TW201512117A - 感光性玻璃成形體及其製造方法 - Google Patents
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- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims abstract description 198
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 88
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 38
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 24
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 24
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 28
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 12
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 5
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 5
- KXSKAZFMTGADIV-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethoxy)propoxy]ethanol Chemical compound OCCOCCCOCCO KXSKAZFMTGADIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 101000693243 Homo sapiens Paternally-expressed gene 3 protein Proteins 0.000 description 4
- 102100025757 Paternally-expressed gene 3 protein Human genes 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POYDCAKGHSRECA-UHFFFAOYSA-M lithium;decanoate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCC([O-])=O POYDCAKGHSRECA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- YTZVWGRNMGHDJE-UHFFFAOYSA-N tetralithium;silicate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YTZVWGRNMGHDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 2
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
- C03B32/02—Thermal crystallisation, e.g. for crystallising glass bodies into glass-ceramic articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B23/00—Re-forming shaped glass
- C03B23/0013—Re-forming shaped glass by pressing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/002—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ultraviolet light
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Abstract
提供一種藉由維持所謂可不進行機械加工而僅將感光性玻璃之既定部分熔解的細微加工之感光性玻璃的優點並擴大感光性玻璃材料，來得到所欲尺寸之板狀玻璃成形體之方法及該玻璃成形體。
一種感光性玻璃成形體之製造方法，其具有：藉由將固體狀感光性玻璃材料加熱而加以軟化的加熱工序；以及將軟化的感光性玻璃材料成形而得到感光性玻璃成形體的成形工序；在加熱工序中，係藉由加熱來讓析出於感光性玻璃材料的結晶熔解。
Description
本發明係關於感光性玻璃成形體及其製造方法。
感光性玻璃係藉由曝光、熱處理含有感光性成分及增感成分的玻璃，而僅曝光的部分會結晶化的玻璃。結晶化的部分相較於未結晶化的部分，係對酸的熔解速度有很大差異。因此，藉由利用此性質，可對感光性玻璃進行選擇性蝕刻。其結果，可不使用機械加工，而對感光性玻璃進行細微加工。又，藉由以比曝光時的熱處理更高的溫度來熱處理感光性玻璃，可得到讓感光性玻璃中細微的結晶析出的結晶化感光性玻璃。此結晶化感光性玻璃有優異的機械特性。
含有結晶化感光性玻璃的感光性玻璃係具有玻璃特有的特性，且因為可細微加工，故適用於用以電性連接半導體材料等與配線基板的中介片(interposer)、IPD(Integrated Passive Device)用基板、氣體電子增幅器用基板等。
用於此般用途的感光性玻璃通常係成形為既定大小的板狀而加以使用。
在得到板狀玻璃之情形中，會進行由棒狀玻璃鑄塊來切成板狀。然而，在需求較從玻璃鑄塊所可切出之尺寸要大尺寸的情形中，必須將從玻璃鑄塊切出的玻璃材料往徑向拉開為所欲大小。
作為將具有既定形狀(例如塊狀)的玻璃材料往徑向拉開而得到板狀玻璃之成形方法，習知有復熱壓縮(Re-Heat Press)。復熱壓縮中，藉由將塊狀玻璃材料慢慢地加熱至軟化點溫度(Ts)附近，並將軟化的玻璃材料加壓成
形，來讓該玻璃材料之厚度變薄並往徑向拉開(擴大)。
復熱壓縮時的成形條件係必須考量被成形玻璃之特性而加以決定。例如，專利文獻1中，係記載有為了防止起因於玻璃結晶化而失去透明度的現象(失透)，便會以較結晶化之溫度要低的溫度來壓縮玻璃。如此般，因加熱所產生的玻璃結晶化便會對玻璃特性產生影響。因此，專利文獻2中，係記載有在玻璃成形後所進行的加熱處理中，為了防止玻璃結晶化，便控制玻璃的結晶化溫度、液相溫度等。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2011-57483號公報
[專利文獻2]日本特開2012-208527號公報
感光性玻璃在上述用途中，亦隨著基板尺寸之大型化而需求要有比從玻璃鑄塊所可切出之尺寸還要大的尺寸。因此，便期待有一種將從玻璃鑄塊所切出的感光性玻璃拉開(擴大)而得到所欲大尺寸之板狀玻璃的方法。
於是，發明人雖然對塊狀感光性玻璃材料適用了復加熱壓縮，但因為加熱會在感光性玻璃中析出結晶，便使得感光性玻璃白濁。為了進行形成貫通孔等細微加工而在白濁的狀態下將感光性玻璃曝光、蝕刻時，便會產生白濁部分被蝕刻的問題。原本，感光性玻璃係透過光罩而照射紫外線，而僅在被照設的部分會被選擇性地蝕刻，但此白濁係因為會發生在感光性玻璃全體，故未曝光部分亦會被加以蝕刻。
最初，復加熱壓縮中，因為在軟化點溫度附近進行成形，而不會讓玻璃充分地軟化，故要成形大尺寸(例如，Φ 300mm左右)的板狀玻璃便受到了限制。特別是除了感光性玻璃乃難以加壓成形的玻璃，當結晶化進行時，感光性玻璃會變得更難以變形。因此，便有所謂即使將感光性玻璃材料加壓成形，亦無法拉開成所欲尺寸之問題。
又，在復加熱壓縮中加熱時所析出的結晶與藉由曝光而析出的結晶具有相同組成之情形中，如圖1所示，細微加工前的感光性玻璃基板10(圖1(a))中係存在有該結晶11。在此基板10上搭載遮罩50，當為了進行貫通孔之
形成等細微加工而進行利用紫外線60之曝光時(圖1(b))，會因其後的加熱而形成有結晶化部分12(圖1(c))。當藉由蝕刻來除去此結晶化部分12時，加熱時所析出的結晶11亦會因為蝕刻而被除去。如此一來，蝕刻後的感光性玻璃基板10中，不僅貫通孔13，該結晶11亦會熔解而形成凹陷14(圖1(d))，便會有無法得到感光性玻璃基板10之良品的問題。
本發明有鑒於上述狀況，便以提供一種藉由維持所謂可不進行機械加工而僅將感光性玻璃之既定部分熔解的細微加工之感光性玻璃的優點並擴大感光性玻璃材料，來得到所欲尺寸之板狀玻璃成形體之方法及該玻璃成形體為目的。
本發明人發現，感光性玻璃中，由於產生結晶化的溫度範圍與可加壓成形的溫度範圍會重複的範圍較廣，故要防止加熱時結晶之析出，並進行可擴大至所欲尺寸之加壓成形係困難的。於是，本發明人發現藉由將析出的結晶保持在感光性玻璃之液相溫度以上的溫度，並藉由在該結晶熔解後才加以成形，便可解決上述問題，進而完成本發明。
亦即，本發明態樣係一種感光性玻璃成形體之製造方法，係具有：藉由將固體狀感光性玻璃材料加熱而加以軟化的加熱工序；以及將軟化的該感光性玻璃材料成形而得到感光性玻璃成形體的成形工序；該加熱工序中，係藉由加熱來讓析出於該感光性玻璃材料的結晶熔解。
上述態樣之該加熱工序中，較佳是藉由將該感光性玻璃材料加熱至感光性玻璃之液相溫度以上的溫度並保持在該溫度，來讓該結晶熔解。更佳是因應該感光性玻璃材料之熱容量來決定該感光性玻璃之液相溫度以上的溫度中的保持時間。
上述態樣之該加熱工序中，較佳是該感光性玻璃之結晶化溫度區域中的升溫速度為200℃/min以上。
上述態樣中，較佳是更具有在讓該結晶熔解後，將該感光性玻璃材料冷卻的冷卻工序；該冷卻工序中，該感光性玻璃之結晶化溫度區域中的降溫速度為200℃/min以上。
上述態樣中，較佳是更具有將該感光性玻璃成形體所蓄積的應變除去
的應變除去工序。
上述態樣之該加熱工序中，較佳是使用保持該感光性玻璃材料的保持構件來加熱該感光性玻璃材料。
本發明其他態樣係一種藉由上述態樣之任一者所記載的感光性玻璃成形體之製造方法來加以製造的感光性玻璃成形體。
根據本發明，可提供一種藉由維持所謂可不進行機械加工而僅將感光性玻璃之既定部分熔解的細微加工之感光性玻璃的優點並擴大感光性玻璃材料，來得到所欲尺寸之板狀玻璃成形體之方法及該玻璃成形體。
10‧‧‧感光性玻璃基板
11‧‧‧藉由加熱而析出的結晶
12‧‧‧結晶化部分
13‧‧‧貫通孔
14‧‧‧凹陷
30‧‧‧保持構件
圖1係顯示復加熱壓縮中加熱時所析出的結晶會因為蝕刻熔解而在感光性玻璃上形成有凹陷的樣子之圖式。
圖2係顯示本實施形態相關的方法中，關於感光性玻璃材料之表面溫度的概略趨勢之圖式。
圖3係顯示本實施形態相關的方法之加熱工序中，保持構件所保持的感光性玻璃材料之圖式。
以下，基於圖式所示實施形態以以下順序來說明本發明。
1.感光性玻璃
2.感光性玻璃成形體之製造方法
3.本實施形態之效果
4.變形例等
作為感光性玻璃係無特別限制，例示有在SiO2-Li2O-Al2O3系玻璃包含有作為感光性成分的Au、Ag、Cu，並更包含有作為增感劑的CeO2之玻璃。具體的組成例示為含有SiO2：55~85質量%；Al2O3：2~20質量%；Li2O：5~15質量%，且對感光性玻璃全體含有SiO2、Al2O3、Li2O的合計為85質量%以上，並將Au：0.001~0.05質量%；Ag：0.001~0.5質量%；Cu2O：0.001~1質量%作為感光性成分，更將CeO2：0.001~0.2質量%作為增感
劑之組成。本實施形態中，作為感光性玻璃係就HOYA股份有限公司製的PEG3來加以描述。
藉由將紫外線照射於此感光性玻璃並保持在450~600℃左右，來在增感劑與感光性成分之間引起氧化還原反應，而產生金屬原子。在此狀態下，當進一步加熱時，金屬原子會凝聚而形成膠態，讓此膠態為結晶核而Li2O-SiO2(單矽酸鋰)之結晶便會析出而成長。
又，藉由將PEG3保持在800~900℃，來在感光性玻璃內部讓Li2O-SiO2(單矽酸鋰)結晶析出，便可得到結晶化感光性玻璃(HOYA股份有限公司製的PEG3C)。
如此般，感光性玻璃係容易結晶化的玻璃，並且是產生結晶化的溫度範圍(結晶化溫度區域)會很廣的玻璃。例如，起因於感光性玻璃之加熱的結晶化溫度區域為500~995℃之範圍。
又，PEG3之玻璃轉移溫度(Tg)為465℃，軟化點溫度(Ts)為515℃。又，顯示熔融狀態的溫度與結晶開始析出的溫度之界線的液相溫度為995℃。
如上述，感光性玻璃係容易結晶化，且結晶化溫度亦很廣。因此，當欲藉由復加熱壓縮來將此般的感光性玻璃成形時，結晶會容易析出。特別是復加熱壓縮中，為了防止玻璃因熱衝擊之損壞，便會慢慢地加熱至軟化點溫度(Ts)附近而加以成形。將感光性玻璃加熱至感光性玻璃的Ts(515℃)附近之情形中，當比較和緩地加熱時，會有析出二矽酸鋰的傾向，而較其更急遽地加熱時，會有析出單矽酸鋰的傾向。
而且，因為感光性玻璃在加壓成形時係較一般玻璃要更不易變形，故當析出此般結晶時，要藉由復加熱壓縮來擴大感光性玻璃便會變得極為困難。又，當析出單矽酸鋰時，因為藉由在感光性玻璃上實施細微加工時之蝕刻，不僅因曝光而結晶化的部分，且加熱時所析出的單矽酸鋰亦會熔解，故便會在預定外的地方形成有凹陷等。
於是，本實施形態中係不同於復加熱壓縮之方法，而是採用可容易地擴大感光性玻璃，且在成形後的感光性玻璃(感光性玻璃成形體)上不會存在有單矽酸鋰等結晶之方法。以下，就該方法加以詳細地說明。
該方法係讓感光性玻璃通過結晶化溫度區域時所析出的結晶(單矽酸鋰
或二矽酸鋰)在感光性玻璃之液相溫度以上的溫度下熔解，並藉由在不存在有結晶的狀態下成形感光性玻璃材料，來得到被徑向擴大的大尺寸感光性玻璃成形體之方法。以下，本實施形態中，亦將該方法稱為復熔解壓縮(Re-Melting Press)。
復熔解壓縮中，首先要準備感光性玻璃材料。感光性玻璃材料只要是藉由上述感光性玻璃來加以構成，則無特別限制。又，感光性玻璃材料的形狀雖然例示為棒狀、塊狀等，但只要是可藉由利用加壓成形來加以拉開，而較原本形狀更往徑向擴大，並在厚度方向上成形為較薄的形狀即可。
(加熱工序)
接下來，將感光性玻璃材料載置在保持構件上而加以加熱。保持構件係用以保持因加熱而軟化的感光性玻璃材料，而投入後述成形工序中的加壓成形。
於圖2顯示加熱工序、後述的冷卻工序及成形工序中的感光性玻璃之表面溫度趨勢。本實施形態中，首先加熱至感光性玻璃之Tg附近，亦即465℃附近後，急速加熱至為感光性玻璃之液相溫度(995℃)以上之溫度的1000℃。如圖2所示，因為感光性玻璃之結晶化溫度區域為500~995℃之範圍，故較佳是以盡可能迅速通過此區域之方式來急速加熱感光性玻璃材料。
具體而言，較佳是讓結晶化溫度區域中的升溫速度成為200℃/min以上來加以加熱。升溫速度為上述範圍之情形，雖然單矽酸鋰、二矽酸鋰等結晶亦會析出，但可讓其析出量成為能再熔解的程度。
另外，在感光性玻璃以外的玻璃中，讓升溫速度加快至上述範圍的下限值(200℃/min)時，因熱衝擊而破損的可能性便會極高。另一方面，因為感光性玻璃為熱膨脹係數較大的玻璃，故在上述下限值左右，並不會破損。然而，即使是感光性玻璃，當升溫速度極度過快時，亦會有因熱衝擊而破損的可能性。因此，將升溫速度的上限設定成感光性玻璃材料不會破損程度之升溫速度即可。
本實施形態中，將被加熱至Tg附近的感光性玻璃材料與保持構件一起投入保持在為液相溫度以上溫度的1000℃的爐內。藉由如此般，應該數分鐘左右便會從感光性玻璃材料之表面溫度Tg附近到達至1000℃。亦即，升溫速度為10000℃/h左右或其以上。又，因為是加熱至液相溫度以上之溫
度，故感光性玻璃材料便會軟化。
感光性玻璃材料之溫度到達1000℃後係如圖2所示，將感光性玻璃材料保持在1000℃。藉由將感光性玻璃材料保持在1000℃，來讓升溫時所析出的結晶再熔解。又，圖2中，雖然將感光性玻璃材料保持在固定溫度(1000℃)，但是只要在液相溫度以上之溫度，則亦可為非固定溫度。
本實施形態中，為了讓結晶完全地再熔解，便因應感光性玻璃材料之熱容量來決定保持時間。亦即，在感光性玻璃材料之重量較大的情形中，會讓保持時間變長，而重量較小的情形中，則讓保持時間變短。具體而言，感光性玻璃材料之重量為1.4kg左右的情形中，保持時間為20分鐘左右。
通常，讓保持在液相溫度以上之溫度的時間越長，則雖然析出的結晶之再熔解應該會越有進展，但實際上當保持時間過長時，反而相反地會析出結晶。因此，如上述般藉由因應感光性玻璃材料之熱容量來決定保持時間，便可設定不析出結晶之保持時間。
保持時間過長時，會有結晶析出之情形。雖然其理由不明，但被認為是例如在藉由從爐之加熱器所放射出的光來加以曝光而析出結晶之情形中，因為感光性玻璃材料中會局部存在有顯示較液相溫度要低的溫度之區域，故會有析出結晶之情形等。
另外，通過結晶化溫度區域時，因為升溫速度較慢，當結晶析出量為全體的數個%以上時，無論怎樣設定保持時間也無法讓析出結晶之一部分再熔解，便殘存下來。
保持構件只要是可耐因急據加熱之熱衝擊的材料，便無特別限制。本實施形態中，保持構件因為是與被加熱至Tg附近的感光性玻璃材料一起被投入爐內，且被急據地加熱至液相溫度以上之溫度，故較佳係由矽藻土、氧化鋁纖維等來加以構成。
此般的保持構件係為了不讓軟化的感光性玻璃材料流出至爐內之必要構件。
然而，加熱工序中，保持構件30所保持的感光性玻璃材料10如圖3所示，在接觸保持構件30的部分10b與未接觸的部分10a中，加熱時的溫度趨勢會有所不同。亦即，與保持構件30接觸的部分10b較未接觸部分10a係升溫速度較慢，便會於升溫溫度產生落差。其結果，與保持構件30接觸
的部分10b通過結晶化溫度區域的時間會變長，而析出結晶量會變得較未接觸保持構件30的部分10a要多。因此，以液相溫度以上之溫度來加以保持的時間係於考量與保持構件30接觸的部分10b所析出的結晶量來加以決定。
另外，若以如圖3所示之不產生升溫溫度差的方式來加熱，則可將加熱工序中的保持時間變短，如上述，保持構件30係為了保持感光性玻璃材料10之必要構件。
(冷卻工序)
經過保持時間後，從爐中取出感光性玻璃材料，並冷卻感光性玻璃材料(冷卻工序)。與升溫時相同，為了盡可能快速地通過感光性玻璃之結晶化溫度區域，較佳是將感光性玻璃材料急速冷卻。具體而言，較佳是以結晶化溫度區域中的降溫速度為200℃/min以上之方式來急速冷卻。
本實施形態中，係從爐中取出感光性玻璃材料，以既定時間地暴露於室溫，並以感光性玻璃材料之溫度會成為700℃左右之方式來加以冷卻。另外，冷卻工序中，與升溫時不同，因為感光性玻璃材料與保持構件會全體加以急速冷卻，故幾乎不會產生如圖3所示之溫度差。因此，冷卻工序中便不會析出結晶。
(成形工序)
本實施形態中，成形工序係在冷卻工序之後立刻地進行，成形工序中，感光性玻璃材料亦會被加以冷卻。具體而言，係將從爐內取出，並冷卻至700℃左右的感光性玻璃材料投入由上模具及下模具所構成之成形模具的下模具而進行加壓成形。下模具係被加熱至500~600℃，感光性玻璃材料係從700℃被冷卻至下模具之溫度，並藉由加壓成形而往徑向延伸，而讓尺寸成為較感光性玻璃材料要更加擴大的感光性玻璃成形體。下模具之溫度係設定成較感光性玻璃之Tg(465℃)要高的溫度。如此一來，感光性玻璃材料會變得更容易拉開，而可得到大尺寸的感光性玻璃成形體。
大尺寸感光性玻璃成形體之徑亦取決於感光性玻璃材料之大小，但在200mm以上的情形中，本發明之效果會變得顯著，而在300mm以上的情形中，則會更加顯著。另外，本發明中，所謂感光性玻璃成形體之徑在感光性玻璃成形體為圓形板狀的情形中係表示直徑，感光性玻璃成形體為矩形
板狀的情形中則表示邊長。
加壓成形時之壓力無特別限制，只要因應所欲尺寸來加以決定即可。又，加壓成形時之保持時間較佳為3~7分鐘左右。保持時間過短時，在加壓成形結束後會有感光性玻璃成形體容易彎曲的傾向，而保持時間過長時，則因為起因於應力的內部應變會較多，故會有感光性玻璃成形體容易損壞的傾向。
又，感光性玻璃成形體之厚度越大，則加熱工序、冷卻工序及加形工序中所蓄積的內部應變(應力)會有變多的傾向。因此，在加壓成形時，或是為了防止隨後工序中之損壞，較佳是讓利用加壓成形所得到的感光性玻璃成形體之厚度上限為30mm左右。
(應變除去工序)
如上述，在感光性玻璃成形體中由於殘存有內部應變，故因隨後工序中的加工等，便可能會發生起因於此內部應變(應力)之損壞。因此，便進行除去內部應變之處理(應變除去工序)。具體而言，係將感光性玻璃成形體投入至加熱爐等而加熱至Tg(465℃)附近，並從其溫度慢慢冷卻至室溫。雖然慢慢冷卻時之降溫速度適當設定即可，但較佳是1℃/h~3℃/h。本實施形態中，係讓降溫速度為2℃/h左右。藉由從Tg附近慢慢冷卻至室溫，便會除去感光性玻璃成形體之內部應變。
(研削工序)
除去內部應變的感光性玻璃成形體係被除去外周部，進一步地，會以可得到複數片具有所欲厚度之晶圓的方式加以切斷(切片)。將切片後的感光性玻璃成形體之表面研磨，便得到晶圓。得到的晶圓會實施既定之細微加工，以適用於中介片、IPD用基板、氣體電子增幅用基板等。
根據本實施形態，藉由將感光性玻璃材料保持在感光性玻璃之液相溫度以上之溫度，便可將升溫時所析出的結晶再熔解。因此，可於感光性玻璃材料未析出結晶的狀態下進行加壓成形，並將感光性玻璃材料拉開至所欲尺寸。因為係將加熱至液相溫度以上之溫度而軟化的感光性玻璃材料加壓成形，故可較復加熱壓縮要更容易擴大尺寸。而且，因為未析出結晶，故即使對曝光於貫通孔形成等細微加工時所形成的結晶化部分進行蝕刻，
而藉由蝕刻來除去結晶化部分以外的部分，便不會形成凹陷。
當升溫時所析出的結晶之析出量為全體的數個%以上時，要完全地再熔解會變得困難。於是，為了將結晶析出量抑制在可再熔解的程度，便將升溫速度為上述速度。另外，即使是此般極快的升溫速度，由於具有較高熱膨脹係數的感光性玻璃材料仍不會因熱衝擊而損壞，故可於後續工序中進行加壓成形。
又，加熱工序中，即使保持在液相溫度以上之溫度的時間過長，則因為會相反地析出結晶，故保持時間較佳是因應感光性玻璃材料之熱容量來加以決定。
進一步地，在經過加熱工序中的保持時間後，將被加熱於液相溫度以上之溫度而軟化的感光性玻璃材料加以冷卻。其後，藉由使用保持在較感光性玻璃之Tg要高溫度的成形模具而進行加壓成形，便可得到尺寸擴大的感光性玻璃成形體。
上述實施形態中，雖然感光性玻璃例示為PEG3而加以說明，但亦可為其他感光性玻璃。即使是此情形，仍會考量玻璃轉移溫度(Tg)、軟化點溫度(Ts)、液相溫度等，而藉由將感光性玻璃材料復熔化加壓，使得於感光性玻璃內部不會析出結晶，而可得到所欲大尺寸的板狀感光性玻璃成形體。
以上，雖然已就本發明之實施形態加以說明，然本發明不限於上述實施形態，在未脫離本發明要旨的範圍內可進行各種改變。
以下，便基於更詳細的實施例來加以說明本發明，但本發明不限於該等實施例。
感光性玻璃材料係使用從HOYA股份有限公司製之PEG3玻璃鑄塊切出的塊狀玻璃材料。此玻璃材料之大小為200mm×200mm×35mm。PEG3係具有SiO2-Li2O-Al2O3組成的感光性玻璃，玻璃轉移溫度(Tg)為465℃，軟化點溫度(Ts)為515℃，而液相溫度為995℃。
將此感光性玻璃材料載置到由矽藻土所構成的保持構件上，並加熱至Tg。接著，將被加熱至Tg的感光性玻璃材料與保持構件一起投入至保持在1000℃的加熱爐。
使用雷射溫度計來量測被投入至加熱爐的感光性玻璃材料之表面溫度，從投入至加熱爐開始的1分鐘左右，表面溫度便會達到1000℃。本實施例中，係從感光性玻璃材料之表面溫度達到1000℃，而保持20分鐘。
將感光性玻璃材料在1000℃保持20分鐘後，將軟化後感光性玻璃材料從加熱爐取出，在室溫下放置30秒，而冷卻至700℃左右。接著，將冷卻至700℃左右的感光性玻璃材料投入至被加熱到500℃的下模具，並藉由上模具來加壓，以進行感光性玻璃材料之加壓成形。加壓時間為3~7分鐘。
加壓成形後的感光性玻璃材料(感光性玻璃成形體)之尺寸為320mm×320mm×20mm。又，目視觀察此感光性玻璃之剖面，便可確認到剖面為透明，且並未析出結晶。
將得到的感光性玻璃成形體之外周部除去，進一步藉由線鋸來切片成薄板狀。將切片後的感光性玻璃成形體之表面進行研磨，而得到晶圓。晶圓的尺寸為300mm×300mm×0.9mm。
對所得到的晶圓進行形成貫通孔之細微加工。貫通孔之徑為170μm，貫通孔的排列間距為280μm，而貫通孔的總數為1154423個。首先，雖然藉由紫外線之曝光而在晶圓上形成結晶化部分(潛影)，但對紫外線的感度不會惡化，而可形成良好的潛影。接著，藉由氟酸來進行蝕刻，便會將潛影熔解而形成貫通孔，然不會產生蝕刻不良而會良好的形成貫通孔，而且，在貫通孔以外的部分中並未發現凹陷等之形成。
Tg‧‧‧玻璃轉移溫度
Claims (8)
- 一種感光性玻璃成形體之製造方法，係具有：藉由將固體狀感光性玻璃材料加熱而加以軟化的加熱工序；以及將軟化的該感光性玻璃材料成形而得到感光性玻璃成形體的成形工序；該加熱工序中，係藉由加熱來讓析出於該感光性玻璃材料的結晶熔解。
- 如申請專利範圍第1項之感光性玻璃成形體之製造方法，其中該加熱工序中，係藉由將該感光性玻璃材料加熱至感光性玻璃之液相溫度以上的溫度並保持在該溫度，來讓該結晶熔解。
- 如申請專利範圍第2項之感光性玻璃成形體之製造方法，其係因應該感光性玻璃材料之熱容量來決定該感光性玻璃之液相溫度以上的溫度中的保持時間。
- 如申請專利範圍第1至3項任一項之感光性玻璃成形體之製造方法，其中該加熱工序中，該感光性玻璃之結晶化溫度區域中的升溫速度為200℃/min以上。
- 如申請專利範圍第1至4項任一項之感光性玻璃成形體之製造方法，係更具有在讓該結晶熔解後，將該感光性玻璃材料冷卻的冷卻工序；該冷卻工序中，該感光性玻璃之結晶化溫度區域中的降溫速度為200℃/min以上。
- 如申請專利範圍第1至5項任一項之感光性玻璃成形體之製造方法，係更具有將該感光性玻璃成形體所蓄積的應變除去的應變除去工序。
- 如申請專利範圍第1至6項任一項之感光性玻璃成形體之製造方法，其中該加熱工序中，係使用保持該感光性玻璃材料的保持構件來加熱該感 光性玻璃材料。
- 一種感光性玻璃成形體，係藉由如申請專利範圍第1至7項任一項之感光性玻璃成形體之製造方法來加以製造。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013164323 | 2013-08-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201512117A true TW201512117A (zh) | 2015-04-01 |
Family
ID=52461321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW103126684A TW201512117A (zh) | 2013-08-07 | 2014-08-05 | 感光性玻璃成形體及其製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20160152505A1 (zh) |
| JP (1) | JPWO2015019989A1 (zh) |
| TW (1) | TW201512117A (zh) |
| WO (1) | WO2015019989A1 (zh) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3140838B1 (en) | 2014-05-05 | 2021-08-25 | 3D Glass Solutions, Inc. | Inductive device in a photo-definable glass structure |
| JP6403715B2 (ja) * | 2015-05-18 | 2018-10-10 | ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ | 感光性ガラス体の連続的製造 |
| US10501363B2 (en) | 2015-05-18 | 2019-12-10 | Schott Ag | Method for producing photo-structurable glass bodies by a redrawing method |
| KR101934157B1 (ko) * | 2015-05-18 | 2018-12-31 | 쇼오트 아게 | 감응형 감광성 유리 및 이의 제조 |
| KR102614826B1 (ko) | 2017-12-15 | 2023-12-19 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 결합 전송 라인 공진 rf 필터 |
| CA3082624C (en) | 2018-01-04 | 2022-12-06 | 3D Glass Solutions, Inc. | Impedance matching conductive structure for high efficiency rf circuits |
| US11594457B2 (en) | 2018-12-28 | 2023-02-28 | 3D Glass Solutions, Inc. | Heterogenous integration for RF, microwave and MM wave systems in photoactive glass substrates |
| JP7140435B2 (ja) | 2019-04-05 | 2022-09-21 | スリーディー グラス ソリューションズ，インク | ガラスベースの空基板集積導波路デバイス |
| KR102601781B1 (ko) * | 2019-04-18 | 2023-11-14 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 고효율 다이 다이싱 및 릴리스 |
| US11908617B2 (en) | 2020-04-17 | 2024-02-20 | 3D Glass Solutions, Inc. | Broadband induction |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0656450A (ja) * | 1992-08-05 | 1994-03-01 | Asahi Glass Co Ltd | 光制御ガラスの製造法 |
| JP4129906B2 (ja) * | 2002-02-01 | 2008-08-06 | Ｈｏｙａ株式会社 | 感光性ガラス及びその加工方法並びにインクジェットプリンタ用部品の製造方法及び半導体基板の製造方法 |
| JP4027266B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2007-12-26 | Ｈｏｙａ株式会社 | ガラス物品の徐冷方法、ガラス物品の加熱方法、ガラス成形品の製造方法、及び熱処理装置 |
| JP2009227536A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Panasonic Corp | ガラスレンズの製造方法 |
| JP5480568B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-04-23 | 株式会社オハラ | ガラス製品の製造方法及びガラス製品 |
-
2014
- 2014-08-04 US US14/906,916 patent/US20160152505A1/en not_active Abandoned
- 2014-08-04 WO PCT/JP2014/070448 patent/WO2015019989A1/ja active Application Filing
- 2014-08-04 JP JP2015530875A patent/JPWO2015019989A1/ja active Pending
- 2014-08-05 TW TW103126684A patent/TW201512117A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2015019989A1 (ja) | 2017-03-02 |
| WO2015019989A1 (ja) | 2015-02-12 |
| US20160152505A1 (en) | 2016-06-02 |
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