TW201617140A - 圖案形成方法、附透明導電膜基材、裝置及電子機器 - Google Patents

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Abstract

以提供一種不會損及生產性並能夠使對於基材之圖案形成方向的自由度提昇之圖案形成方法以及藉由該方法所得到的附透明導電膜基材、裝置以及電子機器一事，作為目的，此目的，係藉由在一面使液滴吐出裝置(7)相對於基材(1)而作相對移動一面從液滴吐出裝置(7)之複數之噴嘴(72a)~(72f)來在基材(1)上吐出由包含有功能性材料之液體所成之液滴時，於基材(1)上而成為合併為一之對象的相互鄰接之至少1組之液滴，係不論是在相對移動方向(D)以及與該相對移動方向(D)相正交的方向之何者上均空出有間隔地來作配置，並以使此些之液滴合併為一的方式，來對於該液滴之液滴容量以及前述間隔之其中一方或雙方作調整，藉由使將液滴合併為一所形成之線狀液體(2)乾燥，在該線狀液體(2)之緣部處堆積功能性材料並形成包含該功能性材料之圖案，而作了解決。

Description

圖案形成方法、附透明導電膜基材、裝置及電子機器
本發明，係有關於圖案形成方法、附透明導電膜基材、裝置以及電子機器，更詳細而言，係有關於具備有藉由乾燥而在液體之緣部選擇性的堆積功能性材料而進行圖案化之工程之圖案形成方法、以及藉由該方法所得到的附透明導電膜基材、裝置以及電子機器。
作為形成包含有功能性材料之細線圖案的方法，於先前技術中，係廣泛使用有利用光微影法之方法。然而，光微影法技術，由於材料之損耗係為多，且工程係變得複雜，因此，係對於能夠對此些課題作改善的方法有所檢討。
例如，係存在有藉由噴墨法等來將包含功能性材料之液滴連續性地賦予至基材處，而形成細線圖案之方法。然而，在通常之噴墨法中，係並無法將細線之寬幅設為所吐出之液滴的直徑以下，而並無法形成數μm之線 寬幅的細線圖案。
作為由噴墨法所進行之細線形成的嘗試，係存在有預先在基材之全面上塗布撥液劑，並照射雷射而使撥液劑之一部分親水化，以形成由撥液部分和親水部分所成之圖案，再對於該親水部分而藉由噴墨來賦予液滴並形成細線之方法。然而，此方法，由於係需要塗布撥液劑並藉由雷射來進行圖案化，因此，係有著會使工程變得複雜之課題。
相對於此，係周知有：利用液滴內部之對流來使液滴中之身為固形量的功能性材料堆積在液滴之周邊部，並藉由液滴來形成微細之寬幅的圖案之方法(專利文獻1)。若依據此方法，則並不需要進行特別之工程，便成為能夠形成液滴之直徑以下的數μm之寬幅之細線。
又，在專利文獻2中，係記載有使用此方法來形成導電性微粒子之微細之寬幅的環並將此作複數連結而形成透明導電膜的內容。
然而，在此些之方法中，為了作出導電路徑，環的交點會變多，而有著會使透明性降低的課題。
針對此，本案申請人，係提案有下述之技術：亦即是，將賦予為線狀之液體中的導電性材料藉由該液體之移動來分離至緣部處，並形成由一對之細線所成之平行線圖案，並進而形成由該平行線圖案所成之透明導電膜(專利文獻3)。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
[專利文獻1]日本特開2005-95787號公報
[專利文獻2]WO2011/051952
[專利文獻3]日本特開2014-38992號公報
當將由平行線圖案所成之透明導電膜例如作為在畫像顯示裝置中所使用之透明電極來使用的情況時，係得知了：就算是該圖案自身係身為難以被作視覺辨認而透明性為佳者，在將此組入至畫像顯示裝置中時，也會有視覺辨認到波紋(干涉紋)的情況。
針對此，係得知了：藉由構成為不會相對於畫像顯示裝置所具備之圖案(例如，畫像陣列之圖案)的形成方向而使平行線圖案之形成方向成為相同之方向，係能夠防止波紋。
為了具體性地實現此構成，係可考慮對於被形成有由平行線圖案所成之透明導電膜的基材之切出方向作變更，但是，於此情況，係容易導致面取之效率的損失。
另一方面，雖然亦可考慮將相對於基材之平行線圖案的形成方向作變更，但是，在如同專利文獻3中所記載一般而沿著噴墨頭之移動方向來形成線狀液體的情 況時，係成為需要進行相對於基材之噴墨頭的配置角度之變更等的工程，而在使生產性提昇之觀點上存在有課題。
在形成包含平行線圖案之圖案時，若是能夠並不損及生產性地而使相對於基材之圖案形成方向的自由度提昇，則係亦能夠適當地防止上述之波紋一般的問題。
因此，本發明之課題，係在於提供一種能夠並不損及生產性地而使相對於基材之圖案形成方向的自由度提昇之圖案形成方法、和藉由該方法所得到的附透明導電膜基材、裝置以及電子機器。
又，本發明之其他課題，係可依據以下之記載而成為更加明瞭。
上述課題，係藉由以下之各發明而作了解決。
1.一種圖案形成方法，其特徵為：在一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動一面從該液滴吐出裝置之複數之噴嘴來在前述基材上吐出由包含有功能性材料之液體所成之液滴時，於基材上而成為合併為一之對象的相互鄰接之至少1組之液滴，係不論是在相對移動之方向以及與該相對移動方向相正交的方向之何者上均空出有間隔地來作配置，並以使此些之液滴合併為一的方式，來對於該液滴之液滴容量以及前述間隔之其中一方或雙方作調整，藉由使將前述液滴合併為一所形成之線狀液體乾燥， 來在該線狀液體之緣部處堆積前述功能性材料並形成包含該功能性材料之圖案。
2.如前述1所記載之圖案形成方法，其中，於前述線狀液體之形成中，係將對相對於前述液滴吐出裝置之噴嘴列而被平行地作配置的像素組從複數之噴嘴所賦予之液滴組，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數組之賦予，並使複數組之前述液滴組合併為一，而形成朝與噴嘴列相交叉之方向而延伸的前述線狀液體。
3.如前述1或2所記載之圖案形成方法，其中，係以將使前述液滴合併為一所形成的前述線狀液體之緣部之直線性提高的方式，來對於前述液滴容量以及前述間隔之其中一方或雙方作調整。
4.如前述1~3中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，係將用以形成1個的前述線狀液體而從1個的前述噴嘴所吐出之總液滴容量V[pL]、和在與前述複數之噴嘴之前述相對移動方向相正交的方向上之噴嘴列解析度R[npi]，此兩者之積V‧R[pL‧npi]，調整為4.32×104[pL‧npi]以上5.18×105[pL‧npi]以下之範圍。
5.如前述1~4中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，係藉由階度之調整來調整前述液滴容量。
6.如前述1~5中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，從前述液滴吐出裝置所吐出之前述液滴的在前述基材上之接觸角，係為10[°]以上30[°]以下之範圍。
7.如前述1~6中之任一者所記載之圖案形成 方法，其中，係藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成1個或複數之前述線狀液體。
8.如前述1~7中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，在藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成相互平行之複數之前述線狀液體時，係藉由對於該線狀液體之賦予間隔作調整，來抑制當使相鄰之前述線狀液體乾燥時的相互干涉。
9.如前述1~8中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，在藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成相互平行之複數之前述線狀液體時，係將該線狀液體之賦予間隔之調整，藉由對於從各個前述噴嘴而吐出前述液滴之時間間隔、以及前述液滴吐出裝置之相對於基材的相對移動速度，此些之其中一方或雙方作調整，來進行之。
10.如前述1~9中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，在藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成相互平行之複數之前述線狀液體時，係將該線狀液體之賦予間隔，調整為400[μm]以上。
11.如前述1~10中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，係以對前述液滴之合併為一作促進的方式，而將用以形成1個的前述線狀液體而從相互鄰接之前述噴嘴所各別吐出之包含前述功能性材料之液體的最大吐出時間差Δtmax，調整為200[ms]以下。
12.如前述1~11中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，係在前述基材上賦予第1之前述線狀液 體，並在使該第1線狀液體乾燥的過程中使該功能性材料選擇性地堆積於緣部，而形成藉由包含有該功能性材料之2根的線段所構成之第1平行線圖案，接著，在前述基材上，以與前述第1平行線圖案之形成區域相交叉的方式而賦予第2之前述線狀液體，並在使該第2線狀液體乾燥的過程中使該功能性材料選擇性地堆積於緣部，而形成藉由包含有該功能性材料之2根的線段所構成之第2平行線圖案，藉由此，來形成使前述第1平行線圖案與前述第2平行線圖案在至少1個的交點處而相交之圖案。
13.如前述12所記載之圖案形成方法，其中，針對構成前述第2平行線圖案之前述2根的線段間之間隔，係以在前述第1平行線圖案之形成區域內的平均間隔A和在前述第1平行線圖案之形成區域外的平均間隔B會滿足下述式(1)的方式，來進行調整：0.9≦B/A≦1.1‧‧‧式(1)。
14.如前述13所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將前述第1平行線圖案之形成區域內的表面能和前述第1平行線圖案之形成區域外的表面能之間之差，設為5mN/m以下。
15.如前述13所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將塗布前述第1線狀液體中所包含的功能性材料並使其乾燥之平塗面的表面能和前述第1平行線圖案之形成區域外的表面能之間之差，設為5mN/m以下。
16.如前述13所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將在前述第1平行線圖案之形成區域內的前述第2線狀液體之接觸角和在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體之接觸角之間之差，設為10°以下。
17.如前述13所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將在塗布前述第1線狀液體中所包含的功能性材料並使其乾燥之平塗面處的前述第2線狀液體之接觸角和在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體之接觸角之間之差，設為10°以下。
18.如前述13所記載之網格狀之功能性圖案之形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體中之溶劑中的沸點為最高之溶劑的接觸角，設為6°以下。
19.如前述13所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係使在前述第1平行線圖案之形成區域內的前述第2線狀液體之每單位長度之液體賦予量、和在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體之每單位長度之液體賦予量，此兩者互為相異。
20.如前述13所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係在形成了前述第1 平行線圖案之後，於賦予前述第2線狀液體之前，將包含前述第1平行線圖案之形成區域內的區域作洗淨。
21.如前述20所記載之圖案形成方法，其中，作為前述洗淨，係進行從由加熱所致之洗淨、由電磁波所致之洗淨、由溶劑所致之洗淨、由氣體所致之洗淨以及由電漿所致之洗淨中所選擇的1種或2種以上之組合的洗淨。
22.如前述1~21中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，在前述線狀液體之乾燥時，係施加促進乾燥之處理。
23.如前述1~22中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，從前述液滴吐出裝置所吐出之前述液體之功能性材料含有率，係為0.01重量%以上1重量%以下之範圍。
24.如前述1~23中之任一者所記載之圖案形成方法，其中，前述功能性材料，係為導電性材料或導電性材料前驅物。
25.一種附透明導電膜基材，其特徵為：係於基材表面上，具備有包含藉由如前述1~24中之任一者所記載之圖案形成方法所形成的圖案之透明導電膜。
26.一種裝置，其特徵為：係具備有如前述25所記載之附透明導電膜基材。
27.一種電子機器，其特徵為：係具備有如前述26所記載之裝置。
1‧‧‧基材
2‧‧‧第1線狀液體
20‧‧‧液滴
3‧‧‧第1平行線圖案
31、32‧‧‧線段(細線)
4‧‧‧第2線狀液體
5‧‧‧第2平行線圖案
51、52‧‧‧線段(細線)
6‧‧‧圖案
7‧‧‧液滴吐出裝置
71‧‧‧噴墨頭
72‧‧‧噴嘴
8‧‧‧乾燥裝置
9‧‧‧托架
D‧‧‧相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向
E‧‧‧基材之搬送方向
X‧‧‧交叉部
[圖1]係為對於從線狀液體而形成平行線圖案的模樣作概念性說明之立體剖面圖。
[圖2]對於形成線狀液體之方法的其中一例(比較例)作概念性說明之平面圖。
[圖3]對於形成網格狀之圖案之方法的其中一例(比較例)作概念性說明之平面圖。
[圖4]對於從藉由圖3中所示之方法而形成有圖案的基材所進行之面取作概念性說明之平面圖。
[圖5]對於形成網格狀之圖案之方法的其他例(比較例)作概念性說明之平面圖。
[圖6]對於從藉由圖5中所示之方法而形成有圖案的基材所進行之面取作概念性說明之平面圖。
[圖7]對於本發明之圖案形成方法的其中一例作概念性說明之平面圖。
[圖8]對於從液滴吐出裝置而吐出的液滴吐出條件之其中一例作概念性說明之平面圖。
[圖9]對於從液滴吐出裝置而吐出的液滴吐出條件之其他例作概念性說明之平面圖。
[圖10]對於從液滴吐出裝置而吐出的液滴吐出條件之又一其他例作概念性說明之平面圖。
[圖11]係為圖10中之以(xi)所展示的部份之擴大 圖。
[圖12]對於藉由複數次之通過來形成複數之線狀液體的其中一例作概念性說明之平面圖。
[圖13]對於使用本發明之圖案形成方法而形成網格狀之圖案的情況時之其中一例作概念性說明之平面圖。
[圖14]對於使用本發明之圖案形成方法而形成網格狀之圖案的情況時之其他例作概念性說明之平面圖。
[圖15]對於乾燥裝置之構成例作概念性說明之平面圖。
[圖16]對於本發明之圖案形成方法的其他例作概念性說明之平面圖。
[圖17]對於用以形成線狀液體之液滴賦予的其他形態作概念性說明之平面圖。
[圖18]對於藉由圖17之形態所形成的線狀液體作概念性說明之平面圖。
[圖19]係為對於從圖18中所示之線狀液體所形成的平行線圖案作概念性說明之平面圖。
[圖20]係為針對噴嘴列作說明之圖。
[圖21]對於網格狀之功能性圖案的形成方法之其中一例作說明之說明圖。
[圖22]對於網格狀之功能性圖案的形成方法之其他例作說明之說明圖。
[圖23]對於網格狀之功能性圖案的形成方法之又一其他例作說明之說明圖。
[圖24]對於交叉部X之形成例作展示之重要部分擴大圖。
[圖25]係為網格狀之功能性圖案的光學顯微鏡照片。
[圖26]係為對於平均間隔A以及平均間隔B之測定方法的其中一例作說明之圖。
[圖27]係為對於被形成在基材上之平行線圖案的其中一例作展示之部分擴大平面圖。
[圖28]係為對於在圖27中之(a)-(a)線剖面作說明的說明圖。
[圖29]係為對於被形成在基材上之平行線圖案的其中一例作展示之部分欠缺立體圖。
以下，參考圖面來針對用以實施本發明之形態作說明。
圖1，係為對於從線狀液體而形成平行線圖案的模樣作概念性說明之立體剖面圖，剖面，係對應於在相對於線狀液體之形成方向而相正交的方向上來作了切斷之縱剖面。
在圖1中，1係為基材，2係為包含有功能性材料之線狀液體，3係為藉由在線狀液體2之緣部處將功能性材料選擇性地作堆積所形成的塗膜(以下，亦有稱作平行線圖案的情況)。
在圖1(a)中，於基材1上，係賦予有包含 功能性材料之線狀液體2。
如同圖1(b)中所示一般，在使包含有功能性材料之線狀液體2蒸發並乾燥時，係利用咖啡漬現象，來在線狀液體2之緣部處將功能性材料選擇性地作堆積。
咖啡漬現象，係可藉由在使線狀液體2乾燥時之條件設定來使其產生。
亦即是，被配置在基材1上之線狀液體2的乾燥，相較於中央部，在緣部處係為快速，並隨著乾燥之進行而使固形量濃度到達飽和濃度，在線狀液體2之緣部處係發生固形量之局部性的析出。起因於此析出了的固形量，線狀液體2之緣部係成為被作了固定化的狀態，伴隨著後續之乾燥，線狀液體2之寬幅方向的收縮係被抑制。線狀液體2之液體，係會以對於在緣部處之起因於蒸發而失去之量的液體作補充的方式，而形成從中央部起朝向緣部的對流。此對流，由於係起因於伴隨著乾燥所發生的線狀液體2之接觸線的固定化和線狀液體2中央部和緣部間之蒸發量之差所導致者，因此，係會因應於固形量濃度、線狀液體2和基材1之接觸角、線狀液體2之量、基材1之加熱溫度、線狀液體2之配置密度或者是溫度、濕度、氣壓之環境因素而改變，而能夠藉由對於此些作調整來進行控制。
其結果，如圖1(c)中所示一般，在基材1上，係被形成由包含有功能性材料之細線所成的平行線圖案3。由1根的線狀液體2所形成的平行線圖案3，係藉 由1組2根的線段31、32所構成。
對於基材上之線狀液體的賦予，係可使用液滴吐出裝置來進行。具體而言，藉由一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從液滴吐出裝置之噴嘴來吐出包含功能性材料之液體，並使吐出之液滴在基材上而合併為一，係能夠形成包含功能性材料之線狀液體。液滴吐出裝置，例如，係可藉由噴墨記錄裝置所具備的噴墨頭來構成之。
於此，針對本發明者所發現到的課題，一面例示出比較例一面作詳細說明。
圖2，係為對於形成線狀液體之方法的其中一例(比較例)作概念性說明之平面圖。
在圖2中，7係為液滴吐出裝置，並藉由噴墨頭71來構成。72a~72f，係為噴墨頭71所具備之噴嘴。
從將液體賦予為線狀的觀點來看，如同在圖2中所示一般，係可考慮有沿著液滴吐出裝置7之相對移動方向D來形成線狀液體2的方法。
在形成1根的線狀液體2時，係一面使液滴吐出裝置7相對於基材1而作相對移動，一面從噴墨頭71之1個的噴嘴72a來連續性地吐出包含功能性材料之液體。藉由使吐出之液滴在基材1上而合併為一，係能夠形成沿著液滴吐出裝置7之相對移動方向之1根的線狀液體2。
藉由針對其他之噴嘴72b~72f而亦使該些同 樣地動作，係能夠形成複數根之線狀液體2。
藉由使如此這般所形成之線狀液體2如同圖1中所示一般地乾燥，係能夠由線狀液體2來形成平行線圖案3。平行線圖案3，係沿著液滴吐出裝置7之相對移動方向而被形成。亦即是，構成平行線圖案之線段31、32，係沿著液滴吐出裝置7之相對移動方向而被形成。
使用此種方法，係能夠形成使平行線圖案相互交叉所成的網格狀圖案。
圖3，係為對於形成網格狀之圖案之方法的其中一例(比較例)作概念性說明之平面圖。
首先，如圖3(a)中所示一般，沿著相對於基材1之相對移動方向D來使液滴吐出裝置(圖3中未圖示)移動，並在該方向D上形成第1線狀液體2。於此，相對移動方向D，係為沿著矩形狀之基材1之1個邊的方向(圖面上之左右方向)。
藉由使此些之第1線狀液體2乾燥，如同圖3(b)中所示一般，係能夠由各個的第1線狀液體2來形成第1平行線圖案3。第1平行線圖案3，係藉由線段31、32所構成。
接著，使液滴吐出裝置相對於基材而作90°之旋轉，並使相對於基材1之相對移動方向D，相對於第1線狀液體2之形成時的方向而作90°之旋轉。如此這般，而變更相對移動方向D。
接著，如圖3(c)中所示一般，沿著被作了 變更的相對移動方向D來使液滴吐出裝置移動，並在該方向D上形成複數之第2線狀液體4。於此，相對移動方向D，係為沿著相對於矩形狀之基材1之前述1個的邊而相正交之其他邊的方向(圖面上之上下方向)。
藉由使此些之第2線狀液體4乾燥，如同圖3(d)中所示一般，係能夠由各個的第2線狀液體4來形成第2平行線圖案5。第2平行線圖案5，係藉由線段51、52所構成。
如此這般，係能夠形成使第1平行線圖案3和第2平行線圖案5相互交叉所成的網格狀之圖案6。第1平行線圖案3，係被形成於沿著矩形狀之基材1之1個的邊之方向上，第2平行線圖案5，係被形成於沿著與前述1個的邊相正交之其他邊之方向上。
在圖3所示之圖案形成方法中，係可發現到下述之課題。
圖4，係為對於從藉由圖3中所示之方法而形成有圖案的基材所進行之面取作概念性說明之平面圖。
被形成有圖案6之基材1，係被以與將其作組入之裝置相配合的規定大小而被進行面取，並被作使用。圖中，係將進行面取時之切出線以虛線C來作展示。
首先，如同圖4(a)中所示一般，可以考慮以沿著基材1之邊的方式來將基材作切出使用。於此情況，可以得知，係能夠進行4片的面取。
然而，於此情況，係得知了：就算是沿著切 出線C所切出之基材1(以下，係會有稱作「基材片」的情況)的圖案6自身並不會被視覺辨認到，當將此基材片組入至裝置中時，基材片之圖案6的形成方向和裝置所具備之圖案的形成方向亦容易重疊，而容易視覺辨認到波紋。
於此，所謂「圖案6之形成方向」，係為構成圖案之線段(例如，上述之線段31、32、51以及52)的形成方向，而可包含有複數之方向。在圖4(a)之例中，圖案6之形成方向，係對應於沿著基材片之邊的方向。
又，作為上述「裝置所具備之圖案」，例如，係可理想例示有在畫像顯示裝置中之如同像素陣列一般的格子狀之圖案。
相對於此，如同圖4(b)中所示一般，以沿著相對於基材1之邊而傾斜之方向的方式來將基材1切出。亦即是，切出線C，係設定為會沿著相對於基材1之邊而傾斜之方向。於此，傾斜角度係被設定為45°。
在被切出的基材片中，圖案6之形成方向，係從沿著基材片之邊的方向而有所傾斜。藉由此，係能夠對於當將基材片組入至裝置中時的波紋作防止。
然而，基材片之切出方向，由於係並非為沿著基材1之邊者，因此係容易使面取之效率有所損失。例如，在想定為相同面積之基材1的情況時，在圖4(a)之例中，係能夠進行4片的面取，相對於此，在圖4 (b)之例中，極限係成為僅能夠進行2片的面取。
故而，在圖3所示之圖案形成方法中，係在希望同時達成波紋之防止和面取之效率的觀點上，而發現有課題。
進而，在圖3所示之圖案形成方法中，在賦予第1線狀液體時、和賦予第2線狀液體時，係需要使相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D作變更。例如，係成為需要進行將基材之配置方向作改變或者是將液滴吐出裝置之配置方向作改變的工程等，在生產性的觀點上，亦發現有課題。
圖5，係為對於形成網格狀之圖案之方法的其他例(比較例)作概念性說明之平面圖。
在圖5之例中，於防止波紋的觀點上，係將液滴吐出裝置(圖5中未圖示)之相對移動方向D，設定為相對於基材1之邊而有所傾斜的方向。
首先，如圖5(a)中所示一般，沿著相對於基材1之邊而以45°來傾斜的相對移動方向D來使液滴吐出裝置移動，並在該方向D上形成複數之第1線狀液體2。
藉由使此些之第1線狀液體2乾燥，如同圖5(b)中所示一般，係能夠由各個的第1線狀液體2來形成第1平行線圖案3。第1平行線圖案3，係藉由線段31、32所構成。
接著，使液滴吐出裝置相對於基材而作90°之 旋轉，並使相對於基材1之相對移動方向D，相對於第1線狀液體2之形成時的方向而作90°之旋轉。如此這般，而變更相對移動方向D。
接著，如圖5(c)中所示一般，沿著相對於基材1之邊而有所傾斜的變更之相對移動方向D來使液滴吐出裝置移動，並在該方向D上形成複數之第2線狀液體4。
藉由使此些之第2線狀液體4乾燥，如同圖5(d)中所示一般，係能夠由各個的第2線狀液體4來形成第2平行線圖案5。第2平行線圖案5，係藉由線段51、52所構成。
如此這般，係能夠形成使第1平行線圖案3和第2平行線圖案5相互交叉所成的網格狀之圖案6。第1平行線圖案3以及第2平行線圖案5，係被形成於相對於矩形狀之基材1之邊而有所傾斜的方向上。
圖6，係為對於從藉由圖5中所示之方法而形成有圖案的基材所進行之面取作概念性說明之平面圖。與圖4相同的，在圖中，係將進行面取時之切出線以虛線C來作展示。
如同圖6中所示一般，就算是為了提昇面取效率而以沿著基材1之邊的方式來將基材1切出，亦由於圖案6係被形成在相對於基材1之邊而有所傾斜的方向上，因此，係能夠謀求波紋之防止。
如此這般，藉由將圖案6形成在相對於基材1 之邊而有所傾斜的方向上，係能夠同時達成波紋之防止和面取之效率的提升。
然而，在圖5所示之圖案形成方法中，亦與在圖3中所示之方法相同的，在賦予第1線狀液體2時、和賦予第2線狀液體4時，係需要使相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D作變更。因此，在使生產性提昇的觀點上，係發現到仍有更進一步作改善的餘地。
以下，針對本發明之圖案形成方法作詳細說明。
圖7，係為對於本發明之圖案形成方法的其中一例作概念性說明之平面圖。
在圖7中，7係為液滴吐出裝置，並藉由噴墨頭71來構成。72a~72f，係為噴墨頭71所具備之噴嘴。
一面使液滴吐出裝置7相對於基材1而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置7之複數之噴嘴72a~72f來在基材1上吐出由包含功能性材料之液體所成的液滴。使從互為相異之噴嘴所吐出的液滴在基材1上合併為一，而在相對於相對移動方向D而有所傾斜的方向上形成線狀液體2。在圖示之例中，雖係針對藉由由相對移動所進行之一次的通過來形成1個的線狀液體2的情況作展示，但是，若是藉由由相對移動所進行之一次的通過來形成複數之線狀液體2，則亦為理想。
在以下之說明中，相對於相對移動方向D之線狀液體2的形成方向之角度(傾斜角度)θ，係指從相 對移動方向D而作了順時針旋轉(右旋轉)的角度。在以下之說明中，當角度係身為負的值時，係可換算為逆時針旋轉(左旋轉)之正的值之角度。在圖示之例中，傾斜角度θ係為45°。
接著，針對在上述之基材1上的液滴之合併為一作詳細說明。
圖8，係為對於從液滴吐出裝置的液滴吐出條件之其中一例作概念性說明之平面圖。
在圖示之例中，2a~2f，係分別代表從液滴吐出裝置7所具備之噴墨頭71的噴嘴72a~72f所吐出之液滴的命中位置。
命中位置2a~2f，係不論是在相對移動方向D以及與該相對移動方向D相正交之方向的何者，均空出有間隔地而被作配置。亦即是，藉由從液滴吐出裝置7所具備之噴墨頭71的噴嘴72a~72f而來的液滴之吐出，來將在基材1上而成為合併為一之對象的相互鄰接之液滴，不論是在相對移動方向D以及與該相對移動方向D相正交之方向的何者，均空出有間隔地而作配置。於此，所謂間隔，係指液滴之中心間的距離。又，所謂「相互鄰接之液滴」，係只要至少1組之相互鄰接之液滴，不論是在相對移動方向D以及與該相對移動方向D相正交之方向的何者均空出有間隔即可。又，所謂「不論是在相對移動方向以及與該相對移動方向相正交之方向的何者，均空出有間隔地而被作配置」，係指被配置在相對於該相對移動方 向而有所傾斜的方向上。
在圖示之例中，係藉由於液滴吐出裝置7之移動過程中，從其中一端側之噴嘴72a起朝向另外一端側之噴嘴72f而以配列順序來從各噴嘴72a、72b、72c、72d、72e、72f而設置有時間差地吐出液滴，來形成上述之配置狀態。
命中於此些之命中位置2a~2f處的各液滴，之後，係以使在基材1上而相鄰接之液滴彼此合併為一的方式，來對於液滴之液滴容量以及液滴之間隔的其中一方或雙方作調整。
此種調整之結果，係能夠沿著相對於液滴吐出裝置7之對於基材1的相對移動方向D而有所傾斜的方向，來形成線狀液體2。藉由使此線狀液體2乾燥，係能夠在線狀液體2之緣部堆積功能性材料並形成包含功能性材料之圖案、例如形成上述之平行線圖案。圖案之形成方向，係可設為相對於相對移動方向D而有所傾斜的方向。
若依據本發明，則例如在設定線狀液體之形成方向時，由於係成為不需要進行對液滴吐出裝置之配置角度作變更等的工程，因此，係可得到下述之效果：亦即是，係能夠並不損及生產性地而使相對於基材之圖案形成方向的自由度提昇。
進而，若是並不僅是進行上述之液滴之合併為一，而更進而以將使液滴合併為一所形成的線狀液體2之緣部之直線性提高的方式，來對於液滴之液滴容量以及 液滴之間隔之其中一方或雙方作調整，則亦為理想。藉由此，係能夠使包含被堆積在線狀液體2之緣部處的功能性材料之圖案的直線性提昇。
作為理想之調整例，較理想，係將用以形成1個的線狀液體2而從1個的噴嘴所賦予之總液滴容量V[pL]、和噴嘴列解析度R[npi]，此兩者之積V‧R[pL‧npi]，調整為4.32×104[pL‧npi]以上5.18×105[pL‧npi]以下之範圍。
於此，用以形成1個的線狀液體2而從1個的噴嘴所賦予之總液滴容量V[pL]，係指從各噴嘴72a~72f而對於用以形成1個的線狀液體2之各命中位置2a~2f所分別賦予之各別的總液滴容量。故而，總液滴容量，例如，當對於1個的命中位置2a而從1個的噴嘴72a來使複數之液滴作命中的情況時，係指此些之複數之液滴的合計之容量，當對於1個的命中位置2a而從1個的噴嘴72a來使1個液滴作命中的情況時，係指1個液滴的容量。
作為對於總液滴量作調整之方法，係可理想例示有對於1個液滴的單位容量作調整之方法、或者是對於命中於1個的命中位置處之液滴的數量作調整之方法等。若是將此些方法之1個或2以上作組合使用，則亦為理想。
在對於命中於1個的命中位置處之液滴的數量進行調整時，係可合適使用具備有階度變更手段之液滴 吐出裝置。亦即是，液滴容量，係可藉由階度之調整來進行調整。所謂階度，係指對於每1個點所命中之液滴的數量(單位係使用「dpd」(drops per dot))，而可作為與命中於上述之1個的命中位置處之液滴的數量相對應之數值來使用。
故而，上述總液滴容量V[pL]，當將每1個液滴之液滴容量設為Vd[pL]，並將階度設為N[dpd]的情況時，係可表現為V=Vd‧N。
又，噴嘴列解析度R[npi]，係指在與相對移動方向相正交之方向上的每1吋中之噴嘴數量。若是在與相對移動方向相正交之方向上的噴嘴間隔(噴嘴之中心間的距離(亦稱作節距))係為一定，則係可將噴嘴間隔[inch]之倒數，作為與噴嘴列解析度R[npi]相對應之數值來使用。
積V‧R[pL‧npi]，若是身為4.32×104[pL‧npi]以上5.18×105[pL‧npi]以下之範圍，則係成為容易更加直線性地來形成線狀液體，而能夠適當地防止膨出(bulge)的發生。其結果，構成所形成之平行線圖案的線段，係成為更加容易被直線性地形成，而亦能夠適當地防止斷線之發生等。因此，當作為功能性材料而使用導電性材料的情況時，係可得到下述之效果：亦即是，係能夠對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善。
從液滴吐出裝置所吐出之包含功能性材料之 液滴，較理想，其之在基材上之接觸角，係為10[°]以上30[°]以下之範圍。
另外，接觸角，係為靜性接觸角，例如，係可藉由使用協和界面科學股份有限公司製之DM-500，來在25℃、50%RH之環境下，將所欲測定之液滴(5μl程度)從注射筒來乘載於基材1上，並對於液滴端部之切線和基材面所成之角度作測定，而求取出來。
接觸角，例如，係可藉由對於包含功能性材料之液滴的組成或基材之表面能所進行的設定等來適宜作調整。
接觸角，若是身為10[°]以上30[°]以下之範圍，則係能夠得到下述之效果：亦即是，係能夠使所形成之平行線圖案的透明性更進一步提昇。
又，若是接觸角係為10[°]以上30[°]以下之範圍，則線狀液體係成為更容易被直線性地形成，而能夠適當地防止膨出(bulge)的發生。其結果，構成所形成之平行線圖案的線段，係成為更加容易被直線性地形成，而亦能夠適當地防止斷線之發生等。因此，當作為功能性材料而使用導電性材料的情況時，係可得到下述之效果：亦即是，係能夠對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善。
在圖8中，各噴嘴72a~72f，係可在進行了用以形成線狀液體2的吐出後，空出有特定之間隔地，而進行用以形成與其相鄰接之其他的線狀液體2’的吐出。圖 中，2a’~2f’，係代表為了進而形成線狀液體2’而從噴嘴72a~72f所吐出的液滴之命中位置。如此這般，液滴吐出裝置7，係可在由相對移動所進行之一次的通過中，空出有特定之間隔地而形成複數之線狀液體。
在本發明之其中一個側面中，係藉由將線狀液體相對於液滴吐出裝置與基材之相對移動方向D而傾斜地形成，而成為能夠將藉由1次之通過所賦予的相互平行之線狀液體之賦予間隔Mp容易地調整為所期望之值。
亦即是，在如同參考圖2所說明的比較例一般地而將線狀液體沿著液滴吐出裝置與基材之相對移動方向D來形成的情況時，係僅能夠將藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp以液滴吐出裝置之噴嘴間隔的單位來進行調整。此時，所能夠選擇的賦予間隔Mp，係成為噴嘴間隔之單位下的階段性之(不連續之)值。
相對於此，藉由將線狀液體相對於液滴吐出裝置與基材之相對移動方向D而傾斜地形成，在進行賦予間隔Mp之調整時，係成為不會被噴嘴間隔所限制。亦即是，係成為能夠從連續性之範圍中而自由地選擇賦予間隔Mp。
藉由一次的通過所被賦予之線狀液體之賦予間隔Mp，係如同圖8中所示一般，為相對於線狀液體2、2’之形成方向而相正交之方向的距離(亦稱作節距)，並相當於線狀液體2、2’之寬幅方向的中心間之距離。
藉由將線狀液體相對於液滴吐出裝置與基材 之相對移動方向D而傾斜地形成，賦予間隔Mp，係成為能夠藉由對於從各個的噴嘴72a~72f而將液滴吐出之時間間隔、以及液滴吐出裝置7之相對於基材1的相對移動速度，此些之其中一方或者是雙方作調整，而適宜作調整。
例如，藉由將從各個的噴嘴72a~72f而吐出液滴之時間差縮小，係能夠將賦予間隔Mp縮小。又，藉由將此時間差增大，係能夠將賦予間隔Mp增大。
進而，例如，藉由將相對於基材1之液滴吐出裝置7的相對移動速度縮小，係能夠將賦予間隔Mp縮小。藉由將此相對移動速度增大，係能夠將賦予間隔Mp增大。
如此這般，係成為能夠容易地將賦予間隔Mp調整為所期望之值。藉由此，係能夠使圖案化之自由度提昇，而成為能夠將對於各種裝置或各種電子機器之適合性提高。
若是藉由賦予間隔Mp之調整，來對於在使相鄰接之線狀液體2、2’乾燥時的相互干涉作抑制，則亦為理想。作為相互干涉，例如，係可列舉出由蒸氣所致之干涉、由起因於氣化熱被奪去一事所造成的基材之溫度降低所導致的干涉等。藉由對於此種相互干涉作抑制，係能夠使在線狀液體之緣部處的功能性材料之堆積安定化，而能夠得到使膨出防止性、透明性更進一步提昇之效果。進而，若是功能性材料乃身為導電性材料，則係可得到能夠 對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善之效果。
賦予間隔Mp之值，係並未特別作限定，但是，係以設為400[μm]以上為理想。藉由此，係能夠來對於在使相鄰接之線狀液體2、2’乾燥時的相互干涉適當地作抑制。
為了形成1個的線狀液體2而從相互鄰接之噴嘴所各別吐出之包含功能性材料之液體的最大吐出時間差Δtmax，較理想，係調整為200[ms]以下。藉由此，來促進液滴之合併為一，而可得到能夠使平行線圖案之形成更加安定化的效果。特別是，當作為功能性材料而使用導電性材料的情況時，係可得到能夠對於所得到的圖案之端子電阻適當地作改善之效果。
針對該最大吐出時間差Δtmax，首先參考圖8之例來作詳細說明。
在圖8中，液滴吐出裝置7，係藉由1個的噴墨頭71來構成。在噴墨頭71處，噴嘴72a~72f，係在與液滴吐出裝置7之相對移動方向相正交的方向上，而被配列於一直線上。
液滴吐出裝置，係一面朝向相對移動方向D移動，一面從噴嘴72a而朝向命中位置2a來吐出液體。接著，液滴吐出裝置，係進而朝向相對移動方向D移動，並從與噴嘴72a相鄰接之噴嘴72b而朝向命中位置2b來吐出液體。故而，相互鄰接之噴嘴72a和噴嘴72b，係在 吐出液體之時序中存在有時間差(吐出時間差)。
在圖示之例中，噴嘴72a~72f，係在與液滴吐出裝置7之相對移動方向相正交的方向上，而被配列於一直線上，相互鄰接之噴嘴的吐出時間差，係不論是將任意的2組之鄰接噴嘴抽出，均會成為相同。在此種條件下，係可將該吐出時間差設為最大吐出時間差Δtmax。
針對最大吐出時間差Δtmax，列舉出其他條件之例來更進而作詳細說明。
圖9，係為對於從液滴吐出裝置而吐出的液滴吐出條件之其他例作概念性說明之平面圖。
在圖9中，液滴吐出裝置7，係藉由2個的噴墨頭71來構成(以下，係有稱作2列頭的情況)。
此些之2個的噴墨頭71，係以與各個的噴墨頭71之在與相對移動方向D相正交的方向上之噴嘴間隔的一半相當之距離而作偏移配列。如此這般，藉由設為2列頭，係將作為液滴吐出裝置7全體之噴嘴解析度R增大。亦可將頭作3列以上之配列，而更進一步將噴嘴解析度R增大。
又，在圖中，於右側之噴墨頭71處，噴嘴72a、72c、72e，在與相對移動方向D相正交的方向上，係並未被配列於一直線上。在圖中，左側之噴墨頭71之噴嘴72b、72d、72f，亦為相同。
在此種條件下，相互鄰接之噴嘴的吐出時間差，係依存於2組之鄰接噴嘴的抽出方式而有所不同。在 此種條件下，係可將當以會使吐出時間差變得最大的方式來抽出2組之鄰接噴嘴時的吐出時間差，設為最大吐出時間差Δtmax。
圖10以及圖11，係為對於從液滴吐出裝置而吐出的液滴吐出條件之又一其他例作概念性說明之平面圖。圖11，係為圖10中之以(xi)所展示的部份之擴大圖。
當在基材1上之圖案形成區域的與相對移動方向D相正交之方向的寬幅，為較1個的噴墨頭71之寬幅而更廣的情況時，如同圖示一般，係可將複數之噴墨頭71在與相對移動方向D相正交的方向上並排為鋸齒狀來作使用。在圖示之例中，係將由2個的噴墨頭71所成之2列頭，在與相對移動方向D相正交的方向上而並排為鋸齒狀。
在此種條件下，亦同樣的，相互鄰接之噴嘴的吐出時間差，係依存於2組之鄰接噴嘴的抽出方式而有所不同。特別是，起因於相互鄰接之噴嘴為存在於相異之2列頭處一事所導致的影響係為大。在此種條件下，亦同樣的，係可將當以會使吐出時間差變得最大的方式來抽出2組之鄰接噴嘴時的吐出時間差，設為最大吐出時間差Δtmax。
在圖示之例中，於圖中，當將右側之2列頭的末端之噴嘴72f和左側之2列頭的末端之噴嘴72g作為鄰接噴嘴來抽出時，由於吐出時間差係會變得最大，因 此，係可將此設為最大吐出時間差Δtmax。
圖12，係為對於藉由複數次之通過來形成複數之線狀液體的其中一例作概念性說明之平面圖。
在圖示之例中，係針對藉由2次的通過來形成複數之線狀液體2A以及2B的例子作展示。在第1次之通過中，形成線狀液體2A，並在第2次之通過中，形成與線狀液體2A相同方向之線狀液體2B。
在各次的通過間，較理想，係設置有使在先前之通過中所形成的線狀液體乾燥並形成平行線圖案的乾燥工程。於此，係在第1次之通過和第2次之通過之間設置有乾燥工程，在該乾燥工程中，係以在第1次之通過中所形成的線狀液體2A乾燥並形成平行線圖案3。
如此這般，當在某一次的通過中而形成線狀液體時，較理想，係預先使在先前之通過中所形成的線狀液體乾燥。此事，不論是針對如同圖示一般之在各通過中而形成同方向之線狀液體的情況或者是針對在各通過中而形成相異方向之線狀液體的情況，均為共通。
藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp，較理想，係較最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M而更大。所謂最終所賦予之線狀液體，係指藉由用以形成同方向之線狀液體之所有的通過(在圖示之例中，係為2次之通過)所賦予的同方向之線狀液體。如同圖示一般，在進行最終所賦予的線狀液體之賦予間隔之測定時，一部分或全部之線狀液體，係亦可成為已乾燥的狀態，亦 即是係亦可身為已成為了平行線圖案的狀態。使線狀液體作了乾燥的狀態之物，亦可作為最終所賦予之線狀液體，而包含在賦予間隔M之測定對象中。
如同圖示一般，較理想，係將相同形成方向之線狀液體刻意藉由複數次之通過來形成。在將相同形成方向之線狀液體藉由複數次之通過來形成的情況時，較理想，於第2次以後的通過中，係在與藉由先前之通過所賦予的相鄰之2根的線狀液體(亦可為已乾燥者)之間的間隙中，賦予新的線狀液體。藉由在各通過之間設置乾燥工程，由於係能夠將同時被乾燥之線狀液體的數量減少，並且進而亦成為易於確保線狀液體間之間隔，因此，係能夠將伴隨於乾燥所產生的影響減輕，而得到能夠使平行線圖案之形成更加安定化的效果。
在圖示之例中，雖係針對藉由2次的通過來形成複數之線狀液體的例子作展示，但是，在3次以上之通過的情況時，係亦可援用上述之說明。
在藉由n次(n為2以上之整數)之通過來形成相同形成方向之複數之線狀液體的情況時，藉由1次的通過所賦予之線狀液體之賦予間隔Mp，較理想，係身為最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M之n倍。
在本發明中，藉由將線狀液體相對於液滴吐出裝置與基材之相對移動方向D而傾斜地形成，係能夠使線狀液體之伸長速度成為較液滴吐出裝置之相對於基材的相對移動速度而更大。
所謂線狀液體之伸長速度，係為使線狀液體於該線狀液體之形成方向上伸長的每單位時間之長度。線狀液體之伸長速度VL[μm/s]，當將液滴吐出裝置之相對於基材之相對移動速度設為VH[μm/s]，並將線狀液體之相對於基材之傾斜角度設為θ[°]的情況時，係可表現為VL=VH/｜cosθ｜。
藉由將線狀液體形成在相對於液滴吐出裝置之對於基材的相對移動方向而有所傾斜的方向上，係能夠將cosθ之絕對值設為1以下。藉由此，係能夠使線狀液體之伸長速度VL成為較液滴吐出裝置之相對於基材之相對移動速度VH而更大，亦即是係能夠滿足VL>VH。
藉由此，來使線狀液體之形成高速化，並對於成為合併為一之對象的液滴之以液滴單位而乾燥的情形作抑制，而能夠促進該液滴之合併為一。
若是使用以上所說明之本發明之圖案形成方法，則係能夠適當地解決上述一般之希望同時達成波紋之防止和面取之效率的課題以及生產性的課題。亦即是，係可得到能夠同時達成波紋之防止和面取之效率的效果以及使生產性提昇的效果。針對此，以下列舉出具體例來作說明。
圖13，係為對於使用本發明之圖案形成方法而形成網格狀之圖案的情況時之其中一例作概念性說明之平面圖。
首先，如同圖13(a)中所示一般，以沿著矩 形狀之基材1之1個邊的方向(圖面上之左右方向)的方式，來設定相對於基材1之液滴吐出裝置(圖13中未圖示)的相對移動方向D。沿著相對移動方向D來使液滴吐出裝置移動，並在相對於該方向D而有所傾斜的方向上以特定之間隔來形成複數之第1線狀液體2。於此，傾斜角度θ係被設定為45°。
藉由使此些之第1線狀液體2乾燥，如同圖13(b)中所示一般，係能夠由各個的第1線狀液體2來形成第1平行線圖案3。第1平行線圖案3，係藉由線段31、32所構成。
接著，並不對於第1線狀液體2之形成時的相對移動方向D作變更地，來如同圖13(c)中所示一般，沿著相對移動方向D而使液滴吐出裝置移動，並在相對於該方向D而有所傾斜的方向上以特定之間隔來形成複數之第2線狀液體4。於此，傾斜角度θ係被設定為-45°。
藉由使此些之第2線狀液體4乾燥，如同圖13(d)中所示一般，係能夠由各個的第2線狀液體4來形成第2平行線圖案5。第2平行線圖案5，係藉由線段51、52所構成。
如此這般，係能夠形成使第1平行線圖案3和第2平行線圖案5相互交叉所成的網格狀之圖案6。
第1平行線圖案3以及第2平行線圖案5，係被形成於相對於矩形狀之基材1之邊而有所傾斜的方向 上。
故而，就算是為了提昇面取效率而以沿著基材1之邊的方式來將基材1切出，亦由於圖案6係被形成在相對於基材1之邊而有所傾斜的方向上，因此，係能夠謀求波紋之防止。故而，係能夠同時達成波紋之防止和面取之效率。
進而，藉由沿著相對於對於基材1之液滴吐出裝置7的相對移動方向D而有所傾斜的方向來形成線狀液體2，在賦予第1線狀液體2時、和賦予第2線狀液體4時，由於係並不需要使相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D作變更，因此係能夠使生產性提昇。由於係成為並不需要改變相對於基材之頭的方向，因此係亦能夠防止設備之複雜化和控制之複雜化。
圖14，係為對於使用本發明之圖案形成方法而形成網格狀之圖案的情況時之其他例作概念性說明之平面圖。圖14中，針對藉由與圖13相同的元件符號來表示的構成，係可援用在圖13中所進行之說明。
首先，在相對於相對移動方向D而有所傾斜之方向上，形成第1線狀液體2(圖14(a))。於此，傾斜角度θ係被設定為45°。
接著，藉由使第1線狀液體2乾燥，而形成第1平行線圖案3(圖14(b))。
接著，將相對移動方向D，設定為相對於第1線狀液體2之形成時的相對移動方向D而為相反的方向。
在此狀態下，在相對於該相對移動方向D而有所傾斜之方向上，形成第2線狀液體4(圖14(c))。於此，傾斜角度θ係被設定為-45°。
接著，藉由使第2線狀液體4乾燥，而形成第2平行線圖案5(圖14(d))。
如此這般，係能夠形成使第1平行線圖案3和第2平行線圖案5相互交叉所成的網格狀之圖案6。
如同上述一般，藉由沿著相對於對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D而有所傾斜的方向來形成線狀液體，在賦予第1線狀液體2時、和賦予第2線狀液體4時，係亦能夠將相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D設定為反方向。
藉由此，當在基材1上而使液滴吐出裝置作一次之往返移動時，於往路和返路處，係能夠分別形成第1線狀液體和第2線狀液體。
在液滴吐出裝置處，如同上述一般地設定為與相對移動方向D相反之方向並吐出液滴一事，相對上而言係較為容易，而能夠並不需要進行將對於基材之液滴吐出裝置的配置角度進行再設定等之工程地來容易地實施之。
在線狀液體之乾燥時，較理想，係施加促進乾燥之處理。藉由此，係可得到能夠使平行線圖案之形成更加安定化的效果。
作為促進乾燥之處理，例如，係可例示有加 熱、送風、能量線之照射等之處理，而亦可使用此些之1或者是2以上之組合。
較理想，係使用促進線狀液體之乾燥的乾燥裝置(亦稱作乾燥機)。乾燥裝置，只要是構成為能夠實行上述之乾燥處理者即可，例如，係可例示有加熱器、送風機、能量線照射裝置等，而亦可使用此些之1或者是2以上之組合來構成之。
圖15，係為對於乾燥裝置之構成例作概念性說明之平面圖。
乾燥裝置8，較理想，係與液滴吐出裝置7一同地而以相對於基材而作相對移動的方式來作設置。如同圖示一般，若是在為了進行液滴吐出裝置7之移動所使用的托架9處，與液滴吐出裝置7一同地而搭載乾燥裝置8，則亦為理想。
圖示之構成例，由於係想定為在使液滴吐出裝置7進行往返移動時，僅在往路處而形成線狀液體，因此，係在液滴吐出裝置7之相對移動方向D的後方處設置有乾燥裝置8，但是，當在往路和返路之雙方處而形成線狀液體的情況時，係亦可在液滴吐出裝置7之移動方向的兩側處設置乾燥裝置8。
又，乾燥裝置，係亦可設置在基材側處。例如，若是在載置基材之平台處，設置加熱器等之乾燥裝置，則亦為理想。進而，若是在液滴吐出裝置側和基材側處分別設置乾燥裝置，則亦為理想。
在以上之說明中，作為相對於基材而使液滴吐出裝置作相對移動之例，主要係針對將基材固定並使液滴吐出裝置移動的情況來作了展示。本發明，係並不被限定於此例，亦可構成為使基材移動並將液滴吐出裝置作固定。
進而，為了實現相對移動，係亦可使基材移動並且亦使液滴吐出裝置移動，但是，此會有導致控制變得複雜的情況。從使控制成為容易的觀點來看，較理想，係將基材和液滴吐出裝置之其中一方固定，並使另外一方移動。
以下，針對使基材移動並將液滴吐出裝置作固定的情況之例作說明。
圖16，係為對於本發明之圖案形成方法的其他例作概念性說明之平面圖。
在此例中，作為液滴吐出裝置7，係使用將複數之噴墨頭在寬幅方向上作了複數之並列設置的線列頭。線列頭，係涵蓋在基材處之圖案形成區域的寬幅以上之寬幅地而被形成有噴嘴。
在此例中，係使用2台之由線列頭所成之液滴吐出裝置7。
將此些之液滴吐出裝置7固定，並將長條狀之基材1，以依序供給至此些之液滴吐出裝置7處的方式來進行搬送。基材1，係藉由未圖示之搬送手段而被朝向特定方向作搬送。搬送手段，係並未特別作限定，例如係 可藉由皮帶輸送帶裝置等來構成。在圖中，以箭頭E來展示基材1之搬送方向。此時，相對於基材1之液滴吐出裝置7的相對移動方向D，係成為與基材1之搬送方向E反方向。
各個的液滴吐出裝置7，係在基材1之搬送方向E的下游側處，分別具備有乾燥裝置8。基材1，係依據上游側之液滴吐出裝置7、上游側之乾燥裝置8、下游側之液滴吐出裝置7、下游側之乾燥裝置8的順序而被作搬送。
首先，被搬送之基材1，係被供給至上游側之液滴吐出裝置7處。於此，在相對於該液滴吐出裝置7之相對移動方向D而有所傾斜之方向上，係被形成有第1線狀液體2。第1線狀液體2之傾斜角度θ，係被設定為45°。
接著，被形成有第1線狀液體2之區域，係被供給至上游側之乾燥裝置8處。於此，藉由使第1線狀液體2乾燥，而形成第1平行線圖案3。
接著，被形成有平行線圖案3之區域，係被供給至下游側之液滴吐出裝置7處。於此，在相對於該液滴吐出裝置7之相對移動方向D而有所傾斜之方向上，係被形成有第2線狀液體4。第2線狀液體4之傾斜角度θ，係被設定為-45°。
接著，被形成有第2線狀液體4之區域，係被供給至下游側之乾燥裝置8處。於此，藉由使第2線狀 液體4乾燥，而形成第2平行線圖案5。
如此這般，藉由沿著相對於對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D而有所傾斜的方向來形成線狀液體，係成為亦能夠合適地適用於在使基材移動並且將液滴吐出裝置固定的條件下來形成圖案之方法(例如，使用有上述一般之線列頭的圖案形成方法)中。
在以上之說明中，於使用液滴吐出裝置而形成線狀液體時，主要係針對將對於1個像素而從1個的噴嘴所賦予之液滴，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數之賦予，並使複數之前述液滴組合併為一，而形成在與噴嘴列相交叉之方向上而延伸的線狀液體之情況來作了說明，但是，係並不被限定於此。例如，於使用液滴吐出裝置而形成線狀液體時，若是將對相對於液滴吐出裝置之噴嘴列而被平行地作配置的像素組而從複數之噴嘴所賦予之液滴組，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數組之賦予，並使複數組之前述液滴組合併為一，而形成在與噴嘴列相交叉之方向上而延伸的線狀液體，則亦為理想。針對此形態，參考圖17~圖19來作說明。
如同圖17中所示一般，於此，線狀液體2，係相對於液滴吐出裝置7之相對移動方向D而有所傾斜地被形成。
亦即是，一面相對於基材1而使液滴吐出裝置7作相對移動，一面從液滴吐出裝置7來在基材1上吐出包含功能性材料之液滴20。相對移動方向D，係被設定 於相對於由噴嘴72a~72j所成之噴嘴列73的方向N而相正交之方向上。
在該相對移動之過程中，係對於由相對於噴嘴列73之方向N而被平行地作配置的複數之像素(a1、b1、c1)所成之像素組，而從複數之噴嘴72a、72b、72c之各者來賦予液滴20、亦即是賦予液滴組。
接著，在使液滴吐出裝置7於相對移動方向α上而作了1個像素之量的相對移動後，對於由相對於噴嘴列73之方向N而被平行地作配置的複數之像素(b2、c2、d2)所成之下一個像素組，而從複數之噴嘴72b、72c、72d之各者來賦予液滴20、亦即是賦予下一個液滴組。藉由反覆進行此，而將液滴組在相對於噴嘴列73之方向N而有所傾斜的方向上作複數組之賦予。
亦即是，在圖示之例中，於選擇成為液滴20之賦予對象的像素組時，係以相對於構成之前所選擇之像素組的各像素而在噴嘴列之方向N上作特定像素數(於圖示之例中，係為1個像素)之量之偏移的方式，來從構成下一行的像素之中而選擇下一個像素組。
藉由使構成此些之複數之液滴組的液滴20彼此合併為一，如圖18中所示一般，係能夠形成在沿著相對於噴嘴列73之方向N而有所傾斜之方向、亦即是沿著相對於液滴吐出裝置7之相對移動方向D而有所傾斜的方向而延伸的線狀液體2。
進而，在使線狀液體2乾燥時，藉由於線狀 液體2之緣部堆積功能性材料，如同圖19中所示一般，係能夠形成包含該功能性材料之平行線圖案3。由1根的線狀液體2所形成之平行線圖案3，係藉由1組2根的線段(細線)31、32所構成。平行線圖案3，係沿著液滴吐出裝置7之相對移動方向D而傾斜地被形成。
如同上述一般，在將線狀液體2相對於液滴吐出裝置7之相對移動方向D而傾斜地形成的情況時，係藉由對於由相對於噴嘴列73而被平行地作配置的複數之像素所成之像素組而從複數之噴嘴來賦予液滴組，而能夠將線狀液體2之形成寬幅自由地增大。進而，就算是在將由線狀液體2所產生的細線31、32之配置間隔I增大的情況時，亦能夠適當地防止膨出之發生。亦即是，係能夠並不使包含功能性材料之細線31、32之形成變得不安定化地，而使該細線31、32之配置間隔I的設定之自由度提昇。
在以上之說明中，雖係針對將構成像素組之像素數設為3像素的情況來作了展示，但是，係並不被限定於此，而能夠以使細線31、32成為所期望之配置間隔I的方式來適宜作設定。因此，係可得到能夠使配置間隔I之設定的自由度變高的效果。構成像素組之像素數，例如，係以設定在2像素~20像素之範圍內為理想，又以設定在2像素~10像素之範圍內為更理想。
在圖17~圖19之例中，針對形成用以形成平行線圖案3之線狀液體2的情況，雖係對於使用像素組的 形態來作了說明，但是，此說明，係亦可援用於形成用以形成與該平行線圖案3相交叉之平行線圖案5的線狀液體4之情況中。
在以上之說明中，雖係針對液滴吐出裝置為具備有被配置為一列之複數之噴嘴的情況來作了展示，但是本發明係並不被限定於此。例如，如同圖20中所示一般，液滴吐出裝置7，係亦可為具備有被配置為複數列之複數之噴嘴者。於此情況，噴嘴列73之方向，係對應於此些之複數之噴嘴的全體性之配列方向N。
接著，針對用以使在藉由讓平行線圖案相互交叉所構成的圖案(網格狀之功能性圖案)中之細線的直線性提高之調整作說明。
設為網格狀之功能性圖案一事，對於實現在保持有低視覺辨認性的狀態下而於基材上使功能性材料分布一事而言，係為有利。
特別是，構成如同上述一般所形成的平行線圖案之線段，由於係能夠實現數μm之線寬幅，因此，藉由該微細之線寬幅，網格狀之功能性圖案，就算是功能性材料自身並非為透明，也不會被人類的眼睛所辨識出來，而看起來就如同透明一般。
關於功能性材料之細線圖案的形狀，係可依據使用該功能性材料之裝置來作設定。作為裝置之其中一例，被使用在觸控面板中之觸控感測器，係為了檢測出由手指等所指示的位置，而使用有透明之面電極。
網格狀之功能性圖案，若是作為功能性材料而使用導電性材料，則係可合適適用在觸控面板等之透明的面電極等中。從構成面電極等的觀點來看，藉由形成方向互為相異之複數的平行線圖案來構成網格狀一事，在增加導電路徑的觀點上而言，係為非常有效。
作為形成此種網格狀之功能性圖案的形成方法，係可列舉出圖21中所示之方法。
首先，如同圖21(a)中所示一般，在基材1上，將線狀液體2塗布為網格狀。亦即是，係以會在交叉部X處而相互交叉的方式，來塗布線狀液體2。
接著，藉由使線狀液體2乾燥，如同圖21(b)中所示一般，係能夠形成由平行線圖案3所成的網格狀圖案。
此時，在線狀液體2中所包含之功能性材料係堆積在緣部處，其結果，在方向相異之平行線所相交的交叉部X處，線段31、32係成為被截斷。
作為防止在交叉部X處之線段31、32的截斷之方法，係可列舉出圖22中所示之方法。
在此例中，係於圖21所說明之方法中，如同圖22(a)中所示一般地，將藉由線狀液體2所形成的交點之部分的墨水量，設定為較其他之部分而更大。
若依據此方法，則如同圖22(b)中所示一般，在由平行線圖案3所成的網格狀圖案中，係能夠防止在交叉部X處的線段31、32之截斷。
此時，由於對於交叉部X的墨水量係有所增加，因此，如同圖22(b)中所示一般，交叉部X，係成為具備有較線段31、32之間隔而更大之直徑的環狀。
此種環狀之部分的產生，在防止線段31、32之截斷並例如成為例如容易確保導電性等的觀點來看，係為有利，但是，係會有週期性地視覺辨認出該環狀之部分的情形，而可以得知，在對於低視覺辨認性作更進一步之改善的觀點來看，係有所限度。
又，作為防止在交叉部X處之線段31、32的截斷之方法，係亦可列舉出圖23中所示之方法。
首先，如同圖23(a)中所示一般，在第1方向(圖中之左右方向)上，塗布線狀液體2。
在使此線狀液體2乾燥的過程中，使功能性材料在緣部處作選擇性的堆積，並如同圖23(b)中所示一般，形成第1平行線圖案3。
接著，如同圖23(c)中所示一般，在與第1方向相異之第2方向(在此例中，係為與第1方向相正交的方向，亦即是圖中之上下方向)上，塗布第2線狀液體4。亦即是，係以會相對於第1平行線圖案3之形成區域而相互交叉的方式，來塗布第2線狀液體4。
在使此線狀液體4乾燥的過程中，使功能性材料在緣部處作選擇性的堆積，並如同圖23(d)中所示一般，形成第2平行線圖案5。51、52，係為構成第2平行線圖案5之線段。
如同上述一般，而形成由形成方向互為相異之第1平行線圖案3和第2平行線圖案5所成的網格狀之功能性圖案。
若依據此方法，則在方向互為相異之平行線所相交的交叉部X處，係能夠分別防止線段31、32以及線段51、52之截斷。
圖24，係為對於交叉部X之形成例作展示之重要部分擴大圖。
在使用圖23而作了說明的例中，如同圖24(a)以及圖24(b)中所示一般，在交叉部X處，於構成第2平行線圖案之線段51、52之間，係產生有膨脹(圖24(a))和縮窄(圖24(b))。在圖25(a)中，對於產生有膨脹之網格狀之功能性圖案的光學顯微鏡照片作展示。
係得知了：該線段51、52之間的膨脹或縮窄，係會成為對於低視覺辨認性之提昇造成限制的原因。
又，係得知了：特別是當功能性材料乃身為導電性材料的情況時，起因於該膨脹或縮窄，導電路徑之長度係會在沿著第1平行線圖案3之方向(第1方向)和沿著第2平行線圖案5之方向(第2方向)上而有所相異，從防止電阻之參差的觀點來看，係仍有著更進一步作改善的餘地。
為了對此些問題作改善，在使用圖23所作了說明的例中，係如同圖24(c)中所示一般，針對構成第 2平行線圖案5之2根的線段51、52間之間隔，係以使在第1平行線圖案3之形成區域內的平均間隔A和在第1平行線圖案3之形成區域外的平均間隔B會滿足下述式(1)的方式，來進行調整。
0.9≦B/A≦1.1‧‧‧式(1)
藉由此，在所得到的網格狀之功能性圖案中，係能夠防止線段之斷線，並能夠使低視覺辨認性提昇，特別是在功能性材料乃身為導電性材料的情況時，係能夠使導電路徑之長度以高精確度而在前述第1方向和前述第2方向上成為相同，而能夠得到可對於電阻之參差適當地作抑制的效果。在圖25(b)中，對於進行上述一般之調整所得到的網格狀之功能性圖案的光學顯微鏡照片作展示。
所謂第1平行線圖案3之形成區域，係指從構成第1平行線圖案之其中一方的線段31起直到另外一方之線段32為止的區域，從其他觀點來看，係亦可代表為了形成第1平行線圖案3所賦予的第1線狀液體2之賦予區域。
針對構成第2平行線圖案5之線段51、52間之間隔，在第1平行線圖案3之形成區域內的平均間隔A、和在第1平行線圖案3之形成區域外的平均間隔B，係分別可設為在複數的場所處所作了測定的間隔之平均值。
為了測定平均間隔A所設定的複數場所(n個場所)之測定場所，較理想，係在第1平行線圖案3之形成區域內，沿著第2方向而以等間隔來作配置。又，為了測定平均間隔B所設定的複數場所(m個場所)之測定場所，較理想，係在第1平行線圖案3之形成區域外，沿著第2方向而以等間隔來作配置。
平均間隔A以及平均間隔B，較理想，係如同下述一般地來測定。
圖26，係為對於平均間隔A以及平均間隔B之測定方法的其中一例作說明之圖。
首先，平均間隔A，係如同圖26中所示一般，針對構成第2平行線圖案5之線段51、52間之間隔，而作為在沿著構成第1平行線圖案之線段31、32的2個場所A1、A2和較線段31、32而更內側處之5個場所A3~A7的合計7個場所A1~A7處所測定出的間隔之平均，來求取之。此時，此些之合計7個場所的測定場所A1~A7，係沿著第2平行線圖案的形成方向(第2方向)來以等間隔作配置。
另一方面，平均間隔B，係如同圖26中所示一般，針對構成第2平行線圖案5之線段51、52間之間隔，而作為在與關連於上述之平均間隔A之合計7個場所A1~A7相鄰接的合計5個場所之測定場所B1~B5處所測定出的間隔之平均，來求取之。此時，此些之合計5個場所的測定場所B1~B5，係能夠沿著第2平行線圖案的形 成方向(第2方向)來以與關連於上述之平均間隔A之合計7個場所的測定場所A1~A7相同之等間隔來作配置。關連於平均間隔A之測定的合計7個場所的測定場所A1~A7、和關連於平均間隔B之測定的合計5個場所的測定場所B1~B5，係能夠沿著第2方向來相互以等間隔來作配置。
在圖示之例中，係針對將平均間隔B之測定場所B1~B5相對於平均間隔A之測定場所A1~A7來在圖中而鄰接於下側地作設定的例子作了展示，但是，係亦可在圖中而鄰接於上側地作設定。此時，較理想，係以使平均間隔A和平均間隔B之差會變得更大的方式，來在上側(其中一側)、下側(另外一側)之其中一者處而設定平均間隔B之測定場所B1~B5。
在圖26之例中，作為用以測定平均間隔A之測定場所，係針對包含有沿著構成第1平行線圖案之線段31、32的2個場所A1、A2之情況來作了說明，但是，係亦可構成為包含有沿著線段31、32之其中一方的1個場所。又，係亦可構成為並未包含有沿著線段31、32之場所。
在圖26之例中，作為用以測定平均間隔A之測定場所，係針對包含有較構成第1平行線圖案之線段31、32而更內側的5個場所A3~A7之情況來作了說明，但是，係並非絕對需要為5個場所，較理想，係為2以上之複數個場所。
在圖26之例中，作為用以測定平均間隔B之測定場所，係針對包含有較構成第1平行線圖案之線段31、32而更外側的5個場所B1~B5之情況來作了說明，但是，係並非絕對需要為5個場所，較理想，係為2以上之複數個場所。
構成為了求取出平均間隔A以及平均間隔B而在各測定場所處被作了測定的第2平行線圖案5之線段51、52間之間隔，係可如同下述一般而定義之。
圖27，係為對於被形成在基材上之平行線圖案的其中一例作展示之部分擴大平面圖。圖28，係為對於圖27中之(a)-(a)線剖面作說明的說明圖，並對於將在圖案中所包含的1組2根的細線而於相對於線段方向而相正交的方向上作了切斷的剖面(縱剖面)作說明。
構成第2平行線圖案5之線段51、52間之間隔I，係如同圖28中所示一般，可定義為線段51、52之各最大突出部間的距離。故而，藉由在上述之各測定場所處而測定間隔I，係能夠分別求取出平均間隔A以及平均間隔B。
為了滿足上述之式(1)所進行的調整，也可以說是對於會對平均間隔A和平均間隔B之比例B/A造成影響的因子之1個或複數個進行調整者。此種因子，係並未特別作限定，而可適宜作選擇。
作為用以滿足上述之式(1)的調整之理想形態，係可例示有下述之形態。
在第1形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係將第1平行線圖案3之形成區域內的表面能和第1平行線圖案3之形成區域外的表面能之間之差，設為5mN/m以下。
於此，第1平行線圖案3之形成區域內的表面能，可以視為在構成第1平行線圖案之線段31、32間的中心區域處所測定之表面能。或者是，作為替代方法，第1平行線圖案3之形成區域內的表面能，亦可視為另外準備與基材1相同之基材，並在該基材上，滴下20μL之與第1線狀液體2相同的液體，並且以與第1線狀液體2之乾燥時相同的條件來使其乾燥，之後，在乾燥後的膜之中心區域處所測定之表面能。
另一方面，第1平行線圖案3之形成區域外的表面能，可以視為在並未被賦予有用以形成第1平行線圖案3之第1線狀液體2的區域處之基材1之表面能。
表面能，係可根據Young-Fowkes式來算出。
藉由將該表面能之差設定為5mN/m以下，係能夠使在第1平行線圖案3之形成區域的內外之相對於第2線狀液體4的浸濕性之變化減少，而能夠適當地滿足上述之式(1)。
當第1平行線圖案3之形成區域內的表面能為較形成區域外而更大的情況時，若是表面能之差超過5mN/m，則起因於第2線狀液體4的浸濕擴散，在第2平行線圖案5處，會成為線段51、52之間的膨脹之原因。
另一方面，當第1平行線圖案3之形成區域內的表面能為較形成區域外而更小的情況時，若是表面能之差超過5mN/m，則在第2平行線圖案5處，會成為線段51、52之間的縮窄之原因。
對於第1平行線圖案3之形成區域的內外之表面能差作調整的手段，係並未特別作限定，但是，例如係以對於包含有第1平行線圖案3之形成區域外的區域進行表面處理之方法、對於第1線狀液體2的液體組成作變更之方法等為理想。
作為對於包含有第1平行線圖案3之形成區域外的區域進行表面處理之方法，係可列舉出在形成第1平行線圖案3之前而對於基材1預先施加使表面能作變更的表面處理之方法。表面處理，係可僅對於會成為第1平行線圖案3之形成區域外的區域而進行，亦可對於包含有形成區域外和形成區域內之區域來進行。若是對於基材1之全面進行表面處理，則亦為理想。
當對於第1線狀液體2之液體組成作變更的情況時，係可藉由調配成分(功能性材料、添加劑以及溶劑等)之選擇或各成分之調配量的調整等來進行。
在第2形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係將塗布第1線狀液體2中所包含的功能性材料並使其乾燥之平塗面的表面能和第1平行線圖案3之形成區域外的表面能之間之差，設為5mN/m以下。
所謂「平塗面」，係指於任意之基材上塗布 在第1線狀液體2中所包含之功能性材料並使其乾燥後的平塗膜之表面，並且為以使該基材自身之表面能以及接觸角不會對於該平塗膜之表面處的表面能以及接觸角造成影響的方式來將該基材作了被覆的平塗膜之表面。功能性材料之塗布，例如係可藉由塗布包含有該功能性材料之塗布液來進行之。作為在形成平塗面時之塗布液，係亦可使用與第1線狀液體2相同組成的液體。
在第1平行線圖案3之形成區域內的線段31、32之間的區域處，係會有起因於咖啡漬(Coffee Stain)現象而導致殘留有些許的並未被運送至線段31、32的位置處之第1線狀液體2中的某些之成分的情形。此種殘留成分，係會有成為造成構成第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔成為不均一的原因之情況。
此時，塗布第1線狀液體2中所包含的功能性材料並使其乾燥後之平塗面的表面能，係能夠成為用以實現為了滿足上述式(1)之更為確實的調整之指標。亦即是，就算是在線段31、32間之區域處存在有多量之殘留成分，其也難以發生超越由平塗面所致之影響而對於線段51、52間之間隔造成影響的情形。故而，藉由基於平塗面之表面能和第1平行線圖案3之形成區域外的表面能之間之差來進行調整，係能夠使確實性更進一步提昇。
當平塗面之表面能為較第1平行線圖案3之形成區域外而更大的情況時，若是表面能之差超過5mN/m，則起因於第2線狀液體4的浸濕擴散，在第2平 行線圖案5處，會成為線段51、52之間的膨脹之原因。
另一方面，當平塗面之表面能為較第1平行線圖案3之形成區域外而更小的情況時，若是表面能之差超過5mN/m，則在第2平行線圖案5處，會成為線段51、52之間的縮窄之原因。
作為對於平塗面之表面能和第1平行線圖案3之形成區域外的表面能差進行調整之手段，係並未特別作限定，而可合適使用關連於第1形態所作了說明的手段。
在第3形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係將在第1平行線圖案3之形成區域內的第2線狀液體4之接觸角和在第1平行線圖案3之形成區域外的第2線狀液體4之接觸角之間之差，設為10°以下。
於此，第1平行線圖案3之形成區域內的接觸角，可以視為在構成第1平行線圖案之線段31、32間的中心區域處所測定之接觸角。或者是，作為替代方法，第1平行線圖案3之形成區域內的接觸角，亦可視為另外準備與基材1相同之基材，並在該基材上，滴下20μL之與第1線狀液體2相同的液體，並且以與第1線狀液體2之乾燥時相同的條件來使其乾燥，之後，在乾燥後的膜之中心區域處所測定之接觸角。
另一方面，第1平行線圖案3之形成區域外的接觸角，可以視為在並未被賦予有用以形成第1平行線圖案3之第1線狀液體2的區域處之基材1上的接觸角。
接觸角之測定，係可使用協和界面化學公司 製之接觸角測定裝置DM-501來進行之。在第3形態中，接觸角，係設為在將與第2線狀液體4相同組成的液體滴下後而經過了5秒後之值。
藉由將該接觸角之差設為10°以下，係能夠使在第1平行線圖案3之形成區域的內外之相對於第2線狀液體4的浸濕性之變化減少，而能夠在第2平行線圖案5處，使線段51、52之間的間隔滿足上述之式(1)。
當第1平行線圖案之形成區域內的接觸角為較形成區域外之接觸角而更大的情況時，若是接觸角之差超過10°，則起因於第2線狀液體4的浸濕擴散，在第1平行線圖案3之形成區域內，第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔會變得較形成區域外而更大，並成為作了膨脹的形狀。
另一方面，當第1平行線圖案之形成區域內的接觸角為較形成區域外之接觸角而更小的情況時，若是接觸角之差超過10°，則在第1平行線圖案3之形成區域內，第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔會變得較形成區域外而更小，並成為作了縮窄的形狀。
對於接觸角之差進行調整之手段，係並未特別作限定，而可合適使用在第1形態中作為對於表面能進行調整之手段而作了說明的手段。進而，作為對於接觸角之差進行調整之手段，係亦可變更第2線狀液體4之液體組成。當對於第2線狀液體4之液體組成作變更的情況時，係可藉由調配成分(功能性材料、添加劑以及溶劑 等)之選擇或各成分之調配量的調整等來進行。使第2線狀液體4之液體與第1線狀液體2之液體互為相異一事，亦為理想。
在第4形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係將在塗布被包含於第1線狀液體2中之功能性材料並使其乾燥後的平塗面處之第2線狀液體4之接觸角和在第1平行線圖案3之形成區域外的第2線狀液體4之接觸角之間之差，設為10°以下。於此，關於「平塗面」，係援用在第2形態中所進行之說明。
藉由將該接觸角之差設為10°以下，係能夠使在第1平行線圖案3之形成區域的內外之相對於第2線狀液體4的浸濕性之變化減少，而能夠在第2平行線圖案5處，使線段51、52之間的間隔滿足上述之式(1)。
與在第2形態中針對表面能而於上所作了說明一般，藉由以平塗面處之接觸角作為指標來進行調整，係能夠使確實性更進一步提昇。
當在平塗面處之接觸角為較第1平行線圖案3之形成區域外之接觸角而更大的情況時，若是接觸角之差超過10°，則起因於第2線狀液體4的浸濕擴散，在第1平行線圖案3之形成區域內，第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔會變得較形成區域外而更大，並成為作了膨脹的形狀。
另一方面，當在平塗面處之接觸角為較第1平行線圖案3之形成區域外之接觸角而更小的情況時，若 是接觸角之差超過10°，則在第1平行線圖案3之形成區域內，第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔會變得較形成區域外而更小，並成為作了縮窄的形狀。
作為對於在平塗面處之接觸角和第1平行線圖案3之形成區域外處的接觸角之差進行調整之手段，係並未特別作限定，而可合適使用關連於第3形態所作了說明的手段。
在第5形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係將在第1平行線圖案3之形成區域外的第2線狀液體4中之溶劑中的沸點為最高之溶劑的接觸角，設為6°以下。
於此，第1平行線圖案3之形成區域外的接觸角，可以視為在並未被賦予有用以形成第1平行線圖案3之第1線狀液體2的區域處之基材1上的接觸角。
接觸角之測定，係可使用協和界面化學公司製之接觸角測定裝置DM-501來進行之。在第5形態中，接觸角，係設為在將第2線狀液體4中之溶劑中的沸點為最高之溶劑滴下後而經過了5秒後之值。
藉由將該接觸角設為6°以下，係能夠使在第1平行線圖案3之形成區域的內外之相對於第2線狀液體4的浸濕性之變化減少，而能夠在第2平行線圖案5處，使線段51、52之間的間隔滿足上述之式(1)。
對於接觸角進行調整之手段，係並未特別作限定，而可合適使用在第1形態中作為對於表面能進行調 整之手段而作了說明的手段。
在第6形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係將在第1平行線圖案3之形成區域內的第2線狀液體4之每單位長度的液體賦予量，和在第1平行線圖案3之形成區域外的第2線狀液體4之每單位長度的液體賦予量，設為互為相異。
例如，當相較於第1平行線圖案3之形成區域外而在形成區域內之第2線狀液體4之浸濕性為更佳的情況時，係將在形成區域內的第2線狀液體4之每單位長度的液體賦予量，相對於形成區域外而相對性地減少。
又，例如，當相較於第1平行線圖案3之形成區域內而在形成區域外之第2線狀液體4之浸濕性為更佳的情況時，係將在形成區域內的第2線狀液體4之每單位長度的液體賦予量，相對於形成區域外而相對性地增多。
如此這般，係能夠防止在第1平行線圖案3之形成區域內而第2平行線圖案5之線段51、52間的間隔成為較形成區域外而更為膨脹或縮窄的情形。
在第1平行線圖案3之形成區域內外處的液體賦予量之差，係能夠以會滿足式(1)的方式來適宜作調整。例如，當在第2線狀液體4之形成中使用噴墨法的情況時，係可藉由使第2線狀液體4之每單位長度中所吐出的液滴數量或者是每一滴的液滴容量在第1平行線圖案3之形成區域內外而互為相異，來設定液體賦予量之差。
在第7形態中，作為用以滿足上述式(1)之調整，係在形成了第1平行線圖案3之後，於賦予第2線狀液體4之前，將包含第1平行線圖案3之形成區域內的區域作洗淨。
如同上述一般，在第1平行線圖案3之形成區域內的線段31、32之間的區域處，係會有起因於咖啡漬(Coffee Stain)現象而導致殘留有些許的並未被運送至線段31、32的位置處之第1線狀液體2中的某些之成分的情形。此種殘留成分，係會有成為造成構成第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔成為不均一的原因之情況。
所謂洗淨，係亦可代表將此種殘留成分除去一事。此時，依據洗淨條件、例如依據洗淨之種類或強度之設定等，會對於使殘留成分被作何種程度的除去一事產生影響。利用此關係，係能夠將在第1平行線圖案3之形成區域的內外處之第2線狀液體4的浸濕性之差異消除。在某一觀點上，洗淨，係可構成為至少以能夠達成使構成第2平行線圖案5之線段51、52之間的間隔會滿足上述之式(1)一事的方式來將殘留成分除去。在此種意義上，洗淨，係可定義為用以滿足上述之式(1)的調整之其中一例。
洗淨，係可僅對於第1平行線圖案之形成區域內而進行，亦可對於包含有第1平行線圖案之形成區域內和形成區域外之區域來進行。若是對於基材1之全面進 行洗淨，則亦為理想。
當僅對於第1平行線圖案之形成區域內而進行洗淨的情況時，例如，係成為能夠在將形成區域外作了遮蔽的狀態下來進行電磁波等之照射，或者是利用噴墨法來將洗淨溶劑選擇性地賦予至形成區域內。
洗淨之方法，係並未特別作限定，例如係可使用通常在工業製品中所被使用的洗淨方法。例如，較理想，係進行從由加熱所致之洗淨、由電磁波所致之洗淨、由溶劑所致之洗淨、由氣體所致之洗淨以及由電漿所致之洗淨中所選擇的1種或2種以上之組合的洗淨。
作為由加熱所致之洗淨方法，係存在有由紅外線加熱器、烤箱、熱板等所致的持續性之加熱方法、或者是由氙氣閃光燈等所致之瞬間性的加熱方法。加熱條件(溫度、時間等)，係在會使構成平行線圖案5之線段51、52之間的間隔滿足上述之式(1)之範圍內而適宜作設定。當基材1為薄膜等的情況時，係以設定在不會使基材1變形的條件之範圍內為理想。在此觀點下，係以瞬間性進行加熱、特別是以由對於如同薄膜一般之基材的損傷為少之氙氣閃光燈所致的方法為理想。
作為由電磁波所致者，係可使用照射電子線、伽瑪線、紫外線等之方法。電磁波之照射條件，係在會使構成平行線圖案5之線段51、52之間的間隔滿足上述之式(1)之範圍內而適宜作設定。
在由溶劑所致之洗淨中所使用的溶劑，只要 是能夠滿足上述之式(1)的溶劑，則並不特別作限定，但是，較理想，係選擇對於堆積功能性材料所形成的平行線圖案所造成之影響為少者。係可配合於功能性材料之種類來選擇適於進行洗淨之溶劑。例如，當水分散系之銀奈米粒子的情況時，乙醇系之溶劑等係為合適。
由電漿所致之洗淨的條件，係可在會使構成平行線圖案5之線段51、52之間的間隔滿足上述之式(1)之範圍內而適宜作設定。
接著，針對從液滴吐出裝置所吐出之包含功能性材料之液體作詳細說明。
從液滴吐出裝置所吐出之包含功能性材料之液體，較理想，功能性材料之含有率，係為0.01重量%以上1重量%以下之範圍。上述「從液滴吐出裝置所吐出之包含功能性材料之液體」，係亦可說是剛被賦予至基材上的乾燥之前之含有功能性材料之液體。藉由使功能性材料之含有率成為0.01重量%以上1重量%以下之範圍，係可得到能夠使平行線圖案之形成更加安定化的效果。
在液體中所含有之功能性材料，只要是用以對於基材賦予特定之功能的材料，則係並不特別作限定。所謂賦予特定之功能，例如，當對於基材賦予導電性的情況時，係指將導電性材料作為功能性材料來使用，又，當賦予絕緣性的情況時，係指將絕緣性材料作為功能性材料來使用。作為功能性材料，例如係可理想例示有導電性微粒子、導電性聚合物等之導電性材料，絕緣性材料，半導 體材料，光學濾波材料，介電質材料等。特別是，較理想，功能性材料係為導電性材料或導電性材料前驅物。導電性材料前驅物，係指能夠藉由施加適宜之處理而改變為導電性材料者。
亦即是，本發明之圖案形成方法，當形成藉由包含導電性材料之細線(線段)所構成的圖案時，係特別適合使用。
作為導電性材料，例如係可理想例示有導電性微粒子、導電性聚合物等。
作為導電性微粒子，雖並未特別限定，但是，係可理想例示有Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Cr、Rh、Pd、Zn、Co、Mo、Ru、W、Os、Ir、Fe、Mn、Ge、Sn、Ga、In等之微粒子，其中，若是使用Au、Ag、Cu一般之金屬微粒子，則由於係能夠形成電阻為低並且耐腐蝕性為強之電路圖案，因此係為更加理想。從成本以及安定性的觀點來看，係以包含Ag之金屬微粒子為最理想。此些之金屬微粒子的平均粒徑，較理想係設為1~100nm之範圍，更理想係設為3~50nm之範圍。
又，作為導電性微粒子，若是使用碳微粒子，則亦為理想。作為碳微粒子，係可理想例示有石墨微粒子、碳奈米管、富勒烯等。
作為導電性聚合物，係並未特別限定，但是，係可理想例示有π共軛系導電性高分子。
作為π共軛系導電性高分子，係並未特別作 限定，而可利用聚噻吩類，聚吡咯類，聚吲哚類，聚咔唑類，聚苯胺類，聚乙炔類，聚呋喃類，聚對苯(polyparaphenylene)類，聚對苯乙炔類，聚對苯硫醚類，聚薁類，聚異硫茚類，聚氮化硫類等之鏈狀導電性聚合物。其中，從能夠得到高導電性之觀點來看，係以聚噻吩類或聚苯胺類為理想。又以聚伸乙基二氧噻吩為最理想。
在本發明中所使用之導電性聚合物，更理想，係包含上述之π共軛系導電性高分子和聚陰離子所成。此種導電聚合物，係能夠藉由將形成π共軛系導電性高分子之前驅物單體在適當之氧化劑和氧化觸媒以及聚陰離子的存在下進行化學氧化聚合一事，而容易地製造之。
聚陰離子，係身為置換或未置換之聚亞烷基、置換或未置換之聚亞烯基、置換或未置換之聚醯亞胺、置換或未置換之聚醯胺、置換或未置換之聚酯以及此些之共聚物，並為由具有陰離子基之構成單位和不具有陰離子基之構成單位所成者。
此聚陰離子，係為將π共軛系導電性高分子在溶媒中作了可溶化的可溶化高分子。又，聚陰離子之陰離子基，係作為對於π共軛系導電性高分子之摻雜物而起作用，並提升π共軛系導電性高分子之導電性和耐熱性。
作為聚陰離子之陰離子基，只要是能夠引發對於π共軛系導電性高分子之化學氧化摻雜的官能基即可，但是，其中，從製造之容易性以及安定性之觀點來 看，係以-置換硫酸酯基、-置換磷酸酯基、磷酸基、羧基、磺基等為理想。進而，根據官能基之對於π共軛系導電性高分子之摻雜效果的觀點，又以磺基、-置換硫酸酯基、羧基為更理想。
作為聚陰離子之具體例，係可列舉出聚乙烯基磺酸，聚苯乙烯磺酸，聚芳基磺酸，聚丙烯酸乙基磺酸，聚丙烯酸丁基磺酸，聚-2-丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸，聚異戊二烯磺酸，聚乙烯基羧酸，聚苯乙烯羧酸，聚芳基羧酸，聚丙烯基羧酸，聚甲基丙烯基羧酸，聚-2-丙烯醯胺基-2-甲基丙磺酸，聚異戊二烯羧酸，聚丙烯酸等。係可為此些之單獨聚合物，亦可為2種以上之共聚物。
又，係亦可為在化合物內具備有F(氟原子)之聚陰離子。具體而言，係可列舉出含有全氟磺酸基之NAFION(Dupont公司製)、由含有羧酸基之全氟型乙烯醚所成之FLEMION(旭硝子公司製)等。
此些之中，若是身為具有磺酸之化合物，則在使用噴墨印刷方式時，墨水射出安定性係為特別良好，並且能夠得到高導電性，因此係為更理想。
進而，於此些之中，又以聚苯乙烯磺酸、聚異戊二烯磺酸、聚丙烯酸乙基磺酸、聚丙烯酸丁基磺酸為理想。此些之聚陰離子，係發揮有導電性為優良之效果。
聚陰離子之聚合度，係以單體單位為10~100000個的範圍為理想，從溶媒溶解性以及導電性之觀點來看，係以50~10000個的範圍為更理想。
導電性聚合物，係亦可理想利用市面販賣之材料。例如，由聚(3,4-二氧乙烯噻吩)和聚苯乙烯磺酸所成之導電性聚合物(略稱為PEDOT/PSS)，係由H.C.Starck公司作為CLEVIOS系列而在市面上販賣，並由Aldrich公司作為PEDOT-PASS483095、560598而在市面上販賣，且由Nagase Chemtex公司作為Denatron系列而在市面上販賣。又，聚陰離子，係由日產化學公司作為ORMECON系列而在市面上販賣。
作為含有功能性材料之液體，係可將水和有機溶劑等之1種或2種以上作組合來使用。
有機溶劑，雖並未特別限定，但是，例如係可例示有：1,2-己二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、丙二醇等之醇類；二乙二醇一甲基醚、二乙二醇一乙基醚、二乙二醇一丁基醚、三乙二醇一甲基醚、二丙二醇一甲基醚、二丙二醇一乙基醚等之醚類等。
又，作為含有功能性材料之液體，在不會損及本發明之效果的範圍內，係亦可包含有界面活性劑等之各種的添加劑。
藉由使用界面活性劑，例如，在想要使用液滴吐出裝置來形成線狀液體2的情況等時，係成為能夠對於表面張力等作調整而謀求吐出之安定化等。作為界面活性劑，係並未特別限定，但是，係可使用矽系界面活性劑等。所謂矽系界面活性劑，係為使聚二甲基系氧烷酸之側鍵或末端作了聚醚變性者，例如，在市面上，係販賣有信 越化學工業製之KF-351A、KF-642或BYK公司製之BYK347、BYK348等。界面活性劑之添加量，較理想，係相對於形成線狀液體2之液體的全量而為1重量%以下。
基材，係並未特別作限定，但是，例如係可列舉出玻璃、塑膠(聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯，聚乙烯，聚丙烯，丙烯酸樹脂，聚酯，聚醯胺等)、金屬(銅、鎳、鋁、鐵等，或者是合金)、陶瓷等，此些係可作單獨使用，或者是亦可在作了貼合的狀態下使用。其中，係以塑膠為理想，又以聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚丙烯一般之聚烯烴等為合適。
圖29，係為對於被形成在基材上之平行線圖案的其中一例作展示之部分欠缺立體圖，剖面，係對應於在相對於平行線圖案之形成方向而相正交的方向上來作了切斷之縱剖面。
由1根的線狀液體所產生之平行線圖案3之1組2根的細線(線段)31、32，係並非絕對需要身為相互完全獨立之島狀。如同圖示一般，2根的線段31、32，若是作為涵蓋該線段31、32間而藉由以較該線段31、32之高度而更低的高度所形成的薄膜部30而作了連接的連續體來形成，則亦為理想。
平行線圖案3之線段31、32的線寬幅W1、W2，較理想係各自為10μm以下。若是成為10μm以下，則由於係成為通常無法被視覺辨認出來的程度，因此從使 透明性提昇的觀點而言係為更加理想。若是亦對於各線段31、32之安定性作考慮，則各線段31、32的線寬幅W1、W2，較理想係各自為2μm以上10μm以下之範圍內。
另外，所謂線段31、32之寬幅W1、W2，當將在該線段31、32之間而功能性材料之厚度成為最薄的最薄部分之高度設為Z，並進而將從該Z起之線段31、32的突出高度設為Y1、Y2時，係定義為在Y1、Y2之一半的高度處之線段31、32的寬幅。例如，當平行線圖案3為具備有上述之薄膜部30的情況時，係可將在該薄膜部30處之最薄部分的高度設為Z。另外，當在各線段31、32之間而功能性材料之最薄部分之高度為0時，線段31、32之線寬幅W1、W2，係定義為在從基材1表面起之線段31、32的高度H1、H2之一半的高度處之線段31、32的寬幅。
構成平行線圖案3之線段31、32的線寬幅W1、W2，由於係如同上述一般而為極細，因此，從確保剖面積並謀求低電阻化的觀點來看，從基材1表面起之線段31、32的高度H1、H2係以設為較高為理想。具體而言，線段31、32之高度H1、H2，較理想係為50nm以上5μm以下之範圍內。
進而，從使平行線圖案3之安定性提昇的觀點來看，較理想，H1/W1比、H2/W2比係各別為0.01以上1以下的範圍內。
又，從使平行線圖案3之細線化作更進一步之提昇的觀點來看，在線段31、32間之功能性材料的厚度會成為最薄之最薄部分的高度Z、具體而言，薄膜部30之最薄部分的高度Z，係以成為10nm以下之範圍內為理想。最理想，為了謀求透明性和安定性之兩者的良好之平衡性，係以0<Z≦10nm的範圍而具備有薄膜部30。
進而，為了達成平行線圖案3之更進一步的細線化，H1/Z比、H2/Z比係以各別為5以上為理想，又以各別為10以上為更理想，又以各別為20以上為特別理想。
線段31、32之配置間隔I的範圍，係並未特別作限定。如同參考圖17~圖19而作了說明一般，在形成線狀液體時，藉由將對相對於液滴吐出裝置之噴嘴列而被平行地作配置的像素組而從複數之噴嘴所賦予之液滴組，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數組之賦予，並使複數組之前述液滴組合併為一，而形成在與噴嘴列相交叉之方向上而延伸的線狀液體，係能夠以高自由度來對於配置間隔I作適宜的設定，特別就算是當將配置間隔I增大的情況時，亦能夠適當地防止膨出。具體而言，就算是在將配置間隔I例如設定為50μm以上、100μm以上、200μm以上、300μm以上、400μm以上乃至於500μm以上之大的值的情況時，亦能夠合適地防止膨出，而能夠使線段31、32之形成安定化。在對於膨出作了合適的防止的狀態下，係能夠將配置間隔I因應於用途而適宜地設定為最 適當之值。在形成透明導電膜等的情況等時，配置間隔I，例如係以設為10μm以上~1000μm以下之範圍為理想，又以設為10μm以上~500μm以下之範圍為更理想。進而，配置間隔I，若是調整為10μm以上300μm以下之範圍，則亦為理想。
另外，線段31、32間之配置間隔I，係設為線段31、32之各最大突出部間的距離。
又，更進而，係以對於線段31和線段32賦予同樣的形狀(同等程度之剖面積)為理想，具體而言，較理想，係將線段31和線段32之高度H1和H2設為實質性為相等之值。與此相同的，針對線段31和線段32之線寬幅W1和W2，亦以設為實質性為相等之值為理想。
線段31、32，係並非絕對需要為平行，只要至少涵蓋線段方向之某一長度L而線段31、32不會相互結合即可。較理想，至少涵蓋線段方向之某一長度L，線段31、32係實質性為相互平行。
線段31、32之線段方向的長度L，較理想，係成為線段31、32之配置間隔I的5倍以上，更理想，係成為10倍以上。長度L以及配置間隔I，係可對應於用以形成圖案(線狀液體)2的形成長度以及形成寬幅來設定之。
在線狀液體之形成起點和終點(涵蓋線段方向之某一長度L的起點和終點)處，線段31、32係亦可相互連接並作為連續體而被形成。
又，線段31、32，較理想，其之線寬幅W1、W2係為略相等，並且線寬幅W1、W2係相較於2根線之間的距離(配置間隔I)而為充分細。
進而，由1根的線狀液體所產生的構成圖案3之線段31和線段32，較理想，係為同時被形成者。
平行線圖案3，特別理想，各線段31、32係滿足下述(A)~(C)的所有之條件。藉由此，圖案係成為難以被視覺辨認到，而能夠使透明性提昇，並且，線段係被安定化，特別是當功能性材料乃身為導電性材料的情況時，係有著能夠使圖案之電阻值降低的優良效果。
(A)當將各線段31、32之高度設為H1、H2，並將在該各線段間之最薄部分的高度設為Z時，係成為5≦H1/Z，並且為5≦H2/Z。
(B)當將各線段31、32之寬幅設為W1、W2時，係成為W1≦10μm且W2≦10μm。
(C)當將各線段31、32之高度設為H1、H2時，係成為50nm<H1<5μm並且50nm<H2<5μm。
以上之針對平行線圖案3所作的說明，係亦可援用於平行線圖案5。
在以上之說明中，針對相對於對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D之線狀液體的形成方向之傾斜角度θ，主要係針對45°的情況以及-45°的情況來作了展示，但是本發明係並不被限定於此。線狀液體的形成方向，只要並非為與相對移動方向D相平行之方向，並且並 非為與相對移動方向D相正交的方向，則係可設定為任意之傾斜角度。
在以上之說明中，作為最終所形成的圖案，主要係針對形成由平行線圖案所成之網格狀之圖案例子來作了說明，但是，係並不被限定於此。若依據本發明，則藉由沿著相對於對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D而有所傾斜的方向來形成線狀液體，在形成包含平行線圖案之各種之圖案時的圖案化之自由度係提昇。故而，在形成各種的圖案時，係能夠進行自由的圖案化，並能夠謀求波紋之防止和面取效率的提升。進而，係能夠減輕對於噴墨頭和基材之配置角度進行再設定的負擔，而能夠使生產性提昇。
附透明導電膜基材，係於基材表面上，具備有包含藉由以上所說明之圖案形成方法所形成的圖案之透明導電膜。透明導電膜，就算是當所含有之功能性材料(導電性材料)自身並非為透明的情況時，藉由使線狀液體變化為平行線圖案並作細線化，亦能夠使圖案成為難以被視覺辨認到者。
附透明導電膜基材之用途，係並未特別限定，但是，係可作為各種之電子機器所具備的各種之裝置來使用。
本發明之附透明導電膜基材之理想用途，在能夠顯著地發揮本發明之效果的觀點來看，例如，係可作為液晶、電漿、有機電場發光、場發射等之各種方式的顯 示器用透明電極，或者是作為被使用在觸控面板或行動電話、電子紙、各種太陽電池、各種電場發光調光元件等之中之透明電極，來合適地使用。
更具體而言，本發明之附透明導電膜基材，係作為裝置之透明電極而合適地使用。作為裝置，雖並未特別作限定，但是，例如係可合適例示有觸控面板等。又，作為具備有此些裝置之電子機器，雖並未特別作限定，但是，例如係可合適例示有智慧型手機、平板終端等。
在以上之說明中，針對1個形態所說明的構成，係可適宜適用在其他之形態中。
〔實施例〕
以下，針對本發明之實施例作說明，但是，本發明係並不被限定於此些之實施例。
1.圖案形成方法 (實施例1) 〈基材〉
作為基材，係準備了以使包含功能性材料之液體的接觸角會成為20.3°的方式而施加了表面處理之PET基材。作為表面處理，係使用信光電氣計裝公司製之「PS-1M」來進行了電暈放電處理。
<液滴吐出裝置>
作為液滴吐出裝置，係準備了KONICA MINOLTA公司製之「KM1024iLHE-30」(標準液滴容量30pL)之噴墨頭。
〈墨水之組成〉
作為墨水(包含功能性材料之液體)，係調配了以下之組成者。
‧銀奈米粒子(平均粒徑：20nm)：0.16wt%
‧界面活性劑(BYK公司製「BYK-348」)：0.05wt%
‧二乙二醇一丁基醚(略稱：DEGBE)(分散媒)：20wt%
‧水(分散媒)：殘量
〈圖案之形成〉
一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置之複數之噴嘴來吐出墨水，並沿著相對於相對移動方向D而作了45°的傾斜之X軸方向，來形成了線狀液體。此時，相對移動方向D，係為沿著基材之寬幅方向的方向。
藉由使沿著X軸方向之線狀液體蒸發並乾燥，來在該線狀液體之緣部選擇性地堆積功能性材料，而 形成了沿著X軸方向之平行線圖案。於此，係藉由對於配置在被加熱至70℃之平台上的基材進行圖案形成，來促進線狀液體之乾燥。
接著，一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置之複數之噴嘴來吐出墨水，並沿著相對於相對移動方向D而作了-45°的傾斜之Y軸方向，來形成了線狀液體。於此，Y軸方向，係為與上述之X軸方向相正交之方向。
藉由使沿著Y軸方向之線狀液體蒸發並乾燥，來在該線狀液體之緣部選擇性地堆積功能性材料，而形成了沿著Y軸方向之平行線圖案。於此，係藉由對於配置在被加熱至70℃之平台上的基材進行圖案形成，來促進線狀液體之乾燥。
在上述圖案形成中，在賦予沿著X軸方向之線狀液體時、和賦予沿著Y軸方向之線狀液體時，係並未使相對於基材之液滴吐出裝置的相對性之配置角度作變更。亦即是，在賦予沿著X軸方向之線狀液體時、和賦予沿著Y軸方向之線狀液體時，相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D係為相同，而為沿著基材之寬幅方向的方向。
如同上述一般，而形成了使沿著X軸方向之平行線圖案和沿著Y軸方向之平行線圖案相互交叉之網格狀之圖案。
在以上之圖案形成中，在分別形成沿著X軸 方向之線狀液體以及沿著Y軸方向之線狀液體時的由液滴吐出裝置所致之墨水吐出，係如同下述一般來作控制。
〈墨水吐出控制〉
‧每一液滴之單位液滴容量Vd=30[pL]
‧階度N=8[dpd]
‧用以形成1個的線狀液體而從1個的噴嘴所吐出之總液滴容量V(=Vd[pL]×N[dpd])=240[pL]
‧噴嘴列解析度R=360[npi]
‧積V‧R=8.64×104[pL‧npi]
‧為了形成1個的線狀液體而從相互鄰接之噴嘴所各別吐出之包含功能性材料之液體的最大吐出時間差Δtmax=81.0[ms]
‧藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp=797.6[μm]
‧最終所賦予的線狀液體之賦予間隔M=398.8[μm]
‧總通過數
將形成沿著X軸方向之線狀液體時的通過數設為2次，並將形成沿著Y軸方向之線狀液體時的通過數設為2次
身為此些之通過數的合計之總通過數，係為4次。對於藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp和最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M作考慮，而設定通過數。
(實施例2)
在實施例1中，作為基材，係使用了以使包含功能性材料之液體的接觸角會成為8.7°的方式而施加了表面處理之PET基材，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。表面處理，係為與實施例1相同之使用信光電氣計裝公司製之「PS-1M」所進行的電暈放電處理，但是，係以會成為上述接觸角的方式來對於處理強度作了調整。
(實施例3)
在實施例1中，作為基材，係使用了以使包含功能性材料之液體的接觸角會成為10.4°的方式而施加了表面處理之PET基材，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。表面處理，係為與實施例1相同之使用信光電氣計裝公司製之「PS-1M」所進行的電暈放電處理，但是，係以會成為上述接觸角的方式來對於處理強度作了調整。
(實施例4)
在實施例1中，作為基材，係使用了以使包含功能性材料之液體的接觸角會成為29.7°的方式而施加了表面處理之PET基材，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。表面處理，係為與實施例1相同之使用信光電氣計裝公司製之「PS-1M」所進行的電暈放電處理，但是，係以會成為上述接觸角的方式來對於處理強度作了調整。
(實施例5)
在實施例1中，作為基材，係使用了以使包含功能性材料之液體的接觸角會成為32.3°的方式而施加了表面處理之PET基材，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。表面處理，係為與實施例1相同之使用信光電氣計裝公司製之「PS-1M」所進行的電暈放電處理，但是，係以會成為上述接觸角的方式來對於處理強度作了調整。
(實施例6)
在實施例1中，將階度N變更為3[dpd〉，並將積V‧R設為3.24×104[pL‧npi]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.42wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
除了以上之點以外，與實施例1相同的而形成了圖案。
(實施例7)
在實施例1中，將階度N變更為4[dpd〉，並將積V‧R設為4.32×104[pL‧npi]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.32wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
除了以上之點以外，與實施例1相同的而形成了圖案。
(實施例8)
在實施例1中，將階度N變更為12[dpd〉，並將積V‧R設為1.30×105[pL‧npi]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.11wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
除了以上之點以外，與實施例1相同的而形成了圖案。
(實施例9)
在實施例1中，將階度N變更為16[dpd〉，並將積V‧R設為1.73×105[pL‧npi]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.08wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
除了以上之點以外，與實施例1相同的而形成了圖案。
(實施例10)
在實施例1中，變更噴墨頭之移動速度，而將最大吐出時間差Δtmax設為101.3[ms]，除此之外，係與實施例1 相同的而形成了圖案。
(實施例11)
在實施例1中，變更噴墨頭之移動速度，而將最大吐出時間差Δtmax設為192.4[ms]，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。
(實施例12)
在實施例1中，變更噴墨頭之移動速度，而將最大吐出時間差Δtmax設為222.8[ms]，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。
(實施例13)
在實施例1中，將藉由1次的通過所賦予之線狀液體的賦予間隔Mp設為398.8[ms]，並將總通過數設為2次，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。
於此，係藉由將形成沿著X軸方向之線狀液體時的通過數設為1次，並將形成沿著Y軸方向之線狀液體時的通過數亦設為1次，而將總通過數設為2次。
(實施例14)
在實施例1中，將藉由1次的通過所賦予之線狀液體的賦予間隔Mp設為1196.4[ms]，並將總通過數設為6次，除此之外，係與實施例1相同的而形成了圖案。
於此，係藉由將形成沿著X軸方向之線狀液體時的通過數設為3次，並將形成沿著Y軸方向之線狀液體時的通過數亦設為3次，而將總通過數設為6次。
(實施例15)
在實施例1中，將階度N變更為32[dpd〉，並將積V‧R設為3.45×105[pL‧npi]。又，伴隨著2根線之線寬幅的擴大，將藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp變更為1595.2[μm]，並將最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M變更為797.6[μm]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.04wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
(實施例16)
在實施例1中，將階度N變更為48[dpd〉，並將積V‧R設為5.18×105[pL‧npi]。又，伴隨著2根線之線寬幅的擴大，將藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp變更為1595.2[μm]，並將最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M變更為797.6[μm]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.027wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
(實施例17)
在實施例1中，將階度N變更為54[dpd〉，並將積V‧R設為5.83×105[pL‧npi]。又，伴隨著2根線之線寬幅的擴大，將藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp變更為1595.2[μm]，並將最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M變更為797.6[μm]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.024wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
(實施例18)
在實施例1中，於形成線狀液體時，如同參考圖17~圖19所說明一般，將對相對於液滴吐出裝置之噴嘴列而被平行地作配置的像素組而從複數之噴嘴所賦予之液滴組，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數組之賦予，並使複數組之前述液滴組合併為一，而形成在與噴嘴列相交叉之方向上而延伸的線狀液體。具體而言，係將構成噴嘴列方向之像素組的像素數(鄰接像素數)設為2。又，階度N係設定為4[dpd]。積V‧R係設為8.64×104[pL‧npi]。
(實施例19)
在實施例18中，將構成噴嘴列方向之像素組的像素 數設為8。又，階度N係設定為6[dpd]。積V‧R係設為5.18×105[pL‧npi]。又，伴隨著2根線之線寬幅的擴大，將藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp變更為1595.2[μm]，並將最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M變更為797.6[μm]。
進而，係將墨水中之銀奈米粒子的濃度調節為0.027wt%。藉由此，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例18相近之值。
(比較例1)
在比較例1中所使用之基材、液滴吐出裝置以及墨水之組成，係與實施例1相同。
在比較例1中，係如同下述一般，而進行了圖案形成。
〈圖案之形成〉
一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置之噴嘴來連續性地吐出墨水，並沿著身為與相對移動方向D相同之方向的X軸方向，來形成了線狀液體。此時，相對移動方向D，係為沿著基材之寬幅方向的方向。
藉由使沿著X軸方向之線狀液體蒸發並乾燥，來在該線狀液體之緣部選擇性地堆積功能性材料，而 形成了沿著X軸方向之平行線圖案。於此，係藉由對於配置在被加熱至70℃之平台上的基材進行圖案形成，來促進線狀液體之乾燥。
接著，使基材相對於液滴吐出裝置而作90°之旋轉，並使相對於基材之液滴吐出裝置的相對性之配置角度作了變更。亦即是，係使相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向作了變更。故而，變更後之液滴吐出裝置之相對移動方向D，係對應於相對於之前所形成的平行線圖案之形成方向、亦即是相對於X軸方向而相正交之方向，亦即是對應於Y軸方向。將配置作了變更後的相對移動方向D，係為沿著基材之長邊方向的方向。
在如同上述一般地而將配置作了變更之後，一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置之噴嘴來吐出墨水，並沿著身為與相對移動方向D相同之方向的Y軸方向，來形成了線狀液體。
藉由使沿著Y軸方向之線狀液體蒸發並乾燥，來在該線狀液體之緣部選擇性地堆積功能性材料，而形成了沿著Y軸方向之平行線圖案。於此，係藉由對於配置在被加熱至70℃之平台上的基材進行圖案形成，來促進線狀液體之乾燥。
如同上述一般，而形成了使沿著X軸方向之平行線圖案和沿著Y軸方向之平行線圖案相互交叉之網格狀之圖案。
在以上之圖案形成中，在分別形成沿著X軸 方向之線狀液體以及沿著Y軸方向之線狀液體時的由液滴吐出裝置所致之墨水吐出，係如同下述一般來作控制。
〈墨水吐出控制〉
‧每一液滴之單位液滴容量Vd=30[pL]
‧階度N=8[dpd]
‧藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp=797.6[μm]
‧最終所賦予的線狀液體之賦予間隔M=398.8[μm]
‧總通過數
將形成沿著X軸方向之線狀液體時的通過數設為2次，並將形成沿著Y軸方向之線狀液體時的通過數設為2次
身為此些之通過數的合計之總通過數，係為4次。
2.評價方法
針對藉由各實施例以及比較例所形成的圖案，而針對圖案性質以及物性值作了評價。
(1)圖案性質
作為圖案性質，係針對以下之項目(膨出防止性、2根線之線寬幅以及細線寬幅)作了評價。
‧膨出防止性
在表1~5中所示之2根線之性質，係為藉由光學顯微鏡觀察來針對1組2根的細線而於細線形成方向上涵蓋50mm地作觀察，並基於下述評價基準來對於膨出防止性作了評價。
〈評價基準〉
A：並未發生膨出
B：發生了膨出(3處以下)
C：發生了膨出(4處以上)
‧2根線之線寬幅
2根線之線寬幅(μm)，係為藉由光學顯微鏡觀察來對於1組2根的細線間之間隔作了測定者。測定值，係相當於上述之間隔I。
‧細線寬幅
細線寬幅(μm)，係為藉由光學顯微鏡觀察來對於1組2根的細線之寬幅作了測定者。測定值，係相當於上述之寬幅W1、W2。另外，由於2根的細線之寬幅實質上係為相同，因此，係以其中一方之細線的測定值作為細線寬幅(μm)。
(2)物性值
作為物性值，係針對以下之項目(透射率、薄片電阻 以及端子電阻)作了評價。
‧透射率(全光線透射率)
透射率(全光線透射率)(%T)，係為使用東京電色公司製之AUTOMATICHAZEMETER(MODEL TC-HIIIDP)所測定出的全光線透射率。另外，係使用並不存在有圖案之基材來進行修正，而作為所作成的圖案之全光線透射率來作了測定。
‧薄片電阻
薄片電阻(Ω/□)，係使用DIA INSTRUMENTS公司製之Loresta-EP(MODEL MCP-T360型)串聯4探針式探針(ESP)，而對於薄片電阻值作了測定。
在進行上述測定之前，藉由在熱板上將基材加熱120℃，1個鐘頭，而對於圖案施加了加熱燒成處理。
‧端子電阻
端子電阻(Ω)，係為在100mm×5mm之短籤狀的區域中形成圖案，並對於端子間(亦即是，短籤狀區域之長邊方向的兩端間)之電阻值作了測定之值。
在進行上述測定之前，藉由在熱板上將基材加熱120℃，1個鐘頭，而對於圖案施加了加熱燒成處理。
3.評價 (1)接觸角之影響
於表1中對於實施例1~5之結果作展示。實施例1~5，係為使包含功能性材料之液體的接觸角有所相異者。
根據表1，可以得知，接觸角，若是身為10[°]以上30[°]以下之範圍，則係可得到能夠使所形成之平行線圖案的透明性更進一步提昇之效果。
又，係得知了：若是接觸角係為10[°]以上30[°]以下之範圍，則線狀液體係成為更容易被直線性地形成，而能夠適當地防止膨出(bulge)的發生。其結果，係得知了：構成所形成之平行線圖案的線段，係成為更加容易被直線性地形成，而亦能夠適當地防止斷線之發生等。因此，係得知了：當作為功能性材料而使用導電性材料的情況時，係可得到下述之效果：亦即是，係能夠對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善。
(2)積V‧R之影響
於表2中對於實施例1、6~9以及15~17之結果作展示。實施例1、6~9以及15~17，係為使用以形成1個的線狀液體而從1個的噴嘴所賦予之總液滴容量V和噴嘴列解析度R之積V‧R有所相異者。具體而言，係藉由階度N之調整，而使積V‧R作改變。另外，係藉由墨水中之銀奈米粒子的濃度之調整，來將對於線狀液體之每單位長度所賦予的銀奈米粒子之賦予量，設為與實施例1相近之值。
根據表2，可以得知：積V‧R〔pL‧npi〕，若是成為4.32×104〔pL‧npi〕以上5.18×105〔pL‧npi〕以下的範圍，則線狀液體係成為更加容易被直線性地形成，而能夠適當地防止膨出。其結果，係得知了：構成所形成之平行線圖案的線段，係成為更加容易被直線性地形成，而亦能夠適當地防止斷線之發生等。因此，係得知了：當作為功能性材料而使用導電性材料的情況時，係可得到下述之效果：亦即是，係能夠對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善。
(3)最大吐出時間差Δtmax之影響
於表3中對於實施例1、10~12之結果作展示。實施例1、10~12‧係為使為了形成1個的線狀液體而從相互鄰接之噴嘴所各別吐出之包含功能性材料之液體的最大吐出時間差Δtmax有所相異者。
根據表3，可以得知，藉由將最大吐出時間差Δtmax控制在200[ms]以下，係可得到能夠適當地改善端子電阻之效果。
(4)線狀液體之賦予間隔Mp的影響
於表4中對於實施例1、13以及14之結果作展示。實施例1、13以及14，係為使藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp有所相異者。因應於藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp，而以能夠實現最終所賦予之線狀液體的賦予間隔M的方式，來設定通過數。
根據表4，可以得知，藉由將藉由1次之通過所賦予的線狀液體之賦予間隔Mp設為400[μm]以上，在進行線狀液體之乾燥時，係能夠將伴隨於相鄰接之線狀液體之乾燥所產生的蒸氣之影響減輕，而可得到能夠使平行線圖案之形成更加安定化的效果。其結果，可以得知，係能夠得到使膨出防止性、透明性更進一步提昇之效果。進而，可以得知，若是功能性材料乃身為導電性材料，則係可得到能夠對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善之效果。
(5)鄰接像素數之影響
於表5中對於實施例1、18以及19之結果作展示。在實施例1中，於形成線狀液體時，係將對於1個像素而從1個的噴嘴所賦予之液滴，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數之賦予，並使複數之前述液滴合併為一，而形成在與噴嘴列相交叉之方向上而延伸的線狀液體。相對於此，在實施例18以及19中，於形成線狀液體時，係將對相對於液滴吐出裝置之噴嘴列而被平行地作配置的像素組而從複數之噴嘴所賦予之液滴組，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數組之賦予，並使複數組之前述液滴組合併為一，而形成在與噴嘴列相交叉之方向上而延伸的線狀液體。構成噴嘴列方向之像素組的像素數(鄰接像素數)，在實施例1中係設為1，在實施例18中係設為2，在實施例19中係設為8。
根據表5，可以得知，就算是在將鄰接像素數設為複數的情況時，亦能夠發揮本發明之效果。進而，如同實施例19之結果所示一般，就算是在線狀液體之每一單位長度之液滴賦予量為大的情況時、亦即是在階度N[dpd]和鄰接像素數之積為大的情況時，亦能夠對於最大吐出時間差Δtmax[ms]之增大適當地作抑制。在實施例19中之最大吐出時間差Δtmax[ms]，相較於身為同等之液滴賦予量的實施例16之最大吐出時間差Δtmax[ms]，係被大幅度的縮短，藉由此，膨出防止性係更進一步被改善。其結果，可以得知，係可得到能夠對於所得到的圖案之薄片電阻和端子電阻作更進一步的改善之效果。
(6)實施例和比較例之對比
進而，於表6中對於實施例1以及比較例1之結果作展示。
根據表6，可以得知，在將線狀液體相對於前述液滴吐出裝置與前述基材之相對移動方向而傾斜地形成之實施例1中，係並不需要進行如同比較例1一般之在X軸、Y軸圖案形成時的基材配置之變更，而能夠使生產性提昇。
又，在比較例1中，由於係將液滴吐出裝置之相對移動方向D，設定為沿著基材之邊的方向，因此，係並無法同時達成波紋之防止以及面取效率之提昇。
進而，實施例1，根據與比較例1之對比，係可得知其在膨出防止性上亦為優良。進而，可以得知，若是功能性材料乃身為導電性材料，則係可得到能夠對於所得到的圖案之薄片電阻、端子電阻作改善之效果。
(實施例20) 1.墨水之調製
調製了由下述組成所成之墨水1。
‧銀奈米粒子之水分散液1(銀奈米粒子：40重量%)：1.75重量%
‧矽系界面活性劑(BYK公司製「BYK-348」)：0.01重量%
‧純水：殘部
2.基材之調製
作為基材，係使用藉由易接著加工(表面處理)而將 基材之表面能E設為52mN/m之由PET基材所成之基材1。
3.表面能以及接觸角之測定
在形成網格狀之功能性圖案之前，針對藉由墨水1所形成的第1平行線圖案之形成區域內之表面能以及第2線狀液體之接觸角，藉由代用之方法來進行了測定。
(1)表面能之測定
在基材1上，將墨水1滴下20μL，並使其乾燥，而在液滴之周圍形成了由咖啡漬現象所致之環狀細線。之後，對於此環狀細線之內部的中心區域，測定水、碳酸丙烯、二碘甲烷之接觸角，並依據Young-Fowkes式，來算出了表面能。於此，水、碳酸丙烯、二碘甲烷之接觸角之測定，係使用協和界面化學公司製之接觸角測定裝置DM-501來進行(在以下所說明之接觸角的測定中，亦係使用同一裝置)。所算出的表面能之值，係為56mN/m。將此值作為第1平行線圖案之形成區域內的表面能C。
(2)第2線狀液體之接觸角之測定
A.在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角之測定 於墨水1之接觸角係成為22°的進行有易接著加工之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)基材上，將墨水1滴下20μL，並使其乾燥，而在液滴之周圍形成了由咖啡 漬現象所致之環狀細線。之後，對於此環狀細線之內部的中心區域，測定墨水1(與第2線狀液體相同組成)之接觸角。所測定出之接觸角，係為17°。將此值作為在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F。
B.在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角之測定
在基材表面上將墨水1滴下3μL，而對於在基材表面上的第2線狀液體之接觸角作了測定。所測定出之接觸角，係為20°。將此值作為在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G。
4.圖案之形成 <液滴吐出裝置>
作為液滴吐出裝置，係準備了KONICA MINOLTA公司製之「KM1024iLHE-30」(標準液滴容量30pL)之噴墨頭。
〈圖案之形成〉
一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置之複數之噴嘴來吐出墨水，並沿著相對於相對移動方向D而作了45°的傾斜之X軸方向，來形成了線狀液體。此時，相對移動方向D，係為沿著基材之寬幅方向的方向。
藉由使沿著X軸方向之線狀液體蒸發並乾燥，來在該線狀液體之緣部選擇性地堆積功能性材料，而形成了沿著X軸方向之平行線圖案。於此，係藉由對於配置在被加熱至70℃之平台上的基材進行圖案形成，來促進線狀液體之乾燥。
接著，一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動，一面從該液滴吐出裝置之複數之噴嘴來吐出墨水，並沿著相對於相對移動方向D而作了-45°的傾斜之Y軸方向，來形成了線狀液體。於此，Y軸方向，係為與上述之X軸方向相正交之方向。
藉由使沿著Y軸方向之線狀液體蒸發並乾燥，來在該線狀液體之緣部選擇性地堆積功能性材料，而形成了沿著Y軸方向之平行線圖案。於此，係藉由對於配置在被加熱至70℃之平台上的基材進行圖案形成，來促進線狀液體之乾燥。
在上述圖案形成中，在賦予沿著X軸方向之線狀液體時、和賦予沿著Y軸方向之線狀液體時，係並未使相對於基材之液滴吐出裝置的相對性之配置角度作變更。亦即是，在賦予沿著X軸方向之線狀液體時、和賦予沿著Y軸方向之線狀液體時，相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向D係為相同，而為沿著基材之寬幅方向的方向。
如同上述一般，而形成了使沿著X軸方向之平行線圖案和沿著Y軸方向之平行線圖案相互交叉之網格狀之圖案。
在以上之圖案形成中，在分別形成沿著X軸方向之線狀液體以及沿著Y軸方向之線狀液體時的由液滴吐出裝置所致之墨水吐出，係如同下述一般來作控制。
〈墨水吐出控制〉
‧每一液滴之單位液滴容量Vd=30[pL]
‧階度N=3[dpd]
‧用以形成1個的線狀液體而從1個的噴嘴所賦予之總液滴容量V(=Vd[pL]×N[dpd])=90[pL]
‧噴嘴列解析度R=360[npi]
‧積V‧R=3.24×104[pL‧npi]
‧線狀液體之塗布間隔=282[μm]
‧總通過數
將形成沿著X軸方向之線狀液體時的通過數設為1次，並將形成沿著Y軸方向之線狀液體時的通過數亦設為1次
如此這般，而形成了使第1平行線圖案和第2平行線圖案以直角而相互交叉之網格狀之功能性圖案。網格狀之功能性圖案全體的尺寸，係為50mm×50mm。
(實施例21) 1.墨水之調製
調製了由下述組成所成之墨水2。
‧銀奈米粒子之水分散液2(銀奈米粒子：40重 量%)：1.75重量%
‧矽系界面活性劑(BYK公司製「BYK-348」)：0.01重量%
‧純水：殘部
另外，銀奈米粒子之水分散液2，與在實施例20中所使用的銀奈米粒子之水分散液1，其分散劑係為相異。
2.基材之調製
作為基材，係使用基材1(表面能E=52mN/m)。
3.表面能以及接觸角之測定
將實施例20之墨水1替換為墨水2，並與實施例20相同的而進行了測定，其結果，在第1平行線圖案之形成區域內的表面能C，係為49mN/m，在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F，係為25°，在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G，係為21°。
4.圖案之形成
除了將墨水1替換為墨水2以外，與實施例20相同的，而形成了網格狀之功能性圖案。
(實施例22) 1.墨水之調製
作為墨水，係使用墨水1。
2.基材之調製
作為基材，係使用藉由易接著加工(表面處理)而將基材之表面能設為48mN/m之由PET基材所成之基材2。
3.表面能以及接觸角之測定
將實施例20之基材1替換為基材2，並與實施例20相同的而進行了測定，其結果，在第1平行線圖案之形成區域內的表面能C，係為56mN/m，在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F，係為17°，在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G，係為28°。
4.圖案之形成
在實施例20中，將形成有第1平行線圖案之基材放置在120℃之熱板上，而進行了1小時的由加熱所致之洗淨。
在進行了由加熱所致之洗淨後，與實施例20相同的，塗布第2線狀液體，並使其乾燥，而形成了第2平行線圖案。
如此這般，而形成了使第1平行線圖案和第2平行線圖案以直角而相互交叉之網格狀之功能性圖案。網 格狀之功能性圖案全體的尺寸，係為50mm×50mm。
(實施例23)
在實施例22中，將由加熱所致之洗淨替換為下述由電磁波所致之洗淨，除此以外，係與實施例22相同的，而形成了網格狀之圖案。
〈由電磁波所致之洗淨〉
作為由電磁波所致之洗淨，係進行了由氙閃光燈所致之洗淨。
使用Xenon公司製氙閃光燈裝置「SINTERON 2000」，而以脈衝寬幅500μ秒、施加電壓3.8kV來將氙閃光作1次的照射，而將包含第1平行線圖案之形成區域內的區域作了洗淨。
(實施例24)
在實施例22中，將由加熱所致之洗淨替換為下述由溶劑所致之洗淨，除此以外，係與實施例22相同的，而形成了網格狀之圖案。
〈由溶劑所致之洗淨〉
藉由在2-丙醇中浸漬10分鐘，而將包含第1平行線圖案之形成區域內的區域作了洗淨。
(實施例25) 1.墨水之調製
作為墨水，係使用墨水1。
2.基材之調製
作為基材，係使用基材2(表面能E=48mN/m)。
3.表面能以及接觸角之測定
將實施例20之基材1替換為基材2，並與實施例20相同的而進行了測定，其結果，在第1平行線圖案之形成區域內的表面能C，係為56mN/m，在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F，係為17°，在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G，係為28°。
4.圖案之形成
在實施例20中，在墨水之塗布時，係將在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之每單位長度的液體賦予量，調整為在第1平行線圖案之形成區域外的液體賦予量之70%，而作了塗布，除此之外，係與實施例20同樣的而進行。
如此這般，而形成了使第1平行線圖案和第2平行線圖案以直角而相互交叉之網格狀之功能性圖案。網格狀之功能性圖案全體的尺寸，係為50mm×50mm。
(實施例26) 1.墨水之調製
作為墨水，係使用墨水1。
2.基材之調製
作為基材，係使用藉由易接著加工(表面處理)而將基材之表面能E設為56mN/m之由PET基材所成之基材3。
3.表面能以及接觸角之測定
首先，將銀奈米粒子之水分散液1(銀奈米粒子：40重量%)，藉由線錠(wire bar)# 7來塗布在基材3上，並使其乾燥，而製作了功能性材料(銀奈米粒子)之平塗面。在對於此平塗面之表面能作了測定後，其結果，係為61mN/m。將此值，作為將與第1線狀液體相同組成的液體作塗布並使其乾燥後所成的平塗面之表面能D。
又，將實施例20之基材1替換為基材3，並與實施例20相同的而進行了測定，其結果，在第1平行線圖案之形成區域內的表面能C，係為56mN/m，在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F，係為15°，在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G，係為19°。
4.圖案之形成
在實施例20中，將基材1替換為基材3，除此之外，係與實施例20相同的，而形成了網格狀之功能性圖案。
(實施例27) 1.墨水之調製
調製了由下述組成所成之墨水4。
‧銀奈米粒子之水分散液1(銀奈米粒子：40重量%)：1.75重量%
‧二乙二醇一丁基醚：20重量%
‧純水：殘部
2.基材之調製
作為基材，係使用基材1(表面能E=52mN/m)。
3.接觸角之測定
使用協和界面化學公司製之接觸角測定裝置「DM-501」，而對於在第1平行線圖案之形成區域外的二乙二醇一丁基醚(沸點231℃)之接觸角作了測定，其結果，接觸角H係為5°。另外，係採用在將二乙二醇一丁基醚滴下後而經過5秒鐘後之值。
4.圖案之形成
在實施例20中，將墨水1替換為墨水4，除此之外，係與實施例20相同的，而形成了網格狀之功能性圖案。
(實施例28) 1.墨水之調製
作為墨水，係使用墨水1。
2.基材之調製
作為基材，係使用基材2(表面能E=48mN/m)。
3.表面能以及接觸角之測定
將實施例20之基材1替換為基材2，並與實施例20相同的而進行了測定，其結果，在第1平行線圖案之形成區域內的表面能C，係為56mN/m，在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F，係為17°，在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G，係為28°。
4.圖案之形成
在實施例20中，將基材1替換為基材2，除此之外，係與實施例20相同的，而形成了網格狀之功能性圖案。
(比較例2) 1.墨水之調製
調製了由下述組成所成之墨水3。
‧銀奈米粒子之水分散液3(銀奈米粒子：40重量%)：1.75重量%
‧矽系界面活性劑(BYK公司製「BYK-348」)：0.01重量%
‧純水：殘部
另外，銀奈米粒子之水分散液3，與銀奈米粒子之水分散液1以及2，其分散劑係為相異。
2.基材之調製
作為基材，係使用基材2(表面能E=48mN/m)。
3.表面能以及接觸角之測定
將實施例20之墨水1替換為墨水3，並進而將基材1替換為基材2，而與實施例20相同的而進行了測定，其結果，在第1平行線圖案之形成區域內的表面能C，係為61mN/m，在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F，係為12°，在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G，係為29°。
4.圖案之形成
在實施例20中，將墨水1替換為墨水3，並進而將 基材1替換為基材2，除此之外，係與實施例20相同的，而形成了網格狀之功能性圖案。
(實施例29) 1.墨水之調製
作為墨水，係使用墨水4。
2.基材之調製
作為基材，係使用基材2(表面能E=48mN/m)。
3.接觸角之測定
使用協和界面化學公司製之接觸角測定裝置「DM-501」，而對於在第1平行線圖案之形成區域外的二乙二醇一丁基醚(沸點231℃)之接觸角作了測定，其結果，接觸角H係為8°。另外，係採用在將二乙二醇一丁基醚滴下後而經過5秒鐘後之值。
4.圖案之形成
在實施例27中，將基材1替換為基材2，除此之外，係與實施例27相同的，而形成了網格狀之功能性圖案。
〈平均間隔A以及平均間隔B之測定〉
在藉由實施例20~30所得到的網格狀之功能性圖案 中，針對構成第2平行線圖案之2根的線段間之間隔，而將在第1平行線圖案之形成區域內的平均間隔A，設為在圖6中所說明的總計7個場所之測定場所A1~A7處所作了測定的間隔之平均值，而求取出來。又，針對構成第2平行線圖案之2根的線段間之間隔，而將在第1平行線圖案之形成區域外的平均間隔B，設為在圖6中所說明的總計5個場所之測定場所B1~B5處所作了測定的間隔之平均值，而求取出來。進而，根據此些之平均間隔A以及平均間隔B之值，而求取出上述之式(1)中的B/A之值。
藉由求取出此B/A之值，係能夠判定其是否滿足上述之式(1)。亦即是，也可以說，係能夠判定是否達成了用以滿足上述之式(1)的調整。
〈評價方法〉 ‧低視覺辨認性之評價方法
對於藉由實施例20~30所得到的網格狀之功能性圖案進行目視，並依據下述之評價基準來作了評價。
[評價基準]
A：係無法以視覺而辨識出像是週期性圖案一般之物，而涵蓋全體視覺上均為均勻
B：係能夠以視覺而辨識出像是週期性圖案一般之物
‧電阻值之方向不均的評價方法
對於藉由實施例20~30所得到的網格狀之功能性圖案，而藉由以下之方法來對於電阻值之方向不均作了評價。
切出與第1平行線圖案之方向(第1方向)相平行的長度50mm寬幅10mm之短籤，並在長邊之兩端(亦即是短邊)處設置由銀糊所成之測定用電極，而藉由測試機來對於短籤之端子間的電阻作了測定。同樣的，切出與第2平行線圖案之方向(第2方向)相平行的長度50mm寬幅10mm之短籤，並亦藉由測試機來對於端子間電阻作了測定，而對於第1方向和第2方向上的電阻之比例作了評價。電阻之比例，具體而言，係為將「第2方向上之電阻」與「第1方向上之電阻」間之差的絕對值，除以「第1方向上之電阻」之值，並以百分比來作了展示者。
作為某一基準，可以評價為：若是電阻之比例為10%以下，則在實用性上而言係為理想，若是電阻之比例超過10%，則在實用性上係並不理想。
將以上之結果展示於表7。
〈評價〉
根據表7，可以得知，在以會使平均間隔A以及平均間隔B滿足式(1)之「0.9≦B/A≦1.1」的方式來進行了調整的實施例20~27中，係在低視覺辨認性上為優良，並且亦能夠防止電阻值之方向不均。另一方面，在並未進行此種調整的實施例28~30中，係在低視覺辨認性上為差，並且亦無法充分地防止電阻值之方向不均。
進而，針對實施例22之網格狀的功能性圖案和實施例29之網格狀的功能性圖案，而分別在圖25(b)以及圖25(a)中將光學顯微鏡照片作了展示。在各照片中，從左上朝向右下之方向，係為第1方向(第1平行線圖案之方向)，從左下朝向右上之方向，係為第2方向(第2平行線圖案之方向)。根據此些之照片的對比，亦可得知，若依據本發明，則在低視覺辨認性上係為優良。進而，在第1方向上和第2方向上也並未發現到導電路徑的長度之差，而可得知係能夠防止電阻值之方向不均。
根據以上之結果，係能夠確認到將平均間隔A以及平均間隔B以會滿足式(1)「0.9≦B/A≦1.1」的方式來進行調整一事的有效性。
在實施例20、21中，係藉由「將第1平行線圖案之形成區域內的表面能C和第1平行線圖案之形成區域外的表面能E之間之差(｜C-E｜)設為5mN/m以下」之調整，或者是藉由「將在第1平行線圖案之形成區域內 的第2線狀液體之接觸角F和在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之接觸角G之間之差，設為10°以下」之調整，來成為使平均間隔A以及平均間隔B會滿足式(1)「0.9≦B/A≦1.1」。於此，作為其中一例，係針對藉由基材之表面處理或墨水組成之設定來對於表面能或接觸角作調整的例子作了展示。
在實施例22~24中，係藉由「在形成了第1平行線圖案之後，於賦予第2線狀液體之前，將包含第1平行線圖案之形成區域內的區域作洗淨」之調整，來成為使平均間隔A以及平均間隔B會滿足式(1)「0.9≦B/A≦1.1」。在實施例22中，係使用由加熱所致之洗淨，在實施例23中，係使用由電磁波所致之洗淨，在實施例24中，係使用由溶劑所致之洗淨。
在實施例25中，係藉由「將在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之每單位長度的液體賦予量，和在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體之每單位長度的液體賦予量，設為互為相異」之調整，來成為使平均間隔A以及平均間隔B會滿足式(1)「0.9≦B/A≦1.1」。
在實施例26中，係藉由「將第1平行線圖案之形成區域內的表面能C和第1平行線圖案之形成區域外的表面能E之間之差(｜C-E｜)設為5mN/m以下」之調整、藉由「將在第1平行線圖案之形成區域內的第2線狀液體之接觸角F和在第1平行線圖案之形成區域外的第2 線狀液體之接觸角G之間之差，設為10°以下」之調整、或者是「將藉由塗布與第1線狀液體相同組成之液體並使其乾燥所成的平塗面之表面能D和第1平行線圖案之形成區域外之表面能E之間之差(｜D-E｜)設為5mN/m以下」之調整，來成為使平均間隔A以及平均間隔B會滿足式(1)「0.9≦B/A≦1.1」。
在實施例27中，係藉由「將在第1平行線圖案之形成區域外的第2線狀液體中之溶劑中的沸點為最高之溶劑的接觸角，設為6°以下」之調整，來成為使平均間隔A以及平均間隔B會滿足式(1)「0.9≦B/A≦1.1」。
1‧‧‧基材
2‧‧‧第1線狀液體
2’‧‧‧其他的線狀液體
2a~2f、2a’~2f’‧‧‧液滴之命中位置
7‧‧‧液滴吐出裝置
71‧‧‧噴墨頭
72a~72f‧‧‧噴嘴
D‧‧‧相對於基材之液滴吐出裝置的相對移動方向

Claims (27)

  1. 一種圖案形成方法，其特徵為：在一面使液滴吐出裝置相對於基材而作相對移動一面從該液滴吐出裝置之複數之噴嘴來在前述基材上吐出由包含有功能性材料之液體所成之液滴時，於基材上而成為合併為一之對象的相互鄰接之至少1組之液滴，係不論是在相對移動之方向以及與該相對移動方向相正交的方向之何者上均空出有間隔地來作配置，並以使此些之液滴合併為一的方式，來對於該液滴之液滴容量以及前述間隔之其中一方或雙方作調整，藉由使將前述液滴合併為一所形成之線狀液體乾燥，來在該線狀液體之緣部處堆積前述功能性材料並形成包含該功能性材料之圖案。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之圖案形成方法，其中，於前述線狀液體之形成中，係將對相對於前述液滴吐出裝置之噴嘴列而被平行地作配置的像素組從複數之噴嘴所賦予之液滴組，於與噴嘴列相交叉之方向上作複數組之賦予，並使複數組之前述液滴組合併為一，而形成朝與噴嘴列相交叉之方向而延伸的前述線狀液體。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之圖案形成方法，其中，係以將使前述液滴合併為一所形成的前述線狀液體之緣部之直線性提高的方式，來對於前述液滴容量以及前述間隔之其中一方或雙方作調整。
  4. 如申請專利範圍第1~3項中之任一項所記載之圖 案形成方法，其中，係將用以形成1個的前述線狀液體而從1個的前述噴嘴所吐出之總液滴容量V[pL]、和在與前述複數之噴嘴之前述相對移動方向相正交的方向上之噴嘴列解析度R[npi]，此兩者之積V‧R[pL‧npi]，調整為4.32×104[pL‧npi]以上5.18×105[pL‧npi]以下之範圍。
  5. 如申請專利範圍第1~4項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，係藉由階度之調整來調整前述液滴容量。
  6. 如申請專利範圍第1~5項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，從前述液滴吐出裝置所吐出之前述液滴的在前述基材上之接觸角，係為10[°]以上30[°]以下之範圍。
  7. 如申請專利範圍第1~6項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，係藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成1個或複數之前述線狀液體。
  8. 如申請專利範圍第1~7項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，在藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成相互平行之複數之前述線狀液體時，係藉由對於該線狀液體之賦予間隔作調整，來抑制當使相鄰之前述線狀液體乾燥時的相互干涉。
  9. 如申請專利範圍第1~8項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，在藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成相互平行之複數之前述線狀液體時，係將該線狀液體之賦予間隔之調整，藉由對於從各個前述噴嘴而吐出 前述液滴之時間間隔、以及前述液滴吐出裝置之相對於基材的相對移動速度，此些之其中一方或雙方作調整，來進行之。
  10. 如申請專利範圍第1~9項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，在藉由前述相對移動所致之一次的通過來形成相互平行之複數之前述線狀液體時，係將該線狀液體之賦予間隔，調整為400[μm]以上。
  11. 如申請專利範圍第1~10項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，係以對前述液滴之合併為一作促進的方式，而將用以形成1個的前述線狀液體而從相互鄰接之前述噴嘴所各別吐出之包含前述功能性材料之液體的最大吐出時間差Δtmax，調整為200[ms]以下。
  12. 如申請專利範圍第1~11項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，係在前述基材上賦予第1之前述線狀液體，並在使該第1線狀液體乾燥的過程中使該功能性材料選擇性地堆積於緣部，而形成藉由包含有該功能性材料之2根的線段所構成之第1平行線圖案，接著，在前述基材上，以與前述第1平行線圖案之形成區域相交叉的方式而賦予第2之前述線狀液體，並在使該第2線狀液體乾燥的過程中使該功能性材料選擇性地堆積於緣部，而形成藉由包含有該功能性材料之2根的線段所構成之第2平行線圖案，藉由此，來形成使前述第1平行線圖案與前述第2平 行線圖案在至少1個的交點處而相交之圖案。
  13. 如申請專利範圍第12項所記載之圖案形成方法，其中，針對構成前述第2平行線圖案之前述2根的線段間之間隔，係以在前述第1平行線圖案之形成區域內的平均間隔A和在前述第1平行線圖案之形成區域外的平均間隔B會滿足下述式(1)的方式，來進行調整：0.9≦B/A≦1.1‧‧‧式(1)。
  14. 如申請專利範圍第13項所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將前述第1平行線圖案之形成區域內的表面能和前述第1平行線圖案之形成區域外的表面能之間之差，設為5mN/m以下。
  15. 如申請專利範圍第13項所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將塗布前述第1線狀液體中所包含的功能性材料並使其乾燥之平塗面的表面能和前述第1平行線圖案之形成區域外的表面能之間之差，設為5mN/m以下。
  16. 如申請專利範圍第13項所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將在前述第1平行線圖案之形成區域內的前述第2線狀液體之接觸角和在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體之接觸角之間之差，設為10°以下。
  17. 如申請專利範圍第13項所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將在塗 布前述第1線狀液體中所包含的功能性材料並使其乾燥之平塗面處的前述第2線狀液體之接觸角和在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體之接觸角之間之差，設為10°以下。
  18. 如申請專利範圍第13項所記載之網格狀之功能性圖案之形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係將在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體中之溶劑中的沸點為最高之溶劑的接觸角，設為6°以下。
  19. 如申請專利範圍第13項所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係使在前述第1平行線圖案之形成區域內的前述第2線狀液體之每單位長度之液體賦予量、和在前述第1平行線圖案之形成區域外的前述第2線狀液體之每單位長度之液體賦予量，此兩者互為相異。
  20. 如申請專利範圍第13項所記載之圖案形成方法，其中，作為用以滿足前述式(1)之調整，係在形成了前述第1平行線圖案之後，於賦予前述第2線狀液體之前，將包含前述第1平行線圖案之形成區域內的區域作洗淨。
  21. 如申請專利範圍第20項所記載之圖案形成方法，其中，作為前述洗淨，係進行從由加熱所致之洗淨、由電磁波所致之洗淨、由溶劑所致之洗淨、由氣體所致之洗淨以及由電漿所致之洗淨中所選擇的1種或2種以上之 組合的洗淨。
  22. 如申請專利範圍第1~21項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，在前述線狀液體之乾燥時，係施加促進乾燥之處理。
  23. 如申請專利範圍第1~22項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，從前述液滴吐出裝置所吐出之前述液體之功能性材料含有率，係為0.01重量%以上1重量%以下之範圍。
  24. 如申請專利範圍第1~23項中之任一項所記載之圖案形成方法，其中，前述功能性材料，係為導電性材料或導電性材料前驅物。
  25. 一種附透明導電膜基材，其特徵為：係於基材表面上，具備有包含藉由如申請專利範圍第1~24項中之任一項所記載之圖案形成方法所形成的圖案之透明導電膜。
  26. 一種裝置，其特徵為：係具備有如申請專利範圍第25項所記載之附透明導電膜基材。
  27. 一種電子機器，其特徵為：係具備有如申請專利範圍第26項所記載之裝置。
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