明導電層之腐蝕，從而可抑制(包含金屬網之)透明導電層之表面電阻上升或外觀變差。
例如本發明之附黏著劑層之偏光膜可較佳地用於製造構成具備輸入裝置(觸控面板等)之圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等)、輸入裝置(觸控面板等)等設備之基材(構件)或該等設備所使用之基材(構件)，尤其可 較佳地用於製造觸控面板用光學基材。又，可與電阻膜方式或靜電電容方式等觸控面板等之方式無關地使用。
又，本發明之附黏著劑層之偏光膜可用作光學元件用基材(光學構件)。作為光學元件用基材，只要為具有光學特性之基材，則並無特別限定，例如可列舉構成圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等)、輸入裝置(觸控面板等)等設備之基材(構件)或該等設備所使用之基材(構件)。
作為使用本發明之附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置之具體例，例如可列舉將透明導電膜用作防靜電層用途之圖像顯示裝置、或將透明導電膜用作觸控面板之電極用途之圖像顯示裝置。作為將透明導電膜用作防靜電層用途之圖像顯示裝置，具體而言，例如可列舉如下圖像顯示裝置，其係如圖2所示之包含偏光膜1/黏著劑層2/透明導電層4/玻璃基板5/液晶層6/驅動電極7/玻璃基板5/黏著劑層8/偏光膜9之構成，且透明導電層4發揮作為防靜電層之功能，驅動電極7係由透明導電層形成。作為該圖像顯示裝置之上側(視認側)之偏光膜1/黏著劑層2，可使用本發明之附黏著劑層之偏光膜3。又，作為將透明導電膜用作觸控面板之電極用途之圖像顯示裝置，例如可列舉如下圖像顯示裝置，其係如圖3所示之偏光膜1/黏著劑層2/透明導電層4/玻璃基板5/液晶層6/驅動電極兼感測器層10/玻璃基板5/黏著劑層8/偏光膜9之構成(內嵌型觸控面板)之構成，或如圖4所示之偏光膜1/黏著劑層2/透明導電層4/感測器層11/玻璃基板5/液晶層6/驅動電極7/玻璃基板5/黏著劑層8/偏光膜9之構成(表嵌型觸控面板)，且上述透明導電層4發揮作為防靜電層兼感測器層之功能，感測器層11、驅動電極7係由透明導電層形成。作為該圖像顯示裝置之上側(視認側)之偏光膜1/黏著劑層2，可使用本發明之附黏著劑層之偏光膜3。又，作為圖像顯示裝置之下側(背光側)之黏著劑層8、偏光膜9，可適當使用本領域廣泛使用 者。
[實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明不受該等實施例之限定。
製造例1(丙烯酸系聚合物(A-1)之製備)
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，裝入含有丙烯酸丁酯97.8份、N-乙烯基吡咯啶酮1.5份、丙烯酸4-羥基丁酯0.4份及丙烯酸0.3份之單體混合物。進而，對上述單體混合物(固形物成分)100份，與乙酸乙酯一併添加作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持於55℃附近進行8小時聚合反應。其後，於所獲得之反應液中添加乙酸乙酯，而製備固形物成分濃度調整為20%之重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液。
製造例2(丙烯酸系聚合物(A-2)之製備)
於製造例1中，作為單體混合物，使用含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥基丁酯1份之單體混合物，除此以外，藉由與製造例1相同之方式製備重量平均分子量170萬之丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液。
製造例3(丙烯酸系聚合物(A-3)之製備)
於製造例1中，作為單體混合物，使用含有丙烯酸丁酯97.5份、丙烯酸2份及丙烯酸羥基乙酯0.1份之單體混合物，除此以外，藉由與製造例1相同之方式製備重量平均分子量190萬之丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液。
所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係藉由以下方法測定。
<(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量之測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲 透層析法)進行測定。
‧分析裝置：Tosoh公司製造，HLC-8120GPC
‧管柱：Tosoh公司製造，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
‧管柱尺寸：各7.8mm ×30cm共計90cm
‧管柱溫度：40℃
‧流量：0.8ml/min
‧注入量：100μl
‧洗提液：四氫呋喃
‧檢測器：示差折射計(RI)
‧標準試樣：聚苯乙烯
製造例4(偏光膜之製作)
將厚度80μm之聚乙烯醇膜於速度比不同之輥間，一面於0.3%濃度之30℃碘溶液中進行1分鐘之染色，一面延伸至3倍。其後，一面於包含4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀之60℃水溶液中浸漬0.5分鐘一面以合計延伸倍率成為6倍之方式延伸。繼而，藉由於包含1.5%濃度之碘化鉀之30℃水溶液中浸漬10秒而洗淨後，於50℃下乾燥4分鐘而獲得厚度20μm之偏光元件。於該偏光元件之兩面，分別藉由聚乙烯醇系接著劑貼合經皂化處理之厚度40μm之三乙醯纖維素膜而製作偏光膜。
實施例1
(黏著劑組合物之製備)
對製造例1中所獲得之丙烯酸系聚合物(A-1)溶液之固形物成分100份，調配作為導電劑(B)之丁基甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺(商品名：BMI‧N441，三菱綜合材料電子化成(股)製造)1份，進而調配異氰酸酯交聯劑(商品名：Takenate D160N，三羥甲基丙烷六亞甲基二異氰酸酯，三井化學(股)製造)0.1份、過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT，日本油脂(股)製造)0.3份、及γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基 矽烷(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)0.2份，而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之偏光膜之製作)
繼而，藉由噴注式塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑溶液均勻塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(分隔膜)之表面，於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥1分鐘，而於分隔膜之表面形成厚度23μm之黏著劑層。繼而，將分隔膜上所形成之黏著劑層轉印至製造例4中製作之偏光膜，而製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例2~17、比較例1~9
於實施例1中，於製備黏著劑組合物時，將丙烯酸系聚合物、導電劑之種類變為如表1所示，除此以外，藉由與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。再者，導電劑之添加量係添加與實施例1成為相同莫耳濃度之量。
對上述實施例及比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜進行以下評價。將評價結果示於表1。
<腐蝕試驗>
將實施例及比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜切斷為15mm×15mm並剝離分隔膜，貼合於表面形成有厚度0.1μm之鋁系金屬層之導電性玻璃後，於50℃、5atm之高壓釜中放置15分鐘，將所獲得者設為耐腐蝕性之測定樣品。將所獲得之測定用樣品投入溫度60℃、濕度95%之環境中500小時後，藉由目視及光學顯微鏡對金屬層之外觀進行評價。再者，缺陷之大小係測定缺陷之最長部分。
◎...無缺陷
○...於周邊之一部分存在少量缺陷(缺陷之大小未達0.5mm)，但於內部無缺陷，不存在問題之水準
△...於周邊部存在斷續之缺陷(缺陷之大小為0.5mm以上且未達1 mm)，但於內部無缺陷，不存在問題之水準
×...於周邊部存在連續之缺陷(缺陷之大小為1mm以上)或於內部存在缺陷，成為問題之水準
<表面電阻值>
剝離實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜之分隔膜後，使用三菱化學綜合材料(股)製造之MCP-HT450對黏著劑表面之表面電阻值(Ω/□)進行測定。表面電阻值較佳為未達1.0×1012Ω/□。
表1中，(A-1)表示製造例1中製作之丙烯酸系聚合物(A-1)，(A-2)表示製造例2中製作之丙烯酸系聚合物(A-2)，(A-3)表示製造例3中製作之丙烯酸系聚合物(A-3)，BMI-NFSI表示丁基甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺，BMPy-NFSI表示N-丁基-甲基吡啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺，MPP-NFSI表示甲基丙基吡咯啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺，MTOA-TFSI表示甲基三辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，HMPy-TFSI表示己基甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，EMP-TFSI表示乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，MPP-TFSI表示甲基丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，BMPp-TFSI表示丁基甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，MTOA-NFSI表示甲基三辛基銨雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺，Li-NFSI表示雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鋰，Dcpy-TFSI表示1-癸基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，MTOA-FSI表示甲基三辛基銨雙(氟磺醯基)醯亞胺，Li-TFSI表示雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰，K-TFSI表示雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀，TMA-TFSI表示四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，EMI-TF表示乙基甲基咪唑鎓三氟磺酸鹽，MOPy-PF6表示甲基辛基吡啶鎓六氟磷酸鹽，Li-FSI表示雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧附黏著劑層之偏光膜

Claims (9)

  1. 一種黏著劑組合物，其特徵在於：其係用以形成貼合於透明導電層而使用之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層者，且含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)及分子量為380以上之導電劑(B)。
  2. 如請求項1之黏著劑組合物，其中上述導電劑(B)為具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物，且上述陰離子成分之總碳數為6以上。
  3. 如請求項2之黏著劑組合物，其中上述導電劑(B)之陽離子成分之總碳數為6以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之黏著劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有選自由含羧基單體、含羥基單體及含醯胺基單體所組成之群中之1種以上之單體、以及(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元。
  5. 如請求項1至4中任一項之黏著劑組合物，其中上述導電劑(B)之分子量為600以上。
  6. 如請求項1至5中任一項之黏著劑組合物，其中上述透明導電層為包含金屬網之透明導電層。
  7. 一種黏著劑層，其特徵在於：其係由如請求項1至6中任一項之黏著劑組合物所形成。
  8. 一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：其具有偏光膜、及如請求項7之黏著劑層，且貼合於透明導電層而使用。
  9. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其包含如請求項8之附黏著劑層之偏光膜、及透明導電層，且上述附黏著劑層之偏光膜與上述透明導電層經貼合。
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