TW201545872A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
本發明揭述一種感光性印刷空白板。該感光性印刷空白板包括至少一個光可固化層,其於想要的波長區間對光化輻射曝光時能夠被選擇性交聯及固化,其包括:(a)至少一個彈性體黏著劑、(b)至少一個乙烯不飽和單體、(c)在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間中具有有利的吸收波形之光引發劑、及(d)染料,其中該染料在用以將該至少一個可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間以UV分光計測量具有合適的百分比透射;及任選的配置於該至少一個光可固化層上方之紅外線可切除的層。本發明亦揭述一種由該感光性印刷空白板製造立體像印刷元件的方法。
Description
本發明大致關於一種製造具有改良的曝光寬容度之柔版印刷元件的方法。
柔版印刷為常用於高容量模式的印刷法。柔版印刷係用於在各種不同的基材上的印刷,基材例如紙、紙板原料、波浪板、薄膜、箔、及層壓板。報紙及購物袋為主要實例。粗糙表面及彈性薄膜僅能夠藉由柔版印刷而具經濟效益的被印刷。
柔版印刷板為一種凸板,其圖像元件升高超過開放區域。該板通常有點軟,且具足以環繞包覆印刷圓柱的撓性,及足以印刷超過一萬份副本的可耐性。這種板對印刷機提供數種優點,其主要因為其可耐性及可製造其的容易性。由製造商供應的典型柔版印刷板為一種由以下順序所製造的多層物品:一背層或支撐層;一或多個未曝光的光可固化層;任選的一保護層或滑動薄膜(slip film);及通常一保護性覆蓋薄片。
支撐層(或背層)賦予板支撐。支撐層可由如紙、纖維素薄膜、塑膠、或金屬等透明或不透明材料形成。較佳的材料包含由合成聚合材料製造的薄片,聚合
材料如聚酯、聚苯乙烯、聚烯烴、聚醯胺等,包含聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、及聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)。支撐體可呈薄片形式或圓柱形式,如套筒。套筒可由單一層或多層撓性材料形成。較佳為由聚合薄膜形成的撓性套筒,因為其典型對紫外輻射為透明的,因此提供用以在圓柱形印刷元件中建構底板(floor)的回閃曝光(backflash exposure)。一種廣泛使用的支撐層為聚對苯二甲酸乙二酯撓性薄膜。
光可固化層可包含任何已知的光聚合物、單體、起始物、反應性或非反應性稀釋劑、填料、加工助劑、UV吸收劑、及染料。在此所使用術語「光可固化性」係指一種組成物,其對光化輻射反應而進行聚合、交聯、或任何固化或硬化反應,而造成材料未曝光部分可被選擇性自經曝光(固化)部分分開並移除,以形成經固化材料的三維立體圖樣(relief pattern)。例示性光可固化性材料揭示於Goss等人之歐洲專利第0 456 336 A2及0 640 878 A1號、英國專利第1,366,769號、Berrier等人之美國專利第5,223,375號、MacLahan之美國專利第3,867,153號、Allen之美國專利第4,264,705號、Chen等人之美國專利第4,323,636、4,323,637、4,369,246、及4,423,135號、Holden等人之美國專利第3,265,765號、Heinz等人之美國專利第4,320,188號、Gruetzmacher等人之美國專利第4,427,759號、Min之美國專利第4,622,088號、及Bohm等人之美國專利第5,135,827號,上述專利之各標的整體皆藉由引用併入本文。也可使用
超過一種光可固化層。光可固化層可直接塗布於支撐體上。替代地,光可固化層可塗布在黏著層及/或回彈性下層的上方。
光可固化性材料通常透過在至少部分光化波長區間中的自由基聚合而交聯(固化)及硬化。在此所使用術語「光化輻射」係能夠將光可固化層聚合、交聯、或固化的輻射。光化輻射包括例如放大光(例如雷射)或非放大光,特別是在UV及紫色波長區間。
滑動薄膜為保護光聚合物避免灰塵及增加其操作容易性的薄膜。在傳統(「類比」)製板方法中,滑動薄膜對UV光為透明的,且印刷機將覆蓋薄片自印刷板空白板剝開,並在該滑動層上方放置負片。隨後板及負片透過負片藉由UV光受到大量曝光。被光所曝光的區域固化或硬化,而未曝光區域被移除(顯影)以在印刷板上創造立體像。替代地,可將負片直接放置於該至少一個光可固化層上。
在「數位」或「直接至板(direct to plate)」方法中,雷射由儲存於電子資料檔中的圖像引導,且用以在數位(即雷射可切除的)光罩層中創造原位的負片,該光罩層通常為被修飾為包含輻射不透性材料的滑動薄膜。隨後該雷射可切除的層之部分藉由將光罩層在選定波長及雷射強度下受雷射輻射曝光而切除。在此之後,其上具有原位負片的至少一個光可固化層透過該原位負片受到UV光的大量曝光。對光所曝光的區域固化或硬化,而未曝光的區域被移除(顯影)以在印刷板上創造立
體像。對光化輻射源的選擇性曝光可使用類比或數位方法達成。雷射可切除的層之實例揭述於例如Yang等人之美國專利第5,925,500號及Fan之美國專利第5,262,275及6,238,837號,上述專利之各標的整體皆藉由引用併入本文。
形成立體像印刷元件的製程方法典型包含以下:1)圖像產生,其對數位「電腦至板(computer-to-plate)」可為光罩切除或對傳統類比板可為負片產生;2)透過光罩(或負片)的正面曝光,以將光可固化層不被光罩覆蓋的部分選擇性交聯及固化,藉此形成立體像;3)背面曝光,以在光可固化層中創造底板層,並建立凸紋的深度。較佳為將板正面曝光而後將其翻轉而背面曝光。首先進行背面曝光可能造成黑光照在板的操作期間受損,因而造成圖像劣化。有些曝光系統亦能夠同時進行兩種曝光系統,其亦能保持圖像完整性;4)顯影,以藉由溶劑(包含水)移除未曝光的光聚合物,或乾式「熱」顯影;及5)若需要,後曝光及去黏性(detackification)。
可提供可移除的覆蓋薄片以保護光可固化印刷元件避免在運送及操作過程中受損。適用的覆蓋薄片包含撓性聚合薄膜、例如聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、氟化聚合物、聚醯胺、或聚酯。常用的為聚酯,尤其是聚對苯二甲酸乙二酯。
在對印刷元件加工之前,將覆蓋薄片移除,且感光性表面對光化輻射以逐像(imagewise)的模式曝光。在逐像曝光於光化輻射下時,在經曝光區域發生光可聚合性層的聚合,因而發生不溶化。以適合的顯影溶劑(或熱顯影)處理會將光可聚合性層的未曝光區域移除,留下可用於柔版印刷的印刷凸紋。
在此所使用術語「背面曝光」係指光可聚合性層在其將產生或最終會產生凸紋的反面上對光化輻射進行覆蓋性曝光。此步驟典型經由透明支撐層而達成,且係用以在光可固化層的支撐面上創造淺層光固化材料,即「底板」。底板的用意大致為使光可固化層敏感化且建立凸紋的深度。
在簡短的背面曝光步驟之前(與逐圖曝光步驟比較為簡短的),使用數位圖像化光罩或照相負片光罩進行逐像曝光,該光罩係與光可固化層接觸,且光化輻射導向透過該光罩。
所使用的輻射種類係部分取決於光可聚合層中所使用的光引發劑種類。數位圖像化光罩或照相負片光罩避免其下方的材料對光化輻射受到曝光且因此被光罩覆蓋的那些區域不會聚合,而不被光罩覆蓋的區域對光化輻射曝光並聚合。任何習知光化輻射源皆可用於此曝光步驟。適合的可見及UV光源包含碳弧、汞蒸汽弧、螢光燈、電子閃光單元、電子束單元、照相泛光燈(photographic flood lamp)、及更近來的發光二極體(LEDs),其發出UV光。
已知使用發出適合固化光可固化層的紫外光之紫外線汞弧燈。紫外線弧燈藉由使用電弧激發位於惰性氣體(例如氬)環境內的汞而產生引起固化的紫外光。或者,也可以使用微波能量將惰性氣體媒介中的汞燈激發而產生紫外光。然而,使用紫外線汞燈作為輻射源遭受到一些缺點,包含來自汞的環境問題及臭氧產生為副產物。並且,汞燈典型具有低量轉換率,需要暖機時間,在運行期間產生熱,且相較於LED消耗大量能量。另外,汞燈的特徵為除了UV輻射外有廣泛的光譜輸出,其大部分不適用於固化且可能損壞基材及對人員具有危害。
LED為利用電致發光現象產生光的半導體裝置。LED由摻雜雜質以產生p-n接面的半導體材料組成,能夠在正電洞於施加電壓時結合負電子而發出光。所發出的光之波長係由半導體的活性區間中所使用的材料而定。LED的半導體中使用的典型材料包含例如來自週期表第(III)及第(V)族的元素。這些半導體稱之為III-V半導體且包含例如GaAs、GaP、GaAsP、AlGaAs、InGaAsP、AlGaInP及InGaN半導體。材料的選擇係基於多重因素,包含想要的發射波長、效能參數、及成本。
可能創造發射從低至約100nm到高至約900nm中任何一處的光之LED。現今已知LED UV光之光源發射在約300至約475nm之間的波長之光,其中365nm、390nm及395nm為常見峰值光譜輸出。當使用LED燈來固化光可固化性組成物時,光引發劑為塗覆組成物,其經選擇而對LED燈所發出的光之波長有反應。
LED在固化應用上提供一些超越汞燈的優點。例如,LED不用汞來產生UV光且典型比汞UV弧燈較不笨重。另外,LED為立即開/關之光源,不須暖機時間,因此造就了LED燈的低能量消耗。LED亦產生較少熱,具有較高能量轉換功率,具有較長的燈壽命,且實質上為單色的,發出由LED中所用的半導體材料之選擇所決定之想要波長的光。
在類比柔版印刷元件界之中,通常需要較高UV劑量以保持較細緻的高亮度點。若沒有保持想要的點程度,操作員會藉由增加板曝光的時間而增加劑量。這在大部分的板配方類型中會成功。然而,不利的是當暴露時間增加以保持較細點時,負像通常開始癒合。這通常稱作為板的「曝光寬容度」。因此,僅能將點敏感度增加至負像呈現開放的程度。故,所屬技術領域中仍需要改良的光可固化性組成物,其可在選定波長之來自LED光源的光化輻射下逐像曝光,同時具有良好的曝光寬容度。
本發明之目的為提供具有良好曝光寬容度之光可固化性組成物。
本發明之另一目的為提供可於選定波長對來自LED光源之光化輻射曝光之光可固化樹脂組成物,同時具有良好的曝光寬容度。
本發明之又一目的為提供達到細緻的高亮度點而不會填滿板負像之光可固化樹脂組成物。
為此,本發明在一實施方式中大致關於一種具有改良的曝光寬容度之感光性印刷空白板,該感光性印刷空白板包括:a)支撐體;b)至少一個配置於該支撐體上的光可固化層,其中該至少一個光可固化層於想要的波長區間對光化輻射曝光時能夠被選擇性交聯及固化,該至少一個光可固化層包括:1)至少一個彈性體黏著劑;2)至少一個乙烯不飽和單體;3)光引發劑,其在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間中具有有利的吸收波形;4)染料,其中該染料在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之波長區間以UV分光計測量具有合適的百分比透射;c)任選的配置於該至少一個光可固化層上方之可雷射切除的光罩層。
在另一實施方式中,本發明大致關於一種由感光性印刷空白板製造感光性立體像印刷元件的方法,其中該感光性印刷空白板包括支撐體;至少一個位於該支撐體上的光可固化層,其中該至少一個光可固化層於想要的波長區間對光化輻射曝光時能夠被選擇性交聯及固化,且其中該至少一個光可固化層包括:(a)至少一個彈性體黏著劑、(b)至少一個乙烯不飽和單體、(c)在用以
將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間中具有有利的吸收波形之光引發劑、及(d)染料,其中該染料在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間以UV分光計測量具有合適的百分比透射;及任選的配置於該至少一個光可固化層上方之紅外線可切除的層;該方法包括以下步驟:a)將該至少一個光可固化層於想要的波長區間在光化輻射下逐像曝光,以將該至少一個光可固化層選擇性交聯及固化;及b)將該光可固化層顯影以移除該至少一個光可固化層之未固化部分;其中該在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間具有合適的百分比透射之染料的存在於具有改良的曝光寬容度之印刷元件中產生立體像。
第1圖顯示Pylam Green及Savinyl Red染料之UV-Vis圖譜。
第2圖顯示於4J及8J具有30%吸收及80%吸收的染料負像之15密耳負像。
本發明大致關於一種由感光性印刷空白板製造感光性立體像印刷元件的方法,其中該感光性印刷空白板包括支撐體;至少一個位於該支撐體上的光可固化
層,其中該至少一個光可固化層於想要的波長區間對光化輻射曝光時能夠被選擇性交聯及固化,且其中該至少一個光可固化層包括:(a)至少一個彈性體黏著劑、(b)至少一個乙烯不飽和單體、(c)在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間中具有有利的吸收波形之光引發劑、及(d)染料,其中該染料在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間以UV分光計測量具有合適的百分比透射;及任選的配置於該至少一個光可固化層上方之紅外線可切除的層;該方法包括以下步驟:a)將該至少一個光可固化層於想要的波長區間在光化輻射下逐圖曝光,以將該至少一個光可固化層選擇性交聯及固化;及b)將該光可固化層顯影以移除該至少一個光可固化層之未固化部分;其中該在用以將該至少一個光可固化層對光化輻射曝光之想要的波長區間具有合適的百分比透射之染料的存在於具有改良的曝光寬容度之印刷元件中產生立體像。
本發明亦揭述使用在想要的波長區間中運行的LED來進行該至少一個光可固化層對光化輻射之正面曝光(即逐像曝光),以選擇性交聯及固化部分光可固化層。
本發明之發明人研究各種感光樹脂組成物之曝光寬容度。有鑑於此,本發明之發明人以光可固化性
組成物之各種成分進行實驗,而嘗試改良光可固化性組成物之曝光寬容度。
發明人發現選擇特定染料用於光可固化性組成物中(例如由Savinyl Red染料換成Pylam green染料)會造成更加廣泛的曝光寬容度。起初咸信寬容度改良可能係因為染料的真實顏色,因此評估數種綠色染料。然而,結果並未特定地與綠色染料相關,且因此對Savinyl Red及Pylam green染料兩者測量UV-Vis圖譜,如第1圖所示。
這兩種染料的UV-Vis光譜顯示於395nm波長(即用來將光聚合物層逐像曝光的波峰波長)下有不同的百分比透射。經紀錄Savinyl Red於395nm具有73.0%之透射,而Pylam green於395nm則僅具有40.9%之透射。由於395nm波長並未造就「綠」色,因此分析一系列染料的UV-Vis光譜。
每種染料係以2x10-5g/mL之濃度構成,且由Perkin Elmer Lambda 35 UV-Vis分光光度計測試。製造溶液的方法為將0.1克染料溶解於100mL之丙酮溶劑中。隨後將溶液進一步藉由將2.0mL之此溶液混合於100mL之額外的丙酮溶劑中而稀釋。結果呈現於表1,其顯示各染料於365nm及於395nm之吸光度、百分比透射及百分比吸收。
發明人發現當使用以395nm之LED陣列固化之立體像印刷板配方時,各種染料產出有利的結果。經測定染料的實際顏色無關緊要,幾乎與染料在395nm區
間如何吸收差不多。並且,已注意到雖然本發明係揭述為其關於染料在特定波長區間中的吸收/透射,本發明並不限於染料。亦即,任何於選定的波長區間內(包含例如395nm)以想要的程度吸收/透射之材料皆可用於本發明。
將於395nm較低透射的染料製成柔版印刷元件,並以395nm之LED陣列於兩種曝光程度曝光。然後研究經圖像化及經曝光之印刷元件的負像之切面。
已觀察到具有低於50%之百分比透射的染料在以395nm之LED固化時開始顯示圖像寬容度優勢,且具有低於80%之百分比透射的染料顯示最高的圖像化寬容度。配方中的染料濃度顯示濃度低至0.01重量%及高至0.1重量%,較佳為介於約0.02重量%及約0.05重量%之間的配方。在以395nm之LED陣列固化時,已發現以2x10-5g/mL之濃度製備之於UV分光光度計中透射低於20%的染料在以0.02%製成柔版印刷元件配方時提供極佳的圖像化寬容度。
染料係以百分比吸收排序。然後於特定百分比吸收間隔選擇一些染料,用以在顯示於以下表2中的感光性印刷板配方中測試。
用於將柔版印刷元件逐像曝光的市售LED通常可於395nm波長與介於1-4W/cm2之UV功率獲得。大致上來說,依據本發明使用之UV LED的強度於柔版印刷板表面上測量為大於100mW/cm2、較佳為大於150mW/cm2、更佳為大於200mW/cm2。
如在此所述,光可固化層能包含任何已知的彈性體黏著劑、單體、光引發劑、反應性或非反應性稀釋劑、填料、加工助劑、UV吸收劑、及染料。在此所使用術語「光可固化性」係指一種組成物,其對光化輻射反應而進行聚合、交聯、或任何固化或硬化反應,而造成材料未曝光部分可被選擇性自經曝光(固化)部分分開並移除,以形成經固化材料的三維立體圖樣。
彈性體黏著劑對所屬技術領域中具有通常知識者為已知的,尤其包含例如苯乙烯-二烯-嵌段共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、聚環氧乙烷-聚乙烯醇接枝共聚物、天然橡膠、聚丁二烯、聚異戊二烯、苯乙烯-丁二烯橡膠、腈-丁二烯橡膠、丁基橡膠、苯乙烯-異戊二烯橡膠、苯乙烯-丁二烯-異戊二烯橡膠、聚降莰烯橡膠、及乙烯-丙烯-二烯橡膠(EPDM)。
彈性體黏著劑較佳為烯基芳香族及1,3-二烯之熱塑性彈性體嵌段共聚物,且可為線性、分枝、或放射狀嵌段共聚物。適合的實例包含A-B-A型三嵌段共聚物、A-B型二嵌段共聚物、或具有二或多個交錯的彈性體及熱塑性嵌段(例如A-B-A-B-A)之共聚物,及上述一或多個的組合。基於光可固化性組成物的總重,光可固
化層中之黏著劑總量典型為界於約40重量%至90重量%之間,較佳為45重量%至75重量%。
光可固化性組成物亦包括至少一個乙烯不飽和化合物,其與該彈性體黏著劑相容。適合的化合物具有至少一個乙烯不飽和雙鍵且可聚合。這些乙烯不飽和化合物(亦稱為單體)尤其包含例如具有單-或多官能的醇、胺、胺基醇或羥基醚及羥基酯的丙烯酸或甲基丙烯酸之酯或醯胺、反丁烯二酸或順丁烯二酸之酯、乙烯基醚、乙烯基酯、或烯丙基化合物。適合的單體之較佳實例包含丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十四烷基酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、反丁烯二酸二辛酯、及N-十二烷基順丁烯二醯亞胺,及上述一或多個的組合。基於光可固化性組成物的總重,光可固化性組成物中之單體量較佳為低於約25重量%、較佳為介於約5重量%至約20重量%。
光可固化性組成物亦包含於想要的LED波長區間具有有利吸收波形的光引發劑。於395nm區間具有有利吸收波形之適合的光引發劑尤其包含氧化雙醯基膦(BAPO)、氧化2,4,6-三甲基苯甲醯基乙氧基苯基膦(TPO)、Irgacure-369、及Irgacure-379。基於光可固化性組成物的總重,光可固化性組成物中之光引發劑的量典型為在約0.1重量%至5重量%的範圍。
光可固化性組成物亦可任選的包含一或多種塑化劑。適合的塑化劑尤其包含經修飾及未經修飾的天然油及天然樹脂,如高沸點-石蠟基油、環烷基油、或芳香族礦物油;合成寡聚物或樹脂,如寡聚苯乙烯、高沸點酯、寡聚苯乙烯-丁二烯共聚物、寡聚α-甲基苯乙烯/p-甲基苯乙烯共聚物、液態寡聚丁二烯、或液態寡聚丙烯腈-丁二烯共聚物或寡聚乙烯-丙烯-二烯共聚物。偏好為聚丁二烯油,特別是具有介於500至5000g/mol之間的分子量者;高沸點脂肪族酯,特別是如烷基單羧酸及二羧酸之酯,實例為硬脂酸酯或己二酸酯,及礦物油。基於光可固化性組成物的總重,任選的存在之塑化劑的量較佳為在約0重量%至50重量%的範圍。
光可固化性組成物亦可包含不同填料、加工助劑、UV吸收劑、及染料。
關於染料,如在此所述,發明人已發現在光可固化性組成物中使用特定染料會產生具有改良的曝光寬容度之光可固化性印刷元件。更詳細來說,本發明意想於光可固化性組成物中使用一種染料,其在以2x10-5g/mL之染料濃度進行UV-Vis時,具有於395nm低於約50%之%透射、較佳為於395nm低於約40%之%透射、更佳為於395nm低於約20%之%透射。基於光可固化性組成物的總重,染料典型以介於約0.005重量%至0.1重量%、較佳為介於約0.01重量%及0.05重量%之濃度存在於光可固化性組成物中。
隨後將表3之各染料製備成實例配方。隨後各配方被製備成柔版印刷板。然後,在各染料種類之板上施加4J及8J的UV劑量程度。隨後藉由在Solvit 100(可得自MacDermid Printing Solutions)中加工而將板顯影,以移除部分的該一或多個光可固化層,然後乾燥。以下表4及5顯示每個染料於各劑量程度的負像深度。
因此,於395nm具有較低百分比穿透的染料產出較深的負像。在相同劑量程度下,所製造的板在8J劑量程度下曝光時於150 LPI產出1%高亮度點,代表其產生可使用的印刷元件。第2圖顯示於4J及8J具有30%吸收及80%吸收的染料負像之15密耳負像。如在第2圖中所見,含有具有80%吸收的染料之配方證明有比含30%吸收之配方深更多的負像。
咸信在以2x10-5g/mL之染料濃度進行UV-Vis時,需要於395nm低於50%的透射才能看到可用的效益,而以低於41%之透射能觀察到更好的效益,且低於20%之透射有最好的效益。
基於以上提供的結果,較佳的染料列表(具有%吸收)如下:
(1)Orasol Red 3GL (50.9% A)
(2)Waxolin Green GFW (51.0% A)
(3)Sandoplast Green 2GS (54.5% A)
(4)Neozapon Red 365 (55.7% A)
(5)Pylam New D Green (59.1% A)
(6)Pylam Old Dark Green (62.1% A)
(7)Savinyl Red 3 GLS (63.3% A)
(8)Orasol Yellow 4GN (65.9 %A)
(9)Neptune Yellow 078 (66.3% A)
(10)Orasol Red BL (67.5% A)
(11)Neozapon Red 395 (68.2% A)
(12)Neozapon Red 355 (69.8% A)
(13)Neozapon Red 335 (71.0% A)
(14)Orasol Yellow 2GLN (72.7% A)
(15)Orcosolve Fire Red G (72.9% A)
(16)Moreplas Red 240 (73.8% A)
(17)Solvent Yellow 83 (75.4% A)
(18)Pylakrome Bright Red LX 5988 (75.6% A)
(19)Orasol Yellow 152 (76.1% A)
(20)Pylakrome Red LX 1903 (76.9% A)
(21)Orasol Orange G (77.3% A)
(22)Orasol Yellow 3R (80.5% A)
(23)Morton Orange (83.9% A)
應為進一步明顯的是,所屬技術領域中具有通常知識者可輕易分辨除了以上所列者之可具有想要的百分比透射/百分比吸收且可用於在此所述之光可固化層之染料。
應理解以下的申請專利範圍意圖囊括本發明之所有上位及下位特徵以及所有本發明之範疇的陳述,其在語言上可能落在其之間。
Claims (16)
- 一種具有改良的曝光寬容度之感光性印刷空白板,其包括:a)支撐體;b)至少一個配置於該支撐體上的光可固化層,其中該至少一個光可固化層於想要的波長之光化輻射下曝光時能夠被選擇性交聯及固化,該至少一個光可固化層包括:1)至少一個彈性體黏著劑;2)至少一個乙烯不飽和單體;3)光引發劑,其在用以將該至少一個光可固化層於光化輻射下曝光之想要的波長區間中具有有利的吸收波形;4)染料,其中以2x10-5g/ml之濃度於UV分光計中測量時,該染料在用以固化該光可固化層之該光化輻射之波峰波長具有測量為低於50百分比透射率之特徵;c)任選的配置於該至少一個光可固化層上方之雷射可切除的光罩層。
- 如請求項1之感光性印刷空白板,其中該用以將該至少一個光可固化層於光化輻射下逐像曝光的該光化輻射之想要的波長為395nm。
- 如請求項2之感光性印刷空白板,其中該染料於395nm波長具有低於約50%之百分比透射。
- 如請求項3之感光性印刷空白板,其中該染料於395nm波長具有低於約40%之百分比透射。
- 如請求項4之感光性印刷空白板,其中該染料於395nm波長具有低於約20%之百分比透射。
- 如請求項1之感光性印刷空白板,其中該染料以介於約0.01及0.1重量百分比之間的濃度存在於該光可固化層中。
- 如請求項6之感光性印刷空白板,其中該染料以介於約0.02及0.05重量百分比之間的濃度存在於該光可固化層中。
- 一種由感光性印刷空白板製造感光性立體像印刷元件的方法,其中該感光性印刷空白板包括支撐體;至少一個位於該支撐體上的光可固化層,其中該至少一個光可固化層於想要的波長之光化輻射下曝光時能夠被選擇性交聯及固化,且其中該至少一個光可固化層包括:(a)至少一個彈性體黏著劑、(b)至少一個乙烯不飽和單體、(c)在用以將該至少一個光可固化層於光化輻射下曝光之想要的波長區間中具有有利的吸收波形之光引發劑、及(d)染料,其中以2x10-5gr/ml之濃度於UV分光計中測量時,該染料在用以固化該光可固化層之該光化輻射之波峰波長具有測量為低於50百分比透射率之特徵;及任選的配置於該至少一個光可固化層上方之紅外線可切除的層;該方法包括以下步驟:a)將該至少一個光可固化層於想要的波長之光化輻射下逐像曝光,以將該至少一個光可固化層選擇性交聯及固化;及 b)將該光可固化層顯影以移除該至少一個光可固化層之未固化部分;其中該染料的存在於具有改良的曝光寬容度之該印刷元件中產生立體像。
- 如請求項8之方法,其中該至少一個光可固化層係在使用於該想要的波長運作的發光二極體之光化輻射下被曝光。
- 如請求項9之方法,其中該想要的波長為395nm。
- 如請求項10之方法,其中該染料於395nm波長具有低於約50%之百分比透射。
- 如請求項11之方法,其中該染料於395nm波長具有低於約40%之百分比透射。
- 如請求項12之方法,其中該染料於395nm波長具有低於約20%之百分比透射。
- 如請求項8之方法,其中該染料以介於約0.01及0.1重量百分比之間的濃度存在於該光可固化層中。
- 如請求項14之方法,其中該染料以介於約0.02及0.05重量百分比之間的濃度存在於該光可固化層中。
- 如請求項10之方法,其中該發光二極體包括發光二極體陣列,且該陣列中各發光二極體的強度大於100mW/cm2。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/160,799 US10025183B2 (en) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | Photosensitive resin composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201545872A true TW201545872A (zh) | 2015-12-16 |
TWI598228B TWI598228B (zh) | 2017-09-11 |
Family
ID=53544673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104101949A TWI598228B (zh) | 2014-01-22 | 2015-01-21 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10025183B2 (zh) |
EP (1) | EP3097453B1 (zh) |
JP (1) | JP2017506360A (zh) |
CN (1) | CN105980930B (zh) |
ES (1) | ES2896049T3 (zh) |
TW (1) | TWI598228B (zh) |
WO (1) | WO2015112478A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10732507B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-08-04 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | Process and apparatus for controlled exposure of flexographic printing plates and adjusting the floor thereof |
US10640654B2 (en) * | 2015-12-07 | 2020-05-05 | Corning Incorporated | Optical fiber coating and composition with UV-absorbing additive |
US11046092B2 (en) * | 2019-02-13 | 2021-06-29 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Photopolymer film with UV filtering |
DE102021006273A1 (de) | 2021-12-21 | 2023-06-22 | Lohmann Gmbh & Co. Kg | Indikatormischung |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL136313C (zh) | 1962-01-29 | |||
US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US3867153A (en) | 1972-09-11 | 1975-02-18 | Du Pont | Photohardenable element |
DE2942183A1 (de) | 1979-10-18 | 1981-05-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
US4264705A (en) | 1979-12-26 | 1981-04-28 | Uniroyal, Inc. | Multilayered elastomeric printing plate |
US4423135A (en) | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
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US4622088A (en) | 1984-12-18 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer |
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DE3827245A1 (de) | 1988-08-11 | 1990-02-15 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
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WO2012012067A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-26 | Dsm Ip Assets B.V. | D1492 liquid bapo photoinitiator and its use in radiation curable compositions |
DE102010031527A1 (de) | 2010-07-19 | 2012-01-19 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen umfassend die Bestrahlung mit UV-LEDs |
JP5710961B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2015-04-30 | 住友理工株式会社 | フレキソ印刷版原版 |
JP5991040B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2016-09-14 | 凸版印刷株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス及びカラーフィルタ |
-
2014
- 2014-01-22 US US14/160,799 patent/US10025183B2/en active Active
-
2015
- 2015-01-20 EP EP15739826.4A patent/EP3097453B1/en active Active
- 2015-01-20 WO PCT/US2015/011988 patent/WO2015112478A1/en active Application Filing
- 2015-01-20 JP JP2016547859A patent/JP2017506360A/ja active Pending
- 2015-01-20 ES ES15739826T patent/ES2896049T3/es active Active
- 2015-01-20 CN CN201580005470.XA patent/CN105980930B/zh active Active
- 2015-01-21 TW TW104101949A patent/TWI598228B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105980930B (zh) | 2019-12-10 |
TWI598228B (zh) | 2017-09-11 |
US20150205199A1 (en) | 2015-07-23 |
WO2015112478A1 (en) | 2015-07-30 |
EP3097453B1 (en) | 2021-08-25 |
ES2896049T3 (es) | 2022-02-23 |
EP3097453A1 (en) | 2016-11-30 |
EP3097453A4 (en) | 2017-09-20 |
US10025183B2 (en) | 2018-07-17 |
CN105980930A (zh) | 2016-09-28 |
JP2017506360A (ja) | 2017-03-02 |
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