TW201539620A - 空氣軸承裝置及測定裝置 - Google Patents

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Kouichi Tsunoda
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Oiles Industry Co Ltd
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Abstract

本發明之目的在於提供一種提高懸浮精度且可實現能夠應對製品之進一步薄厚度化或測定精度之高精度化之要求之懸浮精度的空氣軸承裝置及具備該空氣軸承裝置之測定裝置。 本發明係空氣軸承裝置及具備該空氣軸承裝置之測定裝置,該空氣軸承裝置包括可利用藉由噴出氣體所產生之懸浮力而懸浮之墊部,上述墊部包括第1墊部,該第1墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域及賦予抽吸力之抽吸區域。

Description

空氣軸承裝置及測定裝置
本發明係關於一種空氣軸承裝置及具備該空氣軸承裝置之測定裝置,更具體而言係關於一種具備具有設置有賦予抽吸力之抽吸區域之軸承面之墊部的空氣軸承裝置及具備該空氣軸承裝置之測定裝置。
自先前以來,液晶面板或半導體元件等之製造步驟中,於塗佈裝置或測定裝置等中利用有空氣軸承裝置,上述塗佈裝置對玻璃基板或半導體晶圓等薄板狀之被加工物塗佈抗蝕液等塗液,上述測定裝置對配置被加工物之夾具之平面度等進行測定。
例如,專利文獻1所揭示之塗佈裝置包括:具有保持基板之平台之基台、配置於基台之軌道、可沿軌道相對移動之支架、及對安裝於支架之基板塗佈塗液之塗佈單元。於支架安裝有空氣軸承裝置,空氣軸承裝置向軌道之表面噴出空氣,藉此,支架以自軌道上懸浮之狀態被支持。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-238144號
且說,近年隨著製品之小型化之要求,業界一直期待使液晶面板之厚度變薄(薄厚度化)或半導體元件之微細化。然而,先前之塗佈 裝置所使用之空氣軸承裝置所獲得之懸浮精度有無法應對針對製品之進一步薄厚度化或具備空氣軸承裝置之測定裝置所能實現之測定精度之高精度化的要求之虞。
本發明係鑒於該情況而完成者。即,本發明之目的在於提供一種提高懸浮精度且可實現應對製品之更薄厚度化或測定精度之高精度化之要求之懸浮精度的空氣軸承裝置及具備該空氣軸承裝置之測定裝置。
為解決上述問題而達成目的,本發明之空氣軸承裝置之第1態樣包括可利用藉由噴出氣體所產生之懸浮力而懸浮之墊部,上述墊部包括第1墊部,該第1墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域及賦予抽吸力之抽吸區域。
又,根據本發明之空氣軸承裝置之第2態樣,如第1態樣之空氣軸承裝置,其中於上述噴出區域配置有多孔質體,於上述抽吸區域設置有吸氣槽。
進而,根據本發明之空氣軸承裝置之第3態樣,如第1或第2態樣之空氣軸承裝置,其中上述噴出區域係以包圍上述抽吸區域之方式配置。
進而,根據本發明之空氣軸承裝置之第4態樣,如第1至第3中任一態樣之空氣軸承裝置,其中上述墊部包括第2墊部,該第2墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域,但不具備賦予抽吸力之抽吸區域。
進而,為解決上述問題而達成目的,本發明之測定裝置之第1態樣包括:測定機構,其用以測定被測定物之平坦度、翹曲或平面度;載置機構,其供配置上述被測定物;支持構件,其供安裝上述被測定物,且可相對於上述載置機構相對移動;及空氣軸承裝置,其安裝於 上述支持構件,用以使上述支持構件自上述載置機構相隔特定距離地懸浮;上述空氣軸承裝置包括可利用藉由噴出氣體所產生之懸浮力而懸浮之墊部,上述墊部包括第1墊部,該第1墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域及賦予抽吸力之抽吸區域。
又,根據本發明之測定裝置之第2態樣,如第1態樣之測定裝置,其中於上述噴出區域配置有多孔質體,於上述抽吸區域配置有吸氣槽。
根據本發明之測定裝置之第3態樣,如第1或第2態樣之測定裝置,其中上述噴出區域係以包圍上述抽吸區域之方式配置。
根據本發明之測定裝置之第4態樣,如第1至第3中任一態樣之測定裝置,其中上述第1墊部係以其上述軸承面與上述上表面、及上述第1側面對向之方式配置有複數個。
根據本發明之測定裝置之第5態樣,如第4態樣之測定裝置,其中上述載置機構具備與上述第1側面對向之第2側面,上述墊部具有第2墊部,該第2墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域、但不具備賦予抽吸力之抽吸區域,且與上述第2側面對向。
本發明之空氣軸承裝置及測定裝置係藉由於空氣軸承裝置之墊部設置賦予抽吸力之抽吸區域,而能夠以更高精度進行空氣軸承裝置之懸浮量之控制。因此,藉由具備空氣軸承裝置之各種加工裝置,可對被加工物之平坦度、翹曲、或平面度或厚度等更高精度地進行加工。特別是根據本發明之具備空氣軸承裝置之測定裝置,能夠以更高精度對被測定物之平坦度、翹曲、或平面度或厚度等進行測定,因此於後續步驟中,可實現使用該被測定物進行加工之製品之薄厚度化。
101‧‧‧測定裝置
103‧‧‧空氣軌道
104‧‧‧噴出區域
105‧‧‧雷射位移計
106‧‧‧抽吸區域
107‧‧‧壓盤
108‧‧‧上表面
108a‧‧‧處理區域
108b‧‧‧支持區域
109‧‧‧上表面支持空氣軸承裝置
110‧‧‧第1墊部
111‧‧‧多孔質體
112‧‧‧反軸承面
113‧‧‧吸氣槽部
114‧‧‧軸承面
115‧‧‧支架
115a‧‧‧水平保持部
115b‧‧‧第1支持部
115c‧‧‧第2支持部
115d‧‧‧第3支持部
116‧‧‧固定槽
117‧‧‧側面支持空氣軸承裝置
118‧‧‧側面支持空氣軸承裝置
119‧‧‧側面
121‧‧‧進氣貫通路
123‧‧‧吸氣槽
125‧‧‧供氣貫通路
131‧‧‧球接頭
133‧‧‧第1墊部
134‧‧‧第2墊部
135‧‧‧控制部
204‧‧‧噴出區域
211‧‧‧多孔質體
212‧‧‧反軸承面
214‧‧‧軸承面
223‧‧‧供氣槽
225‧‧‧供氣貫通路
L‧‧‧箭頭
W‧‧‧方向
圖1係模式性地表示第1實施形態之測定裝置之前視圖。
圖2係圖1所示之測定裝置之俯視圖。
圖3係圖1所示之上表面支持空氣軸承裝置之第1墊部之仰視圖。
圖4係沿圖3之線IV-IV之第1墊部之剖視圖。
圖5係左側側面支持空氣軸承裝置之沿第2墊部之直徑之剖視圖。
圖6係模式性地表示圖1之測定裝置之第1及第2墊部之配置之模式俯視圖。
圖7係模式性地表示第2實施形態之測定裝置之第1及第2墊部之配置之模式俯視圖。
圖8係模式性地表示第3實施形態之測定裝置之第1墊部之配置之模式俯視圖。
以下,參照圖式對本發明之具備空氣軸承裝置之測定裝置之實施形態進行說明。再者,本發明並不受該實施形態限定。
(第1實施形態)
圖1係模式性地表示第1實施形態之測定裝置101之前視圖,圖2係圖1所示之測定裝置101之俯視圖,圖3係圖1所示之上表面支持空氣軸承裝置109之第1墊部110之仰視圖,圖4係沿圖3之線IV-IV(第1墊部110之直徑)之第1墊部110之剖視圖,圖5係左側側面支持空氣軸承裝置118之沿第2墊部134之直徑之剖視圖,圖6係模式性地表示圖1之測定裝置之第1墊部110、133、第2墊部134之配置之模式俯視圖。
實施形態之測定裝置101主要包括:雷射位移計105,其係用以測定作為被測定物之空氣軌道103之平坦度(JISC2504:1999)、翹曲(JISB0415:1975)、或平面度(JISB0182:1993)之測定機構;壓盤107,其係具有供配置藉由雷射位移計105所測定之空氣軌道103之處理區域108a之載置機構;支架115,其係供安裝雷射位移計105且可相 對於壓盤107相對移動之支持構件;及上表面支持空氣軸承裝置109,其係用以使支架115自壓盤107相隔特定距離地懸浮的安裝於支架115之空氣軸承裝置。再者,空氣軌道103係構成藉由噴出氣體而非接觸地支持薄厚度玻璃基板等被處理物之空氣懸浮搬送裝置之構件。
進而,上表面支持空氣軸承裝置109具備為墊部之第1墊部110,且於第1墊部110設置有軸承面114,該軸承面114具有用以賦予藉由噴出氣體而產生之懸浮力之噴出區域104、及設置有用以賦予抽吸力之吸氣槽部113之抽吸區域106。藉由自第1墊部110所賦予之懸浮力與抽吸力,可使安裝有雷射位移計105之支架115自壓盤107相隔特定距離地懸浮。再者,本實施形態之測定裝置101除上表面支持空氣軸承裝置109之外,亦包括下文所述之左右側面支持空氣軸承裝置117、118。
壓盤107為長方體形狀,其平坦之上表面108具有於俯視下為矩形狀之處理區域108a、及於上表面108之與箭頭L方向正交之方向上隔著處理區域108a所配置之支持區域108b。處理區域108a係測量直至所載置之空氣軌道103為止之距離之區域,支持區域108b係上表面支持空氣軸承裝置105之第1墊部110於圖2之箭頭L方向上藉由先前以來已知之未圖示之驅動機構而移動之區域。
支架115包括:水平保持部115a,其安裝有雷射位移計105;2個第1支持部115b,其等在與水平保持部115a交叉之方向延伸,且安裝有上表面支持空氣軸承裝置109;第2支持部115c,其安裝有右側面支持空氣軸承裝置117;第3支持部115d,其安裝有左側面支持空氣軸承裝置118。支架115藉由上表面支持空氣軸承裝置109、右側面支持空氣軸承裝置117及左側面支持空氣軸承裝置118而不接觸地支持於壓盤107。
水平保持部115a以於壓盤107之寬度方向(圖1及圖2之左右方向) 橫穿之方式延伸,且越過壓盤107之右側側面119而終止。於其終端部,於前視下配置於右側之第2支持部115c相對於水平保持部115a垂直地延伸。於該第2支持部115c之前端部,安裝有作為右側面支持空氣軸承裝置117之墊部之第1墊部133。
又,於前視下配置於左側之第3支持部115d為倒L字形狀之構件,其一端部與配置於前視左側之第1支持部115b之前端部連結,於第3支持部115d之另一端部,安裝有作為左側面支持空氣軸承裝置118之墊部之第2墊部134。
進而,一對第1支持部115b自水平保持部115a延伸,而於與壓盤107之上表面108之支持區域108b對應之位置可配置上表面支持空氣軸承裝置109之第1墊部110。於一對第1支持部115b之各者之前端部,經由先前以來已知之球接頭131而安裝有上表面支持空氣軸承裝置109之第1墊部110。
如此,支架115藉由上表面支持空氣軸承裝置109及側面支持空氣軸承裝置117、118,而自壓盤107之上表面108及側面119相隔特定距離地懸浮,並且於壓盤107之W方向(支架115之水平保持部115a之長度方向、與圖2之L方向正交之方向)之移動係受到右側面支持空氣軸承裝置117、左側面支持空氣軸承裝置118限制。再者,於圖1之前視下,支架115之向上方向之移動如下文所述,受到上表面支持空氣軸承裝置109之抽吸力限制。
對本實施形態之測定裝置101中所使用之上表面支持空氣軸承裝置109進行說明。再者,如圖6所示,於壓盤107之上表面108上在前視下左右分別各配置二個的上表面支持空氣軸承裝置109之雙第1墊部110為相同形狀、構成、尺寸。又,右側面支持空氣軸承裝置117具備能夠以特定壓力供給特定流量之氣體之壓縮機等氣體供給源(未圖示)、及自氣體供給源供給氣體之第1墊部133。左側面支持空氣軸承 裝置118具備能夠以特定壓力供給特定流量之氣體之壓縮機等氣體供給源(未圖示)、及自氣體供給源供給氣體之第2墊部134。因此,當操作者操作測定裝置101時,可根據來自控制部135之驅動信號而自未圖示之氣體供給源向第1墊部110、133及第2墊部134供給氣體,並且自第1墊部110、133及第2墊部134噴出氣體,藉此產生懸浮力。
上表面支持空氣軸承裝置109之第1墊部110及右側面支持空氣軸承裝置117之第1墊部133雖尺寸不同,但為相同形狀、構成,因此對上表面支持空氣軸承裝置109之第1墊部110進行說明。再者,如圖6所示,右側面支持空氣軸承裝置117具有於箭頭L方向上相互隔開地配置且相互相同之形狀、尺寸、構成之2個第1墊部133。
上表面支持空氣軸承裝置109具有如圖6所示般於箭頭L方向上相隔之2個第1墊部110。第1墊部110具備如圖3所示般於仰視下為圓形狀之軸承面114。軸承面114具有位於大致中央之抽吸區域106、及包圍抽吸區域106之噴出區域104。抽吸區域106係藉由作為具有特定深度尺寸之凹部的吸氣槽部113而構成。吸氣槽部113於仰視下為圓形狀,如圖4所示,於吸氣槽部113,連通有於第1墊部110之厚度方向貫通之進氣貫通路121。因此,來自真空泵等未圖示之抽吸機構之抽吸力係自作為與軸承面114對向之上表面的反軸承面112側經由進氣貫通路121而賦予至吸氣槽部113。
又,噴出區域104係藉由具有特定厚度之多孔質體111而構成。多孔質體111係於仰視下為圓形環狀之構件,具有使氣體噴出之相互連通之複數個細孔。又,第1墊部110具有:固定槽116,其供安裝多孔質體111;供氣槽123,其於仰視下呈圓形環狀地延伸;及供氣貫通路125,其係與供氣槽123連通且於第1墊部110之厚度方向貫通而至反軸承面112之孔。進而,供氣貫通路125與上述之氣體供給源連結。
再者,如圖3所示,吸氣槽部113於仰視下為圓形,但當然可設為 橢圓形、多角形等各種形狀。亦可藉由具有複數個進氣口之構件或多孔質體代替設置吸氣槽部113而構成抽吸區域。又,供氣槽123、進氣貫通路121及供氣貫通路125之數量、形狀、位置可適當變更。
若上述構成之上表面支持空氣軸承裝置109及右側面支持空氣軸承裝置117自控制部135接收到驅動信號,則自未圖示之氣體供給源向第1墊部110、133供給特定壓力及特定流量之氣體。供給至第1墊部110、133之氣體係通過供氣貫通路125及供氣槽123自多孔質體111之細孔噴出而與壓盤107之上表面108及側面119碰撞,從而向第1墊部110、133賦予懸浮力。
繼而,對左側面支持空氣軸承裝置118之第2墊部134進行說明。左側面支持空氣軸承裝置118具備單個第2墊部134。第2墊部134與上述之第1墊部110相同,具有於仰視下為圓形狀之軸承面214,軸承面214係藉由具有特定厚度之多孔質體211而構成。即,第2墊部134之軸承面214與第1墊部110之軸承面114不同,不具備抽吸區域而僅具備噴出區域204。噴出區域204係藉由多孔質體211而構成。
多孔質體211係於仰視下為圓形狀之構件,具有使氣體噴出之相互連通之複數個細孔。又,第2墊部134與第1墊部110相同,具有:供氣槽223,其於仰視下呈圓形環狀地延伸;及供氣貫通路225,其係與供氣槽223連通且於第2墊部134之厚度方向貫通而至反軸承面212之孔。進而,供氣貫通路225與上述之氣體供給源連結。
供給至上述構成之第2墊部134之氣體係通過供氣貫通路225及供氣槽223自多孔質體211之細孔噴出而與壓盤107之側面119碰撞,從而向第2墊部134賦予懸浮力。
以上之構成中,若測定裝置101根據來自控制部135之驅動信號,自氣體源向上表面支持空氣軸承裝置109及左右側面支持空氣軸承裝置117、118供給特定壓力之氣體(即壓縮氣體),則壓縮氣體自多 孔質體111、211噴出,從而使支架115以自壓盤107之上表面108及側面119相隔特定距離之狀態被支持。
進而,未圖示之抽吸機構亦根據來自控制部135之驅動信號而被驅動,自吸氣槽部113對壓盤107之上表面108及側面119賦予特定之抽吸力。藉由適當控制懸浮力與抽吸力,而將軸承面114以與壓盤107之上表面108及側面119相隔特定距離之狀態保持。如此,於軸承面114設置可賦予抽吸力之功能,藉此可賦予藉由噴出氣體而產生之懸浮力和朝與其對向之方向作用之抽吸力,可提高與懸浮量相關之控制之精度。
測定裝置101如上所述般在使支架115自壓盤107懸浮之狀態下,雷射位移計105根據控制部135之驅動信號對載置於處理區域108a之空氣軌道103之平坦度、翹曲、或平面度進行測定。再者,於本實施形態中,雷射位移計105使用先前以來已知之測定機構,該測定機構具備照射半導體雷射等光線之發光元件、及接收自被測定物所反射之光線之受光元件。
(第2實施形態)
參照圖7,對第2實施形態之測定裝置進行說明。圖7係模式性地表示第2實施形態之測定裝置之第1墊部110、133、第2墊部134之配置之模式俯視圖。第2實施形態之測定裝置係左側面支持空氣軸承裝置134具備2個第2墊部134,此點與具備單個第2墊部134之第1實施形態之測定裝置101不同。第2實施形態之測定裝置之其他構成及效果與第1實施形態之測定裝置101相同,因此省略詳細內容。
再者,控制部135(參照圖1)與上表面支持空氣軸承裝置109之第1墊部110、右側面支持空氣軸承裝置117之第1墊部133、左側面支持空氣軸承裝置118之第2墊部134電性連接,控制各構成要素之動作,詳情省略。
本實施形態係於左側面支持空氣軸承裝置118具備2個第2墊部134之構成,因此與第1實施形態相比,可更精細地調整氣體之噴出量,能夠以更高精度進行支架115(參照圖1)之懸浮量。
(第3實施形態)
參照圖8,對第3實施形態之測定裝置進行說明。圖8係模式性地表示第3實施形態之測定裝置之第1墊部110、133之配置之模式俯視圖。第3實施形態之測定裝置不具備左側面支持空氣軸承裝置,此點與具備左側面支持空氣軸承裝置134之第1實施形態之測定裝置101不同。因此,其係不具備圖1所示之第3支持部115d之構成。第3實施形態之測定裝置之其他構成及效果與第1實施形態之測定裝置101相同,因此省略詳細內容。
本實施形態之構成雖係與壓盤107之側面119對向配置之第1墊部133不僅產生懸浮力、亦產生抽吸力而相對於壓盤107之上表面108與2個側面119之一者控制相隔距離之構成,但亦可使支架115(參照圖1)與壓盤107之間維持為特定距離。如此,於不高精度要求支架之懸浮量之控制之情形時,亦可藉由第3實施形態之構成而實現支架115相對於壓盤107之非接觸支持。
再者,上述第1~第3實施形態中,多孔質體111係以包圍吸氣槽部113之方式構成,但未必需要完全包圍,亦可將多孔質體(或構成噴出口之細孔)以局部地包圍之方式延伸。又,本實施形態中,左側面支持空氣軸承裝置118係設為僅具備噴出區域之構成,但亦可設置抽吸區域。
上述之第1~第3實施形態中係藉由多孔質體111、211之細孔而構成噴出氣體之噴出口,但亦可藉由於板構件設置細孔以代替多孔質體111、211而構成噴出口。
本發明之空氣軸承裝置不僅可應用於測定裝置,亦可應用於非 接觸地支持被支持物之各種支持裝置,其所應用之裝置當然能發揮本發明之效果及作用。
上述第1~第3實施形態中,具有處理區域108a之壓盤107作為載置機構而使用,但本發明之載置機構並不限定於該壓盤。具備用於在塗佈作業、測定作業等中使用之具有特定之平坦度(JISC2504:1999)、翹曲(JISB0415:1975)、或平面度(JISB0182:1993)之平面且具有特定之剛性、硬度、耐磨性之各種台可作為載置機構而利用。又,可利用鑄鐵製之箱型壓盤、JIS壓盤、石壓盤等作為壓盤。
第1~第3實施形態之支架係橫跨壓盤107之上表面108所設置之門型支持構件,但亦可設為具備於橫穿上表面108之方向延伸之保持構件、及與保持構件一端部連結且支持於壓盤之支持構件的懸臂樑狀之支持構件。
第1及第2實施形態係具備與壓盤107之一側面對向之第1墊部133、及與另一側面119對向之第2墊部134之測定裝置,但本發明之測定裝置並不限定於上述構成。亦可設為以與兩側面119對向之方式設置第2墊部之構成。進而,於箭頭L方向上之第1墊部110、133之數量或位置可適當變更。例如於上述實施形態中係於箭頭L方向具備複數個第1墊部110、133之構成,但亦可設為具備單個第1墊部之構成。又,亦可設為將具備第1與第2墊部之上表面支持空氣軸承裝置與上表面108對向配置之構成。
於第1~第3實施形態中,與壓盤107之上表面108對向配置之第1墊部110和與側面119對向配置之第1墊部133係作為獨立個體而構成,但本發明並不限定於該構成。例如,亦可設為墊部具備可與上表面108及側面119之兩者對向配置且於前視下為L字形狀之軸承面的構成。
第1~第3實施形態中之壓盤107係水平之上表面108與連接於上 表面108之兩端部之兩側面119相互正交之構成,但本發明之空氣軸承裝置可利用之載置機構並不限定於該構成。例如,不論壓盤107之上表面108為相對於水平方向傾斜之面,或側面119為相對於圖1之鉛垂方向傾斜之面,只要墊部具備可相對於載置機構之面平行延伸之軸承面,便均可達成本發明之空氣軸承裝置之目的。
本申請案係主張於2014年2月18日所申請之日本專利申請案2014-028034號之權益者,其內容整體作為參照而引用於本說明書中。
104‧‧‧噴出區域
106‧‧‧抽吸區域
109‧‧‧上表面支持空氣軸承裝置
110‧‧‧第1墊部
111‧‧‧多孔質體
113‧‧‧吸氣槽部
114‧‧‧軸承面
121‧‧‧進氣貫通路
123‧‧‧吸氣槽
125‧‧‧供氣貫通路

Claims (12)

  1. 一種空氣軸承裝置,其特徵在於:包括可利用藉由噴出氣體所產生之懸浮力而懸浮之墊部,上述墊部包括第1墊部,該第1墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域及賦予抽吸力之抽吸區域。
  2. 如請求項1之空氣軸承裝置,其中於上述噴出區域配置有多孔質體,於上述抽吸區域設置有吸氣槽。
  3. 如請求項1或2之空氣軸承裝置,其中上述噴出區域係以包圍上述抽吸區域之方式配置。
  4. 如請求項1或2之空氣軸承裝置,其中上述墊部包括第2墊部,該第2墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域,但不具備賦予抽吸力之抽吸區域。
  5. 如請求項3之空氣軸承裝置,其中上述墊部包括第2墊部,該第2墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域,但不具備賦予抽吸力之抽吸區域。
  6. 一種測定裝置,其特徵在於包括:測定機構,其用以測定被測定物之平坦度、翹曲或平面度;載置機構,其供配置上述被測定物;支持構件,其供安裝上述被測定物,且可相對於上述載置機構相對移動;及空氣軸承裝置,其安裝於上述支持構件,用以使上述支持構件自上述載置機構相隔特定距離地懸浮;且上述空氣軸承裝置包括可利用藉由噴出氣體所產生之懸浮力而懸浮之墊部,上述墊部包括第1墊部,該第1墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域及賦予抽吸力之抽吸區 域。
  7. 如請求項6之測定裝置,其中於上述噴出區域配置有多孔質體,於上述抽吸區域設置有吸氣槽。
  8. 如請求項6或7之測定裝置,其中上述噴出區域係以包圍上述抽吸區域之方式配置。
  9. 如請求項6或7之測定裝置,其中上述載置機構具備供載置上述被測定物之上表面、及於相對於上述上表面交叉之方向延伸之第1側面,上述第1墊部係以其上述軸承面與上述上表面及上述第1側面對向之方式配置。
  10. 如請求項8之測定裝置,其中上述載置機構具備供載置上述被測定物之上表面、及於相對於上述上表面交叉之方向延伸之第1側面,上述第1墊部係以其上述軸承面與上述上表面及上述第1側面對向之方式配置。
  11. 如請求項9之測定裝置,其中上述載置機構具備與上述第1側面對向之第2側面,上述墊部具有第2墊部,該第2墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域、但不具備賦予抽吸力之抽吸區域,且與上述第2側面對向。
  12. 如請求項10之測定裝置,其中上述載置機構具備與上述第1側面對向之第2側面,上述墊部具有第2墊部,該第2墊部具有軸承面,該軸承面具備噴出氣體之噴出區域、但不具備賦予抽吸力之抽吸區域,且與上述第2側面對向。
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