TW201514118A - 具有玻璃層及玻璃陶瓷層之物品以及製作該物品之方法 - Google Patents

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Abstract

本發明揭露一種玻璃陶瓷組成物，包括：約60莫耳%至小於72.0莫耳%的SiO2；約10莫耳%至約17莫耳%的Al2O3；約3莫耳%至約15莫耳%的Na2O；約1莫耳%至約8莫耳%的Li2O；以及約3莫耳%至約7莫耳%的TiO2。該玻璃陶瓷組成物可用於形成疊層玻璃物品中之一、二或多層包覆層，其中該(該等)玻璃陶瓷材料層可經陶瓷化以形成一或多層玻璃層。

Description

具有玻璃層及玻璃陶瓷層之物品以及製作該物品之方法 【交叉參照之相關申請案】
本申請案根據專利法主張2013年10月4日申請之國際專利申請案第PCT/US13/63400號之優先權之權利，該申請案依據指定美國案之內容且該案之內容以引用之方式全文併入本文中。
本發明一般關於包含玻璃層和玻璃陶瓷層之物品，且更具體而言，本發明關於包含玻璃核心的層疊物品，該玻璃核心夾於第一包覆層與第二包覆層之間，該等包覆層之至少一者包含一玻璃陶瓷組成物。
玻璃物品，諸如覆蓋玻璃、玻璃底板等，係被用於消費電子裝置及商業電子裝置，諸如LCD及LED顯示器、電腦監視器、自動櫃員機(ATM)等。這些玻璃物品中之一些可包括「觸摸」功能，該功能使得玻璃物品必須由包括使用者手指及/或手寫筆裝置之各種物品接觸，因此，玻璃必須足夠堅 固以容許常規接觸而無損壞。此外，該等玻璃物品亦可併入可攜式電子裝置，諸如行動電話、個人媒體播放機及平板電腦中。併入這些裝置中之玻璃物品在相關裝置之運輸及/或使用期間可能易於損壞。因此，用於電子裝置中之玻璃物品可能需要增大之強度以便不僅能耐受實際使用之日常「觸摸」接觸，還能耐受在運輸裝置時可能發生之偶發接觸及衝擊。
根據本文所揭露之實施例，玻璃物品包含玻璃核心層，該玻璃核心層係設置於第一玻璃包覆層與第二玻璃包覆層之間。在這些實施例之一些實施例中，核心玻璃具有第一表面及相對於該第一表面之第二表面，其中第一玻璃包覆層係融合至玻璃核心層之第一表面，且第二玻璃包覆層係融合至玻璃核心層之第二表面。在其他實施例中，第一漫射玻璃層係設置於玻璃核心層與第一玻璃包覆層之間；此外，第二漫射玻璃層係設置於玻璃核心層與第二玻璃包覆層之間；這些漫射層可在，例如，融合形成製程期間形成。
在一些實施例中，第一玻璃包覆層和第二玻璃包覆層係由玻璃陶瓷組成物形成，該玻璃陶瓷組成物包含：約64莫耳%至約72莫耳%的SiO2；約11莫耳%至約16莫耳%的Al2O3；約4莫耳%至約13莫耳%的Na2O；約2莫耳%至約7莫耳%的Li2O；以及約4莫耳%至約6莫耳%的TiO2。玻璃組成物可進一步包含約0.1莫耳%至約5莫耳%的鹼土氧化物。鹼土氧化物至少包含MgO。MgO可以約0.5莫耳%至約2莫 耳%的濃度存在於玻璃組成物中。
根據一組實施例，本文所揭露之玻璃陶瓷組成物包含：約60莫耳%至小於72.0莫耳%的SiO2；約10莫耳%至約17莫耳%的Al2O3；約3莫耳%至約15莫耳%的Na2O；約1莫耳%至約8莫耳%的Li2O；以及約3莫耳%至約7莫耳%的TiO2。玻璃陶瓷組成物可用於形成疊層玻璃物品中之一、二或多層包覆層，其中該(該等)玻璃陶瓷材料層可經陶瓷化以形成一或多層玻璃層。
根據另一組實施例，用於該(該等)表面層(skin layer)或包覆層之玻璃陶瓷組成物可包含約64莫耳%至小於72.0莫耳%的SiO2；約11莫耳%至約16莫耳%的Al2O3；約4莫耳%至約13莫耳%的Na2O；約2莫耳%至約7莫耳%的Li2O；以及約4莫耳%至約6莫耳%的TiO2作為玻璃陶瓷網絡形成體。玻璃組成物可進一步包含約0.1莫耳%至約5莫耳%的鹼土氧化物。在一些實施例中，鹼土氧化物至少包含MgO。MgO可以約0.5莫耳%至約2莫耳%的濃度存在於玻璃組成物中。在一些實施例中，玻璃陶瓷組成物具有在大於約20,000泊(poise)之範圍的液相線(liquidus)，且在一些實施中，玻璃陶瓷組成物具有大於約25,000poise的液相線及在一些實施例中玻璃陶瓷組成物具有大於約28,000poise的液相線。在陶瓷化之前，玻璃陶瓷組成物具有約35x10-7至約80x10-7之熱膨脹係數(CTE)，及在一些實施例中具有約40x10-7至約72x10-7之熱膨脹係數；在一些實施例中，玻璃核心之玻璃組成物將具有對應的熱膨脹係數。在陶瓷化之後， 玻璃陶瓷組成物具有約5x10-7至約25x10-7之熱膨脹係數，及在一些實施例中具有約10x10-7至約20x10-7之熱膨脹係數。最終包覆(表面)組成物(在陶瓷化之後)與核心之間的淨CTE差將在約20x10-7至約62x10-7之範圍內。因此，最終表面/包覆組成物與玻璃核心之間可能的CTE差可高於單獨使用玻璃對所達到者。例如，具有CTE為90x10-7的核心玻璃(如玻璃編號2317)可與一表面層一起使用，作為具有預陶瓷CTE為70x10-7的玻璃陶瓷組成物之一；此組合可在拉伸塔柱上切割，然後使外表面層陶瓷化成例如CTE為5x10-7至20x10-7，導致表面層與核心層之間的最終CTE差為約70x10-7至85x10-7，該CTE差可以遠高於已知單獨玻璃組成物之性能，從而也導致更高的壓縮應力。在一些實施例中，玻璃陶瓷材料可具有負CTE，因此可使用玻璃陶瓷包覆層來達到核心層與表面層之間極高的CTE差。在一些實施例中，當核心層和包覆層在熔融或黏性狀態時，核心層與包覆層之CTE之間的差係小於5x10-7/C。
玻璃陶瓷組成物係特別非常適合用作疊層玻璃物品(諸如藉由融合疊層製程形成之疊層玻璃物品)中之玻璃陶瓷包覆層。
玻璃組成物及由玻璃組成物形成之玻璃物品之額外特徵及優勢將在此詳細描述於以下說明中，且部分地對於此技術領域中具有通常知識者而言能清楚明瞭，或可藉由實施本文所述的實施例(包括下文詳細描述、申請專利範圍以及附圖)而瞭解。
應瞭解前述一般描述及以下詳細描述兩者皆描述各種實施例且意在提供概述或架構，用於理解所主張標的之本質及特徵。隨附圖式提供對各種實施例之進一步理解，且隨附圖式併入此說明書中且構成此說明書之部分。圖式說明本文所述之各種實施例，且與本文一起用於解釋所主張標的之原理及操作。
100‧‧‧疊層玻璃物品
102‧‧‧玻璃核心層
104a‧‧‧第一玻璃包覆層
104b‧‧‧第二玻璃包覆層
200‧‧‧疊層融合拉伸設備
202‧‧‧上部等管
204‧‧‧下部等管
206‧‧‧熔融玻璃覆蓋組成物
208‧‧‧熔融玻璃核心組成物
210、212‧‧‧槽
216、218‧‧‧表面
220‧‧‧根部
222、224‧‧‧表面
第1圖係根據本文所示及所述之一或多個實施例示意性地繪示疊層玻璃物品的截面圖；以及第2圖係示意性地繪示用於製造第1圖之玻璃物品之融合拉伸製程。
現將詳細參考本文所揭露的玻璃陶瓷組成物及包含該玻璃陶瓷組成物之物品的實施例，該等實施例之實例將於隨附圖式中圖示。任何可能的時候，在各圖式中將使用相同元件符號以表示相同或相似部分。本文所述之玻璃陶瓷組成物可連同核心玻璃組成物一起使用，以生產疊層玻璃物品，該等疊層玻璃物品經壓縮地加壓，而不會造成離子交換。在一些實施例中，當核心層和包覆層在熔融或黏性狀態時，核心層與包覆層之CTE之間的差係小於5x10-7/C。
在一組實施例中，用於該(該等)表面層或包覆層之玻璃陶瓷組成物包含約64莫耳%至小於72.0莫耳%的 SiO2；約11莫耳%至約16莫耳%的Al2O3；約4莫耳%至約13莫耳%的Na2O；約2莫耳%至約7莫耳%的Li2O；以及約4莫耳%至約6莫耳%的TiO2作為玻璃陶瓷網絡形成體。玻璃組成物可進一步包含約0.1莫耳%至約5莫耳%的鹼土氧化物。鹼土氧化物至少包括MgO。MgO可以約0.5莫耳%至約2莫耳%的濃度存在於玻璃組成物中。在一些實施例中，玻璃陶瓷組成物具有在大於約20,000poise之範圍的液相線，且在一些實施中玻璃陶瓷組成物具有大於約25,000poise的液相線及在一些實施例中玻璃陶瓷組成物具有大於約28,000poise的液相線。在陶瓷化之前，玻璃陶瓷組成物具有約35×10-7至約80×10-7之熱膨脹係數(CTE)，及在一些實施例中玻璃陶瓷組成物具有約40×10-7至約72×10-7之熱膨脹係數；在一些實施例中，玻璃核心之玻璃組成物將具有對應的熱膨脹係數。在陶瓷化之後，玻璃陶瓷組成物具有約5×10-7至約25×10-7之熱膨脹係數，及在一些實施例中玻璃陶瓷組成物具有約10×10-7至約20×10-7之熱膨脹係數。最終包覆(表面)組成物(在陶瓷化之後)與核心之間的淨CTE差將在約20×10-7至約62×10-7之範圍內。因此，最終表面/包覆組成物與玻璃核心之間可能的CTE差可高於單獨使用玻璃對所達到者。例如，具有CTE為90×10-7的核心玻璃(如玻璃編號2317)可與一表面層一起使用，作為具有，例如，預陶瓷CTE為70×10-7的玻璃陶瓷組成物之一；此組合可在拉伸塔柱上切割，然後使外表面層陶瓷化成例如CTE為5×10-7至20×10-7，導致表面層與核心層之間的最終CTE差為約70×10-7至85×10-7，該CTE差 可遠高於已知單獨玻璃組成物之性能，從而也導致更高的壓縮應力。在一些實施例中，玻璃陶瓷材料可具有負CTE，因此可使用玻璃陶瓷包覆層來達到核心層與表面層之間極高的CTE差。在一些實施例中，當核心層和包覆層在熔融或黏性狀態時，核心層與包覆層之CTE之間的差係小於5x10-7/C。將具體參考附圖，進而在本文中更詳細地描述玻璃組成物及由玻璃組成物形成之玻璃物品。
如本文使用之術語「液相黏度」係指玻璃組成物在該玻璃組成物之液相溫度下之剪切黏度。
如本文使用之術語「液相溫度」係指在玻璃組成物中發生反玻化時之最高溫度。
如本文使用之術語「CTE」係指在約20℃至約300℃之溫度範圍內取平均值之玻璃組成物之熱膨脹係數。
當用以描述玻璃組成物中缺乏特定氧化物成分時，術語「實質上無」意謂該成分作為污染物，以小於1莫耳%之極微量存在於玻璃組成物中。
本文所述之玻璃組成物之實施例中，除非另外規定，否則組成成分(例如SiO2、Al2O3、Na2O等)之濃度基於氧化物以莫耳百分比(莫耳%)給定。
本文所述之玻璃陶瓷組成物具有諸如液相黏度及液相溫度之特性，該等特性使玻璃陶瓷組成物尤其非常適合用於融合形成製程，該製程諸如融合下拉伸製程及/或熔合層疊製程。這些特性可歸因於玻璃之特定組成物，如將在本文更詳細描述。
本文所述之玻璃組成物之實施例中，SiO2係組成物之最大組分，且如此，SiO2係由玻璃陶瓷組成物所形成之玻璃網絡之主要組分。純SiO2具有相對低之CTE且無鹼。然而，純SiO2具有極高之熔點。因此，若本文所述之玻璃組成物中之SiO2濃度太高，則玻璃組成物之可塑性會隨著較高SiO2濃度增加熔化玻璃之難度而減弱，此又不利地影響玻璃之可塑性。
本文所述之玻璃組成物亦包含Al2O3。Al2O3作為玻璃網絡形成體，類似於SiO2。像SiO2一樣，由於Al2O3在由玻璃組成物形成之玻璃熔體中之四面體配位，故Al2O3可提高玻璃組成物之黏度。然而，當Al2O3濃度與玻璃組成物中SiO2濃度及鹼土氧化物濃度相平衡時，Al2O3可降低玻璃熔體之液相溫度，因此以某種形成製程(諸如融合形成製程)增強液相黏度及改良玻璃組成物之相容性。
在本文所述之實施例中，玻璃組成物中之Al2O3濃度大體上小於或等於約20莫耳%，以達成具有所欲液相溫度之組成物。舉例而言，在一些實施例中，玻璃組成物中之Al2O3濃度大於或等於約10莫耳%且小於或等於約16莫耳%。
本文所述之玻璃組成物可選擇性包含一或多個澄清劑。澄清劑可包含，例如，SnO2、As2O3、Sb2O3及前述澄清劑的組合。澄清劑可以大於或等於約0莫耳%且小於或等於約0.5莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在例示性實施例中，澄清劑為SnO2。在這些實施例中，SnO2可以大於約0莫耳%且小於或等於約0.2莫耳%或甚至小於或等於0.15莫耳%之濃度 存在於玻璃組成物中。
在本文所述之一些實施例中，玻璃組成物可進一步包含微量的其他氧化物。
在本文所述之一些實施例中，玻璃組成物實質上無重金屬及含有重金屬之化合物。實質上無重金屬及含有重金屬之化合物之玻璃組成物亦可被稱作「翠綠(SuperGreen)」玻璃組成物。如本文使用之術語「重金屬」係指Ba、As、Sb、Cd及Pb。
本文所述之玻璃陶瓷組成物具有液相黏度，該液相黏度使玻璃陶瓷組成物適合用於融合下拉伸製程，且尤其適合使用作為在融合層疊製程中之玻璃包覆組成物。
儘管在上文已參考用於每一玻璃陶瓷組成物之各種構成組分(諸如SiO2、Al2O3、Na2O等)之特定組成範圍描述例示性玻璃陶瓷組成物，但應瞭解每一構成成分之每一組成範圍可包括用於彼構成成分之一或多個較窄組成範圍，如上所述。進一步，亦應瞭解，構成成分之該些較窄範圍及/或各種構成成分之間的關係可併入本文所述之玻璃陶瓷組成物之實施例中之任一實施例中，以便生產具有所欲特性之玻璃。
現參看第1圖，本文所述之玻璃組成物可用以形成物品，諸如示意性地描繪於第1圖之截面圖中之疊層玻璃物品100。疊層玻璃物品100大體上包含玻璃核心層102及一對玻璃包覆層104a、104b。本文所述之玻璃陶瓷組成物尤其非常適合作為玻璃包覆層，如將在本文中更詳細地論述。
第1圖圖示玻璃核心層102，玻璃核心層102包含 第一表面103a與第二表面103b，第二表面103b與第一表面103a相對。第一玻璃包覆層104a係直接融合至玻璃核心層102之第一表面103a，且第二玻璃包覆層104b係直接融合至玻璃核心層102之第二表面103b。陶瓷化後，玻璃包覆層104a、104b融合至玻璃核心層102，無需任何額外材料，諸如設置在玻璃核心層102與玻璃包覆層104a、104b之間的黏合劑、聚合物層、塗層等。因此，玻璃核心層之第一表面與第一玻璃包覆層直接鄰接，且玻璃核心層之第二表面與第二玻璃包覆層直接鄰接。在一些實施例中，玻璃核心層102及玻璃包覆層104a、104b係經由融合疊層製程形成。漫射層(未圖示)可形成於玻璃核心層102與玻璃包覆層104a之間，或漫射層(未圖示)可形成玻璃核心層102與玻璃包覆層104b之間、或兩者皆可。
在本文所述之疊層玻璃物品100之至少一些實施例中，玻璃包覆層104a、104b係由具有平均包覆熱膨脹係數CTEclad之第一玻璃陶瓷組成物形成，且玻璃核心層102係由具有平均熱膨脹係數CTEcore之不同的第二玻璃組成物形成。
具體來說，本文所述之玻璃物品100可藉由融合疊層製程形成，諸如，描述於美國專利第4,214,886號之製程，該專利係以引用之方式併入本文中。例如，參看第2圖，用於形成疊層玻璃物品之疊層融合拉伸設備200包含上部等管202，該上部等管202定位於下部等管204上方。上部等管202包含槽210，熔融玻璃覆蓋組成物206係自熔化器(未圖示)輸送至槽210中。類似地，下部等管204包含槽212，熔融玻璃 核心組成物208係自熔化器(未圖示)輸送至槽212中。在本文所述之實施例中，熔融玻璃核心組成物208具有適當的高液相黏度，以在下部等管204上方運行。
當熔融玻璃核心組成物208填充槽212時，熔融玻璃核心組成物208溢出槽212且在下部等管204之外部形成表面216、218上流動。下部等管204之外部形成表面216、218在根部220處會聚。因此，在外部形成表面216、218上流動之熔融玻璃核心組成物208在下部等管204之根部220處再聚合，從而形成疊層玻璃結構之玻璃核心層102。
同時地，熔融玻璃陶瓷覆蓋組成物206溢出形成於上部等管202中之槽210且在上部等管202之外部形成表面222、224上流動。熔融玻璃陶瓷覆蓋組成物206具有較低液相黏度要求以在上部等管202上運行，且當以玻璃的形式存在時，熔融玻璃陶瓷覆蓋組成物206將具有等於或小於玻璃核心組成物208的CTE(例如，約5×10-7)。熔融玻璃陶瓷覆蓋組成物206由於上部等管202向外偏轉以使熔融玻璃覆蓋組成物206環繞下部等管204流動且接觸熔融玻璃核心組成物208，其中該熔融玻璃核心組成物208在下部等管之外部形成表面216、218上流動，融合至熔融玻璃核心組成物且在玻璃核心層102周圍形成預陶瓷化的玻璃包覆層104a、104b。
在一些實施例中，在所形成的疊層片材中，包覆厚度也將顯著薄於核心玻璃厚度，使得包覆為壓縮狀態而核心為拉伸狀態。但是CTE差低，核心中的拉伸應力幅度將非常低(例如，10MPa或更低的等級)，由於核心的低拉伸程度，將 使得生產的疊層片材相對容易切斷拉伸。因此可從融合拉伸設備拉伸的疊層結構切割片材，且在片材切割之後，切割產物可接著進行適合的陶瓷化製程，陶瓷化製程使包覆層陶瓷化成適當深度和幅度。陶瓷化可僅由加熱疊層結構至適當溫度而完成，或可在適當高溫下由離子交換包覆而完成。接著，包覆上的玻璃陶瓷組成物將具有明顯比核心更低的CTE，且在降溫後，玻璃陶瓷組成物將產生顯著較高的壓縮應力。亦即，包覆層包含玻璃陶瓷組成物，該玻璃陶瓷組成物可陶瓷化成具有比核心更低的CTE。因此，此製程可以降低在拉伸塔上切割高度應力化的疊層產物的困難。因為包覆之玻璃陶瓷組成物的關係，本發明製程利用形成疊層結構之分開步驟及隨後在該結構之期望部分中造成適當應力程度來提供高壓縮應力產物，而不具有與在拉伸塔處切割或在拉伸塔上切割相關的問題。
儘管在本文已描述作為玻璃包覆層104a、104b之特定的玻璃陶瓷組成物，但應瞭解在此所述之玻璃陶瓷組成物中之任一者可用於形成疊層玻璃物品100之玻璃包覆層104a、104b。
實施例
經由以下實例進一步闡明本文所述之玻璃組成物之各種實施例。
表1列出本發明玻璃陶瓷組成物之組成物(即，實施例1至6)。
本文所揭露的疊層玻璃物品可用於多種消費電子裝置中，該等消費電子裝置包括，但不限於，行動電話、個人音樂播放機、平板電腦、LCD及LED顯示器、自動櫃員機等。
在一些實施例中，疊層玻璃物品可包含不透明、透明或半透明的一或多層，諸如，來自玻璃陶瓷組成物之包覆層，其中該包覆層在陶瓷化之後為不透明、透明或半透明。此外，可以利用呈片材形式的玻璃陶瓷。
再者，儘管在本文已具體提及使用玻璃組成物作為疊層玻璃物品之包覆層，但應瞭解玻璃組成物亦可用以單獨形成玻璃物品(亦即，非疊層玻璃物品)，諸如(例如)用於電子裝置之蓋玻璃、用於顯示裝置之底板玻璃及其他類似玻璃物品。
在此技術領域中具有通常知識者能清楚明瞭，可對本文所述之實施例做各種修改及變化而不脫離所主張標的之精神及範疇。因此，本說明書意欲涵蓋本文所述之各種實施例之修改及變化，該修改及變化在隨附申請專利範圍及申請 專利範圍之等效物範疇內。
100‧‧‧疊層玻璃物品
102‧‧‧玻璃核心層
104a‧‧‧第一玻璃包覆層
104b‧‧‧第二玻璃包覆層

Claims (21)

  1. 一種玻璃陶瓷組成物，包含：約60莫耳%至小於72.0莫耳%的SiO2；約10莫耳%至約17莫耳%的Al2O3；約3莫耳%至約15莫耳%的Na2O；約1莫耳%至約8莫耳%的Li2O；以及約3莫耳%至約7莫耳%的TiO2。
  2. 如請求項1所述之玻璃陶瓷組成物，進一步包含約0.1莫耳%至約5莫耳%的鹼土氧化物。
  3. 如請求項2所述之玻璃陶瓷組成物，其中該鹼土氧化物包含：約0.5莫耳%至約2莫耳%的MgO。
  4. 如請求項1所述之玻璃陶瓷組成物，進一步包含約0.1莫耳%至約5莫耳%的鹼土氧化物。
  5. 如請求項2所述之玻璃陶瓷組成物，其中該鹼土氧化物包含：約0.5莫耳%至約2莫耳%的MgO。
  6. 如請求項1所述之玻璃組成物，其中該玻璃陶瓷組成物進一步包含SnO2、As2O3及Sb2O3中之至少一者作為一澄清劑。
  7. 如請求項6所述之玻璃組成物，其中該澄清劑係以大於0莫耳%且小於或等於約0.5莫耳%之濃度存在於該玻璃組成物中。
  8. 如請求項6所述之玻璃組成物，其中該澄清劑係SnO2，該SnO2係以大於0莫耳%且小於或等於約0.2莫耳%之濃度存在於該玻璃組成物中。
  9. 如請求項1所述之玻璃組成物，其中該玻璃組成物係無重金屬。
  10. 如請求項1至9中任一項所述之玻璃陶瓷組成物，其中該玻璃陶瓷組成物包含：約64莫耳%至少於72.0莫耳%的SiO2；約11莫耳%至約16莫耳%的Al2O3；約4莫耳%至約13莫耳%的Na2O；約2莫耳%至約7莫耳%的Li2O；以及約4莫耳%至約6莫耳%的TiO2。
  11. 一種玻璃物品，包含：一玻璃核心層，該玻璃核心層係設置於一第一玻璃包覆層與一第二玻璃包覆層之間，其中該玻璃核心層具有一組成物，該組成物係不同於該第一玻璃包覆層和該第二玻璃包覆層之組成物，且其中該第一玻璃包覆層和該第二玻璃 包覆層係由一玻璃陶瓷組成物所形成，該玻璃陶瓷組成物包含：約60莫耳%至小於72.0莫耳%的SiO2；約10莫耳%至約17莫耳%的Al2O3；約3莫耳%至約15莫耳%的Na2O；約1莫耳%至約8莫耳%的Li2O；以及約3莫耳%至約7莫耳%的TiO2。
  12. 如請求項11所述之玻璃物品，其中該鹼土氧化物進一步包含MgO。
  13. 如請求項12所述之玻璃物品，其中該鹼土氧化物進一步包含約2莫耳%至約4莫耳%的MgO。
  14. 如請求項11所述之玻璃物品，其中該第一玻璃包覆層和該第二玻璃包覆層包含：約64莫耳%至小於72.0莫耳%的SiO2；約11莫耳%至約16莫耳%的Al2O3；約4莫耳%至約13莫耳%的Na2O；約2莫耳%至約7莫耳%的Li2O；以及約4莫耳%至約6莫耳%的TiO2。
  15. 如請求項11所述之玻璃物品，其中該第一玻璃包覆層和該第二玻璃包覆層具有約5x10-7至約25x10-7的熱膨脹係數 (coefficient of thermal expansion)。
  16. 如請求項11所述之玻璃物品，其中該第一玻璃包覆層和該第二玻璃包覆層具有約10x10-7至約20x10-7的熱膨脹係數。
  17. 如請求項11所述之玻璃物品，其中該第一玻璃包覆層和該第二玻璃包覆層之至少一者與該核心之間的淨CTE差係約20x10-7至約62x10-7。
  18. 如請求項11之任一項所述之玻璃物品，其中該玻璃核心層之一第一表面係直接鄰接該第一玻璃包覆層，且其中該玻璃核心層之一第二表面係直接鄰接該第二玻璃包覆層。
  19. 如請求項11之任一項所述之玻璃物品，其中該第一玻璃包覆層和該第二玻璃包覆層係經壓縮地加壓。
  20. 一種如請求項1至10中任一項所述之玻璃組成物之用途，用於包括LCD及LED顯示器、電腦監視器、自動櫃員機(ATM)之消費或商業電子裝置中的覆蓋玻璃或玻璃底板應用、用於觸控式螢幕或觸摸感測器應用、用於包括行動電話、個人媒體播放機及平板電腦之可攜式電子裝置、用於光伏應用、用於建築玻璃應用、用於汽車或車載玻璃應用、或用於商業或家用電器應用。
  21. 一種如請求項11至19中任一項所述之玻璃物品之用途，用於包括LCD及LED顯示器、電腦監視器、自動櫃員機(ATM)之消費者或商業電子裝置中的覆蓋玻璃或玻璃底板應用、用於觸控式螢幕或觸摸感測器應用、用於包括行動電話、個人媒體播放機及平板電腦之可攜式電子裝置、用於光伏應用、用於建築玻璃應用、用於汽車或車載玻璃應用、或用於商業或家用電器應用。
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