TW201604122A - 壓印壓模以及製造和應用壓印壓模的方法 - Google Patents

壓印壓模以及製造和應用壓印壓模的方法 Download PDF

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迪特瑪 律特克 諾塔普
麥可 貝克
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Ｎｂ技術有限公司
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE102016124428A1 (de) 2016-12-14 2018-06-14 Amo Gmbh Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Herstellung großflächiger periodischer Nanostrukturen auf einem flächenhaft ausgedehnten Substrat mittels eines Nanoimprintverfahrens
CN113189840A (zh) * 2021-04-16 2021-07-30 深圳先进技术研究院 微纳结构制作方法及微纳结构制作装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1068277B (de) * 1959-11-05 zugl Siebdruckfonm
DE69333788T2 (de) * 1992-10-05 2006-02-16 Virginia Tech Intellectual Properties Inc. Zwischenprodukt zur Herstellung von D-chiro-inosose und (+)-D-chiro-inositol
US7766640B2 (en) * 2005-08-12 2010-08-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Contact lithography apparatus, system and method
JP4996150B2 (ja) * 2006-07-07 2012-08-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 微細構造転写装置および微細構造転写方法
JP4448868B2 (ja) * 2007-06-29 2010-04-14 株式会社日立産機システム インプリント用スタンパとその製造方法
JP5411557B2 (ja) * 2009-04-03 2014-02-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ 微細構造転写装置
DE102009024875A1 (de) * 2009-06-09 2010-12-16 Nb Technologies Gmbh Siebdruckschablone
JP5782784B2 (ja) * 2011-03-31 2015-09-24 大日本印刷株式会社 インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置
FR2977189B1 (fr) * 2011-07-01 2014-11-28 Commissariat Energie Atomique Systeme d'impression serigraphique pour cellule photovoltaique
JP5824379B2 (ja) * 2012-02-07 2015-11-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法
CN104704425B (zh) * 2012-09-06 2019-12-03 Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 用于压印的结构印模、装置以及方法

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